JPH0814695B2 - 光可溶化組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバー
ヘッドプロジエクター用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する新規な光可溶化組成物に関する。
ヘッドプロジエクター用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する新規な光可溶化組成物に関する。
「従来の技術」 活性光線により可溶化する、いわゆるポジチブに作用
する感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化
合物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等
に広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジ
ド化合物としては、例えば米国特許第2,766,118号、同
第2,767,092号、同第2,772,972号、同第2,859,112号、
同第2,907,665号、同第3,046,110号、同第3,046,111
号、同第3,046,115号、同第3,046,188号、同第3,046,11
9号、同第3,046,120号、同第3,046,121号、同第3,046,1
22号、同第3,046,123号、同第3,061,430号、同第3,102,
809号、同第3,106,465号、同第3,635,709号、同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されて
いる。
する感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化
合物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等
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ド化合物としては、例えば米国特許第2,766,118号、同
第2,767,092号、同第2,772,972号、同第2,859,112号、
同第2,907,665号、同第3,046,110号、同第3,046,111
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809号、同第3,106,465号、同第3,635,709号、同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されて
いる。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の
照射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、
アルカリ可溶性となることを利用したものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子
収率が1を越えないということに由来するものである。
照射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、
アルカリ可溶性となることを利用したものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子
収率が1を越えないということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感
光性を高める方法については、今までいろいろと試みら
れてきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性
を高めることは非常に困難であった。例えば、このよう
な試みの例として、特公昭48−12242号、特開昭52−401
25号、米国特許第4,307,173号などの公報及び明細書に
記載された内容を挙げることができる。
光性を高める方法については、今までいろいろと試みら
れてきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性
を高めることは非常に困難であった。例えば、このよう
な試みの例として、特公昭48−12242号、特開昭52−401
25号、米国特許第4,307,173号などの公報及び明細書に
記載された内容を挙げることができる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポ
ジチブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの
提案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノール
エステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。しか
し、この場合も、オルトキノンジアジド化合物の場合と
同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これとは
別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感光
性を高める方法として、光分解で生成する酸によって第
2の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化する公
知の原理が適用されている。
ジチブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの
提案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノール
エステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。しか
し、この場合も、オルトキノンジアジド化合物の場合と
同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これとは
別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感光
性を高める方法として、光分解で生成する酸によって第
2の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化する公
知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生す
る化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭48−89003号)、オルトエステル又は
アミドアセタール化合物との組合せ(特開昭51−120714
号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭53−133429号)、エノールエーテ
ル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N−アシ
ルイミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭55−126236
号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組
合せ(特開昭56−17345号)、シリルエステル化合物と
の組合せ(特開昭60−10247号)及びシリルエーテル化
合物との組合せ(特開昭60−37549号、特開昭60−12144
6号)などを挙げることができる。これらは原理的に量
子収率が1を越える為、高い感光性を示す可能性がある
が、アセタール又はO,N−アセタール化合物の場合、及
