-
ERFINDUNGSGEBIET
-
Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Aufbringen eines Beschichtungsmaterials auf ein Substrat unter
Verwendung einer Breitschlitzdüse
und eine Vorrichtung zum Zuführen
von Beschichtungsmaterial zu der Breitschlitzdüse. Insbesondere bezieht sich
die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum
Aufbringen eines Beschichtungsmaterials mit einer konstanten Dicke
auf ein dünneres
Substrat unter Verwendung der Breitschlitzdüse. Ferner bezieht sich die
vorliegende Erfindung auf eine Vorrichtung zum Zuführen des
Beschichtungsmaterials, die bei einem Beschichtungssystem, das die
Breitschlitzdüse
hat, anwendbar ist, jedoch auf dieses nicht begrenzt ist.
-
HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
-
In
den japanischen offengelegten Patentveröffentlichungen Tokkaihei 4-61955
und Tokkaihei 1-135565 ist ein Verfahren zum Aufbringen eines Fotoresists
auf eine Glasplatte offenbart. Typischerweise wird dieses Verfahren
als Aufschleudern bezeichnet. Bei diesem Aufschleudern ist die Glasplatte
horizontal auf einem drehbaren Schleuder-Aufspanntisch aufgenommen.
Das Fotoresist wird auf einen oberen, zentralen Teil der Glasplatte
aufgetropft. Dann wird durch Drehen des Schleuder-Aufspanntisches
mit dem Substrat das aufgetropfte Fotoresist über die gesamte Oberfläche der
Glasplatte infolge der Zentrifugalkraft, die durch die Rotation
erzeugt wird, nach außen
ausgebreitet.
-
Das
Schleuderbeschichten kann jedoch einen kleinen Teil des aufgetropften
Fotoresists, das heißt
nur ungefähr
5% desselben, auf der Glasplatte zurückhalten, während der Hauptteil des Fotoresists, das
heißt
95% desselben, verloren geht, ohne dass es recycelt werden kann,
mit dem Ergebnis, dass die Schleuderbeschichtung signifikant teuer
ist.
-
Die
japanische offengelegte Patentveröffentlichung Tokkaisho 56-159646
offenbart ein anderes Beschichtungsverfahren, bei dem eine Breitschlitzdüse mit einem
Verteilschlitz zum Verteilen des Beschichtungsmaterials hat. Gemäß diesem
Beschichtungsverfahren kann einfach durch Bewegen der Breitschlitzdüse relativ
und entlang der Oberfläche der
Glasplatte das gesamte Fotoresist, welches aus der Düse verteilt
wird, auf die Oberfläche
der Glasplatte aufgebracht werden, was ökonomischer als das Schleuderbeschichten
ist.
-
Die
meisten Glasplatten haben unvorteilhafterweise und ausnahmslos dreidimensionale
Verformungen (beispielsweise Verdrillungen und Krümmungen)
und eine ungleichförmige
Dicke. Ein Tisch zum Aufnehmen der Glasplatte hat ähnliche
derartige Verformungen. Dies führt
dazu, dass ein Film, der durch eine Breitschlitzdüse aufgebracht
und auf dem Substrat, das von dem Tisch aufgenommen ist, ausgebildet
ist, der eine Dicke von nur 10 μm
oder darunter hat, infolge von Änderungen
der Lücke
zwischen Breitschlitzdüse
und Substrat ein streifenförmiges
Muster mit Licht und Schatten haben wird.
-
Um
dieses Problem zu überwinden,
ist in der japanischen offengelegten Patentveröffentlichung Tokkaihei 7-328513
ein Verfahren zum Steuern der Breitschlitzdüse offenbart. Bei diesem Verfahren
werden eine Beschichtung, die Lücke
(tatsächliche
Lücke)
zwischen der Düse
der Breitschlitzdüse
und jedes darauf folgenden, gegenüberliegenden Teils des Substrats
vorab durch einen Bereichssensor gemessen, der an der Breitschlitzdüse montiert
ist. Unter Verwendung der Messwerte wird die Breitschlitz düse auf das
Substrat zu und von diesem weg bewegt, wobei die tatsächliche
Lücke konstant
bleibt.
-
Bei
dieser Lösung
sind jedoch zwei Vorgänge
erforderlich; ein Vorgang zum Messen der Lücken zwischen Düse und dem
Substrat und der andere Vorgang zum Berechnen der Abweichungen zwischen
aufeinander folgenden Lücken
(das heißt
der Messung) und einer Referenzlücke,
die vorab bestimmt worden ist, um einen Beschichtungsfilm mit spezifischer
Dicke auszubilden. Diese Vorgänge müssen auch
gleichzeitig beim Beschichten durchgeführt werden. Tatsächlich erfordert
jedoch der zuletzt genannte Rechenvorgang eine beträchtliche
Zeit, was verhindert, dass das Rechnen mit der Bewegung der Breitschlitzdüse Schritt
hält. Daher
kann diese Lösung
nur dann angewandt werden, wenn die Beschichtungsgeschwindigkeit
niedriger als die Rechengeschwindigkeit ist, woraus eine nicht zu
akzeptierende Verzögerung
der Beschichtung resultiert.
-
Die
japanische offengelegte Patentveröffentlichung Tokkaihei 5-185022
offenbart ein weiteres Beschichtungsverfahren. Gemäß diesem
Verfahren wird die Dicke aufeinander folgender Teile eines zu beschichtenden
Elementes oder einer zu beschichtenden Metallplatte vorab durch
einen Sensor an einer Messstation an einer in Laufrichtung der Metallplatte
stromauf liegenden Seite der Beschichtungsstation gemessen. Unter
Verwendung der Messwerte wird ein Applikator (beispielsweise eine
Breitschlitzdüse
oder eine Streichklinge) auf die Metallplatte zu oder von dieser
weg bewegt. Bei diesem Verfahren ist jedoch die Messstation zur
Beschichtungsstation beabstandet. Wenn daher ein Fehler oder eine
Höhendifferenz
von ungefähr
mehreren Mikrometern mit Bezug auf eine Richtung rechtwinklig zur
Hauptfläche
der Metallplatte zwischen einem ersten Oberflächenteil zum Halten der Metallplatte
an der Messstation und dem zweiten Oberflächenteil zum Halten derselben
an der Beschichtungsstation besteht, ist es unmöglich, eine derartige Höhendifferenz
zu messen. Dies wiederum verhindert eine Null-Korrektur zum Korrigieren
der Höhendifferenz
zwischen dem ersten Oberflächenteil
der Messstation, in welchem die Dicke der Metallplatte gemessen
wird, und dem zweiten Oberflächenteil
an der Beschichtungsstation, an welcher das Be schichtungsmaterial
durch die Breitschlitzdüse
aufgebracht wird. Als ein Ergebnis kann die Lücke zwischen Applikator und
Metallplatte an der Beschichtungsstation nicht auf eine vorbestimmte
Referenzlücke
eingestellt werden, selbst wenn ein Motor zum Bewegen der Beschichtungsvorrichtung
auf die Metallplatte zu und von dieser weg mit Hilfe einer Steuerung
angetrieben wird.
