[go: up one dir, main page]

KR960003482B1 - 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 - Google Patents

액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR960003482B1
KR960003482B1 KR1019920024134A KR920024134A KR960003482B1 KR 960003482 B1 KR960003482 B1 KR 960003482B1 KR 1019920024134 A KR1019920024134 A KR 1019920024134A KR 920024134 A KR920024134 A KR 920024134A KR 960003482 B1 KR960003482 B1 KR 960003482B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color
pattern
forming
resist layer
alignment key
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
KR1019920024134A
Other languages
English (en)
Other versions
KR940015536A (ko
Inventor
김원호
최동욱
Original Assignee
삼성전자주식회사
김광호
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사, 김광호 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1019920024134A priority Critical patent/KR960003482B1/ko
Priority to NL9302118A priority patent/NL194311C/nl
Priority to JP31088193A priority patent/JPH06294908A/ja
Priority to DE4342123A priority patent/DE4342123B4/de
Priority to CN93112845A priority patent/CN1038709C/zh
Publication of KR940015536A publication Critical patent/KR940015536A/ko
Priority to US08/611,551 priority patent/US5935741A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR960003482B1 publication Critical patent/KR960003482B1/ko
Priority to US09/314,963 priority patent/US6080515A/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법
제1도에서 제3도까지는 칼라 필터의 레드, 그린 및 블루칼라 패턴을 형성하기 위한 종래의 얼라인 키패턴의 단면 형상을 도시하고 있으며,
제4도는 종래 얼라인 키 패턴의 평면을 도시하며,
제5도는 종래 얼라인 키의 반사광으로 부터 검출되는 파형도를 나타낸다.
제6도에서 제8도까지는 칼라 필터의 레드, 그린 및 블루칼라 패턴을 형성하기 위한 본 발명의 얼라인키 패턴의 단면 형상을 도시하고 있으며,
제9도는 본 발명의 얼라인 키 패턴의 평면을 도시하며,
제10도는 본 발명의 얼라인 키의 반사광으로 부터 검출되는 파형도를 나타내고,
제11도는 파장에 따른 칼라 레지스트의 투과율을 나타내고 있는 그래프이다.
본 발명은 액정 표시(Liquid Crystal Display) 장치의 제조방법에 관한 것으로, 특히 칼라 필터의 칼라 패턴을 형성하기 위한 자동 얼라인 키의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치의 칼라 필터를 제조하는 과정에서 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(blue) 칼라 패턴을 형성하기 위해서는 기판 상에 크롬(Cr)을 이용하여 얼라인 키(Align Key) 패턴을 형성시킨 다음, 칼라 레지스트(Resist)를 도포하고, 레이저 빔(Laser Beam)를 이용하여 상기 얼라인 키를 타켓(target)으로 마스크(Mask)를 자동 얼라인한 다음 일반적인 후속의 포토리소그래피(Photolithography) 기술을 이용하여 상기 칼라 레지스트를 패터닝(patterning)하고 있으나, 상기 칼라 가운데 그린 및 블루 칼라를 형성하기 위해 도포되는 레지스트는 레이저 빔의 투과율이 매우 낮아 레이저 빔의 반사광을 감지할 수 없으므로 자동 얼라이너(Aligner)가 얼라인 키를 인식하는데 어려움이 있다.
