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ATE496766T1 - Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte - Google Patents

Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte

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ATE496766T1
ATE496766T1 AT07004347T AT07004347T ATE496766T1 AT E496766 T1 ATE496766 T1 AT E496766T1 AT 07004347 T AT07004347 T AT 07004347T AT 07004347 T AT07004347 T AT 07004347T AT E496766 T1 ATE496766 T1 AT E496766T1
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AT
Austria
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ink composition
printing plate
recording method
platonic
curable composition
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Application number
AT07004347T
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English (en)
Inventor
Kotaro Watanabe
Original Assignee
Fujifilm Corp
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    • G—PHYSICS
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AT07004347T 2006-03-03 2007-03-02 Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte ATE496766T1 (de)

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DE (1) DE602007012161D1 (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE494341T1 (de) * 2005-11-04 2011-01-15 Fujifilm Corp Härtbare tintenzusammensetzung und oxetanverbindung
WO2008007564A1 (fr) * 2006-07-10 2008-01-17 Panasonic Corporation Dispositif d'application à jet d'encre, support d'enregistrement d'informations multicouche et procédé de fabrication du support
WO2010002262A1 (en) * 2008-07-04 2010-01-07 Suprapolix B.V. High flow supramolecular compounds
JP5461809B2 (ja) * 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
CN102712657A (zh) 2009-10-16 2012-10-03 Rib-X制药公司 抗微生物化合物和其制备和使用方法
CA2777741A1 (en) 2009-10-16 2011-04-21 Rib-X Pharmaceuticals, Inc. Antimicrobial compounds and methods of making and using the same
MX2016003046A (es) 2013-09-09 2016-09-08 Melinta Therapeutics Inc Compuestos antimicrobianos y métodos de fabricación y utilización de los mismos.
EP3039025A4 (de) 2013-09-09 2017-05-31 Melinta Therapeutics, Inc. Antimikrobielle verbindungen und verfahren zur herstellung und verwendung davon
EP3268370A4 (de) 2015-03-11 2018-08-22 Melinta Therapeutics, Inc. Antimikrobielle verbindungen und verfahren zur herstellung und verwendung davon
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
WO2017193016A1 (en) 2016-05-06 2017-11-09 Melinta Therapeutics, Inc. Antimicrobials and methods of making and using same

Family Cites Families (148)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US3214463A (en) 1960-05-12 1965-10-26 Du Pont Uv-absorbing sulfonated benzophenone derivatives
US3902114A (en) 1967-10-20 1975-08-26 Gunther Alich Method of and apparatus for measuring the distance between cooperating rollers of a rolling mill
BE757036A (fr) 1969-10-07 1971-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd Materiels photosensibles de photographie en couleurs ayant une meilleure solidite a la lumiere
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
DE2150691C2 (de) 1971-10-12 1982-09-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Lichtempfindliches Gemisch und Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches zur Herstellung einer Flachdruckplatte
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
US3779778A (en) 1972-02-09 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Photosolubilizable compositions and elements
DE2242106A1 (de) 1972-08-26 1974-03-21 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches photographisches material
USRE27992E (en) 1973-01-31 1974-04-30 Fig.io
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
JPS5249029A (en) 1975-10-16 1977-04-19 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide color photographic light sensitive material
DE2718130C2 (de) 1977-04-23 1979-05-17 Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 4000 Duesseldorf lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JPS5448535A (en) 1977-08-31 1979-04-17 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Color photographic material
JPS5494319A (en) 1978-01-09 1979-07-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Silver halide photographic material
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4181531A (en) 1978-04-07 1980-01-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Positive non-silver systems containing nitrofuryldihydropyridine