び主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーの
場合、光分解で生成する酸による第2の反応の速度が遅
い為、実際の使用に十分な感光性を示さない。またオル
トエステル又はアミドアセタール化合物の場合及び、エ
ノールエーテル化合物の場合、更にN−アシルイミノ炭
酸化合物の場合は確かに高い感光性を示すが、経時での
安定が悪く、長期に保存することができない。主鎖にオ
ルトエステル基を有するポリマーの場合も、同じく高感
度ではあるが、現像時の現像許容性が狭いという欠点を
有する。上記シリルエステル化合物の場合、他の化合物
及びポリマーに比べ高密度であり、現像許容性に優れて
はいるが、実際に使用するには感度、現像許容性が十分
とは言えない。
る化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭48−89003号)、オルトエステル又は
アミドアセタール化合物との組合せ(特開昭51−120714
号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭53−133429号)、エノールエーテ
ル化合物との組合せ(特開昭55−12995号)、N−アシ
ルイミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭55−126236
号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組
合せ(特開昭56−17345号)、シリルエステル化合物と
の組合せ(特開昭60−10247号)及びシリルエーテル化
合物との組合せ(特開昭60−37549号、特開昭60−12144
6号)などを挙げることができる。これらは原理的に量
子収率が1を越える為、高い感光性を示す可能性がある
が、アセタール又はO,N−アセタール化合物の場合、及
び主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーの
場合、光分解で生成する酸による第2の反応の速度が遅
い為、実際の使用に十分な感光性を示さない。またオル
トエステル又はアミドアセタール化合物の場合及び、エ
ノールエーテル化合物の場合、更にN−アシルイミノ炭
酸化合物の場合は確かに高い感光性を示すが、経時での
安定が悪く、長期に保存することができない。主鎖にオ
ルトエステル基を有するポリマーの場合も、同じく高感
度ではあるが、現像時の現像許容性が狭いという欠点を
有する。上記シリルエステル化合物の場合、他の化合物
及びポリマーに比べ高密度であり、現像許容性に優れて
はいるが、実際に使用するには感度、現像許容性が十分
とは言えない。
更に、これらのどの化合物においても、露光後現像ま
でに経時すると、感度が徐々に増大するという問題があ
った。
でに経時すると、感度が徐々に増大するという問題があ
った。
「発明が解決しようとする問題点」 本発明の目的は、新規な光可溶性高分子化合物を使用
し、上記問題点が解決された新規な光可溶化組成物を提
供することである。即ち高い感光性を有し、現像時の現
像許容性が広い新規な光可溶化組成物を提供することで
ある。
し、上記問題点が解決された新規な光可溶化組成物を提
供することである。即ち高い感光性を有し、現像時の現
像許容性が広い新規な光可溶化組成物を提供することで
ある。
本発明の別の目的は、露光後現像までの経時における
増感を抑えた新規な光可溶化組成物を提供することであ
る。
増感を抑えた新規な光可溶化組成物を提供することであ
る。
本発明の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得で
きる新規な光可溶化組成物を提供することである。
きる新規な光可溶化組成物を提供することである。
「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた
結果、新規な光可溶化組成物を見い出し、本発明に到達
した。
結果、新規な光可溶化組成物を見い出し、本発明に到達
した。
即ち、本発明は、後述の一般式(IV)、(V)、(V
I)、(VII)、(VIII)、又は(IX)で示される、活性
光線の照射により酸を発生し得る化合物、(b)下記一
般式(I)、(II)、又は(III)で示される、酸によ
り分解し、現像液中でのその溶解度が酸の作用により増
大するシリルエーテル化合物、及び(c)溶剤を除く全
組成物に対して0.01〜10wt%のエポキシ基を少なくとも
1個有する化合物、を含有することを特徴とする光可溶
化組成物、を提供するものである。
I)、(VII)、(VIII)、又は(IX)で示される、活性
光線の照射により酸を発生し得る化合物、(b)下記一
般式(I)、(II)、又は(III)で示される、酸によ
り分解し、現像液中でのその溶解度が酸の作用により増
大するシリルエーテル化合物、及び(c)溶剤を除く全
組成物に対して0.01〜10wt%のエポキシ基を少なくとも
1個有する化合物、を含有することを特徴とする光可溶
化組成物、を提供するものである。
式中、R1は置換基を有していてもよいm価の脂肪族又
は芳香族炭化水素を示す。R2,R3,R4は同一でも相異し
ていてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケニ
ル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラル
キル、ハロゲン、又は−OR6を示す。好ましくは炭素数
1〜4個のアルキル、クロル、もしくは−OR6、更に好
ましくは炭素数1〜4個のアルキル、又は−OR6を示
す。R5,R7は置換基を有していてもよい2価の脂肪族又
は芳香族炭化水素を示す。好ましくは、親水性基(具体
的には後に記載する)、ウレタン基、ウレイド基、アミ
ド基、エステル基を有する2価の脂肪族又は芳香族炭化
水素を示す。
は芳香族炭化水素を示す。R2,R3,R4は同一でも相異し
ていてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケニ
ル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラル
キル、ハロゲン、又は−OR6を示す。好ましくは炭素数
1〜4個のアルキル、クロル、もしくは−OR6、更に好
ましくは炭素数1〜4個のアルキル、又は−OR6を示
す。R5,R7は置換基を有していてもよい2価の脂肪族又
は芳香族炭化水素を示す。好ましくは、親水性基(具体
的には後に記載する)、ウレタン基、ウレイド基、アミ
ド基、エステル基を有する2価の脂肪族又は芳香族炭化
水素を示す。
R6は置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
もしくはアラルキル基、好ましくは炭素数1〜8個のア
ルキル、又は炭素数6〜15のアリール基を示す。またR5
とR6が結合して脂肪族環又は芳香族環の一部を形成して
もよい。
もしくはアラルキル基、好ましくは炭素数1〜8個のア
ルキル、又は炭素数6〜15のアリール基を示す。またR5
とR6が結合して脂肪族環又は芳香族環の一部を形成して
もよい。
R8は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、
アリール、もしくはアシル基、又は を示す。好ましくは水素原子、炭素数1〜4個のアルキ
ル、もしくは を示す。
アリール、もしくはアシル基、又は を示す。好ましくは水素原子、炭素数1〜4個のアルキ
ル、もしくは を示す。
m,nは正の整数、好ましくはmは1〜1000、nは1〜500
の整数を示す。a,bはそれぞれ0又は1を示す。
の整数を示す。a,bはそれぞれ0又は1を示す。
なお前記の親水性基としては、具体的には下記に示さ
れるものがある。
れるものがある。
