DE4222804A1 - Einrichtung und verfahren zur automatischen visuellen pruefung elektrischer und elektronischer baueinheiten - Google Patents
Einrichtung und verfahren zur automatischen visuellen pruefung elektrischer und elektronischer baueinheitenInfo
- Publication number
- DE4222804A1 DE4222804A1 DE4222804A DE4222804A DE4222804A1 DE 4222804 A1 DE4222804 A1 DE 4222804A1 DE 4222804 A DE4222804 A DE 4222804A DE 4222804 A DE4222804 A DE 4222804A DE 4222804 A1 DE4222804 A1 DE 4222804A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- image
- light source
- indicates
- assembly
- dimensional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95684—Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/08—Monitoring manufacture of assemblages
- H05K13/081—Integration of optical monitoring devices in assembly lines; Processes using optical monitoring devices specially adapted for controlling devices or machines in assembly lines
- H05K13/0815—Controlling of component placement on the substrate during or after manufacturing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8822—Dark field detection
- G01N2021/8825—Separate detection of dark field and bright field
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft allgemein die Prüfung bestimmter
Montagekriterien, beispielsweise von Lötstellen und im ein
zelnen eine Einrichtung und ein Verfahren zur automatischen
visuellen Prüfung elektrischer und elektronischer Baueinhei
ten bezüglich der Lötstellen an gedruckten Schaltungsträger
platten mit Oberflächenmontage.
Die visuelle Prüfung einzelner Lötverbindungen zielt auf
richtige mechanische (pysikalische) Eigenschaften, welche
durch die Topologie der Lötverbindung und die richtige
photometrische Beschaffenheit (Oberflächenbeschaffenheit)
charakterisiert sind, wobei letztere wiederum durch die Re
flexionseigenschaft der Lötverbindung charakterisiert ist.
Automatische Prüfmaschinen nach dem Stande der Technik
nehmen entweder eine Prüfung der photometrischen Eigenschaf
ten oder eine Prüfung der mechanischen Eigenschaften vor,
nicht jedoch beide Prüfungen. Derartige bekannte Prüfmaschi
nen verwenden entweder radiographische Methoden, Röntgen-
Schichtuntersuchungsmethoden, Methoden mit thermischer Re
flexion, Verfahren mit einer Untersuchung des Reflexions
spektrums im sichtbaren Lichtbereich, optische Methoden oder
Triangulationsmethoden. Jedes dieser Prüfverfahren hat
jedoch grundsätzliche Mängel, welche diese Verfahren dafür
ungeeignet machen, sämtliche Prüfanforderungen zu erfüllen,
die in Abschnitt 4.4 der amtlichen Prüfvorschrift "Military
004Standard MIL-STD-2000 A", nämlich der vom Verteidigungs
ministerium der Vereinigten Staaten herausgegebenen Prüfvor
schrift "Standard Requirement for Soldered Electrical and
Electronic Assemblies" festgehalten ist. Diese Prüfvor
schrift umfaßt nicht nur die Prüfung von Fehlern in den Löt
verbindungen (mechanische und photometrische Eigenschaften),
sondern auch die Prüfung des Zustandes der gedruckten Schal
tungsträgerplatte und der darauf montierten Baueinheiten.
Radiographische Bilder stellen die Röntgendurchlässigkeits
eigenschaft von Lötverbindungen dar. In der US-Patentschrift
48 09 308 ist ein Verfahren und eine Einrichtung beschrieben,
welche der Messung struktureller Eigenschaften einer fertig
stellten Schaltungsträgerplatte dient, welche Lötverbindungen
enthält, wobei automatische digitale Röntgen-Radiographieprü
fungen in Echtzeit durchgeführt werden. Dieses Verfahren ge
stattet nicht die Gewinnung einer Information über die Ober
flächen-Reflexionseigenschaften oder die topologischen Ei
genschaften der betreffenden Verbindung.
In der US-Patentschrift 49 26 452 ist weiter ein laminogra
phisches System oder Schichtprüfungssystem zur Prüfung elek
trischer Verbindungen durch Erzeugung von Querschnittsbildern
der betreffenden Verbindungen angegeben, wobei diese Bilder
dann durch eine rechnerunterstützte Bildanalyse ausgewertet
werden. Röntgen-Laminographiebilder stellen die Durchlässig
keitseigenschaft von Horizontalschnitten der betreffenden
Lötverbindung dar. Eine Vielzahl von solchen Querschnitten
würde die topologischen Eigenschaften der Verbindung wieder
geben. Das bekannte Verfahren gestattet jedoch nicht die
Überprüfung der Oberflächenreflexionseigenschaften der Löt
verbindung.
Die Verfahren mit thermischer Reflexion sind aktive Prüfver
fahren zur Untersuchung der kumulativen Energie nahe dem
Infrarotbereich, welche von einer Lötverbindung über eine be
stimmte Zeit hin abgestrahlt wird. Die US-Patentschrift
46 96 104 beschreibt ein System, welches die Qualität einer
Lötverbindung unter Verwendung eines Infrarotdetektors über
prüft, um die thermische Strahlung von dem erhitzten Lotma
terial während der Abkühlung detektiert und ein Signal für
einen Vergleich mit einem Standard-Signalverlauf liefert. Es
können jedoch keine Rückschlüsse hieraus über die präzise
Topologie oder die Oberflächenreflexionseigenschaften der
Lötverbindung gewonnen werden, da ein Bild nicht erzeugt
wird. Auch ist das Verfahren dazu ungeeignet, kleine
(räumlich lokalisierte) Verunreinigungen festzustellen.
Verfahren mit optischer Triangulation liefern eine detail
lierte Topologie der Lötverbindung. Eine Veröffentlichung
"A Threedimensional Approach to Automatic Solder Inspection"
von Sullivan S. Chen, Electronic Manufracturing, November
1988, beschreibt ein von der Firma Robotic Vision Systems
Incorporated hergestelltes dreidimensionales Darstellungs
system, bei dem eine optische Triangulation und Bildverarbei
tungstechniken unter Verwendung von strukturiertem Licht und
einer Software zur Anwendung kommen, bei der man sich theo
retisches und erfahrungsmäßiges Wissen darüber, was eine
Verbindung gut oder fehlerhaft sein läßt, zu Nutze macht.
Keine Prüfentscheidung basiert auf absoluten Vergleichen
sondern auf einer Vielzahl von Messungen und deren gegen
seitigen Beziehungen. Das Verfahren gestattet aber nicht Er
kenntnisse über die Reflexionseigenschaften der Verbindungen
zu gewinnen. Außerdem geschieht die Ermittlung der Daten in
der Weise, das man sich auf eine präzise Justierung der Ebene
der gedruckten Schaltungsträgerplatte verläßt, wobei ohne
diese Justierung die Darstellung der Topologie problematisch
wäre.
Weiterhin ist aus der US-Patentschrift 48 76 455 ein Verfahren
bzw. eine Einrichtung zur Bestimmung der Topologie eines Ob
jektes entnehmbar, das eine spiegelnde Oberfläche aufweist,
wobei eine Reihe von punktförmigen Lichtquellen verwendet und
die entsprechenden Reflexionen von der Objektoberfläche aus
gewertet werden, um Lichtmuster zu untersuchen, welche inter
pretiert werden und zur Rekonstruktion der Objektoberfläche
durch Kurvenüberdeckung verwendet werden. Durch Vergleich mit
Oberflächenbeschaffenheiten akzeptierter Lotverbindungen be
urteilt klassifiziert ein auf Regeln basierendes System eine
Lötverbindung, um festzustellen, ob sie akzeptabel ist.
In der US-Patentschrift 49 88 202 ist ein ähnliches System wie
in der zuvor erwähnten Schrift behandelt, bei welchem die
Oberflächenreflexionen der Lötverbindung dazu dienen, eine
Darstellung der Lötverbindung entsprechend einer erweiterten
Gauß'schen Bildkurve zu erzeugen, welche dann ausgewertet
wird, um die Ordnungsmäßigkeit der Lötverbindung zu bestimmen.
Diese bekannten Verfahren sind jedoch nicht ausreichend
geeignet, um fotometrische Eigenschaften sinnvoll auszuwerten,
da eine Datenbeeinflussung durch die Kurvenanpassung dazu
führen kann, daß kleine Defekte übersehen werden.
Schließlich beschreibt die US-Patentschrift 46 88 939 ein Ver
fahren und eine Einrichtung zur Prüfung eines Trägerchips be
züglich des Vorhandenseins von lichtreflektierenden Lotkörpern
unter Verwendung einer Ringlampe, einer Fernsehkamera und
eines damit verbundenen Darstellungssystems zur Erzeugung
eines eindimensionalen Profils der Intensität des Bildes für
jedes Sichtfenster, welches dann analysiert wird, um Fehler
zu entdecken, indem der Abstand und die Eigenschaften der
Spitzenwerte in einem solchen Fenster geprüft werden. Dieses
System macht jedoch ein hohes Auflösungsvermögen der Kamera
erforderlich, um kleine Defekte feststellen zu können, was
auf den eindimensionalen Prüfeigenschaften beruht. Es bestehen
auch keine Möglichkeiten zur Untersuchung gedruckter Schal
tungsträgerplatten, da die Prüfung nur auf Lotkuppen oder
Lothöcker, d. h., auf im wesentlichen halbkugelige Oberflächen,
zielt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Einrich
tung und ein Verfahren zur automatischen visuellen Prüfung
elektrischer und elektronischer Baueinheiten so auszugestal
ten, daß eine Prüfung bezüglich sämtlicher Fehlerarten durch
geführt werden kann, wie sie in der oben genannten Vorschrift
in Abschnitt 4.4 von MIL-STD-2000 A abgehandelt sind.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Einrichtung mit
den Merkmalen von Patentanspruch 1 gelöst. Die Erfindung
umfaßt auch ein insbesondere unter Verwendung einer solchen
Einrichtung durchzuführendes Verfahren. Vorteilhafte Ausge
staltungen und Weiterbildungen sind in den jeweils nachge
ordneten Patentansprüchen gekennzeichnet.
Im einzelnen werden durch die hier angegebene Einrichtung bzw.
das hier angegebene Verfahren unter Verwendung eines auf das
sichtbare Lichtspektrum ansprechenden Fühlers zur Untersuchung
einer Lötverbindung Informationen über die Reflexionseigen
schaften und auch über die topologischen Eigenschaften einer
Lötverbindung gewonnen.
Es kann eine automatische visuelle Prüfung sämtlicher Lötstel
len auf einer gedruckten Schaltungsträgerplatte in Oberflächen
montage durchgeführt werden, wobei sämtliche Fehlerarten auf
gefunden werden, die in der Prüfvorschrift MIL-STD-2000 A,
Abschnitt 4, aufgeführt sind.
Weiter kann eine automatische visuelle Prüfung sowohl einer
gedruckten Schaltungsträgerplatte als auch der darauf befind
lichen Baueinheiten bezüglich der Fehler gemäß der zuvor ge
nannten Prüfvorschrift durchgeführt werden.
Eine Einrichtung der hier angegebenen Art zur Prüfung einer
elektronischen Baueinheit enthält Mittel zur Positionierung
der Baueinheit während der Prüfung, eine erste Lichtquelle, die
in Abstimmung auf die Positionierungsmittel oberhalb der Bau
einheit angeordnet ist, um die Baueinheit zu beleuchten, weiter
erste, oberhalb der ersten Lichtquelle angeordnete Fühlermittel
zur Bestimmung von reflektiertem Licht aus der ersten
Lichtquelle zur Gewinnung eines ersten Bildes, fernerhin eine
ebenfalls in Abstimmung auf die Positionierungsmittel ober
halb der Baueinheit angeordnete zweite Lichtquelle zur Be
leuchtung der Baueinheit, zweite Fühlermittel, welche oberhalb
der zweiten Lichtquelle angeordnet sind und zur Detektierung
der Intensität von reflektiertem Licht aus der zweiten Licht
quelle dienen um ein zweites Bild zu gewinnen, fernerhin Si
gnalverarbeitungsmittel zur Kompensation von Ungleichförmig
keiten aufgrund der ersten Lichtquelle und der ersten Fühler
mittel im ersten Bild und zur Kompensation von Ungleichför
migkeiten aufgrund der zweiten Lichtquelle und der zweiten
Fühlermittel im zweiten Bild, wobei diese Signalverarbeitungs
mittel außerdem Kompensationsmittel zur Kompensation von
Schatten von der ersten Lichtquelle im ersten Bild und Um
setzungsmittel enthalten, die eine zweidimensionale Inten
sitätsumsetzung am ersten Bild und zweiten Bild vornehmen,
um eine dreidimensionale Topographie der Baueinheit zu er
zeugen, und wobei schließlich die Signalverarbeitungsmittel
Analysierungseinrichtungen enthalten, welche die dreidimen
sionale Topographie und die Intensität des reflektierten
Lichtes zur Bestimmung des Zustandes der zu prüfenden Bau
einheit analysieren. Die erste Lichtquelle kann Mittel zur
Erzeugung einer Dunkelfeldbeleuchtung für die unebenen Ober
flächen der Baueinheit enthalten. Die zweite Lichtquelle kann
Mittel zur Erzeugung einer Auflichtbeleuchtung der ebenen
Flächen der Baueinheit enthalten. Die Mittel zur Durchführung
einer zweidimensionalen Intensitätsumsetzung enthalten Ein
richtungen zur Umsetzung der Intensitätsinformation in eine
Oberflächenwinkel-Darstellung. Die Mittel zur Durchführung
einer zweidimensionalen Intensitätsübersetzung enthalten
Mittel zur Durchführung einer Gradientenanalyse, Mittel zur
Untersuchung der Verbindungsgrenzen eines Bauelementes,
Mittel zur Detektierung einer kontrollierten Unterteilung und
einer nicht kontrollierten Unterteilung sowie der Identifi
zierung einer kreisförmigen Gestalt an dem ersten Bild und
an dem zweiten Bild zur Gewinnung der dreidimensionalen
Topographie. Die Mittel zur Analysierung der dreidimensionalen
Topographie wiederum umfassen Mittel zum Vergleich der ge
wonnenen dreidimensionalen Topographie mit einer bestimmten
vorgegebenen dreidimensionalen Topographie. Dabei enthalten
die Analysierungsmittel ein Erfahrungssystem mit einer Mehr
zahl von Entscheidungspegeln oder, in einer anderen Aus
führungsform, ein Erfahrungssystem mit einem neutralen
Schaltungsnetzwerk. Das Erfahrungssystem stellt einen fehler
haften Zustand von Lötverbindungen, Bauelementen und gedruck
ten Schaltungsteilen einer Baueinheit fest.
Ein automatisches visuelles Prüfsystem der vorliegenden Art
kann einen Rechner enthalten, welcher die Tätigkeit der visu
ellen Prüfeinrichtung steuert. Weiter ist ein Positionierungs
tisch vorgesehen, der eine Mehrzahl von Einstellungsachsen
aufweist, um eine Baueinheit während einer Prüfung entsprech
end einem Befehlssignal des Rechners zu positionieren. Eine
Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung, die sich oberhalb der zu
prüfenden Baueinheit befindet, beleuchtet die unebenen Ober
flächenteile der Baueinheit und eine erste Kamera ist oberhalb
der Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung montiert und nahe einer
ersten Z-Achse des Positionierungstisches montiert, um eine
Intensität von reflektiertem Licht von den Baueinheit her zur
Gewinnung eines ersten Bildes zu detektieren. Eine Auflicht-
Beleuchtungseinrichtung befindet sich ebenfalls oberhalb der
zu prüfenden Baueinheit und neben der Dunkelfeld-Beleuchtungs
einrichtung zur Beleuchtung der ebenen Oberflächenbereiche der
Baueinheit. Eine zweite Kamera befindet sich oberhalb der Auf
licht-Beleuchtungseinrichtung und ist nahe einer zweiten
Z-Achse des Positionierungstisches montiert, um die Intensität
von reflektiertem Licht von der Baueinheit her zur Gewinnung
eines zweiten Bildes zu detektieren. Der Rechner umfaßt Sig
nalverarbeitungsmittel, um das erste genannte Bild bezüglich
Ungleichförmigkeiten der Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung
und der ersten Kamera zu kompensieren und um das zweite Bild
bezüglich Ungleichförmigkeiten von der Auflicht-Beleuchtungs
einrichtung und der zweiten Kamera zu kompensieren. Die Sig
nalverarbeitungsmittel enthalten Mittel zur Durchführung einer
zweidimensionalen Übersetzung der Informationen des ersten
Bildes und des zweiten Bildes zur Gewinnung einer dreidimen
sionalen Topographie der Baueinheit und Mittel zum Vergleichen
der gewonnenen dreidimensionalen Topographie mit einem vorge
gebenen Kriterium einer dreidimensionalen Topographie. Weiter
sind in den Signalverarbeitungsmitteln Mittel mit einem Er
fahrungs- oder Begutachtungssystem enthalten, um die Ergeb
nisse, welche die Vergleichsmittel liefern, zu analysieren und
um einen Defekt in der zu prüfenden Baueinheit festzustellen.
