TW479373B - Organic photosensitive optoelectronic device - Google Patents

Description

4f79373 A7 B7 五、發明說明（1 )

Ijg範疇 Φ I I --- (請先閱讀背面之注意事項再頁) 本發明大體上有關一種有機薄膜光敏性光電子裝置。詳 ，有關一種具有透明電極之有機光敏性光電子裝置， 例如太陽能電池及光敏性檢測器。此外，其有關一種有機 光敏性光電子裝置，其具有一透明陰極，與相鄰之有機半 導體層形成低電阻界面。此外，有關一種由多個疊層光敏 性光電子子構件所構成之有機光敏性光電子裝置，每一子 構件皆具有一或多層光敏性光電子活性層及透明之電荷輸 送層。 璧^背景 丨線· 光電子裝置係依賴材料之光學及電子性質，以電子性地 產生或檢測電磁輻射，或由環境電磁輻射生成電。光敏性 光電子裝置將電磁輕射轉化成電。尤其是使用太陽能電池 …亦稱爲電電伏打（PV)裝置…特別係用以產生功率。p V裝 置係用以驅動能量消耗性負載，以提供例如照明、加熱、 或操作電子設備諸如電腦或遠距檢測或通信設備。此等能 f生成應用亦經常包括電池或其他能量儲存裝置之充電， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以於來自太陽或其他環境光源之直接照射失效時持續該設 備之操作。本發明所使用之“電阻性負載，，意指任何能量消 耗性或儲存性裝置、設備或系統。其他類型之光敏性光電 子裝置係爲光導體電池。此情況下，信號檢測電路檢測該 裝置之電阻，以檢測因吸光所致之改變。另一類型之光敏 性光電子裝置係爲光敏性檢測器。光敏型檢測器於操作期 間被犯加私壓，電流檢測電路測量當該光敏型檢測器爆露 -4- 本纸張尺㈣种關家標準^^^T〇x 297 /i¥7 479373 A7 五、發明說明（2 個 於電磁輻射時所產生之電流。本發明所描述之檢測電路可 於光敏型檢測器上提供偏壓，測定該光敏型檢測器對環境 電磁輻射之電子響應。此三類光敏性光電子裝置可視其是 否具有下文所定義之整流接頭及該裝置是否以外加電壓操 作一亦稱爲偏壓或偏電壓…而分類。光導體電池不具有整 流接頭，一般係使用偏壓操作。pv裝置具有至少_個= 流接頭，而不使用偏壓操作。光敏型檢測器具有至少一正 整泥接頭’而通常並非始終使用偏壓操作。 光 陽 的 曰光敏性光電子裝置傳統上係由數種無機半導體例如結 晶、多晶及非晶形矽、砷化鎵、碲化鎘等材料構成。本發 明中 < “半導體”意指當藉熱或電磁激發誘導電荷載流子時 可導迅之材料。光導電性，，意指吸收電磁輻射能以使該載 流子可於一材料中傳導—即輸送—電荷之過程。“光 _及“光導電性材料，，於本發明中係意指經選擇以吸收特定 譖能量之電磁輻射而生成電荷載流子之半導體材料 能電池之特徵爲其將人射之太陽能轉化成可使用之功率 效率。使用結晶或非以之裝置於工業應用中 質 當 型 性 池 百分比或更高之效率。然而，以結晶爲ί ，：尤其是具有大型表面積者…難以產製而相 ::之不產生明顯之效率降低缺陷下產製大 …問4。另-方面，高效率_ 之:二Π研究之方面係針對於使用有機光電：：： 以於紅…產製成本下達到可 ”裝置-般具有當其連接於轉率。 、-裁^兩、而照光時， -5- 本纸張尺度適用中國國家標準規格（2$ χ 297公釐） 479373 A7 B7 五、發明說明（3 產生光敏性電壓。當左益Λ< / . pv·" “ 何外加電子負荷下照光時， 署:Λ Α 可能電壓、v開路、或V-。若PV裝 置…電觸點短路之下照光，則產生最大短路電流或 sc。s貫際使用於產生功率時，”裝£係連接於有限電

且Γ載，而功率輸出係由電流電壓積I XV表示。由PV裝 置所產生之最大總功率其太μ A 、、 土本上我法超過乘積Iscx Voc。當 =負載値騎最大功率輸“最佳化，電祕個別具 有W及vmax値。太陽能電地之四項優點係爲如下定義之 充填因數ff: ⑴ /、中f f始、、、小於1 ，因爲實際使用時，絕無法同時得到

Isc及V0C。而當ff趨近i時，該裝置較爲有效。 當具有適當能量之電磁輻射入射於半導體有機材料例如 有機分子結晶材料或聚合物上時，光子可被吸收而產生被 激發之分子狀態。此象徵性地表示爲s0+hvci>s〆。其中％ 及SG*係個別表示基態及受激分子態。此能量吸收促使電3 子由價電子帶之鍵結狀態…7鍵…到達導電帶一 V *鍵一 之狀悲，或相同地，促使電洞由導電帶成爲價電子帶狀 態。於有機薄膜光導體中，相信所生成之分子狀態通常係 為激子，即於鍵結狀態下之電子_電洞對，其係以準粒子 形式輸送。該激子於配對重組之前可具有適當之活期，該 配對重組係意指原始電子及電洞彼此重組之過程，不同於 與來自其他對之電洞或電子重組。欲產生光電流，電子_ 本紙張尺度剌巾關家群（CNS)A4祕⑽x 再 頁 訂 線 -6- 1479373 A7 B7五、發明說明（4 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

電洞對需分離。若該電荷不分離，可其可於配對重組過程 中重組，或爲輕射性__再放射能量低於入射光之光·· 輕射性…產生熱。 此等結果中之任—項皆非光敏性光電子裝置所期望 然並非冗全明瞭激子酿子仆 十 岬敬亍離于化、或離解，但一般相信其係 生於電場缺陷、有雜質、觸點、界面或其他不均勻之區 式離子化,..工吊係發生於結晶缺陷周圍所誘導之n $ 爲Μ。此反應係表示爲v+M〜+h+。若該離子化係於材 料區域上成爲任意㈣而非整體電$，則户斤生成之 電洞對極易重組。爲了得到可使用之光電流，該電子二 洞需於個別相對之電極上收集，其通常稱爲觸點。此係使 用由载流子所佔據之區域中的電場所達成。於發電裝置即 pv裝置中’以使用分離所產生之光載流子的内生電：達 成馬佳。於其他光敏性光電子裝置中，電場可由例如光導 體電池中之外加偏愿所產生，或於例如光敏性檢測器中係 甴内部及外部電場重疊所致之結果。與其他光敏性光電子 裝置相同地’於有機PV裝置中’期望儘可能分離較多之 光致電子-電洞對、或激子。固有電場係用以離解該激 子’以產生光電流。 圖1係圖示有機半導體材料中之光導電性程序。步驟1〇1 係顯示入射於光導電性材料介於兩電極a&b之間的試樣上 (電磁輕射。步驟102中’光子被吸收以生成大量激子， 即電子-電洞對。實心圓表示—電子，空心圓表示一電 洞°電洞與電子間之曲線係該電子及電洞係處於激發鍵結 (請先閱讀背面之注音？事項再本頁) -· · I I - ·- 參 本纸張尺朗財關家辟（CNS)A4雜（21G: 297公f 479373 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（5 ) 狀態之表示。於步驟103中，該激子係於整體光導電性材 料中擴散，如同位於電極a附近之激子所表示。該激子易 .於該整體材料中遠離觸點或接點所產生之任何電場處重 組，如步驟1 04所示。若發生此種情況，則被吸收之光子 無法產生光電流。該激子以於由觸點或接點所產生之電場 内離子化爲佳，如步驟103至步驟105所示。然而，仍可能 於永久分離而產生光電流之前再釋出載流子而重組，如步 驟106所示。該載流子分離並根據其電荷之符號而對觸點 或接點附近之電場產生反應，如步驟105至步驟107所示。 即，於該電場中--步驟107以ε表示…電洞及電子以相反 方向移動。 爲了於内部產生佔據實質體積之電場，一般方法係使具 有適當地經選擇之導電性的兩材料層並置，尤其是針對其 分子量子能量分佈。此兩材料之界面稱爲光電伏打異接 面。於傳統半導體理論中，用以形成Ρ V異接面之材料通 常稱爲η型--施體型或ρ型--受體型。η型意指主要載流子 型式係爲電子。此可視爲具有許多處於相對自由能態之電 子的材料。ρ型意指主要載流子型式爲電洞。該材料具有 許多處於相對自由能態之電洞。背景--即非光致性--主要 載流子濃度之類型主要係由缺陷或雜質之無意摻雜物決 定。雜質之類型及濃度決定介於最高已佔分子軌道（HOMO) 及最低未佔分子軌道（LUMO)間之能隙…稱爲HOMO-LUMO能隙--内之費米能量（Fermi energy)値或標準。費米 能量描述由佔位機率等於1/2之能量値表示之分子量子能 -8- 請先閱讀背面之注意事項再 裝 頁) 丨綉 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 73 3 9 7 A7 __B7_ 五、發明說明（6 ) 態之統計佔位。接近LUMO能量之費米能量係表示電子係 爲主要載流子。接近HOMO能量之費米能量係表示電洞爲 •主要載流子。是故，費米能量係爲傳統半導體之主要特 性，而標準異接面傳統上係具有p_n界面。 除了相對自由載流子濃度之外，有機半導體之一重要性 質係爲載流子遷移率。遷移率量度電荷載流子因電場而通 經導電性物質之簡易度。與自由載流子濃度相反地，載流 子遷移率大部分係取決於有機材料之固有性質諸如結晶對 稱性及周期性。適當之對稱性及周期性可產生較高之 HOMO標準之量子波函數重疊性，而產生較高之電洞遷移 率，或相同地，較高之LUMO標準重疊性，而產生較高之 電子遷移率。而且，有機半導體例如3，4，9，1 0-茈四竣 酸二酐（PTCDA)之施體或受體性質與較高載流子遷移率相 衝突。例如，雖然化學證明PTCDA之施體或η型特性，但 實驗證明電洞遷移率較電子遷移率高出數個位數，使得電 洞遷移率成爲臨界因數。結果來自施體/受體規則之裝置 結構預測無法由實質裝置性能由施體/受體規則預測裝置 結構。因此，選擇有機材料諸如本發明所描述使用於光敏 性光電子裝置者時，已發現同型異接面例如ρ-ρ可具有與 傳統ρ-η型異接面同樣良好之整流性質，唯若可能，則實 際之ρ-η型通常較佳。同型異接面進一步討論於下文。因 爲有機材料之此等獨特電子性質，故經常使用“電洞輸送 層”（HTL)或“電子輸送層”（ETL)之名稱，而非稱其爲“ ρ 型’’或“ η型’’。於此中命名中，ETL以電子傳導性爲佳，而 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----♦---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) · 丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 479373 A7 五、發明說明（7 ) 肌以電洞傳導性爲佳。“整流，，係、意指__尤其〜 稱傳導特性之界面，即，該界面使單—方向之電荷導六 間的界面上。 〇有…位於所通當選擇之材料 光敏性光電子裝置中所使用之電極或觸點係爲重要 慮。於光敏性光電子裝置中，需使最大量之來自該 之環境電磁輕射進入光導電性内部區域中。即，需使 輕射到達可藉著光導電性吸收將其轉化成電能之處^于 至少-個電觸點對於人射電磁輻射應具最小之吸收性及最 小（反射性。#，該觸點應實質透明。當使用於本發明中 寺％極及觸點僅係爲提供用以將光致能量輸送至外 加電路《介質或提供一偏壓於該裝置之介質薄層。即，電 極或觸點提供介於有機光敏性光電子裝置之光導電性區域 ί線路、導線、軌跡或其他用以輸送電荷載流子至該外加 :路或離開該外加電路之間的界面。本發明所使用之“電 :輸迓層”意指與電極類似之層，不同處爲電荷輸送層僅 :载流子遷移率自光電子裝置之一子區域送至相鄰之子區 ^ ζ: ^發明所使用之材料層或數個不同材料層之序列在容 、y 5 0百刀比之相關波長環境電磁輕射穿透該層時，則 視爲“透明”。 當電極或電荷輸送層提供用於光電伏打電荷分離之主要 幾，時，该裝置稱爲Sch〇uky裝置，如下文所詳述。 兒極或觸點通常係爲金屬或“金屬取代物。本發明所使 、至屬同時涵盍包含元素純金屬例如M g之材料及包 -10 用中Θ 0家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐 頁 訂 緯 479373 A7 B7 五、發明說明（ 含兩種或多種元素純金屬例如M g及A g (稱爲Mg : Ag)之金 屬合金材料。本發明中‘‘金屬取代物，，意指於正常定義下並 非金屬，但具有特定適當應用所需之類金屬性質之材料。 :般使用於電極及電荷輸送層之金屬取代物包括寬能帶隙 半導體，例如透明導電性氧化物諸如氧化銦錫（IT0)、氧化 锡（το)、乳化鎵銦錫（GIT〇)、氧化辞（ζ〇)及氧化辞姻錫 (ΖΙΤΟ)。尤纟，ΙΤ0係爲光學能帶隙約爲3·2電子伏特之古 f掺雜退化半導體，使其於大於約3_埃之波長下透明。 〃他適田之至屬取代材料係爲透明導電性聚合物聚阿拿林 (p〇lya„anne)(PANI)^ ^ # 0 ^ ^ 之非金屬材料，其中“非金屬，，涵蓋廣泛之材 料，先決條件爲該材料之化學 化學夫纟士人艰4 士 Α 子木、…口形式不含金屬。當其 稀並仙IS ^ G含金屬時—或爲單一金屬或與-戋 種其他金屬結合成合金形式…該金 Χ 爲“游離金屬，，。因此，太 3馬，、至屬形式或 發明之一或多個發明Λ 1金屬取代物電極有時被本 係涵蓋在化學未結合心：不人含人金屬”，其中“不含金屬” 般具有金屬鍵結形二視：:：屬：材料。游離金屬-導能帶中自由移動之價”海：固金屬晶格中於電子傳 孟屬取代物可含有位於數種基質 負土隹 物。其既非純游離全I 、 至屬《金屬取代 實際金屬不同：二：非游離金屬之合金。此外， 電狀態之能帶中二取代物之費米能階無非位於 性質中，該電子傳；；=其金屬形式時，於其他金 導“傾向提供高導電性及針對光學 裝 訂 多 或 絲 與 導 屬 W度適用中國國 -11 - 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7 五、發明說明（9 ) 射之高反射性。金屬導體之其他特性係爲其電導係數之溫 度相依性。金屬通常於室溫下具有高電導係數，其隨著溫 •度降低至接近絕對零度而增加。金屬取代物例如半導體包 括--尤其一無機、有機、非晶、或結晶形通常皆具有隨其 溫度降低至接近零度而降低之電導係數。 有兩種基本之有機光電伏打裝置結構。第一種是 Schottky型構件，具有單一種有機光導電性材料，夾置於 一對金屬及/或金屬取代物觸點之間。就η型光導體而言， 傳統上使用高功函數金屬例如A u作爲Schottky觸點，就p 型光導體而言，係使用低功函數金屬例如A卜Mg或I η作爲 Schottky觸點。PV裝置所需之電荷分離係於具有金屬/光 導體界面之固有電場之空間電荷區中由激子離解所致發。 該裝置傳統上需要不同之金屬或金屬取代物對組合物以作 爲觸點，因爲於兩界面上使用相同材料表面上會產生相反 .之整流接面。若於兩電極上使用相同材料，則通常認爲於 光導體-電極界面上所產生之電場需大小相同而方向相 反，以不致於在不施加外加電壓下產生淨光電流。雖然可 於兩界面進行電荷分離而係加成性，但通常於單一界面上 進行所有電荷分離爲佳。例如，若非整流界面對於載流子 輸送具有極低或無障壁，則可達成此狀況，即若其係相對 低電阻觸點。此亦可稱爲“歐姆”觸點。於任一情況下，於 光敏性光電子裝置中，通常期望該界面或可具有淨電荷分 離作用，或表現最小可能之電阻或對載流子輸送之障壁。 試樣先前技藝有機Schottky裝置係圖示於圖2 A中。觸點 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再 丨裝^^4 頁) . -1線- 73 3 9 7 A7 _B7_ 五、發明說明（1〇 ) 2A01係爲Ag ;有機光導電層2A02係爲PTCDA ;而觸點 2A03係爲氧化銦錫。該構件係描述於N. Karl,A. Bauer，J. Holziofel，J. Marktanner，M. MSbus，及 F. StSlzle，“ 有機光 電伏打電池之效能：激子光收集之角色、界面之激子擴 散、電荷分離之界面電場、及高載流子遷移率”分子結晶 及液晶，第252册，第243-258頁，1994(以下稱爲Karl等 人）。Karl等人記綠雖然Ag電極2A01於該構件中具有光電 伏打活性，但該氧化銦錫電極仍極難具有光活性，此外， 光電伏打作用於氧化銦錫電極之表現的統計確定性較差。 此外，熟習此技藝者預期觸點2 AO 1並非透明。 第二類光電伏打裝置結構係爲有機雙層構件。於雙層構 件中，電荷分離係發生於有機異接面。固有電位係由接觸 以形成異接面之兩材料間的HOMO-LUMO能隙能量差而 定。同型異接面係討論於S.R. Forrest，L.Y. Leu，F.F. So， 及W.Y. Yoon，“同型結晶分子有機異接面之光學及電性 質”，應用物理學期刊，第66册，第1 2號，1989(以下稱 爲“Forrest，Leu等人’’）及Forrest, S.R.“由有機分子束沉積 及相關技術所生長之超薄有機膜”化學評論，第9 7册，第 6號（以下稱爲Forrest，化學評論1997)，兩刊物皆以提及 方式併入本發明。Forrest，Leu等人描述兩種同型太陽能 電池，圖示於圖2B及圖2C。圖2B顯示一裝置，由位於基 板2B0 1上之氧化銦錫電極所構成，該基板覆有一銅酞菁 (CuPc)層2B03及一 PTCDA層2B04，具有In之頂層電極 2B05。於第二種裝置中，參照圖2 C，氧化銦錫電極2C02 -13- 本紙張尺度適用中S國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------—------I --- (請先閱讀背面之注意事項再^11^4頁) . 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 479373 A7 B7 五、發明說明（11 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 仍位於基板2C01上。依序放置CuPc^ 2〇〇3及3，4,9，⑺ 笼四羧酸-雙-苯並咪峻（PTCBI^2C04，頂層有八§電極 2C05。先前技藝僅具有一透明電極，而其係位於該裝置底 邵。此參考資料中亦記載此等有機光電伏打裝置易串聯電 阻。 如同Schottky裝置之情況，於例如觸點上，除非界面係 用於電荷分離，否則期望該界面針對自由電流產生最小 ㈣礙。於雙層裝Μ ’因爲主要電荷分離區係接近該 接面’故期望該電極界面上具有最小可能電阻。尤其， 技藝界中已知使用金屬薄層以作爲低電阻、或歐姆電極 觸點。當期望歐姆觸點時，使用高功函數金屬例如Α以 於光敏性光電子裝置中作爲正極即陽極。相同地，使用 功函數金屬例如A卜Mg或in以作爲歐姆負極即陴極。 本發明中，“陰極，，係於以下方式使用。於環料射下 連接於電阻負載而無外加電壓之pv裝置例如太陽沪心 中，電子可由陰極移向相鄰之光導電性材料，或相：： 所施日之電壓的方向及大小而定m‘前向偏壓 下，於陰極施加負偏壓。若該前向偏壓之大小等於内邱 :之電位’該裝置内部不產生淨電流。若前向偏壓電位 大二高於内部電位，則產生方向與未施加偏壓之情況相 ::流。於後-種前向偏壓情況下’電子由陰移入相鄰 ^導電性有機層中。於“逆偏壓”下，^該陰接施加正 壓’任何可移動之電子皆於與未施加偏壓時相向 動。逆偏壓裝置在輻射之前通常幾乎或完全無電流。相同 可 異 於 或 以 低 且 池 視 產 之 反 之 移 (請先閱讀背面之注意事項再imp本頁) 裝 -14 ;、張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21G χ 297公爱） 479373 A7 五、發明說明（12 ) 地，本發明所使用之“陽極，，係使得於照光下之太陽能電池 中，電洞自相鄰光導電性材料移向陽極，等於電子在相反 方向和冑▲裝置結構上之外加電壓以針對陰極所述之互 補方式及熟習此技藝者已知之方式改變載流子於陽極/光 導體界面上心流動。本發明所使用之陽極及陰極可爲電極 或電荷輸送層。 此外，如刖又所述，於非Schottky光敏性光電子裝置 中，同樣期望電極不僅形成歐姆觸點，亦具有高光學透明 度。該透明度同時需要低反射性及低吸光度。金屬具有所 需（低電阻觸點性質；，然❼，其可因該裝置對環境輕射之 反射而使轉化效率大幅降低。而且，金屬電極可吸收大量 電磁輻射，尤其是厚層。因此，期望發現低電阻、高透明 度之電極材料及結構。金屬取代物氧化銦錫尤其具有所需 之光學性質。技藝界亦已熟知氧化銦錫於有機光電子裝= 中作爲陽極之功能。然而，已知氧化銦錫或其他金屬取代 物可製造供有機光電子裝置使用之低電阻陰極。已揭示一 種太陽能電池，其中高透明度氧化銦錫層可於某些情況下 作爲陰極，但所揭示之氧化銦錫陰極僅係將電荷攜帶性有 機層沉積於該氧化銦錫層上而製備，Kad等人及Whiu〇ck J.B. Panayotatos, P.? Sharma, G.D.5 Cox? M.D., Savers, R.R. 及Bird，G.R.，“有機半導體太陽能電池所使用之材料及裝置 結構的研究”，Optical Eng.，第32册，第8號，1991_ 1934( 1993年 8 月）（Whitlock 等人）。 先前技藝P V裝置例如圖2 A及3 B僅採用非金屬材料，例 15- 本紙馒尺度適用中國國家標準（CNS)A4規恪（210 x 297公釐 I---裝·-- 麵 * (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂* · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ___ί 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7___五、發明說明（13 ) 如氧化銦錫（ITO)，以作爲該光電伏打裝置之一電極。另 一電極傳統上係爲不透明金屬層，例如链、鋼、金、錫、 銀、鎂、鋰等，或其合金，基於功函數而選擇，如前述 Forrest等人之美國專利第5,703,436號（以下稱爲Forrest‘436) 所討論，以提及方式併入本發明，描述一種製造有機光電 ^發射裝置（TOLED :透明有機發光二極體）之技術，其藉著 沉積金屬薄膜而於有機ETL上沉積透明陰極，例如於有機 ETL上之Mg ·· Ag，之後於該Mg : Ag層上濺射沉積氧化銦 錫層。該於Mg : Ag層上錢射沉積有氧化銦錫層之陰極係 稱爲“複合ITO/Mg : Ag陰極”。該複合ITO/Mg : Ag陰極具 有高透光度及低電阻性質。 無機太陽能電池技藝中已知疊層多個光電伏打電池以產 生具有透明金屬層之無機多區域太陽能電池。例如，Frass 之美國專利第4,255,21 1號（以下稱爲“Frass‘211”）揭示一疊 層電池配置。然而，用以製造無機電子裝置之微影術一般 無法製造有機光電子裝置。微影術通常包括沉積金屬層及 無機半導體層，之後是附加之加罩幕及蚀刻的步驟。蝕刻 步驟包括使用強溶劑，其可溶解相當脆弱而適用於有機光 電伏打裝置之有機半導體材料。因此，有機光敏性光電裝 置製造技術一般避免此類液體蝕刻程序，該程序中所沉積 之材料係於沉積有機層之後被移除。而裝置層通常係使用 諸如蒸發或藏射之技術而依序沉積。電極出入口通常係於 沉積期間使用罩幕或乾式蝕刻而植入。此限制對需於疊層 之中間層中具有電極出入口之疊層有機光電子裝置之製造 -16- (請先閱讀背面之注意事項再β本頁) 裝 ->0· --综- 本纸張尺度適用中S S家標準（CNSM4規格（210 X 297公釐） 479373 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