-
Es
ist eine Vorrichtung zum Zuführen
von Beschichtungsmaterial zur Breitschlitzdüse bekannt. Diese Vorrichtung
hat ein Reservoir zum Aufnehmen des Beschichtungsmaterials und ein
Zuführrohr,
das eine Strömungsverbindung
zwischen dem Reservoir und der Breitschlitzdüse bildet. Das Zuführrohr ist
mit einer Pumpe zum Zuführen
des Beschichtungsmaterials zur Breitschlitzdüse und einem Filter versehen, so
dass das Beschichtungsmaterial von dem Reservoir zur Breitschlitzdüse geleitet
wird. Wenn eine Zahnradpumpe und eine Spiralgehäusepumpe als Pumpe verwendet
wird, werden nachteiligerweise eine Anzahl von kleinen Blasen, die
jeweils einen Durchmesser von ungefähr 0,1 mm haben, ausnahmslos
in das Beschichtungsmaterial gemischt, das an der Pumpe ausgegeben
wurde. Die kleinen Blasen beeinflussen die Dicke der Filmschicht
kaum, wenn das Zuführrohr
einen Innendurchmesser von 5 mm oder darüber hat.
-
Wenn
jedoch das Zuführrohr
einen nach oben gekrümmten
oder gebogenen Teil hat, können die
kleinen Luftblasen zusammenkommen, um zu einer relativ großen Blase
zu wachsen, die einen Durchmesser von 1 mm oder größer hat.
Die gewachsene Blase hat die Tendenz, sich während des Wanderns in dem Rohr
durch den Druck der Pumpe zusammenzuziehen und auszudehnen. Wenn
dann das Zuführrohr
einen Innendurchmesser von ungefähr
5 mm oder kleiner hat, führt
das resultierende Zusammenziehen und Ausdehnen zu einer Druckänderung
in dem Beschichtungsmaterial in dem Zuführrohr, was wiederum zu einer
Ungleichförmigkeit
der resultierenden Beschichtung führt. Diese Druckänderung
wird insbesondere problematisch sein, wenn die fertige Dicke der
Beschichtung 10 μm
oder kleiner beträgt
und ferner eine große
Präzision
mit nur einer Dickenvariation von ±5% oder darunter in einem
nassen Zustand erforderlich ist.
-
Die
JP-A-07 328 513 zeigt ein Gerät
zum Beschichten einer Aufnahmefläche,
bei dem ein Substrat darauf mittels einer Düse platziert wird. Diese Vorrichtung
hat einen Basispaneel-Beschichtungsteil, eine Düse, einen Lückensensor und einen Lückeneinstellmechanismus.
Die Düse
leitet ein Substrat auf die Oberfläche der Aufnahme, indem sie
entlang der Aufnahme relativ bewegt wird. Der Lückensensor detektiert die Lücke zwischen
der sich relativ bewegenden Düse
und der Oberfläche
der Aufnahme. Der Lückeneinstellmechanismus
stellt die Lücke
ein, indem die Düse
relativ nahe an die Oberfläche
oder von dieser weg bewegt wird, und zwar basierend auf den Detektionsergebnissen
durch den Lückensensor.
-
ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
-
Demgemäß ist es
die primäre
Aufgabe der Erfindung, Verfahren zu schaffen, die ein Beschichtungsmaterial
mit konstanter Dicke unter Verwendung einer Breitschlitzdüse auf ein
Substrat aufbringen können,
das dreidimensionale Verformungen (beispielsweise Verwindung und
Krümmung)
und eine ungleichförmige
Dicke hat.
-
Diese
Aufgaben werden durch die Merkmale des Patentanspruches 1 oder 2
gelöst.
-
Zu
diesem Zweck hat ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats unter
Verwendung einer Breitschlitzdüse
gemäß der vorliegenden
Erfindung die Schritte Platzieren eines Substrats auf einer Aufnahmefläche, die
eine Ebenheit von 2 μm
oder darunter und eine Anzahl von Löchern hat, Einleiten eines
Unterdrucks in die Löcher,
um das Substrat in engen Kontakt mit der Aufnahmefläche zu ziehen
und Bewegen der Breitschlitzdüse
relativ zu dem Substrat und Aufbringen eines Beschichtungsmaterials
auf das Substrat, das von der Breitschlitzdüse vertikal und nach unten
ausgegeben wird.
-
Vorzugsweise
hat das Verfahren ferner die Schritte Bestimmen einer Kapillarzahl
basierend auf einer Viskosität
und einer Oberflächenspannung
des Beschichtungsmaterials und einer Bewegungsgeschwindigkeit der
Breitschlitzdüse
relativ zu dem Substrat, Bestimmen einer dimensionslosen Mindestbeschichtungsdicke,
basierend auf der Beziehung zwischen der Kapillarzahl und der dimensionslosen
Mindestbeschichtungsdicke, und Bestimmen einer Lücke zwischen der Breitschlitzdüse und dem Substrat
gemäß der dimensionslosen
Mindestbeschichtungsdicke. Vorzugsweise ist die Kapillarzahl 0,1
oder darunter.
-
Ein
anderes Verfahren zum Beschichten eines Substrats unter Verwendung
einer Breitschlitzdüse
gemäß der vorliegenden
Erfindung hat die Schritte vorab Messen der tatsächlichen Lücke über eine gesamte Beschichtungsfläche des
Substrats zwischen aufeinander folgenden Teilen der zu behandelnden Oberfläche des
Substrats und der Breitschlitzdüse, die
zum Substrat beabstandet ist, Berechnen von Abweichungen zwischen
den vorab gemessenen tatsächlichen
Lücken
und einer Referenzlücke
und danach Bewegen der Breitschlitzdüse zum Aufbringen des Beschichtungsmaterials,
während
die tatsächliche
Lücke zwischen
der Breitschlitzdüse
und dem Substrat eingestellt wird.