Die Mittel zur Gewinnung des ersten Bildes und des zweiten
Bildes sind mit Mitteln zur Übertragung dieser Bildinforma
tionen an den Rechner ausgestattet. Die Kompensierungsmittel
enthalten auch Mittel zur Kompensation des ersten Bildes be
züglich Schatten von der Dunkelfeld-Beleuchtung. Die Mittel zur
Durchführung einer zweidimensionalen Intensitätsüberset
zung enthalten Mittel zur Umwandlung der Intensitätsüberset
zung in eine Oberflächenwinkel-Darstellung. Die Mittel zur
Durchführung einer zweidimensionalen Intensitätsübersetzung
enthalten Mittel zur Durchführung einer Gradientenanalyse,
zur Detektierung der Verbindungsgrenzlinie eines Bauteils,
einer kontrollierten Teilung, einer unkontrollierten Teilung
und zur Identifizierung einer Kreisform im ersten Bild und im
zweiten Bild zur Erzeugung der dreidimensional Topographie.
Das Erfahrungs- oder Begutachtungssystem umfaßt eine Mehrzahl
von Entscheidungsniveaus. Das Erfahrungs- oder Begutachtungs
system kann auch ein neutrales Netzwerk enthalten. Das Er
fahrungs- oder Begutachtungssystem bestimmt einen fehler
haften Zustand von Lötverbindungen, von Bauelementen und ge
drucktem Schaltungsmaterial einer zu prüfenden Baueinheit.
Die Dunkelfeldbeleuchtungseinrichtung enthält eine Mehrzahl
von ringförmigen Lampen. Weiter enthält das System Mittel zum
einzelnen Einschalten jeder der Anzahl von ringförmigen Lampen
entsprechend einem Befehlssignal, das von dem Rechner erzeugt
wird. Auch enthält das System Mittel zum gleichzeitigen Ein
schalten der Ringlampen in Abhängigkeit von einem von Rechner
erzeugten Befehlssignal.
Bei einem Verfahren zur Prüfung einer elektronischen Bauein
heit gemäß dem vorliegenden Vorschlag sind folgende Schritte
vorgesehen:
- - Positionieren der Baueinheit zur Prüfung durch, Positio nierungsmittel, die eine Mehrzahl von Einstellachsen haben,
- - Beleuchten der Baueinheit mit einer ersten Lichtquelle,
- - Detektieren der Intensität von reflektiertem Licht der ersten Lichtquelle mittels erster Fühlermittel zur Er zeugung eines ersten Bildes,
- - Repositionieren der Baueinheit zur Prüfung,
- - Beleuchten der Baueinheit mit einer zweiten Lichtquelle,
- - Detektieren der Intensität von reflektiertem Licht von der zweiten Lichtquelle mit zweiten Fühlermitteln zur Erzeugung eines zweiten Bildes,
- - Kompensieren des ersten Bildes in Signalverarbeitungs mitteln bezüglich Ungleichförmigkeiten aufgrund der ersten Lichtquelle und der ersten Fühlermittel, sowie des zweiten Bildes bezüglich Ungleichförmigkeiten auf grund der zweiten Lichtquelle und der zweiten Fühler mittel und
- - Kompensieren des ersten Bildes hinsichtlich Schatten von der ersten Lichtquelle,
- - Durchführen einer zweidimensionalen Intensitätsübersetzung an dem ersten Bild und dem zweiten Bild in den Signalver arbeitungsmitteln zur Erzeugung einer dreidimensionalen Topographie der Baueinheit und schließlich
- - Analysieren der dreidimensionalen Topographie und der In tensität des reflektierten Lichtes in den Signalverarbei tungsmitteln zur Bestimmung des Zustandes der Baueinheit.
Der Verfahrenschritt des Beleuchtens der Baueinheit mit einer
ersten Lichtquelle umfaßt die Vornahme einer Dunkelfeldbe
leuchtung der Oberfläche der Baueinheit. Der Schritt der Be
leuchtung der Baueinheit mit einer zweiten Lichtquelle umfaßt
die Vornahme einer Auflicht-Beleuchtung der Oberfläche der
Baueinheit. Die Durchführung einer zweidimensionalen Inten
sitätsübersetzung umfaßt den Schritt der Umwandlung einer
solchen Intensitätsübersetzung in eine Oberflächenwinkel-
Darstellung. Der Verfahrensschritt der Durchführung einer
zweidimensionalen topographischen Übersetzung umfaßt die
Schritte der Durchführung einer Gradientenanalyse, einer
Detektierung der Verbindungsgrenze eines Bauteils, einer
kontrollierten Unterteilung, einer unkontrollierten Unter
teilung und die Feststellung einer Kreisform in dem ersten
Bild und dem zweiten Bild zur Erzeugung der dreidimensiona
len Topographie. Das Analysieren der dreidimensionalen
Topographie umfaßt den Schritt des Vergleiches der gewonne
nen dreidimensionalen Topographie mit einem vorbestimmten
Kriterium einer dreidimensionalen Topographie. Das Verglei
chen der gewonnenen dreidimensionalen Topographie mit einer
vorgegebenen dreidimensionalen Topographie umfaßt den Schritt
des Einsatzes eines Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystems mit
einer Mehrzahl von Entscheidungsniveaus. Der Schritt des Ein
satzes eines Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystems umfaßt
den Einsatz einer neutralen Netzwerkeinheit. Das Bestimmen
des Zustandes der Baueinheit umfaßt die Prüfung des Zustandes
von Bauelementen, Lötverbindungen und gedruckten Schaltungs
materialien.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele anhand der Zeichnung
im einzelnen beschrieben. Es stellen dar:
Fig. 1 ein Blockschaltbild einer Einrichtung zur auto
matischen Prüfung einer elektronischen Bauein
heit,
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht eines fünf Einstell
achsen aufweisenden Positionierungstisches für
die Einrichtung nach Fig. 1 mit einer Dunkelfeld
Beleuchtungseinrichtung und einer Auflicht-Be
leuchtungseinrichtung, welche längs einer Z1-
Achse bzw. einer Z2-Achse einstellbar montiert
sind,
Fig. 3A und 3B eine perspektivische Ansicht bzw. eine Aufsicht
eines vergrößert wiedergegebenen Bereiches eines
oberflächenmontierten Bauteils mit Anschlußlei
tern, die über eine Lötstelle mit einem Lötpunkt
auf einer gedruckten Schaltungsträgerplatte ver
bunden sind,
Fig. 4A und 4B eine perspektivische Ansicht eines vergrößert wie
dergegebenen Bereiches eines oberflächenmontierten,
anschlußleitfreien Bauteils, das über Lötstellen
mit Lötpunkten verbunden ist bzw. eine perspek
tivische Ansicht eines vergrößerten Bereiches
eines sich axial erstreckenden Bauelementes, das
über Lötstellen mit Lötpunkten verbunden ist,
Fig. 5 ein Diagramm des reflektierten Lichtes von einer
Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung, wenn deren
ringförmige Lampen kontinuierlich eingeschaltet
sind,
Fig. 6 ein Diagramm des reflektierten Lichtes von einer
Auflicht-Beleuchtungsquelle,
Fig. 7 ein Diagramm des reflektierten Lichtes von einer
Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung, wenn deren
ringförmige Lampen taktweise einzeln eingeschaltet
werden,
Fig. 8A und 8B zusammen zu betrachtende Flußdiagramme eines Prüf
programms, das von einem Rechner innerhalb der Ein
richtung gemäß Fig. 1 durchgeführt wird,
Fig. 9 ein Flußdiagramm der in Fig. 8B enthaltenen Kate
gorieauswahlroutine auf Regelbasis,
Fig. 10 ein Flußdiagramm einer Regelauswahl auf der Basis
der Leiterposition gemäß Fig. 9 für Bauelemente mit
Anschlußleitern und axiale Bauelemente,
Fig. 11 ein Flußdiagramm einer Regelauswahl gemäß Fig. 10
auf der Basis der Anschlußleiterbiegungslage für
mit Anschlußleitern versehene Bauelemente und für
axiale Bauelemente,
Fig. 12 ein Flußdiagramm für eine Regelauswahl gemäß Fluß
diagramm nach Fig. 9 auf der Basis der Größe eines
Bauelementes für anschlußleiterlose Widerstände,
Fig. 13 ein Flußdiagramm für eine Regelauswahl gemäß
Flußdiagramm nach Fig. 9 auf der Basis der Bau
elementgröße für anschlußleiterlose Kondensatoren,
Fig. 14 ein Flußdiagramm für eine Datenanalyseroutine für
jede der Regeln, die in dem Flußdiagramm nach
Fig. 9 gewählt werden und
Fig. 15 ein Flußdiagramm für ein Erfahrungs- bzw. Begut
achtungssystem entsprechend den Diagrammen nach
den Fig. 8B und Fig. 14.
Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild eines Systems 10 zur automa
tischen visuellen Prüfung einer elektronischen Baueinheit 20
zur Feststellung von darauf befindlichen Fehlern mit einem
fünf Einstellachsen aufweisenden Positionierungstisch 11, einem
Positionierungssteuergerät 14, einer Handsteuereinheit 12
(joystick), einer Dunkelfeldbeleuchtungseinrichtung 22, einer
Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 32, zwei Fühlerkameras mit
jeweils zweidimensionalen Reihen von Festkörperelementen, näm
lich der Kamera A24 und der Kamera B34, welche mit einer
Linse 26 bzw. einer Linse 36 zusammenwirken, weiter mit einer
Video-Formaterfassungseinrichtung 44, einem Rechner 46, der
einen Beschleunigungsprozessor 47 und Prüfprogrammeinheiten 52
enthält, und schließlich mit einem Darstellungsmonitor 48 und
einem Drucker 50, welche mit dem Rechner 46 verbunden sind.
Die Dunkelfeldbeleuchtungseinrichtung 22 und die Auflicht-Be
leuchtungseinrichtung 32 beleuchten die elektronische Bauein
heit 20 zur Erzeugung von visuellen Bildern vermittels der
Kamera A24 und der Kamera B34 und der Video-Formaterfassungs
einrichtung 44, wobei diese Bilder dazu dienen, Fehler zu iden
tifizieren. Der Positionierungstisch 11 richtet die zu prüfende
Einheit zuerst auf die optische Achse der ersten Kamera A24
und darin auf die optische Achse der Kamera B34 aus, derart,
daß ein und dasselbe zu betrachtende Gesichtsfeld bei unter
schiedlichen Beleuchtungsbedingungen untersucht werden kann.
Das von der Dunkelfeld Beleuchtungseinrichtung 22 ausgehende
Licht beleuchtet vorzugsweise die nicht ebenen Oberflächenbe
reiche, nicht jedoch vertikale Flächenbereiche für den Be
trachter. Das Licht der Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 32 illu
miniert vorzugsweise verhältnismäßig ebene Oberflächenbereiche.
Die Bilder werden von den Prüfprogrammeinrichtungen 52 innerhalb
des Rechners 46 analysiert, welcher den Beschleunigungsprozessor
47 enthält, um Fehler der elektronischen Baueinheit 20 im Bereich
von Bauelementen, der gedruckten Schaltungsplatte und der Löt
stellen zu erkennen. Die elektronische Baueinheit 20 enthält
beispielsweise eine Anzahl oberflächenmontierter Bauelemente,
etwa Bauelemente mit einer Mehrzahl von Anschlußleitern, von
anschlußleiterlose Bauelemente und Bauelemente mit sich axial
erstreckenden Anschlußleitern und alle Arten weiterer solcher
Bauelemente, welche in der dem Fachmann bekannten Weise über
Lötstellen mit der gedruckten Schaltungsplatte verbunden werden.
Die Bauelemente, die Lötstellen und die gedruckten Schaltungs
platten werden auf Fehler von dem automatischen visuellen
Prüfsystem 10 überprüft, indem systematisch und wiederholt
(zur Überprüfung der gesamten elektronischen Baueinheit 20)
kleine Bereiche der elektronischen Baueinheit 20 in dem
Gesichtsfeld der Kamera A24 und der Kamera B34 positioniert
werden. Mit der Handsteuereinheit 12 richtet die Bedienungs
person die Achsen der elektronischen Baueinheit 20 auf die
Achsen des Positionierungstisches 11 unter Leitung und Über
wachung durch den Rechner 46 aus. Nach dem Ausrichten geschieht
das weitere Positionieren der elektronischen Baueinheit 20
automatisch durch ein Positionierungsbefehlssignal von dem
Rechner 46, das an die Positionierungssteuereinheit 14 gegeben
wird und das einem vorher eingegebenen Positionierungsplan
entspricht, der in einer Datenbasis 129 (Fig. 8A und 8B)
einer elektronischen Einheit vorhanden ist, die sich in dem
Rechner 46 befindet. Die Untersuchung der elektronischen Bau
einheit 20 nach Gewinnung der Bilder der Kamera A24 und der
Kamera B34 vermittels Befehlen zur Video-Formaterfassungsein
richtung 44 nach Übergabe der Videodaten geschieht innerhalb
des Rechners 46 und des Beschleunigungsprozessors 47 an Hand
der Prüfprogramme 52, die entsprechend der eingangs erwähnten
Vorschrift MIL-STD-2000 A, Abschnitt 4.4, gewählt sind. Die
nachfolgende Tabelle 1 führt die 15 Prüfungsarten auf, die von
dem Prüfsystem 10 durchgeführt werden und außerdem sind die
jeweils zugehörigen fertigungsmäßigen Variablen aufgeführt,
die zu jeder Prüfkategorie gehören und mit ihr durch statis
tische Prozeßsteuermonitoren mit eingebauten Markov-Modellen
in Beziehung gesetzt sind.
Kategorie der automatischen Prüfung | |
Herstellungsvariable | |
Gute Lötstelle | |
sämtliche Variablen innerhalb der Toleranzen | |
Kein Bauelement | Fehler vor dem automatischen Lötprozeß |
Nicht gelötete Verbindung | Lotvolumen, Druck des Lötwerkzeugs, Berührungszeit zwischen Lötwerkzeug und Lötstelle, Berührungspunkt von Lötwerkzeug am Anschluß-Leiter |
Verunreinigung | Fremdkörper in Lot eingebettet, unzureichende Reinigung, zu großes Produkt Zeit/Temperatur |
Kalte Lötstelle | Temperatur des Lötwerkzeugs, Wärmeübergang, Kontaktzeit zwischen Lötwerkzeug und Lot |
Überhitzte Lötstelle | Temperatur des Lötwerkzeugs, Kontaktzeit zwischen Lötwerkzeug und Lot, Kontaktpunkt von Lötwerkzeug an Anschlußleiter |
Unzureichendes Lot | Volumen des Lotes, Druck des Lötwerkzeugs |
Zu viel Lot | Volumen des Lotes |
Löcher, Leerstellen und Nadeln | Temperatur des Lötwerkzeugs, Lotvolumen |
Lotüberbrückungen | Volumen des Lotes, Rückführungsgeschwindigkeit des Lötwerkzeugs, Verlagerung des Anschlußleiters |
Freilegung der Faser der Schaltungsträgerplatte | Fehler vor dem automatischen Lötvorgang |
Gedruckte Schaltungsplatte mit Flecken, mit Verunreinigungen, mit Schichtablösung, mit angehobenen Rändern | Fehler vor dem automatischen Lötvorgang, Fehler bezüglich Produkt von Zeit und Temperatur des Lötwerkzeugs oder mangelhafte Reinigung |
Verkohlungen | Temperatur des Lötwerkzeugs, Wärmeübergang |
Anschlußleiter verlagert, Anschlußleiter verwirrt | Falsche Positionierung von Anschlußleiter, Teilebewegung während des Lötvorgangs |
Weitere Defekte: Brüche, Risse keine Benetzung, mangelhafte Benetzung, Risse in der durchgehenden Beschichtung @ | Herstellungsvariable, die nicht unmittelbar in Regeln gefaßt sind. |
Es sei nun auf die Fig. 3A und 3B Bezug genommen. Fig. 3A
zeigt einen Anschlußleiter 82 für ein mit solchen Anschlußleitern
versehenes Bauelement 60, das über eine Lötstelle mit einen Löt
punkt 66 auf einer gedruckten Schaltungsplatte 68 verbunden ist.
Die Inspektion der resultierenden Lötverbindung oder Lötstelle
64 zwischen dem Anschlußleiter 62 und dem Lötpunkt 66 betrifft
in erster Linie den Fußbereich 70 des Anschlußleiters 62. Der
Fußbereich 70 liegt flach auf dem Lötpunkt 66 auf, so daß
charakteristischerweise nur eine geringe Menge von Lot notwen
dig ist, um eine ordnungsgemäße Verbindung herzustellen. Eine
meniskusartige Lotausfüllung 72 ist unter dem Fußbereich 70
heraus an den Seiten und an der Rückseite des Fußbereiches 70
hervortretend erkennbar. Der Teil der meniskusartigen Lotaus
füllung 72 an der Vorderseite des Fußbereiches 70 des Anschluß
leiters 62 ist als Fußspitze 74 zu bezeichnen. Der Teil der
Lotausfüllung 72 an der Rückseite des Fußbereiches 70 wird als
Absatz 78 bezeichnet. Weitere Definitionen für Lotverbindungen
lassen sich der erwähnten Prüfvorschrift MIL-STD-2000A ent
nehmen. Fig. 3B zeigt eine Aufsicht auf den Anschlußleiter 62
und seiner Lotverbindung zu dem Lötpunkt 66.