五、發明說明（15) 、太陽能電池可視爲不施加偏壓之光電二極體。當光入射 於太陽能電池上時，内部電場產生光電流，而該電流驅動 供抽出％力使用之電阻負載。另一方面，光敏性檢測器可 視爲無外加偏壓或有限之外加偏壓下之二極體。當電磁輕 射=入射於具有偏壓之光敏性檢測器上時，電流由其黑暗 L ^成與光致載泥子數目成比例之値，而該增量可使用外 加電路測量。若光電二極體係於不施加偏壓下操作，則外 加私路可用以測足光致電壓，而達到光電檢測。雖然相同 ，電極、電荷輸送層及光導電性層之結構可交替地作爲太 陽能電池或作爲光敏性檢測器，但針對單一目的最佳化之 結構通常並非其他情況之最佳結構。例如，作爲太陽能電 池之光敏性光電子裝置係經設計，以儘可能將較多之有效 太陽光譜轉化成電能。因此，期望於整體可見光譜上之寬 幅光譜響應。另一方面，期望一光敏性檢測器，其於窄幅 光譜範圍或於可見光外之範圍具有光敏性響應。 有機PV裝置一般具有相對低量子產額（吸收於所產生之 載/瓦子對的光子或電磁輻射相對於電能轉化效率之比例） 爲1百分比或較低之大小。此結果部分係因爲特性光導電 性方法之二次性質，即載流子生成需要激子生成、擴散及 離子化，如前文所述。爲了增加此產額，期望可增進該量 子產額且因而增加電能轉化效率之材料及裝置結構。

Forrest Chem· Rev· 1997 及 Arbour，C·，Armstrong，n.R” Brina，R·，Collins，G·，Danziger，j,P·，Lee，P·，Nebesny， K.W·，Pankow，J·，Waite，S”“薄膜分子半導體材料之表面化 -18- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNSM4規格（210 X 297公釐） ----I I I I I----· I I (請先閱讀背面之注意事項再本頁) I . -丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 479373 A7 B7_ 五、發明說明（16 ) ---------------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再H本頁) 學及光電化學”，分子結晶及液晶，1990，183，307(以下 稱爲Arbour等人），以提及之方式完全併入本發明，揭示 類似形式交替薄型多層疊層物可用以使光致載流子收集效 率較使用單層結構者增加。此外，此等資料描述多量子畊 (MQW)結構，其中當薄層厚度變成與激子尺寸相當時，產 生量子尺寸效應。 發明、總結及目的 -丨線· 本發明有關一種採用透明電極之有機光敏性光電子裝 置，尤其是包括包含至少一對兩透明電極--即一透明陰極 及一透明陽極--之有機光敏性光電子構件，或於一基板頂 面上具有重疊關係之透明電極的裝置，有至少一光導電性 有機層置於該電極及該基板之間。詳言之，本發明之有機 光敏性光電子裝置可包括一透明陰極，即高透明度及/或 高效率。代表性具體實例中，該透明陰極可具有高透明 度、高效率及/或低電阻非金屬或金屬/非金屬複合陰極， 諸如共待審申請案08/964,863-以下稱爲Parthasarathy Appl.;863 及 09/054,707-以下稱爲 Parthasarathy Αρρ·‘707 或 Forrest’436所揭示，其各以提及方式完全併入本發明。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明有機光敏性光電子裝置可作爲太陽能電池、光敏 性檢測器或光電管。當本發明有機光敏性光電裝置作爲太 陽能電池時，該光導電性有機層中所使用之材料及其厚度 可經選擇，例如，以使該裝置之外量子效率最佳化。當本 發明有機光敏性光電裝置作爲光敏性檢測器或光電管時， 該光導電性有機層中所使用之材料及其厚度可經選擇，例 -19- 本纸張 <度適用中S國家標準（CNSM4規格（210 X 297公釐） 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（

™…靈敏度針對所需之光譜區域最大化。 母-種情況下，使用透明電極或甚至僅有—透明頂電極， 與當-或多個孩電極會因吸光及/或反射損失而致大量透 =度損失之情況比較之下，可於特定欲使用之光譜區域中 仔到較咼足外量子效率及/或光敏性。 除了可包括兩透明電極或—透明頂電極之有機光敏性光 笔裝置之外’本發明另外有關—種具有獨特之幾何及電 構（有機光敏性光電子裝置，其可使用具有透明電極之 層構件製造。有機光敏性光電子裝置尤其可爲一最層 置’包括多個彼此重疊於一基板表面上之子構件。= 子構件之材料及厚度可例如與選擇可包括#疊層光敏性 電子裝置中之子構件總數—起選擇，使該光敏性光電子 置之外量子效率最佳化。 就並聯之叠層光敏性光電子裝置而言，特別可調整個 子構件之厚度，以與該疊層裝置中之子構件總數結合， ,置之外量子效率可經最佳化，以得到高於單一構件之 量子效率。本發明所使用之“外量子效率，，意指光敏性光 子裝置可將入射輻射轉化成電能之效率，與“内量子效率 不同’其意指光敏性光電裝置可將所吸收之輕射轉化成 能之效率。使用此等辭彙，具有並聯結構之疊層光敏性 電子裝置可經設計以於特定環境輻射條件下達到接近最 内量子效率…個別子構件可於該環境條件下達到…之 子效率。 此項結果可藉著考慮數項可用於選擇薄層厚度之原則 結 疊 裝 別 光 裝 別 該 外 光 大 量 下 --------------装— (請先閱讀背面之注意事項再ml本頁) --線· 20- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ϋ n n 一 479373 A7

