JPH01271175A - ロータ式ショットピーニング装置 - Google Patents
ロータ式ショットピーニング装置Info
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- JPH01271175A JPH01271175A JP9681688A JP9681688A JPH01271175A JP H01271175 A JPH01271175 A JP H01271175A JP 9681688 A JP9681688 A JP 9681688A JP 9681688 A JP9681688 A JP 9681688A JP H01271175 A JPH01271175 A JP H01271175A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、例えば金属材料等の表面処理を行なうため
のロータ式シコッ1−ピーニング装置に関する。
のロータ式シコッ1−ピーニング装置に関する。
(従来の技術)
従来、例えば車両に使用されるばねや歯車等のワークに
対して応力集中を受ける部分の表面に小さな金属球であ
るショットを投射し、圧縮応力を高めで疲労強度を向上
させるシコットピーニング装置が知られでいる。この装
置によれば、待1ε浸炭焼入111ノだワークの表面に
は粒界酸化凶が形成されて疲労強度が低下しているが、
ショットの投射によりこの層を除去することができてピ
ーニング効果はきわめて大きい。
対して応力集中を受ける部分の表面に小さな金属球であ
るショットを投射し、圧縮応力を高めで疲労強度を向上
させるシコットピーニング装置が知られでいる。この装
置によれば、待1ε浸炭焼入111ノだワークの表面に
は粒界酸化凶が形成されて疲労強度が低下しているが、
ショットの投射によりこの層を除去することができてピ
ーニング効果はきわめて大きい。
このようなシ]ツl−ピーニングV装置としてm産型で
あって[1−タ式のものを、例えば第7図及び第8図に
示ず。同図において、シ」ツ1−ピーニング装置101
はワーク103を載置するための大テーブル105及び
小テーブル107を備えている。大テーブル105はキ
ャビネット109に対して回転可能となっており、小テ
ーブル107は大テーブル105に対して回転可能とな
っている。ワーク103は小テーブル107上に載置さ
れ、従ってワーク103は自公転可能となっている。
あって[1−タ式のものを、例えば第7図及び第8図に
示ず。同図において、シ」ツ1−ピーニング装置101
はワーク103を載置するための大テーブル105及び
小テーブル107を備えている。大テーブル105はキ
ャビネット109に対して回転可能となっており、小テ
ーブル107は大テーブル105に対して回転可能とな
っている。ワーク103は小テーブル107上に載置さ
れ、従ってワーク103は自公転可能となっている。
ショットピーニング装置101は、ショット111をワ
ーク103に投射するための第10−タ113及び第2
0−タ115を備えている。各ロータ113.115は
異なるワーク103に対して同時にショット111を投
射できるよう配設されている。
ーク103に投射するための第10−タ113及び第2
0−タ115を備えている。各ロータ113.115は
異なるワーク103に対して同時にショット111を投
射できるよう配設されている。
投射後のショット111はパケットコンベア117によ
り上部ショットだめ119に循環され、Iff耗等によ
り球径が小さくなりピーニング効果の小さいショット1
11は上部ショットだめ119の下部に設けられた1つ
のショット分離装置121により分離されて廃却される
。
り上部ショットだめ119に循環され、Iff耗等によ
り球径が小さくなりピーニング効果の小さいショット1
11は上部ショットだめ119の下部に設けられた1つ
のショット分離装置121により分離されて廃却される
。
このようなショット分離装置121及び第10−タ11
3の拡大された斜視図を例えば第7図に示す。同図にお
いて、ショット分離装置121はメツシュ123を備え
、例えばショット111は球径がメツシュ123を通過
しない0.3+nm以上のものとメツシュ123を通過
するQ、3mm未満のものとに分離される。
3の拡大された斜視図を例えば第7図に示す。同図にお
いて、ショット分離装置121はメツシュ123を備え
、例えばショット111は球径がメツシュ123を通過
しない0.3+nm以上のものとメツシュ123を通過
するQ、3mm未満のものとに分離される。
そして、球径が0.3mm以上のショット111は、シ
ョット供給管125を介して第10−タ113のドラム
127に供給される。第10−タ113は、径方向に延
設された複数のブレード129を備えている。ドラム1
