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DE112019001178T5 - Lichtemissionselementeinheit - Google Patents

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DE112019001178T5
DE112019001178T5 DE112019001178.2T DE112019001178T DE112019001178T5 DE 112019001178 T5 DE112019001178 T5 DE 112019001178T5 DE 112019001178 T DE112019001178 T DE 112019001178T DE 112019001178 T5 DE112019001178 T5 DE 112019001178T5
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DE
Germany
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electrode
light emitting
light
layer
emitting element
Prior art date
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Pending
Application number
DE112019001178.2T
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoyoshi Ichikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Semiconductor Solutions Corp
Original Assignee
Sony Semiconductor Solutions Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Semiconductor Solutions Corp filed Critical Sony Semiconductor Solutions Corp
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

Diese Lichtemissionselementeinheit ist aus drei Lichtemissionselementen konfiguriert. In einem ersten Lichtemissionselement 10a sind eine 1a-te Elektrode 21a, eine erste organische Schicht 23a, die eine erste Lichtemissionsschicht umfasst, eine 2a-te Elektrode 22a, eine zweite organische Schicht 23b, die eine zweite Lichtemissionsschicht umfasst, und eine dritte organische Schicht 23c, die eine dritte Lichtemissionsschicht umfasst, gestapelt. In einem zweiten Lichtemissionselement 10b sind die erste organische Schicht 23a, eine 1b-te Elektrode 21b, die zweite organische Schicht 23b, eine 2b-te Elektrode 22b und die dritte organische Schicht 23c gestapelt. In einem dritten Lichtemissionselement 10c sind die erste organische Schicht 23a, die zweite organische Schicht 23b, eine 1c-te Elektrode 21c, die dritte organische Schicht 23c und eine 2c-te Elektrode 22c gestapelt.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Lichtemissionselementeinheit.
  • HINTERGRUND
  • In den letzten Jahren wurde eine organische EL-Anzeigevorrichtung, die ein Bild unter Verwendung eines organischen Elektrolumineszenzphänomens (organisches EL-Phänomen) anzeigt, nicht nur auf eine Direktsichtanzeige, wie etwa eine Monitorvorrichtung, sondern auch auf eine ultrakleine Anzeige (Mikroanzeige) angewandt, die ein Pixelrastermaß von einigen Mikrometer erfordert. Außerdem gibt es bei der organischen EL-Anzeigevorrichtung eine starke Nachfrage nach einer Entwicklung von Technologie zum effizienten Extrahieren von Licht. Dies liegt darin begründet, dass, wenn eine Lichtextraktionseffizienz niedrig ist, die tatsächliche Emissionsmenge in einem organischen EL-Element nicht effektiv genutzt wird, was einen großen Verlust in Bezug auf Leistungsverbrauch und dergleichen verursacht.
  • In einer herkömmlichen organischen Direktsicht-EL-Anzeigevorrichtung werden ein Rotlichtemissionselement, ein Grünlichtemissionselement und ein Blaulichtemissionselement oft durch einen Maskengasphasenabscheidungsprozess hergestellt. Das heißt, es wird eine Struktur mit RGB-Farbseparation erreicht. Jedoch ist es aufgrund der Genauigkeit einer Maskenausrichtung und dergleichen schwierig die Struktur mit RGB-Farbseparation in einer organischen EL-Anzeigevorrichtung mit einem feinen Rastermaß anzuwenden. Daher wird eine „Weißverfahren“-Struktur genutzt, in der drei Lichtemissionsschichten aus einer Rotlichtemissionsschicht, einer Grünlichtemissionsschicht und einer Blaulichtemissionsschicht über allen Pixeln laminiert sind und Weißlicht von jedem Lichtemissionselement emittiert wird. Jedes Lichtemissionselement beinhaltet ein Farbfilter. Außerdem wird rotes Licht, grünes Licht oder blaues Licht dadurch erhalten, dass bewirkt wird, dass von einem Lichtemissionselement emittiertes weißes Licht ein Farbfilter durchläuft.
  • ZITATLISTE
  • PATENTDOKUMENT
  • Patentdokument 1: Japanische Patentanmeldung, Offenlegungs-Nr. 2006-278257
  • KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • DURCH DIE ERFINDUNG ZU LÖSENDE PROBLEME
  • Jedoch wird bei dem Weißverfahren von einem Lichtemissionselement emittiertes Weißlicht durch ein Farbfilter farblich separiert. Daher ist eine Lichtabsorption (Verlust) in dem Farbfilter groß und beträgt eine Lichtausbeute nachteilhafterweise 1/3 oder weniger der Lichtausbeute des RGB-Farbseparation-Verfahrens. Wegen dieses Nachteils wird ein reflektierender Film auf einem Lichtemissionselement gebildet und wird eine Mikrokavität (Resonatorstruktur) zwischen einer transparenten Elektrode und dem reflektierenden Film gebildet, der in dem Lichtemissionselement angeordnet ist. Außerdem ist zum Beispiel aus der japanischen Patentanmeldung mit der Offenlegung-Nr. 2006-278257 eine Technologie bekannt, bei der in einem Lichtemissionselement mit drei Schichten aus einer Rotlichtemissionsschicht, einer Grünlichtemissionsschicht und einer Blaulichtemissionsschicht ein Rotlichtemissionselement, das selektiv rotes Licht emittiert, durch Optimieren einer Mikrokavität für Rotlichtemission angeordnet wird. Gleichermaßen wird ein Grünlichtemissionselement, das selektiv grünes Licht emittiert, durch Optimieren einer Mikrokavität für Grünlichtemission angeordnet und wird ein Blaulichtemissionselement, das selektiv blaues Licht emittiert, durch Optimieren einer Mikrokavität für Blaulichtemission angeordnet. Jedoch sind bei dieser Technologie, obwohl eine Lichtextraktionseffizienz verbessert ist, Lichtausbeute und Farbreinheit geringer als jene bei dem RGB-Farbseparation-Verfahren.
  • Daher ist ein Ziel der vorliegenden Offenbarung das Bereitstellen einer Lichtemissionselementeinheit mit einer Konfiguration und einer Struktur, die zum Erzielen einer hohen Lichtausbeute und Farbreinheit in der Lage sind.
  • LÖSUNGEN DER PROBLEME
  • Eine Lichtemissionselementeinheit gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung zum Erreichen des oben beschriebenen Ziels beinhaltet drei Lichtemissionselemente, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht, einer 2a-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht erhalten wird,
    ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, der zweiten organischen Schicht, einer 2b-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht erhalten wird, und
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
  • Eine Lichtemissionselementeinheit gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung zum Erreichen des oben beschriebenen Ziels beinhaltet drei Lichtemissionselemente, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement und ein zweites Lichtemissionselement nebeneinandergestellt sind, das erste Lichtemissionselement eine 1a-te Elektrode, eine erste organische Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und eine 2a-te Elektrode beinhaltet und das zweite Lichtemissionselement eine 1b-te Elektrode, die erste organische Schicht und eine 2b-te Elektrode beinhaltet,
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird,
    ein erstes Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des ersten Lichtemissionselements angeordnet ist, und
    ein zweites Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des zweiten Lichtemissionselements angeordnet ist.
  • Eine Lichtemissionselementeinheit gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Offenbarung zum Erreichen des oben beschriebenen Ziels beinhaltet drei Lichtemissionselemente, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und einer 2a-ten Elektrode erhalten wird,
    ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer 2b-ten Elektrode erhalten wird, und
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
  • Eine Lichtemissionselementeinheit gemäß einem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung zum Erreichen des oben beschriebenen Ziels beinhaltet Folgendes:
    • mehrere Lichtemissionselemente mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten erhalten wird, die jeweils eine Lichtemissionsschicht beinhalten, wobei
    • jedes der Lichtemissionselemente eine erste Elektrode, eine beliebige der mehreren organischen Schichten und eine zweite Elektrode beinhaltet, und
    • die ersten Elektroden, die die jeweiligen Lichtemissionselemente darstellen, einander zwischen den Lichtemissionselementen nicht überlappen.
  • Figurenliste
    • 1A und 1B sind konzeptuelle Diagramme einer Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 2A und 2B sind konzeptuelle Diagramme von Modifikationen (1) bzw. (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 3A und 3B sind konzeptuelle Diagramme einer Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 bzw. einer Modifikation (1) davon.
    • 4A, 4B und 4C sind konzeptuelle Diagramme von Modifikationen (2), (3) bzw. (4) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
    • 5A und 5B sind konzeptuelle Diagramme einer Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 bzw. einer Modifikation (1) davon.
    • 6A und 6B sind konzeptuelle Diagramme von Modifikationen (2) bzw. (3) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 7 ist ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (4) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 8 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 9 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 10A bis 10D sind Diagramme zum Erklären eines Anordnungszustands einer ersten Elektrode und eines Kontaktlochteils in der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 11 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
    • 12 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
    • 13 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
    • 14 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (3) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
    • 15 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 16 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 17 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 18 ist eine schematische partielle Querschnittsansicht einer Modifikation (3) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
    • 19A und 19B sind schematische Endansichten eines ersten Substrats und dergleichen zum Erklären eines Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
    • 20A und 20B sind schematische Endansichten des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 19B.
    • 21 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 20B.
    • 22 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 21.
    • 23 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 22.
    • 24 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 23.
    • 25 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 24.
    • 26 ist eine schematische Endansicht des ersten Substrats und dergleichen zum Erklären des Verfahrens zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 anschließend an 25.
    • 27A und 27B veranschaulichen ein Beispiel, bei dem eine Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung auf eine digitale Wechselobjektivspiegelreflexfotokamera angewandt ist.
    • 27A veranschaulicht eine Vorderansicht der digitalen Fotokamera und 27B veranschaulicht eine Rückansicht davon.
    • 28 ist eine Außenansicht einer am Kopf getragenen Anzeige, die ein Beispiel veranschaulicht, bei dem die Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung auf die am Kopf getragene Anzeige angewandt ist.
  • AUSFÜHRUNGSWEISE DER ERFINDUNG
  • Nachfolgend wird die vorliegende Offenbarung basierend auf Beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Die vorliegende Offenbarung ist jedoch nicht auf die Beispiele beschränkt und verschiedene numerische Werte und Materialien in den Beispielen sind veranschaulichend. Es ist zu beachten, dass die Beschreibung in der folgenden Reihenfolge erfolgen wird.
    1. 1. Allgemeine Beschreibung von Lichtemissionselementeinheiten gemäß einem ersten bis vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung
    2. 2. Beispiel 1 (Lichtemissionselementeinheiten gemäß einem ersten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung)
    3. 3. Beispiel 2 (Lichtemissionselementeinheiten gemäß einem zweiten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung)
    4. 4. Beispiel 3 (Lichtemissionselementeinheiten gemäß einem dritten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung)
    5. 5. Anderes
  • <Allgemeine Beschreibung von
  • Lichtemissionselementeinheiten gemäß einem ersten bis vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung>
  • Eine Lichtemissionselementeinheit gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann eine Form annehmen, in der eine 2a-te Elektrode, eine 2b-te Elektrode und eine 2c-te Elektrode jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode ausgebildet sind.
  • Die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung einschließlich der oben beschriebenen bevorzugten Form kann eine Form annehmen, in der das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
  • Die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung einschließlich der oben beschriebenen verschiedenen bevorzugten Formen kann zum Beispiel eine Form annehmen, bei der die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen. Es wird angemerkt, dass die transparente leitfähige Schicht als eine obere Schicht verwendet werden kann (das heißt, sie kann sich auf einer zweiten Substratseite befinden) und die halbtransmittierende leitfähige Schicht als eine untere Schicht verwendet werden kann (das heißt, sie kann sich auf einer ersten Substratseite befinden). Alternativ dazu kann die transparente leitfähige Schicht als eine untere Schicht verwendet werden und kann die halbtransmittierende leitfähige Schicht als eine obere Schicht verwendet werden. Außerdem kann in diesem Fall zum Beispiel eine Form angenommen werden, bei der die transparente leitfähige Schicht ein Oxid aus Indium und Zink (IZO) enthält und die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium (Mg) und Silber (Ag) enthält. Zudem kann die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine laminierte Struktur aufweisen. In diesem Fall kann die obere Schicht (die Schicht, die sich auf einer zweiten Substratseite befindet) eine Legierung aus Magnesium (Mg) und Silber (Ag) beinhalten und kann die untere Schicht (die Schicht, die sich auf einer ersten Substratseite befindet) Calcium (Ca) enthalten. Das gleiche gilt für eine 2a-te Elektrode, eine 2b-te Elektrode und eine 2c-te Elektrode in einer Lichtemissionselementeinheit gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Offenbarung und eine zweite Elektrode in einer Lichtemissionselementeinheit gemäß einem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung. Des Weiteren können eine 2a-te Elektrode und eine 2b-te Elektrode in einer Lichtemissionselementeinheit gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung auf eine ähnliche Weise wie in dem oben beschriebenen Fall eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen. In manchen Fällen kann zudem die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine laminierte Struktur aufweisen. Des Weiteren kann eine 2c-te Elektrode eine halbtransmittierende leitfähige Schicht, insbesondere eine halbtransmittierende leitfähige Schicht, die Magnesium (Mg) und Silber (Ag) enthält, sein. Das heißt, bei der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann ein Material der zweiten Elektrode, die ein Lichtemissionselement darstellt, in Abhängigkeit von dem Lichtemissionselement geändert werden und können sich Strukturen der 2a-ten Elektrode und der 2b-ten Elektrode von einer Struktur der 2c-ten Elektrode unterscheiden.
  • Zudem kann die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung einschließlich der oben beschriebenen verschiedenen bevorzugten Formen eine Form annehmen, wobei
    in dem ersten Lichtemissionselement zwischen einer 1a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht oder einer ersten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht ausgebildet ist, in der ersten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2a-ten Elektrode emittiert wird,
    in dem zweiten Lichtemissionselement zwischen einer 1b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht oder einer zweiten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht ausgebildet ist, in der zweiten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2b-ten Elektrode emittiert wird, und
    in dem dritten Lichtemissionselement zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht oder einer dritten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode emittiert wird. Das heißt, jedes der Lichtemissionselemente weist bevorzugt eine Resonatorstruktur auf.
  • Das gleiche gilt für das dritte Lichtemissionselement in der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung oder der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem dritten Aspekt der vorliegenden Offenbarung. Die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann eine Form annehmen, in der in einer Lichtemissionsschicht emittiertes Licht zwischen einer ersten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen einer ersten Elektrode und einer organischen Schicht oder einer Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer zweiten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen einer zweiten Elektrode und der organischen Schicht ausgebildet ist, resoniert und ein Teil des resonierten Lichts von der zweiten Elektrode emittiert wird.
  • Außerdem kann in diesem Fall insbesondere
    eine Form angenommen werden, wobei,
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 1a-ten Grenzfläche durch L1A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1A repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 2a-ten Grenzfläche durch L2A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2A repräsentiert wird und m1A und m2A ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (A-1), (A-2), (A-3) und (A-4) erfüllt sind,
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 1b-ten Grenzfläche durch L1B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1B repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 2b-ten Grenzfläche durch L2B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2B repräsentiert wird und m1B und m2B ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (B-1), (B-2), (B-3) und (B-4) erfüllt sind, und
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch Lic repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2c repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1Cund m2C ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt sind. 0,7 { − Φ 1 A / ( 2 π ) + m 1 A } ≤ 2 × OL 1 A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1 A / ( 2 π ) + m 1 A }
    Figure DE112019001178T5_0001
     0,7 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A } ≤ 2 × OL 2A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A }
    Figure DE112019001178T5_0002
    L 1 A < L 2 A
    Figure DE112019001178T5_0003
     m 1 A < m 2 A
    Figure DE112019001178T5_0004
     0,7 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B } ≤ 2 × OL 1B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B }
    Figure DE112019001178T5_0005
     0,7 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B } ≤ 2 × OL 2B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B }
    Figure DE112019001178T5_0006
     L 1 B < L 2 B
    Figure DE112019001178T5_0007
     m 1 B < m 2 B
    Figure DE112019001178T5_0008
     0,7 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1c } ≤ 2 × OL 1C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0009
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0010
     L 1 C < L 2 C
    Figure DE112019001178T5_0011
     m 1 C < m 2 C
    Figure DE112019001178T5_0012
  • Hier,
    • λA: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1A ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2A ≤ 0 erfüllt wird.
    • λB: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1B ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2B ≤ 0 erfüllt wird.
    • λC: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
  • Zudem werden in diesem Fall, m1A = 0, m2A = 1, m1B = 0, m2B = 1, m1C= 0 und m2C = 1 bevorzugt erfüllt.