A7 B7 五 、發明說明（19 子之光電泥產生效率、及此等心 中之薄層厚度可經調整，以針對=二且係數’個別構件 .特定材料得到最大之内量子效率特條件，就該等 向具有相對較小値，而典型光導電子：擴散長度傾 具有相對較大値，故用以遠成Θ:材枓心電阻係數傾向 ==對薄之裝置。然而，該光== 光敏==Γ激子擴散長度大之値，故薄型最佳 先"*子子構件（可具有最大之内量子效率）傾向且有 相對較低之外量子效率， 、八 被該最佳子構件吸收f 有極小比率之入射輕射會 個別子構件之外量子效率，該光導電性有機層 4度可增加，以吸收多出許多之入射輻射。雖炊用以 額外吸收之輕射轉化成電能之内量子效率可隨著厚度增 超過其最子構件厚度而漸低，但子構件之外量子效率仍 高至達到特定厚度，而吸光不再增加將使外量子效率％ 加。因爲孩子構件之内量子效率傾向隨著光導電層厚度增 至大幅超越該*致激子擴散長度而急㉟降低，但該子= 之最大外量子效率可於該較厚子構件之厚度足以吸收實質 所有入射輻射之前達成。因此，可使用此種單一較厚子構 件達成足最大外量子效率不僅受限於子構件厚度可能遠 於用以達成之最大内量子效率所需者，該較厚子構件亦 未能吸收所有入射輻射。因此，因爲此兩效應，預期該 厚子構件之最大外量子效率遠低於具有最佳厚度之最佳 構件所能達到之最大内量子效率。 將 訂 增 線 大 仍 較 子 -22 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 五、發明說明（2〇 ) 本發明具有並聯結構之疊層有機光敏性光電子裝置之特 色是不採用犧牲内量子效率以藉著增加單_子構件厚度而 文。外量子效率之嚐試，而使用具有最佳或接近最佳厚度 <子構件，以達到最大内是子效率。包括於該疊層結構中 之最佳子構件總數可增加，以增加人㈣射之吸光度，該 總數係受限於外量子效率不再增加。此項用以改善外量子 效率之研究的淨結果是可製造—種#層有機光敏性光電子 使外量子效率接近個別最佳子構件所能達到之内量 子效率取大値。該疊層裝置經改善之外量子效率大部分可 歸因於該疊層裝置之子構件可包括透明電極對，於某些情 況下，亦包括透明頂電極。 考慮忒璺層裝置之附加子構件易導致附加損失，諸如这 y極之殘留反射性，完全最佳化之疊層裝置所能達成4 取大外量子效率-般稍低於最佳子構件之内量子效率。^ 然’使用本發明使有機光敏性光電子裝置之外量子效率; 佳化的方法，可使疊層裝置得到高於具有單一 ::得到者之外量子效率，該單-構件裝置係犧牲内 政率而使外量子效率最佳化。 ^爲期望本發明有機光敏性光電子裝置可使用於更廣泛 境無射條件，例如入射輕射強度及/或入射輕射之 靖分佈、光導電性有機材料、及其薄層 =環:::而最佳化。例如，該光導電二 擇之光譜區域中具有吸光最大値。因 馬使用於光敏性光電子構件之光導電性有機材料一般僅 A7 B7 發明說明（21 可於有限之光譜範圍内1女 # . e ^ /、有吸光最大値，故本發明另—項 =…層光敏性光電子裝置可包括不同類型之構件 具有吸光特性相異之光導兩 牛 用入射輻射之全光譜範圍。 也利 當“子構件”使用於下文φ去 芦之有媸朵鉍地丄十又中時，思指具有單層、雙層或多 層心有機先敏性光電子結構。告 夕 性光電子裝冒日I - i ' 構件早獨使用爲光敏 士找’ ^寺—般包括完整之電極組，即正及負。乂 本發明所揭示，於某此晶麻 一如 用-即分用--電極咬結Γ，相鄰子構件可使用 構件無法分用共用電：輸二^於声其他:青：下I· “予構件，，係涵蓋子單元結構，= 層子單本元 不同之電極，或與相鄭子登—v 疋。“有自 ^ m ., ^ F子早^为用電極或電荷輸送層。 么月所使用之“構件，，、“子構件,，、“單元”、 “區域，，及“子區域，，可互施诂m 子早兀 ^ ^ 互換使用，意指光導電層或導兩展 “叠層，，、“多區域:，:?二本！明所使用之“疊層物” ^ ,τ ^ t义及夕構件，，意指具有多層由一或多 輸运層分隔之光導電性材料層的任何光電子 因馬該太陽能電池之疊層子構件可 、， 造，以於分隔該子# 用d沉積技術 裝置中之各子構件可製造外加電連接點，故 、 並*或串勝，視該太陽能命％仏太 (電能及/或電壓最否要最大 。 此包池所屋 電池所能改善之外量子效率疋 A明疊層太陽 之子構件可並f w /率㈣相叠層太陽能電池 4因爲並聯之電結構可得到實質高於爭聯 共 子 示之 身 本 訂 線 裝 製 該 生 月匕 _ ·24· A7 Β7

發明說明 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

構件〈充填因數。相信該疊層子 發明之另一項特點。 構件（並驷μ構係爲本 雖然光導電性有機材料之* 之子ϋ:株e 又阿串&電阻妨礙具有串聯結横 Π:於：電能應用中之使用，但特別可應用於需要: 同電壓但僅使用較低之雷、、云 而要季义 、、p , , , , b及口此較低之電能標準之情 况，例如操作液晶顯示器（L ^ 串聯太陽能電池適於提供液曰二攻此類應用而言’疊層 .ΡΠΓ ^ 杈供'夜日日頒不器所需之電壓。於此帽 況下，當太陽能電池包括串聯、h ^ ™ . P <卞構件以產生較高電廖之 裝置時，可製造該疊層太 + π ㈢亢％此电池，以使各個子構件且有 同，電流，而降低無效性。例如，若入射輕射僅單 :通：’則該疊層子構件具有漸增之厚度，而大 :入：射下之最外層子構件最薄。或若該子構件係重疊 虑:反射性表面上，該個別子構件之厚度可經調整，以考 慮由原始及反射方向入射於各子構件之結合輕射總量。 #用^t個可產生數種不同電壓之直流電能。就此 ::’中？層電極之外接點具有極大用途，相信先前 並未揭tjt過。是故，卩公了可 0 ‘、了了棱（、於正組子構件兩端產生之 之！，本發明疊層太陽能電池亦可藉著分接來自 ^ 4組之選擇電壓，而用以自單-電源提供多重 電壓。 、本發明可針對製造光敏性光電子裝£之方法而進一步描 述:包括於基板上製造第一光敏性光電子子構件，以形成 可產製特定外量子效率之光敏性光電子構件，於該第一光 敏性光電子子構件之頂面上形成重4之第：光敏性光電子 25- 本紙張尺度顧中關家鮮（CNS)A4規格⑽χ挪公髮)

h/vj /3 A7

:件’以形成疊層光敏性光電子裝置，而增加該光敏姓 、-子構件之外量子效能，其中該疊層光敏性光電子構科 <至少一子構件係包括一對透明電極。 本發明可針對製造串聯疊層有機光敏性光電子裝罾之、 ::::步描述，包括於一基板上製造第一有機光：性= : 件，以形成可產生特定電壓之有機光敏性光電亏 f置二於該第-有機光敏性光電子子構件之頂面上製造重 光敏性光電子子構件’以形成疊層有機光每 曰％予裝置，而增加該有機光敏性光電子裝置之電壓溶 二疊層有機光敏性光電子構件之子構件包括-到 4層’而孩第一子構件及該第二子構件係串聯。 發明可針對製造並聯疊層有機光敏性光電子裝置之方 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 社 印 製 電=構Γ述，包括於一基板上製造第一有機光敏性光 光•子2 ’以形成可產生特定外量子效率之有機光敏性 於該第—有機光敏性光電子子構件之頂面上 機光敏^力―有機光敏性光電子子構件，以形成疊層有 電子裝置：而增加該有機光敏性光電子裝置之 本發二r ’其中该矛一子構件及該第二子構件係並聯。 置而i I針對—種混合電結構疊層有機光敏性光電子裝 :而二步描述，包括一基板，具有一鄰接表面及遠端表 件皆4二有機光敏性光電子子構件之次組件，每-子構 :二；：陰極及陽極，陰極及陽極各係爲-電極層或-電 :輸：：，該等子構件彼此且與該基板之遠端表面重疊， 母一子構件次組件皆包括多個並聯之子構件或多個串聯之 -26 x 297公釐）

4/9373 A7

-----^---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再ml本頁) 子構件，其中該次組件係彼此串聯或並聯，使得該裝置包 括串聯及並聯之子構件，使得該裝置可產生高於使用相同 ^料而完全並聯配置之電壓，及高於用以產生相同垂直而 元全爲串聯配置之外量子效率。 本發明可另外針對製造混合電結構疊層有機光敏性光電 2裝置之方法而描述：於一基板上製造第一有機光敏性光 電子子構件，以形成一有機光敏性光電子裝置；於該第一 有機光敏性光電子子構件頂面上重疊製造第二有機光敏性 光電子子構件，以形成第一疊層有機光敏性光電子次組 件，包括串聯之第一及第二子構件；於該第二有機光敏性 光電子子構件頂面上製造重疊關係之第三有機光敏性光電 子子構件；及於該第三有機光敏性光電子子構件頂面上重 疊製造第四有機光敏性光電子子構件，以形成第二疊層有 機光敏性光電子次組件，包括串聯之第三及第四子構件， --線· 其中該第一疊層有機光敏性光電子次組件及該第二疊層有 機光敏性光電子次組件係並聯。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印一取 代表性實例亦可包括透明之電荷輸送層。如本發明所描 述，電荷輸送層與ETL及HTL相異之處係爲電荷輸送層經 常--非必要…係無機，而通常係經選擇成非光導電活性。 即，該電極及電荷輸送層以不吸收用以將電或化學形式之 能量之電磁輻射爲佳。因此，本發明中透明低反射性電極 及電荷輸运層通常較佳。此外，該電極及電荷輸送層電子 性質極爲重要。於特定裝置結構中，一或多個電極或電荷 輸送層可具電子活性。例如，如前文所述，電極或電荷輸 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 479373 A7 B7 五、發明說明（25 送層可提供用以離解或重組激子之界面區域，或並可提供 整流界面。料他裝置結構中，期望該電極或電荷輸送廣 具有最小之電子活性，而非主要用以作爲將光致電流輸送 至外加電路或多區域裝置之相鄰子區域之低電阻裝置。而 且’於PV裝置中，高觸點或電荷輸送層電阻於許多應用 係爲決定因子’因爲增高之串聯電阻限制電能輸出。 本發明較佳具體實例包括高透明性、非金屬、低電阻陰 極--諸如Parthasarathy Αρρ1·‘707所揭示_或高效率低電 阻金屬/非金屬複合陰極·.諸iDFOrrest，436所揭示，以作 該光電子裝置之-或多個透明電極。每一類陰極皆以於 爲 包 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 括諸如沉積氧化銦錫層於有機材料諸如銅酞菁 PTCDA及PTCB1上之步驟的製造方q :透明性、非金屬、低電阻陰極，或於Mg，薄層上少 成鬲效率、低電阻金屬/非金屬人 、，屬複 a 陰極。Parthasarathy 八口？1.‘707揭示上層已沉積有_右撼〆 貝’有機層又氧化錮錫層…而 上層已 >几積氣化铜锡層之右避；爲么 、、 q <啕機層鹆法作爲有效之陰極。 總而T之，本發明之目的佴护彳 _ „ . 7保才疋供一種具有兩透明電極 有機光敏性光電子裝置。 詳言之’本發明之—周的係提供—種疊層太陽能電池 G括一或多個包括兩透明電極之子構件。 本發明另一目的係提供_絲田 疋仏種璺層太陽能電池，可於高 量子效率下操作。 本發明另一特定目的係楹 说田„ 、 你供一種璺層太陽能電池，，可 一個接近最佳p V子構件々导 B <瑕大内I子效率的外量子效 成 形 非 之 外 於 率 I. 線- -28 Μ氏張尺㈣财關家鮮 x 297公釐） 479373 A7 五、發明說明（26 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 下操作。 本發明另一目的係提供一種疊層太陽能電池，可於較 一子構件所提供者高之電壓下操作。 本發明另一目的係提供一種有機光敏性 括多個量子啩結構。 -予裝置’包 本發明另一目的係提供一種疊層有機光敏性光電子裝 置’包括多個有機光敏性光電子子構件，該子構件二 加電連接。 〃 本發明另一目的係提供一種有機光敏性光電子裝置， 具有改善之入射輻射吸光度，以更有效地進行 之光致生成。 我b 本發明另一目的係提供一種有機光敏性光電子裝置， 具有改良之及改良之丨％。 本發明另一目的係提供一種疊層有機光敏性光電子 置’該子構件係具有並聯之電互聯。 本發明另一目的係提供一種疊層有機光敏性光電子 f ’包括多個有機光電伏打子構件，纟具有透明電極及貝 質反射性之底層’以藉著補集由該底層所反射之電磁輕射 而增加電磁輻射之總吸光度。 本各月另一目的係提供一種有機光敏性光電子裝置， 括一導電性或絕緣性基板。 本發月另 目的係提供一種有機光敏性光電子裝置， 括一剛性或一撓性基板。 本發月另一目的係提供一種有機光敏性光電子裝置， 其 子 其 裝 裝 實 包 包 其 I*---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) · •線. -29 A7 ^^----------- 五、發明說明（27 ) 中所使用之有機材料係爲聚合物或非聚合物薄膜。 簡單説明 本發明（前述及其他特色可由以下例示具體實例之詳細 撝述及附圖而更輕易地明瞭。爲簡便計，所有裝置説明皆 相對於寬度誇大高度尺寸。 圖1係説明有機材料中光導電性之簡易先前技藝模型。 圖2A、2B、2C及2 D係圖示先前技藝有機光電伏打裝 置。 圖3係圖示有機光敏性光電子裝置，其具有透明非金屬 電極及單一有機層。 圖4A及4B係圖示有機光敏性光電子裝置，其具有透明 電極及兩層有機層。 圖5係説明同型雙層界面之能階。 圖6係圖示有機光敏性光電子裝置，具有透明非金屬電 極及多於兩層有機層。 圖7係圖示一疊層有機光敏性光電子裝置配置，其中每 一子單元皆具有一有機層。 圖8A、8B、8C及8D係圖示疊層有機光敏性光電子裝置 配置，其中每一子單元分具有兩有機層。 圖9係圖示一疊層有機光敏性光電子裝置配置，其中每 一早元皆具有多於兩層有機層。 圖10A及10B係圖示有機光敏性光電子裝置，採用多疊層 光導電層。 圖11A及11B係圖示有機光敏性裝置，採用反射層。 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----^------------ (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 一5JI . -丨線 經濟部智慧財產.局員工消費合作社印製 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明說明（28 ) 圖1 2係更寫實地説明一製造後之疊層光敏性光電子裝 置，具有並聯之子單元。 . 詳述 於本發明例示具體實例中，如圖3所示，裝置結構300係 沉積於一絕緣基板301上。第一電極302係透明，而包括例 如藉習用技術沉積或有效地預先沉積於市售基板上之氧化 銦錫，厚度約略1000-4000埃，以小於2000埃爲佳，而約 1000埃更佳。薄層3 03係爲單一有機光導體，例如CuPc或 PTCDA或PTCBI，藉有機分子束沉積（OMBD)沉積，薄層厚 度爲300-1000埃，以約500埃爲佳。第二電極304係透明， 例如藉濺射沉積之氧化銦錫，厚度約爲1000-4000埃，以 小於2000埃爲佳，而約1000埃最佳。由先前技藝已知該對 稱性單層裝置結構不產生淨光電流。然而，相信在氧化銦 錫第二電極304沉積期間所產生之有機光導體層303與第二 電極304間之界面上，必要之不對稱性由有機光導體層303 中電子表面狀態提高。損壞區域圖示爲區域303a。用以使 位於界面上之改變區域產生不對稱電荷分離區域之實際機 制並未完全明瞭。在不將本發明限制於特理論之下，能量 電極沉積諸如濺射之效果，足以大幅改變界面上之能量狀 態，而改變相反鏡像Schottky電池之習用圖像。 Parthasarathy Appl.‘707揭示該表面狀態…可能具有缺陷--可有效地提供小能“階”，使得電子可更輕易地跨越例如 Schottky障壁。一種單層裝置操作理論是於有機層303上沉 積電極304，產生一低電阻觸點，此時稱爲陰極。相信此 -31 - (請先閱讀背面之注意事項再 本頁) 裝 •綉· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 479373 A7 B7_ 五、發明說明（29 ) 情況所形成之不對稱性會產生淨光電流。 具有兩層有機層之有機光敏性光電子裝置或雙層裝置 • 400之例示具體實例係圖示於圖4 A及4B中。基板401提供 第一電極402使用之載體，該電極包括約1000-4000埃厚度 之氧化姻錫，以小於2 0 0 0埃爲佳，而約10 0 0埃最佳。第一 有機層403與第一電極402相鄰，包括例如PTCDA或 PTCBI。第二有機層404包括例如CuPc，與第一有機層403 相鄰，以形成該光電伏打異接面。最後，於圖4 A中之 4A00中，第二電極4A05包括約1000-4000埃厚之氧化錮 錫，以小於2000埃爲佳，而約1000埃最佳，沉積於第二有 機層404上。於圖4B中之備擇具體實例4B00中，第二電極 係爲金屬/非金屬複合電極，包括半透明金屬層4B05，頂 層係爲氧化銦錫層4B06。半透明金屬層4B05較佳於9 0百 分比Mg中包含10百分比Ag，或其他低功函數金屬或金屬 合金。4B05層相當薄，以小於100埃厚度爲佳。氧化銦錫 層4B06係約1000-4000埃，以小於2000埃爲佳，而約1000 埃厚度最佳。兩有機層係約300-1000埃厚度，以約500埃厚 度爲佳。第一有機層403/第二有機層404界面上所形成之接 面係位於電磁輻射下，界面附近所形成之激子經離解以形 成自由電子-電洞對。光致電洞係集中於第一電極402上， 而光致電子係集中於第二電極405上。 具體實例4A00收納有Parthasarathy Appl.‘707所揭示之低 電阻金屬取代物陰極。已發現與其中電子由陰極移入相鄰 有機半導體中之ParthasarathyAppl.WO?之OLED相反地，有 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----.------------ (請先閱讀背面之注意事項再ml本頁) 訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 479373 A7 B7_ 五、發明說明（3Q ) •---------------- - - (請先閱讀背面之注意事項再H本頁) -丨線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 機光敏性光電子雙層裝置400顯示光敏性光電子裝置之一 具體實例。是故，該光導電性有機材料之厚度係調整至光 •敏性光電子裝置所需，操作期間，電子由第二有機層404 流入第二電極4A05中。在不限於特定理論之下，熟習此技 藝者一般相信當使用該材料作爲陰極時，金屬取代物電極 例如氧化銦錫會對兩向電子流產生障壁，即進入及離開該 裝置方向。本發明中氧化銦錫陰極之低電阻操作證明 Parthasarathy Αρρ1·‘707所提出之表面狀態，於根據 Parthasarathy Appl.‘707之本發明製造之氧化钢錫陰極之任 一方向上降低對電子流動之障壁。雖然第一有機層403及 第二有機層404於某些情況下可交換，而仍得到僅有極絨 相反之操作裝置，但此等使用金屬取代物電極作爲底陰極 之具體實例，因爲裝置效率較低而仍較不利。相信當有機 薄膜沉積於該氧化錮踢層上時，仍未產生可於氧化銦錫陰 極上有效地降低障壁之表面狀態。因此，“低電阻金屬取 代物陰極”於本發明中係意指金屬取代物例如氧化銦錫， 將金屬取代物例如氧化錮錫濺射沉積於一有機層上而製 備，尤其是與將有機層沉積於一金屬取代物例如氧化銦錫 上所製備之電極不同。本發明相信表面狀態之障壁降低效 應亦可使電洞移動，否則有機半導體層及電極或電荷輸送 層間之界面係爲一阻隔接面。 具體實例4Β00採用一透明金屬/非金屬複合陰極，包括 4Β05及4Β06層。此時，就特別適於作爲太陽能電池之具體 實例而言，於操作期間，403/404界面所生成之電子向 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 73 3 9 7 A7 _B7_ 五、發明說明（31 ) 4B05層移動，通經4B06層而抽出。尤其，當氧化銦錫濺射 沉積於特定厚度之Mg : Ag上時，Mg : Ag/ITO金屬/非金屬 .複合陰極之透明性高於厚度與該複合電極之金屬部分的特 定厚度相同之非複合金屬層。此外，該複合透明複合層可 具有較低電阻高透明性非金屬陰極優越之電子性質。因 此，雖然該金屬/非金屬複合電極之透光度一般未與該高 透明性低電阻金屬取代物陰極同高，但該透光度（與該優 越之電子性質）仍足以使該金屬/非金屬陰極使用於本發明 光敏性光電子裝置。

