TW200443B - - Google Patents

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200443 A6 B6 部 中 央 $ 五、發明説明；1 ; 本發明是關於塗復之描材料。特定言之泰發明是關於一 輕色含許多層沉積在所定義並具有利結果的釉材料上的堡層。 在此所使用的”釉材料”是指上釉技藝者所採用的塑疹 或玻璃質材料的板材。”坡璃質材料”包括玻璃及活晶體 (―vitr〇crystaUine〕材料。這樣的板材大部份是透明旦 澄清’但他們可能#色及/或可能只是半透明或甚至於不 透明。例如，一個不透明抽嵌板被用為安裝在透明板下的 嵌板3例如在一個隔板的内部中希望再產生上層透明板的 結構，而不允許透過這些較低層的嵌板觀览内部。 釉板材及嵌板的各種廣泛用途，已相當擴大㈣裝的知 識，以改進特球的品質。例如塗層可能保護甜表雨，對轴 上色或產生一個越過塗層的導電層。 最近幾年為選择多層塗層已投二目當的研究努乃，多層 塗層對供運輸工具及建蔡物使用的抽嵌板提供低放射率^ /或其他光学或能量透射或反射特性。 個目標疋為減少封在嵌板空隙内的熱散失，同時在二 個方向中，旣不阻 — 。過去… 妨礙高度的光透射 遇去為達到此目的+ —方+ 所 、個由許多薄層材料 及成的^層，這些材料可互相補助以達到所希望的結果。 份^上經由反射金屬例如：銀之單―塗裝可以提供大部 ，以：二的二孥特色，该反射金屬會形成—種狗薄的塗層光邵份。讲而从“射’同時反射大部份紅外 伤然而农單獨使用時，會使這—種薄層在大氣中失 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .^· • J^:: 4 78. 8. 3,0 200443

五、發叼説明（2 .Μ濟部中央標準局印製 色、X色、減少光透射且易形成斷片。也會限制機械強度 ，因此易碎落及磨損，特別是在釉嶔板的周園。 、因此使用其他塗層與放射性塗層之組合，以保護抽嵌板 垒層’使其有抗磨損的物理特性及抗腐蝕的化學特性。此 外這些其他塗層是-選自不會顯著減弱塗心之光㈣㈣ 材料。直接鄰接於反射塗層的其他塗層大部扮常為金屬氧 化物韻，會時會與其他材料結合，例如清漆類、積層塑夢 板類或其他抽板材。這些鄰接的塗層係用在—些實例中， ^用做為-種可見光部份的#反射層之作用，以改進光學 品質。 其中最常用的魏枋料是氧化錫，典型地作為反射金屬 广的塗層。這個提供了許多要求的品質而且通常亦不 二^其是作為一個朴反射層時〔如果應用在一個適當的 :，…有艮好的光學特性而且也可與鄭接… 艮好的固結……以被用在反射金屬的下層及上層： 氧Π:添加其他金屬或金屬氧化物或置換部份 以h垒層總體特殊的化學、物理或光 ·”、而，添加材料之選揮，及其應用在抽上的牡果… 項複雜的事件，因為材料選揮的趨向 ° Ά — 而減少—個或多個其他品質。同樣可能要求?另^某個特質 此類其他品質之反故果進㈣正。 ^層對 那種結果中—個典型的複合塗層結構 申請説明案第EP_A_226993 F有 子在欧洲專利 θ 皖有婷細説明及申 …在破璃基質上—個高透射率、 "：。這 --—_ r Μ爱層，係 -—------- 5〜 78· 8. 3,000 請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) .发· •訂· 200443 A6 B6 〜層透明：、〈乳化物反應產物，其中包含辞及錫作為第 ^ ^反射膜’銅是沉積在第—層獏上的底模，銀是 應產物…反射膜，-種合金之氣化物反 射膜，s… 舞及锡沉積在銀上作為第二層透明抗反 、_ —礼化鈥作為—個保謾履層。 -在歐洲專利申請説 層，、— 市甲π A*"104870描述了相似的塗 、匈、广《只伤! 1揭示了 —種依序以氧化錫塗層m 、鐵塗層及另-層氧化錫塗裝之浮…读 層的厚 土衣又序動海玻璃。各氧化錫望 久K 30到50微米’銀塗層是 有i到5微米。 l主赝i8到丨2微米而鋼塗層尸 在歐洲專利中請説明案第ep_a_ 專利的高透射率“…㈠ 烷中柄述及申讀 朴金屬基質 i攻射率的可加熱物品包含-種透明的 層透=種包括沉積在上述基質表面上的辞之第- 氡化物塗種况積在上述抗反射金屬 外線反2 線反射金屬膜、—種沉積在上述& 卜線反射金屬膜上的含金 、 由鈦、錯、路、鋅…：： 中上述金屬是選自 -層包括沉積在上述含金屬底及步 氧化物獏。 的砷的抗反射金屬 已被證實應用在這些莖層上的技衡是陰極 濟 部 中 央 It： 準 /¾ 印 (請先閉讀背面之注意事項再填寫本頁) •訂… .線· #係在#常低的壓力下進行，通常是q & ’此技 個越過釉表雨之沫覆 ^ 下，以得到〜 下進行，例如：= 技術可在-個情性條件 例如於虱的存在下；但也可選 τ ••氧的存在下完成反應性喷鍍。 ’’生氣體如 Τ4 ⑵()Χ2!)7公及）

