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DE4342123B4 - Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und Verfahren zu seiner Herstellung Download PDF

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DE4342123B4
DE4342123B4 DE4342123A DE4342123A DE4342123B4 DE 4342123 B4 DE4342123 B4 DE 4342123B4 DE 4342123 A DE4342123 A DE 4342123A DE 4342123 A DE4342123 A DE 4342123A DE 4342123 B4 DE4342123 B4 DE 4342123B4
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DE
Germany
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photoresist
color
pattern
substrate
layer
Prior art date
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DE4342123A
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Won-Ho Kim
Dong-Uk Choi
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Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
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Abstract

Farbfilter aus auf einem Substrat angeordneten verschiedenfarbigen Fotolackmustern mit
– einer Abschirmmatrix (22), die aus einer auf ein Substrat (21) aufgebrachten Lichtabschirmschicht gebildet ist,
– einem ersten Justiercodemuster (22'), das auf einem vorbestimmten Bereich des Substrats (21) aus dem Material der Lichtabschirmschicht gebildet ist,
– einem ersten Fotolackmuster (23) aus einem Fotolack einer ersten Farbe auf dem Substrat,
– einem zweiten Justiercodemuster (23'), das auf der Abschirmmatrix (22) in einem vom Bereich des ersten Justiercodemusters (22') verschiedenen Bereich aus dem Fotolack der ersten Farbe gebildet ist,
– einem zweiten Fotolackmuster (24) aus einem Fotolack einer zweiten Farbe auf dem Substrat,
– einem dritten Justiercodemuster (24'), das auf dem Fotolack der ersten Farbe in einem vom Bereich des ersten Justiercodemusters (22') und dem Bereich des zweiten Justierco demusters (23') verschiedenen Bereich aus dem Fotolack der zweiten Farbe gebildet ist, und mit
– einem dritten Fotolackmuster...

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und ein Verfahren zu seiner Herstellung.
  • Farbige Flüssigkristallanzeigeeinrichtungen werden zur Bildwiedergabe verwendet, wobei diese Art von Einrichtungen zwei Trägerschichten beinhaltet, von denen auf der einen eine Anzahl transparenter Rasterelektroden ausgebildet ist und die andere eine Anzahl von den obigen Rasterelektroden gegenüberliegenden Signalelektroden aufweist. Des weiteren umfaßt diese Art von Einrichtungen ein Flüssigkristallmaterial zwischen den beiden Trägerschichten, eine polarisierende Platte außerhalb der beiden Trägerschichten sowie ein Farbfilter, das den Rasterelektroden zugeordnet in Primärfarben, wie z.B. rot, grün und blau, eingefärbt ist. Des weiteren wird das obige Farbfilter für Flüssigkristallanzeigen mit aktiver Matrix verwendet, in denen ein Dünnschichttransistor als aktives Element benutzt wird. Der Kreuzungspunkt von Rasterelektrode und Signalelektrode stellt jeweils einen Bildpunkt dar, wobei drei benachbarte Bildpunkte einen Bestandteil eines Farbbildes ausmachen.
  • Das für eine solche Anzeigeeinrichtung verwendete Farbfilter ist auf der transparenten Signalelektrode gebildet, die ihrer seits auf der Trägerschicht angeordnet ist. Diese Art von Farbfilter wird dadurch erhalten, daß eine farbige Schicht aus einem Basismaterial, bestehend aus Proteinen wie z.B. Kasein oder Gelatine, aufgetragen und anschließend strukturiert wird. Das Basismaterial des Farbfilters ist dielektrisch, und das Flüssigkristallmaterial ist zwischen dem Farbfilter und den Rasterelektroden angeordnet.
  • Bei dieser Art von Farbfilter sollte für jede Farbe das zugehörige Farbmuster genügend genau ausgebildet sein, um eine ausreichende Anzeige des jeweiligen Bildpunktes der Flüssigkristalleinzeige sicherzustellen. Dementsprechend sollte für die Herstellung des Farbfilters nach der Bildung einer jeweiligen Basismaterial-Farbschicht, die zu einer jeweiligen Farbe des Basismaterials gehört, ein photolithographischer Prozeß durchgeführt werden.