於該雙層構件中，電荷分離係於有機異接面附近發生， 其固有電位係由接觸材料間之HOMO-LUMO能隙能量差決 定，此情況下係爲第一有機層403及第二有機層404。圖5 係説明同型異接面之例示材料的相對HOMO-LUMO能隙， 例如CuPc/PTCDA。費米能量£1：與1101^〇能帶之接近顯示示 所有此等材料皆具有作爲主要載流子之電洞。HOMO誤差 係等於兩接觸材料之離子化電位（IP)之差値，而LUMO誤 差係等於HOMO誤差加兩材料之HOMO-LUMO能隙能量差 (EH_J。裝置之極性通常係由HOMO-LUMO能量差決定。例 如，於圖5中，因爲PTCDA第一有機層403之LUMO之能量 高於CuPc第二有機層404，故由激子釋出之電子將自 PTCDA 403向CuPc 404移動，而導致光電流。吸收可發生 於兩有機膜中之任一者，以延伸光活性區域之寬度，該區 域中之光學吸收可藉著固有電場而導致有效之電荷分離。 値得注意的是採用“p-n”型接面或簡單之同型（即p-P或n-N -34 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再Hi本頁) 裝 丨線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 73 3 9 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 A7 _B7_ 五、發明說明（32 ) 型）異接面並不嚴格，因爲僅有在該異接面上因HOMO-LUMO能隙誤差所致之擴散電位可產生載流子漂移。 於該雙層構件中，該有機材料/電極接面之任何整流效 應皆遠低於該雙層異接面。此外，因爲損壞層（當例如氧 化銦錫沉積於一有機材料上時所產生）對於激子之離子化 化極爲重要，故該損壞可使用低功率濺射技術控制，如 Parthasarathy Appl.‘ 863所述。相信控制此損壞區域可確認 激子離子化及載流子分離主要係發生於有機/有機雙層異 接面。 具有多有機層之有機光敏性光電子構件或多層裝置600 之例示具體實例係顯示於圖6中。絕緣或導電性基板60 1支 撑該裝置。第一電極602包括例如約1000-4000埃厚度之氧 化銦錫，以小於2000埃爲佳，而約1000埃最佳，與第一有 機層603相鄰，其包括例如PTCDA、PTCBI或CuPc，厚度約 20-50埃。第二有機層604包括例如4,4’-雙[N-(l-莕基）-N-苯基-胺基]聯苯〇 -NPD)，約200-500埃厚，而與第一有 機層603相鄰。第三有機層605包括例如三（8 -羥基喹 啉）（Alq3)，約200-500埃厚，與第二有機層604相鄰，於該 第二有機層604/第三有機層605界面上形成整流異接面。包 括例如CuPc、PTCBI或PTCDA而約20-50埃厚之第四有機層 606係與第三有機層605相鄰。最後，第二有機電極607係 與該第三有機層605相鄰，而包括例如約1000-4000埃厚之 氧化銦錫，以小於2000埃爲佳，而約1000埃最佳。於此具 體實例中，於兩種其他有機材料（此時爲第一有機層602及 -35- (請先閱讀背面之注意· 本頁) 裝 訂· -丨線- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 73 3 9 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7_五、發明說明（33 ) 第四有機層606)之“層狀結構”内放置額外對有機材料（此 時爲第二有機層604及第三有機層605)，其經選擇以具有 •適於激子離子化及電荷分離之相對移動性及HOMO-LUMO 誤差。此情況下，“内”對有機材料604及605提供激子離子 化及電荷分離，而“外”對603及606同時作爲電荷輸送層， 即將所分離之載流子輸送至適當之電極以進行實質歐姆抽 出，且作爲保護罩層，即保護該内對有機層，以於沉積及 使用期間防止損壞。外對有機材料可來自CuPc、PTCDA及 PTCBI，或任何兩種此等材料。即，兩觸點可使用相同材 料或其任何組合物。然而，於具體實例600中，内對層604 及605以沉積成該陰極側面位於頂面，以收納低電阻陰極 爲佳。然而，如同圖4 A之例示具體實例，内對有機材料 之沉積次序於電子上不嚴格唯内對次序決定該光敏性光電 子設之極性。因爲外對有機層相當薄，故其電子性質大幅 低於前述雙層例示具體實例，其中除輸送所分離之載流子 之夕卜，CuPc、PTCDA及PTCBI亦進行光轉化及激子離子 化。是故，本發明於多層裝置中之另一具體實例（未示）包 括位於底部之陰極。内對有機材料可各爲經選擇以於所需 之光譜範圍内具有光敏性之有機染料。因爲Alq3/ a -NPD 對於紫外線（UV)部分光譜係爲光敏性，故具有此種有機對 組合物之多層裝置600係爲紫外線光敏性檢測器之特定具 體實例。此外，該染料對以經選擇以具有前述LUMO-HOMO能隙誤差爲佳。於另一具體實例（未示）中，該外對 有機層中之一或兩層係由約50-1 50埃之Mg : Ag合金薄層所 -36- (請先閱讀背面之注 意事項再本頁： 裝 -線- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 479373 A7 B7 五、發明說明（34 置換，作爲電荷輸送、抽出、及保護罩層。 本發明另一具體實例顯示於圖7，表示一疊層單一有機 層（單層）光敏性光電子配置7〇〇，其中個別單層子構件係 並聯。絕緣或導電性基板7〇1供作疊層光敏性光電子裝置 使用之載體。所示之疊層物係由藉著透明絕緣層分隔之= 個完全單層光敏性光電子子構件所組成。詳言之，每個; 構件自具有第一透明電極例如氧化錮錫、7〇h、及 7〇2c。每個第一氧化銦錫電極之頂層皆有有機層7〇3&、 7〇3b及703c。每個有機層頂層皆爲第二氧化銦錫電極 a、704b及704c。因爲產生裝置不對稱性之損壞層始終 顯π於氧化錮錫沉積於一有機材料上之界面上，故所有裝 置皆具有與材料沉積方向相同之電子極性。即，該子構件 原本即沉積成串聯結構。該串聯結構可使用於前述低功 應用。而且，根據本發明，可於中間電極進行外部連接 以由包括疊層單層子構件之單_裝置產生多重電壓 具體貫例中未説明）。然而，就前述串聯電阻及空間電 效應而言，並聯配置較有利於高功率應用。意指該子 可能並非如同下文所討論之雙層疊層物般地分用共用氧化 銦錫電極。因此’於圖7所^之具體實例中，透明絕緣層 705a及705b係用以分隔該相鄰子構件。此使所有第—氧曰 銦錫電極702a、702b及702(：皆連接於共用電路徑。2 地，所有第二氧化銦錫電極7〇4a、7〇仆及7〇乜皆連接於 共用電路徑。已知該疊層物可持續以包括數個子構件、 層單層裝置可根據本發明所揭示之規則最佳化，例如使 i 率 此 荷 線 化 同 疊 總 •37 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱 479373 A7 B7 五、發明說明（35 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 電壓、量子效率或功率最大化。超過實質吸收所有入射光 之厚度的疊層物無法進一步增加轉化效率。 圖8 A及8B顯示兩個例示具體實例8A00及8B00。具體實 例8A00包括數個雙層光敏性光電子裝置，其配置係使其極 性以疊層物中位置之函數而交替。絕緣或導電性基板80 1 提供載體。薄層802 a、802b及802c係爲光敏性光電子子構 件第一透明電極，包括例如氧化銦錫。其亦可爲某些其他 透明氧化物或金屬。薄層803a、803b、803c及803d係爲光 敏性光電子子構件第一有機層，包括例如CuPc。薄層 804a、804b、804c及804d係爲光敏性光電子子構件第二有 機層，包括例如PTCDA或PTCBI。薄層805a及805b係爲光 敏性光電子子構件第二透明電極，包括例如氧化銦錫。薄 層厚度範圍與前文針對圖4 A所述之個別雙層子構件者相 同。因爲該子構件係背對背地沉積，故所有位於該疊層物 内部之電極（即802b及805a及805b)皆爲兩個不同子構件之 觸點，而整體疊層配置皆係並聯。本發明所使用之“背對 背”係表示相鄰子構件具有平行反向之極性。已知該疊層 物可持續包括任意數之子構件，以增加光電流。然而，超 過實質吸收所有入射光之厚度的疊層物無法進一步增加轉 化效率。而且，最初沉積之有機層的選擇不嚴格，唯其確 實決定特定疊層裝置之疊層次序。 於另一個具有數個背對背子構件之疊層裝置例示具體實 例8B00中，增加電極層802a、802b及802c，如此時所述。 爲了利用金屬薄層與氧化銦錫層結合之優點，使用本發明 -38- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 請 先 閱 讀 背 之 注 意 事 項 # 裝 訂 線 479373 A7 五、發明說明（36 ) %爲金屬/非金屬複合電極者，於數處附加半透明金屬薄 層例如Mg ·· Ag。金屬層8B06與氧化銦錫層8〇2a相鄰:全屬 .層8B07及8B08係與氧化銦錫層8〇21?相鄰。金屬層吒〇9與氧 化銦錫層802c相鄰。 … 已知於疊層雙層裝置8A00之電子背對背結構中，該子構 件陰極係交替地位於個別子構件頂層，以自底部往二構建 該疊層物。此意爲並非所有子構件皆具有本發明稱爲低電 阻非金屬陰極者。於另一具體實例（未示）中，該子構件可 沉積有機層，不使用前文所述之交替次序，而如單層裝詈 般地使用於個別子構件間附加透明電極層及絕緣層曰之= 式。、於此具體實例中，該子構件可與外部並聯，亦具有始 終位於頂層之陰極，以利用低電阻非金屬陰極。 於其他具體實例中，雙層疊層裝置可爲子構件串聯之結 構，而不改變兩有機層之順序。根據本發明，該裝置可於 子構件間具有外部進接，或可藉著電荷輸送層而子構件互 連，並與外部電路分隔。圖8C説明具有中間電極之串聯 裝置8C00。於各個子構件中，薄層8〇3a、8〇3b、8〇3c、 803d係配置於薄層8〇4a、嶋、8〇4c及购之頂層。意指 各個子構件白配置成具有位於htl例如p丁〔Μ或p 丁頂 ' 例如CUPC，使得各個子構件皆具有位於頂層之 陰極。此意指此具體實例係配置以利用低電阻非金屬陰 ^。裝置8C00提供多個正電壓& n，其中n係爲子構件 圖8 C：表不n - 4之情況。亦發現每個有效電壓v皆 爲來自所有較小編號之構件的電壓和。於另—個裝置謂

