JPS58185677A - 紫外線吸収剤 - Google Patents
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Landscapes
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、紫外線吸収剤に関し、更に詳しくは画侭の鮮
鋭性と耐光性に優れた重合体紫外線吸収剤に関するもの
である。
鋭性と耐光性に優れた重合体紫外線吸収剤に関するもの
である。
従来から有機化合物および高分子化合物の紫外線による
劣化を防止するために紫外線吸収剤を用いることは既に
良く知られたところである。そしてこのような紫外線吸
収剤としては、例えばナリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、アクリロニトリル誘導体、ベンゾトリアゾー
ル誘導体等が使用されている。
劣化を防止するために紫外線吸収剤を用いることは既に
良く知られたところである。そしてこのような紫外線吸
収剤としては、例えばナリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、アクリロニトリル誘導体、ベンゾトリアゾー
ル誘導体等が使用されている。
また、一般に写真画、像、轡に写真色素画像の紫外線に
よる変褪色等の劣化を防止することを目的として紫外線
吸収剤が効果的に用いられることも既に広く知られてい
る。
よる変褪色等の劣化を防止することを目的として紫外線
吸収剤が効果的に用いられることも既に広く知られてい
る。
上記の如き各種の紫外線吸収剤は、通常ハpゲ/化銀感
光材料に含有せしめられるが、これら紫外線吸収剤の適
性条件としては300〜400 mvaの紫外線の波長
領域において、これを吸収する能力を有し、かつ分子吸
光係数が大ぎいこと、現11%環により得られる。th
i偉に色濁りを生じさ峻ないよ5K 400 nm以上
の可視領域に対しては徴収をもたないこと、またさらK
は、紫外線吸収剤を感光材料分に分散させることが必要
なので、高沸点溶媒に−3 対する溶解度が高いこと等が望ましい。
光材料に含有せしめられるが、これら紫外線吸収剤の適
性条件としては300〜400 mvaの紫外線の波長
領域において、これを吸収する能力を有し、かつ分子吸
光係数が大ぎいこと、現11%環により得られる。th
i偉に色濁りを生じさ峻ないよ5K 400 nm以上
の可視領域に対しては徴収をもたないこと、またさらK
は、紫外線吸収剤を感光材料分に分散させることが必要
なので、高沸点溶媒に−3 対する溶解度が高いこと等が望ましい。
従来から知られている紫外線吸収剤のベンゾトリアゾー
ル誘導体は、上記に示された紫外線吸収剤としての適性
を嫌イ満たす優れた化合物の1種ではあるが、有機溶媒
に対する溶解度が極めて低(、オイルプロテクト分散法
により分散せしめた場合、分散不良等の障害を引起すば
かりでなく、構成層として塗布した後、化合物の結晶が
析出し、感光材料の品質をも劣化せしめる。
ル誘導体は、上記に示された紫外線吸収剤としての適性
を嫌イ満たす優れた化合物の1種ではあるが、有機溶媒
に対する溶解度が極めて低(、オイルプロテクト分散法
により分散せしめた場合、分散不良等の障害を引起すば
かりでなく、構成層として塗布した後、化合物の結晶が
析出し、感光材料の品質をも劣化せしめる。
紫外線吸収剤の分散法としては上記のプロテクト分散法
のはかに、例えば米国特許第4,199,363号、同
第4,203,718号、同第4,214,047号、
同第4,247.1527号等に記載されているラテッ
クス分散法が知られている。この分散法は合成ポリマー
ラテックス粒子に紫外線吸収剤を含浸せしめる方法に関
するものであるが、前記のアクリロニトリル誘導体には
適するものの、ベンゾトリアゾール誘導体を十分に含浸
させ為ためには必ずしも満足し得る手段とは言い難い。
のはかに、例えば米国特許第4,199,363号、同
第4,203,718号、同第4,214,047号、
同第4,247.1527号等に記載されているラテッ
クス分散法が知られている。この分散法は合成ポリマー
ラテックス粒子に紫外線吸収剤を含浸せしめる方法に関
するものであるが、前記のアクリロニトリル誘導体には
適するものの、ベンゾトリアゾール誘導体を十分に含浸
させ為ためには必ずしも満足し得る手段とは言い難い。
また、米国特許落電272,891号、同第3,761
,272号にはベンゾ)lアゾール化合物をエチレン系
モノマーの誘導体となし、他のエチレン系モノマーとの
溶液重合あるいは乳化重合によって重合体紫外線吸収剤
を合成する方法が開示されている。
,272号にはベンゾ)lアゾール化合物をエチレン系
モノマーの誘導体となし、他のエチレン系モノマーとの
溶液重合あるいは乳化重合によって重合体紫外線吸収剤
を合成する方法が開示されている。
しかしながら、上記の合成方法によって得られる重合体
紫外線吸収剤では、共重合体中に含有される毫ノ1−と
しての紫外線吸収剤単位の含有率は高(ならず、そのた
めに十分な紫外線吸収能を発揮することかで書ない、そ
こで多量の重合体紫外ma収剤の使用が必要とされ、そ
の結果として、例えば写真感光材料に用いる場合感光材
料の膜厚の増大、現像魁履時閾の蔦長、画像鮮鋭性の低
下等を招来するので、上記の方法も決して満足し得るも
のではない、そこで本発明の第1の目的は。
紫外線吸収剤では、共重合体中に含有される毫ノ1−と
しての紫外線吸収剤単位の含有率は高(ならず、そのた
めに十分な紫外線吸収能を発揮することかで書ない、そ
こで多量の重合体紫外ma収剤の使用が必要とされ、そ
の結果として、例えば写真感光材料に用いる場合感光材
料の膜厚の増大、現像魁履時閾の蔦長、画像鮮鋭性の低
下等を招来するので、上記の方法も決して満足し得るも
のではない、そこで本発明の第1の目的は。
溶解度が高く、□紫外線吸収能力に優れた紫外線吸収剤
を提供することにあり、また第2の目的は、現像J61
1を透電することもなく、かっ色濁り、または画像の鮮
鋭性等が改嵐された写真特性を有する如き写真感光材料
に用いる紫外II吸収剤を提供することにある。
を提供することにあり、また第2の目的は、現像J61
1を透電することもなく、かっ色濁り、または画像の鮮
鋭性等が改嵐された写真特性を有する如き写真感光材料
に用いる紫外II吸収剤を提供することにある。
本発明の前記の鎖目的は、本発明によれば下記一般式C
I)で表わされるビニル単量体を少なくとも1個置換基
として有する2−(2−ヒドロキクフェニル)−2に一
ベンゾトリアゾール化合物のホモポリマーラテックスま
たは該ベンゾトリアゾール化合物を少なくとも70重量
%含有するコポリマーラテックスからなる紫外線吸収剤
により達成することができる。
I)で表わされるビニル単量体を少なくとも1個置換基
として有する2−(2−ヒドロキクフェニル)−2に一
ベンゾトリアゾール化合物のホモポリマーラテックスま
たは該ベンゾトリアゾール化合物を少なくとも70重量
%含有するコポリマーラテックスからなる紫外線吸収剤
により達成することができる。
−R電O
(式中、凰1は水素原子、ハロゲン原子、メチル基また
はシアノ基を表わし、凰、は水素原子またはメチル基を
表わし、またムは一縄一または一〇−基を表わす、) すなわち、本発明の飯外線吸収剤は、従来から有用な紫