  • Demgemäß wird bei einem Herstellungsverfahren für ein übliches Farbfilter zwecks Bildung eines roten, eines grünen und eines blauen Farbmusters unter Verwendung von Chrom (Cr) ein Justiercodemuster auf einem Substrat, d.h. einer Trägerschicht gebildet, wonach eine farbige Fotolackschicht durch Aufbringen eines farbigen Fotolacks erzeugt wird. Dann wird unter Verwendung des obigen Justiercodemusters als Zielobjekt eine Maske mittels eines Laserstrahls durch Bewegen des Substrats automatisch justiert und die farbige Fotolackschicht durch einen üblichen fotolithographischen Prozess strukturiert.
  • Die 1 bis 3 stellen Querschnitte im Bereich des Justiercodemusters dar, um den Prozess zur Bildung eines roten, eines grünen und eines blauen Fotolackmusters für das Farbfilter gemäß des üblichen Verfahrens zu veranschaulichen.
  • Bezugnehmend auf die 1 bis 3 bezeichnen das Bezugszeichen (11) ein Substrat, das Bezugszeichen (12) ein Justier codemuster, das Bezugszeichen (13) eine rote Fotolackschicht, das Bezugszeichen (14) eine grüne Fotolackschicht, das Bezugszeichen (15) eine blaue Fotolackschicht, das Bezugszeichen (16) eine Oxidationsschutzschicht und das Bezugszeichen (17) einen Laserstrahl. Die den 1 bis 3 entsprechenden Abschnitte weisen dieselbe Struktur und lediglich unterschiedliche Farbschichten auf. Das übliche Justiercodemuster und das dieses benutzende herkömmliche Verfahren zur Bildung eines Farbmusters werden nachfolgend unter Bezugnahme auf 1 beschrieben.
  • Zunächst wird eine Chromschicht auf dem Substrat (11) durch Abscheiden von Chrom in einer Dicke von ungefähr 150nm erzeugt, welche dann mittels eines üblichen fotolithographischen Prozesses zur Bildung des Justiercodemusters (12) strukturiert wird. Anschließend wird durch Auftragen eines roten Fotolacks die rote Fotolackschicht (13) gebildet, wonach auf dieser die Oxidationsschutzschicht (16) aufgebracht wird. Daraufhin wird eine Maske zur Belichtung der roten Fotolackschicht (13) automatisch mittels eines Laserstrahls (17) justiert, dessen Wellenlänge ca. 633nm beträgt, wobei das Justiercodemuster (12) als Zielobjekt benutzt wird. Danach wird die rote Fotolackschicht (13) durch einen üblichen photolithographischen Prozeß strukturiert, wodurch ein rotes Farbmuster erzeugt wird.
  • Nachfolgend wird eine weitere Maske unter Verwendung des wie oben angegeben aus Chrom bestehenden Justiercodemusters (12) als Zielobjekt justiert, wonach ein grünes und dann ein blaues Farbmuster gemäß 2 und 3 durch dieselbe Herstellungsmethode wie oben beschrieben gebildet werden können. Die grüne und die blaue Fotolackschicht (14, 15) haben jedoch einen sehr geringen (fast verschwindenden) Transmissionsgrad für den Laserstrahl. In 11 ist der Transmissionsgrad eines blauen, eines grünen und eines roten Fotolacks in Abhängigkeit von der Laserstrahlwellenlänge graphisch dargestellt. Bezugnehmend auf 11 bezeichnet das Bezugszeichen (31) den Transmissionsgrad einer blauen Fotolackschicht, das Bezugszeichen (32) denjenigen einer grünen Fotolackschicht und das Bezugszeichen (33) denjenigen einer roten Fotolackschicht. Wenn folglich durch Aufbringen eines grünen oder eines blauen Fotolacks eine farbige Fotolackschicht erzeugt wird, hat das automatische Justiergerät Schwierigkeiten, das Justiercodemuster zu detektieren, da das reflektierte Licht des Laserstrahls nicht erfaßt werden kann. Das bedeutet, daß eine automatische Justierung zwar im Fall der rot gefärbten Fotolackschicht (13), deren Transmissionsgrad für einen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von ca. 633nm über 90% beträgt, möglich ist, da der Laserstrahl am Justiercodemuster reflektiert wird und das Signal des reflektierten Lichtes problemlos vom automatischen Justiergerät detektiert werden kann. Jedoch ist der Transmissionsgrad des Laserstrahls für die grüne und die blaue Fotolackschicht (14, 15) bei der obigen Wellenlänge fast gleich null (viel geringer als derjenige des roten Fotolacks), wie aus 11 zu ersehen ist. Zusätzlich ist zu beachten, daß die Dicke des aus Chrom bestehenden Justiercodemusters gering ist und deshalb der größte Lichtanteil absorbiert wird, wenn dieses Justiercodemuster, in welchem kaum je ein Stufenunterschied im Muster vorgesehen ist, verwendet wird. Als Ergebnis hiervon wird das Licht nur schwach von dem Justiercodemuster reflektiert.