첨부 도면 제1도에서 제3도까지는 칼라 필터의 레드, 그린 및 블루칼라 패턴을 형성하기 위한 종래의 얼라인 키 패턴의 단면 형상을 도시하고 있으며, 첨부 도면 제4도는 종래 얼라인 키 패턴의 평면을 도시하며, 첨부 도면 제5도는 종래 얼라인 키의 반사광으로 부터 검출되는 파형도를 나타낸다.
상기 도면을 참조하여 보면, 제1도에서 제3도가지의 도면에 있어서 각각의 단면 형상은 칼라층을 제외하고는 동일한 구조로 되어 있으며, 제1도를 참조하여 종래의 얼라인 키 패턴 및 그 형성 방법을 설명하기로 한다. 먼저, 얼라인 키 패턴의 형성 방법을 간단히 살펴보면, 기판(11) 상에 약 1500Å정도의 크롬을 증착한 후, 통상의 포토리소그래피 공정을 이용하여 얼라인 키 패턴(12)을 형성시킨 다음, 레드 칼라 레지스트(13)를 도포하고, 그 위에 산화방지막(16)을 형성시킨 후, 파장이 약 633nm 정도의 레이저 빔(17)를 이용하여 상기 얼라인 키를 타켓으로 마스크를 자동 얼라인한 다음, 일반적인 후속의 포토리소그래피 기술을 이용하여 상기 칼라 레지스트(12)를 패터닝하여 레드 칼라 패턴을 형성하게 된다.
또한, 상기의 크롬으로 이루어진 얼라인 키(12)을 타켓으로 마스크를 얼라인하고 상기와 동일한 제조방법을 통해 제2도 및 제3도와 같이 그린 및 블루 칼라 패턴을 형성시킬 수 있으나, 도포되는 그린(14) 및 블루(15) 칼라 레지스트는 레이저 빔의 투과율이 매우 낮아(제11도의 파장에 따른 투과율 참조 : 블루 ; 31, 그린 ; 32, 레드 ; 33) 레이저 빔의 반사광을 감지할 수 없으므로 자동 얼라이너(Aligner)가 얼라인 키를 인식하는데 어려움이 있다. 즉, 레드 칼라 레지스트(13)는 633nm정도의 파장을 갖는 레이저 빔 투과율이 90% 이상이기 때문에 레이저 빔이 얼라인 키 패턴에서 반사되어 자동 얼라이너에서 반사 파장의 신호 검출이 가능하므로 자동 얼라인이 가능하지만, 그린과 블루 칼라 레지스트(14,15)는 상기한 정도의 레이저 빔의 파장에서 투과율이 제로(zero)에 가깝고, 또 크롬으로 이루어진 패턴의 두께가 낮아 패턴 단차가 거의 없는 제4도와 같은 얼라인 키 패턴을 사용하면 그린 레지스트(14) 및 블루레지스트(15)에서 빛이 대부분 흡수되므로 얼라인 키 패턴에서 반사되는 빛의 양이 거의 없어 제5도에 보인 바와 같이 반사파의 검출 신호가 발생되지 않으며, 마스크의 자동 얼라인을 위해서는 얼라인키 패턴 상부의 칼라 레지스트를 제거해야 할 필요가 있다. 이를 위해서는 아세톤, 또는 현상액(developer)등의 용제로 키 패턴 상부를 수동적으로 문질러서 닦아내어 얼라인 키를 노출시켜야 하므로 수동작업 과정으로 인한 생산성 및 제조 수율의 저하를 초래하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 얼라인 키의 단차를 크게하여 회절광의 신호를 검출할 수 있도록 칼라 레지스트를 이용한 얼라인 키 패턴의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 칼라 필터의 얼라인 키 패턴의 제조 방법은, 기판 상에 제1칼라필터레지스트층을 형성하는 단계, 제1마스크를 얼라인하고 상기 제1칼라레지스트층을 패터닝하여 제1칼라필터 패턴과 제1얼라인키 패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제1칼라패턴 및 상기 제1얼라인키 패턴이 형성된 기판 상에 형성 되고, 상기 제1칼라얼라인키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제1단차영역에서의 빛을 가지는 제2칼라레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제1단차영역을 감지하고 제2마스크를 얼라인하는 단계, 상기 제2칼라레지스트층을 패터닝하여 제2칼라패턴과 제2얼라인키 패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제2칼라패턴과 상기 제2얼라인키 패턴이 형성된 기판 상에 형성되고, 상기 제2얼라인키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제2단차영역을 가지는 제3칼라레지스트층을 형성하는단계, 상기 제2단차영역에서의 빛을 감지하고 제3마스크를 얼라인하는 단계, 및 상기 제3칼라레지스트층을 패터닝하여 제3칼라패턴을 형성하는 단계를 구비한다. 또한, 상기 제1칼라레지스트층, 상기 제2칼라레지스트층 및 상기 제3칼라레지스트층 상에 산화방지막을 형성하는 단계를 더 구비할 수 있다.