78· 8. Π,ΟΟΤ 200443 五、發明説a;j ( 4 ) ，:〕專劍申叫说明案第Ep_A_以⑼52號描述在氡大氣中 二鋅與錫合金的陰極靶反應性喷鍍，使合金之氧化物反 μ產物應用在釉材料基質上之用法。 ^歐洲專利中請説明案第Ερ_Α_2ΐ9273號中大部份是關 及種馬達運輸工具之窗用導電塗層，記述塗裝方法C Γ:產物其中-種除反射塗層’例如氧化鋅，係首先 月接著疋―種透明銀層、—種犧牲性金屬層C例如鈦 二、—層二氧化鈦及第二種除反射層。這個方法中之二 •'反射塗層均利用反應性喷鍍法沉積。 射㈣於提供-種轴板材之保護層與-種銀反 〜81此不僅保護銀抵抗制，也利用抽材料衣 響。、艮層之性質，不會對所赋予抽光學特性留下不利的影 括提供裁有多層望層的袖材料基質，其中包 其特^是銀声之及—種透明度層間的銀反射層， 覆層則包含二種選：―層金屬氧化物；而銀層之 多種、m 、不舞鋼、鉍、錫及其兩種或 杈性：二的犧牲性金屬氧化物層，且係“ 過15 =—物所形成，氧化辞層厚度不彡 叙、：化叙取上：金屬氧化物覆層是選自由氧化錫… 群中。、—氧化钬及其兩種或多種混合物所組成的# 本發明也提供—種在釉材料基質上沉 ，Ίί•夕·-/、„ A 说：y頌±增的万法 “有—層失在一種透明底層及-種透明覆層間 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) k. •線. 1 4(^1〇Χ 2ί；7/； j|) 7 78. 8.' 200443 部 中 央 枯 局 印 ^.-1 五、發明説叼（5 / 的銀反射層。其特徵為銀層的底 :沉積形成，·且其中銀層的覆層係層金屬氧化 鋼、叙、錫及其兩種或多種 歛、叙、不轉 金屬層，並將該金屬轉化成氧化物，斤：=中的犧牲性 之氧化鋅，而最上層覆層為選自由氧化』于f小於15微米 钇、二氧化鈥及其兩種或多種 、礼化鉍、氧化 金屬氡化物依序沉積形成。D I所組成的集團中之 二發明所定義的金屬氧化物與 了许多比先前設計更重要之優點。因：… 希望光學特性…覆釉材料基質，利用下二:二有所 =當厚度的底層及覆層’將使該轴材料基 = 衫響。此外不但經由M 又剽員 甚札基質的裝造万法而且透過已塗j 越、哥侖’提供—種使銀層·抗腐蝕性的重大改進。就 :過整個基質兩積所錢的均句性而言，甚至於大= 〔例如長度達6公尺）故访也 尺）亚忒越過長時間生產所得產物特質 '堅固性而言，係得到一種品質均句之產物。所採用之洋 農法容易進行，且可可靠地再製造，如果需要可再經長^ 测試。 似乎利用確保氧化鋅的低厚度可遠到初步的改進。該後 層中犧牲性各·展场p L > ’屬N上此氧化鋅溥層的位置也很重要。另— 固因素郎氧化鋅可能經由犧牲性阻擋層漆入，而影響銀鈍 化程度。壶A A-』 士 乳1乳的存在亦可飩加強了犧牲性金屬的氧化作 ^犧牲性金屬完成氧化作用時可避免銀的氧化作用。上 以所形成的氧化辞層补常緊密而且可大量防止大氣氧參入 ·_ 丨 1 II — 請先®^讀背面之没意事項再填寫本瓦 -· .訂* •綠· ^ 0：<：!<)? >: >4' ~ 8 78. 8. 3,000 經济部中央標準局印製 f 4f2!0X 297^: ¾) 200443 A6 B6 銀層中。 不管反應機構如何，都是 ： 均勻且兖全的氡化作用 呆犧牲性金屬全部^ 本發明的利益特性為供組成之低再重現之方法（ 板常與第二個嵌板形成〜個雙層轴*生釉嵌板’該等名 可應用在反太陽光嵌板、汽車早伍。熬而，本發明访 異之塗層之主要差別在於銀層的厚户兄：上。廷些用途相 層典型厚度介於24到28微米㈣太陽光嵌板的雜 超物米，而低放射，"層：于之：型銀層厚度 12微米範圍内。在汽車窗户上所使；厚般是介於8到 任何其後之熱處理，例 又辍牲性金屬可利用 破璃皙鈾此U 大殿燒或管曲步騍#梂^ 破知質釉板材時’亦有助於保護銀層。夕騍處理-種 本發明最廣泛的用途將為與透明二 佳的釉材料。 贤連用’而破璃是較 適於本發明目的之較好沉積技 這個在使用上不僅快且方便 r力式加強喷鍍法， 的固著性及鄭㈣層的枯著而^的mf層間 極佳之物理品質。以其本 "，邓對沉積塗層提供 之各所需金屬之陰極係在必要==氧化物之形式應用 別適且之陰㈣式是含有巾'舌化。-種特 劑流體例如水冷却内部之旋轉單位二？筒，藉由冷却 陰極喷艘室，以促進金屬與 ^好是-種多重 在—個多重陰極嘴鍍室中K ^不同組合的應用。 -一__ Π ^便地達成較好的f層組 78. 8. 3,000