'——*|---------裝 (請先閱讀背面之注意事項再本頁} [ -39- 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_ 五、發明說明（37 ) 之變化具體實例（未示）中，金屬/非金屬複合陰極係藉著 夾置半透明金屬薄層例如於90百分比Mg中之10百分比 • Ag或其他低功金屬或金屬合金。此等金屬層--厚度約1〇〇 埃或更薄_ -係位於金屬取代物例如氧化銦錫層805a、 802b、805b及802c之下層且與其相鄰，以形成供各個子構 件使用之金屬/非金屬複合陰極。於另一具體實例（未示） 中，薄層804a、804b、804c及804d係配置於薄層803a、 803b、803c、80d上，使得該子構件頂層上具有陽極，而電 壓VLi因而具有相反極性。圖8D係表示與裝置8C00相同之 串聯裝置8D00，但子單元與約1000-4000埃厚度之氧化銦 錫電荷輸送層8D10、8D11及8D12互連，以小於2000埃爲 佳，約1000埃最佳。另一具體實例（未示）中，有機半導體 層係相反，而得到具有整體相反電子極性之裝置。另一具 體實例係爲裝置8D00之變化（未示），其中半透明金屬薄層 例如於9 0百分比M g中之1 0百分比A g係位於薄層8D 10、 8D11及8D12之底層而與之相鄰，以形成金屬/非金屬複合 電荷輸送層，及薄層802c底層且與之相鄰，以形成金屬/ 非金屬複合陰極。 圖9中，疊層有機光敏性光電子裝置之例示具體實例900 包括數個多層有機光電伏打子構件。絕緣或導電性基板 901係提供載體。光電伏刺子構件第一透明電極902a、902b 及902c包括例如氧化銦錫。光敏性光電子子構件第一有機 層 903a 、 903b 、 903c 及 903d 包括{列：¾口 CuPc 或 PTCDA 或 PTCBI。光敏性光電子子構件第二有機層904a、904b、 -40- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） _________________ (請先閱讀背面之注意事項本頁) . 丨線· 73 3 9 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _B7_五、發明說明（38 ) 904c及904d包括例如a -NPD。光敏性光電子子構件第三有 機層905a、905b、905c、及905d包括例如Alq3。光敏性光電 •子子構件第四有機層906a、906b、906c及906d包括例如 CuPc或PTCDA或PTCBI。光敏性光電子子構件第二透明電 極907a及907b包括例如氧化銦錫。此例示具體實例子各個 子構件之尺寸係與圖6具體實例所示範圍相同，但係根據 本發明其他情況所揭示之標準而最佳化。所有第一透明電 極902a、902b及902c係並聯，而所有第二透明電極皆係並 聯，以提供增高之光電流。此時，該疊層物持續包括任意 數目之子構件。然而，超過實質吸收所有入射光之厚度的 疊層物無法進一步增加轉化效率。如同圖6例示具體實例 中内對子構件之次序不重要的情況一般，此時該次序亦不 重要，除非該對次序需於子構件間交替，以使内透明電極 作爲供相鄰構件使用之共用觸點。因此，第一内對有機層 之次序將決定其餘疊層物於此並聯具體實例中之次序。 本發明另一具體實例（未示）係爲具體實例900之變化， 具有由透明絕緣層諸如約500-4000埃厚度之Si〇2*隔之子 構件，以小於3000埃爲佳，而約2000埃最佳，與前述單層 及雙層疊層設相同地需要附加之透明電極層。若Alq3及α -NPD層之配置係使Alqyi於頂層，則該子構件之取向皆係 陰極位於頂層，以利用低電阻陰極諸如Parthasarathy Appl.‘707所揭示。於疊層物中絕緣之子構件可根據本發明 以並聯或串聯方式連接於外部，如同雙層子構件所述。 於具體實例900之另一變化中，本發明具有一疊層結 -41 - (請先閱讀背面之注意事項再 本頁) 裝 . ;線· 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 479373 A7 B7 五、發明說明（39 ) 丄：中子構件係串聯，即具有校準之極性’但未以絕緣 "隔。於一具體實例(未示)中’該多層構件係藉電極層 ^連’以自單-裝置取得多個電壓’如同具體實例8c〇〇。 j:-變化(未示)中，相鄰之多層子構件係藉電荷輸送層 互連，與具體實例_〇相同方式。本發明所述之 :00所有變化(未示)中，皆可使用金屬/非金屬複：陰極諸 口 Parthasarathy APP1.‘436所揭示者取代高透明性低電阻 =屬陰極。此情況下，可視需要省略各子構件之第四有 機層 906a、906b、906c及 / 或 906 d。 於另一具體實例（未示）中，該子構件中之-或兩外對有 ，層係由作爲電荷輸送、抽出、及保護罩層而約5〇_150埃 厚之Mg ·· Ag合金薄層所置換。 已知於所有前述疊層裝置例如單層、雙層、及多 中’任何特定裝置之所有子構件的厚度抻係均勾，； 子構件或子單元皆實質相同。尤其，進行光轉化之光導 性有機層（厚度於各子單元中實質相同。然而 光 性層吸收電磁輕射’故到達一疊層裝置之—侧面例= 上（相射的強度隨著純射進人該裝置愈深 各ς 件或子構件所生成之電壓通常係爲特定固二：構 例如分佈於形成異接面之個別材料中的能階，尤並 所述之H〇M〇-L_能隙。然而，構件或子= 之電流係視到達該特定構件或子構件之電㈣射量 於包括多個具有均勻厚度之子構件而曝 環境電磁輻射之叠層裝置中，遠離該疊屉装晋;自单向 項 貪 置 訂 線 文 生 之 面 -42- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇了^7公爱 479373 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（4〇 ) 之子構件所產生的電流於該構件中隨著遠離該面而遞減。 於並聯（疊層裝置中，例如具體實例8A〇〇及_，此並非 王要缺點，因爲電流係於外部結合，以提供等於來自所有 子構件之和，錢則由該子構件之固有均勾電壓固定。於 該並聯裝置中’各子構件之總能輸出可因特定子構件之限 制而在不導致任何無效性的情況下抽出。當期望得到且有 相同電流容量之多重輸出時，裝置可如下構成。 〃 另-方面’各子構件中之不同電流限制可爲串聯疊層裝 置操作中之重要因素。於串聯之疊層裝置諸如具體實例 麵中，基波電流持續性之考慮限制了裝置電流輸出，'使 其受限於通過該子構件而產生最小電流之電流，而盘子構 件於該疊層物中之相對位置無關。爲解決此項問題，本發 明其他具體實例採用具有光導電性有機層之子構件，並厚 度係於子構件間整體性地變化。例如，於具體實例咖： 變化中’若由該裝置之頂層開始測量，則光導電性有機 厚度改變，使得各子構件具有指數性較厚之光導電性有 層。此種具體實例8D00之最小變化最適於電磁輻射來源 制於該裝置之-側面的情況，此時係爲頂層，即最遠離該 基板者。於另-變化中，該光導電性有機層可由底層子構 件指數性地變厚。此具體實例適於電磁％射來源係位於裝 置基板（此基板爲透明）側面之情況。就其中適當相等強度 之電磁輻射光入射於一裝置之兩面上的均勻性而言，具體 實例8D00之另一變化可能有效。若電磁輻射具^充 度，以使個面上之足量輻射通過該裝置，則8]〇〇〇之具體實 43 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---— II----I------ (請先閱讀背面之注意事項本頁) .. 機 --線· 479373 A7 B7 五、發明說明（41 例變化（其中該子構件中心之光導電性有機層較該子構件 中接近兩面之薄層厚）可由各構件提供均勻之電流値。 « ^----：---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再n本頁) 使用產生多個個別可存取電壓之串聯疊層裝置例如8C00 之情況稍微複雜。於該裝置中，通過該裝置中之不同子構 件的電泥可能相異，因爲各種内部電極之多個外部連接容 許多個電流通道，故任何特定子構件之低電流產率係視負 載動力學而定。 ，於本發明另一具體實例中，使用多層有機光敏性材料以 增進裝置靈敏度。於一具體實例中，本發明有機光敏性光 電子裝置收納多層光導體層，以增進激子離解。尤其相信 材料存有數個已充分界足之界面，提供更寬廣之激子離解 區域。複合層抻具有與前述裝置原則相同之厚度或下述較 薄之層。 丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於另一具體實例中，本發明有機光敏性光電子裝置收納 多個量子畊（MQW)。相信MQW改變激子能階分佈，與具 有相同材料及較厚光敏性層（不具有量子尺寸效應）之裝置 比較之下，特別於含MQW裝置之光譜靈敏度中產生可能 之改變。而且，相信激子能階之改變可增進激子離解。相 信此等具有多光敏性層（包括MQW結構）之具體實例增加光 敏性，但可能無法持續地使用，因爲其可因電荷於該層中 被補集而迅速飽和。因此，於例示用途中，本發明收納有 MQW之有機光敏性光電子裝置可作爲具有例如液晶快門 機制之中間光敏性檢測器，於短間隔下定期地攔截光線， 使所補集之境％耗損。該結構可使用純被動負載操作，如 -44 - 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 73 3 9 7 A7 _B7_ 五、發明說明（42 ) 圖10A及10B所示。然而，此等多層結構在施加偏壓下操作 時極爲有效。於此條件下，該裝置在曝露於光線下時，可 •產生大値瞬時電流。

Arbour等人描述具有釩酞菁（VOPc)及PTCDA之雙層及多 層組件，使用半透明A u或Sn02薄膜作爲一觸點及透明電 極，於氧化還原類型下飽和，以得到反電觸點。已知 Arbour未採用適於實際兩電觸點裝置使用之固體狀態電極 材料。而且，已知Arbour之多層裝置不具有前文所述之中 間層電極或電荷輸送層。Forrest Chem. Rev另外描述多層 有機光敏性材料之效用，但未揭示該層於具有兩透明電極 之裝置中的用途。 現在參照圖10A及圖10B描述具有數個適當界定之界面及 /或MQW之具體實例。圖10A係表示具有兩電極10A02及 10 A05之裝置，其候爲例如約1000-4000埃厚度之氧化銦 錫，以小於2000埃爲佳，約1000埃最佳。就此具體實例而 言，以底層氧化銦錫作爲陽極而頂層電極作爲陰極爲佳。 例如，該頂層氧化銦錫電極可被濺射沉積於底層有機層 上，以形成低電阻非金屬陰極，或該頂層電極1 0A05可包 括Mg : Ag薄層，上層濺射沉積有氧化銦錫層，以形成金 屬/非金屬複合陰極。薄層10a03(a、b、c、d、e、f、g、h、i 及j)及10 A04(a、b、c、d、e、f、g、h、i及j)係爲有機光導 電性材料對，形成多個介於各10A03及10A04對之間的界 面。該層可爲本發明他處所述之有機分子結晶半導體材 料，或亦描述於本發明之聚合物半導體。例如，於一具體 -45- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----^------------- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) I. 丨線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 479373 A7 B7 五、發明說明（43 ) 實例中，該對可爲例如pTCDA/CuPc、PTCBI/CuPc、或 PTCDA/VOPc。已知該層對亦不需必爲相異主要載流子類 型’而可爲同型。該層對之重要特色爲其產生數個界面， 以促進（於某些情況下係改變）激子離解動力學。所述之例 示材料層可介於約20-1000埃範圍内，500埃係爲該範圍之 較佳上限。特別設計以利用MQW效應之裝置具有以主要 激子模式之估計空間尺寸測定遠較爲薄之層。此等觀點係 討論於Forrest Chem· Rev. 1997中，其以提及方式併入本發 明。就前述材料 PTCDA/CuPc 、PTCBI/CuPc 、及 訂 PTCDA/VOPc而言，MQW層應爲20-50埃範圍内。圖1 0B中 之具體貫例1 〇 B 0 0係爲1 〇 A 〇 〇之變化，具有附加金屬薄 層10306，例如50-150埃之1^:八§合金，其係作爲電荷輸 送、抽出及保護罩層，與金屬取代物氧化銦錫層1〇a〇5 一 起形成金屬/非金屬複合電極。 線 已知於此等裝置中，可沉積光導電層材料，使該對中之 任種位於頂層，先決條件爲該層係於整體裝置中交替出 現。此外，已知所示之對數係僅供說明，而可視該光導電 層之厚度而較多或較少。一般限制爲所有層之總厚度大體 上應大於孩裝置所使用之電磁輻射的穿透長度。 於另一例示具體實例中，例如金屬之反射二基板或塗佈 反射層例如至屬诸如A 1或A u之非反射性基板可用以支撑 本發明有機光敏性光電子裝2結構。圖UA係説明以單一 雙層構件^爲主而具有反射性表面之具體實例的實施例。 1 1A01係馬一基板’其可爲透明例如破璃或非透明例如金 •46 本紙狀度適財㈣家縣（CNSM彳麟⑵0x297公爱 479373 A7 B7 五、發明說明（44 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^^ 屬。金屬層11A02係沉積於基板上。薄層11A03係爲選擇性 金屬取代物電極層，例如氧化銦錫。若不使用薄層 11A03 ’則薄層11A02係作爲電極，而係由本發明他處所述 之適當材料所製。第一有機層11A04係爲有機半導體例如 CuPc。第二有機層11A05係爲第二有機半導體例如pTCDA 或PTCBI。位於頂層之透明電極11A06以低電阻非金屬陰極 或金屬/非金屬複合陰極爲佳。圖11B顯示叠層雙層裝置1 體實例’具有反射性底層，該子構件係並聯。i丨B〇丨係一 基板，其可爲透明例如玻璃，或非透明例如金屬。若使用 一玻璃基板，則金屬薄層11B02可沉積該基板上。因爲金 屬基板或金屬層係用以提供反射性表面，故該金屬基板或 金屬層亦以作爲該裝置之底電極爲佳。然而，若需要，則 可使用包括氧化銦錫之選擇性透明電極層ub〇3。薄層 llB03(b及c)係爲子構件第一電極層，而可爲金屬取代物 諸如氧化銦錫、透明金屬、或包括位於金屬薄層諸如 Ag上<氧化銦錫。薄層nB〇6(a&b)係爲子構件第二電極 層，而可爲金屬取代物諸如氧化銦錫、透明金屬或包括位 於金屬薄層諸如Mg-Ag上之氧化銦錫。有機層} 1B〇4(a、 b、c及d)係爲第一有機半導體例如Cupc。有機層t⑽❿、 系爲第二有機半導體’例如打咖或打⑽。於另 -具體實例(未示）中，使用透明基板以支撑任何本發明有 機光敏性光電子裝置。於此具體實例中，該疊層物之頂層 具有頂層反射層，一般且所有中間層子構件皆具有 %亟光線牙透孩基板而被吸收。頂層反射層可爲一 -47- 479373

五、發明說明（45 ) %極或金屬層，沉積於一透明非金屬電極上。於所有此等 具體實例中，即具有頂層或底層反射表面，該反射表面使 任何未被吸收之光折回穿透該吸收層，產生另一個光轉化 之機會，而增加量子效率。包括反射層可減少疊層物中所 需之子構件數目，以得到最佳光轉化效率。 製造光學有機光敏性光電子裝置時，除了決定前述疊層 光敏性光電子裝置中之最佳層數及層厚外，可選擇個別^ 構件之區域及配置以使效率及成本最佳化。因爲欲使用於 此等裝置中之透明電極確實其具有某些殘留吸光度，故以 使該等電極保持較薄以使此吸光度減至最小爲佳。此外， 使電極層保持儘可能實際地薄可使製造時間縮至最短。另 一万面，所有電極層候較薄，使其薄片電阻增高。因此， 以使電荷載流子在收集後需於電極中移動之距離縮至最短 爲佳。使光敏性光電子接收區域最大化而達成此目的之結 構係爲其中该裝置係於該基板上疊成長條形，沿較長側邊 使孩裝置電極電聯。Forrest等人之美國專利申請案序號 08/976666(以下稱爲Forrest App][ ‘666)(以提及方式併入本 發明）描述一種製造實際有機薄膜裝置之技術。 一 Panhasarathy App.‘707揭示_種具有相當大平面分子及 咼共軛結構之小分子有機材料諸如CuPc&pTCDA，相信其 因爲鍵結之高度不定位性，使衝擊能量分佈於多於一鍵結 上，而可承叉活躍之電極沉積。當活躍之金屬或氫原子於 濺射期間入射於位於表面上之此等分子中之一#，衝擊能 量被視爲可分佈於該分子“電子系統中之數個鍵結上。 張尺魏$巾關家鮮（CNS)A4雜 «^----7---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再^^本頁) · -丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -48- 73 3 9 7 A7 _B7__ 五、發明說明（46 ) 相反地，於例如Alq3或a -NPD中無相對大型7Γ -電子系 統。就此等分子而言，衝擊能量僅較固定於少數原子部 位，而增加分子键斷裂之可能性。結晶分子系統諸如CuPc IPTCDA·^ + 面 酉己 ϋ力 # 育皂 者支# 晶格中數個相鄰分子中。是故，相信低電阻非金屬陰極諸 如Parthasarathy App.‘707所揭示者亦可使用於其他類似之 小分子結晶類型中。例如，CuPc可被其他金屬酞菁、莕菁 及卟啉所置換。PTCDA可由例如其他多並苯置換。適用於 本發明之某些其他代表性光敏性光電子小分子有機異結構 組合物係列示於表1。 表 1___

Ag/PTCBI/CuPc/ITO

In/PTCDA/CuPc/ITO

Au/H2Pc/DM-PTCDI/ITO

Au/H2Pc/DM-PTCDI/PTCBI/ITO

Au/H2Pc/PTCBI/ITO

Al/ZnPc/Au

Au/ZnPc/DM-PTCDI/ITO

In/PPEI/PVP(TPD)/ITO

Au/CuPc/DM-PTCDI/ITO

Au/ZnPc/DM-PTCDI/ITO

Au/H2Pc/PTCBI/ITO

Au/TPP/DM-PTCDI/ITO

Au/TBP/DM-PTCDI/ITO -49 - 本纸張纥度適用中!53家標準（CNS)A4規恪（210 x 297公釐） -----1---------裝—— (請先閱讀背面之注意事項再mle本頁) 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 3 9 7 A7 _B7_ 五、發明說明（47 )

Au/H2Hc/DM-PTCDI/ITO

Au/H2Pc/DM-PTGDI/ITO (Au/H2Pc/DM-PTCDI)2/IT〇

Au/(H2Pc/DM-PTCDI)2/ITO

Al/C6〇/TiOPc/ITO

A1/C60/VOPc/ITO ai/c6〇/ppv/ito

Al/邵花青/Ag PPEO ·· 3,4,9，10_茈四羧基-N，Ν’-雙（苯乙基亞胺）。 PVP(TPD) ： 55重量百分比N，N，-二苯基-Ν,Ν’-二甲苯基聯 苯胺，於ΡΡΕΙ沉積之前轉塗於氧化銦錫表面。 ΤΡΡ : 5，10，15,20-2111，31^1-四苯基卟啉。 ΤΒΡ :四苯並叫、啉（29Η，31Η-四苯並[2,3-b : 2，，3’-g : : 2’’’，3’’’-q ]紫菜畊）。 H2Nc ··莕菁（29H，31H-四莕並[2,3-b : 2，，3，-g : 2，，，3，，-1 : 2”’，3”’-q ]紫菜畊）。 H2Pc : g大菁 PPV :聚（苯乙烯）。