外線吸収剤として知られているベンゾトリアゾール化合
物に少なくとも1個の上記ビニル単量体の残基を置換せ
しめ、これを乳化重合させてホ411!リマーラテック
スまたは上記ベンゾトリアゾール化合物成分を比較的高
い含有率で含むコポリマーラテックスとなしたものであ
り、このような重合体紫外線吸収剤を特に感光材料に適
用した場合、塗布量を増大しなくても優れた紫外線吸収
濃度が得られこれKより前記目的を達成し得るこ、とが
わかった。
はシアノ基を表わし、凰、は水素原子またはメチル基を
表わし、またムは一縄一または一〇−基を表わす、) すなわち、本発明の飯外線吸収剤は、従来から有用な紫
外線吸収剤として知られているベンゾトリアゾール化合
物に少なくとも1個の上記ビニル単量体の残基を置換せ
しめ、これを乳化重合させてホ411!リマーラテック
スまたは上記ベンゾトリアゾール化合物成分を比較的高
い含有率で含むコポリマーラテックスとなしたものであ
り、このような重合体紫外線吸収剤を特に感光材料に適
用した場合、塗布量を増大しなくても優れた紫外線吸収
濃度が得られこれKより前記目的を達成し得るこ、とが
わかった。
本発明においては、上記紫外線吸収剤単量体を乳化重合
させてコポリマーラテックスとなす場合、11iK鋏単
量体成分を高い含有率、例えば70重fIk%以上の含
有率でコポリマーラテックスに含ませることを特徴とし
ている。その理由は、一般に感光材料における紫外線吸
収剤の塗布量と紫外線吸収濃度とは比例的な相関があり
、塗布量を増大すると、その増大量に比例して紫外線吸
収濃度も上昇することは既Kf14らかくされていたこ
とではあるが、本発明によると、前記のような紫外線吸
収剤成分を高い組成比で含有するコポリマーラテックス
を塗布層として感光材料に使用した場合には、上記従来
技術により得られるその塗布量に比例する紫外線吸収濃
度より着るしく高い吸収濃度が得られるという意外な事
実が判明したからである。
させてコポリマーラテックスとなす場合、11iK鋏単
量体成分を高い含有率、例えば70重fIk%以上の含
有率でコポリマーラテックスに含ませることを特徴とし
ている。その理由は、一般に感光材料における紫外線吸
収剤の塗布量と紫外線吸収濃度とは比例的な相関があり
、塗布量を増大すると、その増大量に比例して紫外線吸
収濃度も上昇することは既Kf14らかくされていたこ
とではあるが、本発明によると、前記のような紫外線吸
収剤成分を高い組成比で含有するコポリマーラテックス
を塗布層として感光材料に使用した場合には、上記従来
技術により得られるその塗布量に比例する紫外線吸収濃
度より着るしく高い吸収濃度が得られるという意外な事
実が判明したからである。
従って本発明は上記の事実に立脚してなされたものであ
る。
る。
以下に、本発明を更に詳細に説明する。
本発明に係わる前記紫外線吸収剤単量体は、2−(2−
ヒドロキシフヱニル)−2H−ベンゾトリアゾール化合
物の分子中に少なくとも1個の前記一般式(I)で表わ
されるビニル単量体を置換基として有するものである。
ヒドロキシフヱニル)−2H−ベンゾトリアゾール化合
物の分子中に少なくとも1個の前記一般式(I)で表わ
されるビニル単量体を置換基として有するものである。
次に上記の紫外線吸収剤単量体を具体的に例示するが、
本発明はこれらKより限定されるもので上記本発明に係
わる紫外Il@収剤単剤単量体重合側始剤の存在下に乳
化重合反応を行い、目的とj4*−1−〆リマ−ラテッ
タスまたはコポリマーラテックスとなすことができる。
本発明はこれらKより限定されるもので上記本発明に係
わる紫外Il@収剤単剤単量体重合側始剤の存在下に乳
化重合反応を行い、目的とj4*−1−〆リマ−ラテッ
タスまたはコポリマーラテックスとなすことができる。
そこで以下にフボリマーラデッタスを合成するときに用
いろれる他の共重合体成分としてのモノマーの例を具体
的に例示する。
いろれる他の共重合体成分としてのモノマーの例を具体
的に例示する。
すなわち、代表的なモノマーとしては、ビニル7セテー
F、どニルブチラード、ビニルエチルチオアセテート、
ビニルベンゾエ−ト、ビニルクD g 7セデート、ビ
ニルネオデカノエート、ビニルベンゾエート、ビニルベ
ンジルアセテート等のビニルエステル、 アクリルアミド、メタ7タリルアミド、N−メチルアク
リルア之ド、N−インプロピルアクリルアミド、N−メ
チ■−ルアクリルアミド、N−(イソブトキシメチル)
アクリルアミド、N−(インブトキシメチル)メタクリ
ル7ミド1N−(菖−ヒドW牛シ7工二ル)メタクリル
アミド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノ
プロピル)アクリルア之ド、N、N−ジ(シアノメチル
)アクリルア之ド、N−メチルメタタリル7Rド、N−
(2−ア之ノー2−メチルプロピル)メタク ・・リル
アセド、N−(2−ヒドロキシプロピル)メタクリル7
ミド、N、N−ジ(シアノメチル)メタクリルアR)″
、N−イソプロピルメタクリルアミド、N、N−ジメチ
ルメタクリルア之ド、NtN−ジメチルアクリルア之ド
、3−(3−(ジメチルアミノ)プロミドコアクリルア
電ド、3−2−(ジメチルアミノ)エチルコアクリルア
ミド、3−(2−(ジメチルアミノ)エチル〕メタクリ
ル7ミド、N−(3−(3−りaaプロピオンアミド)
プロピル〕メタクリルアミド等のビニル7電ド、アクリ
ロニトリル、メタシクロニトリル、3−ブテンニトリル
、2−シクロアクリロニトリル等のビニルニトリル、 メチルビニルケトン、シア七トンアクリルアミド等のビ
ニルケトン、ビニルクロライド、ビニルブロマイド、ビ
ニリデンクロライド等のビニルハライへ アリルメチルエーテル、アリルフェニルエーテル、2−
クロロビニルメチルエーテル、ブチルビニルエーテル、
メチルビニルエーテル等のビニル2−チル、 アクリル■、メタクリル酸、メチルアクリレージ、ブチ
ルアクリレ−)、2−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタタリレーシ、t−ペン
チルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、3−ペ
ンチルアクリレート、ベンジル7タリレート、t−ブチ
ルメタクリレージ、1.1−ジヒドロパーフルオロブチ
ルアクリレ−)1ベンジルメタクリレート、3−オキソ
−n−ブチルアタリレート、メチル−α−ブロモアクリ
レート、t−ブチル7タリレート、4−クロロブ子ルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペン
チルアクリレート、セチルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、2−ノルボルニルメチルアク啼し−)
、2− (p−)ルエンスルホニルオキシ)エチルアク
リレート、2−ノルボルニルメチルメタクリレート、2
−クロロエチルメタクリレート、2−クロロエチルアク
リレート、エチルメタクリレート−インブチルアクリレ
ート、2−エチルへキシルアクリレート、n−へキシル
メタクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、n
−ブチルメタクリレート1イソブチルメタクリレート、