CH2CH2−0n CH2 l0mCH2CH2−0n CH2 l0n 式中、lは1〜4の整数を示し、m,nは2以上の整数、
好ましくは2〜100の整数、更に好ましくは2〜20の整
数を示す。R9はアルキル、又は置換基を有していてもよ
いフェニル基を示す。特に好ましい親水性基はCH2CH2
−0nである。
好ましくは2〜100の整数、更に好ましくは2〜20の整
数を示す。R9はアルキル、又は置換基を有していてもよ
いフェニル基を示す。特に好ましい親水性基はCH2CH2
−0nである。
本発明は、前記の(c)の化合物を添加することで驚
くべくことに、前記問題点の露光後現像までの経時にお
ける増感を大きく改良できることを見い出したものであ
る。
くべくことに、前記問題点の露光後現像までの経時にお
ける増感を大きく改良できることを見い出したものであ
る。
(a)の化合物 本発明の(a)における活性光線の照射により酸を発
生し得る化合物としては、多くの公知化合物及び混合
物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウ
ム、及びヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、SiF6 -、Cl
O4 -などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノンジア
ジドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロゲン
化合物組合せ物が適当である。もちろん、米国特許第3,
779,778号、西ドイツ国特許第2,610,842号及び欧州特許
第126712号の明細書中に記載された光分解により酸を発
生させる化合物も本発明の組成物として適する。更に適
当な染料として組合せて露光の際、未露光部と露光物の
間に可視的コントラストを与えることを目的とした化合
物、例えば特開昭55−77742号、同57−163234号の公報
に記載された化合物も本発明の組成物として使用するこ
とができる。
生し得る化合物としては、多くの公知化合物及び混合
物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウ
ム、及びヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、SiF6 -、Cl
O4 -などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノンジア
ジドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロゲン
化合物組合せ物が適当である。もちろん、米国特許第3,
779,778号、西ドイツ国特許第2,610,842号及び欧州特許
第126712号の明細書中に記載された光分解により酸を発
生させる化合物も本発明の組成物として適する。更に適
当な染料として組合せて露光の際、未露光部と露光物の
間に可視的コントラストを与えることを目的とした化合
物、例えば特開昭55−77742号、同57−163234号の公報
に記載された化合物も本発明の組成物として使用するこ
とができる。
上記光分解により酸を発生し得る化合物の中で、代表
的なものについて以下に説明する。
的なものについて以下に説明する。
(1)トリハロメチル基が置換した下記の一般式(IV)
で表わされるオキサジアゾール誘導体又は一般式(V)
で表わされるS−トリアジン誘導体。
で表わされるオキサジアゾール誘導体又は一般式(V)
で表わされるS−トリアジン誘導体。
ここで式中、R10も置換もしくは無置換のアリール、
アルケニル基、R11はR10、−CX3又は、置換もしくは無
置換のアルキル基を示す。Xは塩素原子又は臭素原子を
示す。
アルケニル基、R11はR10、−CX3又は、置換もしくは無
置換のアルキル基を示す。Xは塩素原子又は臭素原子を
示す。
具体的には以下に示すものが挙げられる。
(2)下記の一般式(VI)で表わされるヨードニウム塩
及び一般式(VII)で表わされるスルホニウム塩。
及び一般式(VII)で表わされるスルホニウム塩。
ここで式中Ar1、Ar2は同一でも相異していてもよく、
置換又は無置換の芳香族基を示す。R12、R13、R14は同
一でも相異していてもよく置換又は無置換のアルキル
基、芳香族基を示す。X-はBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、
ClO4 -を示す。
置換又は無置換の芳香族基を示す。R12、R13、R14は同
一でも相異していてもよく置換又は無置換のアルキル
基、芳香族基を示す。X-はBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、
ClO4 -を示す。
また、R12、R13、R14のうち2つ及びAr1、Ar2はそれぞ
れ単結合又は置換基を介して結合してもよい。
れ単結合又は置換基を介して結合してもよい。
一般式(VI)で示される化合物としては、例えば特開
昭50−158680号、特開昭51−100716号、及び特公昭52−
14277号公報記載の化合物が挙げられる。また一般式(V
II)で示される化合物としては、例えば特開昭51−5688
5号、特公昭52−14278号、米国特許第4,442,197号、西
独特許第2,904,626号の各公報または明細書中に記載の
化合物が挙げられる。
昭50−158680号、特開昭51−100716号、及び特公昭52−
14277号公報記載の化合物が挙げられる。また一般式(V
II)で示される化合物としては、例えば特開昭51−5688
5号、特公昭52−14278号、米国特許第4,442,197号、西
独特許第2,904,626号の各公報または明細書中に記載の
化合物が挙げられる。
具体的には以下に示すものが含まれる。
(3)下記の一般式(VIII)で表されるジスルホン誘導
体又は一般式(IX)で表わされるイミドスルホネート誘
導体。
体又は一般式(IX)で表わされるイミドスルホネート誘
導体。
Ar3−SO2−SO2−Ar4 (VIII) ここで式中、Ar3、Ar4は同一でも相異していてもよ
く、置換又は無置換のアリール基を示す。R15は置換又
は無置換のアルキル、アリール基を示す。Aは置換又は
無置換のアルキレン、アルケニレン、アリーレン基を示
す。
く、置換又は無置換のアリール基を示す。R15は置換又
は無置換のアルキル、アリール基を示す。Aは置換又は
無置換のアルキレン、アルケニレン、アリーレン基を示
す。
具体的には以下に化合物が挙げられる。
これらの光照射により酸を発生し得る化合物の添加量
は、全組成物に対し、0.01〜10wt%、好ましくは0.1〜5
wt%の範囲で使用される。
は、全組成物に対し、0.01〜10wt%、好ましくは0.1〜5
wt%の範囲で使用される。
(b)の化合物 本発明(b)における一般式(I)、(II)、又は
(III)で示されるシリルエーテル化合物の具体例とし
ては次に示すものがあるが、これに限定されるものでは
ない。
(III)で示されるシリルエーテル化合物の具体例とし
ては次に示すものがあるが、これに限定されるものでは
ない。
なお具体例中のnは2以上の整数を示す。またx,y,z
はモル比を示し、化合物例No.45〜47ではx=10〜85モ
ル%、y=5〜80モル%、z=10〜85モル%である。ま
た化合物例No.3〜4、7〜19、21、26、37、及び41〜4
4、49では、x=5〜90モル%、y=10〜95モル%を示
す。
はモル比を示し、化合物例No.45〜47ではx=10〜85モ
ル%、y=5〜80モル%、z=10〜85モル%である。ま
た化合物例No.3〜4、7〜19、21、26、37、及び41〜4
4、49では、x=5〜90モル%、y=10〜95モル%を示
す。