Nunmehr seien die Fig. 4A und 4B näher betrachtet. Fig. 4A
zeigt ein anschlußleiterfreies Schaltungsbauelement 80, das über
eine Lötstelle 86 an einem Ende mit einem Lötpunkt 82 verbunden
ist und über eine Lötstelle 88 am anderen Ende mit einem Löt
punkt 84 Verbindung hat. Fig. 4B zeigt ein axial verlaufendes
Bauelement 90 mit zwei Anschlußleitern 92 und 94, von denen der
Anschlußleiter 92 an einem Lötpunkt 98 angelötet ist, so daß
eine Lötstelle 100 entsteht, und von denen Anschlußleiter 94
an einem Lötpunkt 96 angelötet ist, so daß eine Lötstelle 102
entsteht.
Man nehme nun wieder Fig. 1 und 2 zur Hand. Die elektronische
Baueinheit 20 weist charakteristischerweise eine Mehrzahl von
Bauelementen, beispielsweise solche, wie sie in den Fig. 3A,
3B, 4A und 4B dargestellt sind, auf, und ist an dem fünf Einstell
achsen aufweisenden Positionierungstisch 11 angeordnet, der einen
linear in Richtung der X-Achse verschiebbaren Teil 16, einen
linear in Richtung der Y-Achse verschiebbaren Teil 15, einen
zur Ausführung einer Drehung geeigneten Teil 18, einen Schlitten
19 zur linearen Bewegung der Kamera A24 in Richtung einer
Z1-Achse und einen Schlitten 21 zur Bewegung der Kamera B34
linear in Richtung einer Z2-Achse oberhalb der Untersuchungs
ebene für die elektronische Baueinheit 20 enthält. Die Teile
16 und 15 zur Bewegung in X-Achsenrichtung bzw. in Y-Achsen
richtung gestattet es, sämtliche Bauteile in das Gesichtsfeld
der Kamera A24 und der Kamera B34 zu bringen. Der drehbare
Teil 18 zur Winkelpositionierung dient zum Ausrichten (vorberei
tende Arbeit vor dem automatischen Prüfen der elektronischen
Baueinheit) der Koordinaten der gedruckten Schaltungsplatte auf
die X-Koordinate und die Y-Koordinate der Positionierungstisch
teile 16 und 15, die ihrerseits wieder auf die Fühlerachsen der
Kameras A24 und B34 ausgerichtet sind. Die beiden Kameras
sind auf die Tischebene der elektronischen Baueinheit 20 ver
mittels der längs der Z1-Achse bzw. Z2-Achse verschiebbaren
Schlitten 19 und 21 des Positionierungstisches 11 fokussiert,
da die Kameralinsen eine feste Brennweite haben. Die Genauig
keit der Fokussierung der Kameras 24 und 34 auf die Prüfungs
ebene der elektronischens Baueinheit 20 ist gegenüber Schwan
kungen der Höhe der Prüfungsebene aufgrund der Tiefenschärfe
der Linsen 26 und 36 unempfindlich. Im vorliegenden Ausführungs
beispiel ist der Positionierungstisch 11 ein Produkt, das von
der Firma New England Affiliated Technologies of Lawrence,
Massachusetts, Vereinigte Staaten von Amerika, hergestellt wird.
Der in X-Achsenrichtung bewegbare Teil 16 enthält einen 508 mm
linear auf Luftlagern bewegbaren Tisch mit einem schleifring
losen linearen Servomotor und einem 1-µm-Linearstellungsgeber.
Der in Y-Achsenrichtung bewegbare Teil 15 enthält einen über
483 mm auf Luftlagern linear bewegbaren Tisch, ebenfalls mit
linearem, schleifringlosem Servomotor und einem 1 µm-Linear
stellungsgeber. Die in Z1-Achsenrichtung bzw. Z2-Achsenrich
tung bewegbaren Schlitten 19 und 21 enthalten jeweils über
152 mm linear bewegbare Präzisionssupports mit Kreuz-Rollen
lagerung und einem schleifringlosen Servomotor, der jeweils
mit einer Leitspindel geringer Steigung gekuppelt ist. Der
drehbare Teil 18 ist ein unter der Bezeichnung Model RT-12-SM
auf dem Markt erhältliches Bauteil mit einem Laser-Drehmelder
mit Einheiten von 16 Bogensekunden. Die Positionierungstisch-
Steuereinheit 14 ist ein im Handel unter der Bezeichnung
Model NEAT 310B erhältliches Gerät mit einer RS-232 Interface
einheit für jede der fünf Einstellachsen. Die Befehls- und
Steuersignale für die Positionierungstisch-Steuereinrichtung
14 werden von dem Rechner 46 erhalten, der geeignete Signale
zur Verfügung stellt, um die gewünschten Positionen innerhalb
des Gesichtsfeldes der Kameras zu erreichen.
Die Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung 22 befindet sich unter
der zweidimensionalen Reihe von Festkörperbauelementen zur
Verwirklichung der Kamera A24, die an dem in Z-Achsenrichtung
beweglichen Schlitten 19 des Positionierungstisches 11
(Fig. 2) gehaltert ist, und die Linse 26 ist an der Kamera A24
befestigt. Die Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung 22 ent
hält vier ringförmige Lampen 28, die zur Bildung eines Beleuch
tungszylinders übereinandergestapelt sind, wobei diese Lampen
durch eine Spannungsquelle 30 mit Energie beaufschlagt werden,
was in Abhängigkeit von einem Steuersignal 43 geschieht, das
von der Video-Formaterfassungseinrichtung 44 bezogen wird. Jede
der ringförmigen Lampen 28 kann dauernd eingeschaltet werden,
es ist jedoch auch möglich, die Lampen impulsweise durch takt
weise Energiezufuhr jeweils einzeln einzuschalten, indem die
Spannungsquelle 30 in Abhängigkeit von Steuersignalen 43 dazu
veranlaßt wird, die taktweise Lampenschaltung zur feineren
topologischen Auflösung der Reihe nach zu betätigen. Wenn die
ringförmigen Lampen 28 dauernd durch entsprechende Verbindung
mit der Spannungswelle 30 eingeschaltet werden, so ist am Aus
gang der ringförmigen Lampen 28 eine konstante Lichtstromdichte
oder Beleuchtungsstärke festzustellen, nachdem diese durch
einen Fotowiderstandsfühler (nicht dargestellt) überwacht wird.
Dieser Fotowiderstandsfühler ist Bestandteil eines Regelkreises
für die Spannungsquelle 30 und reguliert die Leistung, die zu den
ringförmigen Lampen 28 gelangt. Die Dunkelfeld-Beleuchtungsein
richtung 22 bestrahlt Oberflächen des Prüflings zwischen 10° und
45°, wenn sämtliche vier ringförmigen Lampen dauernd eingeschaltet
sind, wie in Fig. 5 dargestellt ist und in Tabelle 2 behandelt ist,
wobei die Gradangaben sich auf die Parallelebene zu der Kamera
beziehen, um ein Bild zu erhalten, das durch die Prüfprogramme 52
weiter behandelt wird. Die Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung 22
beleuchtet weiter reflektierende Oberflächen zwischen 10° und 45°
bei taktweise eingeschalteten Ringlampen der Anordnung von Ring
lampen 28 wie in Fig. 7 und in Tabelle 3 aufgezeigt ist, so daß
weitere Bilder erhalten werden, die ebenfalls durch die Prüfpro
gramme 52 ausgewertet werden.
taktweise ringförmige Lampe | |
Oberflächenwinkel, die mit hoher Intensität beleuchtet werden | |
Lampe 1 | |
36° bis 45° | |
Lampe 2 | 27° bis 36° |
Lampe 3 | 18° bis 27° |
Lampe 4 | 10° bis 18° |
Die Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 32 befindet sich unter der
Kamera B34, die aus einer zweidimensionalen Reihe von Festkör
perbauelementen gebildet ist und an den in Z2-Achsenrichtung be
wegbaren Schlitten 21 des Positionierungstisches 11 (Fig. 2) mon
tiert ist und die Linse 36 ist an der Kamera B34 befestigt. Die
Auflicht-Beleuchtungseinrichtung 32 enthält eine Lampe 42 die
Licht über ein Faser-Lichtleiterkabel 41 an einen teilreflek
tierenden Spiegel 38 liefert, der vor der Linse 36 angeordnet ist.
Außerdem wird Licht über das Faserlichtleiterkabel zu einer mini
aturisierten Faseroptik-Ringleuchte 40 geliefert, die unter dem
teilweise reflektierenden Spiegel 38 vorgesehen ist. Die Auflicht-
Beleuchtungseinrichtung 32 beleuchtet Oberflächenbereiche, die
nahezu parallel zu der Sensorebene oder Detektorebene orientiert
sind, wie in Fig. 6 und in Tabelle 2 festgehalten ist (d. h., plus
oder minus 100° Toleranz relativ zur Ebene parallel zur Kamera
ebene, wodurch Herstellungsungleichmäßigkeiten der Lötverbindungen
berücksichtigt werden), um ein Bild zu erhalten, das durch die
Prüfprogramme der Einheit 52 ausgewertet wird. Der bevorzugte
Abstand der Auflicht-Beleuchtungseinrichtung vom Prüfling im Be
trieb muß groß sein, um die Aufgabe dieser Beleuchtungseinrichtung
erfüllen zu können, d. h., flache Oberflächenbereiche zu beleuchten.
Das Gesichtsfeld der beiden Kameras A24 und B34 wird bei unter
schiedlichen Abständen vom Prüfling gleich gemacht, was durch
Zoom-Linsen erreicht wird. Die sich ergebende Verminderung der
Beleuchtungsstärke an der elektronischen Baueinheit 20 wird
dadurch berücksichtigt, das entweder die Ausgangsenergie der
Lampe 42 erhöht wird, indem der Video-Verstärkungsgrad der
Kamera 34 erhöht und ein Dunkelsignal-Halteimpuls des Video-
Formaterfassungsgerätes 44 erhöht wird, um proportional die
scheinbare Erhöhung des Dunkelsignals aufgrund der Änderung
der Videoverstärkung abzuschwächen, indem die Änderung der
Bildintensität durch Herabsetzung der Schwellwerte software
mäßig während der Analyse durch die Prüfprogramme 52 berück
sichtigt wird oder indem von den Prüfprogrammen 52 eine
Software-Verstärkungskorrektur je Bildelement vorgenommen wird.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel haben die Kameras A24 und
B34 die Gestalt von Geräten der Bezeichnung Model IM 640, er
hältlich von Firma Pulnix Amerika, Incorporated, Sunnyvale,
Californien, Vereinigte Staaten von Amerika. Die Linsen 26 und
36 werden von Firma D.O. Industries, East Rochester, New York,
Vereinigte Staaten von Amerika unter den Bezeichnungen 1-6000
(6.5 x Zoom), 1-6010 (Coupler), 1-6015 (1X Adapter), 1-6030
(2X Adapter) hergestellt. Die Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung
22 enthält die Kombination von ringförmigen Lampen 28, welche
von Firma Stocker & Yale Inc., Beverly, Massachusetts, Vereinigte
Staaten von Amerika, unter der Bezeichnung S & Y 9-110 erhältlich
sind und die linearen Fluoreszenzlampen, die in der Anordnung
ringförmiger Lampen 28 integriert sind, sind von der Firma
JKL Components Corporation of Pacoima, Californien, Vereinigte
Staaten von Amerika unter der Bezeichnung BF 650 erhältlich.
Die Spannungsquelle 30 für die ringförmigen Lampen ist ein Ge
rat mit der Bezeichnung Model FL 0664-4, hergestellt von Firma
Mercron of Richardson, Texas, Vereinigte Staaten von Amerika.
Der Parallellichtreflektor 38 ist das Model D & O Collimated
Source, hergestellt von Firma D.O. Industries of Last Rochester,
New York, Vereinigte Staaten von Amerika. Die miniaturisierte
Faseroptik Ringlichtquelle 40 kann von eben dieser Firma unter
der Bezeichnung D & O T-Q/ AN- 3 bezogen werden. Die Lampe 42, eine
Halogenlampe, ist eben dort unter der Bezeichnung TQ/FOI-1 er
hältlich.
Das Video-Formaterfassungsgerät 44 empfängt und digitalisiert
die von den Kameras A24 und B34 aufgenommenen Bilder und
überträgt diese Informationen zu dem Rechner 46 über ein Klein
rechner-Interfacebus zur Weiterverarbeitung mittels der Prüf
programme 52. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ist die
Video-Formaterfassungseinrichtung 44 ein Gerät mit der Bezeich
nung DSAM FGM hergestellt von Firma Analogic of Peabody,
Massachusetts, Vereinigte Staaten von Amerika. Der Rechner 46,
welcher den Darstellungsmonitor 48 enthält, wird vorliegend
durch das Gerät SPARC STATION 2, 4/75 GT-16-P40 verwirklicht,
das durch die Firma Sun Microsystems, Mountain View, Californien,
Vereinigte Saaten von Amerika, hergestellt wird. Ein innerhalb
des Rechners 46 über ein Kleinrechnerinterfacebus verbundener
Beschleuniger ist apperativ durch das Gerät SKYSTATION ver
wirklicht, hergestellt von Firma Sky Computers, Inc.,
Chelmsford, Massachusetts, Vereinigte Staaten von Amerika. Der
Farbdrucker, der an den Computer 46 über ein Kleinrechner-
Interfacebus angeschlossen ist, hat die Gestalt des Gerätes
CH5000 der Firma Seiko Instrument, San Jose, Californien, Ver
einigte Staaten von Amerika.
Es sei nun auf die Fig. 8A und 8B Bezug genommen. Der Rechner
46 und der Beschleunigungsprozessor 47 führen die Prüfprogramme
52 durch, um die Bilder auszuwerten, die von den Kameras A24
und B34 erhalten werden. Auf die Bildgewinnung 110, bei welcher
die Lötstellenbilder von den beiden Kameras 24 und 34 bei 112 ge
speichert werden, wird eine Korrektur 114 bezüglich Ungleich
förmigkeiten der Beleuchtung und der Kameras an den Bildern durch
geführt, so das bei 116 ein störungskorregiertes Bild erzeugt
wird. Dieser Verfahrensschritt bedeutet eine Korrektur von
Störungen gleichbleibenden Musters, was eine Korrektur der Un
gleichförmigkeit des Kamera-Dunkelsignals je Pixel, ermittelt
aus dem Mittelwert mehrerer Bilder bei ausgeschalteter Beleuch
tung, umfaßt und was ferner eine Korrektur der kombinierten
Kameraanordnung bezüglich der Ungleichförmigkeit und auch der
Beleuchtungsungleichförmigkeit umfaßt, welche durch einen Mit
telwert von Bildern ermittelt werden, die bei gleichförmiger
Objektbestrahlung mit niedriger Beleuchtungsstärke gewonnen
werden. Die Korrekturausdrücke sind wegen konstanter Integra
tionszeit, konstanter Lichtstromdichte, konstanter Kameratem
peratur und stabiler elektrischer Charakteristik des Prüfsys
tems 10 gültig. Die Korrekturausdrücke je Bildelement oder
Pixel sind Subtraktionsausdrücke für jedes Pixel innerhalb des
Bildes zur Normalisierung der Ungleichförmigkeitbeiträge des
Dunkelsignals, und sind Produktausdrücke für jedes Pixel
innerhalb des Bildes zur Normalisierung des Kamera-Verstär
kungsgrades sowie der eingehenden Fehler aufgrund der Ungleich
förmigkeit der Beleuchtung.
Als nächstes wird bei 118 an den störungskorregierten Bildern
aus der Verfahrensstation 116 eine Schattenkorrektur durchge
führt, um bei 120 ein schattenkorregiertes Bild zu gewinnen.
Bei der Beleuchtung werden Schatten auf die Prüfebene der elek
tronischen Baueinheit 20 geworfen. Die Fläche des Schattens
hängt von der Höhe der oberflächenmontierten Bauteile auf der
elektronischen Baueinheit 20 ab. Wenn oberflächenmontierte
Bauteile sich in der von einem Schatten eingenommenen Fläche
befinden, dann wird die erwartete Reflexion des Flächenbe
reiches herabgesetzt. Wenn oberflächenmontierte Bauteile
gleicher Höhe nebeneinander liegen, dann geht der Schatten in
alle Richtungen unter gleichförmiger Verminderung der Reflexion
über das gesamte Gesichtsfeld der Kamera hin. Kleine ober
flächenmontierte Bauteile in der Nachbarschaft großer ober
flächenmontierter Bauteile werfen Schatten, die in eine
Richtung gehen. Ein in eine Richtung gehender Schattenwurf auf
eine Lötstelle hat eine ausgeprägte Diskontinuität des reflek
tierten Lichtes von einer bestimmten Fläche der Lötverbindung
aus.
Die Feststellung von in alle Richtungen gehenden Schatten ist
aufgrund der Abwesenheit von Schatten möglich, die aus der
Auffeld-Beleuchtungseinrichtung 32 resultieren. In alle Rich
tungen gehende Schatten beeinflussen nur Objekte in der Dun
kelfeld-Beleuchtungseinrichtung 22. Eine folgliche Reduktion
der Intensität der Bilder, die unter Dunkelfeldbeleuchtung bei
in alle Richtungen gehenden Schatten erhalten werden, führt
dazu, daß die Prüfprogramme 52 die Lötverbindungen, welche der
Prüfung unterzogen werden, auf der Grundlage von Flächen gerin
gen Reflexionsvermögens zurückweisen, was auf Temperatur Ab
normalitäten beim Herstellungsprozeß hinweist. Die Bedingungen,
welche zu in alle Richtungen gehenden Schatten führen, werden
an Hand einer Information gewertet, die in der Datenbasis 129
für die gedruckte Schaltungsträgerplatte bereit gehalten ist.