  • 4 ist eine Draufsicht, die das auf dem Substrat gebildete Justiercodemuster sowie das auf einer Maske gebildete Justiercodemuster gemäß einer üblichen Vorgehensweise zeigt. 5 stellt die Kurvenverläufe für das von dem in 4 gezeigten Justiercodemuster reflektierte Licht in Diagrammform dar.
  • Bezugnehmend auf 4 bezeichnen (a1), (c1), (a2) und (c2) das auf dem Substrat gebildete Justiercodemuster und (b1) sowie (b2) das auf der Maske gebildete Justiercodemuster. Gemäß 4 wird der vom Justiercodemuster (b1) und (b2) auf der Maske reflektierte Laserstrahl detektiert und mittig zum auf dem Substrat gebildeten Justiercodemuster justiert. 5 zeigt die Kurvendiagramme, wie sie durch Verwendung eines Oszilloskops von einer der Gruppen von Justiercodemustern (a1), (b1), (c1) sowie (a2), (b2), (c2) der 4 erhalten werden, wenn die Maske justiert ist. Bezugnehmend auf 5 zeigt das Kurvenverlaufsdiagramm (A) den Fall, in dem eine rote Fotolackschicht gebildet ist, während das Kurvenverlaufsdiagramm (B) den Fall darstellt, in welchem ein blauer oder ein grüner Fotolack gebildet ist. Wie aus 5 zu erkennen, ist es schwierig, den Justiervorgang durchzuführen, wenn eine blaue oder eine grüne Fotolackschicht gebildet ist, da nur ein schwaches Detektionssignal der reflektierten Lichtwelle erzeugt wird. Die farbige Fotolackschicht über dem Justiercodemuster sollte deswegen zur automatischen Justierung einer Maske entfernt werden. Zu diesem Zweck wäre der Justiercode durch manuelles Abscheuern des über dem Codemuster liegenden Materials unter Verwendung eines Lösungsmittels, wie z.B. Aceton, oder eines Entwicklers, freizulegen, um auf diese Weise den über dem Justiercodemuster gelegenen Teil der farbigen Fotolackschicht zu beseitigen. Dieser manuelle Vorgang ruft jedoch die Schwierigkeit einer Verschlechterung der Produktivität bzw. der Ausbeute hervor.
  • Die Patentschrift US 4.786.148 offenbart ein Farbfilter und ein zugehöriges Herstellungsverfahren, bei denen Fotolackschichten selbst als Farbfiltermuster dienen und diese Farbfiltermuster durch aufeinanderfolgende Schichtauftrags-, Belichtungs- und Entwicklungsschritte hergestellt werden.
    •
  • Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung eines Farbfilters, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und eines Verfahrens zu dessen Herstellung dergestalt zugrunde, dass eine hohe Lagegenauigkeit der einzelnen das Filter bildenden Fotolackmuster ermöglicht wird.
  • Dieses Problem wird durch ein Farbfilter mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 5 gelöst. Diese Lösung gewährleistet, dass für die Justierung jeder Maske ein ausreichendes Maß an vom Justiercodemuster reflektiertem Licht zur Verfügung steht. Dies lässt sich dadurch erreichen, dass das Justiercodemuster mit einem ausreichend großen, vorbestimmten Stufenunterschied ausgebildet wird, so dass an der Stufe genügend Licht rückgestreut wird.