27内のショット111はブレード129の根元部に供
給されて予備加速され、回転する第10−タ113のブ
レード129に沿って遠心加速されてワーク(図示しな
い)に投射されピーニング効果が得られる。
ョット供給管125を介して第10−タ113のドラム
127に供給される。第10−タ113は、径方向に延
設された複数のブレード129を備えている。ドラム1
27内のショット111はブレード129の根元部に供
給されて予備加速され、回転する第10−タ113のブ
レード129に沿って遠心加速されてワーク(図示しな
い)に投射されピーニング効果が得られる。
なお、第20−タ115も第10−タ113と同様の構
成となっており、同様に作用する。
成となっており、同様に作用する。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、第10−タ113の回転数及び第20−タ1
15の回転数はほぼ同一となっているのに対し、ショッ
ト分離装置121により分離されて第10−タ113又
は第20−タ115側に供給されるショット111の球
径は摩耗等によりばら付いている。このため、第10−
タ113及びロータ115により一様に遠心加速される
各ショット111の運動エネルギにばら付きが生じてピ
ーニング効果が不均一となり、ワークの品質が不安定に
なる虞れがある。
15の回転数はほぼ同一となっているのに対し、ショッ
ト分離装置121により分離されて第10−タ113又
は第20−タ115側に供給されるショット111の球
径は摩耗等によりばら付いている。このため、第10−
タ113及びロータ115により一様に遠心加速される
各ショット111の運動エネルギにばら付きが生じてピ
ーニング効果が不均一となり、ワークの品質が不安定に
なる虞れがある。
この発明は、上記課題に着目してなされたもので、異な
る球径を有するショットの運動エネルギをほぼ均一化し
てワークの品質を安定化することができ、しかも装置全
体の寿命を向上させることができるロータ式ショッ゛ト
ビーニング装置の提供を目的とする。
る球径を有するショットの運動エネルギをほぼ均一化し
てワークの品質を安定化することができ、しかも装置全
体の寿命を向上させることができるロータ式ショッ゛ト
ビーニング装置の提供を目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するために、この発明は、回転自在な複
数のロータを備え、各ロータの径方向に延設された複数
のブレードを有し、このブレードのロータ中心側にショ
ットを供給して回転するロータの外周部から遠心加速さ
れたショットをワークに投射するロータ式ショットピー
ニング装置であって、前記ロータを各別に回転させる駆
動手段と、前記ショットを球径に応じて選別する選別手
段と、この選別手段により選別されたショットを球径に
応じて異なるロータに供給する供給手段と、この供給手
段により供給されたショットを投射する際の各運動エネ
ルギがほぼ均一となるよう球径に応じて前記駆動手段を
駆動し各ロータの回転数を制御する制御手段と異なるロ
ータの相互間において球径と回転数との関係を所定時間
経過後に交換させる交換機構とを備える構成とした。
数のロータを備え、各ロータの径方向に延設された複数
のブレードを有し、このブレードのロータ中心側にショ
ットを供給して回転するロータの外周部から遠心加速さ
れたショットをワークに投射するロータ式ショットピー
ニング装置であって、前記ロータを各別に回転させる駆
動手段と、前記ショットを球径に応じて選別する選別手
段と、この選別手段により選別されたショットを球径に
応じて異なるロータに供給する供給手段と、この供給手
段により供給されたショットを投射する際の各運動エネ
ルギがほぼ均一となるよう球径に応じて前記駆動手段を
駆動し各ロータの回転数を制御する制御手段と異なるロ
ータの相互間において球径と回転数との関係を所定時間
経過後に交換させる交換機構とを備える構成とした。
また、前記制御手段は、−のショットの球径をrl と
し、このショットが供給される一〇〇−タの回転数を0
1としたとき、他のショットの球径をrlとし、このシ
ョットが供給される他のロータの回転数をn2とすると
、r、3nl=1”2302式を満たすよう制御する構
成とした。
し、このショットが供給される一〇〇−タの回転数を0
1としたとき、他のショットの球径をrlとし、このシ
ョットが供給される他のロータの回転数をn2とすると
、r、3nl=1”2302式を満たすよう制御する構
成とした。
(作用)
上記構成において、選別手段がショットを球径に応じて
選別した侵、供給手段が球径に応じて異なるロータにシ
ョットを供給し、制御手段が駆動手段の駆動を制御しシ
ョットを投射する際の各運動エネルギがほぼ同一となる
よう球径に応じてロータの回転数を変えることにより、