酸により分解し得る、これらのシリルエーテル化合物
の添加量は全組成物に対し、5〜70wt%、好ましくは15
〜50wt%の範囲で使用される。
の添加量は全組成物に対し、5〜70wt%、好ましくは15
〜50wt%の範囲で使用される。
(c)の化合物 本発明の(c)における、エポキシ基を少なくとも1
個有する化合物としては、多くの既知の脂肪族又は芳香
族エポキシ化合物が含まれる。具体的には以下に示すも
のが含まれる。
個有する化合物としては、多くの既知の脂肪族又は芳香
族エポキシ化合物が含まれる。具体的には以下に示すも
のが含まれる。
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリ
グリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエ
ーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、アリル
グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ブチ
ルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、
クレジルグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジル
エーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテ
ル、1,5−ペンタンジオールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,7−ペフ
タンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジ
オールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジル
エーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ト
リプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールエ
タントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、
テレフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシ
ジルエステル、スピログリコールジグリシジルエステル
などが挙げられる。
ングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリ
グリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエ
ーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、アリル
グリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ブチ
ルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、
クレジルグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジル
エーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテ
ル、1,5−ペンタンジオールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,7−ペフ
タンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジ
オールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジル
エーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ト
リプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールエ
タントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、
テレフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシ
ジルエステル、スピログリコールジグリシジルエステル
などが挙げられる。
これらのエポキシ化合物の添加量は、全組成物に対し
0.01〜10wt%、好ましくは0.03〜5wt%の範囲で使用さ
れる。
0.01〜10wt%、好ましくは0.03〜5wt%の範囲で使用さ
れる。
その他の成分 本発明の光可溶化組成物は、上記(a)、(b)、
(c)の化合物の組合せのみで使用することができる
が、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた方が好まし
い。好適なアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック型
フェノール樹脂、具体的にはフェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、o−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂、またこれらの共縮合物などが
ある。更に特開昭50−125806号公報に記されている様に
上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアル
キル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、一層好まし
い。またカルボキシル基含有ポリアクリレート、ポリメ
タクリレート、ポリエステル、ポリウレタン、及びポリ
アミドなども使用することができる。
(c)の化合物の組合せのみで使用することができる
が、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた方が好まし
い。好適なアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック型
フェノール樹脂、具体的にはフェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、o−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂、またこれらの共縮合物などが
ある。更に特開昭50−125806号公報に記されている様に
上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアル
キル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、一層好まし
い。またカルボキシル基含有ポリアクリレート、ポリメ
タクリレート、ポリエステル、ポリウレタン、及びポリ
アミドなども使用することができる。
本発明の光可溶化組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発
生効率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有さ
せることができる。
料、顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発
生効率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有さ
せることができる。
このような増感剤として、例えば一般式(VI)、(VI
I)で示される酸発生剤に対しては米国特許第4,250,053
