TWI499483B - Nozzle handling device - Google Patents

Description

噴珠處理裝置

本發明係關於對被處理對象物投射投射材之噴珠處理裝置。

於噴珠處理裝置中有於在大致水平面內旋轉之旋轉平台上固定有工件台者(例如參照專利文獻1)。在此種裝置係於工件台上配置製品(被處理對象物)並使旋轉平台旋轉同時投射投射材。

專利文獻1：日本特開2002-96264號公報

然而，以此裝置在製品之搬入搬出時無法投射，故有處理等待時間產生。

本發明係考慮上述事實，獲得可維持噴珠處理之被處理對象物之品質之安定性並抑制被處理對象物之處理等待時間之噴珠處理裝置為目的。

於請求項1記載之本發明之噴珠處理裝置係一種噴珠處理裝置，其特徵在於具有：將投射材以離心力加速並對被處理對象物投射之離心式投射機；配置於包含以前述離心式投射機投射投射材之投射範圍與前述投射範圍以外之非投射範圍之位置且可旋轉之第一旋轉平台；於前述第一旋轉平台上複數配置且具備與前述第一旋轉平台之旋轉軸平行之旋轉軸而可旋轉並可搭載前述被處理對象物之第二旋轉平台；設於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之上方側且具備將前述第二旋轉平台上之前述被處理對象物從上方側按壓並可與前述被處理對象物一起旋轉之按壓部之按壓機構。

根據於請求項1記載之本發明之噴珠處理裝置，於包含以前述離心式投射機投射投射材之投射範圍與前述投射範圍以外之非投射範圍之位置配置第一旋轉平台且可旋轉。此外，於前述第一旋轉平台上複數配置第二旋轉平台且該第二旋轉平台具備與前述第一旋轉平台之旋轉軸平行之旋轉軸而可旋轉，可搭載前述被處理對象物。此外，對第二旋轉平台上之被處理對象物係由離心式投射機以離心力加速投射材並投射。

在此，於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之上方側設按壓機構，前述第二旋轉平台上之前述被處理對象物係藉由按壓機構之按壓部從上方側按壓。此外，按壓部可與前述被處理對象物一起旋轉。因此，被處理對象物係以安定之姿勢旋轉並投射投射材，且於此種投射中在配置於第一旋轉平台之非投射範圍之上之第二旋轉平台上亦可將被處理對象物搬入搬出。

於請求項2記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第1項噴珠處理裝置，其中，設有檢知前述按壓部之旋轉之旋轉檢知手段。

根據於請求項2記載之本發明之噴珠處理裝置，在按壓部與被處理對象物一起旋轉後，藉由旋轉檢知手段檢知其旋轉。因此，可判斷被處理對象物是否正在旋轉，可判斷是否對被處理對象物之全周無誤差且均勻地進行投射。

於請求項3記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第1或2項記載之噴珠處理裝置，其中，具有使前述第一旋轉平台以對應於前述第二旋轉平台之配置而設定之旋轉角度間隔繞前述第一旋轉平台之旋轉軸旋轉並在使前述第一旋轉平台暫時停止之狀態下使前述第二旋轉平台其中之一配置於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之分度頭裝置；控制為於前述分度頭裝置造成之前述第一旋轉平台之旋轉時中斷前述離心式投射機之投射並控制為於前述第一旋轉平台之暫時停止時進行前述離心式投射機之投射之控制部。

根據於請求項3記載之本發明之噴珠處理裝置，第一旋轉平台藉由分度頭裝置以對應於前述第二旋轉平台之配置而設定之旋轉角度間隔繞前述第一旋轉平台之旋轉軸旋轉。此外，在前述第一旋轉平台暫時停止之狀態下前述第二旋轉平台其中之一配置於前述第一旋轉平台之前述投射範圍。在此，控制為於前述分度頭裝置造成之前述第一旋轉平台之旋轉時中斷前述離心式投射機之投射並控制為於前述第一旋轉平台之暫時停止時進行前述離心式投射機之投射。因此，可抑制投射材之漏出並對被處理對象物之全周進行均勻之投射。

於請求項4記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第3項記載之噴珠處理裝置，其中，具有配置於前述第二旋轉平台之下方側且設於前述第二旋轉平台之旋轉軸之第一咬合部；設於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之下方側且可對前述第一咬合部咬合且在與前述第一咬合部咬合之狀態下傳遞旋轉驅動力之第二咬合部；於前述第一旋轉平台之暫時停止時使前述第二咬合部對前述第一咬合部接觸並於前述第一旋轉平台之旋轉時使前述第二咬合部對前述第一咬合部分離之接離機構。

根據於請求項4記載之本發明之噴珠處理裝置，配置於前述第二旋轉平台之下方側之第一咬合部設於前述第二旋轉平台之旋轉軸。第二咬合部設於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之下方側且可對前述第一咬合部咬合。在第二咬合部與前述第一咬合部咬合之狀態下傳遞旋轉驅動力。此外，於前述第一旋轉平台之暫時停止時係藉由接離機構使前述第二咬合部對前述第一咬合部接觸並於前述第一旋轉平台之旋轉時對使前述第二咬合部前述第一咬合部分離。因此，於第一旋轉平台之暫時停止時係被處理對象物安定地旋轉且涵蓋其全周無誤差且均勻地進行投射且於第一旋轉平台之旋轉時可進行第一旋轉平台之順利之旋轉。