ZnPc :鋅g太菁 DM-PTCDI ：

TiOPc :氧化鈦酞菁 -50- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----^------------ (請先閱讀背面之注意事項再iH：本頁) 訂： 丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 73 3 9 7 A7 _B7_五、發明說明（48 ) C60 :巴明特弗林（buckminsterfullerene) VOPc :釩酞菁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，本發明可使用有機聚合物。Yu，G.，Gao, J.，Yang， C.，及Heeger，A.“具有有機複合材料之光電伏打電池模式” 新世代光電伏打技術之第一次NREL研討會會刊，美國物 理學協會，1997年3月，以提及之方式完全併入本發明， 揭示一種以聚合物爲底質之太陽能電池，使用純取（2-甲氧 基-5-(2’ -乙基-己氧基）-1，4-苯乙烯）（MEH-PPV)及摻合有 巴明特弗林（C6())之MEH-PPV。相信此等材料適於作爲本發 明光導電性材料。而且，“導電性聚合物手册”，Skotheim， T.，Ed·，Marcel Dekker，1986，尤其是第 1 7 章：“聚合物半 導體觸點及光電伏打應用”，Kanicki，J.揭示數種光導電性 聚合物，其係技藝界已知，相信適用於本發明之裝置。此 等材料包括聚-2-乙烯基批啶（PVP)、聚苯基乙炔（PPA)、聚 亞苯基（PPP)、聚苯硫醚（PPS)、聚吡咯（PPY)、聚丙烯腈 (PAN)、聚庚二块（PHD)、聚曱基乙炔（PMA)、聚苯乙烯 (PPPV)、聚苯醚（PPPO)。此等材料可使用於前述數種疊層 光電管具體實例中之任一種。而且，相信具有高度連接結 構之聚合物可藉著承受活躍之沉積金屬取代物陰極諸如濺 射之氧化銦錫而形成低電阻非金屬陰極，否則該電極/半 導體界面將針對載流子流而形成實質障壁。 而且，已知將有機光敏性光電子裝置並聯以克服其高値 串聯電阻所產生之缺點的新穎觀念，相關之空間電荷效應 -51 - 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意· 事項再本頁一 裝 '丨線' 479373 A7 Β7 五、發明說明（49 ) 經.濟部智慧財虞局員工消賣合作社印製 同樣可施加於包括其他子構件組成之其他有機光敏性光電 子裝置。#層有機光敏性光電子裝置與外部連接_聯以失 置電極（新穎觀念同樣可應用於其他有機光敏性光電子裝 置而且，使用共待審八㈣；7〇7所揭示之低 電阻非金屬陰極聚代傳統之半透明金屬陰極諸如先前技藝 有機光敏性光電子材料結構所揭示者，係涵蓋於本發明^ 圍内。 -般用以製造本發明裝置之技術係技藝界所熟知。沉積 有機層佳万法係熱蒸發；沉積金屬層之較佳方法係爲 熱或：子束蒸發；沉積介電質之較佳方法係爲電漿促進型 化學备發、RF或RF/DC賤射、或電子束蒸發。有機光敏性 光電子裝置之製造可例如使料罩技術或陰罩與乾式飯刻 法結合以使該基板預成形而達成。陰罩及乾式蚀刻係技 界已知以製造本發明各種具體實例之高級微影沉積仪 術已針對於有機薄膜之製造而揭示於Fo_ Αρρ1·:666 中幻如，般熱習此技藝者可使用Forrest Appl.‘666所 述之技術構成圖12之裝置具體實例，該揭示之其他優點係 併入本發明。 圖2係尤明具有二個子構件之疊層光敏性光電子裝置之 圈己置，子構件係並聯。具體實例1200係於Forrest Appl ‘666 所述〈封裝步驟之後，於“陰影箱，，中説明。ΐ2〇ι係爲透 導電性材料例如氧化銦錫之連續區域，其形成底層電極 個万、$層物中間之電極。薄層1202係多層光導電性π 機層（簡便地以一個代表），形成本發明整流接面。12们係 藝 技 明 及有 -52-

— |丨|丨 II 丨 —1!· · 11 (請先閱讀背面之注意事項本頁) · --線· "τ / / J A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 五、發明說明（5〇 , 爲另一透明導電性从」 材料例如氧化銦錫之連續區域，其形成 頂層電極及一個γ、人w登層裝置中間之電極。薄層1204及 12 0 5係爲沐員似多居止苦 ^ . ^ ^ ^㈢先導邊性有機層。已知此具體實例中沉 積有二個子構件，| 二 /、有父替極性，即頂層及底層子構件具 有相同極性，而Φ鬥 間子構件具有相反極性。於具體實例 1200中已知該光導+ 、 冗争电性有機層丨2〇2、12〇4及12〇5係連續連 接。使用於此特宕目_ — ， ”眼貫例中之有機材料係爲夠差之導 fla使,、可使透明導電性區域ΐ2〇ι及。〇3彼此充分地絕 緣，而仍可進行前述光導電性功能。 保護層12 0 6應由非導雷Μ μ立 土 • 令％丨生材料製造。例如，該保護層可 爲轉塗聚合物諸如Tefl〇nTM，心賤射沉積之或 S:3、N4 “磁輻射欲穿透該裝置頂部時，保護層1206亦應 爲透月於另選擇性具體實例（未說明）中，保護層丨206 可省略，但頂層電極芦雪戶 、、、 曰％让增而/子至不使％境氛圍穿透，以保護 包括違遺有機材料之缓·罢士 衮置，以防止其進行降解之化學反 應。 使用“陰影箱，，技術，可依以下步驟製造與圖㈣同之疊 層雙層有機光敏性光電子裝置： 1)於具有預先形成圖型之觸點的基板上沉積透明5_1〇 微米介電層。該介電層可爲例如Si%。 沉積一光阻劑層。 光阻劑層曝照具有裝置底層圖型之光。 去除未曝光之光阻劑區域，以於該介電層上留下光阻 劑圖型。 2)3)4) -53- 本纸張义度適用中國國家標準（CNS)A4規烙（210 X 297公餐） ^ ---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再me本頁) 一-口*". .線 479373 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 ~":--^ _ 五、發明說明（51 ) 5 ) 藉例如氣反應性離子蝕刻以去除介電層，而切 , 光阻劑之介電條，並溼式蝕刻以產生‘‘底則” /有 6) 角沉積第一氧化銦錫層。 7) 角沉積CuPc層。 8) 角沉積PTCDA層。 9 ) 角沉積第二氧化銦錫層。 10) 角沉積PTCDA層。 11) 角沉積CuPc層。 12) 角沉積第二氧化銦錫層。 13) 重複步驟7-12以製造疊層物。該疊層妝 曰初可於重複步 驟9或1 2以終止。 使用習用蔭罩技術，以下述步驟製造與圖1 2相同之晶居 雙層有機光敏性光電子裝置： "" 1 ) 藉蔭罩技術於具有已形成圖型之觸點的基板上沉# ^ 一氧化銦錫。 2 ) 藉隱罩技術沉積CuPc層。 3) 藉蔭罩技術沉積PTCDA層。 4) 藉蔭罩技術沉積第二氧化銦錫層。 5) 藉蔭罩技術沉積PTCDA層。 6) 藉蔭罩技術沉積CuPc層。 7) 藉蔭罩技術沉積第二氧化銦錫層。 8 ) 重複步驟2-7以製造疊層物。該疊層物可於重複步驟 4或7時終止。 Forrest Appl. ‘666亦描述一種製造光電子裝置陣列之技 -54- 本纸張义度適用中國國家標準（CNS)A4規烙（210 x 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項 本頁) 裝 J^T·. 線· 479373 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -------Β7五、發明說明（52 ) 術，其亦可應用於本發明。使用F〇rrest Appl •‘666所描述 之技術及此揭示，熟習此技藝者可構成一有機光敏性光電 子裝置之陣列（未示），特別適於作爲多像素光敏性檢= 器。該陣列可檢測具有空間及強度解析度之電磁輻射。 亦已知該基板可爲任何平滑材料諸如透明材料玻璃、石 英、藍寶石或塑料、或不透明材料諸如矽或金屬，而包括 可撓性材料諸如塑膜例如聚苯乙烯、或金屬箔例如鋁箔。 基板表面上之任何糙度皆可藉著於基板頂面沉積一選擇性 薄層而變平，或藉著施加類似磨平技術而變平。雖然例示 之具體實例通常係描述沉積於絕緣基板上之有機光敏性光 電子裝置，但已知若使用導電性金屬作爲基板，則其可作 爲第一電極以取代所應用之第一電極。或例如絕緣氧化物 又絕緣層可置於金屬上，之後如前述例示製造方法般地沉 積該裝置。 本發明有機光敏性裝置可收納於：尤其：光能收音機、 電視機、電腦、計算機、電話及其他無線通訊裝置、錶、 緊急疋位裝置、電動車、發電系統及裝置、及緊急電源； 電力檢測及偵測設備及/或感應、檢測裝置、輻射檢測 斋、成像裝置；及用於絕緣或使用於纖維光學通訊之光學 搞合裝置。 熟習此技藝者已知前述裝置可作爲太陽能電池或光敏性 檢測。即，當一裝置於施加偏壓下曝露於電磁輻射下 時’琢裝置係處於光敏性檢測器模式，產生與入射輻射強 度有關 < 電流。於太陽能電池操作期間，不施加偏壓，使 -55· (請先閱讀背面之注意事項 呵本頁) 裝 訂： _線· 本纸成玟度適用中(¾¾家標準（CNS)A4規格（21〇 297公釐） 479373 A7 Β7 五、發明說明（53) 電能高經外加負載。是故，本發明及申請專利範圍係涵蓋 此等裝置，不論是否使用此等模式操作該裝置。 因此，本發明已描述且説明一種有機光敏性光電子裝置 -製k方法。然而，熱習此技藝者已知可在實質不偏離 本發明觀念之下，針對本發明所述之裝置及技術進行畔多 未被詳述之改良及變化。是故，已知本發明所描述之本發 明形式僅供例示，而不限制本發明範圍。 又 ί 1 -I--— — — — — — — — — — · I I f清先閱讀背面之泫意事項再Imle本頁) · --線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -56- "&纟氏張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規恪（21〇χ 297公釐

Claims (1)

1. 六、申請專利範圍

   L 一種有機光敏性光電子裝置，包括： 一基板，具有一中央表面及一中央表面； 至V兩層私極層’重疊地位於該基板之中央表面上， 其中最遠離該基板之電極層係透明；及 至少一光導電性有機層，位於該至少兩電極層之間。 如申叩專利範圍第1項之裝置，其中該至少一光導電十生 有機層之厚度係經選擇，以使該裝置之外量子效率最 化。 3·如申請專利範圍第丨項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層足厚度係經選擇，以使該裝置之總電流輸出最大 化。 4·如申請專利範圍第丨項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層之厚度係經選擇，以使該裝置之充填因數最大 化。 如申叫專利範圍第2項之裝置，其中最接近該基板之電 極層係不透明。 6·如申請專利範圍第5項之裝置，其中最接近該基板之電 極層係包括一反射層。 7·如申請專利範圍第2項之裝置，其中該透明電極層係包 括一非金屬導電層。 8.如申請專利範圍第2項之裝置，其中該透明電極層係包 括一金屬導電層。 9·如申請專利範圍第7項之裝置，其中該非金屬導電層七 馬導電性氧化物。 57- 本纸張又度適用中國國家標準（CNtS)A4規格（210x 297公釐） — ；---T---------裝—— C請先閱讀背面之注意事項再本頁) J^T· · 丨線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 瓜如申請專利範圍第9項之裝置，其中該導電性氧化物係 選自氧化銦錫、氧化錫、氧化銦鎵、氧化鋅及氧化銦 鋅。 11·如申請專利範圍第10項之裝置，其中該導電性氧化物係 爲氧》化鋼锡。 *、 12.如申請專利範圍第7項之裝 爲導電性聚合物。 A如申請專利範圍第12項之裝置，其中該導電性聚合物係 爲聚阿拿林（p〇lyanaline)。 ' ⑷如申請專利範圍第7項之裝置，其中該透明電極層另外 包括一金屬層，位於該非金屬導電層及該至少一二 性有機層之間。 ％ K如申請專利範圍第2項之裝置，其中該透明電極層 低電阻陰極。 ^ 此如申請專利範圍第1 5項之裝置，其中 括氧化銦錫。 17·如申請專利範圍第2項之裝置，其中該透明電極層係 —金屬/非金屬複合陰極。 … 18·如申請專利範圍第17項之裝置，其中該金屬/非金屬陰 極係包括氧化銦錫及鎂銀。 "" 19·如申請專利範圍第丨4項之裝置，其中該金屬層係包括一 金屬，選自金、鋁、鎂、銦、及銀。 20.如申請專利範圍第丨4項之裝置，其中該金屬層係爲一合 至’基本上係由鎂及銀所組成。 置，其中該非金屬導電層係 裝 係爲 該低電阻陰極係包 訂 線 本”氏^度_巾閱家鮮（CNS)A4規格（210 58- X 297公釐） 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 21·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該光導電性有機層 係爲一有機分子結晶材料。 印 22·如申請專利範圍第2 1項之裝置，其中該有機分子結晶材 料係選自酞菁化合物、茈化合物、多並苯化合物及卟啉 化合物。 23·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該光導電性有機層 係爲聚合物材料。 24·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層係爲單一光導電性有機層。 25·如申請專利範圍第i項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層係爲兩層光導電性有機層。 26·如申請專利範圍第2 5項之裝置，其中該兩層光導電性有 機層係經選擇以形成一光電伏打異接面。 27·如申請專利範圍第2 6項之裝置，其中該兩層光導電性有 機層係爲銅自太青及范四幾酸二奸。 28. 如申請專利範圍第冗項之裝置，其中該兩層光導電性有 機層係爲銅酞菁及3，4,9,丨〇_茈四羧酸_雙_笨並咪唑。 29. 如申請專利範圍第27項之裝置，其中該透明電極層係包 括氧化銦錫。 30. 如申請專利範圍第28項之裝置，其中該透明電極層係勺 括氧化銦錫。 G 31·如申請專利範圍第丨項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層係爲四層光導電性有機層，具有一内對及2外 對，遺土少兩層電極層係爲兩層電極層。 -59- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱)" --------------裝--- * m (請先閱讀背面之注音？事項再本頁) a^T. -線. 479373 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 32·如申請專利範圍第3 1項之裝署. 泌爲、山1 置，其中該四層光導電性右 機層 < 内對係爲一對光導電 a r生有 .^ 4有機染料，經選擇以邢成 一光电伏打異接面，且經選擇 夕 具有光譜靈敏性。 一特足電磁光譜區域中 丑如申請專利範圍第32項之裳置，其中該對光導 染=包括三(㈣基蝴及4,雙[n = 胺基]聯苯。 7 尽暴 从如申請專利範圍第32項之裝置，其中該四層光導電 機層之外對中之至少一；仿白紅 有 1 一 . 有機分子結晶材料。 35.如申化專利範圍第32項之裝置，其中該四層光 機層之外對中之至少—層係包括聚合物材料。。 抓如申請專利範圍第32項之i置，其中該四層光導 機層之外對中之至少一声佴句# ^ 有 ^層係包括-種選自酞菁化合物、 茈化合物、多並苯化合物、及卟啉化合物之材料。 37. 如申請專利範園第33項之裝置，其中該四層光導 機層，外對中之至少—層係、包括—種選自_菁、^ 羧酸二酐及3,4,9,10-茈四羧酸_雙_苯並咪唑之材料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 38. 如申請專利範圍第25項之裝置，其中該兩層光導電性 機層係爲-對光導電性有機染料，經選擇以形成:電伏 打異接面，且經選擇以於特定電磁光譜範園内1 2二 靈敏性。 八7^ 4 39·如申請專利範圍第2項之裝置，其另外包括_電阻 載0 一 -60 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 X 297公爱) /J A8 B8 C8