各ショットの運動1ネルギがほぼ同一となる。そして、
交換1構が異なるロータの相互間において球径と回転数
との関係を所定時間経過後に交換させるため、−のロー
タが常に高速回転することがない。
選別した侵、供給手段が球径に応じて異なるロータにシ
ョットを供給し、制御手段が駆動手段の駆動を制御しシ
ョットを投射する際の各運動エネルギがほぼ同一となる
よう球径に応じてロータの回転数を変えることにより、
各ショットの運動1ネルギがほぼ同一となる。そして、
交換1構が異なるロータの相互間において球径と回転数
との関係を所定時間経過後に交換させるため、−のロー
タが常に高速回転することがない。
(実施例)
以下、図面に基づいてこの発明の実施例を詳細に説明す
る1゜ 第1図乃至第4図は、この発明の一実施例に係わるロー
タ式シーヨツトピーニング装置とIバ4産用のものを示
している。
る1゜ 第1図乃至第4図は、この発明の一実施例に係わるロー
タ式シーヨツトピーニング装置とIバ4産用のものを示
している。
まず構成を説明すると、ショクl−ピーニング装置1は
キャビネット3内に複数のワーク5を載置するための大
テーブル7及び複数の小テーブル9を備えている。大テ
ーブル7はキャビネット3に対して回転可能となってお
り、小テーブル9は大テーブル7に対して回転可能とな
っている。ワー・り5は小テーブル9上に載置され、従
ってワーク5は自公転可能となっている。この実施例で
はワーク5として例えば複数の歯車が載]dされている
。
キャビネット3内に複数のワーク5を載置するための大
テーブル7及び複数の小テーブル9を備えている。大テ
ーブル7はキャビネット3に対して回転可能となってお
り、小テーブル9は大テーブル7に対して回転可能とな
っている。ワー・り5は小テーブル9上に載置され、従
ってワーク5は自公転可能となっている。この実施例で
はワーク5として例えば複数の歯車が載]dされている
。
また、各小テーブル9,9間には、個々のワーク5を独
立してピーニングするための仕切板11が設けられてい
る。
立してピーニングするための仕切板11が設けられてい
る。
ショットピーニング装置1はキャビネット3に隣設し−
Cショット13をワ〜り5に投射するための回転自在な
第10−夕15及び第20−タ17を備えている。各ロ
ータ15.17は、異なるワーク5に対して同時にショ
ット13を投射できるよう配設されている。この実施例
−ひは、例えば第10−タ15はワ〜り5に対し上方か
らショット13を投射し、第20−タ′17は下方から
ショク1−13を投射するようになっている。また、キ
ャビネット3の第1及び第20−タ15.17と反対側
には、ワーク5を交換1”るための作業孔19が形成さ
れている。
Cショット13をワ〜り5に投射するための回転自在な
第10−夕15及び第20−タ17を備えている。各ロ
ータ15.17は、異なるワーク5に対して同時にショ
ット13を投射できるよう配設されている。この実施例
−ひは、例えば第10−タ15はワ〜り5に対し上方か
らショット13を投射し、第20−タ′17は下方から
ショク1−13を投射するようになっている。また、キ
ャビネット3の第1及び第20−タ15.17と反対側
には、ワーク5を交換1”るための作業孔19が形成さ
れている。
第10−タ15及び第20−タ17には、それぞれ独立
した駆動手段としてモータMl、M2が連結され、各モ
ータMl 、M2の駆動は制御手段たる回転数制御計1
又は2により制御される。また、第1及び第20−タ1
5,17は、径方向に所定の長さを有して延設された複
数の平板状のブレード20を備えている。
した駆動手段としてモータMl、M2が連結され、各モ
ータMl 、M2の駆動は制御手段たる回転数制御計1
又は2により制御される。また、第1及び第20−タ1
5,17は、径方向に所定の長さを有して延設された複
数の平板状のブレード20を備えている。
第10−タ15及び第20−タ17に供給されるショッ
ト13は、選別手段たるショット分離装置21により球
径に応じて選別される。
ト13は、選別手段たるショット分離装置21により球
径に応じて選別される。
ショット分離袋fi21は、第3図に示すように」一方
から第1枠23、第2枠25及び第3枠27を有してい
る。第1枠23には、ショットaが供給されると例えば
球径が0.5m未満のショットCを通過させる第1メツ
シユ29が貼設されている。また、第2枠25には0.
2111111未満のショットdを通過させる第2メツ
シユ31が貼設され、第3枠27にはメツシュが貼設さ
れていない。
から第1枠23、第2枠25及び第3枠27を有してい
る。第1枠23には、ショットaが供給されると例えば
球径が0.5m未満のショットCを通過させる第1メツ
シユ29が貼設されている。また、第2枠25には0.