於請求項5記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第4項記載之噴珠處理裝置，其中，前述接離機構具備前述第二咬合部配設於前端部之軸構件；可對前述軸構件賦予往使前述第二咬合部從前述第一咬合部分離之方向之驅動力之汽缸機構。

根據於請求項5記載之本發明之噴珠處理裝置，前述第二咬合部配設於接離機構之軸構件之前端部，接離機構之汽缸機構可對前述軸構件賦予往使前述第二咬合部從前述第一咬合部分離之方向之驅動力。因此，可以簡易之構成進行第一咬合部與第二咬合部之接離。

於請求項6記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第5項記載之噴珠處理裝置，其中，使前述第二咬合部旋轉驅動之驅動馬達係配置於前述軸構件之下方側，透過驅動力傳達手段使前述軸構件旋轉。

根據於請求項6記載之本發明之噴珠處理裝置，使前述第二咬合部旋轉驅動之驅動馬達係配置於前述軸構件之下方側，透過驅動力傳達手段使前述軸構件旋轉，故裝置簡化。

於請求項7記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第6項記載之噴珠處理裝置，其中，前述汽缸機構係配置於前述驅動馬達之下方側，設定為前述汽缸機構之軸方向與前述驅動馬達之軸方向平行。

根據於請求項7記載之本發明之噴珠處理裝置，前述汽缸機構係配置於前述驅動馬達之下方側，設定為前述汽缸機構之軸方向與前述驅動馬達之軸方向平行，故裝置進一步簡化。

於請求項8記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第1～7項記載之噴珠處理裝置，其中，前述第一旋轉平台上係以複數分隔部分隔而於周方向區劃為複數區域，前述複數區域係於周方向交互設有搭載前述第二旋轉平台之第一區域、不搭載前述第二旋轉平台之第二區域。

根據於請求項8記載之本發明之噴珠處理裝置，前述第一旋轉平台上係以複數分隔部分隔而於周方向區劃為複數區域，前述複數區域係於周方向交互設有搭載前述第二旋轉平台之第一區域、不搭載前述第二旋轉平台之第二區域，故有效地抑制投射材之漏出。

於請求項9記載之本發明之噴珠處理裝置係如申請專利範圍第1～8項記載之噴珠處理裝置，其中，於前述第一旋轉平台之比前述投射範圍更靠前述第一旋轉平台之旋轉方向下流側具有配置2個吹送口且可向前述被處理對象物進行氣體之吹送之吹送裝置。

根據於請求項9記載之本發明之噴珠處理裝置，於前述第一旋轉平台之比前述投射範圍更靠前述第一旋轉平台之旋轉方向下流側具有配置2個吹送口且可向前述被處理對象物進行氣體之吹送之吹送裝置。因此，於被處理對象物之上殘留之投射材等藉由吹送裝置之氣體之吹送而吹落。

[發明之效果]

如以上說明，根據本發明之噴珠處理裝置，具有可維持噴珠處理之被處理對象物之品質之安定性並抑制被處理對象物之處理等待時間之優良效果。

[第1實施形態]

針對本發明之第1實施形態之做為噴珠處理裝置之珠擊處理裝置10使用圖1～圖9說明。另外，在圖係為了顯示裝置內部而以適當卸除裝置外板之狀態(或切除之狀態)圖示。此外，做為珠擊處理之被處理對象物12可舉出例如齒輪等製品。

圖1係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置10之前視圖。圖2係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置10之左側面圖。圖3係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置10之俯視圖。

如圖1所示，珠擊處理裝置10具備箱體14。於箱體14之內部形成有藉由對被處理對象物12(參照圖2)之投射材之投射來進行被處理對象物12之表面加工之投射室16。此外，於箱體14形成有為了搬入及搬出被處理對象物12之搬入搬出口14A，於此搬入搬出口14A設有開閉門扇14B。於開閉門扇14B安裝有區域感測器15(參照圖3)。

如圖2所示，於箱體14內之下部設有載置被處理對象物12之製品載置部18。另外，關於製品載置部18之詳細內容係後述。於箱體14內之側部設有離心式投射機20。離心式投射機20可藉由葉輪(impeller)之旋轉來對投射材(shot，在本實施形態係以鋼球為一例)賦予離心力。亦即，離心式投射機20係以離心力加速投射材後對投射室16之被處理對象物12投射。

如圖8之示意圖所示，此離心式投射機20係連接於控制部64。如後述，控制部64係控制離心式投射機20之投射之時機。

如圖1所示，於離心式投射機20之上方側設有投射材供給用之導入管22之下端，於導入管22之上端設有為了調整投射材之流量之流量調整裝置24。離心式投射機20係透過導入管22及流量調整裝置24連結於循環裝置26。循環裝置26係為了搬送以離心式投射機20投射之投射材並使往離心式投射機20循環之裝置，於箱體14之內部之製品載置部18之下方側具備為了回收投射材之漏斗26A。於漏斗26A之下方側設有螺旋輸送機26B。

螺旋輸送機26B係配置為水平且以圖1之左右方向為長度方向，將從漏斗26A流落之投射材往沿螺旋輸送機26B之長度方向之既定方向搬送。於螺旋輸送機26B之搬送方向之下流側(圖1之裝置左右方向之大致中央部)配置有沿裝置上下方向之斗式升降機26C之下端部側。如圖2所示，斗式升降機26C係公知構造故省略詳細說明，但於配置於珠擊處理裝置10之上部及下部之滑輪26C1捲掛無端皮帶26C2，於無端皮帶26C2安裝有多數之斗(圖示省略)。此外，滑輪26C1係透過不圖示之驅動力傳達手段(無端之皮帶等)連接於驅動用馬達26D並可旋轉驅動。藉此，斗式升降機26C係將以螺旋輸送機26B回收之(暫時貯藏之)投射材以前述斗撈起，並藉由以驅動用馬達26D使滑輪26C1旋轉來將斗內之投射材往箱體14之上方側搬送。

