JPH0510817A - 焦電アレイセンサ - Google Patents
焦電アレイセンサInfo
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- JPH0510817A JPH0510817A JP15298191A JP15298191A JPH0510817A JP H0510817 A JPH0510817 A JP H0510817A JP 15298191 A JP15298191 A JP 15298191A JP 15298191 A JP15298191 A JP 15298191A JP H0510817 A JPH0510817 A JP H0510817A
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Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 低コストで特性のばらつきの小さい赤外線ア
レイセンサを提供する。 【構成】 焦電基材の表面に受光電極20を複数個配置
し、その基板の裏面には電極対と対峙する位置に対極3
0を各々設けたセンサにおいて、その対極30の面積サ
イズが受光電極20のサイズより大きくした焦電アレイ
センサ。
レイセンサを提供する。 【構成】 焦電基材の表面に受光電極20を複数個配置
し、その基板の裏面には電極対と対峙する位置に対極3
0を各々設けたセンサにおいて、その対極30の面積サ
イズが受光電極20のサイズより大きくした焦電アレイ
センサ。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線、特に熱線を検
知する焦電センサの形状に関する。
知する焦電センサの形状に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、赤外線、特に熱線を検知する焦電
センサは焦電効果を有する基板の表面に受光電極を設
け、基板裏面には受光電極と対峙する位置に対極を設
け、受光電極に赤外線を照射することにより該電極間電
位が変化することを利用して検知するものである。材料
としては硫酸グリシン系、ポリ弗化ビニリデン系、Li
TaO3、PbTiO3などの強誘電体材料が用いられ、
また、基材の形態は硫酸グリシン系、LiTaO3等は
結晶体が用いられ、PbTiO3系は結晶の形成が困難
なことから焼結セラミックもしくは薄膜技術により形成
した薄膜を用いるのが一般的である。
センサは焦電効果を有する基板の表面に受光電極を設
け、基板裏面には受光電極と対峙する位置に対極を設
け、受光電極に赤外線を照射することにより該電極間電
位が変化することを利用して検知するものである。材料
としては硫酸グリシン系、ポリ弗化ビニリデン系、Li
TaO3、PbTiO3などの強誘電体材料が用いられ、
また、基材の形態は硫酸グリシン系、LiTaO3等は
結晶体が用いられ、PbTiO3系は結晶の形成が困難
なことから焼結セラミックもしくは薄膜技術により形成
した薄膜を用いるのが一般的である。
【0003】このとき、焦電出力は受光電極の面積に大
きく左右されるばかりでなく、受光電極とそれに対峙し
ている対極とが重なり合っている面積に大きく左右され
るものである。
きく左右されるばかりでなく、受光電極とそれに対峙し
ている対極とが重なり合っている面積に大きく左右され
るものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】薄膜センサは感度は高
いがコストと信頼性の点で問題が有り、それとは逆に、
結晶体やセラミック体は生産性および信頼性の点で優れ
ているという特徴がある。該結晶体やセラミック体を切
削・研磨加工により薄板化し、該基板表面に赤外線受光
電極を形成し、裏面に対極を形成してセンサ素子をライ
ン状に並べたアレイセンサを形成する場合、電極が互い
に対峙するように位置合わせを正確にする必要が有り、
そのため、フォトリソグラフィーによる電極パターン形
成が主に用いられており、工程としてレジスト塗布、プ
レベイク、露光、現像、ポストベイク、電極エッチン
グ、レジスト剥離の各工程によりパターン形成しなけれ
ばならず時間がかかり過ぎるという課題があった。ま
た、メタルマスクによる電極パターン形成は、工程とし
て焦電基板にメタルマスクを装着して電極形成するだけ
で電極がパターン状に形成されるので非常に低コストで
センサが提供できるが受光電極と対極との合わせ精度が
悪く、センサ検出感度に大きなばらつきを生じるという
課題が有った。
いがコストと信頼性の点で問題が有り、それとは逆に、
結晶体やセラミック体は生産性および信頼性の点で優れ