  • Allgemein geht bei einer Reflexionsgrenzfläche, die durch Schichten α und β ausgebildet ist, die jeweils ein transparentes Material enthalten, ein Teil von einfallendem Licht durch die Reflexionsgrenzfläche hindurch und wird der Rest durch die Reflexionsgrenzfläche reflektiert. Daher tritt eine Phasenänderung (Phasenverschiebung) in dem reflektierten Licht auf. Eine Phasenänderung φAB von Licht, wenn Licht durch die Reflexionsgrenzfläche reflektiert wird, die durch die Schichten α und β ausgebildet ist, kann durch Messen eines komplexen Brechungsindex (nA, kA) der Schicht α und eines komplexen Brechungsindex (nB, kB) der Schicht β und Durchführen einer Berechnung basierend auf diesen Werten bestimmt werden (siehe zum Beispiel „Principles of Optics“, Max Born und Emil Wolf, 1974 (PERGAMON PRESS)). Ein Brechungsindex einer Lichtemissionsschicht oder einer organischen Schicht kann unter Verwendung einer spektroskopischen Ellipsometriemessvorrichtung gemessen werden.
  • Die Entfernung L1 von der maximalen Emissionsposition der Lichtemissionsschicht zu der ersten Grenzfläche bedeutet eine tatsächliche Entfernung (physische Entfernung) von der maximalen Emissionsposition der Lichtemissionsschicht zu der ersten Grenzfläche und die Entfernung L2 von der maximalen Emissionsposition der Lichtemissionsschicht zu der zweiten Grenzfläche bedeutet eine tatsächliche Entfernung (physische Entfernung) von der maximalen Emissionsposition der Lichtemissionsschicht zu der zweiten Grenzfläche. Des Weiteren wird die optische Entfernung auch als eine optische Pfadlänge bezeichnet und bedeutet allgemein n × L, wenn ein Lichtstrahl ein Medium mit einem Brechungsindex n für eine Entfernung L durchläuft. Das gleiche gilt für die folgende Beschreibung. Daher werden die folgenden Beziehungen erfüllt, falls ein durchschnittlicher Brechungsindex durch nDurchschn repräsentiert wird. OL 1 = L 1 × n Durchschn
    Figure DE112019001178T5_0013
     OL 2 = L 2 × n Durchschn
    Figure DE112019001178T5_0014
  • Hier wird der durchschnittliche Brechungsindex nDurchschn durch Summieren eines Produkts des Brechungsindex und der Dicke jeder Schicht, die eine organische Schicht (oder eine organische Schicht und eine Zwischenschichtisolationsschicht) darstellt, und Teilen der resultierenden Summe durch die Dicke der organischen Schicht (oder der organischen Schicht und der Zwischenschichtisolationsschicht) erhalten.
  • Die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann eine Form annehmen, in der das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode und die 2b-te Elektrode angelegt wird, und kann zudem eine Form annehmen, in der das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
  • In dem ersten Lichtemissionselement und dem zweiten Lichtemissionselement in der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die dritte organische Schicht auf (oder oberhalb) der 2a-ten Elektrode und der 2b-ten Elektrode gebildet werden.
  • In dem ersten Lichtemissionselement in der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem dritten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die zweite organische Schicht auf (oder oberhalb) der 2a-ten Elektrode gebildet werden.
  • Die Lichtemissionselementeinheiten gemäß dem ersten bis vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung einschließlich der verschiedenen bevorzugten Formen, die oben beschrieben sind, können gemeinsam als „Lichtemissionselementeinheiten und dergleichen der vorliegenden Offenbarung“ bezeichnet werden. Das Lichtemissionselement, das die Lichtemissionselementeinheit und dergleichen der vorliegenden Offenbarung darstellt, kann der Einfachheit halber als „Lichtemissionselement und dergleichen der vorliegenden Offenbarung“ bezeichnet werden.
  • In der Lichtemissionselementeinheit und dergleichen der vorliegenden Offenbarung beinhalten in einer Form, in der ein Pixel (oder Subpixel) durch ein Lichtemissionselement ausgebildet ist, Beispiele für eine Anordnung von Pixeln (oder Subpixeln) eine Streifenanordnung, eine Diagonalanordnung, eine Deltaanordnung und eine Rechteckanordnung, obwohl sie nicht darauf beschränkt ist. In einer Form, in der ein Pixel (oder Subpixel) durch eine Baugruppe aus mehreren Lichtemissionselementen ausgebildet ist, beinhalten des Weiteren Beispiele für eine Anordnung von Pixeln (oder Subpixeln) eine Streifenanordnung, obwohl sie nicht darauf beschränkt ist.
  • Ein organisches EL-Rotlichtemissionselement weist zum Beispiel eine Struktur auf, die durch sequentielles Laminieren einer Lochinjektionsschicht, einer Lochtransportschicht, einer Rotlichtemissionsschicht und einer Elektronentransportschicht von einer ersten Elektrodenseite erhalten wird. In der Rotlichtemissionsschicht werden durch Anlegen eines elektrischen Feldes an diese manche von Löchern, die von der ersten Elektrode durch die Lochinjektionsschicht und die Lochtransportschicht injiziert werden, mit manchen von Elektronen rekombiniert, die von der zweiten Elektrode durch die Elektronentransportschicht injiziert werden, um rotes Licht zu erzeugen. Die Rotlichtemissionsschicht enthält zum Beispiel ein Rotlichtemissionsmaterial und/oder ein Lochtransportmaterial und/oder ein Elektronentransportmaterial und/oder ein Transportmaterial für beide Ladungen. Das Rotlichtemissionsmaterial kann ein fluoreszierendes Material oder ein Phosphoreszenzmaterial sein. Zum Beispiel erzeugt die Rotlichtemissionsschicht rotes Licht unter Nutzung eines organischen EL-Phänomens und wird zum Beispiel durch Mischen von 30 Masse-% 2,6-Bis[(4'-methoxydiphenylamino)styryl]-1,5-dicyanonaphthalen (BSN) mit 4,4-Bis(2,2-diphenylvinin)biphenyl (DPVBi) gebildet.
  • Ein organisches EL-Grünlichtemissionselement weist zum Beispiel eine Struktur auf, die durch sequentielles Laminieren einer Lochinjektionsschicht, einer Lochtransportschicht, einer Grünlichtemissionsschicht und einer Elektronentransportschicht von einer ersten Elektrodenseite erhalten wird. In der Grünlichtemissionsschicht werden durch Anlegen eines elektrischen Feldes an diese manche von Löchern, die von der ersten Elektrode durch die Lochinjektionsschicht, die Lochtransportschicht und eine Emissionsseparationsschicht injiziert werden, mit manchen von Elektronen rekombiniert, die von der zweiten Elektrode durch die Elektronentransportschicht injiziert werden, um grünes Licht zu erzeugen. Die Grünlichtemissionsschicht enthält zum Beispiel ein Grünlichtemissionsmaterial und/oder ein Lochtransportmaterial und/oder ein Elektronentransportmaterial und/oder ein Transportmaterial für beide Ladungen. Das Grünlichtemissionsmaterial kann ein fluoreszierendes Material oder ein Phosphoreszenzmaterial sein. Zum Beispiel erzeugt die Grünlichtemissionsschicht grünes Licht unter Nutzung eines organischen EL-Phänomens und wird zum Beispiel durch Mischen von 5 Masse-% Cumarin 6 mit DPVBi gebildet.
  • Ein organisches EL-Blaulichtemissionselement weist zum Beispiel eine Struktur auf, die durch sequentielles Laminieren einer Lochinjektionsschicht, einer Lochtransportschicht, einer Blaulichtemissionsschicht und einer Elektronentransportschicht von einer ersten Elektrodenseite erhalten wird. In der Blaulichtemissionsschicht werden durch Anlegen eines elektrischen Feldes an diese manche von Löchern, die von der ersten Elektrode durch die Lochinjektionsschicht, die Lochtransportschicht und eine Emissionsseparationsschicht injiziert werden, mit manchen von Elektronen rekombiniert, die von der zweiten Elektrode durch die Elektronentransportschicht injiziert werden, um blaues Licht zu erzeugen. Die Blaulichtemissionsschicht enthält zum Beispiel ein Blaulichtemissionsmaterial und/oder ein Lochtransportmaterial und/oder ein Elektronentransportmaterial und/oder ein Transportmaterial für beide Ladungen. Die Blaulichtemissionsschicht kann ein fluoreszierendes Material oder ein phosphoreszierendes Material sein. Zum Beispiel erzeugt die Blaulichtemissionsschicht blaues Licht unter Nutzung eines organischen EL-Phänomens und wird zum Beispiel durch Mischen von 2,5 Masse-% 4,4'-Bis[2-{4-(N,N-diphenylamino)phenyl}vinyl]biphenyl (DPAVBi) mit DPVBi gebildet.
  • Die Lochinjektionsschicht injiziert Löcher in die Lochtransportschicht und enthält zum Beispiel ein Hexaazatriphenylen(HAT)-Derivat. Die Lochtransportschicht transportiert die von der Lochinjektionsschicht injizierten Löcher zu der Lichtemissionsschicht und enthält zum Beispiel 4,4',4"-Tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamin (m-MTDATA) oder α-Naphthylphenyldiamin (αNPD).
  • Die Elektronentransportschicht transportiert Elektronen zu der Lichtemissionsschicht und enthält zum Beispiel 8-Hydroxychinolinaluminium (Alq3), BCP (2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin) und Butophenanthrolin (BPhen). Die Elektronentransportschicht beinhaltet wenigstens eine Schicht und kann eine Elektronentransportschicht beinhalten, die mit einem Alkalimetall oder einem Erdalkalimetall dotiert ist. In der Elektronentransportschicht, die mit einem Alkalimetall oder einem Erdalkalimetall dotiert ist, beinhalten Beispiele für ein Wirtsmaterial BCP (2,9-Dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthrolin), Alq3 und Butophenanthrolin (BPhen) und Beispiele für ein Dotierungsstoffmaterial beinhalten ein Alkalimetall, wie etwa Lithium (Li), Natrium (Na), Kalium (K), Rubidium (Rb) oder Cäsium (Cs), und ein Erdalkalimetall, wie etwa Magnesium (Mg), Calcium (Ca), Strontium (Sr) oder Barium (Ba). Außerdem kann durch gemeinsames Abscheiden des Wirtsmaterials und des Dotierungsstoffmaterials zum Beispiel eine Elektronentransportschicht erhalten werden, die mit 0,5 Masse-% bis 15 Masse-% des Dotierungsstoffmaterials dotiert ist.
  • Eine Elektroneninjektionsschicht kann zwischen der Elektronentransportschicht und der zweiten Elektrode angeordnet sein. Die Elektroneninjektionsschicht ist angeordnet, um eine Injektion von Elektronen von einer Kathodenelektrode zu verstärken, und enthält zum Beispiel Lithiumfluorid (LiF).
  • Jedoch sind die Materialien, die die Schichten darstellen, veranschaulichend und sind nicht auf diese Materialien beschränkt. Des Weiteren kann zum Beispiel die Lichtemissionsschicht durch eine Blaulichtemissionsschicht und eine Gelblichtemissionsschicht ausgebildet sein oder kann durch eine Blaulichtemissionsschicht und eine Orangelichtemissionsschicht ausgebildet sein. Die Dicke der Lochinjektionsschicht kann 1 nm bis 20 nm betragen, die Dicke der Lochtransportschicht kann 10 nm bis 200 nm betragen, die Dicke der Lichtemissionsschicht kann 5 nm bis 50 nm betragen und die Dicke der Elektronentransportschicht kann 10 nm bis 200 nm betragen.
  • In der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten Aspekt oder dem dritten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann das erste Lichtemissionselement durch ein Rotlichtemissionselement (organisches EL-Rotlichtemissionselement) ausgebildet sein, kann das zweite Lichtemissionselement durch ein Grünlichtemissionselement (organisches EL-Grünlichtemissionselement) ausgebildet sein und kann das dritte Lichtemissionselement durch ein Blaulichtemissionselement (organisches EL-Blaulichtemissionselement) ausgebildet sein. In der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung können das erste Lichtemissionselement und das zweite Lichtemissionselement jeweils durch ein Gelblichtemissionselement (organisches EL-Gelblichtemissionselement) ausgebildet sein oder können durch ein Orangelichtemissionselement (organisches EL-Orangelichtemissionselement) ausgebildet sein. Außerdem muss in diesem Fall das erste Farbfilter nur ein Filter sein, das selektiv eine rote Farbe transmittiert, und muss das zweite Farbfilter nur ein Filter sein, dass selektiv eine grüne Farbe transmittiert. Des Weiteren muss das dritte Lichtemissionselement nur durch ein Blaulichtemissionselement (organisches EL-Blaulichtemissionselement) ausgebildet sein.
  • Falls bewirkt wird, dass die erste Elektrode als eine Anodenelektrode in dem Lichtemissionselement und dergleichen der vorliegenden Offenbarung fungiert, beinhalten Beispiele für ein Material, das die erste Elektrode darstellt (Lichtreflexionsmaterial), ein Metall mit einer hohen Austrittsarbeit, wie etwa Platin (Pt), Gold (Au), Silber (Ag), Chrom (Cr), Wolfram (W), Nickel (Ni), Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Kobalt (Co) oder Tantal (Ta) und eine Legierung daraus (zum Beispiel eine Ag-Pd-Cu-Legierung, die Silber als eine Hauptkomponente enthält und 0,3 Masse-% bis 1 Masse-% Palladium (Pd) und 0,3 Masse-% bis 1 Masse-% Kupfer (Cu) oder eine Al-Nd-Legierung enthält). Zudem kann, falls ein leitfähiges Material mit einem kleinen Austrittsarbeitswert und hoher Lichtreflektivität, wie etwa Aluminium (Al) oder eine Aluminium enthaltende Legierung, verwendet wird, die erste Elektrode als eine Anodenelektrode verwendet werden, indem eine Lochinjektionseigenschaft zum Beispiel durch Anordnen einer angemessenen Lochinjektionsschicht verbessert wird. Die Dicke der ersten Elektrode kann zum Beispiel 0,1 µm bis 1 µm betragen. Alternativ dazu kann die erste Elektrode eine Struktur aufweisen, die durch Laminieren eines transparenten leitfähigen Materials mit exzellenten Lochinjektionscharakteristiken, wie etwa eines Oxids von Indium und Zinn (ITO) oder eines Oxids von Indium und Zink (IZO), auf einen dielektrischen Mehrschichtfilm oder einen reflektierenden Film mit einer hohen Lichtreflektivität, der Aluminium (Al) und dergleichen beinhaltet, erhalten wird. Währenddessen ist die erste Elektrode, falls bewirkt wird, dass die erste Elektrode als eine Kathodenelektrode fungiert, wünschenswerterweise durch ein leitfähiges Material mit einem kleinen Austrittsarbeitswert und einer hohen Lichtreflektivität ausgebildet. Jedoch kann die erste Elektrode auch als eine Kathodenelektrode verwendet werden, indem eine Elektroneninjektionseigenschaft zum Beispiel durch Anordnen einer angemessenen Elektroneninjektionsschicht in einem leitfähigen Material mit einer hohen Lichtreflektivität, das als eine Anodenelektrode verwendet wird, verbessert wird.
  • Währenddessen ist, falls bewirkt wird, dass die zweite Elektrode als eine Kathodenelektrode fungiert, ein Material, das die zweite Elektrode darstellt (ein halblichttransmittierendes Material oder ein lichttransmittierendes Material), wünschenswerterweise durch ein leitfähiges Material mit einem kleinen Austrittsarbeitswert ausgebildet, so dass es dazu in der Lage ist, emittiertes Licht zu transmittieren und Elektronen effektiv in die Lichtemissionsschicht zu injizieren. Beispiele für das Material, das die zweite Elektrode darstellt, beinhalten ein Metall mit einer kleinen Austrittsarbeit oder eine Legierung davon, wie etwa Aluminium (Al), Silber (Ag), Magnesium (Mg), Calcium (Ca), Natrium (Na), Strontium (Sr), ein Alkalimetall oder ein Erdalkalimetall und Silber (Ag) [z. B. eine Legierung aus Magnesium (Mg) und Silber (Ag) (Mg-Ag-Legierung)], eine Legierung aus Magnesium und Calcium (Mg-Ca-Legierung) und eine Legierung aus Aluminium (Al) und Lithium (Li) (Al-Li-Legierung). Unter diesen Materialien wird eine Mg-Ag-Legierung bevorzugt und ein Volumenverhältnis zwischen Magnesium und Silber kann zum Beispiel Mg : Ag = 2 : 1 bis 30 : 1 betragen. Alternativ dazu kann ein Volumenverhältnis zwischen Magnesium und Calcium zum Beispiel Mg : Ca = 2 : 1 bis 10 : 1 betragen. Außerdem kann die zweite Elektrode eine laminierte Struktur aus Schichten aufweisen, die durch diese Materialien ausgebildet sind (untere Schicht: Calcium (Ca), Barium (Ba), Lithium (Li), Cäsium (Cs), Indium (In), Magnesium (Mg) oder Silber (Ag) / obere Schicht: Magnesium (Mg), Silber (Ag) oder einer Legierung aus diesen). Die Dicke der zweiten Elektrode kann zum Beispiel 3 nm bis 50 nm, bevorzugt 4 nm bis 20 nm und besonders bevorzugt 6 nm bis 12 nm betragen. Alternativ dazu kann die zweite Elektrode eine laminierte Struktur aufweisen, die von der Seite der organischen Schicht durch die oben beschriebene Materialschicht und eine sogenannte transparente Elektrode (zum Beispiel mit einer Dicke 3 × 10-8 m bis 1 × 10-6 m), die zum Beispiel ITO oder IZO enthält, ausgebildet ist. Falls die zweite Elektrode eine laminierte Struktur aufweist, kann die Dicke der oben beschriebenen Materialschicht auf 1 nm bis 4 nm reduziert werden. Des Weiteren ist die zweite Elektrode möglicherweise nur durch eine transparente Elektrode ausgebildet. Währenddessen ist die zweite Elektrode, falls bewirkt wird, dass die zweite Elektrode als eine Anodenelektrode fungiert, wünschenswerterweise durch ein leitfähiges Material ausgebildet, das emittiertes Licht transmittiert und einen großen Austrittsarbeitswert aufweist.