此外，如圖1所示，於斗式升降機26C之上部側之附近配置有分隔部26E。分隔部26E係連通於投射材槽26F，僅使以斗式升降機26C搬送之投射材之中適當之投射材往投射材槽26F流動。投射材槽26F係為了往流量調整裝置24供給投射材之槽，配置於流量調整裝置24之上方側。

另外，於箱體14之上方側配置有換氣裝置28A。此外，於箱體14之吸出口14E連接有風道28C，於箱體14之內部產生之粉塵從箱體14之吸出口14E吸引。於風道28C之路徑途中安裝有沈降腔室28D。沈降腔室28D係使包含吸引之粉塵之空氣產生分級流，將吸引之空氣中之粒子分離。於沈降腔室28D之下方側配置有粗承接箱28E，以沈降腔室28D分離之粗粉進入粗承接箱28E內。此外，如圖3所示，於風道28C連接有集塵機28B(在圖中係示意地方塊化顯示)。集塵機28B係將經過沈降腔室28D(參照圖1)與風道28C之空氣中之粉塵過濾後僅將空氣往裝置外排出。

另外，於風道28C連接有預塗布材供給裝置28F。預塗布材供給裝置28F係將可燃性之粉塵以預塗布材塗布後以不易燃之狀態排出。

此外，如圖1所示，於粗承接箱28E透過管連接有分級用之分級篩28G。分級篩28G係透過管連接於投射材槽26F且連接於往斗式升降機26C之下端部附近延伸之流路部。此分級篩28G係使從投射材槽26F流出之投射材之中可使用之投射材往斗式升降機26C之下端部側流動並使分離之微粉往粗承接箱28E流動。

其次，針對製品載置部18具體地說明。於圖4顯示有珠擊處理裝置10之要部之左側剖面圖，於圖5係以平剖面以示意之概略構成圖顯示有製品載置部18之構成。

如圖5所示，於製品載置部18係配置做為第一旋轉平台之大平台30且於大平台30上係於大平台30之同心圓上之位置於周方向以等間隔配置有複數(在本實施形態係三個)做為第二旋轉平台小平台32。亦即，製品載置部18係成為所謂多平台之構造。大平台30係設定為可繞裝置上下方向之旋轉軸31旋轉(公轉)，配置於包含以前述離心式投射機20投射投射材之投射範圍(以兩點鏈線S表示投射範圍之兩邊)與前述投射範圍以外之非投射範圍之位置。此外，小平台32係設定為比大平台30小徑且具備與前述大平台30之旋轉軸31平行之旋轉軸33而可旋轉(自轉)並可搭載前述被處理對象物12。

如圖4所示，大平台30之旋轉軸31之下端部係透過軸承部36配置於基座部38上，大平台30之旋轉軸31之上端部係透過力矩限制器40(軸連結器)連接於分度頭裝置42。力矩限制器40係使不會有過大之力矩作用於分度頭裝置42。

分度頭裝置42雖因適用公知之分度頭裝置而省略詳細圖示，但具備用來將大平台30節拍輸送之具煞車馬達、用來將大平台30定位之定位夾具、該定位夾具之作動用之定位汽缸。藉此，分度頭裝置42係將大平台30於基座部38上搭載為可旋轉分度為既定之旋轉角度位置且可對該分度位置夾持，以對應於小平台32之數量(在本實施形態係三個)之旋轉角度間隔(在本實施形態係120度)使大平台30繞其旋轉軸31旋轉。換言之，分度頭裝置42係使大平台30以對應於小平台32之配置而設定之旋轉角度間隔旋轉(節拍輸送)。此外，在分度頭裝置42使大平台30暫時停止之狀態下係如圖5所示，設定為小平台32其中之一(在本實施形態係其中兩個)配置於大平台30之投射範圍。另外，於分度頭裝置42適用例如具備凸輪式分度頭裝置(例如CKD製之(註冊商標))及具減速機之馬達之構成之裝置亦可。

如圖8所示，分度頭裝置42係連接於控制部64。控制部64係控制為於前述分度頭裝置42之節拍運轉造成之前述大平台30之旋轉時中斷前述離心式投射機20之投射並控制為於前述大平台30之暫時停止時進行前述離心式投射機20之投射。

如圖5所示，在大平台30暫時停止之狀態下，小平台32係配置於投射投射材之投射區(投射範圍)、進行(小平台32之)搭載卸下之搭載卸下區(在圖5係圖中下側之區)。此外，前述大平台30上係以複數(在本實施形態係六個)壁板狀之分隔部44分隔而於周方向區劃為複數區域(30A、30B)，前述複數區域(30A、30B)係於周方向交互設有搭載前述小平台32之第一區域30A、不搭載前述小平台32之第二區域30B。