ているという特徴がある。該結晶体やセラミック体を切
削・研磨加工により薄板化し、該基板表面に赤外線受光
電極を形成し、裏面に対極を形成してセンサ素子をライ
ン状に並べたアレイセンサを形成する場合、電極が互い
に対峙するように位置合わせを正確にする必要が有り、
そのため、フォトリソグラフィーによる電極パターン形
成が主に用いられており、工程としてレジスト塗布、プ
レベイク、露光、現像、ポストベイク、電極エッチン
グ、レジスト剥離の各工程によりパターン形成しなけれ
ばならず時間がかかり過ぎるという課題があった。ま
た、メタルマスクによる電極パターン形成は、工程とし
て焦電基板にメタルマスクを装着して電極形成するだけ
で電極がパターン状に形成されるので非常に低コストで
センサが提供できるが受光電極と対極との合わせ精度が
悪く、センサ検出感度に大きなばらつきを生じるという
課題が有った。
【0005】本発明は、上述の問題に鑑みて試されたも
ので、結晶体もしくはセラミック体を用いて低コストで
信頼性が高いアレイセンサを提供するものである。
ので、結晶体もしくはセラミック体を用いて低コストで
信頼性が高いアレイセンサを提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、焦電効果を有
する結晶体もしくはセラミック体基材の表面に赤外線受
光部用電極を複数個ライン状に一定間隔で配置し、その
基板の裏面には電極対と対峙する位置に受光電極より広
い面積の対極を各々設けたことを特徴とするものであ
る。
する結晶体もしくはセラミック体基材の表面に赤外線受
光部用電極を複数個ライン状に一定間隔で配置し、その
基板の裏面には電極対と対峙する位置に受光電極より広
い面積の対極を各々設けたことを特徴とするものであ
る。
【0007】
【作用】本発明は、焦電効果を有する結晶体もしくはセ
ラミック体基材の表面に設けた赤外線受光部用電極と、
その受光電極より広い面積の対極を各々設けたことを特
徴とするものであり、これにより、電極の位置合わせを
容易にし、低コストでセンサ感度の安定した温度分布測
定装置を実現できる。
ラミック体基材の表面に設けた赤外線受光部用電極と、
その受光電極より広い面積の対極を各々設けたことを特
徴とするものであり、これにより、電極の位置合わせを
容易にし、低コストでセンサ感度の安定した温度分布測
定装置を実現できる。
【0008】
(実施例1)図1a,b,c、図2および図3a,bは
本発明の一実施例の焦電アレイセンサを説明するための
焦電体部の概略構成を示すものであって、図1aに示す
ように切削・研磨加工により薄板化したPbTiO3等
からなる焦電体基板表面11には、メタルマスクを用い
て蒸着もしくはスパッター法もしくはCVD法により受
光電極20と電極引出部24を複数個設ける。メタルマ
スクの基板への装着は基板の端面部を基準として位置合
わせするか、基板状のマーカにより位置合わせする。ま
た、メタルマスクは50から100μm程度の薄いSU
S430等の材質から成る磁性材料を用いることによ
り、製膜時に焦電体基板裏面側にマグネットを配置する
ことによりマスク基材が焦電体基板から浮き上がること
を抑え、ぶれの無いパターン蒸着が可能である。
本発明の一実施例の焦電アレイセンサを説明するための
焦電体部の概略構成を示すものであって、図1aに示す
ように切削・研磨加工により薄板化したPbTiO3等
からなる焦電体基板表面11には、メタルマスクを用い
て蒸着もしくはスパッター法もしくはCVD法により受
光電極20と電極引出部24を複数個設ける。メタルマ
スクの基板への装着は基板の端面部を基準として位置合
わせするか、基板状のマーカにより位置合わせする。ま
た、メタルマスクは50から100μm程度の薄いSU
S430等の材質から成る磁性材料を用いることによ
り、製膜時に焦電体基板裏面側にマグネットを配置する
ことによりマスク基材が焦電体基板から浮き上がること
を抑え、ぶれの無いパターン蒸着が可能である。
【0009】次に、図1bに示すように焦電体基板裏面
12には、同様にして、受光電極20に各々対峙する位
置に受光電極用対極30を設け、各々外部回路へ接続す
るための対極用引出部34を形成する。このとき、対極
のサイズは受光電極サイズより大きくする。また、隣接
する受光電極間距離は10から200μmとし、電極接
続部および電極引出部における線巾は20−100μm
が良い。図1cは図1aとbを重ねた状態を示す。
12には、同様にして、受光電極20に各々対峙する位
置に受光電極用対極30を設け、各々外部回路へ接続す
るための対極用引出部34を形成する。このとき、対極
のサイズは受光電極サイズより大きくする。また、隣接