Für ein bestimmtes Gesichtsfeld auf dem Prüfling in Gestalt der
elektronischen Baueinheit 20 wird die Datenbasis 129 auf die
Nähe der Bauteile gleicher Höhe überprüft, die beim Prüfpro
gramm 52 bezüglich des Vorhandenseins in alle Richtungen gehen
der Schatten auffällig wird. Die Prüfprogramme 52 vergleichen
den relativen Unterschied der Reflektivität des Bildes bei
Dunkelfeldbeleuchtung und bei Auflicht-Beleuchtung. Da nur die
Bilder bei Dunkelfeldbeleuchtung beeinflußt werden, ist die
Reflektivität der Lötstelle im Vergleich zu den Verhältnissen
bei Auflicht-Beleuchtung niedriger. Der relative Unterschied
der Reflexion entspricht der Größe des in alle Richtungen
gehenden Schattenwurfes. Das Bild bei Dunkelfeldbeleuchtung
wird proportional durch Anwendung eines Software-Verstärkungs
faktors je Bildelement des gesamten Gesichtsfeldes korrigiert.
Wenn jedoch der relative Unterschied der Intensität des Bildes
aufgrund der Dunkelfeldbeleuchtung und des Bildes aufgrund der
Auflichtbeleuchtung vernachlässigbar ist, so geschieht keine
Korrektur des Verstärkungsfaktors.
Die Feststellung in eine Richtung gehender Schatten ist eben
falls möglich, und zwar aufgrund des Fehlens von Schatten, die
bei der Auflicht-Beleuchtung (Einrichtung 32) entstehen. Ein
Vergleich der Bilder aufgrund der Dunkelfeldbeleuchtung und der
Auflichtbeleuchtung gemäß Tabelle 2 führt daher das Vorhanden
sein eines Schattens auf eine mäßig steile Oberfläche (10° bis 45°)
zurück. Die beleuchtete Fläche in dem Bereich des Schattens hat
niedrige Reflexionsintensität, was normalerweise zur Zurückwei
sung als Diskontinuität des Intensitätverlaufes führen würde.
Wenn die Diskontinuität einer Art ist, die auf einen Lötstellen
bruch oder einen Haarlinien-Verunreinigungsbereich (d. h.,
schmaler Bereich der Diskontinuität) hinweist, dann wird die Löt
stelle als fehlerhaft zurückgewiesen. Schattenwürfe nehmen aber
im allgemeinen große Flächenbereiche ein und da die Kenntnis über
die Nähe eines Bauteil größerer Höhe vorhanden ist (diese Kenntnis
wird von der Datenbasis 129 bezogen), kann von einer mit niedriger
Intensität beleuchteten Fläche (Halbschattenbereich innerhalb des
Gebietes) einer zu prüfenden Lötverbindung auf die Tatsache ge
schlossen werden, daß sie sich innerhalb des benachbarten Inten
sitätsprofils der Lötverbindung (außerhalb Halbschattenbereiches)
befindet, vorausgesetzt, daß der Bereich niedrige Intensität so
wohl in der Dunkelfeldbeleuchtung als auch in der Auflichtbe
leuchtung hat, wie in Tabelle 2 angegeben ist.
Es sei weiterhin Fig. 8A behandelt. Das schattenkorrigierte Bild
bei 120 wird innerhalb vorbestimmter Bereiche der Lötverbindung
auf gleichförmige räumliche Intensitätsverteilung überprüft. Dies
geschieht durch eine Schwellwertkorrektur bei einer Mehrzahl von
Grautönen und durch eine Intensitätsübersetzung von dem zwei
dimensionalen Bild zur dreidimensionalen Topologie bei 122, wo
schwellwertüberprüfte Bilder 124 erhalten werden. Dieser Schritt
wird in der Weise ausgeführt, daß Grenzwertvergleiche der zwei
dimensionalen Grautonskala des Bildes innerhalb vorbestimmter
Grautonwerte durchgeführt werden. Das Bild wird in eine binäre
Darstellung für eine Vereinfachung der Analyse übersetzt (eine
logische 1, wenn die Intensität innerhalb des vorgegebenen zwei
dimensionalen Grauskalabereiches liegt und eine logische 0, wenn
die Intensität sich nicht innerhalb dieses Bereiches befindet).
Innerhalb eines zweidimensionalen Grauton-Intensitätsbereiches
bedeutet die Information einen dreidimensionalen Oberflächen
winkel relativ zur Richtung des einfallenden Lichtes und auch
des reflektierten Lichtes senkrecht orientierten Ebene) und dies
bildet die Basis der Übersetzung von dem zweidimensionalen Inten
sitätsprofil zur dreidimensionalen Oberflächenbeschreibung. Von
der Reflektivität der Oberfläche (Schwellwert bezüglich der zwei
dimensionalen Grautonwerte in einem bestimmten Intensitätsbereich)
wird auf die räumliche Verteilung des Oberflächenwinkels der
reflektierenden Flächen geschlossen. Drei Grauton-Schwellwert-
Intensitätsbereiche, die gleichmäßig über die Grautonskala des
zweidimensionalen Bildes verteilt sind, werden vorgesehen und
dazu verwendet, zu entscheiden, ob eine Lötverbindung fehlerhaft
ist. In bestimmten Anwendungsfällen kann es notwendig sein, wei
tere Grauton-Intensitäts-Schwellwertbereiche des zweidimensiona
len Bildes vorzusehen, um mit größerer Präzision eine Lötstelle
einer bestimmten Fehlerkategorie zuzuordnen. Da eine bestimmte
Auflösung der Oberflächenwinkelinformation eine Funktion des
Winkels der einfallenden Beleuchtung ist, muß man, um Oberfläch
enwinkel im Bereich zwischen 100 bis 45° gemäß Fig. 7 und Tabel
le 3 aufzulösen, die ringförmigen Lampen 28 nacheinander ein
schalten. Ein Bild muß für jeden Winkel des Lichteinfalls er
mittelt werden, der sich bei einem bestimmten Einschaltzustand
ergibt. Beim vorliegenden Ausführungsbeispiel wurde allerdings
auf die taktweise Schaltung der ringförmigen Lampen 28 ver
zichtet. Es wurde davon ausgegangen, daß eine ausreichende In
formation dadurch erhalten wird, daß die Lötverbindungen als
flach (0° bis 10°), mäßig steil (10° bis 45°) und sehr steil
(45° bis 90°) klassifiziert wurden. Beim vorliegenden Ausfüh
rungsbeispiel stellen also alle Winkelflächen zwischen 10° und
45° innerhalb der Prüfprogramme 52 eine Winkelebene dar. Die
räumliche Neigung der Lotausfüllung wird durch die Breite der
zweidimensionalen binären Bilddarstellung der einer Schwellen
wertprüfung unterzogenen Punkte hoher Intensität bestimmt. Die
Breite des Bereiches der Punkte hoher Intensität von dem Rand der
Grenzlinie des Anschlusses der Bauelemente wird linear interpo
liert (Interpolation erster Ordnung), um die räumliche Neigung
der Lotausfüllung zu messen und so einen räumlichen Kontaktwin
kel zwischen der Lotausfüllung und dem Lötpunkt der Schaltungs
trägerplatte zu bestimmen. Ebenso wird der räumliche Winkel
zwischen der Lotausfüllung und dem Anschluß zu dem betreffenden
Bauelement ermittelt. Das Auftreten von zuviel Lot und der
Fehler einer kalten Lötstelle, welche durch eine konvexe Lot
leiste oder Lotausfüllung charakterisiert sind, werden durch
Punkteigenschaften der Lotstellentypen bestimmt. Lötstellen
mit zuviel Lot haben halbkugelige topologische Bildcharakter
istiken. Lötstellen mit zuviel Lot zeigen nicht feststellbare
oder unterscheidbare Übergangs-Grenzlinien und die Ausdehnung
binärer schwellwertgeprüfter Daten ist bei Dunkelfeldbeleuch
tung im Bild zu groß, wobei sich nur kleine sichtbare Ober
flächenbereiche ergeben, wenn eine Analyse unter Auflicht durch
geführt wird. Kalte Lötstellen haben einen abrupten Winkelüber
gang zwischen dem Lötpunkt auf der Schaltungsträgerplatte und
der Lotausfüllung. Die Lotausfüllung oder Lotleiste bei der
kalten Lötstelle hat ebenfalls halbkugeliges Profil. Die Lot
ausfüllung ist sehr steil und stellt sich daher als ein Bereich
niedriger Reflexionsintensität sowohl bei Dunkelfeldbeleuch
tung als auch bei Auflichtbeleuchtung dar. Derartige Bereiche
werden mit Schattenbereichen nicht verwechselt, was zum einen
auf der Ausdehnung der Lotfüllung der kalten Lötstelle und zum
anderen auf den Bedingungen beruht, die auf das Vorhandensein
von Schatten schließen ließen, welche durch den Beobachtungs
plan der gedruckten Schaltungsträgerplatte in der Datenbasis
129 vorgegeben sind.
Es sei weiterhin auf Fig. 8A Bezug genommen. Die bezüglich der
Schatten korrigierten Bilder bei 120 erfahren auch eine Gradien
ten-Bildverarbeitung bei 126, woraus gradientenverarbeitete
Bilder bei 128 entstehen. Für die Feststellung von Kanten inner
halb eines Bildes, beispielsweise von geraden Linien, die durch
die Umrisse von Bauelementen erzeugt werden, wird bei dem vor
liegenden Ausführungsbeispiel ein klassischer Gradientendetek
tierungsalgorithmus bei der Bildverarbeitung durchgeführt (Sobel-
Operator, angewendet auf das schattenkorregierte Bild 120), wobei
ein umfassender Operator auf das ursprüngliche Grautonbild ange
wendet wird. Bildverarbeitungsalgorithmen zur Gradientenerfassung
sind dem Fachmann bekannt und beispielsweise in der Veröffent
lichung "Digital Image Processing" von William K. Pratt, John
Wiley and Sons, zweite Ausgabe 1991, beschrieben.
Es sei nunmehr Fig. 8B betrachtet. Die bezüglich Gradienten ver
arbeiteten Bilder von 128 und die Information der Datenbasis 129
über die gedruckte Schaltungsplatte werden zu einer Station 130
gegeben, welche der Detektierung von Bauteil-Verbindungsgrenz
linien dient und welche eine Information 132 erzeugt, welche die
Lage einer Bauteilverbindungsgrenzlinie angibt. Vorliegend versucht
ein Schablonenanpassungsoperator eine beste räumliche Lage an
einem Objekt bekannter Abmessungen zu suchen. Diese Technik dient
zur Ortung der Bauteil-Verbindungsgrenzlinie bei 132. Da Anschlußleiter
freie Bauelemente und Bauelemente mit Anschlußleiter mit
bekannter Toleranz gefertigt werden, reicht die Kenntnis der Aus
richtung des Bauelementes und der Dimensionen des Bauelementes
dazu aus, die Basis für eine Schablone zu bilden (d. h. eine theo
retische Abschätzung der Dimensionen des Objektes). Der Umriß des
Schablonenbereiches wird durch die bezüglich des Gradienten ver
arbeiteten Bilder bei 128 ausgeleuchtet und demgemäß werden die
Abmessungen des Umrisses der Schablone zweidimensional ausge
wertet, um den wahrscheinlichsten Fall für die Lage der Bauteil
verbindungsgrenze bei 32 zu ermitteln. Die Verbindungsgrenzlinien
lage von 32 wird sowohl der Prüfung der kontrollierten Untertei
lung als auch der Histogrammanalyse in vorbestimmten Fenstern 134
und der Kategorieauswahl auf Regelbasis in 150 zugeleitet.
Wie weiterhin aus Fig. 8B zu ersehen ist, wird die Information
über die Lage der Bauteil-Verbindungsgrenzlinie von 132 zusam
men mit den schwellwert bearbeiteten Bildern 124 durch die Prü
fung mit kontrollierter Teilung und durch die Histogramm-
Analyse in den vorbestimmten Fenstern 134 verarbeitet, um die
Daten 136 bezüglich kontrollierter Teilung zu erhalten. Die
kontrollierte Teilung ist die Behandlung vom Anwender definierter
Bereiche (bestimmt bezüglich Lötpunkt, Bauelementverbindungsgren
ze und Lotvolumen) und die mathematische Beschreibung der Bereiche.
Innerhalb eines definierten Bereiches wird eine Messung, darge
stellt als Pixel-Intensitätshistogramm, errechnet. Die Ergebnisse
der Pixel-Intensitätsbestimmungen innerhalb der Fläche werden als
Histogramme dargestellt. Die Histogramme werden für einen Bereich
von Grauton-Intensitätsniveaus in Spalten und Zeilen erzeugt. Bei
dem vorliegenden Ausführungsbeispiel werden die Pixel-Intensitäten
als die Anzahl aneinandergrenzender Pixel innerhalb eines Inten
sitätsbereiches für eine bestimmte Spalte und Zeile einer vom Be
nutzer bestimmten Fläche analysiert. Diese Daten bestimmen die Ge
stalt, den Umriß und die Gleichförmigkeit der Lotausfüllungen.
Die Unterteilungsmethode ermöglicht eine aussagekräftige Beschrei
bung der Lötstelleneigenschaften mit Ausnahme einiger weniger
Merkmale, welche einer zweidimensionalen Beschreibung bedürfen
und dies sind kreisförmige Merkmale. Die Daten der kontrollierten
Unterteilung bei 136 werden zur Kategorieauswahl auf Regelbasis
150 geführt.
Es sei weiterhin Fig. 8B betrachtet. Parallel zu den Daten der
kontrollierten Segmentation oder Unterteilung 136 werden die
schwellwert bearbeiteten Bilder 124 einer Zusammenhangsanalyse
142 mit unkontrollierter Segmentation der Unterteilung zugeführt.
Die binäre Bildinformation wird mathematisch durch die Durchführung
einer Zusammenhangsanalyse beschrieben. Bei diesem Vorgang werden
sämtliche Punkte des Bildes in einander gegenseitig einschließende
Elemente geordnet. Einschließende Punkte des Bildes sind solche,
die durch benachbarte Punkte gleicher Intensitätswerte verbunden
sind. Ein Objekt ist als derjenige Bereich definiert, dessen Umriß
einen Übergang von Intensitätswerten darstellt. Dieser Vorgang
von einer Markierung von Objekten resultiert in einer end
lichen Anzahl von Objekten. Jedes Objekt ist charakterisiert
durch seine räumliche Lage, seinen Umriß, seine Fläche, seine
Kompaktheit, seine Länge und Breite, die Anzahl von Objekten,
die von dem betreffenden Objekt umfaßt werden (die Anzahl von
Objekten innerhalb des Objektes also), und die Nähe des Objektes
zu anderen Objekten. Die Objektverbindungsdaten dienen zur Er
mittlung der Gleichförmigkeit der Lotausfüllungen; des Vorhan
denseins von Verunreinigungen, als Maß für die Struktur der Löt
stelle (zu rauhe Oberflächen sind durch eine erhöhte Dichte von
Objektmarkierungen innerhalb eines Bereiches gekennzeichnet,
während im allgemeinen die Objekte ihrer Art nach in hohem Maße
kompakt sind). Die Resultate der unkontrollierten Unterteilung
bei 144 werden zur Kategorieauswahl auf Regelbasis 150 und zur
Identifizierung 146 von Kreismerkmalen geführt. In hohem Maße
kompakte Bildelemente oder Objekte wie sie bei 144 durch un
kontrollierte Segmentation datenmäßig gewonnen werden, haben
charakteristischer Weise eine kreisförmige Gestalt und kreis
förmige Merkmale sind ein Anzeichen für Lotfehler, beispiels
weise Löcher, Leerräume und Nadeln. Die Kreisformidentifizie
rung 146 prüft Objektkandidaten auf kreisförmige Merkmale, die
innerhalb einer vorbestimmten Größe liegen, welche durch den
Benutzer als für einen Fehler charakteristisch festgelegt wird.
Die resultierenden Kreisformkandidaten 148 werden zur Kategorie
auswahl 150 auf Regelbasis geführt.
Jedes Bauelement auf einer elektronischen Baueinheit 20 hat
eine definierte Baugröße und Toleranz. Zusätzlich ist bei jeder
Art von Bauelementen eine Prüfung nach vorbestimmten Kriterien
vorgesehen, wie sie beispielsweise in Prüfvorschrift MIL-STD
2000A aufgeführt sind. Die Kategorieauswahl auf Regelbasis 150
enthält eine Mehrzahl von Regelsätzen für die verschiedenen Bau
elemente auf einer gedruckten Schaltungsplatte 68 (Fig. 3A
einer elektronischen Baueinheit 20 einschließlich des Regelsatzes
für die gedruckte Schaltungsplatte 68 selbst, wobei die Bauele
mente nicht nur Halbleitergeräte, Kondensatoren und Widerstände,
sondern auch Verbindungsleiter enthalten können. Das Ausgangs
ergebnis von der Kategorieauswahl auf Regelbasis 150 gelangt zu
der Datenanalyse 176. Die Datenanalyse 176 umfaßt eine Mehrzahl
von Analysengruppen für die verschiedenen Eigenschaften von
Lötstellen und gedruckten Schaltungsplatten. Der Ausgang von der
Datenanalyse 176 wird schließlich zu einem Erfahrungs-und Begut
achtungssystem 188 weiter gegeben. Das Erfahrungs- bzw. Begut
achtungssystem 188 enthält eine Mehrzahl von Gruppen von Ent
scheidungsniveaus für das Ergebnis der Datenanalyse 176. Der
Ausgang von dem Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystem 188 liefert
die Ergebnisse der Prüfung 190 und zeigt an, ob das Teil gut ist
oder schlecht ist (258 bzw. 260 in Fig. 15).