另外，於箱體14內配置將分隔部44與其周圍部之間隙密封之密封構件亦可。此外，適用控制為前述密封構件於大平台30之旋轉時往不與分隔部44接觸之位置退避之構成亦可。

如圖4所示，於前述大平台30之前述投射範圍之上方側配置有按壓機構46(按壓治具)，此按壓機構46具備用來將前述小平台32上之前述被處理對象物12從上方側按壓之按壓部48。按壓部48係固定於複數軸串聯連結之按壓用軸50之下端部，按壓用軸50之上端部係支持於設於第一按壓架54之下端部之軸承52。按壓用軸50雖設定為對第一按壓架54及軸承52不能進行上下方向之相對移動，但可對第一按壓架54及軸承52繞按壓用軸50之軸旋轉。藉此，按壓部48係設定為可與按壓用軸50一起繞裝置上下方向之軸線旋轉，可在按壓前述被處理對象物12之狀態下與被處理對象物12一起旋轉。另外，按壓用軸50之下部係想定投射材導致之磨耗，故成為可交換該下部之構造(換言之，可將串聯連結之複數軸分解之構造)。

第一按壓架54之上端部係彎曲為大致直角並固定於汽缸56之上端部。於汽缸56內配設有固定於活塞57之活塞桿58，活塞桿58之下端部透過安裝構件安裝於箱體14之頂部側。汽缸56係可藉由汽缸56內之流體壓(在本實施形態係做為一例為空氣壓)對活塞桿58相對移動(於上下方向往復運動)。亦即，按壓機構46係藉由汽缸56於上下方向往復運動而第一按壓架54、軸承52、按壓用軸50、按壓機構46亦與該汽缸56連動而於裝置上下方向變位。另外，在本實施形態雖係藉由活塞桿58安裝於箱體14之頂部側而為汽缸56升降之構造，但例如可選擇藉由汽缸安裝於箱體14之頂部側而活塞57及活塞桿58升降之構造，亦可選擇藉由此種構造使第一按壓架54等升降。

如圖8所示，按壓機構46係汽缸56透過空氣方向控制機器(電磁閥等)60與空氣供給源62連接，空氣方向控制機器60係連接於控制部64。控制部64係藉由控制空氣方向控制機器60而可將汽缸56之升降方向控制。

此外，如從圖4之箭頭6方向觀察之圖6所示，第一按壓架54之下端部係透過向下開口之連結構件67固定於第二按壓架68之平板部68A。於第二按壓架68之平板部68A對於圖6顯示之第一按壓架54於左右兩側形成貫通孔，於此貫通孔插入固定有筒狀之桿保持具70。此等桿保持具70係設定為可沿於裝置上下方向延伸之導引桿72於裝置上下方向移動。

亦即，係在第一按壓架54於裝置上下方向移動之狀態下，連結構件67、第二按壓架68、桿保持具70與第一按壓架54一起變位且桿保持具70於導引桿72導引同時於上下方向變位之構造。因此，顯示於圖4之第一按壓架54、軸承52、按壓用軸50、按壓部48不往橫方向偏離而安定地於裝置上下方向移動。

藉此，按壓部48可於配合被處理對象物12之上端位置之位置安定地變位，且於被處理對象物12繞裝置上下方向之軸線旋轉之場合與被處理對象物12一起旋轉。

此外，於按壓機構46係於第一按壓架54於按壓用軸50之上端附近安裝有做為旋轉檢知手段之旋轉檢知感測器66。旋轉檢知感測器66可檢知按壓用軸50之旋轉，換言之，檢知按壓部48之旋轉。如圖8所示，旋轉檢知感測器66係連接於控制部64。控制部64係於大平台30之暫時停止時(換言之按壓部48應旋轉之場合)且旋轉檢知感測器66沒有檢知按壓部48之旋轉之場合對不圖示之警告部控制為對作業者進行被處理對象物12沒有旋轉之警告。另外，控制部64係基於來自分度頭裝置42之資訊判斷是否為大平台30暫時停止時。此外，警告部係以表示或異常蜂鳴對作業者進行警告。

如圖7所示，於小平台32之下方側配置有對旋轉軸33之下端部與旋轉軸33同軸固著之第一咬合部74。第一咬合部74係形成為類似傘齒輪之形狀。此外，於大平台30之前述投射範圍之下方側設有可對前述第一咬合部74咬合之第二咬合部76。第二咬合部76亦形成為類似傘齒輪之形狀。亦即，第一咬合部74與第二咬合部76係構成類似齒輪機構之咬合機構。另外，在由第一咬合部74與第二咬合部76之咬合機構係設定有即使於咬入投射材之場合第一咬合部74與第二咬合部76亦不會滑動之程度之大咬合間隙。

此第二咬合部76係設定為比第一咬合部74小徑，對做為軸構件之軸78之前端部與軸78同軸固著。另外，在本實施形態雖係第二咬合部76設定為比第一咬合部74小徑，但第二咬合部76設定為與第一咬合部74同徑(換言之，即使適用二軸之雙方之齒數相同之傘齒輪)亦可。軸78係可旋轉地支持於軸承80A、80B，於與第二咬合部76相反側之端部固著有鏈輪82。此外，於軸78之比長度方向中央部靠近鏈輪82之部位之下方側配置有透過固定手段等固定於安裝基板90之具減速機之驅動馬達84，於驅動馬達84之軸部同軸固著有鏈輪86。此鏈輪86係配置於鏈輪82之下方側，於鏈輪82、鏈輪86捲掛有無端之鏈條88。藉此，驅動馬達84係藉由透過做為驅動力傳達手段之鏈輪86、鏈條88、鏈輪82使軸78旋轉，使第二咬合部76繞軸旋轉驅動。此外，第二咬合部76係在與第一咬合部74咬合之狀態下傳遞旋轉驅動力。