-
KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
-
Diese
und weitere Aufgaben und Merkmale der vorliegenden Erfindung gehen
aus der folgenden Beschreibung in Verbindung mit den bevorzugten Ausführungsformen
derselben unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen im Einzelnen
hervor, in welchen gleiche Teile mit gleichen Bezugsziffern bezeichnet
sind, und die zeigen:
-
1 eine
Ansicht im Schnitt eines Beschichtungssystems gemäß der Erfindung
und dessen elektrischer Schaltung;
-
2 eine
grafische Darstellung der Beziehung zwischen der Kapillarzahl und
der dimensionslosen Mindestbeschichtungsdicke;
-
3A bis 3C einen
Ablauf zum Aufbringen von Beschichtungsmaterial auf ein Substrat unter
Verwendung einer Breitschlitzdüse
gemäß der Erfindung;
-
4 die
Beziehung zwischen Referenzlücke,
tatsächlichen
Lücken
und Abweichungen;
-
5 eine
allgemeine Konstruktion einer Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit,
die in dem in der 1 gezeigten Breitschlitzdüsensystem
verwendet wird;
-
6 eine
Ansicht im Schnitt durch einen Entgaser, der in der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit
verwendet wird;
-
7 eine
modifizierte Ausführungsform des
Entgasers;
-
8A und 8B Anordnungen
des Entgasers in der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit, in welcher eine
Pumpe und ein Entgaser auf der gleichen Höhe angeordnet sind;
-
9A bis 9C weitere
Anordnungen des Entgasers in der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit,
in welcher die Breitschlitzdüse
höher als die
Pumpe angeordnet ist; und
-
10A und 10B weitere
Anordnungen des Entgasers in der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit,
wobei die Breitschlitzdüse
tiefer als die Pumpe liegt.
-
BEVORZUGTE
AUSFÜHRUNGSFORMEN
DER ERFINDUNG
-
(1) Erste Ausführungsform
-
1 stellt
ein Beschichtungssystem, das eine Breitschlitzdüse hat, gemäß der vorliegenden Erfindung
dar. Das Beschichtungssystem, das allgemein mit der Bezugsziffer 10 bezeichnet
ist, hat eine Beschichtungsform 12. Die Beschichtungsform 12 hat
eine sich in dieser in Längsrichtung
erstreckende Leitung 14, ein oder mehrere Durchgangslöcher 16 zum
Zuführen
eines Beschichtungsmaterials, beispielsweise Fotoresists, in die
Leitung 14 und eine Schlitzdüse 18, die entlang
der Leitung 14 ausgebildet ist, um das Fotoresist aus dieser
auszugeben. Diese Beschichtungsform 12 ist so angeordnet,
dass ein Auslass 20 der Schlitzdüse 18 vertikal und
nach unten gerichtet ist. Das Durchgangsloch 16 hat zur Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit 22 eine
Strömungsverbindung,
so dass das in der Einheit 22 aufgenommene Fotoresist über das
Durchgangsloch 16 und die Leitung 14 zur Schlitzdüse 18 geleitet
wird und zum Schluss am Auslass 20 ausgegeben wird.
-
Die
Beschichtungsform 12 ist an einem Halter 24 befestigt.
Der Halter 24 ist sowohl an einen horizontalen Antriebsmechanismus 26 zum
Bewegen der Beschichtungsform 12 in einer Horizontalrichtung,
die durch den Pfeil X angegeben ist, welche rechtwinklig zur Schlitzdüse 18 liegt,
als auch mit einem Vertikal-Antriebsmechanismus 28 treibend
verbunden, um diesen in einer vertikalen Richtung, die durch den
Pfeil Y angegeben ist, zu bewegen. Diese Mechanismen 26 und 28 sind
elektrisch mit einem Rechenmechanismus 30 verbunden, so
dass gemäß den Ausgängen des
Rechenmechanismus 30 diese unabhängig gespeist werden. Der vertikale
Antriebsmechanismus 28 hat einen Servomotor und einen Mechanismus
mit einer Führungsspindel
und einem zugeordneten Schraubelement, das mit der Spindel mittels
spielfreier Gewindegänge
in Eingriff steht, wodurch es möglich
wird, dass der vertikale Antriebsmechanismus 28 die Beschichtungsform 12 mit
großer Präzision in
der μ-Größenordnung
nach oben und unten bewegt. Ferner trägt die Beschichtungsform 12 einen
kontaktlosen Bereichssensor 32 zum Messen einer Lücke zu einem
darunter zu platzierenden Objekt. Die Messwerte des Sensors 32 werden
in den Rechenmechanismus 30 geleitet.
-
Unterhalb
der Beschichtungsform 12 ist ein Tisch 34 horizontal
positioniert, um eine zu beschichtende Glasplatte 50 aufzunehmen.
Eine Aufnahmefläche 36 des
Tisches 34 ist so bearbeitet, dass sie eine Ebenheit von
2 μm oder
darunter hat. Die Aufnahmefläche 36 hat
eine Anzahl von Nuten 38, die gitterförmig angeordnet sind, während der
Tisch 34 eine Anzahl von Durchgangslöchern 40 aufweist,
die sich von den Nuten 38 zu seiner Unterseite 42 erstrecken.
Die Unterseite 42 des Tisches 34 ist so mit einer
Haube 44 abgedeckt, dass die Haube 44 die Löcher 40 umschließt. Die
Haube 44 hat über
ein Absaugrohr 46 eine Strömungsverbindung mit einer Vakuumpumpe 48.
Daher wird, wenn die zu beschichtende Glasplatte 50 auf
der Oberfläche 36 platziert
ist und dann die Vakuumpumpe 48 gespeist wird, ein Unterdruck
in die Haube 44, die Durchgangslöcher 40 und die Nuten 38 eingeleitet.
Dieser zieht die Glasplatte 50 in engen Kontakt mit dem
Tisch 34, wodurch Deformationen in der Glasplatte 50,
wie beispielsweise Verwindung und Krümmung eliminiert werden.
-
Der
Rechenmechanismus 30 hat eine Recheneinheit 52 für die tatsächliche
Lücke,
eine Abweichungsrecheneinheit 54 und eine Speichereinheit 56.
Die Recheneinheit 52 für
die tatsächliche
Lücke bestimmt
aus dem Messwert des Bereichssensors 32 eine Lücke (tatsächliche
Lücke)
zwischen dem Auslass 20 und einer darunter liegenden imaginären Oberfläche oder
Referenzfläche,
auf welcher eine Oberfläche
einer idealen Glasplatte, die keine Verformungen, wie beispielsweise
Krümmung
und ungleichförmige
Dicke, hat, positioniert ist. Die Abweichungsberechnungseinheit 54 berechnet
eine Abweichung zwischen der tatsächlichen Lücke und einer Referenzlücke. Die
Referenzlücke
wird auf die unten stehend beschriebene Art und Weise bestimmt.