号、同第4,442,197号の明細書中に記載された化合物を
挙げることができる。具体的にはアントラセン、フエナ
ンスレン、ペリレン、ピレン、クリセン、1,2−ベンゾ
アントラセン、コロネン、1,6−ジフェニル−1,3,5−ヘ
キサトリエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジ
エン、2,3,4,5−テトラフェニルフラン、2,5−ジフェニ
ルチオフエン、チオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、フエノチアジン、1,3−ジフェニルピラゾリン、
1,3−ジフェニルイソベンゾフラン、キサントン、ベン
ゾフエノン、4−ヒドロキシベンゾフエノン、アンスロ
ン、ニンヒドリン、9−フルオレノン、2,4,7−トリニ
トロフルオレノン、インダノン、フエナンスラキノン、
テトラロン、7−メトキシ−4−メチルクマリン、3−
ケト−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、ミヒラ−
ケトンなどが含まれる。
I)で示される酸発生剤に対しては米国特許第4,250,053
号、同第4,442,197号の明細書中に記載された化合物を
挙げることができる。具体的にはアントラセン、フエナ
ンスレン、ペリレン、ピレン、クリセン、1,2−ベンゾ
アントラセン、コロネン、1,6−ジフェニル−1,3,5−ヘ
キサトリエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジ
エン、2,3,4,5−テトラフェニルフラン、2,5−ジフェニ
ルチオフエン、チオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、フエノチアジン、1,3−ジフェニルピラゾリン、
1,3−ジフェニルイソベンゾフラン、キサントン、ベン
ゾフエノン、4−ヒドロキシベンゾフエノン、アンスロ
ン、ニンヒドリン、9−フルオレノン、2,4,7−トリニ
トロフルオレノン、インダノン、フエナンスラキノン、
テトラロン、7−メトキシ−4−メチルクマリン、3−
ケト−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、ミヒラ−
ケトンなどが含まれる。
これらの増感剤と光分解により酸を発生し得る化合物
との割合は、モル比で0.01/1〜20/1であり、好ましくは
0.1/1〜5/1の範囲で使用される。
との割合は、モル比で0.01/1〜20/1であり、好ましくは
0.1/1〜5/1の範囲で使用される。
また着色剤として染料を用いることができるが、好適
な染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体
的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーB
OS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエント
化学工業株式会社製)クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダミンB
(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチ
レンブルー(CI52015)などをあげることができる。
な染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体
的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーB
OS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエント
化学工業株式会社製)クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダミンB
(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチ
レンブルー(CI52015)などをあげることができる。
溶媒 本発明の光可溶化組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒を溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−
メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸エ
チルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して
使用する。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固
形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用途に
より異なるが、例えば感光性平版印刷版についていえば
一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好ましい。塗布量
が少くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は
低下する。
媒を溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−
メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸エ
チルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して
使用する。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固
形分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用途に
より異なるが、例えば感光性平版印刷版についていえば
一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好ましい。塗布量
が少くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は
低下する。
平版印刷版等への応用 本発明の光可溶化組成物を用いて平版印刷版を製造す
る場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニ
ウム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極
酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シ
リケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛
板、ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理した
プラスチックフィルムや紙を上げることができる。
る場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニ
ウム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極
酸化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シ
リケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛
板、ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理した
プラスチックフィルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクター用
フィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体とし
てはポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテ
ートフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチッ
クフィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化し
たものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの
製造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウ
ム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレー
トフィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをあげることが出来る。またホトレジスト
として上記以外の種々の支持体、例えば銅板、銅メッキ
板、ガラス板上に本発明の光可溶化組成物を塗布して使
用される。
フィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体とし
てはポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテ
ートフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチッ
クフィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化し
たものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの
製造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウ
ム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレー
トフィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをあげることが出来る。またホトレジスト
として上記以外の種々の支持体、例えば銅板、銅メッキ
板、ガラス板上に本発明の光可溶化組成物を塗布して使
用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度
エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による
走査露光も本発明に使用することができる。このような
レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、ア
ルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム
・カドミウムレーザーなどが挙げられる。
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度
エネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による
走査露光も本発明に使用することができる。このような
レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、ア
ルゴンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム
・カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の光可溶化組成物に対する現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。
「実施例」 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれに限定されるものではな
い。
するが、本発明の内容がこれに限定されるものではな
い。
合成例1(化合物例No.27の原料合成) エチレングリコール1に触媒量のピリジンを加え、
これに2,4−トリレン−ジイソシアナート139gを、撹拌
しながら滴下ロートより約40分間かけて添加した。添加
後70℃にて、更に2時間撹拌を続けた。その後、反応溶
液を氷−メタノール浴にて冷却し、白色固体を析出せし
めた。濾別後、約2lの水で再結晶し、白色結晶214g(収
率90%)を得た。NMR及び元素分析により、この白色結
晶が、ビス−(2−ヒドロキシエチル)2,4−トリレン
ジカルバメート であることを確認した。
これに2,4−トリレン−ジイソシアナート139gを、撹拌
しながら滴下ロートより約40分間かけて添加した。添加
後70℃にて、更に2時間撹拌を続けた。その後、反応溶
液を氷−メタノール浴にて冷却し、白色固体を析出せし
めた。濾別後、約2lの水で再結晶し、白色結晶214g(収
率90%)を得た。NMR及び元素分析により、この白色結
晶が、ビス−(2−ヒドロキシエチル)2,4−トリレン
ジカルバメート であることを確認した。
合成例2(化合物例No.27の合成) 合成例1にて得たビス(2−(ヒドロキシエチル)2,
4−トリレンジカルバメート29.8g(0.100mole)、ピリ
ジン17.4g(0.220モル)を酢酸エチル180ml中で室温下
撹拌し、ジクロロジメチルシラン12.9g(0.100モル)の
トルエン20ml溶液を滴下ロートより添加した。添加に約
30分間を要した。添加後、50℃で5時間撹拌を続けた。
4−トリレンジカルバメート29.8g(0.100mole)、ピリ
ジン17.4g(0.220モル)を酢酸エチル180ml中で室温下
撹拌し、ジクロロジメチルシラン12.9g(0.100モル)の
トルエン20ml溶液を滴下ロートより添加した。添加に約
30分間を要した。添加後、50℃で5時間撹拌を続けた。
生成したピリジンのHCl塩を濾別した後、反応溶液を
5%NaHCO3水溶液200ml、更に飽和食塩水200mlで洗浄
し、Na2SO4にて乾燥させた。その後反応液を濃縮乾枯し
た結果、無色の樹脂31gを得た。NMRにより、その構造が
化合物例No.27であることを確認した。更にGPC(Gel Pe
rmeation Chromatography)により分子量を測定したと
ころ、ポリスチレン標準で4,500であった。
5%NaHCO3水溶液200ml、更に飽和食塩水200mlで洗浄
し、Na2SO4にて乾燥させた。その後反応液を濃縮乾枯し
た結果、無色の樹脂31gを得た。NMRにより、その構造が
化合物例No.27であることを確認した。更にGPC(Gel Pe
rmeation Chromatography)により分子量を測定したと
ころ、ポリスチレン標準で4,500であった。
合成例3(化合物例No.25の合成) ビス−(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート 25.4g(0.100モル)、ピリジン17.4g(0.220モル)のト
ルエン100ml溶液にジクロロジエチルシラン15.7g(0.10
0モル)のトルエン20ml溶液を室温下、撹拌しながら滴
下ロートより約30分間かけて添加した。添加後50℃にて
8時間撹拌を続けた。生成したピリジンのHCl塩を濾別
後、合成例2に示した方法と同様に後処理を行い、無色
の粘稠な液体27gを得た。NMRにより、その構造が化合物
例No.25であることを確認し、更にGPCにより分子量を測
定したところ、ポリスチレン標準で3,000であった。
ルエン100ml溶液にジクロロジエチルシラン15.7g(0.10
0モル)のトルエン20ml溶液を室温下、撹拌しながら滴