する受光電極間距離は10から200μmとし、電極接
続部および電極引出部における線巾は20−100μm
が良い。図1cは図1aとbを重ねた状態を示す。
【0010】図2には基板表面および裏面に形成した電
極の対峙状態を示す。受光電極と受光電極用対極の電極
サイズは前者が後者に較べ小さく設計する。図2におい
て焦電体基板10と受光電極20上に赤外線を集光する
ために設置した赤外線透過レンズ60とチョッパー70
との相対位置を示す。赤外線50はチョッパー70によ
り、断続的に入射することにより、焦電出力を得た。
極の対峙状態を示す。受光電極と受光電極用対極の電極
サイズは前者が後者に較べ小さく設計する。図2におい
て焦電体基板10と受光電極20上に赤外線を集光する
ために設置した赤外線透過レンズ60とチョッパー70
との相対位置を示す。赤外線50はチョッパー70によ
り、断続的に入射することにより、焦電出力を得た。
【0011】(表1)には電極のサイズと20素子の感
度ばらつき(感度標準偏差/平均値)の関係を示す。ま
た、比較のためにフォトリソグラフィによって正確に位
置合わせをした従来のセンサの特性についても記載し
た。サイズの単位は(μm)である。
度ばらつき(感度標準偏差/平均値)の関係を示す。ま
た、比較のためにフォトリソグラフィによって正確に位
置合わせをした従来のセンサの特性についても記載し
た。サイズの単位は(μm)である。
【0012】
【表1】
【0013】上述の表より明らかなように、受光電極の
サイズに較べて対極のサイズを大きくすることにより、
感度ばらつきを大幅に小さくすることができた。対極サ
イズを受光電極サイズより約40μm大きく設計するこ
とで、フォトリソにより形成した電極を用いたセンサと
ほぼ同程度の精度が達成できた。
サイズに較べて対極のサイズを大きくすることにより、
感度ばらつきを大幅に小さくすることができた。対極サ
イズを受光電極サイズより約40μm大きく設計するこ
とで、フォトリソにより形成した電極を用いたセンサと
ほぼ同程度の精度が達成できた。
【0014】(実施例2)図3a,bは本発明の異なる
実施例を説明するための焦電体部の概略構成を示すもの
であって、図3に示すように切削・研磨加工により薄板
化したPbTiO 3等からなる焦電体基板10の表面に
は、メタルマスクを用いて蒸着もしくはスパッター法も
しくはCVD法により受光電極20と補償電極21を複
数個設け、その電極は各々電極接続部22により電気的
に接続する構造とする。さらに、焦電体基板10の裏面
には、同様にして、受光電極20と補償電極21とに各
々対峙する位置に受光電極用対極30および補償電極用
対極31を設け、各々外部回路へ接続するための電極引
出し部34を形成する。
実施例を説明するための焦電体部の概略構成を示すもの
であって、図3に示すように切削・研磨加工により薄板
化したPbTiO 3等からなる焦電体基板10の表面に
は、メタルマスクを用いて蒸着もしくはスパッター法も
しくはCVD法により受光電極20と補償電極21を複
数個設け、その電極は各々電極接続部22により電気的
に接続する構造とする。さらに、焦電体基板10の裏面
には、同様にして、受光電極20と補償電極21とに各
々対峙する位置に受光電極用対極30および補償電極用
対極31を設け、各々外部回路へ接続するための電極引
出し部34を形成する。
【0015】このとき、受光電極20と補償電極21は
同一面積であることが望ましく、かつ、受光電極用対極
30および補償電極用対極31のサイズは受光電極20
および補償電極21のサイズよりそれぞれ大きく形成す
る。また、隣接する受光電極間距離は10から200μ
mとし、受光電極20と補償電極21間隔、すなわち、
電極接続部22の長さは500μmから2mmがよい。
また、電極接続部および電極引出部における線巾は20
−100μmが良い。
同一面積であることが望ましく、かつ、受光電極用対極
30および補償電極用対極31のサイズは受光電極20
および補償電極21のサイズよりそれぞれ大きく形成す
る。また、隣接する受光電極間距離は10から200μ
mとし、受光電極20と補償電極21間隔、すなわち、
電極接続部22の長さは500μmから2mmがよい。
また、電極接続部および電極引出部における線巾は20
−100μmが良い。
【0016】次に、図4に示すように該焦電体基板10
の受光表面前面には、赤外線選択透過窓41を有する赤
外線選択透過基板40を配置することにより、受光電極
20にのみ赤外線50が照射されるようにし、補償電極
21に遮光状態とする。
の受光表面前面には、赤外線選択透過窓41を有する赤
外線選択透過基板40を配置することにより、受光電極