.裝. 請先閱讀背面之注意事靖再填寫本百 •計： 9 200443 A6 B6 :>i、 中 五、發明説明（7 .) 態，其中不同的陰極提供 沉積次序是由其來源沉積在喷 ' =積材料來源’氧化物的 通過陰極的移動方向所控制。…區之次序及由釉材料基質 在單一通道中沉積一層以上 備且可快速的建立所需要n有利於完全使用嗜鍍設 混合物的同時沉積作;::::二種:？或金屬氧化物 仁疋在这個情形下的來源可能有兩行 進行活化或者為由金屬陰極同時 —加紅 金屬爻合金所組成的單一 a鉍。 两與犧牲性金屬層應 Λ 氬中沉積，而其他以性武體中，例如 氡之大患由利用札化物沉積，或者最好在含 作壓力最好二Γ。屬=性喷破法形成，之操 °15到〇夕〇帕斯卡之間。 在含氧之大氣中嗜鍍金屬時，該氧化產物 〜 或：:!：？。至少部份產物可以-種低氧化物形式：： 的沉積作用狀慈存在、钱而在反應性大氣中後續 使稍早沉積r成錢嵌板《任何後續熱處理的確傾向於 … 成之任何殘留金屬或低氧化物完全氧化。後層對抗氧化作用之犧牲性金屬，係於- 通常均在後二種氧化大氣中期間轉化成氡化物。此⑴ 接續的執處理：金屬氧化物沉積期間進行，但也會在飪' 有受到如、期間或是在延長儲存期間發生。假如銀層 射性而且Γ的保護S則巳塗農之抽材料基質會喪失其低彳 鈦，它具^董地減低其光透射性。較好的犧牲性金屬4 匕、有容易被氧化及形成吸收力补常低的氧化物的似 ----__ (請先聞^背面之注意事靖再堪寫本頁) .裝. •訂…：…：…： •線. - | 0 ~ - ' 200443 200443 經 濟 部 中 央 局 e：j 五、發明説明；8 > 點。我們已經發現以鈦作為犧牲 效的阻冑層以防止銀氧〖。 4供一種补常有 塗層所使用之每-種材料均均具有光 性，彼等性質造成塗層之總體特性 '總 于及物理特 括低放射性及高光轉移性，而且在室溫Γ ,w性不僅是包 期—間内具有能對抗腐餘之化學 =@温下且在延長 及其相互之間具有良μ1 理特性包括對基質 尸碎落“ 及良好的抗廣損能力，例如 抗碎落或裂碎及抗磨蝕能力。 例如 二=’各金屬氧化物塞層具有良好的光穿透性及良 好的熱為射，且銀層能反射熱藉射。 及艮 =化學上，則需保護反射性金屬對抗氧 目的，是“圍繞在能減少或 二= 層或金屬氧化物層之氧疋更多金屬 含-種金屬達成且部份是藉由包 種其對r反應性比反射性金屬更 根據本發明之塗声， 成。 第—層具有好/各連績望層所赋予之性質包括下列: " 先透射性質的金屬氧化物層在化 情性，而在物理方面邳層在化學歹面罢 ㈣η料與基質形成良好結合。 反射性金屬層減少熱輕射的 犧牲性金屬層是反射性……f允并先遂射。 之氧氣反應。 *屬的保護層，而且會與接觸 :有如上疋義〈有限厚度的氧化辞 特性而且也會阻擒氡氣進入它下面的… 先透： 金屬氧化物的最上 較低嫩供—個具：…度透明且沒有反射性，- 固具有艮好的化學抗性及抗風蝕作用之々 ~—- νί7 'Κ2]())< 297 j： (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 叙. …：................ 11 - 200443 A6 B6 、發明説明（9 護 五 阻擋層。 (請先閲讀背面之注意事·項再滇寫本頁) 底層的透明金屬氧化物層可選自氧化錫C包括氣化锡姻 ，即一種經銦處理之氧化錫〕、二氧化鈦、氧化鉍、氧化 叙或其二種或多種氧化物的混合物。该層通常可含有多層 不同氧化物。一種較佳的組態為在釉材料基質上況積—層 一氧化鈦，並在上述二氧化鈦上沉積一層氧化锡。 我們已驚訝地發現’氡化鋅層之存在也尤許稍減少犧牲 性金屬層厚度，同時避免銀層氧化。