  • Bevorzugt wird ein derartiges Justiercodemuster von einem entsprechenden Teil einer zuvor aufgebrachten farbigen Fotolackschicht gebildet, günstigerweise gleichzeitig mit der Strukturierung dieser Fotolackschicht, durch die ein Farbfilterschichtmuster erzeugt wird.
  • Eine bevorzugte, nachfolgend beschriebene Ausführungsform der Erfindung sowie zu deren besserem Verständnis die oben beschriebene, herkömmliche Ausführungsform sind in den Zeichnungen dargestellt und werden nachfolgend beschrieben. Es zeigen:
  • 1 bis 3 Querschnitte im Bereich eines Justiercodemusters zur Veranschaulichung des Prozesses für die Bildung eines roten, grünen bzw. blauen Farbmusters eines nach einem herkömmlichen Verfahren hergestellten Farbfilters,
  • 4 eine Draufsicht, welche die nach dem herkömmlichen Verfahren auf dem Substrat bzw. auf einer Maske gebildeten Justiercodemuster zeigt,
  • 5 graphische Kurvenverläufe, wie sie für das von dem Justiercodemuster in 4 reflektierte Licht detektiert werden,
  • 6 bis 8 Querschnitte im Bereich jeweiliger Justiercodemuster für ein erfindungsgemäßes Farbfilter zur Veranschaulichung eines erfindungsgemäßen Verfahrens zur Bildung derselben zwecks Justierung von Masken zur Belichtung einer roten, grünen bzw. blauen Fotolackschicht des Farbfilters,
  • 9 eine Draufsicht, die ein erfindungsgemäßes Justiercodemuster auf dem Substrat und das zugehörige Justiercodemuster auf der Maske zeigt,
  • 10 graphische Kurvenverläufe, wie sie für das von einer der Justiercodemustergruppen der 9 gestreute Licht detektiert werden, und
  • 11 eine graphische Darstellung des Transmissionsgrades eines blauen, grünen und roten Fotolacks in Abhängigkeit von der Lichtwellenlänge eines Laserstrahls.
    •
  • Nachfolgend wird die Erfindung zunächst unter Bezugnahme auf die 6 bis 8 erläutert.
  • 6 veranschaulicht den Schritt zur Bildung eines ersten Justiercodemusters (22') und zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer ersten Fotolackschicht.
  • Hierbei wird zunächst ein lichtabschirmendes Material, wie z.B. Chrom, in einer Dicke von 150nm zur Bildung einer Chromschicht, d.h. einer Lichtabschirmschicht, auf einem Substrat (21) abgeschieden. Diese Chromschicht wird dann mittels eines üblichen photolithographischen Prozesses zur Bildung des ersten Justiercodemusters (22') strukturiert. Gleichzeitig mit der Bildung des ersten Justiercodemusters (22') wird eine Abschirmmatrix (Bezugszeichen 22 in 7), d.h. eine lichtabschirmende Struktur des Farbfilters, erzeugt. Daraufhin wird ein roter Fotolack in einer Dicke von 1μm bis 2μm aufgetragen, vorzugsweise in einer Dicke von ungefähr 1,6μm, um dadurch eine rote Fotolackschicht (23) als erste Fotolackschicht zu erzeugen, auf welcher eine Oxidationsschutzschicht (26A) in einer Dicke von 0,8μm bis 1,0μm gebildet wird. Anschließend wird durch Bewegen des Substrats (21) die Maske zur Belichtung der roten Fotolackschicht (23) mittels eines Laserstrahls (27), dessen Wellenlänge bei ungefähr 633nm liegt, unter Verwendung des ersten Justiercodemusters (22') als Zielobjekt automatisch justiert. Genauer gesagt wird der Laserstrahl (27) auf das erste Justiercodemuster (22') eingestrahlt und das vom ersten Justiercodemuster (22') reflektierte Licht detektiert, woraus ein entsprechendes Signal generiert wird. Die Maske wird hierbei entsprechend diesem Signal justiert. Danach wird die rote Fotolackschicht (23) zur Bildung eines (nicht gezeigten) roten Fotolackmusters mittels eines üblichen photolithographischen Prozesses strukturiert. Die Oxidationsschutzschicht (26A) wird nach dem Belichtungsschritt und vor dem Entwicklungsschritt während des photolithographischen Prozesses entfernt.