3−オキソ−れ−ブチルメタクリレート、インプロピル
メタクリレート、ラウリルアクリレート、メチル−α−
クロロ7クリレート、エチルメタクリレート、2−メチ
ル−2−ニドロブルビルアクリレート、5−ノルボルネ
ン−2−インメチルメタクリレート、5−(又は6−)
メチルメルカプト−2−ノルボルニルメチルメタクリレ
ート、3−メチル−2−ノルボルニルメチルメタクリレ
ート、4−メチル−2=プロピルペンチル7タリレート
、n−オタ子ルアクリレー)、n−オクタデシルアクリ
レート、n−オクタデシルメタクリレート、2−エト牛
ジエチルアクリレート、2−エトキシエチルメタクリレ
ート、n−オクチルメタタリレート、2−エトキシエチ
ルメタクリレート、2−メトキシェチF1エチル7クリ
レーシ、プロピル7クリレーF・2−シアノエチルアク
リレート、2−クロロ−n−プロビルアタリレート、ジ
シクロペンテニル7タリレーシ、「I−トリフルオロエ
チルアクリレ−)、7zニルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、l−プロピルメタクリレート、3−夕
!ロプロビルアクリレート、n−へキシル1クリレージ
曵城−プチルアタリレー)、2− (メチルスルフィニ
ル)エチルアクリレ−)、2− (:r−チルスルフィ
ニル)エチルアクリレ−)、2.2−ジメチルブチルア
クリレート、ネオヘキシルアクリレート、3−チアペン
チルアクリレート、3−チアペンチルメタクリレート、
等のα、β−不飽和鹸又はエステル等の七ツマ−を挙げ
ることができる。
F、どニルブチラード、ビニルエチルチオアセテート、
ビニルベンゾエ−ト、ビニルクD g 7セデート、ビ
ニルネオデカノエート、ビニルベンゾエート、ビニルベ
ンジルアセテート等のビニルエステル、 アクリルアミド、メタ7タリルアミド、N−メチルアク
リルア之ド、N−インプロピルアクリルアミド、N−メ
チ■−ルアクリルアミド、N−(イソブトキシメチル)
アクリルアミド、N−(インブトキシメチル)メタクリ
ル7ミド1N−(菖−ヒドW牛シ7工二ル)メタクリル
アミド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノ
プロピル)アクリルア之ド、N、N−ジ(シアノメチル
)アクリルア之ド、N−メチルメタタリル7Rド、N−
(2−ア之ノー2−メチルプロピル)メタク ・・リル
アセド、N−(2−ヒドロキシプロピル)メタクリル7
ミド、N、N−ジ(シアノメチル)メタクリルアR)″
、N−イソプロピルメタクリルアミド、N、N−ジメチ
ルメタクリルア之ド、NtN−ジメチルアクリルア之ド
、3−(3−(ジメチルアミノ)プロミドコアクリルア
電ド、3−2−(ジメチルアミノ)エチルコアクリルア
ミド、3−(2−(ジメチルアミノ)エチル〕メタクリ
ル7ミド、N−(3−(3−りaaプロピオンアミド)
プロピル〕メタクリルアミド等のビニル7電ド、アクリ
ロニトリル、メタシクロニトリル、3−ブテンニトリル
、2−シクロアクリロニトリル等のビニルニトリル、 メチルビニルケトン、シア七トンアクリルアミド等のビ
ニルケトン、ビニルクロライド、ビニルブロマイド、ビ
ニリデンクロライド等のビニルハライへ アリルメチルエーテル、アリルフェニルエーテル、2−
クロロビニルメチルエーテル、ブチルビニルエーテル、
メチルビニルエーテル等のビニル2−チル、 アクリル■、メタクリル酸、メチルアクリレージ、ブチ
ルアクリレ−)、2−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタタリレーシ、t−ペン
チルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、3−ペ
ンチルアクリレート、ベンジル7タリレート、t−ブチ
ルメタクリレージ、1.1−ジヒドロパーフルオロブチ
ルアクリレ−)1ベンジルメタクリレート、3−オキソ
−n−ブチルアタリレート、メチル−α−ブロモアクリ
レート、t−ブチル7タリレート、4−クロロブ子ルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペン
チルアクリレート、セチルアクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、2−ノルボルニルメチルアク啼し−)
、2− (p−)ルエンスルホニルオキシ)エチルアク
リレート、2−ノルボルニルメチルメタクリレート、2
−クロロエチルメタクリレート、2−クロロエチルアク
リレート、エチルメタクリレート−インブチルアクリレ
ート、2−エチルへキシルアクリレート、n−へキシル
メタクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、n
−ブチルメタクリレート1イソブチルメタクリレート、
3−オキソ−れ−ブチルメタクリレート、インプロピル
メタクリレート、ラウリルアクリレート、メチル−α−
クロロ7クリレート、エチルメタクリレート、2−メチ
ル−2−ニドロブルビルアクリレート、5−ノルボルネ
ン−2−インメチルメタクリレート、5−(又は6−)
メチルメルカプト−2−ノルボルニルメチルメタクリレ
ート、3−メチル−2−ノルボルニルメチルメタクリレ
ート、4−メチル−2=プロピルペンチル7タリレート
、n−オタ子ルアクリレー)、n−オクタデシルアクリ
レート、n−オクタデシルメタクリレート、2−エト牛
ジエチルアクリレート、2−エトキシエチルメタクリレ
ート、n−オクチルメタタリレート、2−エトキシエチ
ルメタクリレート、2−メトキシェチF1エチル7クリ
レーシ、プロピル7クリレーF・2−シアノエチルアク
リレート、2−クロロ−n−プロビルアタリレート、ジ
シクロペンテニル7タリレーシ、「I−トリフルオロエ
チルアクリレ−)、7zニルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、l−プロピルメタクリレート、3−夕
!ロプロビルアクリレート、n−へキシル1クリレージ
曵城−プチルアタリレー)、2− (メチルスルフィニ
ル)エチルアクリレ−)、2− (:r−チルスルフィ
ニル)エチルアクリレ−)、2.2−ジメチルブチルア
クリレート、ネオヘキシルアクリレート、3−チアペン
チルアクリレート、3−チアペンチルメタクリレート、
等のα、β−不飽和鹸又はエステル等の七ツマ−を挙げ
ることができる。
また、2−7タリル7ミドー2−メチルプロパン−1−
スルホン酸およびそのナトリウム塩、3−メタタリロイ
ルオ命シプロパン−1−スルホンlIおよびそのナトリ
ウム塩、3−アクリロイルオキシプロパン−1−スルホ
ン酸およびそのナト11 v)ラム塩、4−7クリロイ
ルオキシブタンー2−スルホン酸およびそのナトリウム
塩、アフチン酸、4−7クリロイルオキシブタンー1−
スルホン酸およびそのナトリウム塩、3−アクリロイル
オキシ−1−メチルプロパン−1−スルホン酸およびそ
のナトリウム塩、シトラコン酸、3−アリルオキシ−2
−ヒドロキシプロパンスルホン酸およびそのナトリウム
塩、α−クロロアクリル酸、3−アクリロイルオキシプ
ロビオン酸、イタコン酸、マレイン酸、メサフン酸、ク
ロトン酸、3−7クリルアミドプロパンー1−スルホン
酸及びそのカリウム塩、p−スチレンスルホン酸及びそ