2111111未満のショットdを通過させる第2メツ
シユ31が貼設され、第3枠27にはメツシュが貼設さ
れていない。
第1枠23及び第2枠25には、それぞれ順に供給手段
として第1シヨツト供給管33及び第2シヨツト供給管
35の各一端が連結されている。
として第1シヨツト供給管33及び第2シヨツト供給管
35の各一端が連結されている。
このような各シ3ツ1−供給管33.35の他端は、第
1タンク37及び第2タンク39に連結されている。ま
た、第3枠27にはシ3ツl−dを廃却するめための廃
却管41が連結されている。
1タンク37及び第2タンク39に連結されている。ま
た、第3枠27にはシ3ツl−dを廃却するめための廃
却管41が連結されている。
従って、0.511IO1以上のショットbは第1タン
ク37に供給され、Q、5+am未満であって0.21
以上のショクl= cは第2タンク39に供給される。
ク37に供給され、Q、5+am未満であって0.21
以上のショクl= cは第2タンク39に供給される。
第1タンク37には第1分岐管43及び第2分岐管45
の各一端が連結され、第2タンク39には第3分岐管4
7及び第4分岐管49の各一端が連結されている。第1
分岐管43及び第4分岐管49の他端は第10−タ15
に連結され、第2分岐管45及び第3分岐管47の他端
は第20−タ17に連結されている。
の各一端が連結され、第2タンク39には第3分岐管4
7及び第4分岐管49の各一端が連結されている。第1
分岐管43及び第4分岐管49の他端は第10−タ15
に連結され、第2分岐管45及び第3分岐管47の他端
は第20−タ17に連結されている。
従って、第10−タ15には第1分岐管43又は第4分
岐管49よりショク1−01又はrlが供給され、第2
0−タ17には第2分岐管45又は第3分岐管47より
ショットe2又tまf2が供給される。
岐管49よりショク1−01又はrlが供給され、第2
0−タ17には第2分岐管45又は第3分岐管47より
ショットe2又tまf2が供給される。
第1乃至第4分岐管43.45,47.49の中間部に
は、第1乃至第4開閉弁SV1.5VII。
は、第1乃至第4開閉弁SV1.5VII。
SVI[[,5VIVがそれぞれ設けられている。第1
乃至第1;flllsVl、5VIr、SVI[[,5
VIVは、各第1乃至第4分岐管43.45.47.4
9をそれぞれ開閉してショットe1.e2+r+。
乃至第1;flllsVl、5VIr、SVI[[,5
VIVは、各第1乃至第4分岐管43.45.47.4
9をそれぞれ開閉してショットe1.e2+r+。
t2の供給と遮断とを実行する。
このような第1乃至第4分岐管43.45.47.49
及び第1乃至第4開閉弁SV1.5VII。
及び第1乃至第4開閉弁SV1.5VII。
SVI[[,5VIVは、交換機構を構成し、第5図に
示すシーケンス制御回路により作動が制御される。
示すシーケンス制御回路により作動が制御される。
すなわち、モータM+及びモータM2は切換回路51を
介して回転数制御計1又は2に接続され、切換回路51
は電磁接触器MCの作動により切換制御される。また、
第1乃至第4開閉弁SVI。
介して回転数制御計1又は2に接続され、切換回路51
は電磁接触器MCの作動により切換制御される。また、
第1乃至第4開閉弁SVI。
svm、svm、5vrvには開閉スイッチ53a。
53b 、53c 、53dがそれぞれ接続され、開閉
スイッチ53a 、53b 、53c 、53dは電磁
接触器MCの作動により開閉制御される。このような電
磁接触器MCは制御回路55により作動される。この実
施例では、開閉スイッチがオンとなると各開閉弁が開状
態となり、オフとなると閉状態になよう接続されている
。
スイッチ53a 、53b 、53c 、53dは電磁
接触器MCの作動により開閉制御される。このような電
磁接触器MCは制御回路55により作動される。この実
施例では、開閉スイッチがオンとなると各開閉弁が開状
態となり、オフとなると閉状態になよう接続されている
。
次に制御回路55の作動を第6図に示すタイムチャート
を参照しつつ説明する。
を参照しつつ説明する。
まず始動ボタンスイッチSTがオンになると補助スイッ
チ接点STRがオンとなり、補助抵抗器AUX−Rのb
接点はオンであるから自己保持回路が形成されて電磁接
触器MCがオンとなる。この結果、開閉スイッチ53a
及び530がオンとなって第1及び第3開閉弁SV1.