In Fig. 9 ist ein Flußdiagramm für die Kategorieauswahl auf Re
gelbasis 150 gezeigt. Die fünf Dateneingänge sind die Daten 136
der kontrollierten Unterteilung, die Daten 144 der unkontrol
lierten Unterteilung, die Information 132 über die Lage der
Bauteil-Verbindungsgrenzlinie, die Kreisformkandidaten 148 und
die Datenbasis 129 der gedruckten Schaltungsplatte. Eine Aus
wahlstation 155 liefert die Daten zu irgendeiner der Gruppen
von Prüfregelstationen 156 bis 172 für das besondere Bauelement
oder für die gedruckte Schaltungsplatte 68 welche geprüft werden
soll. Wenn die Eingangsdaten auf die Gruppe von Regeln nicht zu
treffen, dann werden diese Daten als fehlerhafte Daten 174 er
klärt, welche identifiziert werden und zu einem Benutzer des
Prüfsystems 10 geführt werden.
Die gedruckten Schaltungsträgerplatten-Regeln 172 sind die ein
zige Gruppe unter den Gruppen von Regeln 156 bis 172, die keine
Hierarchie der Regelauswahl haben. Beim vorliegenden Ausführungs
beispiel wird die Prüfung an elektronischen Baueinheiten 20
durchgeführt, die frei von jedweden Makierungen sind (Beschrif
tungen, welche symbolisch den Bezug des Gerätes zum Schaltbild
wiedergeben). Aus diesem Grunde ist die Ebene der Schaltungs
trägerplatte von gleichförmiger optischer Dichte (konstante
Reflektivität), was durch das Prüfsystem 10 geprüft wird. Die
Oberflächen-Reflektivität der gedruckten Schaltungsträgerplatte
68 ist eine Funktion sowohl der obersten Schicht als auch der
inneren Schicht mit den gedruckten Leiterbahnen in einer mehr
schichtigen gedruckten Schaltungsplatte. Die Lage der gedruckten
Schaltungs-Leiterbahnen ist innerhalb der Datenbasis 129 für die
gedruckte Schaltungsplatte definiert und dient als Schablone bei
der Prüfung durch die Prüfprogramme 52, um ihr Vorhandensein in
den kontrolliert unterteilten Daten 136 und den unkontrolliert
unterteilten Daten 144 der von den Kameras 24 und 34 gewonnenen
Bilder zu berücksichtigen. Innerhalb vorbestimmter Flächen, die
durch die gedruckten Schaltungsleiterbahnen diktiert sind, wird
die gedruckte Schaltungsplatte 68 auf Gleichförmigkeit der Ober
flächenreflektivität überprüft, welche einen normalen fehler
freien Zustand anzeigt. Das Vorhandensein von Fremdmaterial auf
der gedruckten Schaltungsplatte 68 führt zu einer Kontrastdif
ferenz, welche als ein Anstieg oder ein Abfall der Reflektivität
detektiert wird. Ein Anstieg der Reflektivität wird durch Lot
spritzer (einschließlich Überbrückungen), Oxide, Flecken, frei
liegende Fasern und Schichtablösung verursacht. Einen Abfall
der Reflektivität wird durch Verkohlungen oder Blasenbildung
auf der Schaltungsplatte verursacht. Die Lage sämtlicher Un
gleichförmigkeiten, die durch das Prüfsystem 10 gefunden wur
den, wird der Bedienungsperson nach Vervollständigung der Prü
fung einer elektronischen Baueinheit 20 bekannt gegeben. Ein
weiteres Merkmal des Prüfsystems 10 ist seine Fähigkeit, eine
Prüfung bezüglich der Maßhaltigkeit der Leiterbahnen der ge
druckten Schaltung durchzuführen, was auf der Prüfung einer
Deckung mit der benützten Schablone beruht, so daß Fehler der
gedruckten Schaltungsplatte 68 entdeckt werden können. Mängel
bezüglich der Maßhaltigkeit der gedruckten Schaltungsleiter
bahnen werden als Fehler wegen der Änderung der Reflektivität
gegenüber der erwarteten Reflektivität entdeckt. Das vorlie
gende Prüfsystem 10 kann dazu verwendet werden, eine gedruckte
Schaltungsträgerplatte 68 zu überprüfen, welche Markierungen
aufweist, vorausgesetzt, daß diese Markierungen räumlich und
abmessungsmäßig innerhalb einer Datenbasis für die gedruckte
Schaltungsplatte identifiziert sind, oder alternativ ein Zei
chenerkennungsuntersystem, beispielsweise ein Gerät mit der
Bezeichnung Model 3400 hergestellt von Firma Cognex Corporation,
Needham, Massachusetts, Vereinigte Staaten von Amerika, in dem
Prüfsystem 10 vorgesehen ist, wobei dieses Untersystem die auf
der gedruckten Schaltungsplatte 68 bewußt angebrachten Makie
rungen identifiziert, so daß sie nicht als fehlerhafte Stellen
gedeutet werden. Die Auswahl von Regeln 172 betreffend der ge
druckten Schaltungsplatte wird an die Datenanalyse 176 (Fig. 8B)
gegeben, wo die Reflektivitätsanalyse durchgeführt wird.
Es sei weiterhin auf Fig. 9 Bezug genommen. Jedes Bauelement
auf der elektronischen Baueinheit 20 ist ein Bauelement be
stimmter Art, bestimmter Größe und bestimmter Toleranzgrenzen.
Zusätzlich, wie zuvor bereits ausgeführt, hat jedes Bauelement
bestimmte Prüfkriterien, wie sie in der eingangs erwähnten Prüf
vorschrift festgehalten sind. Die Spezifikationen von den mehr
fachen individuellen Gruppen von Prüfregeln 156 bis 170 sind
mathematisch mit den eingehenden Daten im Rechner 46 und dem
Beschleunigungsdatenverarbeitungsgerät 47 zu vergleichen.
Weiter ist das Lotvolumen der Lotmenge 64, die auf einem Lot
punkt 66 (Fig. 3B) abgelagert ist, konstant und für eine Bau
element-Verbindungsgrenzlinie, die zentrisch innerhalb der
Umgrenzung des Lötpunktes 66 angeordnet ist, bestimmt. Wenn
ein Bauelement nicht zentrisch relativ zu dem Lötpunkt posi
tioniert ist, sind die topologischen Merkmale der Lotausfül
lungen unterschiedlich. Um diese Situation zu berücksichtigen
ist eine weitere Untergruppe von Regeln vorgesehen, welche
den Entscheidungsfindungsprozeß für die Datenanalyse 176 (Fig.
14) und das Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystem 188 (Fig. 15)
berücksichtigen, wobei diese Regelauswahl die Anschlußleiter
Position für mit Anschlußleiter versehene Bauelemente und sich
axial erstreckende Bauelemente 151, die Regelauswahl für Bau
elemente bestimmter Größe für anschlußleiterfreie Widerstände
152, die Regelauswahl für die Bauelementgröße für anschlußlei
terfreie Kondensatoren 153 und die Regelauswahl für andere
Bauelemente 154 betrifft.
Weiter sei Fig. 10 zur Hand genommen. Die Regelauswahl bezüglich
der Anschlußleiterposition für mit Anschlußleiter versehene und
sich axial erstreckende Bauelemente 151 umfaßt beim vorliegenden
Ausführungsbeispiel drei Untergruppen von Regeln, welche eine
besondere Position der Bauelement-Verbindungsstellen relativ
zum Lötpunkt 66 (Fig. 3A) betreffen. Es handelt sich um die Lage
der Verbindungsgrenzlinienposition links von der zentrierten
Position relativ zu dem Lötpunkt 194, mittig zu der zentralen
Position und rechts gegenüber der zentralen Position (Flußdia
grammbestandteile 194, 196 und 198). Eine zusätzliche Regelun
tergruppe, d. h., Prüfung auf das Nichtvorhandensein von Bauele
menten 200, gilt für Fälle, wenn eine Schaltungsplatte ohne Bau
elemente zur Beurteilung unter Zugrundelegung der Datenbasis 129
für die gedruckte Schaltungsplatte ansteht. Die Prüfung auf das
Fehlen von Bauelementen 200 wertet nicht nur die Abwesenheit
eines Bauelementes, sondern prüft auch bestimmte Fehler, bei
spielsweise Überbrückung, Lötmaterialnadeln und Verunreinigungen.
Die Flußdiagrammstufe 202 ist eine Falle für nichtordnungsgemäße
Daten. Folgend auf die Auswahl 191 für nachfolgende Prüfregeln
schreitet die Prüfung zu einer Regelauswahl fort, die auf den
Abbiegungszustand der Anschlußleiter für mit Anschlußleiter ver
sehene und sich axial ersteckende Bauelemente bei 192 zielt.
Es sei nun auf Fig. 11 Bezug genommen. Wenn die Prüfregeln be
züglich der Anschlußleiterbiegung für mit Anschlußleiter verseh
ene und sich axial ersteckende Bauelemente bei 92 vorgenommen
wird, so werden die Daten zunächst zu der Prüfstation 204 zur
Überprüfung der Anschlußleiterbiegung weitergeleitet. Die Prüf
station 204 zur Überprüfung der Anschlußleiterbiegungslage
überprüft die Anschlußleiterbiegung von Bauelementen durch Über
prüfung der topologischen Daten, die auf einen sehr steilen Win
kel entsprechend der Abbiegung hinweisen. Die Biegung wird in
bekannten Abmessungen durchgeführt und daher meldet die Biegung
vorbestimmte Merkmale an das Prüfsystem 10. Wird eine Anschluß
leiterbiegung in bestimmter Lage aufgefunden, so gibt der Wähler
206 die Weiterverarbeitung an eine von drei darauffolgenden
Prüfregelstationen weiter, nämlich mit dem Inhalt der Anschluß
leiterbiegung, verschoben in positiver Richtung relativ zur er
warteten Lage 208, der Anschlußleiterbiegung, verschoben in eine
Lage zentrisch zur erwarteten Lage 210 und einer Anschlußleiter
biegung verschoben negativ relativ zur erwarteten Lage 212, wobei
diese Aussagen eindeutig der Lage der Anschlußleiterbiegung re
lativ zu dem Lötpunkt zugeordnet sind. Nach Ausführung dieser
Prüfung liefert der Wähler 206 seine Daten zu der Datenanalyse
176. Wenn Fehlerdaten gewonnen werden, so wird die Fehlerdaten
station 214 gewählt und die Routine schreitet über den Wähler
206 zur Datenanalyse 176 fort.
Es sei nunmehr auf Fig. 12 der Zeichnung Bezug genommen. Wenn
eine Regelauswahl auf der Basis einer Bauelementgröße für an
schlußlose Widerstände 152 erfolgt, wobei die Auswahl aus dem
vorhergehenden Auswahlprozeß (Fig. 9) resultiert, werden die
Daten bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel von dem Wähler
216 zu dem Prüfkriterium bezüglich anschlußleiterfreier Wider
standselemente der Größe A 218 geführt, da es sich hier um
die einzige Größe von Widerständen handelt, die bei dem Aus
führungsbeispiel auf der elektronischen Baueinheit 20 vorhanden
ist. Wenn kein Bauteil dieser Art vorgesehen ist, dann liefert
der Wähler 216 die Daten zu dem Prüfpunkt für kein Bauelement
220. Wenn unzutreffende Daten vorgefunden werden, dann wird der
Verfahrensschritt von fehlerhaften Daten bei 222 angewählt.
Unmittelbar nach Auswahl eines Regelobjektes schreitet die Ver
arbeitung zur Datenanalyse 176 vor.
Es sei nun Fig. 13 betrachtet. Wenn die Regelauswahl bezüglich
der Bauelementgröße für anschlußleiterfreie Kondensatoren bei
153 vorgenommen ist, was bei dem vorausgehenden Auswahlvorgang
(siehe Fig. 9) geschieht, so findet eine weitere Auswahl von
Untergruppen von Regeln bezüglich der Größe des Bauteils in dem
Wähler 224 statt. Das vorliegenden Ausführungebeispiel hat fünf
auf die Baugröße zielende Untergruppen von Regeln 226 bis 234,
welche für die Kondensatorgrößen relevant sind, die auf der
elektronischen Baueinheit 20 anzutreffen sind. Eine weitere
Untergruppe von Regeln, nämlich die Prüfung auf das Fehlen von
Bauelementen bei 236, wird von dem Wähler 224 ausgewählt, wenn
diese Bedingung zutrifft. Wenn unzutreffende Daten getroffen
werden, so wird das Vorhandensein fehlerhafter Daten bei 238
ausgewählt. Nach Beendigung der Auswahl von Untergruppen von
Regeln schreitet die Verarbeitung zur Datenanalyse 176 fort.
Nunmehr wird Fig. 14 zur Hand genommen. Hier ist ein Flußdia
gramm der Datenanalysefunktionen 176 gezeigt, welche eine To
pologieanalyse 180, eine Reflektivitätsanalyse 182 und eine
Oberflächenstrukturanalyse 184 umfassen. Jede Regeluntergruppe
besitzt eine Gruppe bevorzugter Parameter, welche die zu
prüfende Lötverbindung beschreiben. Die Parameter innerhalb
einer Regeluntergruppe zielen auf die Abmessungen des Bauele
mentes, das erwartete Lotvolumen, die Topologie der Lötverbin
dung, die Oberflächenreflektivität des Lotes und der gedruckten
Schaltungsplatte und auf die Struktureigenschaften der Ober
fläche der Lötverbindung ab. Die Parameter werden als kombi
nierter Informationsgehalt des Bildes analysiert, nämlich der
Topologie und der Reflektivität. Strukturinformationen werden
durch die gewonnenen Topologiedaten geführt. Fehlerhafte Daten
von 186 gehen den Weg für unbrauchbare Informationen. Die To
pologieanalyse 180 führt in erster Linie eine Analyse der Ober
flächenwinkel durch, welche zwischen 10° und 45° nahe der Bau
teilverbindungsumgrenzungslinie liegen müssen, und eine Lot
ausfüllung repräsentieren. Die Reflektivitätsanalyse 182 um
faßt die Untersuchung der Lotausfüllungen bezüglich spezivi
scher Reflektivitätseigenschaften, da besondere Reflektivitäts
bereiche ein Anzeichen für eine gute Lötstelle für jedes be
sondere Verfahren sind. Charakteristischer Weise ist eine in
hohem Maße spiegelnde Oberfläche einer Lötstelle ein Anzeichen
für eine gute Lötstelle. Die Oberflächenstrukturanalyse 184
prüft den Texturgehalt von Lötstellen. Eine gute Lötstelle
besitzt eine glatte Oberfläche. Eine Oberflächenstruktur oder
Textur ist ein Anzeichen für ungeeignete Temperaturen oder
eine Bewegung zwischen den zu verbindenden Flächen beim Her
stellungsvorgang. Die Oberflächenstrukturinformation ist in dem
Bildelementverbindungsprozeß enthalten, der nach der Schwell
wertverarbeitung an einem Bild durchgeführt wird. Ein Überfluß
an Einzelobjekten, die durch die Bildobjekt-Verbindungsanalyse
festgestellt wird, ist ein Anzeichen für eine rauhe Oberflächen
struktur. Ein solcher Zustand ist nicht für eine gute Lötver
bindung kennzeichnend. Auch isolierte Kreismerkmale sind Anzei
chen von Lötstellenfehlern, wie Nadeln, Leerräume, Verunreini
gungen oder Gruben.
Immer noch auf Fig. 14 bezugnehmend ist festzustellen, daß dann,
wenn die Topologieanalyse 180, die Reflektivitätsanalyse 182 und
die Oberflächenstrukturanalyse 184 durchgeführt sind, die Er
gebnisse zu dem Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystem 188 weiter
gegeben werden. Während des Vergleiches der Regeln, der bei der
Datenanalyse 176 stattfindet, wird eine Gruppe von Korrelations
kriterien für jeden definierten Parameter aufgestellt. Eine enge
Korrelation wird zur Anzeige einer perfekten Übereinstimmung
mit dem vorbestimmten erwarteten Wert des betreffenden Para
meters angestrebt, der vom Benutzer definiert ist. Die Gruppe
von Korrelationsparametern wird innerhalb des Erfahrungs- bzw.
Begutachtungssystems 188 zusammen untersucht. Das System 188
gibt sein Analyseergebnis als Begutachtungsmaß der Ergebnisse
der Prüfung der Lötverbindung ab. Das Begutachtungsmaß wird
vom Benutzer als ein Kriterium ausgewählt, um das Prüfergebnis
190 für eine Entscheidung bezüglich eines brauchbaren Teiles
oder eines Ausschußteiles zu wählen.