此外，於第二咬合部76連接有對第一咬合部74使接離之接離機構100。接離機構100係包含軸78而構成，於前述大平台30之暫時停止時使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74接觸並於前述大平台30之旋轉時使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74分離。以下，針對此接離機構100說明。

支持軸78之軸承80A、80B係固定於安裝基板90上。於安裝基板90係於大概夾軸承80A之兩外側接合有一對托架94。於一對托架94設定為互相同軸而安裝有銷96。此等銷96係於在俯視對軸78正交之方向延在，以軸78為中心在兩側對稱位置於銷支持部97支持為可旋轉。銷支持部97係透過連結構件93固定於裝置縱基板92。

另一方面，如圖7及圖8所示，於驅動馬達84之下方測配置有做為汽缸機構之氣壓缸98，設定為氣壓缸98之軸方向與驅動馬達84之軸方向平行。氣壓缸98係於汽缸98A內配置有活塞98B(參照圖8)，活塞98B可藉由汽缸98A內之空氣壓(廣義而言係流體壓)而往復運動。於活塞98B固定有活塞桿98C之基端部，於活塞桿98C之前端部可旋轉地安裝有臂部98D之一端。臂部98D之另一端係安裝於安裝基板90之下面側，該安裝位置係設定為在俯視比銷96之軸線上更偏第二咬合部76之位置。

如圖8所示，接離機構100係氣壓缸98透過空氣方向控制機器(電磁閥等)102與空氣供給源104連接，空氣方向控制機器102係連接於控制部64。控制部64係藉由基於來自分度頭裝置42之資訊控制空氣方向控制機器102而可將活塞桿98C之進退方向控制。

如上述，在本實施形態之接離機構100係氣壓缸98可對軸78賦予往使第二咬合部76從第一咬合部74分離之方向(圖8箭頭A方向)之驅動力，對應於前述驅動力之賦予而軸78係以銷96為支點以前端側(第二咬合部76)後退之方式變位(參照圖9(B))。

(作用、效果)

如圖5所示，於包含以前述離心式投射機20投射投射材之投射範圍與前述投射範圍以外之非投射範圍之位置配置大平台30且可旋轉。此外，於前述大平台30上複數配置小平台32且該小平台32具備與前述大平台30之旋轉軸31平行之旋轉軸33而可旋轉，可搭載前述被處理對象物12。此外，對小平台32上之被處理對象物12係由離心式投射機20以離心力加速投射材並投射。

在此，如圖4所示，於前述大平台30之前述投射範圍之上方側設按壓機構46，前述小平台32上之前述被處理對象物12係藉由按壓機構46之按壓部48從上方側按壓。此外，按壓部48可與前述被處理對象物12一起旋轉。因此，被處理對象物12係以安定之姿勢旋轉並投射投射材，且於此種投射中亦在配置於顯示於圖5之大平台30之非投射範圍之上(搭載卸下區)之小平台32上(在圖5係圖中下側之小平台32)亦可將被處理對象物12搬入搬出。

在本實施形態係在顯示於圖4之按壓部48與被處理對象物12一起旋轉後，藉由旋轉檢知感測器66檢知其旋轉。於大平台30之暫時停止時(按壓部48應旋轉之場合)且旋轉檢知感測器66沒有檢知按壓部48之旋轉之場合，顯示於圖8之控制部64對不圖示之警告部控制為對作業者進行被處理對象物12沒有旋轉之警告。另外，控制部64係基於來自分度頭裝置42之資訊判斷是否為大平台30暫時停止時，進行前述控制。因此，可判斷是否對被處理對象物12之全周無誤差且均勻地進行投射。

此外，在本實施形態係大平台30藉由分度頭裝置42以對應於前述小平台32之配置而設定之旋轉角度間隔繞前述大平台30之旋轉軸31旋轉。在前述大平台30暫時停止之狀態下前述小平台32其中之一(在本實施形態係其中之二)配置於前述大平台30之前述投射範圍。在此，控制為於前述分度頭裝置42造成之前述大平台30之旋轉時以控制部64中斷前述離心式投射機20之投射並控制為於前述大平台30之暫時停止時進行前述離心式投射機20之投射。因此，可抑制投射材之漏出並對被處理對象物12之全周進行均勻之投射。

此外，在本實施形態係配置於前述小平台32之下方側之第一咬合部74設於前述小平台32之旋轉軸33。第二咬合部76設於前述大平台30之前述投射範圍之下方側且可對前述第一咬合部74咬合。在第二咬合部76與前述第一咬合部74咬合之狀態下以第二咬合部76往第一咬合部74傳遞旋轉驅動力。此外，於前述大平台30之暫時停止時係藉由接離機構100使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74接觸並於前述大平台30之旋轉時使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74分離。因此，於大平台30之暫時停止時係被處理對象物12安定地旋轉且涵蓋其全周無誤差且均勻地進行投射且於大平台30之旋轉時可進行大平台30之順利之旋轉。

在此，在本實施形態係前述第二咬合部76固著於接離機構100之軸78之前端部，接離機構100之氣壓缸98可對前述軸78賦予往使前述第二咬合部76從前述第一咬合部74分離之方向之驅動力。更具體而言，分度頭裝置42使大平台30開始旋轉時，基於來自分度頭裝置42之資訊，控制部64控制空氣方向控制機器102而可控制為使活塞桿98C縮短。藉此，載往活塞桿98C縮短之方向變位後，透過臂部98D、安裝基板90、軸承80A而軸78往下方側(參照圖8箭頭A方向)拉。此時，接合於安裝基板90之一對托架94繞銷96之軸線旋轉移動。其結果，從如圖9(A)所示之狀態如圖9(B)所示，固著於軸78之前端部之第二咬合部76從第一咬合部74分離而成為非連結狀態。