Die Speichereinheit 56 speichert die berechneten Werte,
falls dies erforderlich ist. Der Rechenmechanismus 30 hebt
die Beschichtungsform 12 auch durch Antreiben des vertikalen
Antriebsmechanismus 28 an, so dass die Abweichung eliminiert wird,
um die tatsächliche
Lücke auf
die Referenzlücke
einzustellen.
-
Nebenbei
gesagt, ist die Referenzfläche
der idealen Glasplatte die imaginäre Oberfläche und daher kann die Referenzlücke nicht
gemessen werden. Aus diesem Grund wird die tatsächliche Lücke, das heißt die pseudo-tatsächliche
Lücke,
praktisch bestimmt, indem eine Lücke
zwischen der Aufnahmefläche 36 und
dem Auslass 20 gemessen wird und dann eine Dicke der idealen
Glasplatte 50 von der zuvor gemessenen Lücke subtrahiert
wird.
-
Im
Betrieb des so konstruierten Beschichtungsformsystems wird eine
zu beschichtende Glasplatte 50 auf dem Tisch 34 positioniert.
Diese Platte 50 ist so bemessen, dass sie alle Nuten 38,
die auf der Aufnahmefläche 36 des
Tisches 34 ausgebildet sind, abdeckt. Dann wird die Vakuumpumpe 48 gespeist.
Dies leitet Unterdruck in die Haube 34, um die Glasplatte 50 in
engen Kontakt zur Aufnahmefläche 36 des
Tisches 34 zu ziehen, woraus resultiert, dass die Verformungen
der Glasplatte 50, wie beispielsweise Verwindung und Krümmung, eliminiert
werden. Als Nächstes
misst ein Bereichssensor 32 die tatsächliche Lücke zwischen dem Auslass 20 und
der Referenzfläche.
Dann bestimmt der Rechenmechanismus 30 eine Abweichung
zwischen der tatsächlichen
Lücke und
der Referenzlücke.
Der Rechenmechanismus 30 aktiviert auch den vertikalen
Antriebsmechanismus 28, um die tatsächliche Lücke zwischen dem Auslass 20 und
der Glasplatte 20 und der Glasplatte 50 auf die
Referenzlücke
einzustellen. Darauffolgend wird unter Beibehaltung der Referenzlücke Fotoresist 58 von
der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit 22 zur
Leitung 14 zugeführt
und die Beschichtungsform 12 wird durch den horizontalen
Antriebsmechanismus 26 in der durch den Pfeil X angegebenen
Richtung rechtwinklig zur Schlitzdüse 18 bewegt. Dies
führt dazu,
dass auf die Glasplatte 50 das Fotoresist 28 aufgebracht
wird, das aus dem Auslass 20 durch die Schlitzdüse 18 ausgegeben wird.
-
Es
folgen Erörterungen
der Referenzlücke. Die
Referenzlücke
wird unter Verwendung einer Beziehung (siehe 2) zwischen
der Kapillarzahl, die aus einem Experiment erhalten worden ist,
was von Lee u. a. durchgeführt
worden ist, und einer dimensionslosen Minimalbeschichtungsdicke
und der folgenden Gleichungen (1) und (2) bestimmt. Das von Lee u.
a. durchgeführte
Experiment ist vollständig
in "Chemical Engineering
Science", Vol. 47,
Nr. 7, Seite 1.703 bis 1.713, 1922, beschrieben. Die Erfinder Yokoyama
u. a. der vorliegenden Erfindung verifizierten die experimentellen
Ergebnisse durch eine nummerische Analyse. Daraus folgend hat sich
herausgestellt, dass die Ergebnisse der Analyse weitgehend identisch
mit denen der Experimente sind, wie dies in der 2 gezeigt
ist.
-
In
der in der 2 gezeigten grafischen Darstellung
ist die Kapillarzahl Ca im Wesentlichen proportional zur dimensionslosen
Mindestbeschichtungsdicke t (einer Verhältniszahl der dimensionslosen
Beschichtungsdicke), wenn die Kapillarzahl Ca kleiner als eine kritische
Kapillarzahl von 0,1 ist. Daher kann unter der Voraussetzung, dass
die Kapillarzahl Ca innerhalb des Proportionalbereiches ist, durch
Einstellen der Referenzlücke
auf einen gewissen Wert, der zwischen den maximalen und minimalen
Lücken
liegt, eine Beschichtung mit einer Dicke erzielt werden, die der
Referenzlücke
entspricht.
-
Die
maximale Lücke
wird durch Berechnen der Kapillarzahl, die durch Einsetzen der Werte,
welche Eigenschaften des Beschichtungsmaterials repräsentieren
und der Be schichtungsgeschwindigkeit in die Gleichung (1) erhalten
wird, danach Bestimmen der entsprechenden dimensionslosen Mindestbeschichtungsdicke
aus der vorstehend berechneten Kapillarzahl mit Bezug auf die grafische
Darstellung in 2 und schlussendlich Einsetzen
der vorstehend bestimmten dimensionslosen Mindestbeschichtungsdicke
in die Gleichung (2) berechnet. Die Mindestlücke einerseits wird berechnet,
indem die dimensionslose Mindestbeschichtungsdicke aus der Schwellwert-Kapillarzahl
von 0,1 mit Bezug auf 2 bestimmt wird und dann die
vorstehend bestimmte dimensionslose Mindestbeschichtungsdicke in
die Gleichung (2) eingesetzt wird. Ca = μ·U/σ (1) t = h/H (2)wobei: Ca:
Kapillarzahl,
μ:
Viskosität
des Beschichtungsmaterials (Pa·S),
U:
Beschichtungsgeschwindigkeit (m/s),
σ: Oberflächenspannung (N/m),
t:
dimensionslose Mindestbeschichtungsdicke,
h: Mindestdicke des
Beschichtungsmaterials (μm) und
H:
Lücke vom
Auslass zur Platte (μm),
ist.
-
Anzumerken
ist, dass die maximalen und minimalen Lücken eine obere Grenze der
Lücke bzw. eine
untere Grenze der Lücke
sind, bei der ein stabiler und durchgehender Meniskus des Beschichtungsmaterials
zwischen Auslass und Platte aufrecht erhalten werden kann. Wenn
daher die Lücke
größer als
die maximale Lücke
ist oder kleiner als die minimale Lücke ist, wird kein stabiler
Meniskus ausgebildet. Wenn andererseits die Lücke im Bereich zwischen der
maximalen und minimalen Lücke
liegt, dient die Oberflächenspannung
des Beschichtungsmaterials in der Lücke als ein Stoßdämpfer, der Änderungen
der Lücke,
die durch die Unebenheit der Platte verursacht werden, aufnimmt
und dadurch sicherstellt, dass die Beschichtungsform eine Beschichtung
mit einer gewünschten
Dicke auf der Platte ausbildet.