20にのみ赤外線50が照射されるようにし、補償電極
21に遮光状態とする。
【0017】図5には該焦電体基板10と赤外線選択透
過基板40および受光電極20上に赤外線を集光するた
めの赤外線透過レンズ60とチョッパー70との相対位
置を示す。当然のことながら、集光後の赤外線は赤外線
選択透過基板40によって、補償電極21側には照射さ
れず、受光電極20側のみに照射されものである。ま
た、赤外線50はチョッパー70により、断続的に入射
することにより、焦電出力を得る。
過基板40および受光電極20上に赤外線を集光するた
めの赤外線透過レンズ60とチョッパー70との相対位
置を示す。当然のことながら、集光後の赤外線は赤外線
選択透過基板40によって、補償電極21側には照射さ
れず、受光電極20側のみに照射されものである。ま
た、赤外線50はチョッパー70により、断続的に入射
することにより、焦電出力を得る。
【0018】実際に、受光電極部および補償電極部を同
一焦電体基板上に10個アレイ状に形成し、実施例1と
同様の電極サイズ効果を検討した結果、アレイ状の方向
の1次元の温度分布を精度良く測定することができた。
一焦電体基板上に10個アレイ状に形成し、実施例1と
同様の電極サイズ効果を検討した結果、アレイ状の方向
の1次元の温度分布を精度良く測定することができた。
【0019】次に、該焦電体基板10と赤外線選択透過
基板40と赤外線透過レンズ60とチョッパー70とを
回転部として一体化し、その回転部をステッピングモー
タに機械的に接続し、受光電極のアレイ状方向(長軸方
向)を縦方向として、チョッピングをかけながら、ステ
ッピングモータを駆動させ、回転部を断続的に横方向に
回転させることによりセンサおよびレンズが面している
方向を左右に走査させながら、温度分布を測定した。測
定後、電気信号処理により各方向の縦の温度分布をつな
ぎ合わせると、空間の2次元の反転温度分布が得られ
た。
基板40と赤外線透過レンズ60とチョッパー70とを
回転部として一体化し、その回転部をステッピングモー
タに機械的に接続し、受光電極のアレイ状方向(長軸方
向)を縦方向として、チョッピングをかけながら、ステ
ッピングモータを駆動させ、回転部を断続的に横方向に
回転させることによりセンサおよびレンズが面している
方向を左右に走査させながら、温度分布を測定した。測
定後、電気信号処理により各方向の縦の温度分布をつな
ぎ合わせると、空間の2次元の反転温度分布が得られ
た。
【0020】以上、本発明のセンサを用いて、空間の2
次元温度分布測定が達成できた。
次元温度分布測定が達成できた。
【0021】
【発明の効果】以上のように、本発明は、赤外線を検知
するアレイセンサとして、焦電効果を有する結晶体もし
くはセラミック体基材の表面に、赤外線受光部用電極も
しくは補償用の電極とを複数個形成し、基板の裏面には
電極と対峙する位置に該電極より大きなサイズの対極を
各々設けた構造としたことを特徴とするものであるか
ら、基板の表面および裏面に設ける対峙した電極同士の
重なりが容易で、素子作製上の正確な位置合わせを必要
とせず、メタルマスク法により容易に電極のパターン化
が達成できることから、素子の低コスト化を可能とする
ものである。
するアレイセンサとして、焦電効果を有する結晶体もし
くはセラミック体基材の表面に、赤外線受光部用電極も
しくは補償用の電極とを複数個形成し、基板の裏面には
電極と対峙する位置に該電極より大きなサイズの対極を
各々設けた構造としたことを特徴とするものであるか
ら、基板の表面および裏面に設ける対峙した電極同士の
重なりが容易で、素子作製上の正確な位置合わせを必要
とせず、メタルマスク法により容易に電極のパターン化
が達成できることから、素子の低コスト化を可能とする
ものである。
【図1】(a)本発明の一実施例の焦電アレイセンサに
おける焦電体基板表面の概略図 (b)同実施例における焦電体基板表面の概略図 (c)同実施例における基板の表裏の電極を位置関係を
示す図
おける焦電体基板表面の概略図 (b)同実施例における焦電体基板表面の概略図 (c)同実施例における基板の表裏の電極を位置関係を
示す図
【図2】同実施例における焦電基板と測定系との相対位
置関係図
置関係図
【図3】(a)本発明の異なる実施例の焦電アレイセン
サにおける焦電体部の分解斜視図 (b)本発明の異なる実施例の焦電アレイセンサにおけ
る焦電体部の分解斜視図
サにおける焦電体部の分解斜視図 (b)本発明の異なる実施例の焦電アレイセンサにおけ
る焦電体部の分解斜視図
【図4】同異なる実施例における焦電基板と赤外線選択
透過基板との相対位置関係図
透過基板との相対位置関係図
【図5】焦電基板と測定系との相対位置関係図
10 焦電体基板