5VIIIが開状態となり開閉スイッチ53b及び53
dがオフとなって第2及び第4開閉弁SVI[,5VI
Vが閉状態となる。これにより、第10−タ15にショ
ットe1が供給され、第20−タ17にショットf2が
供給される。また、モータM1の回転数が回転数制御計
1に制御され、モータM2の回転数が回転数制御計2に
制御される。
チ接点STRがオンとなり、補助抵抗器AUX−Rのb
接点はオンであるから自己保持回路が形成されて電磁接
触器MCがオンとなる。この結果、開閉スイッチ53a
及び530がオンとなって第1及び第3開閉弁SV1.
5VIIIが開状態となり開閉スイッチ53b及び53
dがオフとなって第2及び第4開閉弁SVI[,5VI
Vが閉状態となる。これにより、第10−タ15にショ
ットe1が供給され、第20−タ17にショットf2が
供給される。また、モータM1の回転数が回転数制御計
1に制御され、モータM2の回転数が回転数制御計2に
制御される。
一方、補助スイッチ接点STRがオンとなると限時動作
接点TLR1が所定時間T1オンとなる。
接点TLR1が所定時間T1オンとなる。
このT1の間は電磁接触器MCがオン状態を保持する。
そして、限時動作接点TLR1がオンとなると限時継続
器接点TLR2がオンとなり、限時継続器接点TLR2
は限時動作接点TLR1がオフとなった後の所定時間T
2経過後にオフとなる。
器接点TLR2がオンとなり、限時継続器接点TLR2
は限時動作接点TLR1がオフとなった後の所定時間T
2経過後にオフとなる。
また、限時動作接点TLR1がオンでかつ限時継続器接
点TLR2がオンのとき補助抵抗器AUX−,Rがオン
となり、補助抵抗器AUX−Rのa接点がオンとなって
自己保持回路を形成する一方、b接点がオフとなって電
磁接触器MC及び限時動作接点TLRIがオフとなる。
点TLR2がオンのとき補助抵抗器AUX−,Rがオン
となり、補助抵抗器AUX−Rのa接点がオンとなって
自己保持回路を形成する一方、b接点がオフとなって電
磁接触器MC及び限時動作接点TLRIがオフとなる。
従って、第1及び第3開閉弁SVI、SVI[[が開状
態となり第2及び第4開閉弁svn、5vrvが開状態
となる。これにより、第10−タ15にショットr+
が供給され、第20−タ17にショットe2が供給され
る。また、モータM1の回転数が回転数制御計2に制御
され、モータM2の回転数が回転数制御計1に制御され
る。
態となり第2及び第4開閉弁svn、5vrvが開状態
となる。これにより、第10−タ15にショットr+
が供給され、第20−タ17にショットe2が供給され
る。また、モータM1の回転数が回転数制御計2に制御
され、モータM2の回転数が回転数制御計1に制御され
る。
その後、限時継続器接点TLR2がオフになると、補助
抵抗器AUX−Rのa接点がオフとなる一方、b接点が
オンとなって再び電磁接触器MCがオンとなり限時動作
接点TLR1がオンとなる。
抵抗器AUX−Rのa接点がオフとなる一方、b接点が
オンとなって再び電磁接触器MCがオンとなり限時動作
接点TLR1がオンとなる。
以上の工程が停止用ボタンスイッチSTPを操作するま
で繰り返される。
で繰り返される。
従って、第10−タ15には、球径の小さいショットe
1又は球径の大きいショット「1が所定時間経過後に交
互に供給される。また、第20−タ17には、第10−
タ15にショットe1が供給されているとき球径の大き
いショット[2が供給され、ショット「1が供給されて
いるときショットe2が供給される。
1又は球径の大きいショット「1が所定時間経過後に交
互に供給される。また、第20−タ17には、第10−
タ15にショットe1が供給されているとき球径の大き
いショット[2が供給され、ショット「1が供給されて
いるときショットe2が供給される。
ここで、回転数制御計1及び2による第1及び第20−
タ15.17の回転数は以下のようにして設定される。
タ15.17の回転数は以下のようにして設定される。
すなわち、投射されるショット13の運動方程式は、
rp 、 v 2 = 12 v 22−(+)であ
る。ただし、mlは−のショット13の賀陽、第2は伯
のショット13の質量、vl及びvlは各ショット13
がブレード20から投射されたときの初速である。
る。ただし、mlは−のショット13の賀陽、第2は伯
のショット13の質量、vl及びvlは各ショット13
がブレード20から投射されたときの初速である。
このとぎ、初速■は
V =2πn R/60
で表わせる。ただし、nはロータ15.17の回転数、
Rはブレード20の径方向の長さである。
Rはブレード20の径方向の長さである。
また、ショット13の質mll1は、
m −πr ρ
である。ここで、rはショット13の球径、ρはショッ
ト9の比重である。
ト9の比重である。
従って、(1)式は
rl 3nl =r23n2 ・・・(2)
となる。ここで、rl は前記−のショット13の球径
、rlは他のショット13の球径である。この球径r1
及びrlは、例えばショット分離装置21で選別された
各ショット13の正規分布の平均値がとられる。
となる。ここで、rl は前記−のショット13の球径
、rlは他のショット13の球径である。この球径r1
及びrlは、例えばショット分離装置21で選別された
各ショット13の正規分布の平均値がとられる。
そして、制御手段により第ロータ15又は第20−夕1
7の回転数をそのロータに供給されるショット13の球
径に対して上記(2)式を満たづように設定する。すな
わち、この実施例では第10−タ15の回転数より第2
0−タ17の回転数の方が大きく設定される1、ロータ
の回転数は、例えば−制御盤の操作部等で直接設定する
ことができる。
7の回転数をそのロータに供給されるショット13の球
径に対して上記(2)式を満たづように設定する。すな
わち、この実施例では第10−タ15の回転数より第2