下ロートより約30分間かけて添加した。添加後50℃にて
8時間撹拌を続けた。生成したピリジンのHCl塩を濾別
後、合成例2に示した方法と同様に後処理を行い、無色
の粘稠な液体27gを得た。NMRにより、その構造が化合物
例No.25であることを確認し、更にGPCにより分子量を測
定したところ、ポリスチレン標準で3,000であった。
合成例4(化合物例No.48の合成) p−キシリレングリコール13.8g(0.100モル)、ピリ
ジン17.4g(0.220モル)、をメチルエチルケトン100ml
に溶解し、これにビス(クロロジメチルシリル)エタン
21.5g(0.100モル)のトルエン20ml溶液を撹拌しながら
滴下ロートより30分間かけて添加した。添加後50℃に
て、5時間撹拌を続けた。生成した白色の塩(ピリジン
の塩酸塩)を濾別し、メチルエチルケトン溶液を3%重
炭酸ナトリウム水溶液100ml、続いて飽和食塩水100mlに
て洗浄したこれを無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を留去させると淡褐色粘稠固体が得られた。収
量20.2g。NMRにより、その構造が化合物例No.48である
ことを確認した。更にゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー(GPC、ポリスチレン標準)により分子量を測
定したところ重量平均でw=3500であった。
ジン17.4g(0.220モル)、をメチルエチルケトン100ml
に溶解し、これにビス(クロロジメチルシリル)エタン
21.5g(0.100モル)のトルエン20ml溶液を撹拌しながら
滴下ロートより30分間かけて添加した。添加後50℃に
て、5時間撹拌を続けた。生成した白色の塩(ピリジン
の塩酸塩)を濾別し、メチルエチルケトン溶液を3%重
炭酸ナトリウム水溶液100ml、続いて飽和食塩水100mlに
て洗浄したこれを無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減
圧下溶媒を留去させると淡褐色粘稠固体が得られた。収
量20.2g。NMRにより、その構造が化合物例No.48である
ことを確認した。更にゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー(GPC、ポリスチレン標準)により分子量を測
定したところ重量平均でw=3500であった。
実施例1〜4 厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を80℃に保った第3燐
酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱脂し、ナ
イロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナトリウムで
約10分間エッチングして、硫酸水素ナトリウム3%水溶
液でデスマット処理を行った。このアルミニウム板を20
%硫酸中で電流密度2A/dm2において2分間陽極酸化を行
いアルミニウム板を作製した。
酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬して脱脂し、ナ
イロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナトリウムで
約10分間エッチングして、硫酸水素ナトリウム3%水溶
液でデスマット処理を行った。このアルミニウム板を20
%硫酸中で電流密度2A/dm2において2分間陽極酸化を行
いアルミニウム板を作製した。
次に下記感光液〔A〕の化合物(C)の種類を変え
て、4種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕−4を調整し、
この感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布
し、100℃で2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版〔A〕−1〜〔A〕−4を作製した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で1.5g/m2であった。
て、4種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕−4を調整し、
この感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布
し、100℃で2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版〔A〕−1〜〔A〕−4を作製した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で1.5g/m2であった。
また感光液〔A〕−1〜〔A〕−4を用いた化合物
(C)は第1表に示す。
(C)は第1表に示す。
感光液〔A〕 次に比較例として下記の感光液〔B〕を感光液〔A〕
と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔B〕を作製した。
と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔B〕を作製した。
感光液〔B〕 乾燥後の塗布重量は1.5g/m2であった。感光性平版印
刷版〔A〕−1〜〔A〕−4、及び〔B〕の感光層上に
濃度差0.15のグレースケールを密着させ、30アンペアの
カーボンアーク灯で70cmの距離から露光を行った。
刷版〔A〕−1〜〔A〕−4、及び〔B〕の感光層上に
濃度差0.15のグレースケールを密着させ、30アンペアの
カーボンアーク灯で70cmの距離から露光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4、及び〔B〕をDP−4
(商品名:富士写真フィルム(株)製)の8希釈水溶液
で25℃において60秒間浸漬現像し、濃度差0.15のグレー
スケールで5段目が完全にクリアーとなる露光時間を求
めたところ第1表に示すとおりとなった。
版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4、及び〔B〕をDP−4
(商品名:富士写真フィルム(株)製)の8希釈水溶液
で25℃において60秒間浸漬現像し、濃度差0.15のグレー
スケールで5段目が完全にクリアーとなる露光時間を求
めたところ第1表に示すとおりとなった。
第1表からわかるように化合物(C)を用いた感光性
平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4はいずれも〔B〕よ
り露光時間が少く、感度が高い。
平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4はいずれも〔B〕よ
り露光時間が少く、感度が高い。
なお感光液〔A〕中のシリルエーテル化合物No.14の
分子量は重量平均で5,700(GPC、ポリスチレン標準)で
あった。またn=3であり、x/y比はモル比で50/50であ
った。
分子量は重量平均で5,700(GPC、ポリスチレン標準)で
あった。またn=3であり、x/y比はモル比で50/50であ
った。
実施例5〜8 実施例1の感光液〔A〕において、化合物(C)のみ
を含まない感光液〔C〕を実施例1と同様に塗布し、感
光性平版印刷版〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は
1.5g/m2であった。
を含まない感光液〔C〕を実施例1と同様に塗布し、感
光性平版印刷版〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は
1.5g/m2であった。