상기한 본 발명의 방법에 의하면 레드 및 그린 칼라 패턴을 형성할 때 각각 그린 및 블루 레지스트의 얼라인먼트에 사용할 수 있게 칼라 레지스트를 이용한 얼라인 키패턴을 형성함으로써 단차 경사면에서 반사되는 회절광에 의해 자동 얼라인이 가능하다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 첨부 도면 제6도에서 제8도까지는 칼라 필터의 레드, 그린 및 블루칼라 패턴을 형성하기 위한 본 발명의 얼라인 키 패턴의 단면 형상을 도시하고 있으며, 첨부 도면 제9도는 본 발명의 얼라인 키 패턴의 평면을 도시하며, 첨부 도면 제10도는 본 발명의 얼라인 키의 최절광으로부터 검출되는 파형도를 나타낸다.
상기 도면을 참조하여 보면, 제6도에서 제8도까지의 도면에 있어서 각각의 단면 형상을 보면, 레드 칼라 레지스트의 패터닝을 위해 크롬으로 이루어진 얼라인 키 패턴에 마스크를 얼라인하고(제6도), 그린 칼라 레지스트의 패터닝에서는 레드 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키 패턴에 마스크를 얼라인하고(제7도), 블루 칼라 레지스트의 패터닝에서는 그린 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키 패턴에 마스크를 얼라인하여(제8도), 레이저 빔을 조사함으로써 증가된 얼라인 키의 단차 경사로 부터 발생하는 회절광에서 신호를 검출하여 자동 얼라인이 가능해 진다.
제6도의 본 발명의 레드 칼라 레지스트의 얼라인 키 패턴의 형성 방법은 제1도와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다.
제7도를 참조하여 본 발명의 그린 칼라 레지스트의 얼라인 키 패턴 및 그 형성 방법을 설명하기로 한다.
먼저, 얼라인 키 패턴의 형성 방법을 간단히 살펴보면, 상기 제6도의 얼라인 키를 이용하여 마스크를 얼라인하고 통상의 포토리소그래피 공정을 이용하여 레드 칼라 패턴을 형성시 그린 칼라 얼라인 키 위치에 레드 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키(23')를 동시에 형성한 다음, 그린 칼라 레지스트(24)를 도포하고, 그 위에 0.6㎛-1.0㎛정도의 산화방지막(26)을 형성시킨 후, 파장이 약 600nm-700nm 정도의 레이저 빔(27)를 조사하여 상기 그린 칼라 레지스트의 경사면에서 유발되는 회절광을 이용한 검출 신호에 따라 마스크를 자동 얼라인한 다음, 상기와 동일한 방법으로 일반적인 후속의 포토리소그래피 기술을 이용하여 상기 칼라 레지스트(24)를 패터닝하여 그린 칼라 패턴과 함께 블루 칼라 레지스트의 얼라인 키 위치에 상기 그린 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키(24')를 제8도와 같이 형성하게 된다. 이때, 상기의 얼라인 키 형성 이전에 레드 칼라 패턴(23)이 차광막(22) 상에 형성되어 있으므로 그린 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키(24')는 레드 칼라 패턴 상에 위치하게 된다. 이어서, 제8도에서 처럼 상기의 그린 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키(24')를 형성 한다. 다음 그 상면에 블루레지스트(25)를 도포하고 그 위에 산화방지 막(26)을 형성시킨 후, 제7도에서와 동일한 방법으로 파장이 약 600nm-700nm 정도의 레이저 빔(27)을 이용하여 상기 그린 칼라 레지스트로 이루어진 얼라인 키(24')에 마스크를 자동 얼라인한 다음, 일반적인 후속의 포토리소그래피 기술을 이용하여 상기 칼라레지스트(24)를 패터닝하여 블루 칼라 패턴을 형성시킨다.
따라서, 상기한 본 발명의 방법에 의하면 레드 및 그린 칼라 패턴을 형성할 때 각각 그린 및 블루 칼라 레지스트의 얼라인먼트에 사용할 수 있게 칼라 레지스트를 이용한 얼라인 키패턴을 제9도와 같이 형성함으로써 얼라인 키 패턴 상부의 그린 및 블루 칼라 레지스트의 단차 경사면에서 반사되는 회절광을 검출하여 제10도에 나타낸 바와 같은 신호에 의해 자동 얼라인이 가능하다.
본 발명은 상기 일 실시예에 한하지 않으며 당 분야에 통상의 지식을 가진 자에 의해 유사한 변형으로 실시 가능함은 명백하다.