0−タ17の回転数の方が大きく設定される1、ロータ
の回転数は、例えば−制御盤の操作部等で直接設定する
ことができる。
このため、第10−タ15及び第20−タ17により加
速され各ショット13の運動エネルギはほぼ均一となる
。
速され各ショット13の運動エネルギはほぼ均一となる
。
そり、て、第10−タ15及び第20−タ17のそれぞ
れの回転数は所定時間経過後に回転数制御i’i+ 1
と2との間で交換される。従って、第10−タ15又は
第20−タ17に対しては、高回転と低回転とが交互に
繰り返されることになる。
れの回転数は所定時間経過後に回転数制御i’i+ 1
と2との間で交換される。従って、第10−タ15又は
第20−タ17に対しては、高回転と低回転とが交互に
繰り返されることになる。
次に作用を説明する。
上記構成において、モータMI及びt−タM2の作動に
より第1及び第20−タ15.17を独立して回転させ
、ショット13が回転する第1及び第20−タ15.1
7のブ1ノード20に沿つで遠心加速されて第1及び第
20−タ15,17の外周部からワーク5に投射される
。
より第1及び第20−タ15.17を独立して回転させ
、ショット13が回転する第1及び第20−タ15.1
7のブ1ノード20に沿つで遠心加速されて第1及び第
20−タ15,17の外周部からワーク5に投射される
。
そして、この実施例によれば運動エネルギがほぼ均一化
されたショット13がワーク5に投射されて安定したピ
ーニング効果を得ることができ、ワーク5の品質を安定
化することができる。また、摩耗等により球径が0.2
mm未満となったショット13は廃却されるため、従来
と同様にピーニング効果の小さいショット13が第1及
び第20−タ15.17側に供給されるのを有効に防止
することができる。
されたショット13がワーク5に投射されて安定したピ
ーニング効果を得ることができ、ワーク5の品質を安定
化することができる。また、摩耗等により球径が0.2
mm未満となったショット13は廃却されるため、従来
と同様にピーニング効果の小さいショット13が第1及
び第20−タ15.17側に供給されるのを有効に防止
することができる。
しかも、第10−タ15及び第20−タ17の相互間に
おいてショット13の球径と回転数との関係が所定時間
経過後に交換されるため、第10−タ15又は第20−
タ17のうち1つが常に高速回転することがない。この
ため、ブレード20やモータM+ 、M2又はベアリン
グ等が高負荷となるのを抑え、装置全体の寿命を向上さ
せることができる。
おいてショット13の球径と回転数との関係が所定時間
経過後に交換されるため、第10−タ15又は第20−
タ17のうち1つが常に高速回転することがない。この
ため、ブレード20やモータM+ 、M2又はベアリン
グ等が高負荷となるのを抑え、装置全体の寿命を向上さ
せることができる。
また、両ロータ15,17の回転数を交換するので両日
−タ15.17がほぼ同様に摩耗するため、メンテナン
ス時に両目−タ15,17を同時に交換することができ
交換回数を削減することができ作業性が向上する。
−タ15.17がほぼ同様に摩耗するため、メンテナン
ス時に両目−タ15,17を同時に交換することができ
交換回数を削減することができ作業性が向上する。
さらに、−のロータのみを高速回転させた場合、このロ
ータを交換する際はブlノードが使用可能であってもこ
のブレードを廃却しなければならないが、同時交換が可
能であるため、設備維持費を低減することもできる。
ータを交換する際はブlノードが使用可能であってもこ
のブレードを廃却しなければならないが、同時交換が可
能であるため、設備維持費を低減することもできる。
なお、この発明は上記実施例のものに限定されず、例え
ばシーケンス制御に代えてマイコン制御を行なっても同
様な効果が得られる。
ばシーケンス制御に代えてマイコン制御を行なっても同
様な効果が得られる。
「発明の効果]
以上説明したように、この発明によれば、ショットを球
径に応じで選別し、ショク1−を球径に応じて異なるロ
ータに供給して制御手段により投射されるショットの運
動エネルギがほぼ同一どなるようロータの回転数を変え
ることができ、ピーニング効果を安定化することができ
てワークの品質を安定化させることができる。
径に応じで選別し、ショク1−を球径に応じて異なるロ
ータに供給して制御手段により投射されるショットの運
動エネルギがほぼ同一どなるようロータの回転数を変え
ることができ、ピーニング効果を安定化することができ
てワークの品質を安定化させることができる。
しかも、交換義構が異なる1コータの相互間において球
径と回転数との関係を所定時間経過後に交換させるため
、−のロータが常に高速回転することがなく寿命を向−
トさせることができる。
径と回転数との関係を所定時間経過後に交換させるため
、−のロータが常に高速回転することがなく寿命を向−
トさせることができる。
まlJ−、メンテナンス時にロータを一度に交換できる
ため、交換回数を減らすことができ作業性が向上する。
ため、交換回数を減らすことができ作業性が向上する。
第1図はこの発明の一実施例に係わるロータ式ショット
ピーニング装置の横断面図、第2図は第1図のI[−U
断面図、第3図は選別手段としてショット分離装置の拡
大された斜視図、第4図は第1図の概略的な全体構成図
、第5図は第1図のシーケンス制御回路図、第6図は第
5図のタイムチャート、第7図は従来例の第2図に対応
する横断面図、第8図は第7図の■−■断面図、第9図
は第7図の要部の拡大された斜視図である。 5・・・ワーク 13・・・ショット15・・
・第10−タ 17・・・第20−タ20・・・ブレ
ード 21・・・ショット分離装置(選別手段)33・・・第
1シヨツト供給管 (供給手段)35・・・第2 7J 43・・・第1分岐管 45・・・第2分岐管 47・・・第3分岐管 4つ・・・第4分岐管 (交換SVI・・・