因為犧牲性金屬更容 易、更兀全且更均勻地被氧化，因此有助於達到高度光透 射率，假如復層的氧化物層的沉積作用是在一個轉常純的 氧大氣中進行時，則這種利益就會更明.顯。 專中請中之中請案，在1989年1月5日首先心 '芡英國專利申請案第89〇〇166 3號，描述並申 層組態’其中在銀反射層之下包括—層氧化辞底声 點將^時，這種氧化層可包括在根據諸”層內，此 路好於下文中討論。 :氧：辞層置於度層的犧牲性金屬層之上 結果’使ϋ個氧化鋅層成為本㈣ 某办員面特r}發月基本的特色，氧化鋅有 一興面特破，因此氧化辞的總量 化錫比較，0ι1 & π π 了氱的低。然而與氧 經 濟 部 中 央 標 準 局 印 &牧’則氧化鋅的化學抗性妨 因此已知一括Α 权差且更傾向於風蝕作用。 種包括一層氧化録必令成， 上雨旋置^卩使絲化辞的最 表，、二π 吊亦热法用在釉材料基質的外 取固為廷些塗層不能抵抗 發生在I# 、 μ勢。相似的問题也會 级主在乳化_與氧化錫的 τ Q物。逡些I層通常僅在用於 78· 8. 3,〇〇〇 五、發叼説叼：iO , -個密封雙層抽嵌板的内表面上才有用途。假 pvc進行積層修合時，除# 板輿 „ J 八 個可相容乏妹a 層，例如：氧化路，否則氧化辞的存在會與用來b = 板的站合劑間形成問題，如. 、 、口 口月層 如.發至不同望層之分 氧化#也不適合用在使用粘合 „ ^ ^ , ▼口釗的®破瑀的邊緣上：氧 .、占合劑反應的傾向，因此應除去氧化 相關的問题，印反射性金屬有個 瓶A m L 於邵接層不具有强粘力的 傾向，因此也應該在使用粘合劑之 因此本發％ & χ ，f' 射性金屬層。 二發月的—個具體貫例是一種已塗覆之轴材料基質， 拔使用-條細長枯合劑圍繞在基質4的周圍， 據本發明的塗層應用在上述 將根 基質周η… 社上也基質面剩餘邢份9由此可確保 基質周圍沒有氧化鋅。這種塗声 M m R與粘着劑細長條組態最宜 ^根據本發明塗層首先越過整片基質之-雨進行沉積 .-，、後從上述面周園邊緣 積， , 扪丨伤知、去金層最後在邊緣部份使 用粘合劑長條來完成。 ^物便 ,,至71的除去涉及某些問题，相當护 芡氧化辞之作用傾向 軟 斷裂，而巳斷裂者則會L 滑劑’易伸長而不易 -種磨麵機除去錢邊緣的部扮，特別有故的是使用 ::周圍枯合的嵌板係用在雙轴單位中，此時提 有政粘合劑是很重要 ’、種 地封住空陣’…《 個嵌板之間能長期密封 部扮。 且現應在使用#合劑長條之前除去邊緣的 策4要者’以發明而言雖W㈣是㈣晶形形式沉 五 200443 、發明說明（u 積，但〜/ :在例如抽材料垂直的方向中有趨 ;不=所，给的材料重量產生—個相當…層。此 觸，而且叙月具有—種安定且均勾塗層結構之目的相抵 為上面苗：土層疋間造成-種比較弱的物理強度且可飩成 以論過的化學抗性降低之可能原因。接塗声良=月在選揮氧化辞復層厚度時’需要在能給予鄰 點最少免在魏中導入物理弱 義， 人里芡衡九間号求平衡。如上述所定。=的最大厚度是15微米而較佳之低限制是5微米 佳的厚度是在7到13微米的範固內。 假如履層的犧牲性金屬了 *底層中，反射層之…=二Γ外，層也 中者，特別注意使㈣層 中，夜層及底層的氧化辞實在這種紐憨 二 w贳上取好具有相同的厚度，r 者厚度取好在5到14微米的範圍内。 =提供低放射半及高光透射性之目的 好應在8到〗2淤皮Rfl仏办 J ^ 通常…的限值内。低於這個範圍時， I 红外線反射度下足，而高於 阻擋光的透射。在定義的限作“料&金屬過漫 地地允許達到U以下的放射率。 了再重我 關於其他塗層厚度的選择一定要與銀層及氧化辞〜 :靖關，而且互相關連’以決定所結合的光學路徑：每二 層產生的厚度及折射率〕 每— 卞J，使已垔後的基質得到所f望'f，'^21 OX 2f)7 /：/γΜ