另一方面，大平台30旋轉既定之旋轉角度後停止時，基於顯示於圖8之分度頭裝置42之資訊，控制部64藉由控制空氣方向控制機器102而控制為使活塞桿98C伸長。藉此，在活塞桿98C往伸長方向(圖8，與箭頭B為相反之方向)變位後，透過臂部98D、安裝基板90、軸承80A而軸78往上方側(圖8，與箭頭A為相反之方向)推上。此時，接合於安裝基板90之一對托架94繞銷96之軸線旋轉移動。其結果，從如圖9(B)所示之狀態如圖9(A)所示，固著於軸78之前端部之第二咬合部76接觸第一咬合部74而成為連結狀態。

因此，可以簡易之構成進行第一咬合部74與第二咬合部76之接離，且亦抑制大平台30與小平台32之旋轉不良，噴珠處理之被處理對象物12之品質亦成為良好。

如以上已說明，根據本實施形態之珠擊處理裝置10，可維持噴珠處理之被處理對象物12之品質之安定性並抑制被處理對象物12之處理等待時間。

此外，如圖7及圖8所示，使前述第二咬合部76旋轉驅動之驅動馬達84係配置於前述軸78之下方側，透過鏈輪86、鏈條88、鏈輪82使軸78旋轉，故裝置簡化。此外，前述氣壓缸98係配置於前述驅動馬達84之下方側，設定為前述氣壓缸98之軸方向與前述驅動馬達84之軸方向平行，故裝置進一步簡化。

此外，如圖5所示，在本實施形態係前述大平台30上以複數分隔部44分隔而於周方向區劃為複數區域(30A、30B)，前述複數區域(30A、30B)係於周方向交互設有搭載前述小平台32之第一區域30A、不搭載前述小平台32之第二區域30B，故有效地抑制投射材之漏出。

[第2實施形態]

其次，針對本發明之第2實施形態之做為噴珠處理裝置之珠擊處理裝置110，基於圖10及圖11說明。圖10係顯示本發明之第2實施形態之珠擊處理裝置110之要部之俯視圖。圖11係顯示相當於圖10之沿11A-11A線之剖面之構成部之要部之示意縱剖面圖。另外，本實施形態係除於以下說明之部分外與第1實施形態大致相同之構成。因此，針對與第1實施形態實質相同之構成部係賦予相同符號並省略說明。

如圖10所示，於前述大平台30之比前述投射範圍更靠前述大平台30之旋轉方向(箭頭R方向)下流側朝向前述被處理對象物12配置有吹送裝置112之2個吹送口112A。吹送裝置112具備朝向設於大平台30之徑方向外側之小平台32之公轉停止位置之複數噴嘴112B。此等噴嘴112B係如圖11所示，分別連接於風道112C，風道112C係連接於不圖示之壓縮空氣供給部。

藉此，吹送裝置112可向前述被處理對象物12(公轉路)進行氣體(在本實施形態係壓縮空氣)之吹送。如圖10所示，在大平台30暫時停止之狀態下，小平台32係配置於投射投射材之投射區(投射範圍)、進行氣體之吹送之吹送區、進行(小平台32之)搭載卸下之搭載卸下區。另外，在圖中係以兩點鏈線X示意顯示吹送氣體。吹送裝置112係連接於控制部64(參照圖8)，控制部64(參照圖8)係控制為以與離心式投射機20之投射相同時機吹送裝置112進行吹送。

根據本實施形態，除可獲得與第1實施形態同樣之作用及效果外，可將於被處理對象物12上殘留之投射材有效地除去。

[第3實施形態]

其次，針對本發明之第3實施形態之做為噴珠處理裝置之珠擊處理裝置120，基於圖12～圖14說明。圖12係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置120之前視圖。圖13係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置120之右側面圖。圖14係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置120之俯視圖。另外，本實施形態係除於以下說明之部分外與第1實施形態大致相同之構成。因此，針對與第1實施形態實質相同之構成部係賦予相同符號並省略說明。

如圖12所示，斗式升降機26C之下部附近係設補給槽122，於補給槽122之下方側係設有槽流量調整裝置124。槽流量調整裝置124連結於補給槽122並具備開閉閥，藉由將閥開啟可使保持具槽12內之投射材往斗式升降機26C之下端部之收集口流動。

另外，如圖13所示，於投射材槽26F安裝有檢知投射材槽26F內之投射材之量之位準計126。位準計126係連接於控制部64(參照圖8)，控制部64(參照圖8)係控制為於位準計126檢知投射材槽26F內之投射材之量為既定值未滿之場合開啟顯示於圖12之槽流量調整裝置124之閥。藉此，從補給槽122透過斗式升降機26C等對投射材槽26F內供給投射材。

此外，珠擊處理裝置120具備升降門扇128。於箱體14之上方側設有為了使升降門扇128升降之汽缸機構部130。汽缸機構部130係公知之氣壓缸，具備於裝置上下方向伸縮之活塞桿130A，此活塞桿130A之前端部連結於升降門扇128。亦即，係藉由汽缸機構部130之活塞桿130A伸縮使升降門扇128於裝置上下方向升降之構造。