第1開閉弁 機構)Sv■・・・第2開閉弁 Sv■・・・第3開閉弁 s v zv・・・第4開閉弁 代理人 弁理士 三 好 保 男5・・ワー
ク 13・・ショット15・・・第10−タ
17・・・第20−タ20・・・ブレード 21・・・ショツト分11装M(選別手段)33・・・
第1シヨツト供給! (供給手段)35・・・第2ノI 43・・・第1分岐管 45・・第2分岐管 47・・・第3分岐管
S49・・・第4分岐管 く交換゛i → 1〕9
ピーニング装置の横断面図、第2図は第1図のI[−U
断面図、第3図は選別手段としてショット分離装置の拡
大された斜視図、第4図は第1図の概略的な全体構成図
、第5図は第1図のシーケンス制御回路図、第6図は第
5図のタイムチャート、第7図は従来例の第2図に対応
する横断面図、第8図は第7図の■−■断面図、第9図
は第7図の要部の拡大された斜視図である。 5・・・ワーク 13・・・ショット15・・
・第10−タ 17・・・第20−タ20・・・ブレ
ード 21・・・ショット分離装置(選別手段)33・・・第
1シヨツト供給管 (供給手段)35・・・第2 7J 43・・・第1分岐管 45・・・第2分岐管 47・・・第3分岐管 4つ・・・第4分岐管 (交換SVI・・・
第1開閉弁 機構)Sv■・・・第2開閉弁 Sv■・・・第3開閉弁 s v zv・・・第4開閉弁 代理人 弁理士 三 好 保 男5・・ワー
ク 13・・ショット15・・・第10−タ
17・・・第20−タ20・・・ブレード 21・・・ショツト分11装M(選別手段)33・・・
第1シヨツト供給! (供給手段)35・・・第2ノI 43・・・第1分岐管 45・・第2分岐管 47・・・第3分岐管
S49・・・第4分岐管 く交換゛i → 1〕9
Claims (1)
- (1)回転自在な複数のロータを備え、各ロータの径方
向に延設された複数のプレートを有し、このブレードの
ロータ中心側にショットを供給して回転するロータの外
周部から遠心加速されたショットをワークに投射するロ
ータ式ショットピーニング装置に於いて、前記ロータを
各別に回転させる駆動手段と、前記ショットを球径に応
じて選別する選別手段と、この選別手段により選別され
たショットを球径に応じて異なるロータに供給する供給
手段と、この供給手段により供給されたショットを投射
する際の各運動エネルギがほぼ均一となるよう球径に応
じて前記駆動手段を駆動し各ロータの回転数を制御する
制御手段と、異なるロータの相互間において球径と回転
数との関係を所定時間経過後に交換させる交換機構とを
備えたことを特徴とするロータ式ショットピーニング装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9681688A JPH0753345B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | ロータ式ショットピーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9681688A JPH0753345B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | ロータ式ショットピーニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01271175A true JPH01271175A (ja) | 1989-10-30 |
JPH0753345B2 JPH0753345B2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=14175111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9681688A Expired - Lifetime JPH0753345B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | ロータ式ショットピーニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0753345B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5272897A (en) * | 1992-05-12 | 1993-12-28 | Engineered Abrasives, Inc. | Part hold down apparatus for part processing machine |
WO1998010892A1 (fr) * | 1996-09-16 | 1998-03-19 | A.R.M.I.N.E.S. (Association Pour La Recherche Et Le Developpement Des Methodes Et Processus Industriels) | Dispositif de traitement de pieces par grenaillage, plus particulierement au moyen de billes d'acier mises en mouvement par un champ ultrasonore |
US6238268B1 (en) | 1998-09-11 | 2001-05-29 | Michael J. Wern | Media blasting apparatus and method |
WO2010038892A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Sintokogio, Ltd. | A shot-treatment machine and a jig for a shot-treatment |