-
Im
Folgenden werden die Bestimmungen der maximalen und minimalen Lücken erörtert. Es
wird angenommen, dass das Fotoresist 58 eine Viskosität (μ) von 0,06
Pa·s,
eine Oberflächenspannung
(σ) von 30·10–3 N/m
hat und die Glasplatte 50 650 mm lang, 550 mm breit ist und eine
Dicke von 1,1 mm ± 10 μm hat. Es
wird auch angenommen, dass die Beschichtungsgeschwindigkeit 10 mm/s
ist und die angestrebte Dicke der Beschichtung 10 μm beträgt. In diesem Fall
kann durch Einsetzen der Viskosität (μ) von 0,06 Pa·s des
Fotoresists 58, der Beschichtungsgeschwindigkeit (U) von
10 mm/s und der Oberflächenspannung
(σ) von
30·10–3 N/m
in die Gleichung (1) die Kapillarzahl Ca von 0,02 bestimmt werden.
Dann wird gemäß der grafischen
Darstellung in 2 unter Verwendung der berechneten
Kapillarzahl (das heißt 0,02)
die dimensionslose Mindestbeschichtungsdicke (t) von 0,15 bestimmt.
Zum Schluss wird durch Einsetzen der dimensionslosen Mindestbeschichtungsdicke
t von 0,15 und der Beschichtungsdicke von 10 μm in die Gleichung (2) die maximale
Lücke von
66 μm bestimmt.
-
Die
Referenzlücke
wird minimiert, wenn die Kapillarzahl (Ca) annähernd die kritische Kapillarzahl von
0,1 ist. Daher wird aus der grafischen Darstellung in 2 bestimmt,
dass die dimensionslose Mindestbeschichtungsdicke entsprechend der
Kapillarzahl 0,1 ungefähr
0,6 ist. Dann wird durch die Gleichung (2) für die angestrebte Dicke von
10 μm die
Mindestlücke
von ungefähr
16 μm bestimmt.
-
Wenn
die tatsächliche
Lücke vom
Auslass 20 bis zur Glasplatte 50 im Bereich zwischen
der Mindestlücke
(das heißt
16 μm) und
der maximalen Lücke
(das heißt
66 μm) liegt,
wird daraus folgend die Beschichtungsform 12 eine Beschichtung
von 10 μm auf
der Glasplatte 50 ungeachtet der Lückenänderungen infolge von Unebenheit
der Glasplatte 50 ausbilden.
-
Die
Krümmung
der Glasplatte 50 ist im Wesentlichen durch Anziehen derselben
auf die Aufnahmefläche 36 des
Tisches 34 eliminiert. Die Platte 50 hat jedoch
immer noch Dickenabweichungen von ±10,0 μm. Daher hat die Oberfläche der
Platte 50 möglicherweise
einen Höhenfehler
von ±11,0 μm gegenüber der
Referenzfläche.
-
Die
Lücke zwischen
dem Auslass 20 der Beschichtungsform 12 und der
Glasplatte 50 kann jedoch von 16 μm bis 66 μm eingestellt werden. Daher ist
für den
Fall, dass die tatsächliche
Lücke auf
55 μm gesetzt
ist, selbst wenn die Lückenänderung
auf das Maximum erhöht
ist und dadurch der Auslass 20 eine Position einnimmt,
die von der Glasplatte 50 am weitesten entfernt ist, die
tatsächliche
Lücke immer
noch gleich oder kleiner als der Maximalwert von 66 μm (= 55 μm + 11 μm) ist und
selbst wenn die Lückenänderung
auf das Minimum vermindert wird und dadurch der Auslass 20 eine
Position einnimmt, die an der Glasplatte am nächsten liegt, beträgt die tatsächliche Lücke 44 μm (= 55 μm – 11 μm). Wenn
die Lücke
44 μm ist,
existiert auch immer noch ein Spalt von 34 μm (= 44 μm – 10 μm) zwischen der Oberfläche der
Beschichtung mit einer Dicke von 10 μm und dem Auslass 20,
wodurch ein Beschichten sichergestellt wird, bei dem ein ausreichender
Abstand zwischen dem Auslass 20 der Beschichtungsform 12 und
der Glasplatte 50 liegt. Ferner minimiert die Vergrößerung der Referenzlücke die
nachteilige Auswirkung von Unebenheit in der Oberfläche des
Substrats.
-
Anzumerken
ist, dass der Bereichssensor 32 nicht auf den kontaktlosen
Sensor begrenzt ist und stattdessen ein Kontaktsensor verwendet
werden kann.
-
Obwohl
in dem vorstehenden Vakuummechanismus die Haube 44 die
gesamte Bodenfläche 42 des
Tisches 34 abdeckt, kann auch jedes der Durchgangslöcher 40 in
dem Tisch 34 direkt über
ein zugeordnetes Verzweigungsrohr mit dem Absaugrohr 46 verbunden
sein, um die Glasplatte 50 in engen Kontakt an den Tisch 34 zu
ziehen.
-
Wie
vorstehend beschrieben, wird gemäß der vorstehenden
Ausführungsform
die Glasplatte auf dem Tisch mit einer Ebenheit von 2,0 um oder darunter
aufgenommen und an den Tisch eng angezogen, wodurch die Verwindung
und Krümmung
der Glas platte eliminiert wird. Schließlich hat die Lücke zwischen
Auslass der Beschichtungsform und der Oberfläche des Substrats einen kleinen
Fehler, der ausschließlich
aus der ungleichmäßigen Dicke
der Glasplatte und einer weiteren Unebenheit des Tisches besteht
(das heißt
2,0 um oder darunter), was durch die Oberflächenspannung des Meniskus,
der zwischen Auslass der Beschichtungsform oder Glasplatte ausgebildet
wird, ausgeglichen wird. Dies stellt sicher, dass die Glasplatte
mit einem Film versehen wird, der unter Beibehaltung der Referenzlücke eine gewisse
Dicke hat.
-
Ferner
kann durch Setzen der Kapillarzahl 0,1 oder darunter, der Zahl,
die durch die Viskosität und
die Oberflächenspannung
des Beschichtungsmaterials und die Beschichtungsgeschwindigkeit
bestimmt ist, eine Beschichtung mit einer gewünschten Dicke auf die Glasplatte
aufgebracht werden, während
die Lücke
von der Beschichtungsform bis zur Glasplatte so groß als möglich ausgedehnt
ist.