  • Eine Buselektrode (Hilfselektrode), die ein Material mit geringem Widerstand, wie etwa Aluminium, eine Aluminiumlegierung, Silber, eine Silberlegierung, Kupfer, eine Kupferlegierung, Gold oder eine Goldlegierung, enthält, kann des Weiteren in der zweiten Elektrode angeordnet werden, um einen Widerstand für die gesamte zweite Elektrode zu reduzieren.
  • Beispiele für ein Verfahren zum Bilden der ersten Elektrode oder der zweiten Elektrode beinhalten zum Beispiel eine Kombination aus einem Gasphasenabscheidungsverfahren, einschließlich eines Elektronenstrahlgasphasenabscheidungsverfahrens, eines Heißdraht-Gasphasenabscheidungsverfahrens und eines Vakuumgasphasenabscheidungsverfahrens, einem Sputterverfahren, einem chemischen Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD-Verfahren), einem MOCVD-Verfahren, und einem Ionenplattierungsverfahren mit einem Ätzverfahren; verschiedene Druckverfahren, wie etwa ein Siebdruckverfahren, ein Tintenstrahldruckverfahren und ein Metallmaskendruckverfahren; ein Plattierungsverfahren (ein Elektroplattierungsverfahren oder ein stromloses Plattierungsverfahren); ein Liftoff-Verfahren; ein Laserabrasionsverfahren; und ein Sol-Gel-Verfahren. Gemäß den verschiedenen Druckverfahren und dem Plattierungsverfahren kann die erste Elektrode oder die zweite Elektrode mit einer gewünschten Form (Struktur) direkt gebildet werden. Es wird angemerkt, dass, falls die erste Elektrode oder die zweite Elektrode gebildet wird, nachdem die organische Schicht gebildet wurde, die erste Elektrode oder die zweite Elektrode vom Gesichtspunkt des Verhinderns, dass die organische Schicht beschädigt wird, bevorzugt insbesondere basierend auf einem Filmbildungsverfahren, in dem Energie von Filmbildungsteilchen klein ist, wie etwa einem Vakuumabscheidungsverfahren, oder einem Filmbildungsverfahren, wie etwa einem MOCVD-Verfahren, gebildet wird. Wenn die organische Schicht beschädigt ist, können Pixel ohne Lichtemission (oder Subpixel ohne Lichtemission), die als „dunkle Flecken“ bezeichnet werden, aufgrund der Erzeugung eines Leckstroms erzeugt werden. Des Weiteren werden Prozesse von der Bildung der organischen Schicht bis zu der Bildung dieser Elektroden vom Gesichtspunkt des Verhinderns einer Verschlechterung der organischen Schicht aufgrund von Feuchtigkeit in der Atmosphäre bevorzugt durchgeführt, ohne dass diese der Atmosphäre ausgesetzt werden. Die zweite Elektrode muss nicht strukturiert werden.
  • Beispiele für ein Material, das die Lichtreflexionsschicht darstellt, beinhalten Aluminium, eine Aluminiumlegierung (zum Beispiel Al-Nd oder Al-Cu), eine laminierte Al/Ti-Struktur, eine laminierte Al-Cu/Ti-Struktur, Chrom (Cr), Silber (Ag), eine Silberlegierung (zum Beispiel Ag-Pd-Cu oder Ag-Sm-Cu), Platin (Pt), Gold (Au) und Wolfram (W). Zum Beispiel kann die Lichtreflexionsschicht durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren einschließlich eines Elektronenstrahlgasphasenabscheidungsverfahrens, eines Heißdraht-Gasphasenabscheidungsverfahrens und eines Vakuumgasphasenabscheidungsverfahrens, ein SputterVerfahren, ein CVD-Verfahren, ein Ionenplattierungsverfahren; ein Plattierungsverfahren (ein Elektroplattierungsverfahren oder ein stromloses Plattierungsverfahren); ein Liftoff-Verfahren; ein Laserabrasionsverfahren; ein Sol-Gel-Verfahren; und dergleichen gebildet werden.
  • Die organische Schicht beinhaltet zum Beispiel die Lichtemissionsschicht, die ein organisches Lichtemissionsmaterial enthält. Insbesondere kann, wie oben beschrieben, die organische Schicht zum Beispiel durch eine laminierte Struktur aus einer Lochtransportschicht, einer Lichtemissionsschicht und einer Elektronentransportschicht, eine laminierte Struktur aus einer Lochtransportschicht und einer Lichtemissionsschicht, die auch als eine Elektronentransportschicht dient, eine laminierte Struktur aus einer Lochinjektionsschicht, einer Lochtransportschicht, einer Lichtemissionsschicht, einer Elektronentransportschicht und einer Elektroneninjektionsschicht oder dergleichen ausgebildet sein. Beispiele für ein Verfahren zum Bilden der Lichtemissionsschicht oder der organischen Schicht beinhalten ein physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD-Verfahren), wie etwa ein Vakuumgasphasenabscheidungsverfahren; ein Druckverfahren, wie etwa ein Siebdruckverfahren oder ein Tintenstrahldruckverfahren; ein Lasertransferverfahren, in dem eine organische Schicht auf einer Laserabsorptionsschicht durch Bestrahlen einer laminierten Struktur der Laserabsorptionsschicht und der organischen Schicht, die auf einem Transfersubstrat gebildet ist, mit einem Laser separiert wird und die organische Schicht transferiert wird; und verschiedene Beschichtungsverfahren. Falls gewünscht, kann die Lichtemissionsschicht oder die organische Schicht auf der gesamten Oberfläche gebildet werden, ohne strukturiert zu werden.
  • In der Lichtemissionselementeinheit und dergleichen der vorliegenden Offenbarung sind mehrere Lichtemissionselemente auf einem ersten Substrat gebildet. Hier beinhalten Beispiele für das erste Substrat oder ein zweites Substrat ein Glassubstrat mit hoher Entspannungsgrenze, ein Kalk-Natron-Glas (Na2O·CaO·SiO2) -Substrat, ein Borsilicatglas (Na2O·B2O3·SiO2) -Substrat, ein Forsterit (2MgO·SiO2) -Substrat, ein Bleiglas (Na2O·PbO·SiO2)-Substrat, ein alkalifreies Glas, verschiedene Glassubstrate, die jeweils einen auf einer Oberfläche davon gebildeten Isolationsfilm aufweisen, ein Quarzsubstrat, ein Quarzsubstrat mit einem auf einer Oberfläche davon gebildetem Isolationsfilm, ein Siliciumsubstrat mit einer auf einer Oberfläche davon gebildetem Isolationsfilm und ein organisches Polymer, wie etwa Polymethylmethacrylat (PMMA), Polyvinylalkohol (PVA), Polyvinylphenol (PVP), Polyethersulfon (PES), Polyimid, Polycarbonat oder Polyethylenterephthalat (PET) (mit einer Form eines Polymermaterials, wie etwa einem Kunststofffilm, einer Kunststoffplatte oder einem Kunststoffsubstrat, das durch ein Polymermaterial ausgebildet ist und eine Flexibilität aufweist). Materialien, die das erste Substrat und das zweite Substrat darstellen, können gleich oder verschieden voneinander sein. Im Falle eines Oberseitenemissionstyps, bei dem Licht durch das zweite Substrat emittiert wird, muss das zweite Substrat jedoch mit Bezug auf von einem Lichtemissionselement emittiertem Licht transparent sein. Im Falle eines Unterseitenemissionstyps, bei dem Licht durch das erste Substrat emittiert wird, muss das erste Substrat mit Bezug auf von einem Lichtemissionselement emittiertem Licht transparent sein.
  • Bei der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann ein Farbfilter auf der zweiten Substratseite oder der ersten Substratseite angeordnet sein. Das auf der ersten Substratseite angeordnete Farbfilter ist ein sogenanntes On-Chip-Farbfilter (OCCF). Das Farbfilter muss nur durch ein bekanntes Material ausgebildet sein. Insbesondere ist das Farbfilter durch ein Harz ausgebildet, dem ein Färbemittel zugesetzt wird, das ein gewünschtes Pigment oder einen gewünschten Farbstoff enthält. Durch das Auswählen eines Pigments oder Farbstoffs kann eine Anpassung derart durchgeführt werden, dass ein Lichttransmissionsgrad in einem Zielfarbwellenlängenbereich hoch ist und ein Lichttransmissionsgrad in einem anderen Wellenlängenbereich niedrig ist. Eine Lichtabschirmungsschicht kann auf der zweiten Substratseite oder der ersten Substratseite angeordnet sein. Spezielle Beispiele für ein Lichtabschirmungsmaterial, das die Lichtabschirmungsschicht darstellt, beinhalten ein Material, das zum Abschirmen von Licht in der Lage ist, wie etwa Titan (Ti), Chrom (Cr), Wolfram (W), Tantal (Ta), Aluminium (Al) oder MoSi2. Die Lichtabschirmungsschicht kann durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren, einschließlich eines Elektronenstrahlgasphasenabscheidungsverfahrens, eines Heißdraht-Gasphasenabscheidungsverfahrens und eines Vakuumgasphasenabscheidungsverfahrens, ein SputterVerfahren, ein CVD-Verfahren, ein Ionenplattierungsverfahren oder dergleichen gebildet werden. Eine Schwarzmatrixschicht kann auf der zweiten Substratseite oder der ersten Substratseite angeordnet sein. Zum Beispiel ist die Schwarzmatrixschicht durch einen schwarzen Harzfilm (insbesondere zum Beispiel ein schwarzes polyimidbasiertes Harz) mit einer optischen Dichte von 1 oder mehr, der mit einem schwarzen Färbemittel gemischt ist, oder ein Dünnfilmfilter, das Interferenz eines Dünnfilms nutzt, ausgebildet. Zum Beispiel wird das Dünnfilmfilter durch Laminieren von zwei oder mehr Dünnfilmen, die Metall, Metallnitrid oder Metalloxid enthalten, gebildet und schwächt Licht durch Ausnutzen von Interferenz eines Dünnfilms ab. Spezielle Beispiele für den Dünnfilmfilter beinhalten ein Dünnfilmfilter, das durch abwechselndes Laminieren von Cr und Chrom(III)-Oxid (Cr2O3) erhalten wird.
  • Bei dem Oberseitenemissionstyp ist die erste Elektrode zum Beispiel auf einer Zwischenschichtisolationsschicht angeordnet oder ist oberhalb der Zwischenschichtisolationsschicht angeordnet. Eine Zwischenschichtisolationsschicht ist zwischen einem ersten Lichtemissionselement und einem zweiten Lichtemissionselement und zwischen dem zweiten Lichtemissionselement und einem dritten Lichtemissionselement angeordnet. Eine Lichtemissionselementansteuerungseinheit, die auf dem ersten Substrat gebildet ist, ist mit einer Isolationsschicht bedeckt und eine Zwischenschichtisolationsschicht ist auf der Isolationsschicht gebildet.
  • Die Lichtemissionselementansteuerungseinheit ist durch einen oder mehrere Dünnfilmtransistoren (TFTs) ausgebildet. Die TFTs sind durch einen Kontaktstopfen, der in einer Zwischenschichtisolationsschicht angeordnet ist, elektrisch mit der ersten Elektrode verbunden. Eine Gate-Elektrode kann zum Beispiel ein Metall, wie etwa Aluminium (Al), oder Polysilicium beinhalten. Ein Gate-Isolationsfilm ist auf der gesamten Oberfläche des ersten Substrats angeordnet, so dass die Gate-Elektrode bedeckt wird. Der Gate-Isolationsfilm kann zum Beispiel Siliciumoxid (SiO2) oder Siliciumnitrid (SiN) enthalten. Eine Halbleiterschicht enthält zum Beispiel amorphes Silicium, polykristallines Silicium oder einen Oxidhalbleiter und muss nur auf dem Gate-Isolationsfilm gebildet werden. Ein Source/Drain-Gebiet ist durch ein partielles Gebiet der Halbleiterschicht ausgebildet. Ein Gebiet der Halbleiterschicht zwischen dem Drain-Gebiet und dem Source-Gebiet und oberhalb der Gate-Elektrode entspricht einem Kanalbildungsgebiet. Daher ist ein Dünnfilmtransistor vom Unterseiten-Gate-Typ auf dem ersten Substrat angeordnet. Jedoch ist die Lichtemissionselementansteuerungseinheit nicht auf den Dünnfilmtransistor vom Unterseiten-Gate-Typ beschränkt und kann ein Dünnfilmtransistor vom Oberseiten-Gate-Typ sein.
  • Beispiele für ein Material, das die Zwischenschichtisolationsschicht, die Isolationsschicht oder den Isolationsfilm darstellt, beinhaltet ein SiOxbasiertes Material (Material, das einen siliciumbasierten Oxidfilm darstellt), wie etwa SiO2, nichtdotiertes Silicatglas (NSG), Borphosphorsilicatglas (BPSG), PSG, BSG, AsSG, SbSG, PbSG, Spin-On-Glas (SOG), Niedertemperaturoxid (LTO, Niedertemperatur-CVD-SiO2), Glas mit niedrigem Schmelzpunkt oder Glaspaste; ein SiNbasiertes Material einschließlich eines SiON-basierten Materials: SiOC; SiOF; und SiCN. Alternativ dazu können Beispiele für das Material ein anorganisches Isolationsmaterial, wie etwa Titanoxid (TiO2), Tantaloxid (Ta2O5), Aluminiumoxid (AL2O3), Magnesiumoxid (MgO) , Chromoxid (CrOx), Zirconiumoxid (ZrO2), Nioboxid (Nb2O5), Zinnoxid (SnO2) oder Vanadiumoxid (VOx) , beinhalten. Alternativ dazu beinhalten Beispiele für das Material verschiedene Harze, wie etwa ein epoxidbasiertes Harz, ein Acrylharz, ein polyimidbasiertes Harz und ein novolakbasiertes Harz; und zum Beispiel ein Isolationsmaterial mit niedriger dielektrischer Konstante, wie etwa SiOCH, organisches SOC oder ein fluorbasiertes Harz (zum Beispiel ein Material mit einer dielektrischen Konstante k (=ε/ε0) von 3,5 oder weniger, und spezielle Beispiele dafür beinhalten Fluorkohlenstoff, zyklisches Perfluorcarbonpolymer, Benzocyclobuten, zyklisches fluorbasiertes Harz, Polytetrafluorethylen, amorphes Tetrafluorethylen, Polyarylether, fluorierter Arylether, fluoriertes Polyimid, amorpher Kohlenstoff, Parylen (Polyparaxylylen) und fluoriertes Fulleren). Beispiele für das Material beinhalten ferner SiLK (eingetragenes Warenzeichen von The Dow Chemical Co., ein Zwischenschichtisolationsfilmmaterial mit niedriger dielektrischer Konstante vom Beschichtungstyp) und Flare (eingetragenes Warenzeichen von Honeywell Electronic Materials Co., ein Polyarylether(PAE)-basiertes Material). Außerdem können diese Materialien allein oder in angemessenen Kombinationen davon verwendet werden. In manchen Fällen kann die Zwischenschichtisolationsschicht, die Isolationsschicht oder der Isolationsfilm basierend auf einem bekannten Verfahren gebildet werden, wie etwa zum Beispiel verschiedenen CVD-Verfahren, verschiedenen Beschichtungsverfahren, verschiedenen PVD-Verfahren einschließlich eines Sputter-Verfahrens und eines Vakuumgasphasenabscheidungsverfahrens, verschiedenen Druckverfahren, wie etwa einem Siebdruckverfahren, einem Plattierungsverfahren, einem Elektroabscheidungsverfahren, einem Eintauchverfahren oder einem Sol-Gel-Verfahren. Bei einem Unterseitenemissionstyp mit einer Konfiguration und einer Struktur, bei der von einem Lichtemissionselement emittiertes Licht eine Zwischenschichtisolationsschicht durchläuft, muss die Zwischenschichtisolationsschicht ein Material enthalten, das für das von dem Lichtemissionselement emittierte Licht transparent ist, und muss die Lichtemissionselementansteuerungseinheit so gebildet sein, dass das von dem Lichtemissionselement emittierte Licht nicht blockiert wird. Bei dem Unterseitenemissionstyp ist es auch möglich, die Lichtemissionselementansteuerungseinheit oberhalb der ersten Elektrode anzuordnen.