(請先閱讀背面之：工意事項再填寫本頁) k......... *訂·. 參 200443 經 部 中 央 芈 ΰ 發明説明（12 ) 光學外觀。對—種低故射率塗層的要求是此塗層僅可能具 有一個中間反射色調， 、 有-個帶有藍W:外=1的顏色則寧可具 權思一 $、， 此外尚夸求一種弱度光反射，以 度先透射性c 一般而言可在銀層的某-邊總厚户 在3°到45微米之間獲得所要求的光學特性，但是要睁解: 由於不同的杜料 义戈呀鮮， 需要” 折射率，…個塗層的厚度可能 而要凋正一個塗層或其他 犧牲性金屬声厚度1走一所需要的色調0 具體實例中，二：Γ 12微米範團內，而在-些 較隹的厚度是2到3漶炎is 括足量材料與炎入“ 固内。必須在包 光透射㈣反應’與維持所要求的 先道射特性…間尋求平衝。 ： 層低厚度係由认# ^ 了達成艾金屬 屬狀態中，'、“: 接存在於金屬層之上。在其金 遣固f層代表—個良好光透射 若全部"的光透射在—個 二因此 個極小的戽谇 久、 又扪犯園内時，需要— 個金屬層的透射特:金屬層被乳化時，的確會改進這 作用期閑且也會發生在^情形會發生在隨後塗層的沉積 的-種f曲處 /熱處理歩驟期間，例如對基質 處理時，則建議較厚處理。假如進行這種梢後的熱 屬氧化物。 層不反射、光透射性 ::中氧化錫與二氧化鈥 為了使用〜藉了叼比例通常並不重要 要求氧化锡及敏設備之實際上的便利，可能-^!一欽二者都在基質的單-通道中沉積 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁j 叙. ,訂..... ，線. 78. 8 ·* 15 ** 200443 200443