11 焦電体基板表面
12 焦電体基板裏面
20 受光電極
21 補償電極
22 電極接続部
24 受光電極用引出部
25 受光部
26 補償部
30 受光電極用対極
31 補償電極用対極
33 補償電極用共通対極
34 対極用引出部
40 赤外線選択透過基板
41 赤外線選択透過窓
50 赤外線
60 赤外線透過レンズ
70 チョッパー
Claims (2)
- 【請求項1】 焦電効果を有する基材の表面に赤外線受
光電極を複数個ライン状に所定間隔で配置し、前記基板
の裏面には前記受光電極と対峙する位置に前記受光電極
より広い面積の対極を各々設けたことを特徴とする焦電
アレイセンサ。 - 【請求項2】 焦電効果を有する基材の表面に赤外線受
光電極と前記受光電極と電極接続部を介して電気的に接
触した補償電極とを一対とした電極対を複数個ライン状
に所定間隔で配置し、前記基板の裏面には前記受光電極
および前記補償電極と対峙する位置に前記受光電極およ
び前記補償電極より広い面積を有する対極を設け、前記
対極から外部電気回路への取出用電極引出部をそれぞれ
設けたことを特徴とする請求項1記載の焦電アレイセン
サ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15298191A JPH0510817A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 焦電アレイセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15298191A JPH0510817A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 焦電アレイセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0510817A true JPH0510817A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=15552357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15298191A Pending JPH0510817A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 焦電アレイセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0510817A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3106541A1 (de) * | 1981-02-21 | 1982-10-21 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von kupferphthalocyanin |
US6309692B1 (en) | 1996-01-22 | 2001-10-30 | Chugai Ro Co., Ltd. | Method of and apparatus for coating a substrate with a coating material having an even thickness |
JP2017026078A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 株式会社ジェイテクト | 軸受装置 |
-
1991
- 1991-06-25 JP JP15298191A patent/JPH0510817A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3106541A1 (de) * | 1981-02-21 | 1982-10-21 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von kupferphthalocyanin |
US6309692B1 (en) | 1996-01-22 | 2001-10-30 | Chugai Ro Co., Ltd. | Method of and apparatus for coating a substrate with a coating material having an even thickness |
JP2017026078A (ja) * | 2015-07-24 | 2017-02-02 | 株式会社ジェイテクト | 軸受装置 |
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