  • Ein isolierender oder leitfähiger Schutzfilm ist bevorzugt oberhalb der organischen Schicht angeordnet, um zu verhindern, dass Feuchtigkeit die organische Schicht erreicht. Der Schutzfilm ist bevorzugt insbesondere basierend auf einem Filmbildungsverfahren gebildet, bei dem die Energie der Filmbildungsteilchen klein ist, wie etwa einem Vakuumabscheidungsverfahren, oder einem Filmbildungsverfahren, wie etwa einem CVD-Verfahren oder einem MOCVD-Verfahren, weil ein Einfluss auf eine Basis reduziert werden kann. Alternativ dazu wird, um eine Reduzierung der Helligkeit aufgrund einer Verschlechterung der organischen Schicht zu vermeiden, eine Filmbildungstemperatur wünschenswerterweise auf Raumtemperatur festgelegt. Um ein Ablösen des Schutzfilms zu verhindern, wird der Schutzfilm zudem wünschenswerterweise unter einer Bedingung gebildet, die eine mechanische Spannung des Schutzfilms minimiert. Des Weiteren wird der Schutzfilm bevorzugt gebildet, ohne eine bereits gebildete Elektrode der Atmosphäre auszusetzen. Infolgedessen kann eine Verschlechterung der organischen Schicht aufgrund von Feuchtigkeit oder Sauerstoff in der Atmosphäre verhindert werden. Zudem ist der Schutzfilm im Fall des Oberseitenemissionstyps bevorzugt durch ein Material ausgebildet, das in der organischen Schicht erzeugtes Licht um zum Beispiel 80 % oder mehr transmittiert. Spezielle Beispiele für das Material beinhalten ein anorganisches amorphes Isolationsmaterial, wie etwa die folgenden Materialien. Solch ein anorganisches amorphes Isolationsmaterial erzeugt keine Körner und weist daher eine niedrige Wasserdurchlässigkeit auf und stellt einen guten Schutzfilm dar. Insbesondere wird als ein Material, das den Schutzfilm darstellt, bevorzugt ein Material verwendet, das für von der Lichtemissionsschicht emittiertes Licht transparent ist, dicht ist und Feuchtigkeit nicht durchlässt. Speziellere Beispiele für das Material beinhalten amorphes Silicium (α-Si), amorphes Siliciumcarbid (α-SiC), amorphes Siliciumnitrid (α-Si1-xNx) , amorphes Siliciumoxid (α-Si1-yOy) , amorphen Kohlenstoff (α-C), amorphes Siliciumoxid/nitrid (α-SiON), Al2O3 und TiO2. Die Dicke des Schutzfilms kann zum Beispiel 1 µm bis 8 µm betragen, aber ist nicht auf diese Werte beschränkt. Es wird angemerkt, dass, falls der Schutzfilm durch ein leitfähiges Material ausgebildet ist, der Schutzfilm nur durch ein transparentes leitfähiges Material, wie etwa ITO oder IZO, ausgebildet sein muss.
  • Das erste Substrat und das zweite Substrat können mit einer Haftschicht (Versiegelungsschicht) aneinander gebondet (versiegelt) sein. Beispiele für ein Material, das die Haftschicht (Versiegelungsschicht) darstellt, beinhalten einen duroplastischen Klebstoff, wie etwa einen Acrylklebstoff, einen epoxidbasierten Klebstoff, einen urethanbasierten Klebstoff, einen siliconbasierten Klebstoff oder einen cyanacrylatbasierten Klebstoff und einen Ultraviolett-aushärtbaren Klebstoff. Es wird angemerkt, dass selbst die organische EL-Anzeigevorrichtung vom Unterseitenemissionstyp eine Form annehmen kann, bei der das zweite Substrat oberhalb der zweiten Elektrode angeordnet ist und der Schutzfilm und die Haftschicht, die oben beschrieben sind, von der Seite der ersten Elektrode zwischen der ersten Elektrode und dem zweiten Substrat gebildet sind.
  • Falls eine Anzeigevorrichtung durch die Lichtemissionselementeinheit und dergleichen der vorliegenden Offenbarung ausgebildet ist, beinhalten Beispiele für die Anzeigevorrichtung eine organische Elektrolumineszenzvorrichtung (abgekürzt als eine organische EL-Anzeigevorrichtung). Wenn die organische EL-Anzeigevorrichtung als eine organische EL-Farbanzeigevorrichtung verwendet wird, stellt jedes von organischen EL-Elementen, die die organische EL-Anzeigevorrichtung darstellen, ein Subpixel dar, wie oben beschrieben ist. Hier ist ein Pixel durch drei Typen von Subpixeln ausgebildet, zum Beispiel ein Rotlichtemissionssubpixel, das rotes Licht emittiert, ein Grünlichtemissionssubpixel, das grünes Licht emittiert, und ein Blaulichtemissionssubpixel, das blaues Licht emittiert. Daher ist, falls die Anzahl an organischen EL-Elementen, die die organische EL-Anzeigevorrichtung darstellen, N × M ist, die Anzahl an Pixel in diesem Fall (N × M)/3. Auf einer äußersten Oberfläche (insbesondere einer Außenoberfläche des zweiten Substrats), die Licht in der Anzeigevorrichtung emittiert, können eine Ultraviolettabsorptionsschicht, eine Kontaminationsverhinderungsschicht, eine Hartbeschichtungsschicht und eine antistatische Schicht gebildet werden oder kann ein Schutzelement (z. B. ein Deckglas) angeordnet werden. Die organische EL-Anzeigevorrichtung kann zum Beispiel als eine Monitorvorrichtung, die einen PC darstellt, oder eine Monitorvorrichtung, die in einen Fernsehbildempfänger, ein Mobiltelefon, einen persönlichen digitalen Assistenten (PDA) oder eine Spielemaschine eingebunden ist, verwendet werden. Alternativ dazu kann die organische EL-Anzeigevorrichtung auf einen elektronischen Sucher (EVF: Electronic View Finder) oder eine am Kopf getragene Anzeige (HMD: Head Mounted Display) angewandt werden. Alternativ dazu kann die organische EL-Anzeigevorrichtung eine Bildanzeigevorrichtung in einem elektronischen Papier, wie etwa einem elektronischen Buch oder einer elektronischen Zeitung, einer Informationstafel, wie etwa einer Anschlagtafel, einem Poster oder einer Tafel, wiederbeschreibbarem Papier, das Druckerpapier ersetzt, einer Anzeigeeinheit eines Haushaltsgeräts, einer Kartenanzeigeeinheit einer Punktekarte und dergleichen, eine elektronische Werbung oder ein elektronisches POP darstellen. Des Weiteren kann eine Beleuchtungsvorrichtung durch die Lichtemissionselementeinheit und dergleichen der vorliegenden Offenbarung ausgebildet sein und Beispiele für die Beleuchtungsvorrichtung beinhalten verschiedene Beleuchtungsvorrichtungen, einschließlich einer Hintergrundbeleuchtungsvorrichtung für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung und eine planare Lichtquellenvorrichtung. Die am Kopf getragene Anzeige beinhaltet zum Beispiel Folgendes:
    1. (a) einen Rahmen, der an dem Kopf eines Beobachters befestigt wird; und
    2. (b) eine Bildanzeigevorrichtung, die an dem Rahmen angebracht ist.
  • Die Bildanzeigevorrichtung beinhaltet Folgendes:
    1. (A) die Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung; und
    2. (B) eine optische Vorrichtung, auf die das von der Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung emittierte Licht auftrifft und von der das Licht emittiert wird.
  • Die optische Vorrichtung beinhaltet Folgendes:
    • (B-1) eine Lichtleiterplatte, in der Licht, das von der Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung auf die Lichtleiterplatte auftrifft, durch Totalreflexion propagiert wird, und wobei dann das Licht von der Lichtleiterplatte zu einem Beobachter hin emittiert wird;
    • (B-2) ein erstes Ablenkungsmittel (zum Beispiel einschließlich eines Volumenhologrammbeugungsgitterfilms), das Licht, das auf die Lichtleiterplatte auftritt, so ablenkt, dass das Licht, das auf die Lichtleiterplatte auftrifft, in der Lichtleiterplatte Totalreflexion unterliegt; und
    • (B-3) ein zweites Ablenkungsmittel (zum Beispiel einschließlich eines Volumenhologrammbeugungsgitterfilms), das in der Lichtleiterplatte durch mehrmalige Totalreflexion propagiertes Licht ablenkt, um das in durch Totalreflexion in der Lichtleiterplatte propagierte Licht von der Lichtleiterplatte zu emittieren.
  • [Beispiel 1]
  • Beispiel 1 betrifft die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung. 1B veranschaulicht ein konzeptuelles Diagramm der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1. 8 veranschaulicht eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1. 10A veranschaulicht eine schematische Draufsicht der ersten Elektrode und dergleichen in der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 wird gemäß der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem ersten Aspekt der vorliegenden Offenbarung beschrieben.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 beinhaltet drei Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) .
  • Das erste Lichtemissionselement 10a wird durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode 21a, einer ersten organischen Schicht 23a einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht, einer 2a-ten Elektrode 22a, einer zweiten organischen Schicht 23b einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer dritten organischen Schicht 23c einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht erhalten.
  • Das zweite Lichtemissionselement 10b wird durch Laminieren der ersten organischen Schicht 23a, einer 1b-ten Elektrode 21b, der zweiten organischen Schicht 23b, einer 2b-ten Elektrode 22b und der dritten organischen Schicht 23c erhalten.
  • Das dritte Lichtemissionselement 10c wird durch Laminieren der ersten organischen Schicht 23a, der zweiten organischen Schicht 23b, einer 1c-ten Elektrode 21c, der dritten organischen Schicht 23c und einer 2c-ten Elektrode 22c erhalten.
  • Des Weiteren wird die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 gemäß der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung beschrieben.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 beinhaltet mehrere Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten 23 (23a, 23b, 23c) jeweils einschließlich einer Lichtemissionsschicht erhalten werden.
  • Jedes der Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) beinhaltet eine erste Elektrode 21 (21a, 21b, 21c), eine beliebige der mehreren organischen Schichten 23 (23a, 23b, 23c) und eine zweite Elektrode 22 (22a, 22b, 22c), und
    die erste Elektroden 21 (21a, 21b, 21c), die die jeweiligen Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) darstellen, überlappen einander nicht zwischen den Lichtemissionselementen. Das heißt, Orthogonalprojektionsbilder (Orthogonalprojektionsbilder auf dem ersten Substrat) der ersten Elektroden 21 (21a, 21b, 21c) überlappen einander nicht.
  • Es wird angemerkt, dass bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 oder Beispiel 3, das später beschrieben ist, insbesondere das erste Lichtemissionselement 10a durch ein Rotlichtemissionselement (organisches EL-Rotlichtemissionselement) dargestellt ist, das zweite Lichtemissionselement 10b durch ein Grünlichtemissionselement (organisches EL-Grünlichtemissionselement) dargestellt ist und das dritte Lichtemissionselement 10c durch ein Blaulichtemissionselement (organisches EL-Blaulichtemissionselement) dargestellt ist.
  • Außerdem sind bei der organischen EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, solche Lichtemissionselementeinheiten in einer zweidimensionalen Matrix angeordnet. Oberhalb eines ersten Substrats 41 sind die erste Elektrode 21 (21a, 21b, 21c), die organische Schicht 23 (23a, 23b, 23c) und die zweite Elektrode 22 (22a, 22b, 22c) in dieser Reihenfolge laminiert. Von der Lichtemissionsschicht emittiertes Licht wird über ein zweites Substrat 42 nach außen emittiert. Das heißt, die Anzeigevorrichtung aus Beispiel 1 ist eine Anzeigevorrichtung vom Oberseitenemissionstyp.
  • Die organische EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, ist eine hochauflösende Anzeigevorrichtung, die zum Beispiel auf einen elektronischen Sucher (EVF: Electronic Viewfinder) oder eine am Kopf getragene Anzeige (HMD: Head Mounted Display) angewandt wird. Alternativ dazu ist die organische EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, eine große organische EL-Anzeigevorrichtung, wie etwa ein Fernsehempfänger. Die Anzahl an Pixeln beträgt zum Beispiel 1920 × 1080. Eines der Lichtemissionselemente 10 stellt ein Subpixel dar und die Anzahl an Lichtemissionselementen (insbesondere organischen EL-Elementen) 10 ist dreimal die Anzahl an Pixeln. Die Anzahl an Lichtemissionselementeinheiten ist gleich der Anzahl an Pixeln.
  • Bei Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, wird die erste Elektrode 21 (21a, 21b, 21c) als eine Anodenelektrode verwendet und wird die zweite Elektrode 22 (22a, 22b, 22c) als eine Kathodenelektrode verwendet. Die erste Elektrode 21 enthält ein Lichtreflexionsmaterial, insbesondere eine Al-Nd-Legierung. Die zweite Elektrode 22 weist eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht auf. Insbesondere enthält die transparente leitfähige Schicht IZO und enthält die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium (Mg) und Silber (Ag). Die halbtransmittierende leitfähige Schicht kann eine laminierte Struktur aufweisen. In diesem Fall kann eine obere Schicht (die Schicht, die sich auf der zweiten Substratseite befindet) eine Legierung aus Magnesium (Mg) und Silber (Ag) beinhalten und kann eine untere Schicht (Schicht, die sich auf der ersten Substratseite befindet) Calcium (Ca) enthalten. Es wird angemerkt, dass die zweite Elektrode 22 in den Zeichnungen als eine einzige Schicht veranschaulicht ist. Die erste Elektrode 21 wird basierend auf einer Kombination aus einem Vakuumgasphasenabscheidungsverfahren und einem Ätzverfahren gebildet. Des Weiteren wird die zweite Elektrode 22 insbesondere durch ein Filmbildungsverfahren gebildet, in dem die Energie von Filmbildungsteilchen klein ist, wie etwa einem Vakuumgasphasenabscheidungsverfahren, und wird nicht strukturiert (siehe das konzeptuelle Diagramm aus 1B), aber kann teilweise strukturiert werden, da 1A ein konzeptuelles Diagramm veranschaulicht.
  • Bei Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, ist die Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit zum Ansteuern des ersten Lichtemissionselements 10a durch einen TFT ausgebildet und der TFT beinhaltet eine Gate-Elektrode 51a, einen Gate-Isolationsfilm 52, eine Siliciumschicht (Halbleiterschicht) 53, ein Kanalbildungsgebiet 54a, das in der Siliciumschicht 53 angeordnet ist, und ein Source/Drain-Gebiet 55a. Ein Teil der Siliciumschicht 53, der sich zwischen den Source/Drain-Gebieten 55a und oberhalb der Gate-Elektrode 51a befindet, entspricht dem Kanalbildungsgebiet 54a. Die Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit zum Ansteuern des zweiten Lichtemissionselements 10b ist ebenfalls durch einen TFT ausgebildet und der TFT beinhaltet eine Gate-Elektrode 51b, den Gate-Isolationsfilm 52, die Siliciumschicht 53, ein Kanalbildungsgebiet 54b, das in der Siliciumschicht 53 angeordnet ist, und ein Source/Drain-Gebiet 55b. Ein Teil der Siliciumschicht 53, der sich zwischen den Source/Drain-Gebieten 55b und oberhalb der Gate-Elektrode 51b befindet, entspricht dem Kanalbildungsgebiet 54b. Die Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit zum Ansteuern des dritten Lichtemissionselements 10c ist ebenfalls durch einen TFT ausgebildet und der TFT beinhaltet eine Gate-Elektrode 51c, den Gate-Isolationsfilm 52, die Siliciumschicht 53, ein Kanalbildungsgebiet 54c, das in der Siliciumschicht 53 angeordnet ist, und ein Source/Drain-Gebiet 55c. Ein Teil der Siliciumschicht 53, der sich zwischen den Source/Drain-Gebieten 55c und oberhalb der Gate-Elektrode 51c befindet, entspricht dem Kanalbildungsgebiet 54c.
  • Es wird angemerkt, dass der TFT bei dem veranschaulichten Beispiel ein Unterseiten-Gate-Typ ist, aber der TFT kann ein Oberseiten-Gate-Typ sein. Die Gate-Elektrode des TFT ist mit einem (nicht veranschaulichten) Scanschaltkreis verbunden. In den Zeichnungen ist ein TFT für eine Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit veranschaulicht. Die Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit ist mit einer Isolationsschicht 43 bedeckt.
  • Die 1a-te Elektrode 21a, die das erste Lichtemissionselement 10a darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 31 gebildet, die auf der Isolationsschicht 43 angeordnet ist, und ist durch einen Kontaktlochteil 56a, der in der Isolationsschicht 43 gebildet ist, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55a des TFT zum Ansteuern des ersten Lichtemissionselements 10a verbunden. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 32 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a umgibt, und die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht ist von der 1a-ten Elektrode 21a, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 32 so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a und die Zwischenschichtisolationsschicht 32 bedeckt. Zudem ist die 2a-te Elektrode 22a auf der ersten organischen Schicht 23a gebildet. Die erste organische Schicht 23a und die 2a-te Elektrode 22a sind sogenannte solide Filme, die nicht strukturiert werden. Es wird angemerkt, dass die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht und die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht oberhalb der 2a-ten Elektrode 22a laminiert sind. Des Weiteren ist eine Zwischenschichtisolationsschicht 33 auf der 2a-ten Elektrode 22a gebildet.