16 發明説明（u, 在私發明之—個有利的具體實施例中，氡 大部粉，此具體實施例中.，氣化錫之較 /表風層之 米的範圍内，而二氧化铁的厚度是2到8=；；15到賴 如前面所討論的’在底層中任何氧化锡之內。 13微米的範園內。 佳厚a疋7到 ，因此以—種氧化物取代另—種氧化物時射率7^化锡 厚度應為氧化锡厚度之約75%，以 钬的 覆層最好包括—声沉浐/ μ ^ 丨]义先學特性。 佑積在上述氧料層及—声上扯、.μ 層之間的氧化錫，這種 a上述裒上 i狸取上層疋指二氧化 不必要這個中予 n錢層 損及磨耗，括H患 a 丄層頦外的保護對抗磨 履層中其他金屬氧化物的厚 減少，但該塗a的斗思社 曰成比例地 丄層的先學特性等不t顯著地改變…種合贤 密度而且因此抗磨耗性良 4 種问緊 的氧化敏層更容易沉積U化锡層會比—種高緊密度 厚= = 作為堆《…之保護層，其 〜15微木的範固内為宜。 此==氧化錫實質上彼此之間具有相同的折射率， 于的觀點來看’可心相交換，不需要 中做饪何調整。 n辱 在塗層的積層中變更不同塗層 辨認的光學381 異為整體塗層色調之些微改變。 衣發明提供一種於舢座从。 ^ ^ 種狄射率約0‘ 08之已塗夜釉材料基質且 =反射色調…光透射率高達百分之…果要； 調，則可能得到較高的光透射率; 78Γ?； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 叙· •Λβτ.......：： •線. 200443 經濟部中央eilL局印ΐι 五、發叼説明；14 百分之88。这it你* 學特性有着相-的比起先前技藝已塗覆的玻璃基質的光 1有相當的進步。 衣發明提供的〆真机β , 再製得這樣的結果的應用，亦能均句且可 材〔典型地尺寸明可县一大片玫璃板 上容易地JLH 7么尺而寬為3公尺〕的整個範圍 且：再製得百分之87C藍色調）的光透射性。 顯著者為：二所：發明允許輕易調整特性以赋予產物。最 1於所要求的犧牲性金屬層厚度，可獲=率、光透射率及反射色調，因為根據衣發明之上層 的存在，使犧牲性金屬之精密厚㈣欲達成之特性 較不重要。 衣發明參考以下實例詳細説明： 實例1 一，1 , 將-個故射率〇。84及光透射率百分之89的4毫米厚度浮 破场的—個窗玻璃嵌板置入—個加工室中，此加工室包括 分別具有鈦、錫、鋅、鈦及銀之標的物之5個平雨磁力喷 鈒源、—個氣體入口及—個氣體出口氣問、—個玻璃傳送 器、電源、喷鍍氣體入口等及—個撤出口。 使加工室中的壓力減到0。5怕斯卡。輸送嵌板通過活化 的第—個鈥、錫及鋅嘴鍍源並在〇„2帕斯卡之有效沉積壓 力中以氧氣進行冷喷鍍，依序於基質上產生—層二氧化鈦 ，接著是一層氧化錫及氧化鋅層。然後排出氧氣並將基質 倒回通過活化的銀及第二個鈦喷鍍源，但這次是以氬氣為 噴鍍氣體，增加一層銀層及鈦層，並通過活化的鋅、錫及 『先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 叙· .訂· •綠 Τ4(210Χ 297-/；^) 17 78. 8. 3,000 2〇〇443 五、發明説明（15) 弟一個鈇源，以氧氣為喷敏氣體；再得到表化辞、氧化 及一札化鈇塗層。所得f層組成如下，自玫璃表雨開始： 底層 3微米 一乳化敏 22。5微米 氧化錫C Sn02 10微米 承1化辞 反射層 10微米 銀 覆層 2。5微米 鈦，供轉化成- 12微米 氧化辞 微米 氧化錫 12微米 -承1化敏^ 氧化鈦 {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .^· •訂· 已塗覆破璃嵌板之整個表雨（嵌板表雨長為6公尺，寬 為3公尺〕的放射率約〇 〇8而光透射率約百分之87。該塗 層士藍色C藍-綠色）反射色調。其色指數L，a，b〔 亨特反射半c Huwer reflectivity )，由美國馬里蘭州 2〇91〇，銀春區菩堤樹園24 _ &〔 24 _ 31以以⑼“⑽，