   申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4〇·如申請專利範圍第2項之裝置，其另外包括一電原。 41·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該至少一光導電性 有機層係爲多層光導電性有機層，經選擇以形成多個供 離解激子使用之界面。 42·如申請專利範圍第4丨項之裝置，其中該多層光導電性有 機層之厚度係經選擇以改變激子之分子能階，而於該多 層光導電性有機層中形成多個量子p井。 43·如申請專利範圍第4 1項之裝置，其中該多層光導電性有 機層係選自有機分子結晶材料及聚合物材料。 44·如申請專利範圍第4 1項之裝置，其中該多層光導電性有 機層係選自酞菁化合物、茈化合物、多並苯化合物、及 p卜琳化合物。 45·如申請專利範圍第4 1項之裝置 機層係選自銅酞菁、茈四羧酸 雙-苯並咪Π坐、及飢献菁。 46.如申請專利範圍第2項之裝置 撓性材料。 47·如申請專利範圍第2項之裝置 性材料。 48. 如申請專利範圍第2項之装置： 料。 49. 如申請專利範圍第2項之裝置， 透明材料。 ------------I 1 ---- . (請先閱讀背面之注意事項本頁} J^T. ，其中該多層光導電性有 二 、3,4,9，10-3£ 四叛酸- 其中該基板係爲實質可 其中該基板係爲實質剛 其中該基板係爲透明材 其中該基板係爲實質不 -線· 61 - Μ氏張尺度適用中闷國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） A8B8C8D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 50· —種有機光敏性光電子裝置，包括： -導電性基板電極，具有—中央表面及一末端表面； 至少一電極，位於該導電性基板電極之中央表面上； 及 至少-光導電性有機層，位於該導電性基板電極及該 至少一電極之間。 51 ·如申叩專利範圍第5 〇項之裝罢 阅矛）U八足衮置，其中該基板係實質反射 性0 52·如申請專利範圍第5〇項之裝£，其中該至少一光導電性 有機層之厚度係經選擇，以使該裝置之外量子效率最大 化。 53· —種自環境電磁輻射產生電能之方法，包括： 將一有機光電伏打裝置電聯於一電阻性負載上，該裝 置具有多個位於一基板上士兩打 , 极义弘極，其中離該基板最遠之 電極係爲透明；及 使孩光電伏打裝置曝露於該電磁輻射。 54· —種檢測電磁輻射之方法，包括： 將一有機光敏性檢測器電聯於一檢測電路，該光敏性 檢測益具有多個位於一基板上之電極，其中最遠離該基 板之電極係爲透明； 於該檢測電路上提供電能； 使該光敏性檢測器曝露於環境電磁卷射下：及 接收來自該檢測電路而對靡 τ應於琢裱境電礙福射之電子 信號。 本纸張尺度剌中國國家鮮（CNS)A4規格 *7 τ 嫁--------^------- (請先間讀背面之江意事頊存^|^本頁) 線 -62- 479373 A8B8C8D8 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 社 印 製 六、申請專利範圍 55. —種收納有如申請專利範圍第1項 、、 只心篆置的電子裝置， 孩電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機、· 話、無線通訊裝置、線、緊急定位裝置、電動車、^ 電源、發電裝置 '偵測裝置、檢測裝置，檢測二： 成像裝置、及光學耦合裝置。 … 56. —種收納有如申請專利範圍第5〇項之裝置的電子裝置， 該電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機：電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊令 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、輻射檢測：： 成像裝置、及光學耦合裝置。 57· —種串聯疊層有機光敏性光電子裝置，包括：一基板，具有一中大表面及一末端表面；及 多個有機光敏性光電子子構件，每個子構件皆具有透 明陰極及透明陽極，每個陰極及陽極皆係爲電極層或電 荷輸送層，該子構件係彼此且與該基板之中央^面: 疊， 其中該多個有機光敏性光電子子構件係串聯，其中每 個子構件係與相鄰子構件共用至少一電極層或電荷輸送 層。 58·如申請專利範圍第5 7項之裝置，其中該有機光敏性光電 子子構件之厚度係經選擇，以使該裝置之外量子效率最 大化。 59.如申請專利範圍第57項之裝置，其中該有機光敏性光電 子子構件之數目係經選擇，以使該裝置之總電壓輸出最 63- C請先閱讀背面之注音？事項 再 裝 I. --線. i紙張尺度_中^^準（CNS)A4規格（21^ 297公釐） -n n- 申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 大化。 60.如申明專利範圍第5 7項之裝置，其中該有機光敏性光電 子子構件之厚度係經選擇，以於該裝置曝露於環境電磁 库田射時’使各個有機光敏性光電子子構件產生實質等量 之電流。 61·如申請專利範圍第6〇項之裝置，其中該有機光敏性光電 子子構件之厚度係指數性地大於較遠離該基板之相鄰 構件的厚度。 62·如申叫專利範圍第6 〇項之裝置，其中該有機光敏性光 子子構件之厚度係指數性地大於較接近該基板之相鄰 構件的厚度。 63. 如申印專利範圍第5 7項之裝置，其中該有機光敏性光 子子構件各經選擇，以於不同電磁輻射區域中具有光 靈敏性。 64. 如申凊專利範圍第6 3項之裝置，其中該光譜靈敏性係 者選擇構成各個有機光敏性光電子子構件之光敏性有 材料之種類而選擇。 65·如申請專利範圍第5 7項之裝置，其中該各個有機光敏性 光電子子構件係爲一單層光敏性光電子子構件。 66·如申請專利範圍第57項之裝置，其中該各個有機光敏 光電子子構件係爲雙層有機光敏性光電子子構件。 67·如申請專利範圍第5 7項之裝置，其中該各個有機光敏 光電子子構件係爲多層有機光敏性光電子子構件。 68·如申請專利範圍第6 6項之裝置，其中該多個雙層有機光 子 子 藉 機 性 性 (請先閱讀背面之注音？事項 r本頁) 裝 幻· 64 479373 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該雙層有 機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。 69.如申叫專利知圍第6 6項之裝置，其中該多個雙層有機光 敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該雙層有 機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 7〇·如申請專利範圍第67項之裝置，其中該多個多層有機光 有 敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該多層 機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。 光 有 7L如申請專利範圍第67項之裝置，其中該多個多層有機 敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該多層 機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 72.如申請專利範圍第57項之裝置，其另外包括一反射層， 位於最遠離該基板之有機光敏性光電子子構件上。 73·如申請專利範圍第57項之裝置，其另夕卜包括一反射岸， 位於該I板與最接近該基板之有機光敏性光電子子構件 之間。 74·=請專利範圍第57項之裝置，其中該基板係爲反射 75.如申請專利範圍第57項之裝置，其中該各個有機光敏性 光電子子構件係包括多層光導電性有制，其係經選擇 以形成多個供離解激子之界面。 有 光 76·如申請專利範圍第75項之裝置，其中該多層光導電性 機層係經選擇，以改變激子之分子能階，而於該多屄 導電性有機層中形成多個量子畊。 田 65- 本纸張尺度適用中國國家a?TCNS)A4規格⑵公髮) ^/^373 // 圍範利 專請 申 A8B8C8D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 種串聯疊層有機光敏性光電子裝置，包括： 一基板，具有中央表面及末端表面；及 —多個有機光敏性光電子子構件，各個該子構件皆且有 :陰極及—陽極’該陰極及陽極各係爲一電極層或二電 何輸送層，每—子構件皆與相鄰子構件共用至少_^ 層或電荷輸闕，該子構件彼此及與該 係爲重疊關係， 〈千央表面 曰其:中該多個有機光敏性光電子子構件係串聯，而其中 取逐離孩基板之一電極層係爲透明。 78.如申請專利範圍第77項之裝置，其另外包括_反射芦， 位於該基板及最接近該子構件之子構件之間。 曰 I申請專利範圍第77項之裝置，其中該基板係爲反射 8〇.一種串聯疊層有機光敏性光電予裝置，包括： 一基板，具有中央表面及末端表面；及 -性光電子子構件，各個該子構件皆具有 何輸运層’母—予構件皆與相鄰子構件共用 層或電荷輸送層，該子構件彼 ^ 係爲重疊關係’而至少兩電極層係爲透：板…表面 多個有機光敏性光電子子構件係串聯。 81. -，由5衣境電磁輻射產生電能之方法，包括： 將具有至少兩透明電極 置電聯於-電阻性負載上；及。且層有機光電伏打裝 66- I----I---------- 身 « (請先閱讀背面之注意事項本頁) · •線- 適用中國國家標準^ 297公釐） 479373 A8B8C8D8 圍範利 專請 申 \六 便孩光電伏打袈置曝露於電 82. —種檢測電磁輻射之方法，包括： 將具有至少兩透明電極層之串聯疊層有機光敏性檢測 森電聯於一檢測電路； 提供電能於該檢測電路； 使該光敏性檢測器曝露於環境電磁輕射丁； 接收來自該檢測電路而對應於該環境電磁輻射之 信號。 83· —種製造有機光敏性光電子裝置之方法，就具有多個串 聯疊層有機光敏性光電子子構件之裝置而言，包括選擇 忒子構件之厚度，以使该裝置之外量子效率最大化之附 加步驟。 84· —種製造串聯疊層有機光敏性光電子裝置之方法，包 括： 於一基板上製造一第一有機光敏性光電子子構件，以 开^成了製k特足電壓之有機光敏性光電子裝置；及 於该第一有機光敏性光電子子構件之頂面上製造重疊 關係之第二有機光敏性光電子子構件，形成一疊層有機 光敏性光電子裝置，以增加該有機光敏性光電子裝置之 電壓容量， 其中1S疊層有機光敏性光電子構件之子構件係包括一 對明電極層’而該第一子構件及該第二子構件係串 聯。 85·如申請專利範圍第項之以方法，其中該第一有機光敏性 ----^----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項本頁) 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -67- B8 C8 D8 人 ^ ---―-~--- M N申請專利範圍 光私子子構件及该第二有機光敏性光電子子構件之厚度 係經選擇，以使該裝置之外量子效率最大化。 86.—種收納如申請專利範圍第57項之裝置之電子裝置，該 電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機、電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊急 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、輻射檢測器、 成像裝置、及光學耦合裝置。 7·種收納如申凊專利範圍第7 7項之裝置之電子裝置，該 %子裝置係選自收晋機、電視機、電腦、計算機、電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊急 電源、發電裝置、偵測装置、檢測裝置、輕射檢測器、 成像裝置、及光學搞合裝置。 · 88· —種收納如申請專利範圍第8 〇項之裝置之電子裝置，該 電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機、電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊急 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、輻射檢測器、 成像裝置、及光學耦合裝置。 89· —種有機光敏性光電子裝置，包括： ’ 一基板，具有一第一主要表面及一第二主要表面； 至少兩透明電極層，於該基板之第一主要表面上成爲 重疊關係；及 至少一光導電性有機層，位於該至少兩透明電極層之 90·如申請專利範圍第8 9項之裝置，其中該至少一光導電性 -68- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） I. 裝--- (請先閱讀背面之注意事項本頁) 訂： -丨線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 479373

   、申請專利範圍 I I I - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 有機層之厚度係經iP蔣 壤擇，以使該裝置之外量 化0 丁欢率最大 91.如申請專利範圍第8 9項々举翌 、 有機層之厚度係經選擇、"’其中該至少—光導電性 化。 選擇，以使該裝置之總電流輸出最大 92·如申請專利範圍第89项之裝置，其中該至 有機層之厚度係經選摆 先導电性 化。 選擇，以使該裝置之充填因數最大 93·如申請專利範圍第9 〇項之举w廿+、分、來„ 角<裝置，其中該透明電極屉 少一層係包括非金屬導電層。 曰义至 9屯如申請專利範圍第9 〇項之#罢廿士 ：、夫„口 -、足裝置，其中該透明電極； 少一層係包括金屬導電層。 95. 如申請專利範圍第9 3項；举罢甘山β非人ρ 裝置，其中该非金屬導電；仿 爲導電性氧化物。 曰糸 96. 如申請專利範圍第95項之裝置，其中該導電性氧化物係 選自氧化銦錫、氧化錫、氧化姻嫁、氧化辞及氧化铜 鋅。 97. 如申請專利範圍第9 6項之裝置，其中該導電性氧化物係 爲氧化銦錫。 98·如申請專利範圍第9 3項之裝置，其中該非金屬導電層係 爲導電性聚合物。 99·如申請專利範圍第9 8項之裝置，其中該導電性聚合物係 爲聚何拿林（p〇lyanaline)。 100.如申清專利範圍第9 3項之裝置，其中該透明電極層中至 -69- 本纸張义度適用中S a家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項 本頁) 裝 · -線- ^/9373 A8 B8 C8 D8 T、申請專利範圍 少一層另外包括一金屬層，位於該#金屬導電層及該至 少一光導電性有機層之間。 101·如申請專利範圍第9 0項之裝置，其中該透明電極層中至 少一層係爲低電阻陰極。 1〇2.如申請專利範圍第101項之裝置，其中該低電阻陰極係 包括氧化銦錫。 103·如申請專利範圍第9 0項之裝置，其中該透明電極層中至 少一層係爲一金屬/非金屬複合陰極。 1〇4·如申請專利範圍第103項之裝置，其中該金屬/非金屬陰 極係包括氧化銦錫及鎂銀。 105·如申請專利範圍第1〇〇項之裝置，其中該金屬層係包括 一金屬，選自金、鋁、鎂、銦、及銀。 106·如申請專利範圍第1〇〇項之裝置，其中該金屬層係爲一 合金，基本上係由鎂及銀所組成。 107·如申請專利範圍第8 9項之裝置，其中該光導電性有機層 中至少一層係爲一有機分子結晶材料。 108•如申凊專利範圍第1〇7項之裝置，其中該有機分子結晶 材料係選自酞菁化合物、茈化合物、多並笨化合物及 啉化合物。 θ 败^申請專利範圍第89項之裝置，其中該光導電性有機層 干 < 至少一層係爲聚合物材料。 印 服如申請專利範園第89項之裝置，其中該至少 有機層係爲單一光導電性有機層。 尤學％性 111.如申請專利範圍第89項之裝置，其中該至少—光導電性 ^紙張尺度翻中關家標準（CNS)A4規格（210 ： — ；---^----------壯衣--- ί請先閱讀背面之注音？事項再本頁} 訂- .線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -70- 479373 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 有機層係爲兩層光導電性有機層。 m.如申請專利範圍第丨"項之心，其中該兩層光導電性 有機層係經選擇以形成一光電伏打異接面。 U3.如申請專利範圍第112項之装置，其中該兩層光導電性 有機層係爲銅酞菁及茈四羧酸二纤。 114·如申請專利範圍第112項之裝置，其中該兩層光導電性 有機層係爲銅酜菁及3,4,9，1〇4四1酸冬苯並味^ 115.如申請專利範圍第113項之裝置，其中該透 包括氧化銦錫。 曰保 ⑽·如申請專利範圍第114項之裝置，其中該透 包括氧化銦錫。 曰係 117. 如申請專利範圍第89項之裝置，其中該至少_光導電性 有機層係爲四層光導電性有機層，具有一内對及Z外 對，孩至少兩層電極層係爲兩層電極層。 118. 如申請專利範圍第117項之裝置，其中該四層光導^生 有機層之内對係爲一對光導電性有機染料，經選擇：形 成-光電伏打異接面，且經選擇以於特定電磁光譜區域 中具有光譜靈敏性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 119. 如申請專利範圍第118項之裝置，其中該對光導電 機染料係包括三（8-#1基如林）及4,4，·雙[Ν(ι_ 基胺基]聯苯。 ^ 120. 如申請專利範圍第118項之裝置，其中該四層光導電性 有機層之外對中之至少一層係包括一有機分子結晶材 料0 -71 - 479373 申請專利範圍 121.: I:專二範圍第1 1 8項之裝置’其中該四層光導電性 有機層〈外對中之至少一層係包括聚合物材料。122·:::專，圍第118項之裝置，其中該四層光導電性 物二:二對中I至少一層係包括—種選自酞菁化合 123t巾北^ 多並苯化合物、及^化合物之材料。 :機申;範㈣119項之裝置，其中該四層光導電性 有，外對中之至少-層係包括-種選自銅政菁q 四㈣一酐及3,4,9，1〇_茈四羧酸·雙-苯並咪唑之材料。申請專利範圍第lu項之裳置，其中該兩層光導電性有機層係爲一對光導電性有機染料，經選擇以形成光 伏打異接面，且經選擇以於特定電磁光譜範圍内且有 譜靈敏性。 μ 125.如申請專利範圍第124項之裝置，其中該兩層透明電 係馬非金屬導電層，而另外包括_金屬層，位於各光 電性有機$料層及相鄰之透明f極層之間。 既如申請專利範圍第90項之裝置，其另外包括一電阻性 載。 ㈣申請專利範圍第9〇項之裝置，其另外包括一電源。 既如申請專利範圍第89項之裝置，其中該至少一光導電 有機層係爲夕層光導電性有機層，經選擇以形成多個 離解激子使用之界面。 既如中請專利範圍第128項之裝置，其中該多層光導電性 有機層之厚度係經選擇以改變激子之分子能階，而於該 光 導 負 性 供 72 本紙張尺料财關家鮮（CNS)A4