JPS6053300B2 (ja) 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
DE2922746A1 (de) 1979-06-05 1980-12-11 Basf Ag Positiv arbeitendes schichtuebertragungsmaterial
EP0044115B2 (de) 1980-07-14 1987-06-03 Akzo N.V. Einen blockierten Katalysator enthaltende wärmehärtbare Überzugszusammensetzung
US4478967A (en) 1980-08-11 1984-10-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photolabile blocked surfactants and compositions containing the same
US4371605A (en) 1980-12-09 1983-02-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and N-hydroxyimide sulfonates
US4431774A (en) 1981-09-14 1984-02-14 Ciba-Geigy Corporation Process for the curing of stoving lacquers
US4510290A (en) 1982-01-11 1985-04-09 Ciba Geigy Corporation Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for the curing thereof
JPS58185677A (ja) 1982-04-22 1983-10-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 紫外線吸収剤
EP0101122B1 (de) 1982-08-09 1986-06-18 Akzo N.V. Wärmehärtbare Überzugszusammensetzung, die eine blockierte Säure als Katalysator enthält
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
US5073476A (en) 1983-05-18 1991-12-17 Ciba-Geigy Corporation Curable composition and the use thereof
JPS60132767A (ja) 1983-12-21 1985-07-15 Seikosha Co Ltd インクジエツトプリンタ
US4554238A (en) 1984-03-20 1985-11-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Spectrally-sensitized imaging system
JPS60198538A (ja) 1984-03-22 1985-10-08 Toshiba Corp ポジ型レジスト材料
JPS60218309A (ja) 1984-04-16 1985-11-01 Nippon Oil & Fats Co Ltd パ−ル状ヘア−リンス
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3435443A1 (de) 1984-09-27 1986-04-03 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Fotografisches aufzeichnungsmaterial
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
US4587346A (en) 1985-01-22 1986-05-06 Ciba-Geigy Corporation Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures
DE3660255D1 (en) 1985-04-12 1988-07-07 Ciba Geigy Ag Oxime sulphonates containing reactive groups
JPS6215853A (ja) 1985-07-15 1987-01-24 Nec Corp 半導体装置
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS6269263A (ja) 1985-09-24 1987-03-30 Toshiba Corp 感光性組成物
EP0223739A1 (de) 1985-11-06 1987-05-27 Ciba-Geigy Ag Neue Dibenzoxaphosphorine
JPS62135826A (ja) 1985-12-09 1987-06-18 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 熱現像感光材料
JPS62173463A (ja) 1986-01-28 1987-07-30 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
JPS62183457A (ja) 1986-02-07 1987-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
JPS62215272A (ja) 1986-02-17 1987-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd カラ−画像形成方法
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
GB8610610D0 (en) 1986-04-30 1986-06-04 Kodak Ltd Stabilization of dye images
JPS6326653A (ja) 1986-07-21 1988-02-04 Tosoh Corp フオトレジスト材
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP0264730B1 (de) 1986-10-10 1993-07-14 Konica Corporation Photographisches lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial, das ein Farbstoffbild mit einer verbesserten Lichtechtheit liefert
GB8625149D0 (en) 1986-10-21 1986-11-26 Kodak Ltd Stabilisation of dye images
JPS63146029A (ja) 1986-12-10 1988-06-18 Toshiba Corp 感光性組成物
JPS63146038A (ja) 1986-12-10 1988-06-18 Toshiba Corp 感光性組成物
DE3642855C1 (de) 1986-12-16 1988-06-23 Du Pont Deutschland Lichtempfindliches Gemisch
GB8630129D0 (en) 1986-12-17 1987-01-28 Ciba Geigy Ag Formation of image
JPH0830876B2 (ja) 1986-12-25 1996-03-27 コニカ株式会社 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
AU612143B2 (en) 1987-03-19 1991-07-04 Xytronyx, Inc. Systems for the visualization of exposure to ultraviolet radiation and for the utilization of ultraviolet radiation to effect color changes
JPS63235382A (ja) 1987-03-25 1988-09-30 Seiko Epson Corp インク組成物
JPH0743536B2 (ja) 1987-05-29 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
JP2582578B2 (ja) 1987-07-14 1997-02-19 日本化薬株式会社 感光性樹脂組成物
DE3852742T3 (de) 1987-09-21 2005-02-10 Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. N-substituierte sterisch gehinderte Amin-Stabilisatoren.
EP0309401B2 (de) 1987-09-21 2002-06-05 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Stabilisierung einer Beschichtung mit sterisch gehinderten N-hydroxysubstituierten Aminen
DE3871062D1 (de) 1987-09-30 1992-06-17 Ciba Geigy Ag Stabilisatoren fuer farbphotographische aufzeichnungsmaterialien.
DE3887428D1 (de) 1987-09-30 1994-03-10 Ciba Geigy Phenolische Thianderivate.
JP2528334B2 (ja) 1987-10-09 1996-08-28 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラ―写真感光材料
US4846009A (en) 1987-10-21 1989-07-11 Caterpillar Inc. Countershaft transmission
DE3804533A1 (de) 1988-02-13 1989-08-24 Ciba Geigy Ag Siliziumhaltige positiv-fotoresistzusammensetzungen mit 1,2-disulfonen
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
GB8808694D0 (en) 1988-04-13 1988-05-18 Kodak Ltd Stabilization of dye images produced in photographic materials
JPH027825A (ja) 1988-06-13 1990-01-11 Toshiba Corp 回転動ケーブリングラック
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JP2641070B2 (ja) 1988-12-06 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02161445A (ja) 1988-12-15 1990-06-21 Fujitsu Ltd 可視レーザ記録用感光材料
EP0388343B1 (de) 1989-03-14 1996-07-17 International Business Machines Corporation Chemisch amplifizierter Photolack
JP2661671B2 (ja) 1989-03-20 1997-10-08 株式会社日立製作所 パタン形成材料とそれを用いたパタン形成方法
DE3914407A1 (de) 1989-04-29 1990-10-31 Basf Ag Strahlungsempfindliche polymere und positiv arbeitendes aufzeichnungsmaterial
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
IT1233538B (it) 1989-07-25 1992-04-03 Dolomite Spa Scarpone da sci a calzata posteriore
JPH03121449A (ja) 1989-07-25 1991-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
DE3930086A1 (de) 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3930087A1 (de) 1989-09-09 1991-03-14 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
GB8923480D0 (en) 1989-10-18 1989-12-06 Moore John A Improvements relating to hanger support elements
JP2845995B2 (ja) 1989-10-27 1999-01-13 株式会社日立製作所 領域抽出手法
JPH03216379A (ja) 1990-01-22 1991-09-24 Canon Inc インクジェット記録媒体及びインクジェット記録方法
JP2500533B2 (ja) 1990-01-30 1996-05-29 和光純薬工業株式会社 新規なジアゾジスルホン化合物
JPH0662905B2 (ja) 1990-03-07 1994-08-17 大日本塗料株式会社 インク組成物
JPH0621256B2 (ja) 1990-03-07 1994-03-23 大日本塗料株式会社 インク組成物
DE59107294D1 (de) 1990-05-10 1996-03-07 Ciba Geigy Ag Strahlenhärtbare lichtstabilisierte Zusammensetzungen
US5254433A (en) 1990-05-28 1993-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Dye fixing element
GB9123070D0 (en) 1991-10-30 1991-12-18 Domino Printing Sciences Plc Ink
JPH0561166A (ja) 1991-05-28 1993-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
DE59205075D1 (de) 1991-07-03 1996-02-29 Ciba Geigy Ag Phenylthiophenylketone
US5298380A (en) 1991-09-05 1994-03-29 Ciba-Geigy Corporation Photographic material which contains a UV absober
JP2687264B2 (ja) 1991-10-25 1997-12-08 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
KR100316724B1 (ko) 1992-09-07 2002-02-28 에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러 히드록시페닐-s-트리아진
FR2703553B1 (fr) 1993-04-02 1995-05-12 Gec Alsthom Transport Sa Procédé de contrôle actif du bruit produit par un appareil et dispositif de mise en Óoeuvre du procédé.