Si lver Spring )的加德納見歐泰克中太平洋科学部門 C the Pacific Scientific Division of Gardner Neotec )的 《光谱色系 ” c ” Spectrogard Color Sy s t em ” ）比色計在一個已塗覆的表面上測得），L約等 .線 經濟部中央蛉準局印於 'f 4(210X 297^'^) 18 78. 8. 3,000

200443 於23’ a約等认备 CTF η 寺f 而b約等於員4，這此數值田.乂 CIE D 65光照度測得。 、二數值疋以 射比率Rl為‘約百分之53 :’c κ數值可計算出光反 為獲得的這些光學特 ’可容易的獲得，且為了保持:::性=:鈦層厚f ，-.以使實質上—& 3丨1 — 拉制彼等設定 所要求的品質管制標準f過程產生之所有的釉嵌板均吻合 本貫例中，特別適於進行一 璃中’夜層的鈦犧牲性層厚度=曲及（或殿燒處理之玻 厚度保持不變。 夂買7微米，其他塗晟層及 實例2 實例1.之變化中，传ϋΐ tj ^ 似的塗夜破璃夜板，作是以：：1相同的設備製備-個相 低層，& 較厚的氧化辞形成最上厚； 層：而且沒有二氧化鈇鄭接層，如下.上層及較 底層 · (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁 •裝. .訂. 經濟部中央括準局印ΐι 26微米 扣微 反射層 10微 技層 2.5 12 米 米 微米 5微米 米 氧化錫 氧化辞 銀 鈥，供轉化成二氧化鈥 氧化_ 氧化錫 25微