  • Die 1b-te Elektrode 21b, die das zweite Lichtemissionselement 10b darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 34 gebildet, die auf der Isolationsschicht 33 angeordnet ist, und ist durch Kontaktlochteile 56b und 57b, die in der Isolationsschicht 43 und den Zwischenschichtisolationsschichten 31, 32 und 33 gebildet sind, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55b des TFT zum Ansteuern des zweiten Lichtemissionselements 10b verbunden. Ein Isolationsfilm 59A ist derart auf einem Teil einer Innenoberfläche jedes der Kontaktlochteile 57b und 57c gebildet, dass die Kontaktlochteile 57b und 57c nicht mit der 2a-ten Elektrode 22a kurzgeschlossen werden. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 35 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1b-te Elektrode 21b umgibt, und die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht ist von der 1b-ten Elektrode 21b, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 35 so gebildet, dass sie die 1b-te Elektrode 21b und die Zwischenschichtisolationsschicht 35 bedeckt. Zudem ist die 2b-te Elektrode 22b auf der zweiten organischen Schicht 23b gebildet. Die zweite organische Schicht 23b und die 2b-te Elektrode 22b sind sogenannte solide Filme, die nicht strukturiert werden. Es wird angemerkt, dass die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht oberhalb der 2b-ten Elektrode 22b laminiert ist. Des Weiteren befindet sich die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht unterhalb der 1b-ten Elektrode 21b. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 36 ist auf der 2b-ten Elektrode 22b gebildet.
  • Die 1c-te Elektrode 21c, die das dritte Lichtemissionselement 10c darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 37 gebildet, die auf der Isolationsschicht 36 angeordnet ist, und ist durch Kontaktlochteile 56c, 57c und 58c, die in der Isolationsschicht 43 und den Zwischenschichtisolationsschichten 31, 32, 33, 34, 35 und 36 gebildet sind, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55c des TFT zum Ansteuern des dritten Lichtemissionselements 10c verbunden. Ein Isolationsfilm 59B ist derart auf einem Teil einer Innenoberfläche des Kontaktlochteils 58c gebildet, dass der Kontaktlochteil 58c nicht mit der 2b-ten Elektrode 22b kurzgeschlossen wird. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 38 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c umgibt, und die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht ist von der 1c-ten Elektrode 21c, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 38 so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c und die Zwischenschichtisolationsschicht 38 bedeckt. Zudem ist die 2c-te Elektrode 22c auf der dritten organischen Schicht 23c gebildet. Die dritte organische Schicht 23c und die 2c-te Elektrode 22c sind sogenannte solide Filme, die nicht strukturiert werden. Die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht und die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht befinden sich unterhalb der 1c-ten Elektrode 21c.
  • Bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 sind die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c zum Beispiel in einem (nicht veranschaulichten) Außenperipheriegebiet der organischen EL-Anzeigevorrichtung miteinander verbunden und das gleiche Potential wird an diese angelegt, obwohl dies nicht darauf beschränkt ist.
  • Außerdem gilt in der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 oder 3:
    • in dem ersten Lichtemissionselement 10a zwischen einer 1a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode 21a und der ersten organischen Schicht 23a oder einer ersten Lichtreflexionsschicht 25a ausgebildet ist, und einer 2a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2a-ten Elektrode 22a und der ersten organischen Schicht 23a ausgebildet ist, wird in der ersten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert und wird ein Teil des resonierten Lichts von der 2a-ten Elektrode 22a emittiert,
    • in dem zweiten Lichtemissionselement 10b zwischen einer 1b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode 21b und der zweiten organischen Schicht 23b oder einer zweiten Lichtreflexionsschicht 25b ausgebildet ist, und einer 2b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2b-ten Elektrode 22b und der zweiten Schicht 23b ausgebildet ist, wird in der zweiten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert und wird ein Teil des resonierten Lichts von der 2b-ten Elektrode 22b emittiert, und
    • in einem dritten Lichtemissionselement 10c zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode 21c und der dritten organischen Schicht 23c oder einer dritten Lichtreflexionsschicht 25c ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode 22c und der dritten organischen Schicht 23c ausgebildet ist, wird in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert und wird ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode 22c emittiert. Es wird angemerkt, dass in dem später beschriebenen Beispiel 2 in dem dritten Lichtemissionselement 10c zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode 21c und der dritten organischen Schicht 23c oder der dritten Lichtreflexionsschicht 25c ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode 22c und der dritten organischen Schicht 23c ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode 22c emittiert wird. Das heißt, jedes Lichtemissionselement weist eine Resonatorstruktur auf. In 1A und 1B und 2B, 3A, 4C, 5A und 7, die später beschrieben sind, ist die Resonatorstruktur durch einen weißen Pfeil angegeben.
  • Insbesondere gilt:
    • wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 1a-ten Grenzfläche durch L1A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1A repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 2a-ten Grenzfläche durch L2A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2A repräsentiert wird und m1A und m2A ganze Zahlen repräsentieren, sind die folgenden Formeln (A-1), (A-2), (A-3) und (A-4) erfüllt,
    • wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 1b-ten Grenzfläche durch L1B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1B repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 2b-ten Grenzfläche durch L2B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2B repräsentiert wird und m1B und m2B ganze Zahlen repräsentieren, sind die folgenden Formeln (B-1), (B-2), (B-3) und (B-4) erfüllt, und
    • wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch L1C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1C und m2C ganze Zahlen repräsentieren, sind die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt.
  • 0,7 { − Φ 1A / ( 2 π ) + m 1A } ≤ 2 × OL 1A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1A / ( 2 π ) + m 1A }
    Figure DE112019001178T5_0015
     0,7 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A } ≤ 2 × OL 2A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A }
    Figure DE112019001178T5_0016
     L 1 A < L 2 A
    Figure DE112019001178T5_0017
     m 1 A < m 2 A
    Figure DE112019001178T5_0018
     0,7 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B } ≤ 2 × OL 1B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B }
    Figure DE112019001178T5_0019
     0,7 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B } ≤ 2 × OL 2B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B }
    Figure DE112019001178T5_0020
     L 1 B < L 2 B
    Figure DE112019001178T5_0021
     m 1 B < m 2 B
    Figure DE112019001178T5_0022
     0,7 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1C } ≤ 2 × OL 1C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0023
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0024
     L 1 C < L 2 C
    Figure DE112019001178T5_0025
     m 1 C < m 2 C
    Figure DE112019001178T5_0026
  • Hier gilt:
    • λA: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ1A ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2A ≤ 0 erfüllt wird.
    • λB: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1B ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ2B ≤ 0 erfüllt wird.
    • λc: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
  • Außerdem sind in diesem Fall m1A = 0, m2A = 1, m1B = 0, m2B = 1, m1C = 0 und m2C = 1 erfüllt, obwohl dies nicht darauf beschränkt ist.
  • Es wird angemerkt, dass bei dem in 1A, 1B und 5A veranschaulichten Beispiel (Beispiel 3) die 1a-te Grenzfläche durch die Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode 21a und der ersten organischen Schicht 23a ausgebildet ist, die 2a-te Grenzfläche durch die Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode 21b und der zweiten organischen Schicht 23b ausgebildet ist, und die 3a-te Grenzfläche durch die Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode 21c und der dritten organischen Schicht 23c ausgebildet ist. Alternativ dazu kann, wie 2B [Modifikation (2) von Beispiel 1] und 7 [Modifikation (4) von Beispiel 3] veranschaulichen, die erste Lichtreflexionsschicht 25a auf der Zwischenschichtisolationsschicht 31 unterhalb der 1a-ten Elektrode 21a gebildet sein, kann die zweite Lichtreflexionsschicht 25b auf der Isolationsschicht 34 unterhalb der 1b-ten Elektrode 21b gebildet sein, kann die dritte Lichtreflexionsschicht 25c auf der Zwischenschichtisolationsschicht 37 unterhalb der 1c-ten Elektrode 21c gebildet sein, kann die 1a-te Grenzfläche durch die erste Lichtreflexionsschicht 25a ausgebildet sein, kann die 2a-te Grenzfläche durch die zweite Lichtreflexionsschicht 25b ausgebildet sein, und kann die 3a-te Grenzfläche durch die dritte Lichtreflexionsschicht 25c ausgebildet sein. Des Weiteren kann, wie 4C (Modifikation (4) von Beispiel 2) veranschaulicht, die dritte Lichtreflexionsschicht 25c in der Zwischenschichtisolationsschicht 37 unterhalb der 1c-ten Elektrode 21c gebildet sein, kann die 1a-te Grenzfläche durch die erste Lichtreflexionsschicht 25a ausgebildet sein, kann die 2a-te Grenzfläche durch die zweite Lichtreflexionsschicht 25b ausgebildet sein, und kann die 3a-te Grenzfläche durch die dritte Lichtreflexionsschicht 25c ausgebildet sein. Die erste Lichtreflexionsschicht 25a, die zweite Lichtreflexionsschicht 25b und die dritte Lichtreflexionsschicht 25c können jeweils durch zum Beispiel eine Aluminium(Al)-Schicht ausgebildet sein und die 1a-te Elektrode 21a, die 1b-te Elektrode 21b und die 1c-te Elektrode 21c müssen jeweils nur durch ein transparentes leitfähiges Material ausgebildet sein.
  • In Beispiel 1 oder Beispiel 2 oder 3, die später beschrieben sind, ist das erste Substrat 41 durch ein Siliciumsubstrat, ein alkalifreies Glas oder ein Quarzglas ausgebildet und ist das zweite Substrat 42 durch ein alkalifreies Glas oder ein Quarzglas ausgebildet. Ein Schutzfilm 44, der SiN enthält, ist auf der 2c-ten Elektrode 22c gebildet und das erste Substrat 41 und das zweite Substrat 42 sind mit einer (nicht veranschaulichten) Haftschicht (Versiegelungsschicht) aneinander gebondet (aneinander geklebt). Eine Schwarzmatrixschicht BM kann in einem Gebiet des zweiten Substrats 42, das einem Teil zwischen dem ersten Lichtemissionselement 10a und dem zweiten Lichtemissionselement 10b entspricht, in einem Gebiet des zweiten Substrats 42, das einem Teil zwischen dem ersten Lichtemissionselement 10a und dem dritten Lichtemissionselement 10c entspricht, und in einem Gebiet des zweiten Substrats 42, das einem Teil zwischen dem zweiten Lichtemissionselement 10b und dem dritten Lichtemissionselement 10c entspricht, gebildet sein.
  • Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf 19A, 19B, 20A, 20B, 21, 22, 23, 24, 25 und 26, die schematische partielle Endansichten des ersten Substrats und dergleichen sind, ein Verfahren zum Herstellen der Lichtemissionselementeinheit und der organischen EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 1 beschrieben.
  • [Schritt 100]
  • Zuerst wird das erste Substrat 41 vorbereitet und auf dem ersten Substrat 41 wird eine Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit einschließlich eines TFT zum Ansteuern des ersten Lichtemissionselements 10a, des zweiten Lichtemissionselements 10b und des dritten Lichtemissionselements 10c durch ein bekanntes Verfahren angeordnet. Anschließend wird die Isolationsschicht 43 durch ein bekanntes Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet.
  • [Schritt 110]
  • Danach wird das erste Lichtemissionselement 10a gebildet.
  • [Schritt 110A]
  • Insbesondere wird ein Lochteil durch ein Laserätzverfahren in der Isolationsschicht 43 gebildet und werden eines der Source/Drain-Gebiete 55a, eines der Source/Drain-Gebiete 55b und eines der Source/Drain-Gebiete 55c jeweils bei einer Unterseite des Lochteils freigelegt. Dann wird ein leitfähiger Materialfilm auf der Isolationsschicht 43 einschließlich des Inneren des Lochteils gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um die Kontaktlochteile 56a, 56b und 56c zu bilden. Anschließend wird die Zwischenschichtisolationsschicht 31 durch ein bekanntes Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet und wird eine Vertiefung, in der der Kontaktlochteil 56a freigelegt ist, in der Zwischenschichtisolationsschicht 31 oberhalb des Kontaktlochteils 56a gebildet (siehe 19A).
  • [Schritt 110c]
  • Anschließend wird ein leitfähiger Materialfilm zum Bilden der 1a-ten Elektrode 21a auf der Zwischenschichtisolationsschicht 31 einschließlich einer Vertiefung gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um die 1a-te Elektrode 21a zu bilden. Die 1a-te Elektrode 21a und eines der Source/Drain-Gebiete 55a werden durch den Kontaktlochteil 56a elektronisch miteinander verbunden.
  • [Schritt 110C]
  • Als Nächstes wird zum Beispiel die Zwischenschichtisolationsschicht 32, die Siliciumoxinitrid (SiON) enthält, basierend auf einem Sputterverfahren oder einem CVD-Verfahren gebildet und wird eine Öffnung in der Zwischenschichtisolationsschicht 32 basierend auf einem Fotolithografieverfahren und einer Ätztechnik gebildet. Die 1a-te Elektrode 21a wird bei einer Unterseite der Öffnung freigelegt.
  • [Schritt 110D]
  • Danach werden eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Rotlichtemissionsschicht, eine Elektronentransportschicht und eine Elektroneninjektionsschicht in dieser Reihenfolge von der 1a-ten Elektrode 21a zu der Zwischenschichtisolationsschicht 32 durch zum Beispiel ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet, so dass die 1a-te Elektrode 21a und die Zwischenschichtisolationsschicht 32 bedeckt werden, um die erste organische Schicht 23a zu erhalten.
  • [Schritt 110E]
  • Anschließend wird die 2a-te Elektrode 22a zum Beispiel durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet (siehe 19B). Um das Auftreten eines Kurzschlusses zwischen Kontaktlochteilen 57b und 57c, die als Nächstes beschrieben werden, und der 2a-ten Elektrode 22a zu verhindern, wird dann der Isolationsfilm 59A gebildet (siehe 20A) und wird dann der Zwischenschichtisolationsfilm 33, der SiN enthält, durch zum Beispiel ein CVD-Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet.
  • [Schritt 110]
  • Als Nächstes wird das zweite Lichtemissionselement 10b gebildet.
  • [Schritt 120A]
  • Insbesondere wird ein Lochteil in der Zwischenschichtisolationsschicht 33, dem Isolationsfilm 59A und den Zwischenschichtisolationsschichten 32 und 31 durch ein Laserätzverfahren gebildet und werden die Kontaktlochteile 56b und 56c jeweils bei einer Unterseite des Lochs freigelegt. Dann wird ein leitfähiger Materialfilm auf der Zwischenschichtisolationsschicht 33 einschließlich des Inneren des Lochteils gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um die Kontaktlochteile 57b und 57c zu bilden (siehe 20B).
  • [Schritt 120B]
  • Anschließend wird die Zwischenschichtisolationsschicht 34 durch ein bekanntes Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet und wird eine Vertiefung, in der der Kontaktlochteil 57b freigelegt ist, in der Zwischenschichtisolationsschicht 34 oberhalb des Kontaktlochteils 57b gebildet. Dann wird ein leitfähiger Materialfilm zum Bilden der 1b-ten Elektrode 21b auf der Zwischenschichtisolationsschicht 34 einschließlich einer Vertiefung gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um die 1b-te Elektrode 21b zu bilden (siehe 21). Die 1b-te Elektrode 21b und eines der Source/Drain-Gebiete 55b werden durch die Kontaktlochteile 57b und 56b elektronisch miteinander verbunden.
  • [Schritt 120C]
  • Als Nächstes wird zum Beispiel die Zwischenschichtisolationsschicht 35, die Siliciumoxinitrid (SiON) enthält, basierend auf einem Sputterverfahren oder einem CVD-Verfahren gebildet und wird eine Öffnung in der Zwischenschichtisolationsschicht 35 basierend auf einem Fotolithografieverfahren und einer Ätztechnik gebildet. Die 1b-te Elektrode 21b wird bei einer Unterseite der Öffnung freigelegt.
  • [Schritt 120D]
  • Danach werden eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Grünlichtemissionsschicht, eine Elektronentransportschicht und eine Elektroneninjektionsschicht in dieser Reihenfolge von der 1b-ten Elektrode 21b zu der Zwischenschichtisolationsschicht 35 durch zum Beispiel ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet, so dass die 1b-te Elektrode 21b und die Zwischenschichtisolationsschicht 35 bedeckt werden, um die zweite organische Schicht 23b zu erhalten.
  • [Schritt 120E]
  • Anschließend wird die 2b-te Elektrode 22b zum Beispiel durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet (siehe 22). Um das Auftreten eines Kurzschlusses zwischen einem als Nächstes beschriebenen Kontaktlochteil 58c und der 2b-ten Elektrode 22b zu verhindern, wird dann ein Isolationsfilm 59B gebildet (siehe 23). Als Nächstes wird die Zwischenschichtisolationsschicht 36, die SiN enthält, zum Beispiel durch ein CVD-Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet (siehe 24).
  • [Schritt 130]
  • Als Nächstes wird das dritte Lichtemissionselement 10c gebildet.