此升降門扇128與流量調整裝置24(參照圖13)之門扇係由投射材之飛散等導致之洩漏之防止、大平台30之旋轉時之安全確保之觀點，在大平台30之旋轉時為關閉狀態。此外，於升降門扇128設有夾入防止機構(圖示省略)，前述夾入防止機構係於升降門扇128之作動時區域感測器15(參照圖13)作動而防止升降門扇128之關閉時之夾入。另外，在本實施形態係因珠擊處理而於箱體14產生之粉塵藉由由升降門扇128之開口間口吸引之空氣從吸出口14E經過風道28C中之沈降腔室28D往集塵機28B(參照圖13、圖14)流動之構造。

此外，本實施形態之分隔部26E係具旋篩之分隔部。此旋篩係連接於設定為斗式升降機26C之驅動用之驅動馬達26D，以驅動馬達26D驅動。

另外，在第1實施形態雖係省略圖示，但將用來驅動螺旋輸送機26B之驅動馬達以符號132表示，將顯示於圖14之分度頭裝置42之具煞車之馬達以符號42A表示，將定位夾具以符號42B表示，將定位汽缸以符號42C表示。定位夾具42B係設置於箱體14之頂部。

根據以上說明之本實施形態，亦可獲得與前述第1實施形態同樣之作用及效果

[實施形態之補足說明]

另外，在上述實施形態係設有檢知顯示於圖4等之按壓部48之旋轉之旋轉檢知感測器66，欲判斷是否對被處理對象物12之全周無誤差且均勻地進行投射雖係此種構成較理想，但亦可為不設旋轉檢知手段之構成。

此外，在上述實施形態係分度頭裝置42使大平台30以對應於小平台32之配置而設定之旋轉角度間隔繞大平台30之旋轉軸31旋轉，但例如為設檢出第二旋轉平台之位置之位置檢出感測器並以對應於第二旋轉平台之位置之旋轉角度使第一旋轉平台節拍輸送(旋轉)之其他構造亦可。

此外，在上述實施形態係顯示於圖7等之接離機構100係包含軸78而構成，於前述大平台30之暫時停止時使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74接觸並於前述大平台30之旋轉時使前述第二咬合部76對前述第一咬合部74分離之構成，由欲使小平台32安定地旋轉且亦使大平台30之旋轉順利之觀點雖係此種構成較理想，但亦可為例如不設接離機構100而代替第一咬合部74設第一橡膠滾輪且代替第二咬合部76設第二橡膠滾輪之構成。

此外，在上述實施形態雖係接離機構100之氣壓缸98可對軸78賦予往使第二咬合部76從第一咬合部74分離之方向(圖8箭頭A方向)之驅動力，但接離機構100亦可為例如代替氣壓缸98而具備電磁線圈，前述電磁線圈可對軸78賦予往使第二咬合部76從第一咬合部74分離之方向(圖8箭頭A方向)之驅動力之構成。此外，做為其他變形例，亦可代替上述實施形態中之氣壓缸98而適用油壓缸。

此外，在上述實施形態雖係第一咬合部74固著於小平台32之旋轉軸33之下端部，但第一咬合部74亦可一體形成於第二旋轉平台之旋轉軸之下端部。此外，第二咬合部76雖係固著於軸78之前端部，但第二咬合部亦可一體形成於軸構件之下端部。

此外，在上述實施形態係使第二咬合部76旋轉驅動之驅動馬達84配置於軸78之下方側，從簡化裝置之觀點雖係此種構成較理想，但使第二咬合部旋轉驅動之驅動馬達之配置位置亦可為例如軸構件之延長位置等其他位置。此外，選擇驅動馬達使用中空軸之具減速機之驅動馬達且對鏈輪82之安裝軸部直接安裝具減速機之驅動馬達之中空軸並驅動之構成。

此外，在上述實施形態係氣壓缸98配置於驅動馬達84之下方側，氣壓缸98之軸方向與驅動馬達84之軸方向平行，從簡化裝置之觀點雖係此種構成較理想，但汽缸機構之配置位置亦可為例如驅動馬達84之軸方向之延長位置等其他位置。

此外，在上述實施形態係如圖5所示，大平台30上係以複數之分隔部44分隔而於周方向區劃為複數區域(30A、30B)，前述複數區域(30A、30B)係於周方向交互設有搭載前述小平台32之第一區域30A、不搭載前述小平台32之第二區域30B，從投射材之漏出防止之觀點雖係此種構成較理想，但亦可構成為例如不設不搭載前述小平台32之區域(區)(換言之，構成為於相當於上述實施形態之第二區域30B之區亦搭載前述小平台32)而小平台32彼此之間以一片分隔部分隔。

此外，在上述第2實施形態雖係吹送裝置112係風道112C連接於不圖示之壓縮空氣供給部之構成，但吹送裝置亦可係例如具備可導入裝置外之空氣之風扇並吹送以該風扇導入之空氣之其他吹送裝置。

此外，在上述實施形態雖係噴珠處理裝置為具備離心式投射機20之珠擊處理裝置10、110、120，但噴珠處理裝置亦可為具備離心式投射機20之噴珠裝置。

另外，上述實施形態及上述複數變形例可適當組合實施。

10．．．珠擊處理裝置(噴珠處理裝置)

12．．．被處理對象物

20．．．離心式投射機

30．．．大平台(第一旋轉平台)

30A．．．第一區域

30B．．．第二區域

32．．．小平台(第二旋轉平台)

42．．．分度頭裝置

44．．．分隔部

46．．．按壓機構

48．．．按壓部

64．．．控制部

66．．．旋轉檢知感測器(旋轉檢知手段)

74‧‧‧第一咬合部

76‧‧‧第二咬合部

78‧‧‧軸(軸構件)