のナトIJ ラム塩、ビニルフェニルメタンスルボン酸
およびナトリウム塩、3−メタアクリロイルオキシプロ
パン−1−メチル−1−スルホン酸及びソノナトリウム
塩、4−メタアタリロイルオキシブタン−1−スルホン
酸およびナトリウム塩、2−メタアクリロイルオキシエ
チル−1−スルホン酸およびナトリウム塩、3−メタア
クリロイルオキシプロパンー1−スルホン酸および亜鉛
トf)塩、2−メタアタリロイルオキシエチル−1−ス
ルホン酸等の親水性ビニル七ツマ−を用いることもでき
る。
スルホン酸およびそのナトリウム塩、3−メタタリロイ
ルオ命シプロパン−1−スルホンlIおよびそのナトリ
ウム塩、3−アクリロイルオキシプロパン−1−スルホ
ン酸およびそのナト11 v)ラム塩、4−7クリロイ
ルオキシブタンー2−スルホン酸およびそのナトリウム
塩、アフチン酸、4−7クリロイルオキシブタンー1−
スルホン酸およびそのナトリウム塩、3−アクリロイル
オキシ−1−メチルプロパン−1−スルホン酸およびそ
のナトリウム塩、シトラコン酸、3−アリルオキシ−2
−ヒドロキシプロパンスルホン酸およびそのナトリウム
塩、α−クロロアクリル酸、3−アクリロイルオキシプ
ロビオン酸、イタコン酸、マレイン酸、メサフン酸、ク
ロトン酸、3−7クリルアミドプロパンー1−スルホン
酸及びそのカリウム塩、p−スチレンスルホン酸及びそ
のナトIJ ラム塩、ビニルフェニルメタンスルボン酸
およびナトリウム塩、3−メタアクリロイルオキシプロ
パン−1−メチル−1−スルホン酸及びソノナトリウム
塩、4−メタアタリロイルオキシブタン−1−スルホン
酸およびナトリウム塩、2−メタアクリロイルオキシエ
チル−1−スルホン酸およびナトリウム塩、3−メタア
クリロイルオキシプロパンー1−スルホン酸および亜鉛
トf)塩、2−メタアタリロイルオキシエチル−1−ス
ルホン酸等の親水性ビニル七ツマ−を用いることもでき
る。
さらKは、米国特許1[3,459,790号、同第3
,488゜708号、同IN 3,554,987号、
同Ih 4,215,195号、同第4j47.673
号*に開示されている架橋性モノマーを用いてもよく、
特に好ましく用いられるモノマーとしては、2−1セト
アセトキシエチルメタクリレートおよびN−(2−7七
ジアセトキシエチル)アクリルアミド等がある。
,488゜708号、同IN 3,554,987号、
同Ih 4,215,195号、同第4j47.673
号*に開示されている架橋性モノマーを用いてもよく、
特に好ましく用いられるモノマーとしては、2−1セト
アセトキシエチルメタクリレートおよびN−(2−7七
ジアセトキシエチル)アクリルアミド等がある。
本発明においては、吸収波長域を広域化する目的で、ベ
ンゾトリアゾール核をもつ化合物以外の紫外I!吸収剤
七ツマ−も共重合用モノマー成分として用いることがで
きる。
ンゾトリアゾール核をもつ化合物以外の紫外I!吸収剤
七ツマ−も共重合用モノマー成分として用いることがで
きる。
次に本発明に従って紫外Ii!吸収剤のホモポリマーラ
テックスまたは饗ポ1リマーラテックスを製造するKは
、重合反応開始時または重合反応が成る程度進んだ時点
で、反−に使用されるモノマー総モル数の少くとも1.
25モル外の重合開始剤を用いる、=トが好ましく、特
に好ましくは2〜5モル%の範囲の重合開始剤を使用す
ることである。
テックスまたは饗ポ1リマーラテックスを製造するKは
、重合反応開始時または重合反応が成る程度進んだ時点
で、反−に使用されるモノマー総モル数の少くとも1.
25モル外の重合開始剤を用いる、=トが好ましく、特
に好ましくは2〜5モル%の範囲の重合開始剤を使用す
ることである。
一般的には水性媒体中でポリマーラテックスを合成する
時に用いられる重合開始剤の量は・反応に使用される全
モノマーのモル数に比して0.05〜0.70モル外の
範囲である。従って本発明においてポリマーラテックス
合成時に前記の如き多量ノ重合開始剤が用いられること
は驚くべきことであり、これは本発明の特徴をなしてい
る。そして本発明ニ係わるポリマーラテックス合成法に
よると、通常の方法では非常にラテックス化し難しい例
えば100℃以上の高い融点をもつビニルlリマーのポ
リマーラテックス化が始めて可能にされる。
時に用いられる重合開始剤の量は・反応に使用される全
モノマーのモル数に比して0.05〜0.70モル外の
範囲である。従って本発明においてポリマーラテックス
合成時に前記の如き多量ノ重合開始剤が用いられること
は驚くべきことであり、これは本発明の特徴をなしてい
る。そして本発明ニ係わるポリマーラテックス合成法に
よると、通常の方法では非常にラテックス化し難しい例
えば100℃以上の高い融点をもつビニルlリマーのポ
リマーラテックス化が始めて可能にされる。
本発明に係わるポリマーラテックスは、乳化重合法によ
り製造されるが、この重合反応に用いられる溶媒は水、
および水と混合し得る溶媒、例えばメタノール、エタノ
ール、プロパツール、インプロパツール、ブタノール、
テトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、
アセトン、ジメチルスルホキシF等との混合溶媒が用い
られる◎また重合反応に用いられる重合開始剤としてG
ゴ、例えば過酸化水素、t−ブチルハイドロパーオキサ
イV等を始めとして、水溶性のアゾ型重合開始剤として
2.2′−アゾビス(2−7ミジノプロパン)ハイドロ
タロライド、4.4’−yゾビスー4−シアノ吉草酸等
を挙げることができる。
り製造されるが、この重合反応に用いられる溶媒は水、
および水と混合し得る溶媒、例えばメタノール、エタノ
ール、プロパツール、インプロパツール、ブタノール、
テトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、
アセトン、ジメチルスルホキシF等との混合溶媒が用い
られる◎また重合反応に用いられる重合開始剤としてG
ゴ、例えば過酸化水素、t−ブチルハイドロパーオキサ
イV等を始めとして、水溶性のアゾ型重合開始剤として
2.2′−アゾビス(2−7ミジノプロパン)ハイドロ
タロライド、4.4’−yゾビスー4−シアノ吉草酸等
を挙げることができる。
さらにラテックスの安定化のために公知の非イオン性、
1ニオン性、カチオン性界面活性剤を用いてもよい。
1ニオン性、カチオン性界面活性剤を用いてもよい。
ぎリマーラテックス・を合成する際に用いられる本発明
に係わる水溶性で、かつ乳化重合に適したビニル基を有
するベンゾトリアゾール化合物の例は1例えば米国特許
IK 3,761,272号、同第3.159,646
号、同II 3.272J91号各明細書に記載されて
いる。
に係わる水溶性で、かつ乳化重合に適したビニル基を有
するベンゾトリアゾール化合物の例は1例えば米国特許
IK 3,761,272号、同第3.159,646
号、同II 3.272J91号各明細書に記載されて
いる。
以下に、本発明に有用な紫外IiI吸収剤ボリマーラテ
ッタスの具体的な化合物例を挙げるが、本発(化合物例
) (P−1) CH。
ッタスの具体的な化合物例を挙げるが、本発(化合物例
) (P−1) CH。
(P−2) CH。
X=100重量囁
X=aO重量% Y=20重量−(P−4
) x=75重量%Y−10重量% Z=15重量襲
(P−5) X=80重量% Y=20jil量%(P