WO2012060125A1 (ja) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
WO2012066809A1 (ja) * | 2010-11-16 | 2012-05-24 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
US8453305B2 (en) | 2009-07-14 | 2013-06-04 | Engineered Abrasives, Inc. | Peen finishing |
WO2013121632A1 (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置及びショット処理方法 |
US20130213104A1 (en) * | 2010-11-09 | 2013-08-22 | Masatoshi Yamamoto | Shot-treatment apparatus |
EP3088131A4 (en) * | 2014-03-10 | 2017-09-06 | Sintokogio, Ltd. | Shot process device |
-
1988
- 1988-04-21 JP JP9681688A patent/JPH0753345B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5272897A (en) * | 1992-05-12 | 1993-12-28 | Engineered Abrasives, Inc. | Part hold down apparatus for part processing machine |
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FR2753406A1 (fr) * | 1996-09-16 | 1998-03-20 | Armines | Dispositif de traitement de pieces par grenaillage, plus particulierement au moyen de billes d'acier mises en mouvement par un champ ultrasonore |
US6238268B1 (en) | 1998-09-11 | 2001-05-29 | Michael J. Wern | Media blasting apparatus and method |
WO2010038892A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Sintokogio, Ltd. | A shot-treatment machine and a jig for a shot-treatment |
US8453305B2 (en) | 2009-07-14 | 2013-06-04 | Engineered Abrasives, Inc. | Peen finishing |
CN103201073A (zh) * | 2010-11-01 | 2013-07-10 | 新东工业株式会社 | 喷丸处理装置 |
WO2012060125A1 (ja) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
JP5742851B2 (ja) * | 2010-11-01 | 2015-07-01 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
US9126308B2 (en) | 2010-11-01 | 2015-09-08 | Sintokogio, Ltd. | Shot-processing apparatus |
TWI499483B (zh) * | 2010-11-01 | 2015-09-11 | Sintokogio Ltd | Nozzle handling device |
US20130213104A1 (en) * | 2010-11-09 | 2013-08-22 | Masatoshi Yamamoto | Shot-treatment apparatus |
US9163295B2 (en) * | 2010-11-09 | 2015-10-20 | Sintokogio, Ltd. | Shot-treatment apparatus |
WO2012066809A1 (ja) * | 2010-11-16 | 2012-05-24 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置 |
WO2013121632A1 (ja) * | 2012-02-13 | 2013-08-22 | 新東工業株式会社 | ショット処理装置及びショット処理方法 |
US9776301B2 (en) | 2012-02-13 | 2017-10-03 | Sintokogio, Ltd. | Shot peening device and shot peening method |
EP3088131A4 (en) * | 2014-03-10 | 2017-09-06 | Sintokogio, Ltd. | Shot process device |
US10471568B2 (en) | 2014-03-10 | 2019-11-12 | Sintokogio, Ltd. | Shot process device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0753345B2 (ja) | 1995-06-07 |
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