  • [Schritt 130A]
  • Insbesondere wird ein Lochteil in der Zwischenschichtisolationsschicht 36, dem Isolationsfilm 59B und den Zwischenschichtisolationsschichten 35 und 34 durch ein Laserätzverfahren gebildet und wird der Kontaktlochteil 57c bei einer Unterseite des Lochs freigelegt. Dann wird ein leitfähiger Materialfilm auf der Zwischenschichtisolationsschicht 36 einschließlich des Inneren des Lochteils gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um den Kontaktlochteil 58c zu bilden.
  • [Schritt 130B]
  • Anschließend wird die Zwischenschichtisolationsschicht 37 durch ein bekanntes Verfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet und wird eine Vertiefung, in der der Kontaktlochteil 58c freigelegt ist, in der Zwischenschichtisolationsschicht 37 oberhalb des Kontaktlochteils 58c gebildet. Dann wird ein leitfähiger Materialfilm zum Bilden der 1c-ten Elektrode 21c auf der Zwischenschichtisolationsschicht 37 einschließlich einer Vertiefung gebildet und wird der leitfähige Materialfilm strukturiert, um die 1c-te Elektrode 21c zu bilden (siehe 25). Die 1c-te Elektrode 21c und eines der Source/Drain-Gebiete 55c werden durch die Kontaktlochteile 58c, 57c und 56c elektronisch miteinander verbunden.
  • [Schritt 130C]
  • Als Nächstes wird zum Beispiel die Zwischenschichtisolationsschicht 38, die Siliciumoxinitrid (SiON) enthält, basierend auf einem Sputterverfahren oder einem CVD-Verfahren gebildet und wird eine Öffnung in der Zwischenschichtisolationsschicht 38 basierend auf einem Fotolithografieverfahren und einer Ätztechnik gebildet. Die 1c-te Elektrode 21c wird bei einer Unterseite der Öffnung freigelegt.
  • [Schritt 130D]
  • Danach werden eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Blaulichtemissionsschicht, eine Elektronentransportschicht und eine Elektroneninjektionsschicht in dieser Reihenfolge von der 1c-ten Elektrode 21c zu der Zwischenschichtisolationsschicht 37 durch zum Beispiel ein Gasphasenabscheidungsverfahren gebildet, so dass die 1c-te Elektrode 21c und die Zwischenschichtisolationsschicht 37 bedeckt werden, um die dritte organische Schicht 23c zu erhalten.
  • [Schritt 130E]
  • Anschließend wird die 2c-te Elektrode 22c zum Beispiel durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren auf der gesamten Oberfläche gebildet (siehe 26).
  • [Schritt 140]
  • Danach wird ein Schutzfilm 44, der SiN enthält, auf der gesamten Oberfläche gebildet. Anschließend werden das erste Substrat 41 und das zweite Substrat 42 mit einer (nicht veranschaulichten) Haftschicht (Versiegelungsschicht) aneinander gebondet (geklebt). Durch die obigen Vorgänge kann eine organische EL-Anzeigevorrichtung vervollständigt werden.
  • Bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1, die oben beschrieben ist, wird jedes der Lichtemissionselemente durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht und der dritten organischen Schicht erhalten. Das heißt, die organischen Schichten können ohne Verwendung einer Gasphasenabscheidungsmaske abgeschieden werden. Daher ist eine Maskenausrichtung wie in der RGB-Farbe-separierten Struktur überflüssig und ist es einfach, verschiedene Anzeigevorrichtungen herzustellen, zum Beispiel eine Mikroanzeige, wie etwa eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einem feinen Pixelrastermaß, oder eine großflächige Anzeige, wie etwa eine großflächige organische EL-Anzeigevorrichtung, auf die eine Gasphasenabscheidungsmaske kaum angewandt wird. Zudem weist das erste Lichtemissionselement einen ersten Lichtemissionsteil einschließlich der 1a-ten Elektrode, der ersten organischen Schicht und der 2a-ten Elektrode auf. Das zweite Lichtemissionselement weist einen zweiten Lichtemissionsteil einschließlich der 1b-ten Elektrode, der zweiten organischen Schicht und der 2b-ten Elektrode auf. Das dritte Lichtemissionselement weist einen dritten Lichtemissionsteil einschließlich der 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und der 2c-ten Elektrode auf. In jedem der Lichtemissionsteile kann eine Mikrokavität (Resonatorstruktur) optimiert werden. Alternativ dazu weist jedes der Lichtemissionselemente einen Lichtemissionsteil aus einer ersten Elektrode, einer organischen Schicht und einer zweiten Elektrode auf, wobei die ersten Elektroden, die die jeweiligen Lichtemissionselemente darstellen, einander zwischen den Lichtemissionselementen nicht überlappen. Daher kann die Mikrokavität (Resonatorstruktur) in jedem der Lichtemissionsteile optimiert werden. Daher ist es möglich, eine Lichtextraktionseffizienz zu verbessern und auch eine hohe Lichtausbeute und Farbreinheit zu erzielen.
  • Da 2A ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 1 veranschaulicht und 9 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, können die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode 22 ausgebildet sein. Es wird angemerkt, dass ein Material, das einen Teil der zweiten Elektrode 22, der die 2a-te Elektrode 22a und die 2b-te Elektrode 22b verbindet, und einen Teil der zweiten Elektrode 22, der die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c verbindet, darstellt, das gleiche wie ein Material sein kann, das die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c darstellt, oder verschieden von diesem sein.
  • Bei dem oben beschriebenen Beispiel 1, wie in 10A veranschaulicht, wurden die Kontaktlochteile 56a, 57b und 58c angrenzend an die 1a-te Elektrode 21a, die 1b-te Elektrode 21b bzw. die 1c-te Elektrode 21c gebildet. Jedoch ist die Bildung der Kontaktlochteile nicht auf diese Bildung beschränkt. Zum Beispiel können, wie in 10B veranschaulicht, die Kontaktlochteile 56a, 57b und 58c in unteren Teilen der 1a-ten Elektrode 21a, der 1b-ten Elektrode 21b bzw. der 1c-ten Elektrode 21c gebildet werden. Anstelle des Verbindens der 2a-ten Elektrode 22a, der 2b-ten Elektrode 22b und der 2c-ten Elektrode 22c miteinander in einem (nicht veranschaulichten) Außenperipheriegebiet der organischen EL-Anzeigevorrichtung, wie in 10C veranschaulicht, können die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c des Weiteren durch die Kontaktlochteile 66, 67 und 68 einzeln mit der Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit verbunden sein, oder, wie in 10D veranschaulicht, kann jede Lichtemissionselementeinheit durch einen Kontaktlochteil 69 mit der Organisches-EL-Element-Ansteuerungseinheit verbunden sein. Das gleiche gilt für die unten beschriebenen Beispiele 2 und 3.
  • [Beispiel 2]
  • Beispiel 2 betrifft die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem zweiten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung. 3A veranschaulicht ein konzeptuelles Diagramm der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2. 11 veranschaulicht eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 beinhaltet drei Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c), wobei
    das erste Lichtemissionselement 10a und das zweite Lichtemissionselement 10b nebeneinandergestellt sind, das erste Lichtemissionselement 10a eine 1a-te Elektrode 21a, eine erste organische Schicht 23d einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und eine 2a-te Elektrode 22a beinhaltet und das zweite Lichtemissionselement 10b eine 1b-te Elektrode 21b, die erste organische Schicht 23d und eine 2b-te Elektrode 22b beinhaltet,
    das dritte Lichtemissionselement 10c durch Laminieren der ersten organischen Schicht 23d, einer 1c-ten Elektrode 21c, einer dritten organischen Schicht 23c einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode 22c erhalten wird,
    ein erstes Farbfilter 24a auf einer Lichtemissionsseite des ersten Lichtemissionselements 10a angeordnet ist, und
    ein zweites Farbfilter 24b auf einer Lichtemissionsseite des zweiten Lichtemissionselements 10b angeordnet ist.
  • Hier sind die 2a-te Elektrode 22a und die 2b-te Elektrode 22b gemeinsam und können nachfolgend als „gemeinsame zweite Elektrode 22d“ bezeichnet werden.
  • Des Weiteren wird die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 gemäß der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung beschrieben.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 beinhaltet mehrere Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten 23 (23d, 23d, 23c) jeweils einschließlich einer Lichtemissionsschicht erhalten werden.
  • Jedes der Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) beinhaltet eine erste Elektrode 21 (21a, 21b, 21c), eine beliebige der mehreren organischen Schichten 23 (23d, 23d, 23c) und eine zweite Elektrode 22 (22a, 22b, 22c), und
    die ersten Elektroden 21 (21a, 21b, 21c), die die jeweiligen Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) darstellen, überlappen einander nicht zwischen den Lichtemissionselementen. Das heißt, Orthogonalprojektionsbilder (Orthogonalprojektionsbilder auf einem ersten Substrat 41) der ersten Elektroden 21 (21a, 21b, 21c) überlappen einander nicht.
  • In der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 können das erste Lichtemissionselement 10a und das zweite Lichtemissionselement 10b jeweils durch ein Gelblichtemissionselement (organisches EL-Gelblichtemissionselement) ausgebildet sein oder können durch ein Orangelichtemissionselement (organisches EL-Orangelichtemissionselement) ausgebildet sein. Das heißt, die organische Schicht 23d emittiert gelbes Licht oder oranges Licht. Außerdem muss in diesem Fall das erste Farbfilter 24a nur ein Filter sein, das selektiv eine rote Farbe transmittiert, und muss das zweite Farbfilter 24b nur ein Filter sein, das selektiv eine grüne Farbe transmittiert. Des Weiteren muss das dritte Lichtemissionselement 10c nur durch ein Blaulichtemissionselement (organisches EL-Blaulichtemissionselement) ausgebildet sein und emittiert die organische Schicht 23c blaues Licht. Eine Schwarzmatrixschicht BM kann zwischen einem Farbfilter und einem Farbfilter angeordnet sein.
  • Die 1a-te Elektrode 21a, die das erste Lichtemissionselement 10a darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 31 gebildet, die auf der Isolationsschicht 43 angeordnet ist, und ist durch einen Kontaktlochteil 56a, der in der Isolationsschicht 43 gebildet ist, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55a des TFT zum Ansteuern des ersten Lichtemissionselements 10a verbunden. Die 1a-te Elektrode 21a, die das zweite Lichtemissionselement 10b darstellt, ist auch auf der Zwischenschichtisolationsschicht 31 gebildet, die auf der Isolationsschicht 43 angeordnet ist, und ist durch den Kontaktlochteil 56b, der in der Isolationsschicht 43 gebildet ist, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55b des TFT zum Ansteuern des zweiten Lichtemissionselements 10b verbunden. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 32 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a und die 1b-te Elektrode 21b umgibt, und die erste organische Schicht 23d einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht ist von der 1a-ten Elektrode 21a und der 1b-ten Elektrode 21b, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt sind, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 32 so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a, die 1b-te Elektrode 21b und die Zwischenschichtisolationsschicht 32 bedeckt. Zudem ist die gemeinsame zweite Elektrode 22d auf der ersten organischen Schicht 23d gebildet. Die erste organische Schicht 23d und die gemeinsame zweite Elektrode 22d sind sogenannte solide Filme, die nicht strukturiert werden. Es wird angemerkt, dass die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht oberhalb der gemeinsamen zweiten Elektrode 22d laminiert ist, die sich in einem Gebiet außer dem Gebiet des ersten Lichtemissionselements 10a und dem Gebiet des zweiten Lichtemissionselements 10b befindet. Des Weiteren ist die Zwischenschichtisolationsschicht 33 auf der gemeinsamen zweiten Elektrode 22d gebildet.
  • Die 1c-te Elektrode 21c, die das dritte Lichtemissionselement 10c darstellt, ist auf der Zwischenschichtisolationsschicht 34 gebildet, die auf der Isolationsschicht 33 angeordnet ist, und ist durch Kontaktlochteile 56c und 57c, die in der Isolationsschicht 43 und den Zwischenschichtisolationsschichten 31, 32, 33 und 34 gebildet sind, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55c des TFT zum Ansteuern des dritten Lichtemissionselements 10c verbunden. Ein Isolationsfilm 59A ist derart auf einem Teil einer Innenoberfläche des Kontaktlochteils 57c gebildet, dass der Kontaktlochteil 57c nicht mit der gemeinsamen zweiten Elektrode 22d kurzgeschlossen wird. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 35 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c umgibt, und die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht ist von der 1c-ten Elektrode 21c, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 35 so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c und die Zwischenschichtisolationsschicht 35 bedeckt. Zudem ist die 2c-te Elektrode 22c auf der dritten organischen Schicht 23c gebildet. Die dritte organische Schicht 23c und die 2c-te Elektrode 22c sind strukturiert.
  • Auch bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 sind die gemeinsame zweite Elektrode 22d und die 2c-te Elektrode 22c zum Beispiel in einem (nicht veranschaulichten) Außenperipheriegebiet der organischen EL-Anzeigevorrichtung miteinander verbunden und das gleiche Potential wird an diese angelegt, obwohl dies nicht darauf beschränkt ist.
  • Die Lichtemissionselementeinheit und die organische EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 2 können durch ein Verfahren hergestellt werden, das dem Verfahren zum Herstellen einer Lichtemissionselementeinheit und einer organischen EL-Anzeigevorrichtung, das in Beispiel 1 beschrieben ist, im Wesentlichen ähnlich ist, und daher ist eine ausführliche Beschreibung davon ausgelassen.
  • Bei der oben beschriebenen Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 beinhalten das erste Lichtemissionselement und das zweite Lichtemissionselement jeweils die erste organische Schicht und wird das dritte Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht und der dritten organischen Schicht erhalten. Das heißt, die organischen Schichten können ohne Verwendung einer Gasphasenabscheidungsmaske abgeschieden werden. Daher ist eine Maskenausrichtung wie in der RGB-Farbe-separierten Struktur überflüssig und ist es einfach, verschiedene Anzeigevorrichtungen herzustellen, zum Beispiel eine Mikroanzeige, wie etwa eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einem feinen Pixelrastermaß, oder eine großflächige Anzeige, wie etwa eine großflächige organische EL-Anzeigevorrichtung, auf die eine Gasphasenabscheidungsmaske kaum angewandt wird. Zudem teilen sich das erste Lichtemissionselement und das zweite Lichtemissionselement die erste organische Schicht. Daher kann dies die Strukturen des ersten Lichtemissionselements und des zweiten Lichtemissionselements vereinfachen und dies erleichtert eine Herstellung. Zudem weist das dritte Lichtemissionselement den dritten Lichtemissionsteil einschließlich der 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und der 2c-ten Elektrode auf und kann eine Mikrokavität (Resonatorstruktur) in dem dritten Lichtemissionsteil optimieren. Daher kann die Lichtextraktionseffizienz verbessert werden und können eine hohe Lichtausbeute und Farbreinheit erreicht werden. Es wird angemerkt, dass nur zwei Typen von Farbfiltern notwendig sind und daher eine Abnahme der Lichtausbeute weiter reduziert werden kann.
  • Es wird angemerkt, dass, da 3B ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 veranschaulicht und 12 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht oberhalb der gemeinsamen zweiten Elektrode 22d laminiert werden kann, die sich in dem Gebiet des ersten Lichtemissionselements 10a und dem Gebiet des zweiten Lichtemissionselements 10b befindet.
  • Zudem kann, da 4A ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 veranschaulicht und 13 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, eine Form angenommen werden, bei der das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode 22a und die 2b-te Elektrode 22b angelegt wird, und zudem kann eine Form angenommen werden, bei der das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c angelegt wird. Insbesondere können die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22C jeweils durch die gemeinsame zweite Elektrode 22 ausgebildet sein. Es wird angemerkt, dass ein Material, das einen Teil der zweiten Elektrode 22, der die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c verbindet, darstellt, das gleiche wie ein Material sein kann, das die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c darstellt, oder verschieden von diesem sein.
  • Da 4B ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (3), die eine Modifikation der Modifikationen (1) und (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 2 ist, veranschaulicht und 14 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, kann zudem die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht oberhalb der 2a-ten Elektrode 22a und der 2b-ten Elektrode 22b laminiert werden kann, die sich in dem Gebiet des ersten Lichtemissionselements 10a und dem Gebiet des zweiten Lichtemissionselements 10b befinden.
  • [Beispiel 3]
  • Beispiel 3 betrifft die Lichtemissionselementeinheit gemäß dem dritten und vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung. 5A veranschaulicht ein konzeptuelles Diagramm der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3. 15 veranschaulicht eine schematische partielle Querschnittsansicht der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 beinhaltet drei Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) .
  • Das erste Lichtemissionselement 10a wird durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode 21a, einer ersten organischen Schicht 23a einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und einer 2a-ten Elektrode 22a erhalten.
  • Das zweite Lichtemissionselement 10b wird durch Laminieren der ersten organischen Schicht 23a, einer 1b-ten Elektrode 21b, einer zweiten organischen Schicht 23b einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer 2b-ten Elektrode 22b erhalten.
  • Das dritte Lichtemissionselement 10c wird durch Laminieren der ersten organischen Schicht 23a, der zweiten organischen Schicht 23b, einer 1c-ten Elektrode 21c, einer dritten organischen Schicht 23c einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode 22c erhalten.