−6) X=72M11に% y=283111%
(P−7) X=SS重量% Y=15重量%X=95重量
弧 Y=5富量鳴 rP−9) ?・ X=100重量≦ (P−10) X=100重量外 さらに以下に本発明の紫外線吸収剤の合成例を示す。
) x=75重量%Y−10重量% Z=15重量襲
(P−5) X=80重量% Y=20jil量%(P
−6) X=72M11に% y=283111%
(P−7) X=SS重量% Y=15重量%X=95重量
弧 Y=5富量鳴 rP−9) ?・ X=100重量≦ (P−10) X=100重量外 さらに以下に本発明の紫外線吸収剤の合成例を示す。
(合成例−1)
ボ1(2−(!−ヒドロキシー4−メタクリロイルアミ
ノフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール〕(化合物例
p−2)の合成法。
ノフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール〕(化合物例
p−2)の合成法。
z−(2−ヒト−キシ−4−メタアクリロイルアミノフ
ェニル)−21−ペンツトリアゾール16tをダイヤボ
ン−!(1日本油脂株式会社製)゛lO%10%水溶液
40共に藝OO−の為ガス置換した水の中K111合し
、騎〜−℃の温度条件下、馬ガス気流下で2時間カクハ
ンする。ついで、反応液の温度な曽℃にあげ、4.4′
−アゾビス−4−シアノ吉草酸のナトリウム塩のS%水
溶液8dを加え、5時間カタへ/111ける0反応後、
凝集物を濾別し、透析チェープに入れ、3日間蒸留水中
に放置する。
ェニル)−21−ペンツトリアゾール16tをダイヤボ
ン−!(1日本油脂株式会社製)゛lO%10%水溶液
40共に藝OO−の為ガス置換した水の中K111合し
、騎〜−℃の温度条件下、馬ガス気流下で2時間カクハ
ンする。ついで、反応液の温度な曽℃にあげ、4.4′
−アゾビス−4−シアノ吉草酸のナトリウム塩のS%水
溶液8dを加え、5時間カタへ/111ける0反応後、
凝集物を濾別し、透析チェープに入れ、3日間蒸留水中
に放置する。
ついで分画分子量2x−のフィルター(東洋ウルトラフ
ィルターlFF−20)を用いて限外濾過精製を行ない
、固形分濃度鱒重量%の赤茶色ラテックス溶液を得た・ (合成例−2) ポリ〔l−プチルアクリレートーコ−2−(2−ヒドロ
キシ−4−メタクリロイルアミノ7エ二ル)−2H−ベ
ンゾトリアゾール〕(化合物例P−5)の合成法。
ィルターlFF−20)を用いて限外濾過精製を行ない
、固形分濃度鱒重量%の赤茶色ラテックス溶液を得た・ (合成例−2) ポリ〔l−プチルアクリレートーコ−2−(2−ヒドロ
キシ−4−メタクリロイルアミノ7エ二ル)−2H−ベ
ンゾトリアゾール〕(化合物例P−5)の合成法。
2−(2−ヒドロキシ−4−メタアクリロイルアミノフ
ェニル)−2H−ベンゾトリアゾール10tをダイヤポ
ンーT(日本油脂株式金社製)10%水溶液50−と共
K 600114の鳥ガス置換した水の中に混合し、5
0〜60@C−の温度条件下で2時間カクハンする1次
に、1−ブチルアクリレート25tを滴下し鉛分間開〜
ω℃を保ちながらカフへ/後、反応液の温度を90’C
Kまで上昇させ、4.4/−アゾビス−4−シアノ吉草
酸ナトリウム塩の5%水溶液17117を加え、(社)
℃の温度を保ちながら6時間カクハンする0反応後、凝
集物を濾別し、透析チ具−プに入れ、3日間蒸留水中に
放置する。次K。
ェニル)−2H−ベンゾトリアゾール10tをダイヤポ
ンーT(日本油脂株式金社製)10%水溶液50−と共
K 600114の鳥ガス置換した水の中に混合し、5
0〜60@C−の温度条件下で2時間カクハンする1次
に、1−ブチルアクリレート25tを滴下し鉛分間開〜
ω℃を保ちながらカフへ/後、反応液の温度を90’C
Kまで上昇させ、4.4/−アゾビス−4−シアノ吉草
酸ナトリウム塩の5%水溶液17117を加え、(社)
℃の温度を保ちながら6時間カクハンする0反応後、凝
集物を濾別し、透析チ具−プに入れ、3日間蒸留水中に
放置する。次K。
分画分子量2X10’のフィルター(東洋ウルトラフィ
ルター UP−20)を用いて限外濾過精製を行ない、
固形分濃度21%のベージエ色ラテックス溶液を得たー
。
ルター UP−20)を用いて限外濾過精製を行ない、
固形分濃度21%のベージエ色ラテックス溶液を得たー
。
(合成例−3)
ポリ(N −(2−アセトアセトキシエチル)アクリル
ア建ドーコー2−(2−ヒト四キシ−4−)1り90イ
ルア(ノフェニル)−2I(−ベンゾトリアゾール〕(
化合物例P−6)の合成法。
ア建ドーコー2−(2−ヒト四キシ−4−)1り90イ
ルア(ノフェニル)−2I(−ベンゾトリアゾール〕(
化合物例P−6)の合成法。
!−(x−wドロキシ−4−メタアクリロイルアミノフ
ェニル)−2°■−ベンゾトリアゾール10tとN−C
2−アセトアセ)午ジエチル)アクリルアミド18tを
トライトン−770(CI−ム・アンド・ハース社製)
10114と共に、30011jのN、ガス置換した水
の中1’Cl1合し、父〜60”Cの温度条件下で2時
間カクハンする。次に1反応液の温度を80℃Kまで上
昇させたところで、4,4′−アゾビス−4−シアノ吉
草酸す)9クム塩の5%水溶液8111を加え、80’
Cの反応温度な保ちながら4時間反応させる。
ェニル)−2°■−ベンゾトリアゾール10tとN−C
2−アセトアセ)午ジエチル)アクリルアミド18tを
トライトン−770(CI−ム・アンド・ハース社製)
10114と共に、30011jのN、ガス置換した水
の中1’Cl1合し、父〜60”Cの温度条件下で2時
間カクハンする。次に1反応液の温度を80℃Kまで上
昇させたところで、4,4′−アゾビス−4−シアノ吉
草酸す)9クム塩の5%水溶液8111を加え、80’
Cの反応温度な保ちながら4時間反応させる。
反応後、反応液を透析チェープに入れ、3日間蒸留水中
に放置する。ついで、分画分子量2X10’のフィルタ
ー(東洋クルドラフィルター UP−20)を用いて限
外濾過精製して、固形分濃度37弧のページエ色ラテッ
クス溶液を得る。
に放置する。ついで、分画分子量2X10’のフィルタ
ー(東洋クルドラフィルター UP−20)を用いて限
外濾過精製して、固形分濃度37弧のページエ色ラテッ
クス溶液を得る。
(合成例−4)
ポリ(2−(2−ヒドロキシフェニル)−5−メタクリ
ロイルアミノ−2トベンゾトリアゾールーフ−2−アク
リルアミド−2−メチルプロパン−1−スルホン酸ナト
リウム〕(化合e+ap−7)の合成法・ 2−(2−ヒドロキシフェニル)−5−メタクリロイル
7之ノー28−ベンゾドリアゾール10IIト2−アク
リルアミド−2−メチルプロパン−1−スルホン酸ナト
リウム塩L7jlをトラックスH−45(日本油脂株式
会社製)41と共に300WLtのN3ガス置換した水
の中に混合し、(資)〜60”Cの温度条件下で3時間
攪拌する。つぎに反応液の温度な加℃Kまで上昇させ、
4.4−1ゾビスー4−シアノ吉草酸ナトリウム塩の5
%水溶液5鮮を加えて、反応液の温度を(資)’CK保
ちながら5時間攪拌する。
ロイルアミノ−2トベンゾトリアゾールーフ−2−アク
リルアミド−2−メチルプロパン−1−スルホン酸ナト
リウム〕(化合e+ap−7)の合成法・ 2−(2−ヒドロキシフェニル)−5−メタクリロイル