-
(2) Zweite Ausführungsform
-
Obwohl
bei der vorstehenden Ausführungsform
die Lücke
zwischen dem Auslass der Beschichtungsform und der Glasplatte von
Anfang bis Ende des Beschichtens festgelegt ist, kann die Lücke gemäß der Unebenheit
der Glasplatte geändert
werden, um die Lücke
zwischen dem Auslass und der Glasplatte, bezogen auf die Referenzlücke, einzustellen.
-
Anhand
der 3A bis 3C und
der 4 wird dieses Aufbringverfahren erörtert. Bei
diesem Verfahren wird die Vakuumpumpe 48 gespeist, um die
Glasplatte 50, die auf dem Tisch 34 liegt, an die
Aufnahmefläche 36 des
Tisches 34 anzuziehen, wodurch Verformungen, wie beispielsweise
Verwindung und Krümmung,
eliminiert werden. Als Nächstes
wird, wie in 3A gezeigt, die Lücke vom
Auslass 20 bis zur Glasplatte 50 auf die Referenzlücke Gt eingestellt,
die ein spezifischer Wert innerhalb des Bereichs von 16 bis 66 μm ist. Dann
wird, wie in der 3B gezeigt, die Beschichtungsform 12 durch
den horizontalen Antriebsmechanismus 26 bewegt, um die
gesamte Oberfläche
der Glasplatte 50, auf welcher das Fotoresist durch die
Beschich tungsform 12 aufzubringen ist, abzutasten, um die
tatsächlichen Lücken Ga
in gewissen Intervallen unter Verwendung des kontaktlosen Entfernungssensors 32 zu
messen. Ebenfalls basierend auf den Messwerten bestimmt die Recheneinheit 52 für die tatsächliche
Lücke im Rechenmechanismus 30 die
tatsächlichen
Lücken Ga(i),
Ga(i + 1), Ga(i + 2), ... zwischen dem Auslass 20 und jedem
Teil der Platte. Ferner berechnet die Abweichungsrecheneinheit 54 die
Abweichungen D(i), D(i + 1), D(i + 2), ... zwischen der Referenzlücke Gt und
den entsprechenden tatsächlichen
Lücken Ga(i),
Ga(i + 1), Ga(i + 2), ... Die berechneten Abweichungen werden in
der Speichereinheit 56 gespeichert. Bei dieser Rechnung
wird eine Beziehung zwischen der Beschichtungsgeschwindigkeit (das
heißt der
Bewegungsgeschwindigkeit der Beschichtungsform) und der Hebegeschwindigkeit
der Beschichtungsform 12, das heißt eine Zeitverzögerung der Vertikalbewegung
bezogen auf die Horizontalbewegung, berücksichtigt. Die Messung der
tatsächlichen Lücke wird
auch gegenüber
der Glasplatte durchgeführt,
auf welcher das Beschichtungsmaterial aufgebracht werden soll, und
daher ist es nicht notwendig, die Differenz der Höhen zwischen
der Messposition und der Beschichtungsposition zu kompensieren, was
ansonsten auftreten würde,
wenn die zwei Positionen zueinander beabstandet sind.
-
Nachdem
die Berechnung beendet ist, wird, wie in 3C gezeigt,
die Beschichtungsform 12 horizontal bewegt und Fotoresist 58 wird
von der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit 22 zur Beschichtungsform 12 zum
Beschichten zugeführt.
In diesem Stadium wird, wie vorstehend beschrieben, die Beschichtungsform 12 durch
den vertikalen Antriebsmechanismus 28 in Übereinstimmung
mit den Abweichungen D, die sowohl unter Einbeziehung der Beschichtungs-
als auch Anhebegeschwindigkeit berechnet worden sind, auf und ab
bewegt, wodurch sichergestellt wird, dass die tatsächliche
Lücke vom Auslass 20 zur
Oberfläche
der Glasplatte 50 immer konstant bleibt und dadurch eine
Beschichtung mit einer konstanten Dicke auf die Glasplatte 50 aufgebracht
wird.
-
Wie
vorstehend beschrieben, sind vor dem Beschichten die Abweichungen
D zwischen der Referenzlücke
Gt und den tatsächlichen
Lücken
Ga berechnet worden. Die Abweichungen sind auch unter Berücksichtigung
der Anhebe- und Bewegungsgeschwindigkeiten der Beschichtungsform 12 bestimmt worden.
Daher kann die gesamte Oberfläche
der Glasplatte 50 leicht mit einer Beschichtung mit konstanter
Dicke versehen werden. Wenn die tatsächliche Lücke Ga durch den kontaktlosen
Entfernungssensor 32 gemessen wird, kann die Bewegungsgeschwindigkeit
der Beschichtungsform 12 niedriger als diejenige der Beschichtungsgeschwindigkeit
sein, um die Messgenauigkeit zu erhöhen.
-
Bei
dem Beschichtungsverfahren, das die Beschichtungsform verwendet,
wird die Berechnung in dem Rechenmechanismus 30 unter Verwendung der
Beschichtungsgeschwindigkeit und der Anhebegeschwindigkeit des Auslasses 20 durchgeführt und daher
kann die tatsächliche
Lücke zwischen
der Oberfläche
der Glasplatte und dem Auslass 20 der Beschichtungsform 12 immer
auf der Referenzlücke gehalten
sein, ohne von der Beschichtungsgeschwindigkeit abzuhängen. Nebenbei
gesagt, wenn die Beschichtung wegen einer Erhöhung der Produktivität beschleunigt
würde und
dadurch der Bereich zwischen den maximalen und minimalen Referenzlücken verkleinert
würde,
kann das Beschichtungsverfahren gemäß der ersten Ausführungsform,
bei dem die Lücke
von der Beschichtungsform bis zum Tisch feststeht, zu einer großen Abweichung
zwischen der tatsächlichen
Lücke und
der Referenzlücke
führen, wodurch
es schwierig wird, eine konstante Dicke auszubilden. Das Verfahren
gemäß dieser
Ausführungsform
kann jedoch immer die tatsächliche
Lücke zur Referenzlücke einstellen.
Das heißt,
gemäß diesem Verfahren
kann die Beschichtungsgeschwindigkeit frei gewählt werden, da bei der Beziehung
zwischen der Hebegeschwindigkeit der Beschichtungsform 12 (des
Auslasses 20) und der Beschichtungsgeschwindigkeit, das
heißt
die Zeitverzögerung,
berücksichtigt worden
ist.
-
Diese
Erfindung kann auch an einer starken Glasplatte anstatt an der flexiblen
angewandt werden. In diesem Fall ist es nicht notwendig, die Platte an
den Tisch 34 anzuziehen.