  • Des Weiteren wird die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 gemäß der Lichtemissionselementeinheit gemäß dem vierten Aspekt der vorliegenden Offenbarung beschrieben.
  • Die Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 beinhaltet mehrere Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten 23 (23a, 23b, 23c) jeweils einschließlich einer Lichtemissionsschicht erhalten werden.
  • Jedes der Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) beinhaltet eine erste Elektrode 21 (21a, 21b, 21c), eine beliebige der mehreren organischen Schichten 23 (23a, 23b, 23c) und eine zweite Elektrode 22 (22a, 22b, 22c), und
    die erste Elektroden 21 (21a, 21b, 21c), die die jeweiligen Lichtemissionselemente 10 (10a, 10b, 10c) darstellen, überlappen einander nicht zwischen den Lichtemissionselementen. Das heißt, Orthogonalprojektionsbilder (Orthogonalprojektionsbilder auf einem ersten Substrat 41) der ersten Elektroden 21 (21a, 21b, 21c) überlappen einander nicht.
  • Die 1a-te Elektrode 21a, die das erste Lichtemissionselement 10a darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 31 gebildet, die auf der Isolationsschicht 43 angeordnet ist, und ist durch einen Kontaktlochteil 56a, der in der Isolationsschicht 43 gebildet ist, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55a des TFT zum Ansteuern des ersten Lichtemissionselements 10a verbunden. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 32 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a umgibt, und die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht ist von der 1a-ten Elektrode 21a, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 32 so gebildet, dass sie die 1a-te Elektrode 21a und die Zwischenschichtisolationsschicht 32 bedeckt. Zudem ist die 2a-te Elektrode 22a auf der ersten organischen Schicht 23a gebildet. Die erste organische Schicht 23a und die 2a-te Elektrode 22a sind sogenannte solide Filme, die nicht strukturiert werden. Es wird angemerkt, dass die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht und die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht nicht oberhalb der 2a-ten Elektrode 22a angeordnet sind. Des Weiteren ist eine Zwischenschichtisolationsschicht 33 auf einem Teil der 2a-ten Elektrode 22a gebildet.
  • Die 1b-te Elektrode 21b, die das zweite Lichtemissionselement 10b darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 34 gebildet, die auf der Isolationsschicht 33 angeordnet ist, und ist durch Kontaktlochteile 56b und 57b, die in der Isolationsschicht 43 und den Zwischenschichtisolationsschichten 31, 32 und 33 gebildet sind, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55b des TFT zum Ansteuern des zweiten Lichtemissionselements 10b verbunden. Ein Isolationsfilm 59A ist derart auf einem Teil einer Innenoberfläche jedes der Kontaktlochteile 57b und 57c gebildet, dass die Kontaktlochteile 57b und 57c nicht mit der 2a-ten Elektrode 22a kurzgeschlossen werden. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 35 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1b-te Elektrode 21b umgibt, und die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht ist von der 1b-ten Elektrode 21b, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 35 so gebildet, dass sie die 1b-te Elektrode 21b und die Zwischenschichtisolationsschicht 35 bedeckt. Zudem ist die 2b-te Elektrode 22b auf der zweiten organischen Schicht 23b gebildet. Die zweite organische Schicht 23b und die 2b-te Elektrode 22b sind strukturiert. Die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht ist nicht oberhalb der 2b-ten Elektrode 22b angeordnet. Des Weiteren befindet sich die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht unterhalb der 1b-ten Elektrode 21b. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 36 ist auf einem Teil der 2b-ten Elektrode 22b gebildet.
  • Die 1c-te Elektrode 21c, die das dritte Lichtemissionselement 10c darstellt, ist auf einer Zwischenschichtisolationsschicht 37 gebildet, die auf der Isolationsschicht 36 angeordnet ist, und ist durch Kontaktlochteile 56c, 57c und 58c, die in der Isolationsschicht 43 und den Zwischenschichtisolationsschichten 31, 32, 33, 34, 35 und 36 gebildet sind, mit einem der Source/Drain-Gebiete 55c des TFT zum Ansteuern des dritten Lichtemissionselements 10c verbunden. Ein Isolationsfilm 59B ist derart auf einem Teil einer Innenoberfläche des Kontaktlochteils 58c gebildet, dass der Kontaktlochteil 58c nicht mit der 2b-ten Elektrode 22b kurzgeschlossen wird. Eine Zwischenschichtisolationsschicht 38 mit einer Öffnung ist so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c umgibt, und die dritte organische Schicht 23c einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht ist von der 1c-ten Elektrode 21c, die auf einer Unterseite der Öffnung freigelegt ist, zu der Zwischenschichtisolationsschicht 38 so gebildet, dass sie die 1c-te Elektrode 21c und die Zwischenschichtisolationsschicht 38 bedeckt. Zudem ist die 2c-te Elektrode 22c auf der dritten organischen Schicht 23c gebildet. Die dritte organische Schicht 23c und die 2c-te Elektrode 22c sind strukturiert. Die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht und die erste organische Schicht 23a einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht befinden sich unterhalb der 1c-ten Elektrode 21c.
  • Auch bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 sind die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c zum Beispiel in einem (nicht veranschaulichten) Außenperipheriegebiet der organischen EL-Anzeigevorrichtung miteinander verbunden und das gleiche Potential wird an diese angelegt, obwohl dies nicht darauf beschränkt ist.
  • Die Lichtemissionselementeinheit und die organische EL-Anzeigevorrichtung aus Beispiel 3 können durch ein Verfahren hergestellt werden, das dem Verfahren zum Herstellen einer Lichtemissionselementeinheit und einer organischen EL-Anzeigevorrichtung, das in Beispiel 1 beschrieben ist, im Wesentlichen ähnlich ist, und daher ist eine ausführliche Beschreibung davon ausgelassen.
  • Auch bei der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3, die oben beschrieben ist, können die organischen Schichten ohne Verwenden einer Gasphasenabscheidungsmaske abgeschieden werden. Daher ist eine Maskenausrichtung wie in der RGB-Farbe-separierten Struktur überflüssig und ist es einfach, verschiedene Anzeigevorrichtungen herzustellen, zum Beispiel eine Mikroanzeige, wie etwa eine organische EL-Anzeigevorrichtung mit einem feinen Pixelrastermaß, oder eine großflächige Anzeige, wie etwa eine großflächige organische EL-Anzeigevorrichtung, auf die eine Gasphasenabscheidungsmaske kaum angewandt wird. Zudem weist das erste Lichtemissionselement einen ersten Lichtemissionsteil einschließlich der 1a-ten Elektrode, der ersten organischen Schicht und der 2a-ten Elektrode auf. Das zweite Lichtemissionselement weist einen zweiten Lichtemissionsteil einschließlich der 1b-ten Elektrode, der zweiten organischen Schicht und der 2b-ten Elektrode auf. Das dritte Lichtemissionselement weist einen dritten Lichtemissionsteil einschließlich der 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und der 2c-ten Elektrode auf. In jedem der Lichtemissionsteile kann eine Mikrokavität (Resonatorstruktur) optimiert werden. Daher ist es möglich, eine Lichtextraktionseffizienz zu verbessern und auch eine hohe Lichtausbeute und Farbreinheit zu erzielen.
  • Es wird angemerkt, dass, da 5B ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (1) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 veranschaulicht und 16 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, die zweite organische Schicht 23b auf (oder oberhalb) der 2a-ten Elektrode 22a gebildet werden kann. Das heißt, die zweite organische Schicht 23b einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht kann oberhalb der 2a-ten Elektrode 22a laminiert sein, die sich in dem Gebiet des Gebiets des ersten Lichtemissionselements 10a befindet.
  • Da des Weiteren 6A ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 veranschaulicht und 17 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht und da des Weiteren 6B ein konzeptuelles Diagramm einer Modifikation (3), die eine Modifikation einer Modifikation (1) und (2) der Lichtemissionselementeinheit aus Beispiel 3 ist, veranschaulicht und 18 eine schematische partielle Querschnittsansicht davon veranschaulicht, können die 2ate Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode 22 ausgebildet sein. Es wird angemerkt, dass ein Material, das einen Teil der zweiten Elektrode 22, der die 2a-te Elektrode 22a und die 2b-te Elektrode 22b verbindet, und einen Teil der zweiten Elektrode 22, der die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c verbindet, darstellt, das gleiche wie ein Material sein kann, das die 2a-te Elektrode 22a, die 2b-te Elektrode 22b und die 2c-te Elektrode 22c darstellt, oder verschieden von diesem sein.
  • Bisher wurde die vorliegende Offenbarung basierend auf bevorzugten Beispielen beschrieben. Die vorliegende Offenbarung ist jedoch nicht auf diese Beispiele beschränkt. Die Konfigurationen und Strukturen der Lichtemissionselementeinheit, des Lichtemissionselements und der organischen EL-Anzeigevorrichtung, die in Beispielen beschrieben sind, sind veranschaulichend und können angemessen geändert werden. In den Beispielen 1 und 3 sind (das erste Lichtemissionselement, das zweite Lichtemissionselement und das dritte Lichtemissionselement) durch (ein Rotlichtemissionselement, ein Grünlichtemissionselement bzw. ein Blaulichtemissionselement) ausgebildet. Alternativ dazu können (das erste Lichtemissionselement, das zweite Lichtemissionselement und das dritte Lichtemissionselement) durch (ein Rotlichtemissionselement, ein Blaulichtemissionselement und ein Grünlichtemissionselement), (ein Grünlichtemissionselement, ein Rotlichtemissionselement und ein Blaulichtemissionselement), (ein Grünlichtemissionselement, ein Blaulichtemissionselement und ein Rotlichtemissionselement), (ein Blaulichtemissionselement, ein Rotlichtemissionselement und ein Grünlichtemissionselement) bzw. (ein Blaulichtemissionselement, ein Grünlichtemissionselement und Rotlichtemissionselement) ausgebildet sein. Die erste organische Schicht, die zweite organische Schicht und die dritte organische Schicht können, falls gewünscht, in zum Beispiel eine Streifenform strukturiert werden.
  • Eine Lichtabschirmungsschicht kann zwischen einem Lichtemissionselement und einem Lichtemissionselement angeordnet sein, um zu verhindern, dass von einem gewissen Lichtemissionselement emittiertes Licht in ein Lichtemissionselement angrenzend an das gewisse Lichtemissionselement eindringt, um optisches Nebensprechen zu verursachen. Mit anderen Worten kann eine Kerbe zwischen einem Lichtemissionselement und einem Lichtemissionselement gebildet werden und kann die Kerbe mit einem Lichtabschirmungsmaterial gefüllt werden, um die Lichtabschirmungsschicht zu bilden. Durch das Anordnen der Lichtabschirmungsschicht auf diese Weise ist es möglich, ein Verhältnis, mit dem von einem gewissen Lichtemissionselement emittiertes Licht in ein angrenzendes Lichtemissionselement eintritt, zu reduzieren und das Auftreten eines Phänomens, dass eine Farbvermischung auftritt und eine Farbart der gesamten Pixel von der gewünschten Farbart verschoben wird, zu unterdrücken. Außerdem kann eine Farbvermischung verhindert werden. Daher nimmt eine Farbreinheit zu, wenn monochromatisches Licht von einem Pixel emittiert wird, und ist ein Farbort tief. Daher wird ein Farbumfang erweitert und wird ein Bereich eines Farbausdrucks der Anzeigevorrichtung erweitert. Alternativ dazu kann eine Lichtabschirmungseigenschaft für eine Schwarzmatrixschicht BM vermittelt werden.
  • Die Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung kann auf eine digitale Wechselobjektspiegelreflexfotokamera angewandt werden. 27A veranschaulicht eine Vorderansicht der digitalen Fotokamera und 27B veranschaulicht eine Rückansicht davon. Diese digitale Wechselobjektspiegelreflexfotokamera weist zum Beispiel eine Wechselbildgebungslinseneinheit (Wechselobjektiv) 212 auf der vorderen rechten Seite eines Kamerakörpers 211 auf und weist einen Griffteil 213, der durch eine Bilder aufnehmende Person zu ergreifen ist, auf der vorderen linken Seite von dieser auf. Außerdem ist ein Monitor 214 im Wesentlichen in dem Zentrum auf einer hinteren Oberfläche des Kamerakörpers 211 angeordnet. Ein elektronischer Bildsucher (Augenstückfenster) 215 ist oberhalb eines Monitors 214 angeordnet. Indem man durch den elektronischen Sucher 215 blickt, kann eine ein Bild aufnehmende Person ein Lichtbild eines Motivs, das von der Bildgebungslinseneinheit 212 geleitet wird, visuell bestätigen und kann eine Komposition bestimmen. Bei der digitalen Wechselobjektivspiegelreflexfotokamera mit einer solchen Konfiguration kann die Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung als der elektronische Sucher 215 verwendet werden.
  • Alternativ dazu kann die Anzeigevorrichtung in der vorliegenden Offenbarung auf eine am Kopf getragene Anzeige angewandt werden. Da 28 eine externe Ansicht veranschaulicht, ist eine am Kopf getragene Anzeige 300 durch eine transmittierende am Kopf getragene Anzeige mit einem Hauptkörper 301, einem Arm 302 und einem Linsentubus 303 ausgebildet. Der Hauptkörper 301 ist mit dem Arm 302 und einer Brille 310 verbunden. Insbesondere ist ein Ende des Hauptkörpers 301 in einer Richtung der langen Seite an dem Arm 302 angebracht. Des Weiteren ist eine von Seitenoberflächen des Hauptkörpers 301 durch ein (nicht veranschaulichtes) Verbindungsglied mit der Brille 310 verbunden. Es wird angemerkt, dass der Hauptkörper 301 direkt an dem Kopf eines menschlichen Körpers angebracht werden kann. Der Hauptkörper 301 weist ein Steuersubstrat zum Steuern eines Betriebs der am Kopf getragenen Anzeige 300 und eine eingebaute Anzeigeeinheit auf. Der Arm 302 stützt den Linsentubus 303 mit Bezug auf den Hauptkörper 301, indem er den Hauptkörper 301 mit dem Linsentubus 303 verbindet. Insbesondere fixiert der Arm 302 den Linsentubus 303 an dem Hauptkörper 301, indem er mit einem Ende des Hauptkörpers 301 und einem Ende des Linsentubus 303 verbunden wird. Des Weiteren weist der Arm 302 eine eingebaute Signalleitung zum Kommunizieren von Daten bezüglich eines Bildes auf, das von dem Hauptkörper 301 an den Linsentubus 303 geliefert wird. Der Linsentubus 303 projiziert von dem Hauptkörper 301 über den Arm 302 bereitgestelltes Licht zu den Augen eines Benutzers, der die am Kopf getragene Anzeige 300 trägt, durch die Linse 311 der Brille 310. In der am Kopf befestigten Anzeige 300 mit der oben beschriebenen Konfiguration kann die Anzeigevorrichtung der vorliegenden Offenbarung als die in dem Hauptkörper 301 eingebaute Anzeigeeinheit verwendet werden.
  • Es ist zu beachten, dass die vorliegende Offenbarung die folgenden Konfigurationen aufweisen kann.
  • [A01] «Lichtemissionselementeinheit: erster Aspekt»
  • Eine Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente beinhaltet, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht, einer 2a-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht erhalten wird,
    ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, der zweiten organischen Schicht, einer 2b-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht erhalten wird, und
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
    [A02] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A01], wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode ausgebildet sind.
    [A03] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A01] oder [A02], wobei das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
    [A04] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [A01] bis [A03], wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen.
    [A05] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A04], wobei die transparente leitfähige Schicht ein Oxid aus Indium und Zink (IZO) enthält.
    [A06] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A04] oder [A05], wobei die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium und Silber enthält.
    [A07] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [A01] bis [A06], wobei
    in dem ersten Lichtemissionselement zwischen einer 1a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht oder einer ersten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht ausgebildet ist, in der ersten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2a-ten Elektrode emittiert wird,
    in dem zweiten Lichtemissionselement zwischen einer 1b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht oder einer zweiten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht ausgebildet ist, in der zweiten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2b-ten Elektrode emittiert wird, und
    in dem dritten Lichtemissionselement zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht oder einer dritten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode emittiert wird.