7之ノー28−ベンゾドリアゾール10IIト2−アク
リルアミド−2−メチルプロパン−1−スルホン酸ナト
リウム塩L7jlをトラックスH−45(日本油脂株式
会社製)41と共に300WLtのN3ガス置換した水
の中に混合し、(資)〜60”Cの温度条件下で3時間
攪拌する。つぎに反応液の温度な加℃Kまで上昇させ、
4.4−1ゾビスー4−シアノ吉草酸ナトリウム塩の5
%水溶液5鮮を加えて、反応液の温度を(資)’CK保
ちながら5時間攪拌する。
反応後、凝集物を濾別し、反応液を透析チューブに入れ
、3日間蒸留水中に放置する。ついで分画分子量lXl
0”’のフィルター(東洋ウルトラフィルター111[
−10)を用いて限外濾過精製を行ない、固形分濃度1
1%の黄赤色ラテックス溶液を得る。
、3日間蒸留水中に放置する。ついで分画分子量lXl
0”’のフィルター(東洋ウルトラフィルター111[
−10)を用いて限外濾過精製を行ない、固形分濃度1
1%の黄赤色ラテックス溶液を得る。
(合成例−5)
〆す(2−(2−にドロキシフェニル)−5−メタクリ
ロイルアミノ−2H−ベンゾトリアゾール〕(化合物例
P−9)の合成法。
ロイルアミノ−2H−ベンゾトリアゾール〕(化合物例
P−9)の合成法。
2−(2−ヒドロキシフェニル)−5−メタクリロイル
7ミノー2H−ベンゾトリアゾール20Ii’にダイヤ
ボンーテ(日本油脂株式会社製)10襲水溶績50at
と共K 600−の為ガス置換した水の中に混合し、(
資)〜ω℃の温度で1時間から2時間攪拌する。十分に
乳化されたことを確認後、反応液の温度を(資)’CK
あげ、4.4−7ゾビスー4−シアノ吉草酸ナトリウム
塩の5≦水溶11(1Mtを滴下し、反応温度な鉛℃に
保ちながら5時間攪拌する。
7ミノー2H−ベンゾトリアゾール20Ii’にダイヤ
ボンーテ(日本油脂株式会社製)10襲水溶績50at
と共K 600−の為ガス置換した水の中に混合し、(
資)〜ω℃の温度で1時間から2時間攪拌する。十分に
乳化されたことを確認後、反応液の温度を(資)’CK
あげ、4.4−7ゾビスー4−シアノ吉草酸ナトリウム
塩の5≦水溶11(1Mtを滴下し、反応温度な鉛℃に
保ちながら5時間攪拌する。
反応後、凝集物を濾1111L、反応液な透析チューブ
中に入れ、3日゛閤蒸留水中に放置する。ついで分−分
子量2X10のフィルター(東洋ウルトラフィルターU
P−20)を用いて限外濾過精製を行ない、固形分濃度
13%のページェ色ラテックス溶液を得た。
中に入れ、3日゛閤蒸留水中に放置する。ついで分−分
子量2X10のフィルター(東洋ウルトラフィルターU
P−20)を用いて限外濾過精製を行ない、固形分濃度
13%のページェ色ラテックス溶液を得た。
(合成例−6)
ポリ(2−(2−ヒドロ牛シー3−メタクリロイル7ミ
ノー5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾ
ール〕(化合物例p−10)の合成法。
ノー5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾ
ール〕(化合物例p−10)の合成法。
2−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルアミノ−5
−t−ブチルフェニル)−211−ベンゾトリアゾール
10jlをダイヤボン−丁(日本油脂株式会社製)10
%水溶WI50WLtと共に600−の鴇ガス置換また
水の中に混合し、(資)〜ω℃の温度条件下のもとNガ
ス気流下で2時間攪拌する。ついで反応液の温度を90
”Cにあげ、別々に調製した2−(2−ヒドロキシ−3
−メタクリロイル7ミノー5−t−プチルアエニル)−
21−ベンゾトリアゾール6JIをテトラヒ「ロブラン
50dK溶解した溶液と、4、4’ −7ゾビスー4−
シアノ吉草酸ナトリウム塩の5%水溶液12mを滴下す
る。
−t−ブチルフェニル)−211−ベンゾトリアゾール
10jlをダイヤボン−丁(日本油脂株式会社製)10
%水溶WI50WLtと共に600−の鴇ガス置換また
水の中に混合し、(資)〜ω℃の温度条件下のもとNガ
ス気流下で2時間攪拌する。ついで反応液の温度を90
”Cにあげ、別々に調製した2−(2−ヒドロキシ−3
−メタクリロイル7ミノー5−t−プチルアエニル)−
21−ベンゾトリアゾール6JIをテトラヒ「ロブラン
50dK溶解した溶液と、4、4’ −7ゾビスー4−
シアノ吉草酸ナトリウム塩の5%水溶液12mを滴下す
る。
反応温度を(資)”Cc保ったまま、6時間攪拌する。
反応後、凝集物を濾別し、反応液を透析チェープに入れ
て3日間蒸留水中に放置する。ついで分画分子量lXl
0’のフィルター(東洋ウルトラフィルターUP −1
0’)を用いて限外濾過精製を行ない、1襲の茶かっ色
ラテックス溶液を得る。
て3日間蒸留水中に放置する。ついで分画分子量lXl
0’のフィルター(東洋ウルトラフィルターUP −1
0’)を用いて限外濾過精製を行ない、1襲の茶かっ色
ラテックス溶液を得る。
以下、実施例により本発明な更に具体的に説明するが、
本発明はこれらにより限定されるもので61ない。
本発明はこれらにより限定されるもので61ない。
実施例1
厚さ1.3閣の透明な石、英ガラス板上に本発明の紫外
m吸収剤ポη!−ラテックス(化合物例p−5)をゼラ
チン水溶波と混合して均一に塗布して乾燥したところ透
明な皮膜が形成された。これを試料−1とする。
m吸収剤ポη!−ラテックス(化合物例p−5)をゼラ
チン水溶波と混合して均一に塗布して乾燥したところ透
明な皮膜が形成された。これを試料−1とする。
上記試料の紫外謳の公党吸収極大は、335nmであっ
て、4QQm以上Kiま分光吸収を示さなかった。
て、4QQm以上Kiま分光吸収を示さなかった。
一方、下記紫外Il@収剤(2)をトリクレジルホスフ
ェートに溶解してゼラチン水溶液中に分散し、同じ石英
ガラス板上KIk布して、ゼラチンおよびベンゾトリア
ゾール成分の塗布量が前記試料−1とほぼ同じになるよ
うK L、た。これを試料−2としたO 紫外!l@収剤(4) 試料−2は塗布して乾燥するとわずかにくもりを生じ、
表面にざらつきが生じた。そこで、トリクレジルホスフ
ェートを増量して、乾燥してもくもりやざらつきのない
試料を作製し、これを試料−3とした。しかしながら試
料−3は室温、相対湿度60%で1週間放置したら、表
面にべとつきが生じた。
ェートに溶解してゼラチン水溶液中に分散し、同じ石英
ガラス板上KIk布して、ゼラチンおよびベンゾトリア
ゾール成分の塗布量が前記試料−1とほぼ同じになるよ
うK L、た。これを試料−2としたO 紫外!l@収剤(4) 試料−2は塗布して乾燥するとわずかにくもりを生じ、
表面にざらつきが生じた。そこで、トリクレジルホスフ
ェートを増量して、乾燥してもくもりやざらつきのない
試料を作製し、これを試料−3とした。しかしながら試
料−3は室温、相対湿度60%で1週間放置したら、表
面にべとつきが生じた。
一方゛、本発明の紫外i!@収剤ポリマーラテックスは
、ベンゾトリアゾール成分を大量に塗布【、て皮膜形成
することが可能であり、上記の如き欠点もなく、写真用
フィルターと、して有用であった0実施例2 米国特許113.767.412号明細書中のPr@p
aration11の項に示されるブチル7クリレート
