JP2936269B2 - アモルファス太陽電池 - Google Patents
アモルファス太陽電池Info
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Description
関する。
電池の構成材料として注目されている。しかし、これら
の材料を用いた太陽電池を屋外で長時間使用すること、
光電変換効率がしだいに低下することがStaebler−Wron
ski効果として良く知られている。この光劣化を軽減す
ることが大電力アモルファス太陽電池の実用化にとって
最も重要な課題となっている。
モルファス太陽電池では、i層を薄くすることが光劣化
の軽減にとって効果的であることが知られている。しか
しながら、光活性層であるi層を薄くすることは、この
i層での光吸収量ひいては電池の発生電流を低下させ、
光電変換効率の低下を招くことになる。そこで、薄いi
層を含む複数のp−i−n接合を積層形成し、各接合間
をオーミック接続したいわゆるタンデム型太陽電池の採
用が考えられる。
タンデム型アモルファス太陽電池の断面模式図である。
される。この透明電極層(4)の上にp型アモルファス
半導体層(11)、i型アモルファス半導体層(12)及び
n型アモルファス半導体層(13)を順次成膜してp−i
−n接合(10)を形成する。更にこの上にp層(21)、
i層(22)及びn層(23)を順次成膜して2段目のp−
i−n接合(20)を形成する。両p−i−n接合(10,2
0)の部分は、例えばいずれもアモルファスシリコンで
構成される。2段目のp−i−n接合(20)の更に上に
裏面外部電極層(40)が形成される。この裏面外部電極
層(40)は、通例不透明体で構成される。
及び透明電極層(4)を順次通して光線が入射する。入
射側接合(10)のn層(13)と裏面側接合(20)のp層
(21)との間はオーミック接触であって、両接合(10,2
0)が直列接続されている。したがって、透明電極層
(4)と裏面外部電極層(40)との間に両接合(10,2
0)の光起電力の和が開放電圧として現れる。
変換効率の向上と光劣化の軽減との実現が可能である。
すなわち、この太陽電池では、各接合(10,20)のi層
(12,22)の膜厚の和を前記シングル接合太陽電池の場
合のi層最適膜厚である400〜700nmと同程度以上にして
光電変換効率の向上をはかることができる。この際、各
i層(12,22)の膜厚シングル接合の場合のi層より小
さくすることができ、光劣化の軽減が実現可能である。
なお、p層(11,21)及びn層(13,23)の膜厚は、シン
グル接合の場合と同程度の10〜50nm程度である。
ンデム型アモルファス太陽電池の断面模式図である。
上にp層(31)、i層(32)及びn層(33)を順次成膜
して3段目のp−i−n接合(30)を形成した上で裏面
外部電極層(40)を形成している。したがって、3つの
p−i−n接合(10,20,30)が直列接続される。各接合
のi層(12,22,32)は、光入射側ほど薄くしている。こ
れらのi層(12,22,32)の膜厚は、2段タンデム型の場
合に比べていずれも小さくなっており、光劣化の軽減効
果が大きい。
池では、膜厚方向に形成された複数のp−i−n接合が
直列接続されていたために次の問題があった。
i層膜厚の和を前記シングル接合太陽電池の場合のi層
膜厚と同程度以上にして光電変換効率の向上をはかって
いる。しかも、電流同一の直列条件で各接合の最適動作
点を決定する必要があり、各最適動作点に応じて各接合
のi層膜厚が決定される。ただし、アモルファスシリコ
ンは太陽光波長における吸収係数が大きい。以上のこと
から、従来のタンデム型アモルファス太陽電池では入射
側i層に比べて裏面側i層の膜厚を大きくして各接合の
電流バランスをとる必要があり、裏面側i層は、シング
ル接合の場合のi層より薄くすることができるものの、
かなり厚くなる。したがって、やはり膜厚の大きい裏面