Gemäß Fig. 15 führt das Begutachtungs- bzw. Erfahrungssystem
188 mit seiner Analyse zu einem Begutachtungsmaß, das direkt
proportional zu der Gesamtsumme der Korrelationskriterien ist
und dieses Maß bildet Basis für das endgültige Ergebins bezüg
lich bestandener Prüfung 258 oder nicht bestandener Prüfung
260. Die Aufmerksamkeit des Prüfsystems wird von dem Benutzer
kontrolliert, was im Flußdiagramm durch die Benutzer-Schwell
wertbegutachtungsprüfung 256 angedeutet ist. Ein hoher vom
Benutzer festgesetzter Wert für die Benutzer-Schwellwertbe
gutachtungsprüfung 256 entspricht einer Einordnung von Löt
verbindungen auf der Seite der bestandenen Prüfung 258
(einer guten Lötverbindung) nur dann, wenn die Korrelations
kriterien sehr genau den vom Benutzer festgesetzten theo
retischen Werten entsprechen. Ein Optimum der Benutzer-
Schwellwertbegutachtungsprüfung 256 hängt von der Ordnungs
mäßigkeit des betreffenden Herstellungsverfahrens ab. Jedes
Ergebnis einer bestandenen Prüfung 258 oder einer nicht be
standenen Prüfung 260 ist von einem normalisierten Korrela
tionsmaß 254 begleitet, welches dazu dient, die Herstellungs
variablen (aufgeführt in Tabelle 1), welche zu kontrollieren
sind, zu überwachen. Vorausgesetzt, daß das betreffende Ver
fahren geregelt wird, kann ein stabiler Bereich des Verfahrens
aufgefunden werden, bei dem sich für die Benutzer-Begutachtungs
schwellwertprüfung 256 ein Optimum ergibt, so daß eine maximale
Genauigkeit der Ergebnisse der bestandenen Prüfung 258 und der
nicht bestandenen Prüfung 260 erhalten wird.
Aus Fig. 15 ist weiter ersichtlich, daß das Erfahrungs- bzw.
Begutachtungssystem 188 eine Gruppe von Richtlinien enthält,
die eine Hierarchie der Folge von Merkmalseigenschaften dar
stellen. Das System 188 enthält einen ersten Entscheidungs
niveaubaum 240, einen zweiten Entscheidungsniveaubaum 246 und
einen dritten Entscheidungsniveaubaum 250. Innerhalb jedes
Niveaus eines Entscheidungsbaumes befindet sich eine Gruppe
von Knoten, wobei jeder Knoten einer bestimmten Bewertung
(d. h. ein Knoten je Regel) entspricht, welche durchgeführt
wird. Ferner kann jeder Knoten mit einer vom Benutzer fest
gelegten optimalen Verstärkung versehen sein, wodurch die
Wichtigkeit des betreffenden Knotens und der zugehörigen
Regel eingeführt wird. Setzt man eine bestimmte Gruppe von
Gewichtungen voraus, die vom Benutzer festgelegt werden, so
interpretiert das Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystem die
gesamte Summe von Korrelationsfunktionen der Reihe nach durch
die Ausbreitung über die Entscheidungsniveaus. Das Maß der
Korrelationsfunktion je Entscheidungsniveau ist das Kriterium
für die Ausbreitung zu den folgenden Niveaus der Verarbeitung
oder für den Abbruch. Dies geschieht in der ersten Detektie
rung 244 des Abbruchzustandes, der zweiten Detektierung 248
des Abbruchzustandes und der dritten Detektierung 252 des
Abbruchzustandes an den Entscheidungspunkten. Ein JA der De
tektierung des Abbruchzustandes aufgrund einer Abweichung der
Gesamtsumme der Korrelationsfunktion je Entscheidungsniveau
führt die Information einer Abnormalität der zu prüfenden Löt
verbindung und der nächste Schritt ist die Weiterleitung zur
nicht bestandenen Prüfung 260. Wenn jedoch ein NEIN bezüglich
des Abbruches detektiert wird, was auf ein Nahekommen der Ge
samtsumme der Korrelationsfunktion an den Sollwert in jedem
Entscheidungsniveau hinweist, dann bewirkt dies das Weiter
schreiten zu dem nächsten Niveau des Entscheidungsbaumes in der
Analyse. Das schließlich abgegebene Ergebnis des Begutachtungs-
bzw. Erfahrungssystems 188 ist das Ergebnis der bestandenen
Prüfung 258 oder nicht bestandenen Prüfung 260. Die Konstruk
tion der Entscheidungsbäume kann komplex sein. Es zeigt sich
aber, daß einfache Entscheidungsbäume vorgesehen sein können
und iterativ optimiert werden können, um den gewünschten
Prüfvorgang zu verwirklichen. Ein Herstellungsverfahren, bei
dem abweichende Variable verwendet werden und verschiedene
Herstellungstechniken zum Einsatz kommen, erfordert aber eine
Modifikation der Gewichtungsniveaus in den Entscheidungsbäumen.
Ein alternatives Erfahrungs- bzw. Begutachtungssystem 188 ent
hält ein neutrales Netzwerk 242. Ein solches wird parallel zu
dem ersten Entscheidungsbaum 240 betrieben und verstärkt den
Ausgang der ersten Detektierung 244 des Abbruchzustandes. Eine
solche Unterstützung oder Verstärkung stellt eine zusätzliche
Fehlersicherung in dem Prüfsystem dar. Ein neutrales Netzwerk
kann auch parallel zu dem Entscheidungsbaum 246 des zweiten
Niveaus und dem Entscheidungsbaum 250 des dritten Niveaus vor
gesehen werden. Eine Mißinterpretation der Resultate des Prüf
systems 10 kann auftreten, wenn ein Benutzer unbeabsichtigt
Fehler in den Verband der Gewichtungsfunktionen eingeführt hat.
Verschiedene neutrale Netzwerke sind schon als brauchbare Bei
spiele gebaut worden, nämlich die dem Fachmann bekannten Systeme
mit der Bezeichnung Back-Propagation, Nestor und Adaptive
Resonance Theory Type 2. Das bevorzugte Netzwerk ist Nestor
wegen der Einfachheit der Einübung dieses Netzwerkes. Ein Netz
werk mit einer begrenzten Zahl von Neuronen ist geeignet für
einen rudimentären Entscheidungsfindungsprozeß, wie er in dem
Entscheidungsbaum 240 des ersten Pegels durchgeführt wird.
Für die Entscheidungsbäume 246 und 250 des zweiten bzw. des
dritten Niveaus bedarf das jeweilige Netzwerk einer größeren
Anzahl von Neuronen. Das neutrale Netzwerk 242 befindet sich
in dem Rechnerbeschleuniger 47 als Teil des Rechners 46.
Claims (34)
1. Einrichtung zur automatischen visuellen Prüfung elektrischer
und elektronischer Baueinheiten, gekennzeichnet durch
Mittel zur Positionierung der Baueinheit während der Prüfung, durch eine erste Lichtquelle, die in Abstimmung auf die Positionie rungsmittel oberhalb der Baueinheit angeordnet ist, um die Baueinheit zu beleuchten,
durch erste, oberhalb der ersten Lichtquelle angeordnete Fühlermittel zur Bestimmung von reflek tiertem Licht aus der ersten Lichtquelle zur Gewinnung eines ersten Bildes, ferner
durch eine ebenfalls in Abstimmung auf die Positionierungmittel oberhalb der Baueinheit angeordnete zweite Lichtquelle zur Beleuchtung der Baueinheit,
durch zweite Fühler mittel, welche oberhalb der zweiten Lichtquelle angeordnet sind und zur Detektierung der Intensität von reflektiertem Licht aus der zweiten Lichtquelle dienen,
durch Signalverarbeitungsmittel zur Kompensation von Ungleichförmigkeiten aufgrund der ersten Lichtquelle und der ersten Fühlermittel im ersten Bild und zur Kompensation von Ungleichförmigkeiten aufgrund der zweiten Licht quelle und der zweiten Fühlermittel im zweiten Bild, weiterhin
durch in den Signalverarbeitungsmitteln enthaltene Mittel zur Durchführung einer zweidimensionalen Intensitätsumsetzung am ersten Bild und am zweiten Bild zur Erzeugung einer dreidimen sionalen Topographie der Baueinheit und
durch ebenfalls in den Signalverarbeitungsmitteln enthaltene Mittel zur Analyse der dreidimensionalen Topographie und der Intensität des reflek tierten Lichtes zur Bestimmung des Zustandes der zu prüfenden Baueinheit.
Mittel zur Positionierung der Baueinheit während der Prüfung, durch eine erste Lichtquelle, die in Abstimmung auf die Positionie rungsmittel oberhalb der Baueinheit angeordnet ist, um die Baueinheit zu beleuchten,
durch erste, oberhalb der ersten Lichtquelle angeordnete Fühlermittel zur Bestimmung von reflek tiertem Licht aus der ersten Lichtquelle zur Gewinnung eines ersten Bildes, ferner
durch eine ebenfalls in Abstimmung auf die Positionierungmittel oberhalb der Baueinheit angeordnete zweite Lichtquelle zur Beleuchtung der Baueinheit,
durch zweite Fühler mittel, welche oberhalb der zweiten Lichtquelle angeordnet sind und zur Detektierung der Intensität von reflektiertem Licht aus der zweiten Lichtquelle dienen,
durch Signalverarbeitungsmittel zur Kompensation von Ungleichförmigkeiten aufgrund der ersten Lichtquelle und der ersten Fühlermittel im ersten Bild und zur Kompensation von Ungleichförmigkeiten aufgrund der zweiten Licht quelle und der zweiten Fühlermittel im zweiten Bild, weiterhin
durch in den Signalverarbeitungsmitteln enthaltene Mittel zur Durchführung einer zweidimensionalen Intensitätsumsetzung am ersten Bild und am zweiten Bild zur Erzeugung einer dreidimen sionalen Topographie der Baueinheit und
durch ebenfalls in den Signalverarbeitungsmitteln enthaltene Mittel zur Analyse der dreidimensionalen Topographie und der Intensität des reflek tierten Lichtes zur Bestimmung des Zustandes der zu prüfenden Baueinheit.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Positionierungsmittel Vorrichtungen zur Bewegung der Baueinheit
in X-Achsenrichtung und in Y-Achsenrichtung enthalten.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Positionierungsmittel Vorrichtungen zur Bewegung der Baueinheit
oder ihrer Teile auf einem kreisförmigen Weg enthalten.
4. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die erste Lichtquelle eine Dunkelfeldbe
leuchtungseinrichtung für nicht ebene Flächen der Bauein
heit enthält.
5. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die zweite Lichtquelle eine Auflicht- Be
leuchtungseinrichtung für ebene Oberflächen der Baueinheit
enthält.
6. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß die ersten Fühlermittel und die zweiten
Fühlermittel zur Gewinnung des ersten bzw. des zweiten Bil
des Übertragungseinrichtungen zur Übergabe des ersten und des
zweiten Bildes an die Signalverarbeitungsmittel enthalten.
7. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Kompensationsmittel auch Mittel zur
Kompensation von Schatten von der ersten Lichtquelle im ersten
Bild enthalten.
8. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Mittel zur Durchführung einer zweidi
mensionalen Intensitätsumsetzung Einrichtungen zur Umwandlung
der Intensitätsübersetzung in eine Oberflächenwinkeldarstel
lung enthalten.
9. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Mittel zur Durchführung einer zweidi
mensionalen Intensitätsübersetzung Einrichtungen zur Durch
führung einer Gradientenanalyse, zur Untersuchung der Ver
bindungsgrenzen eines Bauelementes, Einrichtungen zur Detek
tierung bei kontrollierter Unterteilung, Einrichtungen zur
Detektierung bei nicht kontrollierter Unterteilung und Ein
richtungen zur Identifizierung von Kreisformen im ersten Bild
und im zweiten Bild enthalten, um eine dreidimensionale To
pographie zu erzeugen.
10. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Analysierungsmittel zur Analyse der
dreidimensionalen Topographie Mittel für einen Vergleich der
erhaltenen dreidimensionalen Topographie mit vorbestimmten
Kriterien einer dreidimensionalen Topographie enthalten.
11. Einrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß
die Analysierungsmittel ein Erfahrungs- bzw. Begutachtungs
system enthalten, das eine Mehrzahl von Entscheidungsniveaus
aufweist.
12. Einrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die Analysierungsmittel ein Erfahrungs- bzw. Begutachtungs
system enthalten, das mit mindestens einem neutralen Netzwerk
ausgestattet ist.
13. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Analysierungsmittel zur Analyse der drei
dimensionalen Topographie Einrichtungen zur Bestimmung eines
fehlerhaften Zustandes von Lötverbindungen, von Bauelementen
und von gedruckten Schaltungsmaterialien der betreffenden Bau
einheit enthalten.
14. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch ge
kennzeichnet, daß die erste Lichtquelle eine Anzahl von Ring
lampen enthält.
15. Einrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß
jede der Ringlampen in Abhängigkeit von einem Steuersignal der
Signalverarbeitungsmittel einzeln einschaltbar ist.
16. Einrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ringlampen in Abhängigkeit von einem Steuersignal der
Signalverarbeitungsmittel gleichzeitig einschaltbar sind.
17. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch ge
kennzeichnet, daß zu ihrer Steuerung ein Rechner vorgesehen ist,
daß die Positionierungsmittel die Gestalt eines Positionie
rungstisches mit einer Mehrzahl von Einstellachsen zur Posi
tionierung einer zu prüfenden Baueinheit in Abhängigkeit von
Steuersignalen des Rechners haben, daß die beiden Lichtquellen
in Gestalt einer Dunkelfeld-Beleuchtungseinrichtung und einer
Auflicht-Beleuchtungseinrichtung nebeneinander oberhalb der zu
prüfenden Baueinheit angeordnet sind, daß die beiden Lichtquel
len in Gestalt zweier Kameras an einem ersten, in Richtung
einer ersten Z-Achse bzw. an einem zweiten, in Richtung einer
zweiten Z-Achse bewegbaren Teil des Positionierungstisches
montiert sind und das die Signalverarbeitungsmittel Bestand
teil des Rechners bilden.
18. Einrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß
die von den beiden Kameras gesammelten Bildinformationen zu dem
Rechner übertragbar sind.
19. Verfahren zur automatischen visuellen Prüfung elektrischer
und elektronischer Baueinheiten, gekennzeichnet durch folgende
Verfahrensschritte:
- - Positionieren der Baueinheit zur Prüfung durch Positionie rungsmittel, die eine Mehrzahl von Einstellachsen haben,
- - Beleuchten der Baueinheit mit einer ersten Lichtquelle,
- - Detektieren der Intensität von reflektiertem Licht der ersten Lichtquelle mittels erster Fühlermittel zur Er zeugung eines ersten Bildes,
- - Repositionieren der Baueinheit zur Prüfung,
- - Beleuchten der Baueinheit mit einer zweiten Lichtquelle,
- - Detektieren der Intensität von reflektiertem Licht von der zweiten Lichtquelle mit zweiten Fühlermitteln zur Erzeu gung eines zweiten Bildes,
- - Kompensieren des ersten Bildes in Signalverarbeitungsmit teln bezüglich Ungleichförmigkeit aufgrund der ersten Lichtquelle und der ersten Fühlermittel, sowie des zweiten Bildes bezüglich Ungleichförmigkeiten aufgrund der zweiten Lichtquelle und der zweiten Fühlermittel,
- - Durchführen einer zweidimensionalen Intensitätsüberset zung an dem ersten Bild und dem zweiten Bild in den Signalverarbeitungsmitteln zur Erzeugung einer dreidi mensionalen Topographie der Baueinheit und schließlich
- - Analysieren der dreidimensionalen Topographie und der Intensität des reflektierten Lichtes in den Signalver arbeitungsmitteln zur Bestimmung des Zustandes der Bau einheit.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß
der Schritt des Positionierens der Baueinheit deren Bewegung
in Richtung einer X-Achse und einer Y-Achse umfaßt.
21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schritt des Positionierens der Baueinheit deren Bewegung
in einer Kreisrichtung oder im Sinne einer Drehung umfaßt.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Schritt des Beleuchtens der Baueinheit
mit einer ersten Lichtquelle eine Dunkelfeldbeleuchtung der
Flächen der Baueinheit umfaßt.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 22, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Schritt des Beleuchtens der Baueinheit
mit einer zweiten Lichtquelle eine Auflicht-Beleuchtung der
Oberfläche der Baueinheit umfaßt.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 23, dadurch ge
kennzeichnet, daß sich an den Schritt der Erzeugung des ersten
und des zweiten Bildes die Übertragung der Bildinformationen
an die Signalverarbeitungsmittel anschließt.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 24, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Schritt des Kompensieren des ersten
Bildes und des zweiten Bildes das Kompensieren des ersten
Bildes bezüglich Schatten von der ersten Lichtquelle umfaßt.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 25, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Schritt der Durchführung einer zweidi
mensionalen Intensitätsübersetzung den Schritt der Umwandlung
dieser Intensitätsübersetzung in eine Oberflächenwinkeldar
stellung umfaßt.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 26, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Verfahrenschritt der Durchführung einer
zweidimensionalen topologischen Übersetzung die Durchführung
einer Gradientenanalyse, die Detektierung der Verbindungsgren
ze eines Bauteils, eine kontrollierte Unterteilung einer Bild
information, eine unkontrollierte Unterteilung einer Bildin
formation und die Feststellung einer Kreisform im ersten Bild
und im zweiten Bild zur Gewinnung der dreidimensionalen Topo
graphie umfaßt.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 27, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Analysieren der dreidimensionalen To
pographie den Schritt eines Vergleichs derselben mit einem
vorbestimmten Kriterium der dreidimensionalen Topographie
umfaßt.