と2−ベンゾイルアミノ−5−メタタリロイルアミノフ
ェノールとのコポリマーカプラーラテックスに、本発明
の紫外im*収剤ポリマーラテックス(化合物例p−6
)を混合したものを試料−4とした。また、T[11外
!111[11Ql)をトリクレジルホスフェートに溶
解してゼラチン水溶液中に分散したものを試料−$とし
た。
、ベンゾトリアゾール成分を大量に塗布【、て皮膜形成
することが可能であり、上記の如き欠点もなく、写真用
フィルターと、して有用であった0実施例2 米国特許113.767.412号明細書中のPr@p
aration11の項に示されるブチル7クリレート
と2−ベンゾイルアミノ−5−メタタリロイルアミノフ
ェノールとのコポリマーカプラーラテックスに、本発明
の紫外im*収剤ポリマーラテックス(化合物例p−6
)を混合したものを試料−4とした。また、T[11外
!111[11Ql)をトリクレジルホスフェートに溶
解してゼラチン水溶液中に分散したものを試料−$とし
た。
紫外線吸収剤(6)
一方、紫外Ni!収剤を添加しないものを試料−6とし
て調製し、透明な酢酸セルロースフィルム上に1以下の
条件で塗設した。
て調製し、透明な酢酸セルロースフィルム上に1以下の
条件で塗設した。
(塗設条件)
ビ)感元性層
□・(、
塩臭化銀
(−に換算して) 0.8JF/
71!”コポリマーカプラーラテックス (フェノール成分に換算(て) 2.2 X 10
−”rwl /d紫外線吸収剤(試料4.5のみ) (ベンゾトリアゾール成分に換算 して) 3.2 Xl0−”m
ol/’jオセインゼラチン
1.sl/I11’l/上ニルスルホニルメチルエーテ
ル 5489/wl(ロ)ゼラチン保護層 オセイン(ラチン 0.91/
mlアルカノールXC(デュポン社製)20〜/wlビ
スビニルスルホニルメチルエーテル 41■7′I
上記試料−4、試料−5および試料−6の各試料に対し
て常法により感光計にてステップ露光を与え、以下の処
理工程に従い現像処理を行った。
71!”コポリマーカプラーラテックス (フェノール成分に換算(て) 2.2 X 10
−”rwl /d紫外線吸収剤(試料4.5のみ) (ベンゾトリアゾール成分に換算 して) 3.2 Xl0−”m
ol/’jオセインゼラチン
1.sl/I11’l/上ニルスルホニルメチルエーテ
ル 5489/wl(ロ)ゼラチン保護層 オセイン(ラチン 0.91/
mlアルカノールXC(デュポン社製)20〜/wlビ
スビニルスルホニルメチルエーテル 41■7′I
上記試料−4、試料−5および試料−6の各試料に対し
て常法により感光計にてステップ露光を与え、以下の処
理工程に従い現像処理を行った。
処理工程(33℃) 処理時間発色現像
3分(資)秒漂白定着 1分
I秒 水 洗 2分上記処理工
程において使用される処理液の組成〔発色***組属〕 〔漂白定着液ml痕〕 上記処理により得られた試料4〜6の写真特性を測定し
た結果、およびその試料を70℃の雰匪気に7日間放置
した時の黄色汚染濃度を第1表に示す。
3分(資)秒漂白定着 1分
I秒 水 洗 2分上記処理工
程において使用される処理液の組成〔発色***組属〕 〔漂白定着液ml痕〕 上記処理により得られた試料4〜6の写真特性を測定し
た結果、およびその試料を70℃の雰匪気に7日間放置
した時の黄色汚染濃度を第1表に示す。
第 1 表
上記第1表によれば、本発明の紫外線吸収剤ポリマーラ
テックスの使用(試料−4)は、ハロゲン化銀感光材料
の写真特性に対して公知の紫外線吸収剤(試料−5)K
比べて減感や濃度低下が極めて小ざく、写真用素材とし
て有用であることが実施例3 酸化チタンの白色顔料を含んだポリエチレンによって両
@をラミネートされた紙支持体上に本発明の紫外me収
副剤ポリマーラテックスある化合物例p−2、p−6、
シー9およびp−10で示されるポリ!−をゼラチン水
溶液と混合【、て塗設し・また比較として、下記の紫外
II@収剤(C1をジオク千ル7タレートに溶解してゼ
ラチン水溶液中に分散させたものを上記の紙支、持体上
罠塗設して、5種類の試料を調製【、た。
テックスの使用(試料−4)は、ハロゲン化銀感光材料
の写真特性に対して公知の紫外線吸収剤(試料−5)K
比べて減感や濃度低下が極めて小ざく、写真用素材とし
て有用であることが実施例3 酸化チタンの白色顔料を含んだポリエチレンによって両
@をラミネートされた紙支持体上に本発明の紫外me収
副剤ポリマーラテックスある化合物例p−2、p−6、
シー9およびp−10で示されるポリ!−をゼラチン水
溶液と混合【、て塗設し・また比較として、下記の紫外
II@収剤(C1をジオク千ル7タレートに溶解してゼ
ラチン水溶液中に分散させたものを上記の紙支、持体上
罠塗設して、5種類の試料を調製【、た。
紫外!Il&収剤(財)
ただしい上記紫外線吸収剤を含む層中にはペンシト号ア
ゾール成分が等しく 8.2X10−’モル/ゼの割合
で含有され、またゼラチン硬膜剤としての2.4−ジタ
ロw−6−ヒドロキシ−8−) I+ 7ジンナトリウ
ム壊がゼラチン11当りlO■の割合で含有されでいる
。
ゾール成分が等しく 8.2X10−’モル/ゼの割合
で含有され、またゼラチン硬膜剤としての2.4−ジタ
ロw−6−ヒドロキシ−8−) I+ 7ジンナトリウ
ム壊がゼラチン11当りlO■の割合で含有されでいる
。
一方、下記のマゼンタカプラーと下記の発色現像主薬を
7エリシアン化カリウムを用いて酸化カフリングさせ、
得られた色素をジオタチル7タレ−)K溶解し、て5襲
ゼラチン水溶液に分散せしめた。
7エリシアン化カリウムを用いて酸化カフリングさせ、
得られた色素をジオタチル7タレ−)K溶解し、て5襲
ゼラチン水溶液に分散せしめた。
(マゼンタカプラー)
t
1
(発色現像主薬)
次KIIIliされた上記の色素分散液を538薗にお
ける分yt@収濃度が1.OKなるような箪布量で前記
の5種類の試料の上に塗布[、て積層させた。かくして
得られた上記積層試料を試料7乃至11としたO 上記試料7〜IIK対してキセノンアーク元(68,0
00ルツクス)150時間照射した時のマゼンタ色素の
残存率は何れもほぼ75%前後であって、前記紫外m吸
収剤層7に有しない試料に対して約10−向上していた
。
ける分yt@収濃度が1.OKなるような箪布量で前記
の5種類の試料の上に塗布[、て積層させた。かくして
得られた上記積層試料を試料7乃至11としたO 上記試料7〜IIK対してキセノンアーク元(68,0
00ルツクス)150時間照射した時のマゼンタ色素の
残存率は何れもほぼ75%前後であって、前記紫外m吸
収剤層7に有しない試料に対して約10−向上していた
。
次にこれらの試料7〜11の皮膜強度を以下の方法によ
って測定した。
って測定した。
即ち、上記各試料を33’Cのイオン交換水に浸漬し、
先端半径015 wxのサファイア針を試料の表面に接
触させたまtSSb2O速さで表面上を直線的K111
1111させ、閤時罠荷重を0〜30011の範囲で連
続的に愛化し、皮膜が破壊されて支持体が総出した点の
荷重をもって皮膜強度を表わした。その第 2 表 上記第2表からも明らかなように1本発明の紫る紫外M
@収性な表わすと同時罠、感光階の皮膜強度を劣化させ
ることも無く優れた性能を有するものであることがわか
った。
先端半径015 wxのサファイア針を試料の表面に接
触させたまtSSb2O速さで表面上を直線的K111