側i層での光劣化によって電池全体の光電変換効率がし
だいに低下する傾向がある。これを避けようとして接合
数を極端に増やせば、裏面側i層の膜厚を小さくするこ
とができるものの、光活性層でないp層やn層の数が増
えてこれらの層の光吸収ロスが増加するから、かえって
光電変換効率が低下する。
変化によって各接合の電流バランスが崩れる場合があっ
た。電流バランスが崩れていずれかの接合が最適動作点
からずれた状態では、電流が最も小さい接合で電池全体
の電流が制限され、場合によっては光電変換効率の大幅
な低下を招くことがあった。
て、従来のタンデム型太陽電池以上に光安定性の高い高
効率アモルファス太陽電池を提供することを目的とす
る。
接合を設け、前記第1のp−i−n接合の上に、前記第
1のp−i−n接合と略同じ面積の第2の透明電極層を
介して、前記第p−i−n接合と略同じ面積の第2のp
−i−n接合を設け、前記第2のp−i−n接合の上
に、前記第2のp−i−n接合と略同じ面積の第3の透
明電極層、透光性絶縁層及び第4の透明電極層を順次介
して、前記第2のp−i−n接合と略同じ面積の第3の
p−i−n接合を設け、前記第3のp−i−n接合の上
に外部電極層を設け、前記第2の透明電極層及び前記第
4の透明電極層を電気的に接続し、かつ、前記第3の透
明電極層及び前記外部電極層を電気的に接続することに
より、並列接続した前記第2のp−i−n接合と前記第
3のp−i−n接合に、前記第1のp−i−n接合を直
列接続したアモルファス太陽電池である。
性絶縁層を通して光線が入射する。これらの接合につい
ては、電圧同一の並列条件で最適動作点を決定する。各
接合電圧は、各接合を構成するアモルファス材料の電気
的な性質に主に依存するのであって、直列の場合の接合
電流に比較して入射光量に対する依存性が小さい。この
ため、本発明の場合には電流バランスを考慮する必要が
全くないばかりでなく、電圧マッチングを気遣う必要も
ない。したがって、光活性層であるi層の膜厚を比較的
自由に選ぶことができる。つまり、従来のタンデム型ア
モルファス太陽電池に比べて裏面側i層の膜厚をかなり
薄くすることができる。このようにしてi層を薄くして
電解を高めれば、このi層内の電子や正孔の密度を低減
でき、これらの捕獲、再結合速度の低減が実現できるか
ら、電池の光劣化を良く軽減することができる。しか
も、時間あるいは季節の違いによる太陽光のスペクトル
変化に基づく各接合の電流バランスの崩れを考慮する必
要もない。
に係る2段並列アモルファス太陽電池の断面模式図であ
る。なお、参考例1は、実施例の説明のためのものであ
り、本願発明の技術的範囲に含まれるものではない。
型アモルファス半導体層(11)、i型アモルファス半導
体層(12)及びn型アモルファス半導体層(13)を順次
成膜してp−i−n接合(10)を形成する点は第4図の
2段タンデム型アモルファス太陽電池の場合と同様であ
るが、本実施例の場合は、この接合(10)の上に第2の
透明電極層(14)、透光性絶縁層(16)及び第3の透明
電極層(18)を形成した上で2段目のp−i−n接合
(20)を形成する。2段目の接合(20)は第4図の場合
と同様にp層(21)、i層(22)及びn層(23)の順で
成膜される。両p−i−n接合(10,20)の部分が例え
ばいずれもアモルファスシリコンで構成され、2段目の
接合(20)の更に上に裏面外部電極層(40)が形成され
る点は、第4図の場合と同様である。裏面外部電極層
(40)は不透明体で構成することができる。更に、第1
の透明電極層(4)と第3の透明電極層(18)との間及
び第2の透明電極層(14)と裏面外部電極層(40)との
間を電気的に接続する。この接続は、例えば各層端部を
利用して比較的容易に行うことができる。いわゆるスル
ーホールコンタクトを用いても良い。透明電極層(4,1
6,18)は、ITO、SnO2等の金属酸化物で構成することが
できる。ただし、第3の透明電極層(18)は、裏面側接