Claims (4)

  1. 칼라패턴을 형성하기 위해 칼라레지스트를 이용한 마스크의 자동얼라인 키 패턴을 형성하는 방법에 있어서, 기판 상에 제1칼라필터레지스트층을 형성하는 단계, 제1마스크를 얼라인하고, 상기 제1칼라레지스트층을 패터닝하여 제1칼라레지스트층과 제1얼라인 키 패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제1칼라패턴 및 상기 제1얼라인키 패턴이 형성된 기판 상에 형성되고, 상기 제1칼라얼라인 키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제1단차영역을 가지는 제2칼라레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제1단차영역에서의 빛을 감지하고 제2마스크를 얼라인하는 단계, 상기 제2칼라레지스트층을 패터닝하여 제2칼라패턴과 제2얼라인키 패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제2칼라패턴과 상기 제2얼라인키 패턴이 형성된 기판상에 형성되고, 상기 제2얼라인키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제2단차영역을 가지는 제3칼라레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제2단차영역에서의 빛을 감지하고 제3마스크를 얼라인하는 단계, 및 상기 제3칼라레지스트층을 패터닝하여 제3칼라패턴을 형성하는 단계를 구비함을 특징으로 하는 액정표시용 칼라필터 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1칼라레지스트층은 레드 칼라레지스트층이고, 상기 제2칼라레지스트층은 그린 칼라 레지스트층이고, 상기 제3칼라레지스트층은 블루 칼라 레지스트층임을 특징으로 하는 액정표시용 칼라필터 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1칼라레지스트층, 상기 제2칼라레지스트층 및 상기 제3칼라레지스트층 상에 산화방지막을 형성하는 단계를 더 구비함을 특징으로 하는 액정 표시용 칼라필터 제조 방법.
  4. 칼라패턴을 형성하기 위해 칼라레지스트를 이용한 마스크의 자동얼라인 키 패턴을 형성하는 방법에 있어서, 기판 상에 차광막을 형성하는 단계, 제1마스크를 얼라인하고 상기 차광막을 패터닝하여 제1얼라인 키 패턴과 차광막패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제1얼라인 키 패턴과 상기 차광막 패턴이 형성된 상기 기판 상에 형성되고, 상기 제1얼라인 키 패턴의 상부의 높이를 변화시키는 제1단차영역을 가지는 제1칼라필터레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제1단차영역에서의 빛을 감지하고 제2마스크를 얼란하는 단계, 상기 제1칼라레지스트층을 패터닝하여, 제1칼라패턴과 제2얼라인키 패턴을 동시에 형성하는 단계, 상기 제1칼라패턴 및 상기 제2얼라인 패턴이 형성된 기판 상에 형성되고, 상기 제2칼라 얼라인 키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제2단차영역을 가지는 제2칼라레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제2단차영역에서의 빛을 감지하고 제3마스크를 얼라인하는 단계, 상기 제2칼라레지스트층을 상기 제3얼라인키 패턴이 형성된 기판 상에 형성되고 상기 제3얼라인키 패턴 위의 높이를 변화시키는 제3단차영역을 가지는 제3칼라레지스트층을 형성하는 단계, 상기 제3단차영역에서의 빛을 감지하고 제4마스크를 얼라인하는 단계, 및 상기 제3칼라레지스트층을 패터닝하여 제3칼라패턴을 형성하는 단계를 구비함을 특징으로 하는 액정표시용 칼라필터 제조방법.
KR1019920024134A 1992-12-14 1992-12-14 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 Expired - Lifetime KR960003482B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920024134A KR960003482B1 (ko) 1992-12-14 1992-12-14 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법
NL9302118A NL194311C (nl) 1992-12-14 1993-12-06 Kleurfilter, alsmede werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
DE4342123A DE4342123B4 (de) 1992-12-14 1993-12-10 Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und Verfahren zu seiner Herstellung
JP31088193A JPH06294908A (ja) 1992-12-14 1993-12-10 液晶表示装置のカラーフィルターおよびその製造方法
CN93112845A CN1038709C (zh) 1992-12-14 1993-12-14 液晶显示装置的滤色片及其制作方法
US08/611,551 US5935741A (en) 1992-12-14 1996-03-06 Method for forming a color filter
US09/314,963 US6080515A (en) 1992-12-14 1999-05-20 Method for manufacturing a color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920024134A KR960003482B1 (ko) 1992-12-14 1992-12-14 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR940015536A KR940015536A (ko) 1994-07-21
KR960003482B1 true KR960003482B1 (ko) 1996-03-14