1111させ、閤時罠荷重を0〜30011の範囲で連
続的に愛化し、皮膜が破壊されて支持体が総出した点の
荷重をもって皮膜強度を表わした。その第 2 表 上記第2表からも明らかなように1本発明の紫る紫外M
@収性な表わすと同時罠、感光階の皮膜強度を劣化させ
ることも無く優れた性能を有するものであることがわか
った。
代理人 桑 原 義 美
手続補正書
1 事件の表示
昭和57年特許願第 68188 号2 発明の名
称 紫外IIWk収剤 3 補正にする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2す名 称
(+27)小西六写真工業株式会社手続補正書 1、事件の表示 昭和51年特許願第 68188 シJ2 発明の
名称 紫外m*坂剤 :3 補止をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1」126番25名 称
(+27)小西六写真上業株式会石代表取締役 川
本 信 廖 居 所 東京都日野市さくら町1.1r地小西六写貞
玉業株式会ネ」内 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の− 7、補正の内容 (1)発明の詳細な説1jlit−次の如(補正する。
称 紫外IIWk収剤 3 補正にする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2す名 称
(+27)小西六写真工業株式会社手続補正書 1、事件の表示 昭和51年特許願第 68188 シJ2 発明の
名称 紫外m*坂剤 :3 補止をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1」126番25名 称
(+27)小西六写真上業株式会石代表取締役 川
本 信 廖 居 所 東京都日野市さくら町1.1r地小西六写貞
玉業株式会ネ」内 6、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の− 7、補正の内容 (1)発明の詳細な説1jlit−次の如(補正する。
明細書$117頁u行目〜IBNS行目を次のように補
正する。
正する。
「本発1jiK係わるブリマーラテックスは↓従来良く
知られている乳化重合法または溶液重合法等により1!
遺される。この重合反応に用いられる溶媒は水、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、イソプ四パノール、
ブタノール、テトラヒドロ7ラン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、ヅメナルスルホ中シト等が用い
られる。重合反応に用いられる重合側始剤としては、例
えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、4.4’−
アゾビス−4−シアノ吉草酸す) IJウム等の水溶性
重合側始剤、アゾイソブチ−ニトリル、2.2’−アゾ
ビス−(λ44−ジメチルパg品トリル)、&!’−7
’/1’X (4−メト午シーλ4−ジメチルバレロニ
トリル)等の親油性重合−始剤を用いることがで同11
E39頁下から2行−〇後に以下を追加する・「(合成
例−7) lす(2−(2−ヒトI2争シー3−メタタリロイルア
之ノー5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾFリア
ゾールーコーn−ブチルアクリレート〕(化合物例P−
1)の合成=−(2−ヒドロ牛シー3−メタクリロイル
アセノー5−t−ブチル7エ=ル)−2H−ベンゾトリ
アゾール7.21r (0,020モル)とn−ブチ
ルアクリレートL8 It (0,022モル)tl
′穐ガス警置換したジメチルホルムアミド80dK加熱
溶解する。内温が(資)℃に上昇したら、ジメチルホル
ムアミド5−に溶解したアゾイソブチロニトリル0.1
0J’r (8,360XIOモル) t′I FIL
E加え、80℃加熱条件下にで3時間反応させる・反応
後、600@tf) JII留水に反応液tllOえ、
再沈させる。浦別、減圧下、珈熱乾燥によりfJ21*
−のlリマー紫外m殴収剤を得た0元素分析により、ポ
リマー中の紫外II@収剤モノ!−の含有率は74.5
重量弧であった。
知られている乳化重合法または溶液重合法等により1!
遺される。この重合反応に用いられる溶媒は水、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、イソプ四パノール、
ブタノール、テトラヒドロ7ラン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、ヅメナルスルホ中シト等が用い
られる。重合反応に用いられる重合側始剤としては、例
えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、4.4’−
アゾビス−4−シアノ吉草酸す) IJウム等の水溶性
重合側始剤、アゾイソブチ−ニトリル、2.2’−アゾ
ビス−(λ44−ジメチルパg品トリル)、&!’−7
’/1’X (4−メト午シーλ4−ジメチルバレロニ
トリル)等の親油性重合−始剤を用いることがで同11
E39頁下から2行−〇後に以下を追加する・「(合成
例−7) lす(2−(2−ヒトI2争シー3−メタタリロイルア
之ノー5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾFリア
ゾールーコーn−ブチルアクリレート〕(化合物例P−
1)の合成=−(2−ヒドロ牛シー3−メタクリロイル
アセノー5−t−ブチル7エ=ル)−2H−ベンゾトリ
アゾール7.21r (0,020モル)とn−ブチ
ルアクリレートL8 It (0,022モル)tl
′穐ガス警置換したジメチルホルムアミド80dK加熱
溶解する。内温が(資)℃に上昇したら、ジメチルホル
ムアミド5−に溶解したアゾイソブチロニトリル0.1
0J’r (8,360XIOモル) t′I FIL
E加え、80℃加熱条件下にで3時間反応させる・反応
後、600@tf) JII留水に反応液tllOえ、
再沈させる。浦別、減圧下、珈熱乾燥によりfJ21*
−のlリマー紫外m殴収剤を得た0元素分析により、ポ
リマー中の紫外II@収剤モノ!−の含有率は74.5
重量弧であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式(I)で表わされるビニル単量体を少なくと
も1個置換基として有する2−(2−ヒドロキシフェニ
ル)−2H−ペンツトリアゾール化合−のホモポリマー
ラテックスまたは該ベンゾトリアゾール化合物を少なく
とも70重量%含有するコポリマーラテックスからなる
ことを特徴とする紫外線吸収剤。 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、メチル基また
はシアノ基を表わし、凰、は水素原子またはメチル基な
表わし、またムは一洲一または一〇−基を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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