合(20)の形成の際にプラズマに暴露されることになる
から、耐プラズマ性に優れたものが好ましい。この透明
電極層(18)を複層膜にすることも可能である。絶縁層
(16)は光透過性に優れたものが好ましく、SiO2等が使
用できる。
及び透明電極層(4)を順次通して光線が入射する。裏
面側p−i−n接合(20)には、入射側の接合(10)、
第2の透明電極層(14)、透光性絶縁層(16)及び第3
の透明電極層(18)を順次通して光線が入射する。両接
合(10,20)は、p層側(11,21)がいずれも第1の透明
電極層(4)に電気的に接続されており、n層側(13,2
3)がいずれも裏面外部電極層(40)に接続されている
ので、透明電極層(4)と裏面外部電極層(40)とを通
して両接合(10,20)の光電流の和を取出すことができ
る。
件で決定される。これらの接合(10,20)の電圧は、構
成材料であるアモルファスシリコンの電気的な性質に主
に依存するのであって、直列の場合の接合電流に比較し
て入射光量に対する依存性が小さい。このため、電流バ
ランスを考慮する必要が全くないばかりでなく、電圧マ
ッチングを気遣う必要もない。したがって、光活性層で
あるi層(12,22)の膜厚を比較的自由に選ぶことがで
きる。例えば、従来のタンデム型の場合と違って両i層
(12,22)を同じ膜厚にしても支障がなく、各i層(12,
22)の膜厚を200nm程度にすることができる。つまり、
第4図に示す従来のタンデム型太陽電池に比べて特に裏
面側i層(22)をかなり薄くすることができ、電池の光
劣化が大幅に軽減される。しかも、時間あるいは季節の
違いによる太陽光のスペクトル変化に基づく各接合(1
0,20)の電流バランスの崩れを考慮する必要もない。な
お、入射側n層(13)及び裏面側p層(21)の位置を素
子表面からできるだけ離せば、これらの層による吸収ロ
スが低減され、光電変換効率を高めることができる。
係る第3並列アモルファス太陽電池の断面模式図であ
る。なお、参考例2は、実施例の説明のためのものであ
り、本願発明の技術的範囲に含まれるものではない。
(20)の上に更に第4の透明電極層(24)、第2の透光
性絶縁層(26)及び第5の透明電極層(28)を形成した
上で、3段目のp−i−n接合(30)を形成する。3段
目の接合(30)も、他の接合(10,20)と同様にp層(3
1)、i層(32)及びn層(33)の順で成膜される。裏
面外部電極層(40)は、3段目の接合(30)の更に上に
形成される。更に、第1、第3及び第5の透明電極層
(4,18,28)の間、並びに、第2及び第4の透明電極層
(14,24)と裏面外部電極層(40)との間が電気的に接
続される。
ずれも第1の透明電極層(4)に電気的に接続されてお
り、n層側(13,23,33)がいずれも裏面外部電極層(4
0)に接続されているので、透明電極層(4)と裏面外
部電極層(40)とを通して3つの接合(10,20,30)の光
電流の和を取出すことができる。3接合の各i層(12,2
2,32)の膜厚は、第1図の2段目並列太陽電池の場合の
i層に比べていずれも小さくなっており、光劣化の軽減
効果は大きい。
ァス太陽電池の断面模式図である。
(4)、p−i−n接合(10)及び第2の透明電極層
(14)を形成した上に、2段目のp−i−n接合(20)
を直接形成している。両接合(10,20)は、いずれもp
層(11,21)、i層(12,22)及びn層(13,23)の順に
成膜される。更に2段目の接合(20)の上に第3の透明
電極層(24)、透光性絶縁層(26)及び第4の透明電極
層(28)を形成した上で3段目のp−i−n接合(30)
を形成する。3段目の接合(30)も、他の接合(10,2
0)と同様にp層(31)、i層(32)及びn層(33)の
順で成膜される。裏面外部電極層(40)は、3段目の接
合(30)の更に上に形成される。更に、第2の透明電極
層(14)と第4の透明電極層(28)との間及び第3の透