Family

ID=19345414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920024134A Expired - Lifetime KR960003482B1 (ko) 1992-12-14 1992-12-14 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법

Country Status (6)

Country Link
US (2) US5935741A (ko)
JP (1) JPH06294908A (ko)
KR (1) KR960003482B1 (ko)
CN (1) CN1038709C (ko)
DE (1) DE4342123B4 (ko)
NL (1) NL194311C (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100312997B1 (ko) * 1998-01-26 2001-11-03 마찌다 가쯔히꼬 칼라필터의 높은 얼라인먼트 정확도를 확보할 수 있는 칼라필터의 제조방법 및 그의 얼라인먼트 마크
KR101385141B1 (ko) * 2008-04-21 2014-04-15 삼성디스플레이 주식회사 표시기판 및 이의 제조방법

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960003482B1 (ko) * 1992-12-14 1996-03-14 삼성전자주식회사 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법
US5953204A (en) * 1994-12-27 1999-09-14 Asahi Glass Company Ltd. Electric double layer capacitor
JP3538073B2 (ja) * 1999-07-29 2004-06-14 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 Ｔｆｔを搭載する基板側に色層を有するアクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法
EP1271243A3 (en) * 2001-06-19 2003-10-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material, color filter master plate, and color filter
KR100483358B1 (ko) * 2001-09-07 2005-04-14 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법
KR100796486B1 (ko) * 2001-09-28 2008-01-21 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자의 제조방법
KR100469561B1 (ko) * 2002-12-24 2005-02-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 컬러필터 기판 제조 방법
US20050162400A1 (en) * 2004-01-23 2005-07-28 Au Optronics Corporation Position encoded sensing device and a method thereof
US20070048626A1 (en) * 2005-08-30 2007-03-01 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, mask and device
CN104777664A (zh) * 2015-04-28 2015-07-15 深圳市华星光电技术有限公司 黑色矩阵的制作方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS607764B2 (ja) * 1976-04-28 1985-02-27 キヤノン株式会社 走査型光検出装置
US4343878A (en) * 1981-01-02 1982-08-10 Amdahl Corporation System for providing photomask alignment keys in semiconductor integrated circuit processing
DE3305281A1 (de) * 1983-02-16 1984-08-16 Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt, Vaduz Verfahren zum projektionskopieren von masken auf ein werkstueck
JPS60201628A (ja) * 1984-03-26 1985-10-12 Sharp Corp 半導体集積回路の製造方法
JPS60206136A (ja) * 1984-03-30 1985-10-17 Fujitsu Ltd マスク位置合わせ方法
JPS60233823A (ja) * 1984-05-07 1985-11-20 Hitachi Ltd フレネルゾ−ンタ−ゲツト
DE3534609A1 (de) * 1985-09-27 1987-04-02 Siemens Ag Verfahren zur automatisierten, unter verwendung von justiermarken erfolgender justierung mehrerer masken bei einem projektions-belichtungsverfahren
JPS6279619A (ja) * 1985-10-02 1987-04-13 Oki Electric Ind Co Ltd ウエハアライメントマ−ク及びその形成方法
JPS62108206A (ja) * 1985-11-06 1987-05-19 Canon Inc カラ−フィルタ−の製造方法
JPS6326634A (ja) * 1986-07-18 1988-02-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置
US4786148A (en) * 1986-12-10 1988-11-22 Canon Kabushiki Kaisha Color filter having different primary color pigment densities, inter alia
US5262257A (en) * 1989-07-13 1993-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Mask for lithography
KR920005444B1 (ko) * 1989-12-02 1992-07-04 삼성전자 주식회사 칼라필터 및 그 제조방법
JPH03248414A (ja) * 1990-02-26 1991-11-06 Mitsubishi Electric Corp 選択的な表面反応を利用した微細パターンの形成方法
US5053299A (en) * 1990-05-25 1991-10-01 Eastman Kodak Company Method of making color filter arrays
KR920004861A (ko) * 1990-08-10 1992-03-28 김광호 컬러필터의 제조방법
US5059500A (en) * 1990-10-10 1991-10-22 Polaroid Corporation Process for forming a color filter
JP2752528B2 (ja) * 1991-04-11 1998-05-18 キヤノン株式会社 カラー液晶パネルの製造装置
JP2949391B2 (ja) * 1992-08-04 1999-09-13 日石三菱株式会社 カラーフィルターの製造法
KR960003482B1 (ko) * 1992-12-14 1996-03-14 삼성전자주식회사 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100312997B1 (ko) * 1998-01-26 2001-11-03 마찌다 가쯔히꼬 칼라필터의 높은 얼라인먼트 정확도를 확보할 수 있는 칼라필터의 제조방법 및 그의 얼라인먼트 마크