実施例1において作製した感光性平版印刷版〔A〕−
1〜〔A〕−4、及び〔C〕の感光層上に濃度差0.15の
グレースケールを密着させ、30アンペアのカーボンアー
ク灯で70cmの距離から30秒間露光を行った。露光された
感光性平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4及び〔C〕を
露光30秒後並びに4時間後にそれぞれ実施例1と同じ現
像液にて、25℃で60秒間現像した。濃度差0.15のグレー
スケールで露光30秒後並びに4時間後現像における完全
にクリアーとなる段数の差を求めたところ、第2表に示
すとおりとなった。
1〜〔A〕−4、及び〔C〕の感光層上に濃度差0.15の
グレースケールを密着させ、30アンペアのカーボンアー
ク灯で70cmの距離から30秒間露光を行った。露光された
感光性平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4及び〔C〕を
露光30秒後並びに4時間後にそれぞれ実施例1と同じ現
像液にて、25℃で60秒間現像した。濃度差0.15のグレー
スケールで露光30秒後並びに4時間後現像における完全
にクリアーとなる段数の差を求めたところ、第2表に示
すとおりとなった。
第2表からわかるように化合物〔C〕を用いた感光性
平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4は、いずれも〔C〕
よりも、露光30秒後並びに4時間後現像での完全にクリ
アーとなる段数差が小さく、露光後現像までの経時にお
ける感度変動(増感)が少ない。
平版印刷版〔A〕−1〜〔A〕−4は、いずれも〔C〕
よりも、露光30秒後並びに4時間後現像での完全にクリ
アーとなる段数差が小さく、露光後現像までの経時にお
ける感度変動(増感)が少ない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−37549(JP,A) 特開 昭61−141442(JP,A) 特開 昭62−38452(JP,A) 特開 昭61−151643(JP,A) 特開 昭61−295549(JP,A) 特開 昭59−162542(JP,A) 特開 昭58−160950(JP,A) 特開 昭58−149041(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】(a)下記一般式(IV)、(V)、(V
I)、(VII)、(VIII)、又は(IX)で示される、活性
光線の照射により酸を発生し得る化合物、 (b)下記一般式(I)、(II)、又は(III)で示さ
れる、酸により分解し、現像液中でのその溶解度が酸の
作用により増大するシリルエーテル化合物、及び (c)溶剤を除く全組成物に対して0.01〜10wt%の、エ
ポキシ基を少なくとも1個有する化合物、を含有するこ
とを特徴とする光可溶化組成物。 式中、R1は置換基を有していてもよいm価の脂肪族又は
芳香族炭化水素を示す。R2,R3,R4は同一でも相異して
いてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケニ
ル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラル
キル、ハロゲン、又は、−OR6−を示す。R5,R7は置換
基を有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素
を示す。 R6は置換基を有していてもよいアルキル、アリール、も
しくはアラルキル基を示す。またR5とR6が結合して脂肪
族環又は芳香族環の一部を形成してもよい。 R8は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、ア
リール、もしくはアシル基、又は を示す。 m,nは正の整数を示し、a,bはそれぞれ0又は1を示す。 式中、R10は置換もしくは無置換のアリール、アルケニ
ル基、R11はR10、−CX3又は、置換もしくは無置換のア
ルキル基を示す。Xは塩素原子又は臭素原子を示す。 式中、Ar1、Ar2は同一でも相異していてもよく、置換又
は無置換の芳香族基を示す。R12、R13、R14は同一でも
相異していてもよく、置換又は無置換のアルキル基、芳
香族基を示す。X-はBF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、ClO4 -
を示す。 また、R12、R13、R14のうちの2つ及びAr1、Ar2はそれ
ぞれ単結合又は置換基を介して結合してもよい。 Ar3−SO2−SO2−Ar4 (VIII) 式中、Ar3、Ar4は同一でも相異していてもよく、置換又
は無置換のアリール基を示す。R15は置換又は無置換の
アルキル、アリール基を示す。Aは置換又は無置換のア
ルキレン、アルケニレン、アリーレン基を示す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62071043A JPH0814695B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光可溶化組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62071043A JPH0814695B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光可溶化組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63236029A JPS63236029A (ja) | 1988-09-30 |
JPH0814695B2 true JPH0814695B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=13449097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62071043A Expired - Fee Related JPH0814695B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光可溶化組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0814695B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0432905B1 (en) * | 1989-11-15 | 1998-02-04 | Fujitsu Limited | Polysilphenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof |
JP5753434B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2015-07-22 | 富士フイルム株式会社 | 化学増幅型ポジ感光性組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53141026A (en) * | 1977-05-14 | 1978-12-08 | Toyo Boseki | Sensitive resin composite forming relief |
EP0087262A1 (en) * | 1982-02-22 | 1983-08-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive acting photosensitive compositions |
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