-
Obwohl
die Beschichtungsform 12 einen Satz von vertikalem Antriebsmechanismus 28 und Entfernungssensor 32 enthält, kann
diese ferner zwei Sätze
haben. In diesem Fall sind die vertikalen Antriebsmechanismen 28 an
den einander gegenüberliegenden
Seitenenden der Beschichtungsform 12 angeordnet und die
Entfernungssensoren 32 sind neben den einander gegenüberliegenden
Seitenenden der Beschichtungsform 12 positioniert, so dass
sie jeweils mit dem zugehörigen
vertikalen Antriebsmechanismus 28 zusammenwirken können. Mit
zwei Paaren Entfernungssensoren und zugeordnet zu den vertikalen
Antriebsmechanismen 28 können Dickenänderungen der Glasplatte an
einander gegenüberliegenden
Seiten bei der Anwendung berücksichtigt
werden.
-
Ferner
ist es nicht notwendig, die Referenzlücke zwischen der Beschichtungsform
und der Glasplatte unter Verwendung der Kapillarzahl Ca, wie bei den
vorstehenden Ausführungsformen
gezeigt, zu berechnen. Alternativ kann die Referenzlücke aus Experimenten
ungeachtet der Kapillarzahl bestimmt werden. Selbst in diesem Fall
sollte die Glasplatte an den Tisch angezogen werden, um die Verwindung und
Krümmung
der Glasplatte zu eliminieren.
-
Wie
aus der vorstehenden Beschreibung gemäß dieser Ausführungsform
zu ersehen ist, ist es nicht notwendig, gleichzeitig die Messung,
die Berechnung und das Anheben des Auslasses durchzuführen, und
daher kann die Beschichtungsform auf und ab bewegt werden, selbst
wenn die Beschichtungsgeschwindigkeit relativ hoch ist. Dies stellt
sicher, dass die Lücke
zwischen Plattenoberfläche
und Auslass ungeachtet der Beschichtungsgeschwindigkeit die Referenzlücke ist,
selbst wenn das Substrat Verformungen hat, beispielsweise Verwindungen, Krümmungen,
und eine ungleichförmige
Dicke hat. Als ein Ergebnis kann, selbst wenn die Beschichtung eine
relativ kleine Dicke von 10 μm
oder darunter hat und eine extrem präzise Beschichtung erforderlich ist,
bei der die Genauigkeit der Dicke weniger als ±5% sein sollte, die gewünschte Beschichtung
ausgebildet werden.
-
Ferner
ist der kontaktlose Entfernungssensor einstückig an der Beschichtungsform
montiert. Dies erlaubt, dass die Messung an der Beschichtungsposition
durchgeführt
wird, was zu einer präzisen
Messung der tatsächlichen
Lücke führt.
-
Weiterhin
kann die flexible Platte an den flachen Tisch mittels des Saugmechanismus
angezogen werden, um ihre Verwindung und Krümmung zu entfernen, wodurch
sichergestellt wird, dass die Platte mit der Beschichtung mit gewünschter
Dicke versehen wird.
-
(3) Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit
-
Bezugnehmend
auf 5 hat die Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit 22 einen
Behälter 62 zum
Aufnehmen des Beschichtungsmaterials, der mit der Beschichtungsform 12 mittels
einer Leitung 68 mit einem ersten Rohr 64 und
einem zweiten Rohr 66 verbunden ist. Die ersten und zweiten
Rohre 64 und 66 sind miteinander durch einen Entgaser 70 verbunden.
Das erste Rohr 64 hat eine Pumpe 72 und ein Filter 74.
Die Pumpe 72 ist an der Seite in der Nähe des Behälters 62 positioniert
und das Filter 74 ist an der anderen Seite desselben positioniert.
Ferner hat das zweite Rohr 66 in der Nähe der Beschichtungsform 12 ein
Ventil 76.
-
Wie
in der 6 gezeigt, hat der Entgaser 70, im Allgemeinen
in Form eines Konus, an seinem oberen Teil einen Auslass 78 zum
Ausgeben von Luft. Der Auslass 78 ist über ein Ventil 80 mit
der Atmosphäre
verbunden. Das Ventil 80 kann manuell oder elektrisch gesteuert
werden. Um eine nachteilige Auswirkung einer Druckänderung
im Entgaser 70 zu senken, die durch Zusammenziehen und
Ausdehnen von einer großen
Luftblase, welche in der Nähe des
Auslasses 78 sich angesammelt hat, verursacht wird, hat
der Entgaser 70, verglichen mit der sich darin möglicherweise
ausbildenden großen
Blase, ein signifikant großes
Volumen. Das heißt,
der Entgaser 70 ist so gestaltet, dass er, verglichen mit
einer Blase, die sich möglicherweise
in dem Beschichtungsmaterial ausbilden kann, ein Volumen hat, das
eine große Menge
Beschichtungsmaterial aufnehmen kann. Zusätzlich erstreckt sich das erste
Rohr 64 in das In nere des Entgasers 70 und endet
in der Nähe
der Oberseite des Entgasers 70. Andererseits ist das zweite
Rohr 66 an dem Boden des Entgasers 70 angeschlossen. Diese
Rohranordnung stellt sicher, dass kleine Blasen 82 in dem
Auslass 78 gesammelt werden können und kein Beschichtungsmaterial
mit kleinen Blasen 82 mehr an das zweite Rohr 66 ausgegeben
wird.
-
Wo
das Rohr 68 zwischen der Pumpe 72 und der Beschichtungsform 12 einen
gebogenen Teil enthalten würde
und an der Pumpe nach oben vorstehen würde oder wo das Rohr, welches
an die Pumpe angeschlossen ist, sich horizontal erstrecken würde und
dann nach oben krümmen
würde,
ist der Entgaser 70 vorzugsweise an oder in der Nähe des nächsten gebogenen
Teils positioniert, von welchem sich dieses in horizontaler oder
nach unten verlaufender Richtung erstreckt. Wenn im Gegensatz hierzu
das Rohr sich von der Pumpe ausgehend horizontal erstrecken würde und
dann nach unten krümmen
würde,
ist der Entgaser 70 vorzugsweise an oder neben dem gebogenen
Teil positioniert. Dies ist deshalb der Fall, weil Gasblasen dazu
neigen, in der Nähe
des gebogenen Teils sich anzusammeln.
-
Für die Kombination
aus Pumpe 72 und Beschichtungsform 12 können drei
Anordnungen vorgeschlagen werden. Das heißt, die Pumpe 72 kann
auf der gleichen Höhe
wie die Beschichtungsform 12 positioniert sein oder kann
höher oder
tiefer als die Beschichtungsform 12 positioniert sein.