明電極層(24)と裏面外部電極層(40)との間が電気的
に接続される。
て1段目の接合(10)に対して電気的に直列接続されて
いる。2段目及び3段目の接合(20,30)は、p層側(2
1,31)がいずれも第2の透明電極層(14)に電気的に接
続されており、n層側(23,33)がいずれも裏面外部電
極層(40)に接続されている。つまり、3つの接合(1
0,20,30)が透明電極層(4)と裏面外部電極層(40)
との間で直並列接続されている。この場合にも、3接合
の各i層(12,22,32)の膜厚は、第1図の2段並列太陽
電池の場合のi層に比べていずれも小さくなっており、
光劣化の軽減効果が大きい。しかも、第2図の3段並列
アモルファス太陽電池の場合に比べて透光性絶縁層(1
6)の形成工程と透明電極層(18)の形成工程とを省略
することができ、製造工程が簡略化される。
陽電池ではガラス基板(4)を使用しているが、透明な
基板であればその材質は問わない。
ス半導体材料は、アモルファスシリコンに限らず、Siと
C若しくはこれらの水素化物、ハロゲン化物及びこれら
の材料とGe、C等との合金等を使用することができる。
陽電池は、光活性層を含む複数の接合を膜厚方向に形成
するに際し少なくとも一部の接合を電気的に分離した上
でこれを並列接続したものであり、更に具体的には透明
電極層の上にp−i−n接合を設け、この接合の上に透
明電極層、透光性絶縁層及び透明電極層を順次介して更
にp−i−n接合を設け、更に後者の接合の上に外部電
極層を設けておき、これらの透明電極層及び外部電極層
を通して両接合を電気的に並列接続したものであるか
ら、電圧同一の並列条件で各接合の最適動作点が決定さ
れ、各接合の電流バランスを考慮する必要がない。した
がって、従来のタンデム型アモルファス太陽電池に比べ
て裏面側i層の膜厚をかなり薄くすることができ、電池
の光劣化を良く軽減することができる。しかも、時間あ
るいは季節の違いによる太陽光スペクトル変化に基づく
各接合の電流バランスの崩れを考慮する必要もない。
電池以上に光安定性の高い高効率アモルファス太陽電池
を提供することができる。
モルファス太陽電池の断面模式図、 第2図は、本発明の他の実施例の参考例2に係る3段並
列アモルファス太陽電池の断面模式図、 第3図は、本発明の実施例に係る3段直並列アモルファ
ス太陽電池の断面模式図、 第4図は、従来の2段タンデム型アモルファス太陽電池
の断面模式図、 第5図は、従来の3段タンデム型アモルファス太陽電池
の断面模式図である。 符号の説明 2……ガラス基板、 4,14,18,24,28……透明電極層、 10,20,30……p−i−n接合、 11,21,31……p型アモルファス半導体層、 12,22,32……i型アモルファス半導体層、 13,23,33……n型アモルファス半導体層、 16,26……透光性絶縁層、 40……裏面外部電極層。
Claims (1)
- 【請求項1】第1の透明電極層の上に第1のp−i−n
接合を設け、 前記第1のp−i−n接合の上に、前記第1のp−i−
n接合と略同じ面積の第2の透明電極層を介して、前記
第1p−i−n接合と略同じ面積の第2のp−i−n接合
を設け、 前記第2のp−i−n接合の上に、前記第2のp−i−
n接合と略同じ面積の第3の透明電極層、透光性絶縁層
及び第4の透明電極層を順次介して、前記第2のp−i
−n接合と略同じ面積の第3のp−i−n接合を設け、 前記第3のp−i−n接合の上に外部電極層を設け、 前記第2の透明電極層及び前記第4の透明電極層を電気
的に接続し、かつ、前記第3の透明電極層及び前記外部
電極層を電気的に接続することにより、 並列接続した前記第2のp−i−n接合と前記第3のp
−i−n接合に、前記第1のp−i−n接合を直列接続
した ことを特徴とするアモルファス太陽電池。
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