  • Gleichzeitig wird in einem Bereich, der von demjenigen verschieden ist, in welchem das erste Justiercodemuster (22') gebildet ist, ein zweites Justiercodemuster (Bezugszeichen 23' in 7) erzeugt, um eine Maske zur Belichtung einer nachfolgend zu bildenden, zweiten Fotoresistschicht zu justieren. Genauer gesagt wird das zweite Justiercodemuster (23'), das aus dem roten Fotolack besteht, gleichzeitig mit der Bildung des roten Fotolackmusters an der Stelle erzeugt, die zur Bildung des Justiercodemusters für die Justierung einer Maske zur Belichtung einer grünen Fotolackschicht vorgesehen ist.
  • 7 veranschaulicht einen Schritt zur Bildung eines zweiten Justiercodemusters (23') und zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer zweiten Fotolackschicht. Die Querschnittsansicht von 7 zeigt, daß das zweite Justiercodemuster in einem Bereich gebildet wird, der von demjenigen verschieden ist, in welchem das erste, in 6 gezeigte Justiercodemuster angeordnet ist.
  • Bezugnehmend auf 7 ist zunächst die auf dem Substrat (21) im Schritt von 6 aufgebrachte Abschirmmatrix (22) und das auf der Abschirmmatrix (22) im Schritt von 6 erzeugte zweite Justiercodemuster (23') zu erkennen. Hierzu wird auf die durch den Schritt von 6 erhaltene, resultierende Struktur ein grüner Fotolack aufgebracht, um die zweite Fotolackschicht, d.h. eine grüne Fotolackschicht (24), zu bilden. Auf der grünen Fotolackschicht (24) wird erneut eine Oxidationsschutzschicht (26B) in einer Dicke von 0,6μm bis 1,0μm aufgebracht, wonach mit dem Laserstrahl (27), dessen Wellenlänge ungefähr 600nm bis 700nm beträgt, auf das zweite Justiercodemuster (23') eingestrahlt wird. Das von einem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt der grünen Fotolackschicht (24), wo aufgrund des zweiten Justiercodemusters (23') ein Stufenunterschied besteht, gestreute Licht wird detektiert und zur Erzeugung eines entsprechenden Signals benutzt, wobei die Maske zur Belichtung der grünen Fotolackschicht (24) entsprechend diesem Signal automatisch justiert wird. Daraufhin wird durch Strukturierung der grünen Fotolackschicht (24) mittels eines nachfolgenden photolithographischen Prozesses ein (nicht gezeigtes) grünes Fotolackmuster erzeugt. Gleichzeitig wird ein drittes Justiercodemuster (Bezugszeichen 24' in 8), das aus dem grünen Fotolack besteht, an einer für die Bildung eines Justiercodes für eine blaue Fotolackschicht vorgesehenen Stelle erzeugt. Die Oxidationsschutzschicht (26B) wird wiederum nach dem Belichtungsschritt und vor dem Entwicklungsschritt während des photolithographischen Prozesses entfernt.
  • 8 veranschaulicht einen Schritt zur Justierung einer Maske für die Belichtung einer dritten Fotolackschicht unter Verwendung des dritten Justiercodemusters (24'). Der Querschnitt von 8 zeigt das dritte Justiercodemuster (24'), das in einem Bereich gebildet ist, der von den Bereichen verschieden ist, in denen die in 6 und 7 gezeigten Justiercodemuster (22', 23') angeordnet sind.
  • Aus 8 ist zunächst die im Schritt von 6 auf dem Substrat (21) gebildete Abschirmmatrix (22), das im Schritt von 6 auf der Abschirmmatrix (22) gebildete erste Fotolackmuster (23) sowie das im Schritt von 7 auf dem ersten Fotolackmuster (23) erzeugte dritte Justiercodemuster (24') zu erkennen. Eine dritte Fotolackschicht, d.h. eine blaue Fotolackschicht (25), wird auf die durch den Schritt von 7 erhaltene, resultierende Struktur durch Aufbringen eines blauen Fotolacks gebildet. Auf die blaue Fotolackschicht (25) wird er neut eine Oxidationsschutzschicht (26C) in einer Dicke von 0,6μm bis 1,0μm aufgebracht, wonach mit dem Laserstrahl (27), dessen Wellenlänge ungefähr 600nm bis 700nm beträgt, auf das dritte Justiercodemuster (24') eingestrahlt wird. Daraufhin wird das von einem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt der blauen Fotolackschicht (25), wo ein Stufenunterschied aufgrund des dritten Justiercodemusters (24') vorliegt, gestreute Licht detektiert und zur Erzeugung eines entsprechenden Signals benutzt, wobei die Maske zur Belichtung der blauen Fotolackschicht (25) entsprechend diesem Signal automatisch justiert wird. Anschließend wird durch Strukturierung der blauen Fotolackschicht (25) mittels eines nachfolgenden photolithographischen Prozesses ein (nicht gezeigtes) blaues Fotolackmuster erzeugt.