   其中该基板係爲透明材 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中該基板係爲實質反 其係爲多像素光敏性检 A8 B8 C8 D8 、申凊專利範圍 多層光導電性有機層中形成多個量子吟 130·如申請專利範圍第128項之装裏，其中該多層光導電性 有機層係選自有機分子結晶材科及聚合物材料 131·如申請專利範圍第128項之装襄，其中"亥夕層光導電性 有機層係選自酞菁化合物、芘化合物、多並奉化合物、 及p卜淋化合物。 132·如申請專利範圍第128項之装置，其中邊多層光導電性 有機層係選自銅酞菁、茈四羧酸二酐、3,4,9,10-茈四羧 酸-雙-苯並咪唑、及訊g太菁。 133·如申請專利範圍第9 〇項之裝置，其中該基板係爲實質可 撓性材料。 134·如申請專利範圍第9 〇項之裝置，其中該基板係爲實質剛 性材料。 135·如申請專利範圍第9 〇項之裝置 料。 136·如申請專利範圍第9 〇項之裝置，其中該基板係爲實質不 透明材料。 137·如申請專利範圍第9 〇項之裝置 射性材料。 138. 如申請專利範圍第9 〇項之裝置 測咨之一部分。 139. -，由環境電磁輻射產生電能之方法，包括： 將八有至）兩透明電極層之有機光電伏打裝置電聯於 木紙張尺獅时關家鮮 (請先閱讀背面之注意- 事項本頁) 裝 --線. -73- 六、申請專利範圍 一電阻性負載上；及 下。 包括： 之有機光敏性檢測 器電聯於 使該裝置曝露於電磁|畐射 140. —種檢測電磁輻射之方法， 將具有至少兩透明電極層 一檢測電路； 提供電能於該檢測電路； 使該光敏性檢測器曝露於環境電磁輕射下 接收來自該檢測電路而對 作—〇 *心於忒銥境电磁輻射之電子 該 14L-種收纳如申請專利範圍第9〇項之裝置之電 電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算： 話' 無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊』 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、 ； 成像裝置、及光學耦合裝置。 142.—種並聯疊層有機光敏性光電子裝置，包括： -基板，*有一中央表面及—末端表面；及 多個有機光敏性光光電子子構件，各子構件各具有透明 陰極及陽極，該子構件彼此及與該基板之中央表面成重 ®關係， 其中該多個有機光敏性光電子子構件係並聯。 143·如申請專利範圍第142項之裝置，其中該有機光敏性光 電子子構件之厚度係經選擇，以使該裝置之外量子效率 最大化。 144·如申請專利範圍第丄4 2項之裝置，其中該機光敏性光 479373 A8B8C8D8 申請專利範圍 電子子構件之厚度係經選擇，以使該裝置之總電流輸出 最大化。 145. 如申請專利範圍第142項之裝置，其中該有機光敏性光 電子子構件之厚度係經選擇，以使該有機光敏性光電子 子構件之内量子效率最大化。 146. 如申請專利範圍第142項之裝置，其中該有機光敏性光 電子子構件係經選擇，以於不同電磁光譜區域中具有光 譜靈敏性。 147. 如申請專利範圍第146項之裝置，其中該光譜靈敏性係 係藉著選擇構成各個有機光敏性光電子子構件之光敏性 有機材料之種類而選擇。 148·如申請專利範圍第142項之裝置，其中該各個有機光敏 性光電子子構件係爲一單層光敏性光電子子構件。 149.如申請專利範圍第142項之裝置，其中該各個有機光敏 性光電子子構件係爲雙層有機光敏性光電子子構件。 150·如申請專利範圍第142項之裝置，其中該各個有機光敏 性光電子子構件係爲多層有機光敏性光電子子構件。 151·如申請專利範圍第148項之裝置，其中該單層有機光敏 性光電子子構件係藉透明絕緣層而與任何相鄰單層有機 光敏性光電子子構件隔離。 152·如申請專利範圍第149項之裝置，其中該雙層有機光敏 性光電子子構件係與相鄰雙層有機光敏性光電子子構件 分用一共用電極。 153·如申請專利範圍第149項之裝置，其中該雙層有機光敏 -75 ·;---r---------裝 (請先閱讀背面之注意事項本頁) · · -線. 經 濟 部 智 慧 財 員 工· 消 费 含 作 多心度適用中a 格(210 x 297公釐) 479373 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 性光電子子構件係藉透明絕緣層而與任何相鄰雙層有機 光敏性光電子子構件隔離。 154. 如申請專利範圍第153項之裝置，其中該多個雙層有機 光敏性光電子子構件之取向係使其具有相同電子極性。 155. 如申請專利範圍第154項之裝置，其中該多個雙層有機 光敏性光電子子構件之取向係使該基板較接近該雙層有 機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。 156. 如申請專利範圍第154項之裝置，其中該多個雙層有機 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該雙層 有機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 157·如申請專利範圍第15〇項之裝置，其中該多個有機光敏 性光電子子構件係與相鄰多層有機光敏性光電子子構件 分用一共用電極。 158.如申請專利範圍第15〇項之裝置，其中該多層有機光敏 性光電子子構件係藉透明絕緣層而與任何相鄰多層有機 光敏性光電子子構件隔離。 159·如申請專利範圍第158項之裝置，其中該多個多層有機 光敏性光電子子構件之取向係使其具有相同電子極性。 160·如申請專利範圍第159項之裝置，其中該多個多層有機 光敏性光電子子構件之取向係使該基板較接近該雙層有 機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。 161·如申請專利範圍第159項之裝置，其中該多個多層有機 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該雙層 有機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 •76- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） (請先閱讀背面之注意· 事項 本頁) 裝 ir°J· --線- 479373 六 、申凊專利範圍 162. ^申請專利範圍第142項之裝置，其另外包括—反射 «，位於最遠離該基板之有機光敏性光電子子構件上。 163. :申請專利範園第142項之裝置，其另外包括—反射 :’位於職板與最接近該基板之有機光敏性光電子子 構件之間。 164=。申請專利範圍第142項之裝置，其中該基板係爲反射 165·:申請專利範圍第142項之裝置，其中該各個有機光敏 2電子子構件係包括多層光導電性有機層，其係經 擇以形成多個供離解激子之界面。 166=申請專利範圍第165項之裝置，其中該多層光 有機層係經選擇，以改變激子之分子能階，而於該J 光導電性有機層中形成多個量子ρ井。 167. —種由環境電磁輻射產生電能之方法，包括·· 上將：聯疊層有機光電伏打裝置電聯於—電阻性負 使1¾光電伏打裝置曝露於電磁輻射下。 168· —種檢測電磁輻射之方法，包括·· 將並聯疊層有機光敏性檢測器電聯於一檢測 提供電能於該檢測電路； ％ ’ 使該光敏性檢測器曝露於環境電磁輻射下； 接收來自該檢測電路而對應於該環境電磁和 信號。 田射〈電 169.—種製造有機光敏性光電子裝置之方法，就具有多個 I 選 性 子 並 f 訂 -77 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2i〇X297公爱 479373 A8B8C8D8

   C請先閱讀背面之注音？事項Η Γ本頁} 裝 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 聯疊層有機光敏性光電子子構件之裝置而言，包括選擇 孩子構件 < 厚度，以使該裝置之外量子效率最大化之附 加步驟。 170· —種製造並聯疊層有機光敏性光電子裝置之方法，包 括： 於一基板上製造一第一有機光敏性光電子子構件，以 形成可產生特定外量子效率之有機光敏性光電子裝置； 及 於該第一有機光敏性光電子子構件之頂面上製造重疊 關係之第二有機光敏性光電子子構件，以形成一疊層有 機光敏性光電子裝置，而增加該有機光敏性光電子裝置 之外量子效能， 其中該第一子構件及該第二子構件係並聯。 如申請專利範圍第170項之方法，其中該疊層有機光敏 性光電子構件之至少一子構件係包括一對透明電極層。 Π2·—種收納如申請專利範圍第142項之裝置之電子裝曰置， 該電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機、電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊: 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、輻射檢測器、 成像裝置、及光學耦合裝置。 種混合電結構疊層有機光敏性光電子裝置，包括· —基板’具有一中央表面及一末端表面；及 比多個有機光敏性光光電子子構件之次組件，各子構件 皆具有一陰極及一陽極，該陰極及陽極各爲一電極層戋

   本紙依&度適用中®國家標準（CNSM4規格（2〗0 X 297公釐） 88899 ABCD 六、申請專利範圍 一，荷輸送層’該子構件彼此及與該基板之末端表面成 重叠關係’該子構件次組件各包括多個並聯之 多個串聯之子構件， +次 其中該次組件係彼此串聯或並聯，使該裝置包括串聯 及並聯之子構件，而該裝置可產生高於使用相同材料之 冗全並聯配置所得之電壓，及高於用以產生相同電壓之 完全串聯配置之外量子效率。 Π4.如申請專利範圍第173項之裝置，其中該有機光敏性光 電子子構件之厚度係經選擇，以使該裝置之外量子 最大化。 Π5·如申請專利範„173項之裝置，其中該有機光敏性光 =子構件之數目係經選擇’以使該裝置之總電壓輸出 取大化。 176.如申請專利範圍第173項之裝置，其中該多個子構件次 組件各係包括串聯之子構件 聯 H MW ^乡個次㈣係彼此並 聯0 Π7，.^ :件各係包括並聯之子構件，而該多個次組㈣彼此串 178. 如申請專利範圍第173項之裝置 · 係經選擇，使得冬該裝WBA + & /、中〇子構件又厚度 、 伴1史仔“裝置曝露於環境輕射下時 /人组件各產生實質相等於電流量。 179. 如申請專利範圍第173項之裝置，其中各有機光敏性光 電子子構件之厚度係經選擇，使得當該裝“露it 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 ： ----^------------- (請先閱讀背面之注意事項本頁) . --線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -79- I六 、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 軲射下時，該有機光敏性光電子子構件各產生實質相等 於電流量。 、 18〇·=申請專利範圍第179項之裝置，其中該有機光敏性光 私子子構件之厚度係指數性地大於較遠離該基板之相鄰 予構件的厚度。 申請專利範圍第179項之裝置，其中該有機光敏性光 電子子構件之厚度係指數性地大於較接近該基板之相鄰 子構件的厚度。 182·=申請專利範圍第173項之裝置，其中該有機光敏性光 %子子構件各經選擇，以於不同電磁輻射區域中具有光 譜靈敏性。 μ 183\如+申請專利範圍第182項之裝置，其中該光譜靈敏性係 猎著選擇構成各個有機光敏性光電子子構件之光敏性有 機材料之種類而選擇。 184·如申請專利範圍第173項之裝置，其中該各個有機光敏 性光私子子構件係爲一單層光敏性光電子子構件。 185·如申請專利範圍第173項之裝置，其中該各個有機光敏 性光電子子構件係爲雙層有機光敏性光電子 嶋申請專利㈣第⑽之裝置，其中該:Γ有機光敏 性光電子子構件係爲多層有機光敏性光電子子構件。 187·如申請專利範圍第185項之裝置，其中該多個雙層有機 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近^雙層 有機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。㈢ 188·如申請專利範圍第185項之裝置，其中該多個雙層有機 ----,0----------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂- .線· -80 §1 479373 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 _ SI —__六、申請專利範圍 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該雙層 有機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 189·如申請專利範圍第186項之裝置，其中該多個多層有機 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該多層 有機光敏性光電子子構件之陰極，而較不接近陽極。 190. 如申請專利範圍第186項之裝置，其中該多個多層有機 光敏性光電子子構件之取向係使得該基板較接近該多層 有機光敏性光電子子構件之陽極，而較不接近陰極。 191. 如申請專利範圍第173項之裝置，其另外包括一反射 層，位於最遠離該基板之有機光敏性光電子子構件上。 192. 如申請專利範圍第173項之裝置，其另外包括一反射 層位於居基板與最接近該基板之有機光敏性光電子子 構件之間。 ⑼.如申請專利範圍第173項之裝置，其中該基板係爲反射 性0 队如申請專利範„173項之裝置，其中該各個有機光敏ίΐ電Γ子構件係包括多層光導電性有機層，其係經選 擇以形成多個供離解激子之界面。195.::二專利範圍第194項之裝置，其中該多層光導電性 =二係經選擇，以改變激子之分子能階，而於該多層 光導私性有機層中形成多個量子畊。’1%·-種由環境電磁輻射產生電能之方法，包括·· 將此合電結構之疊層有機光性負載上；及 打衮置％驷於一電阻 _尺度適用中則規格⑽ X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項 本頁) 一5J1 . --線· 1#· 479373 A8B8C8D8 六、申請專利範圍 使孩光電伏打裝置曝露於電磁輕射下。 197·—種檢測電磁輻射之方法，包括·· • M 11 W» I 11111 ^ · 11 (請先閱讀背面之注意事項再mr本頁) 將混合電結構之#層有機光敏性檢測器 電路； °°电耳外於一檢測 提供電能於該檢測電路； 使孩光敏性檢測器曝露於環境電磁輻射下； 接收來自該檢測電路而對應於 ， 信號。 衣兄i磁輻射之電子 198_—種製造具有多個子構件之 兩处 井而子奘β 口私、、，口構《層有機光敏性 无4于累·置之方法，並勿;强43£ ^ ^ iu. 、、姑穿、Ο 〃包括選擇⑦子構件之厚度，以使 茲裝置（外I子效率最大化之附加步驟。 吏 199. -種製造混合電結構4層有機光敏性 法，包括：又万 於一基板上製造一第一有機光敏性光電子子 形成一有機光敏性光電子裝置； 於該第一有機光敏性光電子子構件之頂面上 關係之第二有機光敏性光電子子構件，以形成 有機光敏性光電子次組件，其包括串聯之該第 及該第二子構件； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 構件，以 製造重疊 第一疊層 子構件 製造重疊 製造重疊 第二疊層 二子摄彼 ;線· 於該第二有機光敏性光電子子構件之頂面上 關係之第三有機光敏性光電子子構件；及 於該第三有機光敏性光電子子構件之頂面上 關係之第四有機光敏性光電子子構件，以形成 有機光敏性光電子次組件，其包括串聯之該第 -82 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 479373 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 及該第四子構件， 其中該第一疊層有機光敏性光電子次組件及該第二疊 層有機光敏性光電子次組件係並聯。 200· —種收納如申請專利範圍第173項之裝置之電子裝置， 該電子裝置係選自收音機、電視機、電腦、計算機、電 話、無線通訊裝置、錶、緊急定位裝置、電動車、緊急 電源、發電裝置、偵測裝置、檢測裝置、輻射檢測器、 成像裝置、及光學耦合裝置。 HliF---------裝--- (請先閱讀背面之注意事項再H本頁) -丨線' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）