29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß
der Vergleich unter Verwendung eines Erfahrungs- bzw. Begut
achtungssystems mit einer Mehrzahl von Entscheidungsniveaus
durchgeführt wird.
30. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet,
daß der Vergleichsschritt unter Verwendung eines Erfahrungs-
bzw. Begutachtungssystems durchgeführt wird, das mindestens
ein neutrales Netzwerk enthält.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 30, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Bestimmung des Zustandes der zu prüfen
den Baueinheit das Detektieren eines Fehlerzustandes eines
Bauelementes, der Lötstellen und des gedruckten Schaltungsma
terials umfaßt.
32. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 31, dadurch ge
kennzeichnet, daß Beleuchten der Baueinheit mit einer ersten
Lichtquelle vermittels einer Mehrzahl von Ringlampen geschieht.
33. Verfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß
die Ringlampen in Abhängigkeit von einem Steuersignal der
Signalverarbeitungsmittel einzeln und/oder der Reihe nach ein
schaltbar sind.
34. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 33, dadurch ge
kennzeichnet, daß zur Positionierung der Baueinheit ein von
Steuersignalen eines Rechners betätigter Positionierungstisch
verwendet wird, der eine Mehrzahl von Einstellachsen hat, daß
die beiden Lichtquellen in Gestalt von einer Dunkelfeldbeleuch
tungseinrichtung und einer Auflicht-Beleuchtungseinrichtung
oberhalb der zu prüfenden Einheit nebeneinander angeordnet
werden, daß die Fühlermittel zur Gewinnung der beiden Bilder
an in einer Z1-Achsenrichtung bzw. einer Z2-Achsenrichtung be
wegbaren Teilen des Positionierungstisches in Gestalt von
Kameras montiert werden, daß die Bildkompensationen in den
innerhalb des Rechners vorgesehenen Signalverarbeitungsmitteln
durchgeführt werden und daß das Ergebnis des Vergleiches zur
Dektierung des Fehlers der Baueinheit in einem Erfahrungs- bzw.
Begutachtungssystem analysiert wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72775891A | 1991-07-10 | 1991-07-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4222804A1 true DE4222804A1 (de) | 1993-04-01 |
Family
ID=24923951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4222804A Withdrawn DE4222804A1 (de) | 1991-07-10 | 1992-07-10 | Einrichtung und verfahren zur automatischen visuellen pruefung elektrischer und elektronischer baueinheiten |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5455870A (de) |
JP (1) | JPH05223532A (de) |
DE (1) | DE4222804A1 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4307590A1 (de) * | 1993-03-10 | 1994-09-15 | Elli Tutsch | Visuelles Inspektionsverfahren und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
EP0871027A2 (de) * | 1997-04-07 | 1998-10-14 | Hewlett-Packard Company | Prüfung gedruckter Leiterplatten |
WO1999020093A1 (de) * | 1997-10-08 | 1999-04-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur beleuchtungseinstellung in einer einrichtung zur lageerkennung und/oder qualitätskontrolle von bauelementen und/oder substraten |
SG80529A1 (en) * | 1993-06-14 | 2001-05-22 | Omron Tateisi Electronics Co | Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatus |
US6362877B1 (en) | 1993-04-21 | 2002-03-26 | Omron Corporation | Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatuses |
EP1524060A2 (de) * | 2000-11-10 | 2005-04-20 | Unitive Electronics, Inc. | Verfahren zum Positionieren von Bauteilen mit Hilfe flüssiger Anstriebsmittel und gebrauchte Struktur. |
CN109406577A (zh) * | 2018-09-12 | 2019-03-01 | 深圳阜时科技有限公司 | 一种检测方法 |
Families Citing this family (154)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6067379A (en) | 1988-12-09 | 2000-05-23 | Cognex Corporation | Method and apparatus for locating patterns in an optical image |
IL99823A0 (en) * | 1990-11-16 | 1992-08-18 | Orbot Instr Ltd | Optical inspection method and apparatus |
EP0610916A3 (de) * | 1993-02-09 | 1994-10-12 | Cedars Sinai Medical Center | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung vorzugsweiser segmentierter numerischer Bilder. |
CA2113752C (en) * | 1994-01-19 | 1999-03-02 | Stephen Michael Rooks | Inspection system for cross-sectional imaging |
KR0168243B1 (ko) * | 1994-12-19 | 1999-05-01 | 다떼이시 요시오 | 관측 영역 설정 방법 및 그 장치와, 이 관측 영역 설정 방법을 이용한 외관 검사 방법 및 그 장치 |
IT1273968B (it) * | 1995-02-24 | 1997-07-11 | Finmeccanica Spa | Apparecchiatura per il rilevamento ottico di difetti superficiali in particolare per nastri laminati |
US5751910A (en) * | 1995-05-22 | 1998-05-12 | Eastman Kodak Company | Neural network solder paste inspection system |
WO1996039619A1 (en) * | 1995-06-06 | 1996-12-12 | Kla Instruments Corporation | Optical inspection of a specimen using multi-channel responses from the specimen |
US6288780B1 (en) | 1995-06-06 | 2001-09-11 | Kla-Tencor Technologies Corp. | High throughput brightfield/darkfield wafer inspection system using advanced optical techniques |
US6026176A (en) | 1995-07-25 | 2000-02-15 | Cognex Corporation | Machine vision methods and articles of manufacture for ball grid array inspection |
JP3335826B2 (ja) * | 1995-12-05 | 2002-10-21 | 株式会社日立製作所 | はんだバンプの測定装置 |
US5739846A (en) * | 1996-02-05 | 1998-04-14 | Universal Instruments Corporation | Method of inspecting component placement accuracy for each first selected circuit board to be assembled of a batch |
US5872870A (en) | 1996-02-16 | 1999-02-16 | Cognex Corporation | Machine vision methods for identifying extrema of objects in rotated reference frames |
GB2310557B (en) * | 1996-02-21 | 2000-05-10 | Rank Taylor Hobson Ltd | Image processing apparatus |
US5909504A (en) | 1996-03-15 | 1999-06-01 | Cognex Corporation | Method of testing a machine vision inspection system |
US6298149B1 (en) * | 1996-03-21 | 2001-10-02 | Cognex Corporation | Semiconductor device image inspection with contrast enhancement |
US5949901A (en) * | 1996-03-21 | 1999-09-07 | Nichani; Sanjay | Semiconductor device image inspection utilizing image subtraction and threshold imaging |
US6259827B1 (en) | 1996-03-21 | 2001-07-10 | Cognex Corporation | Machine vision methods for enhancing the contrast between an object and its background using multiple on-axis images |
US5978502A (en) | 1996-04-01 | 1999-11-02 | Cognex Corporation | Machine vision methods for determining characteristics of three-dimensional objects |
US5859924A (en) * | 1996-07-12 | 1999-01-12 | Robotic Vision Systems, Inc. | Method and system for measuring object features |
US6137893A (en) | 1996-10-07 | 2000-10-24 | Cognex Corporation | Machine vision calibration targets and methods of determining their location and orientation in an image |
US5734475A (en) * | 1996-10-15 | 1998-03-31 | Ceridian Corporation | Process of measuring coplanarity of circuit pads and/or grid arrays |
US5917588A (en) * | 1996-11-04 | 1999-06-29 | Kla-Tencor Corporation | Automated specimen inspection system for and method of distinguishing features or anomalies under either bright field or dark field illumination |
US6075883A (en) * | 1996-11-12 | 2000-06-13 | Robotic Vision Systems, Inc. | Method and system for imaging an object or pattern |
US5960125A (en) | 1996-11-21 | 1999-09-28 | Cognex Corporation | Nonfeedback-based machine vision method for determining a calibration relationship between a camera and a moveable object |
KR19980039100A (ko) * | 1996-11-27 | 1998-08-17 | 배순훈 | 부품의 클린칭 방향을 이용한 미삽 검사장치 및 방법 |
US5760893A (en) * | 1996-12-24 | 1998-06-02 | Teradyne, Inc. | Method and apparatus for inspecting component placement and solder connection in printed circuit board manufacture |
US5953130A (en) | 1997-01-06 | 1999-09-14 | Cognex Corporation | Machine vision methods and apparatus for machine vision illumination of an object |
US6075881A (en) | 1997-03-18 | 2000-06-13 | Cognex Corporation | Machine vision methods for identifying collinear sets of points from an image |
US5974169A (en) | 1997-03-20 | 1999-10-26 | Cognex Corporation | Machine vision methods for determining characteristics of an object using boundary points and bounding regions |
US6330354B1 (en) * | 1997-05-01 | 2001-12-11 | International Business Machines Corporation | Method of analyzing visual inspection image data to find defects on a device |
KR100222985B1 (ko) | 1997-05-02 | 1999-10-01 | 윤종용 | 비디오보드 검사용 화면표시방법 |
US6141033A (en) | 1997-05-15 | 2000-10-31 | Cognex Corporation | Bandwidth reduction of multichannel images for machine vision |
US6608647B1 (en) | 1997-06-24 | 2003-08-19 | Cognex Corporation | Methods and apparatus for charge coupled device image acquisition with independent integration and readout |
US5978093A (en) * | 1997-07-17 | 1999-11-02 | Mcms, Inc. | Method for calibrating surface mounting processes in printed circuit board assembly manufacturing |
US6381355B1 (en) * | 1997-08-19 | 2002-04-30 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Inspection method for comparison of articles |
AU9399398A (en) * | 1997-09-22 | 1999-04-12 | Intelligent Reasoning Systems, Inc. | Automated visual inspection system and process for detecting and classifying defects |
US5978080A (en) | 1997-09-25 | 1999-11-02 | Cognex Corporation | Machine vision methods using feedback to determine an orientation, pixel width and pixel height of a field of view |
US6304680B1 (en) | 1997-10-27 | 2001-10-16 | Assembly Guidance Systems, Inc. | High resolution, high accuracy process monitoring system |
US6330353B1 (en) * | 1997-12-18 | 2001-12-11 | Siemens Corporate Research, Inc. | Method of localization refinement of pattern images using optical flow constraints |
US6173070B1 (en) * | 1997-12-30 | 2001-01-09 | Cognex Corporation | Machine vision method using search models to find features in three dimensional images |
US6025854A (en) | 1997-12-31 | 2000-02-15 | Cognex Corporation | Method and apparatus for high speed image acquisition |
US6141114A (en) * | 1998-01-08 | 2000-10-31 | Xerox Corporation | Edge enhanced error diffusion with artifact correction in areas of highlights and shadows |
US6915006B2 (en) * | 1998-01-16 | 2005-07-05 | Elwin M. Beaty | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
US6915007B2 (en) | 1998-01-16 | 2005-07-05 | Elwin M. Beaty | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
US6072898A (en) * | 1998-01-16 | 2000-06-06 | Beaty; Elwin M. | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
US5936863A (en) * | 1998-01-28 | 1999-08-10 | Lockheed Martin Idaho Technologies Company | Optimal segmentation and packaging process |
US6236769B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-05-22 | Cognex Corporation | Machine vision systems and methods for morphological transformation of an image with zero or other uniform offsets |
US6282328B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-08-28 | Cognex Corporation | Machine vision systems and methods for morphological transformation of an image with non-uniform offsets |
US6381375B1 (en) | 1998-02-20 | 2002-04-30 | Cognex Corporation | Methods and apparatus for generating a projection of an image |
US6215915B1 (en) | 1998-02-20 | 2001-04-10 | Cognex Corporation | Image processing methods and apparatus for separable, general affine transformation of an image |
AU4219699A (en) * | 1998-05-29 | 1999-12-13 | Northeast Robotics Llc | Miniature inspection system |
US6324298B1 (en) | 1998-07-15 | 2001-11-27 | August Technology Corp. | Automated wafer defect inspection system and a process of performing such inspection |
KR100345001B1 (ko) * | 1998-08-27 | 2002-07-19 | 삼성전자 주식회사 | 기판 납땜 검사용 조명 및 광학 장치 |
WO2000026611A1 (en) * | 1998-11-03 | 2000-05-11 | Cyberoptics Corporation | Tomographic reconstruction of electronic components from shadow image sensor data |
US6687402B1 (en) | 1998-12-18 | 2004-02-03 | Cognex Corporation | Machine vision methods and systems for boundary feature comparison of patterns and images |
US6381366B1 (en) | 1998-12-18 | 2002-04-30 | Cognex Corporation | Machine vision methods and system for boundary point-based comparison of patterns and images |
US6539106B1 (en) * | 1999-01-08 | 2003-03-25 | Applied Materials, Inc. | Feature-based defect detection |
DE19903486C2 (de) * | 1999-01-29 | 2003-03-06 | Leica Microsystems | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Untersuchung von strukturierten Oberflächen von Objekten |
US6891967B2 (en) * | 1999-05-04 | 2005-05-10 | Speedline Technologies, Inc. | Systems and methods for detecting defects in printed solder paste |
US6738505B1 (en) * | 1999-05-04 | 2004-05-18 | Speedline Technologies, Inc. | Method and apparatus for detecting solder paste deposits on substrates |
US7072503B2 (en) * | 1999-05-04 | 2006-07-04 | Speedline Technologies, Inc. | Systems and methods for detecting defects in printed solder paste |
US6341726B1 (en) | 1999-06-23 | 2002-01-29 | International Business Machines Corporation | Apparatus for inspecting elements on transport device |
IL130874A (en) | 1999-07-09 | 2002-12-01 | Nova Measuring Instr Ltd | System and method for measuring pattern structures |
US8531678B2 (en) | 1999-07-09 | 2013-09-10 | Nova Measuring Instruments, Ltd. | Method and system for measuring patterned structures |
US6394346B1 (en) * | 1999-10-07 | 2002-05-28 | Cubic Corporation | Contactless smart card high production encoding machine |
US6684402B1 (en) | 1999-12-01 | 2004-01-27 | Cognex Technology And Investment Corporation | Control methods and apparatus for coupling multiple image acquisition devices to a digital data processor |
US6549647B1 (en) | 2000-01-07 | 2003-04-15 | Cyberoptics Corporation | Inspection system with vibration resistant video capture |
GB2375392B (en) | 2000-01-07 | 2004-12-15 | Cyberoptics Corp | Phase profilometry system with telecentric projector |
CA2296143A1 (fr) * | 2000-01-18 | 2001-07-18 | 9071 9410 Quebec Inc. | Systeme d'inspection optique |
US6748104B1 (en) | 2000-03-24 | 2004-06-08 | Cognex Corporation | Methods and apparatus for machine vision inspection using single and multiple templates or patterns |
US6744913B1 (en) * | 2000-04-18 | 2004-06-01 | Semiconductor Technology & Instruments, Inc. | System and method for locating image features |
US6760471B1 (en) * | 2000-06-23 | 2004-07-06 | Teradyne, Inc. | Compensation system and related techniques for use in a printed circuit board inspection system |
US6891627B1 (en) | 2000-09-20 | 2005-05-10 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a critical dimension and overlay of a specimen |
JP2002148153A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Inst Of Physical & Chemical Res | 3次元内部構造の解析方法及び装置 |
FR2817694B1 (fr) * | 2000-12-05 | 2003-10-03 | Thomson Licensing Sa | Procede et dispositif de lissage spatial pour les zones sombres d'une image |
DE10062251C2 (de) * | 2000-12-14 | 2002-12-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verfahren zur Qualitätsüberprüfung eines Körpers |
US6654115B2 (en) * | 2001-01-18 | 2003-11-25 | Orbotech Ltd. | System and method for multi-dimensional optical inspection |
DE10128476C2 (de) * | 2001-06-12 | 2003-06-12 | Siemens Dematic Ag | Optische Sensorvorrichtung zur visuellen Erfassung von Substraten |
US7024031B1 (en) * | 2001-10-23 | 2006-04-04 | August Technology Corp. | System and method for inspection using off-angle lighting |
US6847900B2 (en) * | 2001-12-17 | 2005-01-25 | Agilent Technologies, Inc. | System and method for identifying solder joint defects |
KR20030052216A (ko) * | 2001-12-20 | 2003-06-26 | (주)한비젼 | 산업용 머신 비전 시스템을 위한 방사학적, 기하학적 보정및 병렬 처리 구현를 위한 시스템 |
US7601978B2 (en) * | 2002-04-11 | 2009-10-13 | Hamed Sari-Sarraf | Fabric wrinkle evaluation |
US20040010444A1 (en) * | 2002-04-18 | 2004-01-15 | Photon Dynamics, Inc. | Automated infrared printed circuit board failure diagnostic system |
US20040004482A1 (en) * | 2002-04-18 | 2004-01-08 | Photon Dynamics, Inc. | Industrial inspection using combination of functional testing and structural inspection |
JP2006514350A (ja) * | 2002-07-16 | 2006-04-27 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 光学式文字認識装置及び方法 |