KR101385141B1 (ko) * 2008-04-21 2014-04-15 삼성디스플레이 주식회사 표시기판 및 이의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06294908A (ja) 1994-10-21
KR940015536A (ko) 1994-07-21
US5935741A (en) 1999-08-10
NL194311B (nl) 2001-08-01
CN1089360A (zh) 1994-07-13
DE4342123A1 (de) 1994-06-16
US6080515A (en) 2000-06-27
NL194311C (nl) 2001-12-04
DE4342123B4 (de) 2007-07-05
CN1038709C (zh) 1998-06-10
NL9302118A (nl) 1994-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960003482B1 (ko) 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법
US5128283A (en) Method of forming mask alignment marks
US5756235A (en) Phase shift mask and method for fabricating the same
JP3446943B2 (ja) 描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク
JPH0450943A (ja) マスクパターンとその製造方法
US4182647A (en) Process of producing stripe filter
US5059808A (en) Alignment method for patterning
US5817445A (en) Method for inspecting process defects occurring in semiconductor devices
KR0143340B1 (ko) 위상반전 마스크
JP2001033617A (ja) カラーフィルタの製造方法およびそれに用いる露光方法
JP2779221B2 (ja) 位相差レチクルを用いた露光及び検査方法
KR960006826B1 (ko) 위상반전 마스크의 위상반전물질 선폭크기 측정방법
JP2824258B2 (ja) パターン形成時のオートアライメント方法
US20020102812A1 (en) Method for improving alignment precision in forming color filter array
US6229618B1 (en) Method of improving registration accuracy and method of forming patterns on a substrate using the same
JPH0621771B2 (ja) 透明電極膜パターンの検出方法
KR100228767B1 (ko) 중첩도 측정장비를 이용한 박막의 두께 측정방법
KR100236103B1 (ko) 정렬도 측정용 오버레이 패턴 제조방법
JPS5812337B2 (ja) ビサイパタ−ンノ トウメイマクノケイセイホウホウホウ
JP2003287873A (ja) フォトマスク、基準基板および露光機ならびにカラーフィルターの製造方法
JPH0694422A (ja) アライメントマーク検出方法
KR910006525Y1 (ko) 패턴 형성용 마스크
KR19980067819A (ko) 반도체소자의 오버레이 키 형성방법
JPH01142701A (ja) カラーフィルター用基板
JP2560387B2 (ja) 色分解フィルターの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19921214

PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 19921214

Comment text: Request for Examination of Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 19950916

Patent event code: PE09021S01D

G160 Decision to publish patent application
PG1605 Publication of application before grant of patent

Comment text: Decision on Publication of Application

Patent event code: PG16051S01I

Patent event date: 19960216

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 19960612

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 19960716

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 19960716

End annual number: 3

Start annual number: 1

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 19990220

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20000215

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20010215

Start annual number: 6

End annual number: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20020207

Start annual number: 7

End annual number: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20030207

Start annual number: 8

End annual number: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20040206

Start annual number: 9

End annual number: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20050202

Start annual number: 10

End annual number: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20060207

Start annual number: 11

End annual number: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20070228

Start annual number: 12

End annual number: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20080227

Start annual number: 13

End annual number: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20090303

Start annual number: 14

End annual number: 14

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20100216

Start annual number: 15

End annual number: 15

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110215

Start annual number: 16

End annual number: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120215

Year of fee payment: 17

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120215

Start annual number: 17

End annual number: 17

EXPY Expiration of term
PC1801 Expiration of term