  • 9 zeigt das erfindungsgemäße zweite Justiercodemuster gemäß 7 sowie ein auf der zugehörigen Maske befindliches Justiercodemuster in einer Draufsicht. In 10 sind die Kurvenverläufe gezeigt, wie sie sich aus der Detektion des von den in 9 gezeigten Justiercodemustern reflektierten Lichtes ergeben. Bezugnehmend auf 9 bezeichnen dort sämtliche Bezugszeichen, soweit sie bereits in 7 erscheinen, dieselben Elemente wie dort, wobei zusätzlich das Bezugszeichen (30) das auf der Maske gebildete Justiercodemuster bezeichnet.
  • 10 zeigt in Diagrammform die unter Verwendung eines Oszilloskops von einer Gruppe von Justiercodemustern (23', 30) erhaltenen Kurvenverläufe, wenn die Maske justiert wird. Dabei wird in 10 das Kurvendiagramm (A) von dem zweiten Justiercodemuster und das Kurvendiagramm (B) von dem Justiercodemuster auf der Maske erhalten. Aus 10 ergibt sich, daß, wenn das Justiercodemuster erfindungsgemäß erzeugt wurde, problemlos eine automatische Justierung der Maske durchführbar ist, da, wie das Kurvendiagramm zeigt, die Justiermarken exakt detektierbar sind.
  • Erfindungsgemäß werden also bei der Herstellung des Farbfilters zusammen mit der Erzeugung des roten bzw. des grünen Fotolackmusters jeweils ein Justiercodemuster unter Verwendung des roten bzw. des grünen Fotolacks gebildet, die zur Justierung von Masken für die Belichtung der grünen bzw. der blauen Fotoresistschicht benutzt werden. Das in 10 gezeigte Signal läßt sich durch Detektieren des Lichtes des Laserstrahls erhalten, welches von dem geneigt verlaufenden Oberflächenabschnitt des Stufenbereichs der grünen bzw. der blauen Fotolackschicht, der aufgrund des jeweiligen Justiercodemusters entsteht, reflektiert wird, so daß eine automatische Justierung der Maske zur Belichtung des grünen bzw. des blauen Fotolacks ermöglicht ist.
  • Demgemäß wird der Justiervorgang vereinfacht, die Prozeßdauer läßt sich verringern und der Durchsatz wird erhöht, da der Justiervorgang automatisch durchgeführt werden kann, im Gegensatz zum herkömmlichen Verfahren, bei dem der Fotolack über dem Codemuster manuell entfernt wird. Es versteht sich, daß für den Fachmann zahlreiche Modifikationen und Varianten des oben beschriebenen Ausführungsbeispiels realisierbar sind, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen.

Claims (9)

  1. Farbfilter aus auf einem Substrat angeordneten verschiedenfarbigen Fotolackmustern mit – einer Abschirmmatrix (22), die aus einer auf ein Substrat (21) aufgebrachten Lichtabschirmschicht gebildet ist, – einem ersten Justiercodemuster (22'), das auf einem vorbestimmten Bereich des Substrats (21) aus dem Material der Lichtabschirmschicht gebildet ist, – einem ersten Fotolackmuster (23) aus einem Fotolack einer ersten Farbe auf dem Substrat, – einem zweiten Justiercodemuster (23'), das auf der Abschirmmatrix (22) in einem vom Bereich des ersten Justiercodemusters (22') verschiedenen Bereich aus dem Fotolack der ersten Farbe gebildet ist, – einem zweiten Fotolackmuster (24) aus einem Fotolack einer zweiten Farbe auf dem Substrat, – einem dritten Justiercodemuster (24'), das auf dem Fotolack der ersten Farbe in einem vom Bereich des ersten Justiercodemusters (22') und dem Bereich des zweiten Justierco demusters (23') verschiedenen Bereich aus dem Fotolack der zweiten Farbe gebildet ist, und mit – einem dritten Fotolackmuster (25) aus einem Fotolack einer dritten Farbe.