US20040093516A1 (en) * | 2002-11-12 | 2004-05-13 | Hornbeek Marc William Anthony | System for enabling secure remote switching, robotic operation and monitoring of multi-vendor equipment |
JP2004170329A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Nippon Steel Corp | バンプ電極およびバンプ電極用ボール検査方法 |
US7742071B2 (en) * | 2003-01-23 | 2010-06-22 | Oracle America, Inc. | Methods and apparatus for inspecting centerplane connectors |
KR100615576B1 (ko) * | 2003-02-06 | 2006-08-25 | 주식회사 고영테크놀러지 | 3차원형상 측정장치 |
US7233871B2 (en) * | 2003-03-10 | 2007-06-19 | Landrex Technologies Co., Ltd. | Inspection window guard banding |
DE10311821B4 (de) | 2003-03-13 | 2008-11-20 | Ekra Eduard Kraft Gmbh Maschinenfabrik | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten von Substrat und Druckschablone beim Lotpastendruck |
US7171037B2 (en) * | 2003-03-20 | 2007-01-30 | Agilent Technologies, Inc. | Optical inspection system and method for displaying imaged objects in greater than two dimensions |
US8045788B2 (en) * | 2003-07-14 | 2011-10-25 | August Technology Corp. | Product setup sharing for multiple inspection systems |
JP3953988B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2007-08-08 | Tdk株式会社 | 検査装置および検査方法 |
US20050162651A1 (en) * | 2004-01-22 | 2005-07-28 | Seagate Technology Llc | Automatic optical inspection of components using a shadow projection threshold for a data storage device |
SG121898A1 (en) * | 2004-10-06 | 2006-05-26 | Generic Power Pte Ltd | System for 2-D and 3-D vision inspection |
US7519234B2 (en) * | 2004-11-17 | 2009-04-14 | Seiko Epson Corporation | Apparatuses and methods for incorporating a border region within an image region |
US7344273B2 (en) | 2005-03-22 | 2008-03-18 | Binary Works, Inc. | Ring light with user manipulable control |
KR100663364B1 (ko) * | 2005-07-12 | 2007-01-02 | 삼성전자주식회사 | 퓨즈 분리 장벽을 갖는 퓨즈 영역을 구비하는 반도체소자및 그 제조방법들 |
US8111904B2 (en) | 2005-10-07 | 2012-02-07 | Cognex Technology And Investment Corp. | Methods and apparatus for practical 3D vision system |
US20070102478A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-10 | Speedline Technologies, Inc. | Optimal imaging system and method for a stencil printer |
US20070102477A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-10 | Speedline Technologies, Inc. | Imaging system and method for a stencil printer |
US20090122306A1 (en) * | 2005-11-15 | 2009-05-14 | Omron Corporation | Solder Material Inspecting Device |
US20070143465A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Gonzalez Roberta L | Connection Tapping |
US20070136467A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Masci Joseph M | Device Substitution |
US7458318B2 (en) | 2006-02-01 | 2008-12-02 | Speedline Technologies, Inc. | Off-axis illumination assembly and method |
US8162584B2 (en) | 2006-08-23 | 2012-04-24 | Cognex Corporation | Method and apparatus for semiconductor wafer alignment |
WO2008086016A1 (en) * | 2007-01-10 | 2008-07-17 | Cyberoptics Corporation | Inspection system |
US7710611B2 (en) * | 2007-02-16 | 2010-05-04 | Illinois Tool Works, Inc. | Single and multi-spectral illumination system and method |
US7746481B2 (en) | 2007-03-20 | 2010-06-29 | Cyberoptics Corporation | Method for measuring center of rotation of a nozzle of a pick and place machine using a collimated laser beam |
US7529336B2 (en) | 2007-05-31 | 2009-05-05 | Test Research, Inc. | System and method for laminography inspection |
WO2008153885A1 (en) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Cyberoptics Corporation | Component sensor for pick and place machine using improved shadow imaging |
US20110175997A1 (en) * | 2008-01-23 | 2011-07-21 | Cyberoptics Corporation | High speed optical inspection system with multiple illumination imagery |
US8059280B2 (en) | 2008-01-31 | 2011-11-15 | Cyberoptics Corporation | Method for three-dimensional imaging using multi-phase structured light |
JP5052387B2 (ja) * | 2008-04-04 | 2012-10-17 | 株式会社ブリヂストン | 中空体内面の検査方法および装置 |
JP5069191B2 (ja) * | 2008-08-22 | 2012-11-07 | 興和株式会社 | 光学読み取り装置 |
EP2192463B1 (de) * | 2008-11-28 | 2014-03-05 | Klingelnberg AG | Vorrichtung und Verfahren zum Positionieren eines rotationssymmetrischen Präzisionsteiles |
SG164293A1 (en) * | 2009-01-13 | 2010-09-29 | Semiconductor Technologies & Instruments Pte | System and method for inspecting a wafer |
US8391634B1 (en) * | 2009-04-28 | 2013-03-05 | Google Inc. | Illumination estimation for images |
US8681211B2 (en) | 2009-09-22 | 2014-03-25 | Cyberoptics Corporation | High speed optical inspection system with adaptive focusing |
US8872912B2 (en) | 2009-09-22 | 2014-10-28 | Cyberoptics Corporation | High speed distributed optical sensor inspection system |
US8670031B2 (en) | 2009-09-22 | 2014-03-11 | Cyberoptics Corporation | High speed optical inspection system with camera array and compact, integrated illuminator |
US8894259B2 (en) * | 2009-09-22 | 2014-11-25 | Cyberoptics Corporation | Dark field illuminator with large working area |
JP5582932B2 (ja) * | 2010-09-16 | 2014-09-03 | 日東電工株式会社 | 検査装置、および、配線回路基板の製造方法 |
US8798393B2 (en) | 2010-12-01 | 2014-08-05 | Google Inc. | Removing illumination variation from images |
WO2013028196A1 (en) | 2011-08-25 | 2013-02-28 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | On-line, continuous monitoring in solar cell and fuel cell manufacturing using spectral reflectance imaging |
KR101614061B1 (ko) * | 2012-03-29 | 2016-04-20 | 주식회사 고영테크놀러지 | 조인트 검사 장치 |
US20130278750A1 (en) * | 2012-04-23 | 2013-10-24 | Metrospec Technology, L.L.C. | Self-learning machine vision system |
MY182531A (en) | 2012-05-09 | 2021-01-25 | Seagate Technology Llc | Surface features mapping |
US9212900B2 (en) * | 2012-08-11 | 2015-12-15 | Seagate Technology Llc | Surface features characterization |
US9297751B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-29 | Seagate Technology Llc | Chemical characterization of surface features |
US9297759B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-29 | Seagate Technology Llc | Classification of surface features using fluorescence |
US9377394B2 (en) | 2012-10-16 | 2016-06-28 | Seagate Technology Llc | Distinguishing foreign surface features from native surface features |
CN102928430B (zh) * | 2012-11-13 | 2015-03-18 | 国网浙江省电力公司电力科学研究院 | 五轴运动定位系统 |
US9644942B2 (en) * | 2012-11-29 | 2017-05-09 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Method and apparatus for laser projection, and machining method |
US9217714B2 (en) | 2012-12-06 | 2015-12-22 | Seagate Technology Llc | Reflective surfaces for surface features of an article |
US10429319B2 (en) * | 2013-03-20 | 2019-10-01 | Kla-Tencor Corporation | Inspection system including parallel imaging paths with multiple and selectable spectral bands |
US10126252B2 (en) | 2013-04-29 | 2018-11-13 | Cyberoptics Corporation | Enhanced illumination control for three-dimensional imaging |
US9201019B2 (en) | 2013-05-30 | 2015-12-01 | Seagate Technology Llc | Article edge inspection |
US9217715B2 (en) | 2013-05-30 | 2015-12-22 | Seagate Technology Llc | Apparatuses and methods for magnetic features of articles |
US9274064B2 (en) | 2013-05-30 | 2016-03-01 | Seagate Technology Llc | Surface feature manager |
US9513215B2 (en) | 2013-05-30 | 2016-12-06 | Seagate Technology Llc | Surface features by azimuthal angle |
CN103398660B (zh) * | 2013-08-05 | 2015-12-09 | 河北工业大学 | 用于获取焊缝高度信息的结构光视觉传感器参数标定方法 |
US9786043B2 (en) * | 2014-12-03 | 2017-10-10 | Bloom Energy Corporation | Inspection method for the effect of composition on the bond strength of a metallized alumina ceramic |
US10480935B2 (en) | 2016-12-02 | 2019-11-19 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | Thickness mapping using multispectral imaging |
WO2018195672A1 (en) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Groupe De Développement Icrtech | Probabilistic based system and method for decision making in the context of argumentative structures |
US10957030B2 (en) | 2018-08-14 | 2021-03-23 | International Business Machines Corporation | Image conduction apparatus for soldering inner void analysis |
CN111766253A (zh) * | 2019-03-15 | 2020-10-13 | 鸿富锦精密电子(成都)有限公司 | 锡膏印刷品质检测方法、数据处理装置及计算机存储介质 |
JP7316072B2 (ja) * | 2019-03-22 | 2023-07-27 | Juki株式会社 | 生産システム、及び生産方法 |
US10753882B1 (en) * | 2019-04-10 | 2020-08-25 | Griffyn Robotech Private Ltd. | Inspection and cosmetic grading through image processing system and method |
CN112164663B (zh) * | 2020-10-28 | 2023-10-10 | Oppo广东移动通信有限公司 | 检测方法、检测装置以及存储介质 |
CN112528845B (zh) * | 2020-12-11 | 2022-09-20 | 华中师范大学 | 一种基于深度学习的物理电路图识别方法及其应用 |
CN118071755B (zh) * | 2024-04-24 | 2024-06-21 | 海斯坦普汽车组件(北京)有限公司 | 一种车身焊点质量检测方法及系统 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4343553A (en) * | 1979-09-03 | 1982-08-10 | Hitachi, Ltd. | Shape testing apparatus |
US4538909A (en) * | 1983-05-24 | 1985-09-03 | Automation Engineering, Inc. | Circuit board inspection apparatus and method |
US4999285A (en) * | 1984-11-15 | 1991-03-12 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Chromatographic cassette |
US4696104A (en) * | 1985-06-07 | 1987-09-29 | Vanzetti Systems, Inc. | Method and apparatus for placing and electrically connecting components on a printed circuit board |
JPS61293657A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-24 | Matsushita Electric Works Ltd | 半田付け外観検査方法 |
US4688939A (en) * | 1985-12-27 | 1987-08-25 | At&T Technologies, Inc. | Method and apparatus for inspecting articles |
US4809308A (en) * | 1986-02-20 | 1989-02-28 | Irt Corporation | Method and apparatus for performing automated circuit board solder quality inspections |
US4926452A (en) * | 1987-10-30 | 1990-05-15 | Four Pi Systems Corporation | Automated laminography system for inspection of electronics |
US4876455A (en) * | 1988-02-25 | 1989-10-24 | Westinghouse Electric Corp. | Fiber optic solder joint inspection system |
US5247344A (en) * | 1988-10-03 | 1993-09-21 | Hughes Aircraft Company | Optical inspection system for solder joints and inspection method |
JP2771190B2 (ja) * | 1988-10-07 | 1998-07-02 | 株式会社日立製作所 | スルーホール充填状態検査方法およびその装置 |
US5030008A (en) * | 1988-10-11 | 1991-07-09 | Kla Instruments, Corporation | Method and apparatus for the automated analysis of three-dimensional objects |
US5039868A (en) * | 1988-11-24 | 1991-08-13 | Omron Corporation | Method of and apparatus for inspecting printed circuit boards and the like |
US5127726A (en) * | 1989-05-19 | 1992-07-07 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for low angle, high resolution surface inspection |
US4988202A (en) * | 1989-06-28 | 1991-01-29 | Westinghouse Electric Corp. | Solder joint inspection system and method |
US5058178A (en) * | 1989-12-21 | 1991-10-15 | At&T Bell Laboratories | Method and apparatus for inspection of specular, three-dimensional features |
US5060065A (en) * | 1990-02-23 | 1991-10-22 | Cimflex Teknowledge Corporation | Apparatus and method for illuminating a printed circuit board for inspection |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP4183759A patent/JPH05223532A/ja active Pending
- 1992-07-10 DE DE4222804A patent/DE4222804A1/de not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-06-24 US US08/265,567 patent/US5455870A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4307590A1 (de) * | 1993-03-10 | 1994-09-15 | Elli Tutsch | Visuelles Inspektionsverfahren und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
DE4307590C2 (de) * | 1993-03-10 | 2002-03-07 | Wuermseher Jun | Vorrichtung zur visuellen Kontrolle eines Prüflings |
US6362877B1 (en) | 1993-04-21 | 2002-03-26 | Omron Corporation | Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatuses |
SG80529A1 (en) * | 1993-06-14 | 2001-05-22 | Omron Tateisi Electronics Co | Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatus |
EP0871027A2 (de) * | 1997-04-07 | 1998-10-14 | Hewlett-Packard Company | Prüfung gedruckter Leiterplatten |
EP0871027A3 (de) * | 1997-04-07 | 1999-05-19 | Hewlett-Packard Company | Prüfung gedruckter Leiterplatten |
WO1999020093A1 (de) * | 1997-10-08 | 1999-04-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur beleuchtungseinstellung in einer einrichtung zur lageerkennung und/oder qualitätskontrolle von bauelementen und/oder substraten |
EP1524060A2 (de) * | 2000-11-10 | 2005-04-20 | Unitive Electronics, Inc. | Verfahren zum Positionieren von Bauteilen mit Hilfe flüssiger Anstriebsmittel und gebrauchte Struktur. |
EP1524060A3 (de) * | 2000-11-10 | 2006-02-01 | Unitive Electronics, Inc. | Verfahren zum Positionieren von Bauteilen mit Hilfe flüssiger Anstriebsmittel und gebrauchte Struktur. |
CN109406577A (zh) * | 2018-09-12 | 2019-03-01 | 深圳阜时科技有限公司 | 一种检测方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05223532A (ja) | 1993-08-31 |
US5455870A (en) | 1995-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4222804A1 (de) | Einrichtung und verfahren zur automatischen visuellen pruefung elektrischer und elektronischer baueinheiten | |
DE69322775T2 (de) | Verfahren zur Inspektion vom Verbindungskugel-Satz eines intergrierten Schaltungsmoduls | |
DE4201943C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Prüfen einer Verbindung eines elektronischen Bauelements | |
DE102013206927B4 (de) | Verfahren zur Inspektion des Zustands der Benetzung mit Lot, Gerät zur automatischen optischen Inspektion, welches dieses Verfahren verwendet, sowie Leiterplatteninspektionssystem | |
DE69531805T2 (de) | Inspektion einer Kontaktlinse mit einer Beleuchtung mit Doppelfokus | |
DE112011104727B4 (de) | Leiterplatteninspektionsvorrichtung, Leiterplatteninspektionssystem und Verfahren zur Anzeige eines Bildschirms zum Prüfen eines Leiterplatteninspektionsergebnisses | |
EP2105701B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der 3D-Koordinaten eines Objekts | |
DE102015113068B4 (de) | Qualitätskontrollvorrichtung und Steuerverfahren für eine Qualitätskontrollvorrichtung | |
DE102011086275B4 (de) | Leiterplattenprüfverfahren | |
DE102012201328A1 (de) | Abmessungsvorrichtung, Abmessungsmessverfahren und Programm für Abmessungsmessvorrichtung | |
DE19739250C2 (de) | Optische Erfassung von Freiformflächen | |
DE10237540A1 (de) | Fehlerinspektionsvorrichtung und Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung | |
DE102009030644B4 (de) | Berührungslose Erfassungseinrichtung | |
DE102017211328A1 (de) | Bildmessgerät | |
DE102011086417B4 (de) | Verfahren zum Erkennen eines Brückenverbindungsfehlers | |
DE102009017695B3 (de) | Verfahren zur Inspektion von Lötstellen an elektrischen und elektronischen Bauteilen | |
DE102015201382A1 (de) | Qualitätssicherungssystem und Vorrichtung zur Innenprüfung | |
EP4020314A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur optischen qualitätskontrolle während der fertigung von leiterplatten | |
DE3809221A1 (de) | Verfahren zum detektieren von fehlstellen an pressteilen oder anderen werkstuecken und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE102007060008A1 (de) | Bestimmung und Überwachumg von Laserenergie | |
DE10232242A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Rastern einer Probe mit einem optischen ab Bildungssystem | |
DE102007039982B3 (de) | Verfahren zur optischen Inspektion und Visualisierung der von scheibenförmigen Objekten gewonnenen optischen Messerwerte | |
DE102014225987A1 (de) | Steuervorrichtung für eine Innenprüfungsvorrichtung und Verfahren zum Steuern einer Innenprüfungsvorrichtung | |
DE102014115650B4 (de) | Inspektionssystem und Verfahren zur Fehleranalyse | |
DE102016122494A1 (de) | Verfahren zum Überprüfen eines Bestückinhalts von elektronischen Bauelementen mittels eines Vergleichs eines 3D-Höhenprofils mit einem Referenz-Höhenprofil, Bestückautomat sowie Computerprogramm zum Überprüfen eines Bestückinhalts |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: DORNER, J., DIPL.-ING. DR.-ING., PAT.-ANW., 85354 |
|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |