JP2525568B2 - 光可溶化組成物 - Google Patents
光可溶化組成物Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
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- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバー
ヘツドプロジエクター用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する光可溶化組成物に関する。更に詳しくは、
(a)酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も1個有する化合物、及び(b)活性光線の照射によ
り、酸を発生し得る化合物、を含有する新規な光可溶化
組成物に関する。
ヘツドプロジエクター用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する光可溶化組成物に関する。更に詳しくは、
(a)酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も1個有する化合物、及び(b)活性光線の照射によ
り、酸を発生し得る化合物、を含有する新規な光可溶化
組成物に関する。
「従来の技術」 活性光線により可溶化する。いわゆるポジチブに作用
する感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化
合物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等
に広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジ
ド化合物としては、例えば米国特許第2,766,118号、同
第2,767,092号、同第2,772,972号、同第2,859,112号、
同第2,907,665号、同第3,046,110号、同第3,046,111
号、同第3,046,115号、同第3,046,118号、同第3,046,11
9号、同第3,046,120号、同第3,046,121号、同第3,046,1
22号、同第3,046,123号、同第3,061,430号、同第3,102,
809号、同第3,106,465号、同第3,635,709号、同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されて
いる。
する感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化
合物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等
に広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジ
ド化合物としては、例えば米国特許第2,766,118号、同
第2,767,092号、同第2,772,972号、同第2,859,112号、
同第2,907,665号、同第3,046,110号、同第3,046,111
号、同第3,046,115号、同第3,046,118号、同第3,046,11
9号、同第3,046,120号、同第3,046,121号、同第3,046,1
22号、同第3,046,123号、同第3,061,430号、同第3,102,
809号、同第3,106,465号、同第3,635,709号、同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されて
いる。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の
照射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、
アルカリ可溶性となることを利用したものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子
収率が1を越えないということに由来するものである。
照射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、
アルカリ可溶性となることを利用したものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子
収率が1を越えないということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感
光性を高める方法については、今までいろいろと試みら
れてきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性
を高めることは非常に困難であつた。例えば、このよう
な試みの例として、特公昭48−12242号、特開昭52−401
25号、米国特許第4,307,173号などの明細書に記載され
た内容を挙げることができる。
光性を高める方法については、今までいろいろと試みら
れてきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性
を高めることは非常に困難であつた。例えば、このよう
な試みの例として、特公昭48−12242号、特開昭52−401
25号、米国特許第4,307,173号などの明細書に記載され
た内容を挙げることができる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポ
ジチブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの
提案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号の明細書に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。
しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合と同
じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これとは別
に接触作用により活性化される感光系を使用し、感光性
を高める方法として、光分解で生成する酸によつて第2
の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化する公知
の原理が適用されている。
ジチブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの
提案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号の明細書に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。
しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合と同
じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これとは別
に接触作用により活性化される感光系を使用し、感光性
を高める方法として、光分解で生成する酸によつて第2
の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化する公知
の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生す
る化合物と、アセタール又はO、N−アセタール化合物
との組合せ(特開昭48−89003号)、オルトエステル又
はアミドアセタール化合物との組合せ(特開昭51−1207
14号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリ
マーとの組合せ(特開昭53−133429号)、エノールエー
テル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N−ア
シルイミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭55−126236
号)、及び主鎖にオルトエステル基を有するポリマーと
の組合せ(特開昭56−17345号)を挙げることができ
る。これらは原理的に量子収率が1を越える為、高い感
光性を示す可能性があるが、アセタール又はO、N−ア
セタール化合物の場合、及び主鎖にアセタール又はケタ
ール基を有するポリマーの場合、光分解で生成する酸に
よる第2の反応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感
光性を示さない。またオルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物の場合及び、エノールエーテル化合物の場
合、更にN−アシルイミノ炭酸化合物の場合な確かに高
い感光性を示すが、経時での安定が悪く、長期に保存す
ることができない。主鎖にオルトエステル基を有するポ
リマーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像時の現
像許容性が狭いという欠点を有する。
る化合物と、アセタール又はO、N−アセタール化合物
との組合せ(特開昭48−89003号)、オルトエステル又
はアミドアセタール化合物との組合せ(特開昭51−1207
14号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリ
マーとの組合せ(特開昭53−133429号)、エノールエー
テル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N−ア
シルイミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭55−126236
号)、及び主鎖にオルトエステル基を有するポリマーと
の組合せ(特開昭56−17345号)を挙げることができ
る。これらは原理的に量子収率が1を越える為、高い感
光性を示す可能性があるが、アセタール又はO、N−ア
セタール化合物の場合、及び主鎖にアセタール又はケタ
ール基を有するポリマーの場合、光分解で生成する酸に
よる第2の反応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感
光性を示さない。またオルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物の場合及び、エノールエーテル化合物の場
合、更にN−アシルイミノ炭酸化合物の場合な確かに高
い感光性を示すが、経時での安定が悪く、長期に保存す
ることができない。主鎖にオルトエステル基を有するポ
リマーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像時の現
像許容性が狭いという欠点を有する。
「発明が解決しようとする問題点」 本研究の目的は、これらの問題点が解決された新規な
光可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性
を有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成
物を提供することである。
光可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性
を有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成
物を提供することである。
本研究の別の目的は、経時での安定性が優れ長期に保
存が可能な新規な光可溶化組成物を提供することであ
る。
存が可能な新規な光可溶化組成物を提供することであ
る。
本研究の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得で
きる新規な光可溶化組成物を提供することである。
きる新規な光可溶化組成物を提供することである。
「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた
結果新規な光可溶化組成物を用いることで前記目的が達
成されることを見い出し本発明に到達した。
結果新規な光可溶化組成物を用いることで前記目的が達
成されることを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、(a) 分子中に下記一般式(I)で
示される酸により分解し得るシリルエーテル基を少なく
とも1個有し現像液中での、その溶解度が酸の作用によ
り増大する化合物、及び C−O−Si (I) (b) 下記一般式(II)あるいは(III)で示される
活性光線の照射により酸を発生し得る化合物 R1−SO2−SO2−R2 (II) 式中、R1およびR2は各々独立してアリール基あるいは
置換アリール基を表わす 式中、Aはアリーレン基、置換アリーレン基、アルキ
レン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アル
ケニレン基を表わす。Rはアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。
示される酸により分解し得るシリルエーテル基を少なく
とも1個有し現像液中での、その溶解度が酸の作用によ
り増大する化合物、及び C−O−Si (I) (b) 下記一般式(II)あるいは(III)で示される
活性光線の照射により酸を発生し得る化合物 R1−SO2−SO2−R2 (II) 式中、R1およびR2は各々独立してアリール基あるいは
置換アリール基を表わす 式中、Aはアリーレン基、置換アリーレン基、アルキ
レン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アル
ケニレン基を表わす。Rはアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。
を含有することを特徴とする光可溶化組成物を提供する
ものである。
ものである。
一般式(I)で示される酸により分解し得るシリルエ
ーテル基を有する化合物としては、好ましくは下記一般
式(IV)の繰返し単位を含有することを特徴とする。
ーテル基を有する化合物としては、好ましくは下記一般
式(IV)の繰返し単位を含有することを特徴とする。
式中、R3は2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。
好ましくは親水性基、ウレタン基、ウレイド基、アミド
基、エステル基を有する2価の脂肪族又は芳香族炭化水
素を示す。
好ましくは親水性基、ウレタン基、ウレイド基、アミド
基、エステル基を有する2価の脂肪族又は芳香族炭化水
素を示す。
なお本発明でいう親水性基としては、具体的には下記
に示されるものがある。
に示されるものがある。
CH2CH2−On CH2)lOmCH2CH2−On 式中、lは1〜4の整数を示し、m、nは2以上の整
数、好ましくは2〜100の整数、更に好ましくは2〜20
の整数を示す。Rはアルキル、又は置換基を有していて
もよいフエニル基を示す。特に好ましい親水性基はCH
2CH2−Onである。
数、好ましくは2〜100の整数、更に好ましくは2〜20
の整数を示す。Rはアルキル、又は置換基を有していて
もよいフエニル基を示す。特に好ましい親水性基はCH
2CH2−Onである。
R4、R5は同一でも相異していてもよく、それぞれ水素
原子、アルキル、アルケニル、置換基を有していてもよ
いアリール又はアラルキル、もしくは−OR6を示す。好
ましくは炭素数1〜4個のアルキル、又は−OR6を示
す。R6は置換基を有していてもよりアルキル、アリー
ル、もしくはアラルキル基、好ましくは炭素数1〜8個
のアルキル、又は炭素数6〜15個のアリール基を示す。
原子、アルキル、アルケニル、置換基を有していてもよ
いアリール又はアラルキル、もしくは−OR6を示す。好
ましくは炭素数1〜4個のアルキル、又は−OR6を示
す。R6は置換基を有していてもよりアルキル、アリー
ル、もしくはアラルキル基、好ましくは炭素数1〜8個
のアルキル、又は炭素数6〜15個のアリール基を示す。
また本発明に用いられる化合物(a)は、一般式(I
V)で示される繰り返し単位を2種以上含有していても
よい。
V)で示される繰り返し単位を2種以上含有していても
よい。
本発明の(a)における化合物の具体例としては次に
示すものが含まれる。
示すものが含まれる。
なお具体例中のnは2以上の整数を示す。またx、
y、zはモル比を示し、化合物例I−29、30、33では、
x=10〜85モル%、y=5〜80モル%、z=10〜85モル
%である。また化合物例I−5〜16、18、27〜28、32、
35、及び39〜40ではx=5〜90モル%、y=10〜95モル
%を示す。
y、zはモル比を示し、化合物例I−29、30、33では、
x=10〜85モル%、y=5〜80モル%、z=10〜85モル
%である。また化合物例I−5〜16、18、27〜28、32、
35、及び39〜40ではx=5〜90モル%、y=10〜95モル
%を示す。
又これら酸により分解し得るシリルエーテル基を有す
る化合物と組み合せて用いる活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物としては下記一般式(II)で示される
ジスルホン化合物 R1−SO2−SO2−R2 (II) 式中、R1およびR2は各々独立してアリール基あるいは
置換アリール基を表わす。
る化合物と組み合せて用いる活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物としては下記一般式(II)で示される
ジスルホン化合物 R1−SO2−SO2−R2 (II) 式中、R1およびR2は各々独立してアリール基あるいは
置換アリール基を表わす。
あるいは下記一般式(III)で示される化合物が好適
である。
である。
式中、Aはアリーレン基、置換アリーレン基、アルキ
レン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アル
ケニレン基を表わす。Rはアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。
レン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アル
ケニレン基を表わす。Rはアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。
一般式(II)で示される化合物におけるR1およびR2は
各々独立してアリール基あるいは置換アリール基を表わ
すが、アリール基としては、単環および2巻のものが好
ましく、例えばフエニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基などが含まれる。R1およびR2の置換アリール基
は、上記のようなアリール基に、例えばメチル基、エチ
ル基などの炭素原子数1〜2個のアルキル基、例えばメ
トキシ基、エトキシ基などの炭素原子数1〜2個のアル
コキシ基、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基、フエニル基、カルボキシ基、シアノ基な
どが置換したものが含まれ、具体的には4−クロロフエ
ニル基、2−クロロフエニル基、4−ブロモフエニル
基、4−ニトロフエニル基、3−ニトロフエニル基、4
−フエニルフエニル基、4−メチルフエニル基、2−メ
チルフエニル基、4−エチルフエニル基、4−メトキシ
フエニル基、2−メトキシフエニル基、4−エトキシフ
エニル基、2−カルボキシフエニル基、4−シアノフエ
ニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−クロロ−1
−ナフチル基、5−ニトロ−1−ナフチル基、6−クロ
ロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、5
−ニトロ−2−ナフチル基などがあげられる。
各々独立してアリール基あるいは置換アリール基を表わ
すが、アリール基としては、単環および2巻のものが好
ましく、例えばフエニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基などが含まれる。R1およびR2の置換アリール基
は、上記のようなアリール基に、例えばメチル基、エチ
ル基などの炭素原子数1〜2個のアルキル基、例えばメ
トキシ基、エトキシ基などの炭素原子数1〜2個のアル
コキシ基、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基、フエニル基、カルボキシ基、シアノ基な
どが置換したものが含まれ、具体的には4−クロロフエ
ニル基、2−クロロフエニル基、4−ブロモフエニル
基、4−ニトロフエニル基、3−ニトロフエニル基、4
−フエニルフエニル基、4−メチルフエニル基、2−メ
チルフエニル基、4−エチルフエニル基、4−メトキシ
フエニル基、2−メトキシフエニル基、4−エトキシフ
エニル基、2−カルボキシフエニル基、4−シアノフエ
ニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−クロロ−1
−ナフチル基、5−ニトロ−1−ナフチル基、6−クロ
ロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、5
−ニトロ−2−ナフチル基などがあげられる。
本発明で用いられる一般式(II)で表わされる化合物
は、ジー.シー.デンサー,ゼーラー.ら著「ジヤーナ
ル オブ オルガニツク ケミストリー」(G.C.Dense
r,Jr.ら著、「Journal of Organic Chemistry」)31,34
18〜3419(1966)記載の方法、テー.ピー.ヒルドイツ
チ著「ジヤーナル オブ ザ ケミカル ソサイアテ
イ」(T.P.Hilditch著,「Journal of the Chemical So
ciety」)93,1524〜1527(1908)記載の方法、あるいは
オー.ヒンズベルク著「ベリヒテ デア ドイチエン
ヘミシエ ゲゼルシヤフト」(O.Hinsberg著,「Berich
te der Deutschen Chemischen Gesellschaft」)49,259
3〜2594(1916)記載の方法等にしたがい合成できる。
すなわち、硫酸水溶液中において、硫酸コバルト(II
I)を用い、一般式(IV)で示されるスルフイン酸より
合成する方法、キサントゲン酸エチルを用い、一般式
(V)で示されるスルホン酸クロリドより合成する方
法、あるいは塩基性条件下、一般式(II)で示されるス
ルフイン酸と一般式(III)で示されるスルホン酸クロ
リド反応させ合成する方法等があげられる。
は、ジー.シー.デンサー,ゼーラー.ら著「ジヤーナ
ル オブ オルガニツク ケミストリー」(G.C.Dense
r,Jr.ら著、「Journal of Organic Chemistry」)31,34
18〜3419(1966)記載の方法、テー.ピー.ヒルドイツ
チ著「ジヤーナル オブ ザ ケミカル ソサイアテ
イ」(T.P.Hilditch著,「Journal of the Chemical So
ciety」)93,1524〜1527(1908)記載の方法、あるいは
オー.ヒンズベルク著「ベリヒテ デア ドイチエン
ヘミシエ ゲゼルシヤフト」(O.Hinsberg著,「Berich
te der Deutschen Chemischen Gesellschaft」)49,259
3〜2594(1916)記載の方法等にしたがい合成できる。
すなわち、硫酸水溶液中において、硫酸コバルト(II
I)を用い、一般式(IV)で示されるスルフイン酸より
合成する方法、キサントゲン酸エチルを用い、一般式
(V)で示されるスルホン酸クロリドより合成する方
法、あるいは塩基性条件下、一般式(II)で示されるス
ルフイン酸と一般式(III)で示されるスルホン酸クロ
リド反応させ合成する方法等があげられる。
R−SO2H (IV) R′−SO2Cl (V) (ここで、RおよびR′は一般式(II)で定義されたR1
およびR2と同一の意味である。) 以下に本発明に使用される一般式(II)で示される具
体的な化合物を例示する。
およびR2と同一の意味である。) 以下に本発明に使用される一般式(II)で示される具
体的な化合物を例示する。
又一般式(III)で表わされる光重合開始剤は、G.F.J
aubert著、Ber.,28,360(1895)の方法、D.E.Amesら
著、J.Chem.Soc.,3518(1955)の方法、あるいはM.A.St
olbergら著、J.Amer.Chem.Soc.,79,2615(1957)の方法
等に従い合成される一般式(VI) (ここで、Aは一般式(III)の場合と同義) で表わされる化合物とR−SO2Cl(ここで、Rは一般式
(III)の場合と同義。)で表わされる有機スルホン酸
クロリドとを塩基性条件下、たとえば、L.Bauerら著、
J.Org.Chem.,24,1293(1959)の方法にしたがい合成す
ることが可能である。
aubert著、Ber.,28,360(1895)の方法、D.E.Amesら
著、J.Chem.Soc.,3518(1955)の方法、あるいはM.A.St
olbergら著、J.Amer.Chem.Soc.,79,2615(1957)の方法
等に従い合成される一般式(VI) (ここで、Aは一般式(III)の場合と同義) で表わされる化合物とR−SO2Cl(ここで、Rは一般式
(III)の場合と同義。)で表わされる有機スルホン酸
クロリドとを塩基性条件下、たとえば、L.Bauerら著、
J.Org.Chem.,24,1293(1959)の方法にしたがい合成す
ることが可能である。
一般式(III)において、Aのアリーレン基は、好ま
しくは単環および2巻のものであり、例えばフエニレン
基、ナフチレン基など、より具体的にはo−フエニレン
基、1,8−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基などが含ま
れる。Aの置換アリーレン基は、上記の如きアリーレン
基に、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、
ニトロ基、アセチルアミノ基などの置換基を有するもの
であつて、例えばブロモフエニレン基、クロロフエニレ
ン基、ニトロフエニレン基、アセチルアミノフエニレン
基、ブロモナフチレン基、クロロナフチレン基、ニトロ
ナフチレン基などが含まれる。また、Aのアルキレン基
は、直鎖、分枝および環状のものであつて、好ましくは
炭素原子数が1〜約6のものであり、例えば、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、シクロブチレン基、シ
クロヘキシレン基などが含まれる。また、Aの置換アル
キレン基は、上記の如きアルキレン基に、例えばフエニ
ル基などのアリール基が置換したもの、例えばフエニル
エチレン基、ジフエニルエチレン基などが含まれる。ま
たAのアルケニレン基は、好ましくは炭素原子数が2〜
4のものであり、例えばビニリデン基、ブテニレン基な
どが含まれる。更にAの置換アルケニレン基は、上記の
ようなアルケニレン基に、例えばフエニル基などのアリ
ール基が置換したものであつて、例えばフエニルビニリ
デン基、ジフエニルビニリデン基などが含まれる。
しくは単環および2巻のものであり、例えばフエニレン
基、ナフチレン基など、より具体的にはo−フエニレン
基、1,8−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基などが含ま
れる。Aの置換アリーレン基は、上記の如きアリーレン
基に、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、
ニトロ基、アセチルアミノ基などの置換基を有するもの
であつて、例えばブロモフエニレン基、クロロフエニレ
ン基、ニトロフエニレン基、アセチルアミノフエニレン
基、ブロモナフチレン基、クロロナフチレン基、ニトロ
ナフチレン基などが含まれる。また、Aのアルキレン基
は、直鎖、分枝および環状のものであつて、好ましくは
炭素原子数が1〜約6のものであり、例えば、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、シクロブチレン基、シ
クロヘキシレン基などが含まれる。また、Aの置換アル
キレン基は、上記の如きアルキレン基に、例えばフエニ
ル基などのアリール基が置換したもの、例えばフエニル
エチレン基、ジフエニルエチレン基などが含まれる。ま
たAのアルケニレン基は、好ましくは炭素原子数が2〜
4のものであり、例えばビニリデン基、ブテニレン基な
どが含まれる。更にAの置換アルケニレン基は、上記の
ようなアルケニレン基に、例えばフエニル基などのアリ
ール基が置換したものであつて、例えばフエニルビニリ
デン基、ジフエニルビニリデン基などが含まれる。
一方、一般式(III)におけるRのアルキル基は、直
鎖、分枝、環状のもの、より好ましくは直鎖のものであ
り、好ましくは炭素原子数が1〜18個のものであつて、
例えばメチル、エチル、ブチル、ヘキシル、オクチル、
ドデシル、ヘキサデシルなどの各基が含まれる。また、
Rの置換アルキル基は、上記のようなアルキル基に、例
えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基
のような炭素原子数1〜2個のアルコキシ基などが置換
されたものであつて、具体的には2−クロロエチル基、
2−メトキシエチル基などが含まれる。また、Rのアリ
ール基には、好ましくは単環および2環のものであつ
て、例えばフエニル基、ナフチル基などが含まれる。ま
た、Rの置換アルキル基は、上記のようなアリール基
に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜2
個のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの
炭素原子数1〜2個のアルコキシ基、例えば塩素原子な
どのハロゲン原子などが置換したものが含まれ、具体的
にはメチルフエニル基、ジメチルフエニル基、メトキシ
フエニル基、クロロフエニル基、メトキシナフチル基な
どがあげられる。
鎖、分枝、環状のもの、より好ましくは直鎖のものであ
り、好ましくは炭素原子数が1〜18個のものであつて、
例えばメチル、エチル、ブチル、ヘキシル、オクチル、
ドデシル、ヘキサデシルなどの各基が含まれる。また、
Rの置換アルキル基は、上記のようなアルキル基に、例
えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基
のような炭素原子数1〜2個のアルコキシ基などが置換
されたものであつて、具体的には2−クロロエチル基、
2−メトキシエチル基などが含まれる。また、Rのアリ
ール基には、好ましくは単環および2環のものであつ
て、例えばフエニル基、ナフチル基などが含まれる。ま
た、Rの置換アルキル基は、上記のようなアリール基
に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜2
個のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの
炭素原子数1〜2個のアルコキシ基、例えば塩素原子な
どのハロゲン原子などが置換したものが含まれ、具体的
にはメチルフエニル基、ジメチルフエニル基、メトキシ
フエニル基、クロロフエニル基、メトキシナフチル基な
どがあげられる。
以下に本発明に使用される一般式(III)で示される
具体的な化合物を例示する。
具体的な化合物を例示する。
これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物
と前記酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も1個有する化合物との割合は、重量比で0.001:1〜2:1
であり、好ましくは0.02:1〜0.8:1で使用される。
と前記酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も1個有する化合物との割合は、重量比で0.001:1〜2:1
であり、好ましくは0.02:1〜0.8:1で使用される。
本発明の光可溶化組成物は、上記活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物と、酸により分解し得るシリル
エーテル基を少なくとも1個有する化合物の組合せのみ
で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合
して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂に
は、ノボラツク型フエノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フエノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。更に特開昭50−125806号公報に
記されている様に上記のようなフエノール樹脂と共に、
t−ブチルフエノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフエノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用する
と、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感光性レジ
スト形成性組成物の全重量を基準として約40〜約90重量
%、より好ましくは60〜80重量%含有させられる。
り酸を発生し得る化合物と、酸により分解し得るシリル
エーテル基を少なくとも1個有する化合物の組合せのみ
で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合
して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂に
は、ノボラツク型フエノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フエノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。更に特開昭50−125806号公報に
記されている様に上記のようなフエノール樹脂と共に、
t−ブチルフエノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜8のアルキル基で置換されたフエノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用する
と、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感光性レジ
スト形成性組成物の全重量を基準として約40〜約90重量
%、より好ましくは60〜80重量%含有させられる。
本発明の光可溶化組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発
生効率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有さ
せることができる。好適な染料としては油溶性染料及び
塩基性染料がある。具体的には、オイルイエロー#10
1、オイルイエロー#130、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラツクBY、オイルブラツクBS、オイルブラツクT
−505(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリス
タルバイオレツト(CI42555)、メチルバイオレツト(C
I42535)、ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などをあ
げることができる。
料、顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発
生効率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有さ
せることができる。好適な染料としては油溶性染料及び
塩基性染料がある。具体的には、オイルイエロー#10
1、オイルイエロー#130、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オ
イルブラツクBY、オイルブラツクBS、オイルブラツクT
−505(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリス
タルバイオレツト(CI42555)、メチルバイオレツト(C
I42535)、ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などをあ
げることができる。
本発明の光可溶化組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなど
があり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用す
る。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)
は、2〜50重量%である。このうち、本発明の組成の好
ましい濃度(固形分)は0.1〜25重量%である。また、
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平板印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好
ましい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。
媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−
メトキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなど
があり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用す
る。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)
は、2〜50重量%である。このうち、本発明の組成の好
ましい濃度(固形分)は0.1〜25重量%である。また、
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平板印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好
ましい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。
本発明の光可溶化組成物を用いて平版印刷版を製造す
る場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニ
ウム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極
酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シ
リケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛
板、ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理した
プラスチツクフイルムや紙を上げることができる。
る場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニ
ウム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極
酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シ
リケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛
板、ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理した
プラスチツクフイルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘツドプロジエクター用
フイルム第2原図用フイルムの製造に適する支持体とし
てはポリエチレンテレフタレートフイルム、トリアセテ
ートフイルム等の透明フイルムや、これらのプラスチツ
クフイルムの表面を化学的あるいは物理的にマツト化し
たものをあげることが出来る。ホトマスク用フイルムの
製造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウ
ム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレー
トフイルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレ
ートフイルムをあげることが出来る。またホトレジスト
として上記以外の種々の支持体、例えば銅板、銅メツキ
板、ガラス板上に本発明の光可溶化組成物を塗布して使
用される。
フイルム第2原図用フイルムの製造に適する支持体とし
てはポリエチレンテレフタレートフイルム、トリアセテ
ートフイルム等の透明フイルムや、これらのプラスチツ
クフイルムの表面を化学的あるいは物理的にマツト化し
たものをあげることが出来る。ホトマスク用フイルムの
製造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウ
ム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレー
トフイルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレ
ートフイルムをあげることが出来る。またホトレジスト
として上記以外の種々の支持体、例えば銅板、銅メツキ
板、ガラス板上に本発明の光可溶化組成物を塗布して使
用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度
エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による
走査露光も本発明に使用することができる。このような
レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、ア
ルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム
・カドミウムレーザーなどが挙げられる。
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度
エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による
走査露光も本発明に使用することができる。このような
レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、ア
ルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム
・カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の光可溶化組成物に対する現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。
「実施例」 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、
本発明の内容がこれにより限定さるものではない。
本発明の内容がこれにより限定さるものではない。
実施例1 厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を80℃に保つた第3燐
酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱脂し、ナ
イロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナトリウムで
約10秒間エツチングして、硫酸水素ナトリウム3%水溶
液でデスマツト処理を行つた。このアルミニウム板を20
%硫酸中で電流密度2A/dm2において2分間陽極酸化を行
いアルミニウム板を作製した。
酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱脂し、ナ
イロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナトリウムで
約10秒間エツチングして、硫酸水素ナトリウム3%水溶
液でデスマツト処理を行つた。このアルミニウム板を20
%硫酸中で電流密度2A/dm2において2分間陽極酸化を行
いアルミニウム板を作製した。
次に下記感光液〔A〕の本発明の化合物(a)の種類
を変えて5種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕−5を調整
し、この感光液を陽極酸化させたアルミニウム板の上に
塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞれの感光性平
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5を作製した。このとき
の塗布量は全て乾燥重量で1.5g/m2であつた。
を変えて5種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕−5を調整
し、この感光液を陽極酸化させたアルミニウム板の上に
塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞれの感光性平
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5を作製した。このとき
の塗布量は全て乾燥重量で1.5g/m2であつた。
また、感光液〔A〕−1〜〔A〕−5に用いた本発明
の化合物(a)は第1表に示す。
の化合物(a)は第1表に示す。
感光液〔A〕 本発明化合物(a) 0.40g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂 1.0 g 本発明の化合物(b) (III−22) 0.05g オイルブルー#603 (オリエント化学工業(株)製) 0.01g エチレンジクロリド 10 g メチルセロソルブ 10 g 次に比較例として下記の感光液〔B〕を感光液〔A〕
と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔B〕を作製した。
と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔B〕を作製した。
感光液〔B〕 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂と1,2−
ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド
その縮合生成物 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂 1.1 g 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニルク
ロリドオイルブルー#603 0.02g (オリエント化学工業(株)製) 0.01g エチレンジクロリド 10 g メチルセロソルブ 10 g 乾燥後の塗布重量は1.5g/m2であつた。感光性平版印
刷版〔A〕−1〜〔A〕−5及び〔B〕の感光層上に濃
度差0.15のグレースケールを密着させ、30アンペアのカ
ーボンアーク灯で70cmの距離から露光を行つた。
ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド
その縮合生成物 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂 1.1 g 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニルク
ロリドオイルブルー#603 0.02g (オリエント化学工業(株)製) 0.01g エチレンジクロリド 10 g メチルセロソルブ 10 g 乾燥後の塗布重量は1.5g/m2であつた。感光性平版印
刷版〔A〕−1〜〔A〕−5及び〔B〕の感光層上に濃
度差0.15のグレースケールを密着させ、30アンペアのカ
ーボンアーク灯で70cmの距離から露光を行つた。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5及び〔B〕をDP−4
(商品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶
液で25℃において60秒間浸漬現像し、濃度差0.15のグレ
ースケールで5段目が完全にクリアーとなる露光時間を
求めたところ第1表に示すとおりとなつた。
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5及び〔B〕をDP−4
(商品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶
液で25℃において60秒間浸漬現像し、濃度差0.15のグレ
ースケールで5段目が完全にクリアーとなる露光時間を
求めたところ第1表に示すとおりとなつた。
なお第1表における本発明の化合物(a)、I−5、
11、14、28、40では、n=4、x/y=40/60(モル比)の
ものを使用した。分子量はいずれもGPC(Gel Permeatio
n Chromatography)ポリスチレン標準で2500〜5000のも
のであつた。
11、14、28、40では、n=4、x/y=40/60(モル比)の
ものを使用した。分子量はいずれもGPC(Gel Permeatio
n Chromatography)ポリスチレン標準で2500〜5000のも
のであつた。
第1表からわかるように本発明の化合物を用いた感光
性平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5はいずれも〔B〕
より露光時間が少なく、感度が高い。
性平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−5はいずれも〔B〕
より露光時間が少なく、感度が高い。
実施例2 下記感光液〔C〕において活性光線の照射により酸を
発生し得る本発明の化合物(b)の種類を変えて、4種
類の感光液〔C〕−1〜〔C〕−4を調整し、実施例1
と同様にして、感光性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−
4を作製した。
発生し得る本発明の化合物(b)の種類を変えて、4種
類の感光液〔C〕−1〜〔C〕−4を調整し、実施例1
と同様にして、感光性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−
4を作製した。
感光液〔C〕 本発明の化合物(a)(I−12) 0.31g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク樹脂 1.0 g 本発明の化合物(b) 0.05g オイルブルー(オリエント化学工業(株)製) 0.01g エチレンジクロリド 10 g メチルセロソルブ 10 g 塗布量は全て乾燥重量で1.5g/m2であつた。なお感光
液〔C〕で使用した本発明の化合物(a)(I−12)は
n=4、x/y=40/60(モル比)であり、分子量はGPC、
ポリスチレン標準で3,500であつた。また感光液〔C〕
−1〜〔C〕−4に用いた、活性光線の照射により酸を
発生する本発明の化合物(b)は第2表に示す。感光性
平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4及び実施例1で作製
した〔B〕の感光層上に濃度差0.15のグレースケールを
密着させ、30アンペアのカーボンアーク灯で70cmの距離
から露光を行つた。
液〔C〕で使用した本発明の化合物(a)(I−12)は
n=4、x/y=40/60(モル比)であり、分子量はGPC、
ポリスチレン標準で3,500であつた。また感光液〔C〕
−1〜〔C〕−4に用いた、活性光線の照射により酸を
発生する本発明の化合物(b)は第2表に示す。感光性
平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4及び実施例1で作製
した〔B〕の感光層上に濃度差0.15のグレースケールを
密着させ、30アンペアのカーボンアーク灯で70cmの距離
から露光を行つた。
露光された感光性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4
及び〔B〕をDP−4(商品名:富士写真フイルム(株)
製)の8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像
し、濃度差0.15のグレースケールで5段目が完全にクリ
アーとなる露光時間を求めたところ、第2表に示すとお
りとなつた。
及び〔B〕をDP−4(商品名:富士写真フイルム(株)
製)の8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像
し、濃度差0.15のグレースケールで5段目が完全にクリ
アーとなる露光時間を求めたところ、第2表に示すとお
りとなつた。
第2表からわかるように本発明の化合物を用いた感光
性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4はいずれも〔B〕
より露光時間が少なく、感度が高い。
性平版印刷版〔C〕−1〜〔C〕−4はいずれも〔B〕
より露光時間が少なく、感度が高い。
Claims (1)
- 【請求項1】(a) 分子中に下記一般式(I)で示さ
れる酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも
1個有し現像液中での、その溶解度が酸の作用により増
大する化合物、及び C−O−Si (I) (b) 下記一般式(II)あるいは(III)で示される
活性光線の照射により酸を発生し得る化合物 R1−SO2−SO2−R2 (II) 式中、R1およびR2は各々独立してアリール基あるいは置
換アリール基を表わす 式中、Aはアリーレン基、置換アリーレン基、アルキレ
ン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケ
ニレン基を表わす。Rはアルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基を表わす を含有することを特徴とする光可溶化組成物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60007087A JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 光可溶化組成物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60007087A JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 光可溶化組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61166544A JPS61166544A (ja) | 1986-07-28 |
JP2525568B2 true JP2525568B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=11656302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60007087A Expired - Lifetime JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 光可溶化組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2525568B2 (ja) |
Families Citing this family (180)
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---|---|---|---|---|
JP2632066B2 (ja) * | 1990-04-06 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像の形成方法 |
JP2704318B2 (ja) * | 1991-01-24 | 1998-01-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US5204226A (en) * | 1991-03-04 | 1993-04-20 | International Business Machines Corporation | Photosensitizers for polysilanes |
DE4121199A1 (de) * | 1991-06-27 | 1993-01-07 | Basf Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefmustern |
JP2764771B2 (ja) * | 1991-10-01 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JP3393915B2 (ja) * | 1994-03-04 | 2003-04-07 | 住友化学工業株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物 |
JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
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