    [A08] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A07], wobei wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 1a-ten Grenzfläche durch L1A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1A repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 2a-ten Grenzfläche durch L2A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2A repräsentiert wird und m1A und m2A ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (A-1), (A-2), (A-3) und (A-4) erfüllt sind,
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 1b-ten Grenzfläche durch L1B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1B repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 2b-ten Grenzfläche durch L2B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2B repräsentiert wird und m1B und m2B ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (B-1), (B-2), (B-3) und (B-4) erfüllt sind, und
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch L1c repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1C und m2C ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt sind. 0,7 { − Φ 1A / ( 2 π ) + m 1A } ≤ 2 × OL 1A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1A / ( 2 π ) + m 1A }
    Figure DE112019001178T5_0027
     0,7 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A } ≤ 2 × OL 2A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 2A / ( 2 π ) + m 2A }
    Figure DE112019001178T5_0028
     L 1 A < L 2 A
    Figure DE112019001178T5_0029
     m 1 A < m 2 A
    Figure DE112019001178T5_0030
     0,7 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B } ≤ 2 × OL 1B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1B / ( 2 π ) + m 1B }
    Figure DE112019001178T5_0031
     0,7 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B } ≤ 2 × OL 2B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 2B / ( 2 π ) + m 2B }
    Figure DE112019001178T5_0032
     L 1 B < L 2 B
    Figure DE112019001178T5_0033
     m 1 B < m 2 B
    Figure DE112019001178T5_0034
     0,7 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1C } ≤ 2 × OL 1C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1C / ( 2 π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0035
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0036
     0,7 { − Φ 2 C / ( 2 Π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0037
     L 1C < L 2C
    Figure DE112019001178T5_0038
     m 1C < m 2C
    Figure DE112019001178T5_0039
  • Hier gilt:
    • λA: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1A ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2A ≤ 0 erfüllt wird.
    • λB: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1B ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ2B ≤ 0 erfüllt wird.
    • λc: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
    [A09] Die Lichtemissionselementeinheit nach [A08], wobei m1A = 0, m2A = 1, m1B = 0, m2B = 1, m1C = 0 und m2C = 1 erfüllt werden.
  • [B01] «Lichtemissionselementeinheit: zweiter Aspekt»
  • Eine Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente beinhaltet, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement und ein zweites Lichtemissionselement nebeneinandergestellt sind, das erste Lichtemissionselement eine 1a-te Elektrode, eine erste organische Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und eine 2a-te Elektrode beinhaltet und das zweite Lichtemissionselement eine 1b-te Elektrode, die erste organische Schicht und eine 2b-te Elektrode beinhaltet,
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird,
    ein erstes Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des ersten Lichtemissionselements angeordnet ist, und
    ein zweites Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des zweiten Lichtemissionselements angeordnet ist.
    [B02] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B01], wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode ausgebildet sind.
    [B03] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B01] oder [B02], wobei das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
    [B04] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [B1] bis [B03], wobei die 2a-te Elektrode und die 2b-te Elektrode jeweils eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen.
    [B05] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B04], wobei die transparente leitfähige Schicht ein Oxid aus Indium und Zink (IZO) enthält.
    [B06] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B04] oder [B05], wobei die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium und Silber enthält.
    [B07] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [B1] bis [B03], wobei die 2c-te Elektrode eine Legierung aus Magnesium und Silber enthält.
    [B08] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [B1] bis [B03], wobei die Struktur der 2a-ten Elektrode und der 2b-ten Elektrode verschieden von der Struktur der 2c-ten Elektrode sind.
    [B09] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [B01] bis [B06], wobei in dem dritten Lichtemissionselement zwischen der 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht oder der dritten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode emittiert wird.
    [B10] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B09], wobei wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch L1C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1C und m2C ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt sind. 0,7 { − Φ 1C / ( 2 Π ) + m 1 C } ≤ 2 × OL 1C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1 C / ( 2 Π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0040
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0041
     L 1C < L 2C
    Figure DE112019001178T5_0042
     m 1C < m 2C
    Figure DE112019001178T5_0043
  • Hier gilt:
    • λc: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2Π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
    [B11] Die Lichtemissionselementeinheit nach [B10], wobei m1C = 0 und m2C = 1 erfüllt werden.
  • [C01] «Lichtemissionselementeinheit: dritter Aspekt»
  • Eine Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente beinhaltet, wobei
    ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und einer 2a-ten Elektrode erhalten wird,
    ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer 2b-ten Elektrode erhalten wird, und
    ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
    [C02] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C01], wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode ausgebildet sind.
    [C03] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C01] oder [C02], wobei das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
    [C04] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [C01] bis [C03], wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen.
    [C05] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C04], wobei die transparente leitfähige Schicht ein Oxid aus Indium und Zink (IZO) enthält.
    [C06] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C04] oder [C05], wobei die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium und Silber enthält.
    [C07] Die Lichtemissionselementeinheit nach einem von [C01] bis [C06], wobei
    in dem ersten Lichtemissionselement zwischen einer 1a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht oder einer ersten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht ausgebildet ist, in der ersten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2a-ten Elektrode emittiert wird,
    in dem zweiten Lichtemissionselement zwischen einer 1b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht oder einer zweiten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht ausgebildet ist, in der zweiten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2b-ten Elektrode emittiert wird, und
    in dem dritten Lichtemissionselement zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht oder einer dritten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode emittiert wird. [C08] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C07], wobei wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 1a-ten Grenzfläche durch L1A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1A repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 2a-ten Grenzfläche durch L2A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2A repräsentiert wird und m1A und m2A ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (A-1), (A-2), (A-3) und (A-4) erfüllt sind,
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 1b-ten Grenzfläche durch L1B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1B repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 2b-ten Grenzfläche durch L2B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2B repräsentiert wird und m1B und m2B ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (B-1), (B-2), (B-3) und (B-4) erfüllt sind, und
    wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch L1C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1C und m2C ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt sind. 0,7 { − Φ 1A / ( 2 Π ) + m 1 A } ≤ 2 × OL 1A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1 A / ( 2 Π ) + m 1A }
    Figure DE112019001178T5_0044
     0,7 { − Φ 2A / ( 2 Π ) + m 2A } ≤ 2 × OL 2A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 2 A / ( 2 Π ) + m 2A }
    Figure DE112019001178T5_0045
     L 1A < L 2A
    Figure DE112019001178T5_0046
     m 1A < m 2A
    Figure DE112019001178T5_0047
     0,7 { − Φ 1B / ( 2 Π ) + m 1 B } ≤ 2 × OL 1B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1 B / ( 2 Π ) + m 1B }
    Figure DE112019001178T5_0048
     0,7 { − Φ 2B / ( 2 Π ) + m 2B } ≤ 2 × OL 2B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 2B / ( 2 Π ) + m 2B }
    Figure DE112019001178T5_0049
     L 1B < L 2B
    Figure DE112019001178T5_0050
     m 1B < m 2B
    Figure DE112019001178T5_0051
     0,7 { − Φ 1C / ( 2 Π ) + m 1 C } ≤ 2 × OL 1 C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1 C / ( 2 Π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0052
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0053
     L 1C < L 2C
    Figure DE112019001178T5_0054
     m 1C < m 2C
    Figure DE112019001178T5_0055
  • Hier gilt:
    • λA: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1A ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2A ≤ 0 erfüllt wird.
    • λB: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1B ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2B ≤ 0 erfüllt wird.
    • λc: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird)
    • Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird.
    • Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant)
    • Unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
    [C09] Die Lichtemissionselementeinheit nach [C08], wobei m1A = 0, m2A = 1, m1B = 0, m2B = 1, m1C = 0 und m2C = 1 erfüllt werden.
  • [D01] «Lichtemissionselementeinheit: vierter Aspekt»
  • Eine Lichtemissionselementeinheit, die Folgendes beinhaltet: mehrere Lichtemissionselemente mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten erhalten wird, die jeweils eine Lichtemissionsschicht beinhalten, wobei
    jedes der Lichtemissionselemente eine erste Elektrode, eine beliebige der mehreren organischen Schichten und eine zweite Elektrode beinhaltet, und
    die ersten Elektroden, die die jeweiligen Lichtemissionselemente darstellen, einander zwischen den Lichtemissionselementen nicht überlappen.
  • [E01] «Organische Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung»
  • Eine organische Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die durch Anordnen der Lichtemissionselementeinheiten nach einem von [A01] bis [D01] in einer zweidimensionalen Matrix erhalten wird.
  • [E02] «Anzeigevorrichtung»
  • Eine Anzeigevorrichtung, die durch Anordnen der Lichtemissionselementeinheiten nach einem von [A01] bis [D01] in einer zweidimensionalen Matrix erhalten wird.
  • Bezugszeichenliste
    • 10 (10a, 10b, 10c)
    Lichtemissionselement
    10a
    Erstes Lichtemissionselement
    10b
    Zweites Lichtemissionselement
    10c
    Drittes Lichtemissionselement
    21a
    1a-te Elektrode
    21b
    1b-te Elektrode
    21c
    1c-te Elektrode
    22a
    2a-te Elektrode
    22b
    2b-te Elektrode
    22c
    2c-te Elektrode
    22d
    Gemeinsame zweite Elektrode (2a-te Elektrode und
    2b-te
    Elektrode)
    23a
    Erste organische Schicht einschließlich der ersten Lichtemissionsschicht
    23b
    Zweite organische Schicht einschließlich der zweiten Lichtemissionsschicht
    23c
    Dritte organische Schicht einschließlich der dritten Lichtemissionsschicht
    23d
    Erste organische Schicht und zweite organische Schicht
    24a, 24b
    Farbfilter
    25a, 25b,25c
    Lichtreflexionsschicht
    BM
    Schwarzmatrixschicht
    31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38
    Zwischenschichtisolationsschicht
    41 Erstes
    Substrat
    42 Zweites
    Substrat
    43
    Isolationsschicht
    44
    Schutzfilm
    51a, 51b, 51c
    Gate-Elektrode
    52
    Gate-Isolationsfilm
    53
    Siliciumschicht (Halbleiterschicht)
    54a, 54b, 54c
    Kanalbildungsgebiet
    55a, 55b, 55c
    Source/Drain-Gebiet
    56a, 56b, 56c, 57b, 57c, 58c66, 67, 68, 69
    Kontaktlochteil
    59A, 59B
    Isolationsfilm
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 2006278257 [0004, 0005]

Claims (13)

  1. Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente umfasst, wobei ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht, einer 2a-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht erhalten wird, ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, der zweiten organischen Schicht, einer 2b-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht erhalten wird, und ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, der dritten organischen Schicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
  2. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 1, wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils durch eine gemeinsame zweite Elektrode ausgebildet sind.
  3. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 1, wobei das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
  4. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 1, wobei die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode jeweils eine laminierte Struktur aus einer transparenten leitfähigen Schicht und einer halbtransmittierenden leitfähigen Schicht aufweisen.
  5. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 4, wobei die transparente leitfähige Schicht ein Oxid aus Indium und Zink (IZO) enthält.
  6. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 4, wobei die halbtransmittierende leitfähige Schicht eine Legierung aus Magnesium und Silber enthält.
  7. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 1, wobei in dem ersten Lichtemissionselement zwischen einer 1a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht oder einer ersten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2a-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2a-ten Elektrode und der ersten organischen Schicht ausgebildet ist, in der ersten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2a-ten Elektrode emittiert wird, in dem zweiten Lichtemissionselement zwischen einer 1b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht oder einer zweiten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2b-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2b-ten Elektrode und der zweiten organischen Schicht ausgebildet ist, in der zweiten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2b-ten Elektrode emittiert wird, und in dem dritten Lichtemissionselement zwischen einer 1c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 1c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht oder einer dritten Lichtreflexionsschicht ausgebildet ist, und einer 2c-ten Grenzfläche, die durch eine Grenzfläche zwischen der 2c-ten Elektrode und der dritten organischen Schicht ausgebildet ist, in der dritten Lichtemissionsschicht emittiertes Licht resoniert wird und ein Teil des resonierten Lichts von der 2c-ten Elektrode emittiert wird.
  8. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 7, wobei wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 1a-ten Grenzfläche durch L1A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1A repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der ersten Lichtemissionsschicht zu der 2a-ten Grenzfläche durch L2A repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2A repräsentiert wird und m1A und m2A ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (A-1), (A-2), (A-3) und (A-4) erfüllt sind, wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 1b-ten Grenzfläche durch L1B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1B repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der zweiten Lichtemissionsschicht zu der 2b-ten Grenzfläche durch L2B repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2B repräsentiert wird und m1B und m2B ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (B-1), (B-2), (B-3) und (B-4) erfüllt sind, und wenn eine Entfernung von einer maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 1c-ten Grenzfläche durch L1C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL1C repräsentiert wird, eine Entfernung von der maximalen Emissionsposition der dritten Lichtemissionsschicht zu der 2c-ten Grenzfläche durch L2C repräsentiert wird, eine optische Entfernung davon durch OL2C repräsentiert wird und m1C und m2C ganze Zahlen repräsentieren, die folgenden Formeln (C-1), (C-2), (C-3) und (C-4) erfüllt sind; 0,7 { − Φ 1 A / ( 2 Π ) + m 1 A } ≤ 2 × OL 1A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1 A / ( 2 Π ) + m 1A }
    Figure DE112019001178T5_0056
     0,7 { − Φ 2A / ( 2 Π ) + m 2A } ≤ 2 × OL 2A / λ A ≤ 1,2 { − Φ 1 A / ( 2 Π ) + m 2A }
    Figure DE112019001178T5_0057
     L 1A < L 2A
    Figure DE112019001178T5_0058
     m1A < m2A
    Figure DE112019001178T5_0059
     0,7 { − Φ 1B / ( 2 Π ) + m 1 B } ≤ 2 × OL 1B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1 B / ( 2 Π ) + m 1B }
    Figure DE112019001178T5_0060
     0,7 { − Φ 2B / ( 2 Π ) + m 2B } ≤ 2 × OL 2B / λ B ≤ 1,2 { − Φ 1 B / ( 2 Π ) + m 2B }
    Figure DE112019001178T5_0061
     L1B < L2B
    Figure DE112019001178T5_0062
     m 1B < m 2B
    Figure DE112019001178T5_0063
     0,7 { − Φ 1C / ( 2 Π ) + m 1 C } ≤ 2 × OL 1C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 1 C / ( 2 Π ) + m 1C }
    Figure DE112019001178T5_0064
     0,7 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C } ≤ 2 × OL 2C / λ C ≤ 1,2 { − Φ 2C / ( 2 Π ) + m 2C }
    Figure DE112019001178T5_0065
     L 1C < L 2C
    Figure DE112019001178T5_0066
     m 1C < m 2C
    Figure DE112019001178T5_0067
    hier gilt: λA: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der ersten Lichtemissionsschicht erzeugt wird) Φ1A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1A ≤ 0 erfüllt wird. Φ2A: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2a-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2A ≤ 0 erfüllt wird. λB: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der zweiten Lichtemissionsschicht erzeugt wird) Φ1B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1B ≤ 0 erfüllt wird. Φ2B: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2b-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2B ≤ 0 erfüllt wird. λc: maximale Spitzenwellenlänge eines Spektrums von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird (oder eine gewünschte Wellenlänge von Licht, das in der dritten Lichtemissionsschicht erzeugt wird) Φ1C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 1c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ1C ≤ 0 erfüllt wird. Φ2C: Phasenverschiebungsbetrag von Licht, das durch die 2c-te Grenzfläche reflektiert wird (Einheit: Radiant) unter der Voraussetzung, dass -2π < Φ2C ≤ 0 erfüllt wird.
  9. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 8, wobei m1A = 0, m2A = 1, m1B = 0, m2B = 1, m1C = 0 und m2C = 1 erfüllt werden.
  10. Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente umfasst, wobei ein erstes Lichtemissionselement und ein zweites Lichtemissionselement nebeneinandergestellt sind, das erste Lichtemissionselement eine 1a-te Elektrode, eine erste organische Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und eine 2a-te Elektrode beinhaltet und das zweite Lichtemissionselement eine 1b-te Elektrode, die erste organische Schicht und eine 2b-te Elektrode beinhaltet, ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird, ein erstes Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des ersten Lichtemissionselements angeordnet ist, und ein zweites Farbfilter auf einer Lichtemissionsseite des zweiten Lichtemissionselements angeordnet ist.
  11. Lichtemissionselementeinheit nach Anspruch 10, wobei das gleiche Potential an die 2a-te Elektrode, die 2b-te Elektrode und die 2c-te Elektrode angelegt wird.
  12. Lichtemissionselementeinheit, die drei Lichtemissionselemente umfasst, wobei ein erstes Lichtemissionselement durch Laminieren einer 1a-ten Elektrode, einer ersten organischen Schicht einschließlich einer ersten Lichtemissionsschicht und einer 2a-ten Elektrode erhalten wird, ein zweites Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, einer 1b-ten Elektrode, einer zweiten organischen Schicht einschließlich einer zweiten Lichtemissionsschicht und einer 2b-ten Elektrode erhalten wird, und ein drittes Lichtemissionselement durch Laminieren der ersten organischen Schicht, der zweiten organischen Schicht, einer 1c-ten Elektrode, einer dritten organischen Schicht einschließlich einer dritten Lichtemissionsschicht und einer 2c-ten Elektrode erhalten wird.
  13. Lichtemissionselementeinheit, die Folgendes umfasst: mehrere Lichtemissionselemente mit einer laminierten Struktur, die durch Laminieren mehrerer organischer Schichten erhalten wird, die jeweils eine Lichtemissionsschicht beinhalten, wobei jedes der Lichtemissionselemente eine erste Elektrode, eine beliebige der mehreren organischen Schichten und eine zweite Elektrode beinhaltet, und die ersten Elektroden, die die jeweiligen Lichtemissionselemente darstellen, einander zwischen den Lichtemissionselementen nicht überlappen.
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