82‧‧‧鏈輪(驅動力傳達手段)

84‧‧‧驅動馬達

86‧‧‧鏈輪(驅動力傳達手段)

88‧‧‧鏈條(驅動力傳達手段)

98‧‧‧氣壓缸(汽缸機構)

100‧‧‧接離機構

110‧‧‧珠擊處理裝置(噴珠處理裝置)

112‧‧‧吹送裝置

112A‧‧‧吹送口

120‧‧‧珠擊處理裝置(噴珠處理裝置)

圖1係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之前視圖。

圖2係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之左側面圖。

圖3係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之俯視圖。

圖4係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之要部之左側剖面圖。

圖5係以平剖面示意顯示製品載置部之構成等之概略構成圖。

圖6係以圖4之箭頭6方向觀察顯示之按壓機構之構成圖。

圖7係顯示本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之小平台之驅動機構等之立體圖。

圖8係用來說明本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之驅動控制之示意圖。

圖9係用來說明本發明之第1實施形態之珠擊處理裝置之接離機構之作動狀態之示意作動圖。圖9(A)係顯示第二咬合部與第一咬合部接觸之狀態。圖9(B)係顯示第二咬合部從第一咬合部分離之狀態。

圖10係顯示本發明之第2實施形態之珠擊處理裝置之要部之俯視圖。

圖11係顯示相當於圖10之沿11A-11A線之剖面之構成部之要部之示意縱剖面圖。

圖12係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置之前視圖。

圖13係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置之右側面圖。

圖14係顯示本發明之第3實施形態之珠擊處理裝置之俯視圖。

6．．．箭頭

10．．．珠擊處理裝置(噴珠處理裝置)

12．．．被處理對象物

14．．．箱體

20．．．離心式投射機

30．．．大平台(第一旋轉平台)

31．．．旋轉軸

32．．．小平台(第二旋轉平台)

33．．．旋轉軸

36．．．軸承部

38．．．基座部

40．．．力矩限制器

42．．．分度頭裝置

46．．．按壓機構

48．．．按壓部

50．．．按壓用軸

52．．．軸承

54．．．第一按壓架

56．．．汽缸

57．．．活塞

58．．．活塞桿

66．．．旋轉檢知感測器(旋轉檢知手段)

68．．．第二按壓架

Claims (8)

1. 一種噴珠處理裝置，其特徵在於具有：將投射材以離心力加速並對被處理對象物投射之離心式投射機；配置於包含以前述離心式投射機投射投射材之投射範圍與前述投射範圍以外之非投射範圍之位置且可旋轉之第一旋轉平台；於前述第一旋轉平台上複數配置且具備與前述第一旋轉平台之旋轉軸平行之旋轉軸而可旋轉並可搭載前述被處理對象物之第二旋轉平台；設於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之上方側且具備將前述第二旋轉平台上之前述被處理對象物從上方側按壓並可與前述被處理對象物一起旋轉之按壓部之按壓機構；配置於前述第二旋轉平台之下方側且設於前述第二旋轉平台之旋轉軸之第一咬合部；設於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之下方側且可對前述第一咬合部咬合且在與前述第一咬合部咬合之狀態下傳遞旋轉驅動力之第二咬合部；於前述第一旋轉平台之暫時停止時使前述第二咬合部對前述第一咬合部接觸並於前述第一旋轉平台之旋轉時使前述第二咬合部相對前述第一咬合部分離之接離機構。
2. 如申請專利範圍第1項噴珠處理裝置，其中，設有檢知前述按壓部之旋轉之旋轉檢知手段。
3. 如申請專利範圍第1或2項記載之噴珠處理裝置，其中，具有使前述第一旋轉平台以對應於前述第二旋轉平台之配置而設定之旋轉角度間隔繞前述第一旋轉平台之旋轉軸旋轉並在使前述第一旋轉平台暫時停止之狀態下使前述第二旋轉平台其中之一配置於前述第一旋轉平台之前述投射範圍之分度頭裝置；控制為於前述分度頭裝置造成之前述第一旋轉平台之旋轉時中斷前述離心式投射機之投射並控制為於前述第一旋轉平台之暫時停止時進行前述離心式投射機之投射之控制部。
4. 如申請專利範圍第1項記載之噴珠處理裝置，其中，前述接離機構具備前述第二咬合部配設於前端部之軸構件；可對前述軸構件賦予往使前述第二咬合部從前述第一咬合部分離之方向之驅動力之汽缸機構。
5. 如申請專利範圍第4項記載之噴珠處理裝置，其中，使前述第二咬合部旋轉驅動之驅動馬達係配置於前述軸構件之下方側，透過驅動力傳達手段使前述軸構件旋轉。
6. 如申請專利範圍第5項記載之噴珠處理裝置，其中，前述汽缸機構係配置於前述驅動馬達之下方側，設定為前述汽缸機構之軸方向與前述驅動馬達之軸方向平行。
7. 如申請專利範圍第1或2項記載之噴珠處理裝置，其中，前述第一旋轉平台上係以複數分隔部分隔而於周方向 區劃為複數區域，前述複數區域係於周方向交互設有搭載前述第二旋轉平台之第一區域、不搭載前述第二旋轉平台之第二區域。
8. 如申請專利範圍第1或2項記載之噴珠處理裝置，其中，於前述第一旋轉平台之比前述投射範圍更靠前述第一旋轉平台之旋轉方向下流側具有配置2個吹送口且可向前述被處理對象物進行氣體之吹送之吹送裝置。