JP2776204B2 (ja) 1993-07-14 1998-07-16 日本電気株式会社 アルキルスルホニウム塩、遠紫外線露光用感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
JP3131720B2 (ja) * 1993-12-21 2001-02-05 富士写真フイルム株式会社 ジアゾニウム塩化合物含有マイクロカプセルの製造方法及びこれを用いた感光感熱記録材料
JP2770740B2 (ja) 1994-07-14 1998-07-02 日本電気株式会社 橋かけ環式アルキル基を有するスルホニウム塩化合物および光酸発生剤
US5556973A (en) 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
AU703967B2 (en) 1994-10-10 1999-04-01 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bisresorcinyltriazines
EP0750224A3 (de) 1995-06-19 1997-01-08 Eastman Kodak Company UV-absorbierende Polymere auf der Basis von 2'-Hydroxyphenylbenzotriazol mit besonderer Substituenten und diese enthaltende photographischen Elemente
JP3667410B2 (ja) 1995-12-28 2005-07-06 日本化薬株式会社 インクジエット記録方式用紫外線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
US5948605A (en) 1996-08-16 1999-09-07 Eastman Kodak Company Ultraviolet ray absorbing polymer latex compositions, method of making same, and imaging elements employing such particles
GB2319523B (en) 1996-11-20 2000-11-08 Ciba Sc Holding Ag Hydroxyphenyltriazines
US6096903A (en) * 1997-03-25 2000-08-01 Ivoclar Ag Hydrolysable and polymerizable oxetane silanes
JP3629907B2 (ja) 1997-07-29 2005-03-16 宇部興産株式会社 熱硬化性オキセタン組成物
JP3629911B2 (ja) 1997-08-12 2005-03-16 宇部興産株式会社 熱硬化性オキセタン組成物
CN100349994C (zh) 1998-04-15 2007-11-21 Basf涂料日本株式会社 涂膜形成方法与涂料组合物
DE69941954D1 (de) * 1998-07-09 2010-03-11 Jsr Corp Oxetanderivate, oxetancopolymer, und verfahren zur herstellung von oxetanderivaten
JP2003026978A (ja) 1998-09-08 2003-01-29 Ricoh Co Ltd 記録液体
JP4825992B2 (ja) 1999-08-11 2011-11-30 綜研化学株式会社 アクリル系粘着剤組成物、該組成物を用いた粘着テープの製造方法および粘着テープ
JP2001181547A (ja) 1999-12-22 2001-07-03 Fuji Photo Film Co Ltd 着色微粒子分散物、インクジェット用インク及びインクジェット記録方法
JP4441995B2 (ja) 2000-06-28 2010-03-31 三菱化学株式会社 光重合性組成物、光重合性着色組成物およびカラーフィルター
JP3659628B2 (ja) 2000-06-30 2005-06-15 株式会社神鋼環境ソリューション 電極板
JP2002121414A (ja) 2000-07-17 2002-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 着色組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法
JP4226803B2 (ja) 2000-08-08 2009-02-18 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
JP2002112414A (ja) 2000-10-02 2002-04-12 Maspro Denkoh Corp 情報用分電盤
JP2002114930A (ja) 2000-10-05 2002-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット用インク及びインクジェット記録方法
JP4061876B2 (ja) 2000-10-10 2008-03-19 東洋インキ製造株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ
JP3991191B2 (ja) * 2001-06-14 2007-10-17 信越化学工業株式会社 ラクトン構造を有する新規（メタ）アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
JP2003192943A (ja) 2001-10-19 2003-07-09 Konica Corp インクジェット記録用インクとそれを用いたインクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
JP2003192944A (ja) 2001-10-19 2003-07-09 Konica Corp インクジェット記録用インクとそれを用いたインクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
JP2003312121A (ja) 2002-04-26 2003-11-06 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2003341217A (ja) 2002-05-24 2003-12-03 Konica Minolta Holdings Inc 画像形成方法、印刷物及び記録装置
JP2003342503A (ja) 2002-05-28 2003-12-03 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録用ブラックインクおよび画像形成方法
JP4214729B2 (ja) * 2002-07-25 2009-01-28 コニカミノルタホールディングス株式会社 硬化性白インク組成物
JP2004091558A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Konica Minolta Holdings Inc 活性光線硬化型インクとそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
US7084184B2 (en) * 2002-08-30 2006-08-01 Konica Corporation Actinic ray curable composition, actinic ray curable ink, image forming method, and ink jet recording apparatus
JP4428928B2 (ja) 2003-02-18 2010-03-10 富士フイルム株式会社 インクおよびインクジェット記録方法
US7244473B2 (en) * 2003-04-22 2007-07-17 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Active ray curable ink-jet composition, image forming method using the same, ink-jet recording apparatus, and triarylsulfonium salt compound
US20040227798A1 (en) * 2003-05-14 2004-11-18 Atsushi Nakajima Ink-jet ink set and recording method using the same
JP2004359715A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 光硬化型インク並びにこれを用いる画像記録装置及び画像記録方法
JP2005002166A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Konica Minolta Medical & Graphic Inc オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
JP2005248065A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 活性光線硬化型組成物とそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
JP4586520B2 (ja) * 2004-04-07 2010-11-24 チッソ株式会社 光重合性オキセタン誘導体およびそれらを含む液晶組成物
BRPI0513709A (pt) * 2004-07-21 2008-05-13 Ciba Sc Holding Ag processo para a fotoativação e uso de um catalisador por um procedimento de dois estágios invertido
JP2006241435A (ja) * 2005-02-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
JP4738827B2 (ja) * 2005-02-08 2011-08-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版

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