-
Wenn
die Pumpe 27 und die Beschichtungsform 12 auf
der gleichen Höhe
angeordnet sind, wie dies in der 8A gezeigt
ist, bei der die Pumpe 72 mit der Beschichtungsform 12 über ein
gerades Rohr 68 verbunden ist, welches sich horizontal
erstreckt, kann der Entgaser 70 an irgendeiner Position
des Rohres 68 angeordnet sein. Wenn die Pumpe 72 und die
Beschichtungsform 12 durch das Rohr 68 verbunden
sind, welches eine Anzahl von gebogenen Teilen enthält, um eine
Kollision mit Hindernissen zu vermeiden, wie dies in der 8B gezeigt
ist, dann ist der Entgaser 70 in oder in der Nähe des ersten
gebogenen Teils 84 angeordnet, wo der erste vertikale Rohrteil
in der Nähe
der Pumpe 72 an seinem am weitesten oben liegenden Teil
mit darauf fol gendem horizontalen Rohrteil angeschlossen ist. Wenn
die Beschichtungsform 12 höher als die Pumpe 72 angeordnet
ist, wie dies in den 9A bis 9C gezeigt ist,
ist der Entgaser 70 vorzugsweise in oder neben dem gebogenen
Teil 84 angeordnet.
-
Wenn,
wie in der 10A gezeigt, die Beschichtungsform 12 tiefer
als die Pumpe 72 liegt, ist der Entgaser 70 vorzugsweise
an dem ersten gebogenen Teil 84 angeordnet, wo sich das
Rohr 68 horizontal erstreckt und dann nach unten verläuft. Wenn jedoch
das Rohr 68 einen nach oben gebogenen Teil aufweist, um
eine Kollision mit Hindernissen zu vermeiden, wie dies in der 10B gezeigt ist, ist der Entgaser 70 vorzugsweise
in oder in der Nähe
des ersten gebogenen Teils 84 angeordnet, wo das Rohr 68 sich
nach oben erstreckt und dann horizontal wendet.
-
Im
Betrieb der so konstruierten Beschichtungsmateral-Zuführeinheit
für die
Beschichtungsform 12 wird das Ventil 76 geöffnet und
das andere Ventil 80 geschlossen und dann wird die Pumpe 72 gespeist,
wodurch die ersten und zweiten Rohre 64 und 66 und
der Entgaser 70 mit dem Beschichtungsmaterial gefüllt werden,
um die Beschichtung vorzubereiten. In diesem Stadium wird das Ventil 80 für eine Weile
geöffnet,
um die Luft, welche sich im Auslass 78 des Entgasers 70 gesammelt
hat, auszustoßen.
-
Darauf
folgende leitet die Pumpe 72 das Beschichtungsmaterial
kontinuierlich in die Beschichtungsform 12, um das Beschichten
durchzuführen. Das
Beschichtungsmaterial, welches von der Pumpe 72 durch das
Filter 74 in den Entgaser 70 fließt, kann, wie
in 6 gezeigt, kleine Gasblasen 82 enthalten. Wenn
es in den Entgaser 70 eintritt, gehen kleine Gasblasen 82 infolge
ihres Auftriebs nach oben, wachsen, wie in der 6 gezeigt,
am Auslass 78 zu einer großen Gasblase. Die große Gasblase 86 wird infolge
des Druckes des Beschichtungsmaterials bei periodischem Öffnen des
Ventils 80 durch den Auslass 78 nach außen gedrückt. Das
Beschichtungsmaterial, aus welchem die meisten Gasblasen entfernt
worden sind, wird dann durch den Druck, der durch die Pumpe 72 ausgeübt wird,
in das zweite Rohr 66 geleitet. Zu diesem Zeitpunkt ist
das Volumen des Entgasers 70 relativ groß, was das
Zusammenziehen und Ausdehnen des Beschichtungsmaterials, welches
von dem ersten Rohr 64 zugeführt worden ist, vermindert.
Dadurch wird sichergestellt, dass das Beschichtungsmaterial mit
konstantem Druck herausgeleitet wird. Dann wird das Beschichtungsmaterial
der Beschichtungsform 12 zugeführt, durch welches auf die
Glasplatte 50 aufgebracht wird.
-
Obwohl
in den vorstehenden Ausführungsformen
das beaufschlagte Substrat eine Platte ist, kann dieses auch ein
fortlaufendes, streifenförmiges Element
sein.
-
Ebenfalls
nicht begrenzt auf die konische Gestalt kann der Entgaser 70 eine
andere Gestalt haben, die an ihrer Oberseite in der Nähe des Auslasses 78 einen
Teil mit kleiner Fläche
hat, um kleine Gasblasen 82 in dem Beschichtungsmaterial
zu sammeln.
-
Ferner
kann irgendeine Leitungsanordnung für den Entgaser 70 verwendet
werden, die sicherstellt, dass kleine Gasblasen 82 im Entgaser 70 gesammelt
werden. Beispielsweise können,
wie in der 7 gezeigt, die ersten und zweiten
Rohre 64 und 66 an den oberen Seitenteil bzw.
unteren Seitenteil des Entgaser 70 angeschlossen sein.
-
Wie
vorstehend beschrieben, werden gemäß der Beschichtungsmaterial-Zuführeinheit
die Gasblasen in dem Beschichtungsmaterial durch den Entgaser gesammelt
und dann aus dem Beschichtungsmaterial-Zuführschaltkreis entfernt. Das
Volumen der gesammelten Luft ist, verglichen mit dem des Entgasers,
klein, so dass in dem Beschichtungsmaterial ungeachtet des Druckes
zum Zuführen
des Beschichtungsmaterials keine substanzielle Druckschwingung erzeugt
wird. Dies stellt sicher, dass das Beschichtungsmaterial der Leitung
in der Beschichtungsform mit konstantem Druck zugeführt wird,
wodurch schließlich
die Platte mit einer Beschichtung mit konstanter Dicke versehen
wird.
-
Obwohl
hier eine gewisse spezifische Struktur, welche die Erfindung verkörpert, gezeigt
und beschrieben worden ist, ist anzugeben, dass für den Fachmann
verschiedene Modifikationen und neue Anordnungen der Teile durchgeführt werden
können, ohne dass
vom Umfang des zu Grunde liegenden erfindungsgemäßen Konzeptes abgewichen wird
und dass dieses nicht durch die hier gezeigten und beschriebenen
besonderen Formen begrenzt ist, mit Ausnahme, dass dieses durch
den Umfang der anhängenden
Patentansprüche
angegeben ist.