  2. Farbfilter nach Anspruch 1, bei dem die Abschirmmatrix (22) und das erste Justiercodemuster (22') aus Chrom oder einem Chromoxid bestehen.
  3. Farbfilter nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der Fotolack der ersten Farbe ein roter Fotolack, der Fotolack der zweiten Farbe ein grüner Fotolack und der Fotolack der dritten Farbe ein blauer Fotolack ist.
  4. Farbfilter nach einem der vorangehenden Ansprüche, der Bestandteil einer Flüssigkristallanzeigeeinrichtung ist.
  5. Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters aus auf einem Substrat angeordneten verschiedenfarbigen Fotolackmustern, mit folgenden Schritten: – Aufbringen einer Fotolackschicht (23) einer ersten Farbe auf ein Substrat (21), – Bilden eines ersten Fotolackmusters und eines Justiercodemusters (23') in der Fotolackschicht der ersten Farbe durch Belichten und Entwickeln der Fotolackschicht der ersten Farbe, – Aufbringen einer Fotolackschicht (24) einer zweiten Farbe auf das Substrat mit dem ersten Fotolackmuster und dem Justiercodemuster (23'), wobei ein Bereich mit einem Stufenunterschied über dem Justiercodemuster (23) gebildet wird, – automatisches Justieren einer Maske relativ zu dem Substrat mit den darauf aufgebrachten Mustern durch Detektieren des von dem Stufenunterschied in der Fotolackschicht der zweiten Farbe reflektierten Lichts, – Bilden eines zweiten Fotolackmusters und eines weiteren Justiercodemusters (24') in der Fotolackschicht der zweiten Farbe durch Belichten der zweiten Fotolackschicht mit dem Muster der Maske und Entwickeln, – Aufbringen einer Fotolackschicht (25) einer dritten Farbe auf das Substrat mit dem zweiten Fotolackmuster und dem weiteren Justiercodemuster (24'), wobei ein Bereich mit einem Stufenunterschied über dem weiteren Justiercodemuster (24) gebildet wird, – automatisches Justieren einer Maske relativ zu dem Substrat mit den darauf aufgebrachten Mustern durch Detektieren des von dem Stufenunterschied in der Fotolackschicht der dritten Farbe reflektierten Lichts und – Bilden eines dritten Fotolackmusters in der Fotolackschicht der dritten Farbe durch Belichten der dritten Fotolackschicht mit dem Muster der Maske und Entwickeln.
  6. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem jeweils nach dem Aufbringen der Fotolackschicht eine Oxidationsschutzschicht (26A, 26B, 26C) auf die zuvor aufgebrachte Fotolackschicht aufgebracht und die Oxidationsschutzschicht nach dem Belichten dieser Fotolackschicht wieder entfernt wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, bei dem der Fotolack der ersten Farbe ein roter Fotolack, der Fotolack der zweiten Farbe ein grüner Fotolack und der Fotolack der dritten Farbe ein blauer Fotolack ist.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, bei dem – vor dem Aufbringen der Fotolackschicht der ersten Farbe eine Lichtabschirmschicht auf das Substrat aufgebracht und diese zur Bildung einer Abschirmmatrix (22) und eines zugehörigen Justiercodemusters (22') so strukturiert wird, dass beim anschließenden Aufbringen der Fotolackschicht der ersten Farbe über dem Justiercodemuster aus dem Lichtabschirmmaterial ein Bereich mit einem Stufenunterschied entsteht, und – zur Belichtung der Fotolackschicht der ersten Farbe eine Maske justiert wird, indem Licht detektiert wird, das von dem Bereich mit dem Stufenunterschied über dem Justiercodemuster aus dem Lichtabschirmmaterial reflektiert wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, bei dem das Lichtabschirmmaterial aus Chrom oder aus Chromoxid besteht.
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