.線. 78. 8. 3,000 200443

五、發叼說叼，17 這·種塗復的坡，但合打 现塥嵌板具有與實例 ή微降低其抗磨損性。 Α例3 相同之均匀光學特性 以實例 個„ 的相同认備再製備一個塾覆的玻璃嵌板，但以 且相當厚的氧化錫層與玻璃接觸，其組成如下： 底層 28微米 1G微米 反射層 沁微米 I層 2。5 10微米 10微 12微 微米 米 米 氧化錫 氧化鋅 銀 款’供轉化成二氧化欽 氧化鋅 氧化錫 二氧化鈦 (請先閲讀背面之注意事項再嗔寫本頁) .装· .訂· 濟 部 中 央 標 局 印 這個塗覆玻璃嵌板中，自均勾横跨嵌段表面所測得的光 透射率約百分之88而放射率約〇。〇8 C嵌板表雨長為6公 尺，寬為3公尺）。该嵌板比其他實例具有更中性的反 色調。亨特反射率L，a，b中，L約等於22，a約等# 員〇。5而b約等於員3。從L等於約為22的數值可計算出 光反射率Rl約百分之4。8。 射 ，缘· -20 3-〇0〇 200443 A6 B6 & '發明説明（18〉 實例4 以貫例1的相同认備再製備一個塗覆的玫璃嵌板，但是 珩二個鈦源改以316不銹鋼標的物代替。沉積成如下組 與厚度之多層塗層： 、、％ 底層 15微米 14徵米 反射層 14微米 覆層 8微 W微 川微 米 米 米 氧化錫C Sn〇2 ) 氡化鋅 銀 不銹鋼’供轉化成氧化物 氧化辞 —氧化欽 衣實例之變化中，# 依下列組成及厚度的沉積该塗層 請先閱讀背面之注意事項再填窝本頁) •故. ·"· 砬濟部中央標準局印製 底層 15微米 W微 2微 反射層 10微 米 米 米 氡化踢C S nO 2 ) 氧化鋅 不銹鋼，供轉化成氣化物 銀

•線· 200443 A6 B6 1層 6微米 14微米 10微米 五、發明説明ί 19 不赛御，供轉化成氧化物 氣化辞 二氧化鈦 衣專利，兄明書中設定的各種塗層厚度值是依據K.L.蕭 布拉c Chopra )在《薄膜現象，，c „ Thin Fiim

Phenomena ”）〔麥克格若-希爾〔McGraw_HiH ))中 所描述的以橢圓體測量法測定，是使用由在新渾西州的法 确西斯的魯道福研究C Rudo 1 ph Research of F1 anders : 所製造的AUTOEL I橢圓體測量計。這個設備使用一種氤 —'歲金I射源C ^ = 6 3 2。8 nm〕而且在入射角為70度時測 量反射。 {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) *装· .訂· •線. 蛵济部中央拮準局印- 肀4(21〇: 22 78. 8. 3,000 3 _____ 第78 109695號專利申請案 中..艾補直說明害（8 0年JLIL1一― 1 i 底 層：20 nai SnOa/13 nm ZnO 反射層：12 nm Ag

If 阍：3 nm不綉綱316 (於氧化物中轉換）/14 nn ZnO/23 η· S η 0 z 所使用的不诱網為不诱網316 (18¾ C「，10¾ Ni, 2« Μη)塗覆的 玻璃方格具有約〇 . 08的發射像數，Κ及約86%的光穿透率，其比 色指數L, a, b(在塗覆的表面測定，Hunte「反射率），L=妁20 ，a=約].4而 b=-4.3。 2) 底 層：24 nm SnOz/13 nm ZnO 反射層：1 1 nm Ag 覆 層：2.5 nm鋁（於氧化物中轉換>/14 nm ZnO/29 η·

SnOa 塗覆的玻璃方格具有約0.08的發射係數，以及約87%的光穿透率 ，其比色指數L, a, b, L=約20.5 ，a=約-2，而b =約 -4.8 3) 底 層：37nBSn〇2 反射層：11 nm Ag 覆 層：2.5 nm鋁（於氧化物中轉換）/14 nm ΖηΟ/27 η·

Sn〇2 塗覆的玻璃方格具有約0.08的發射係數，M及約86.5%的光穿透 率，其比色指數1>,3,卜，1^=約20.5 ，a=約0.3，而b=約 -4.2 wu\0193.g

Claims (1)

1. 7 7 7 7 ABCD 六、申請專利範圍 1. 一種載有多層塗喔的釉材料基質I該基質包含一看夾在 一種透明底層及一種透明覆層間之銀反射臛，其特徴是 銀層之底層及覆層的各別缌厚度範園為25至50微米，銀 層的學度範圍在8至45微米之間，而犧牲性金羼層的厚 度範圍在2至12微米之間，以及銀層之底層包含至少一 層金驅氧化物，且銀層的覆層包含一靨由選自包括鈦、 鋁及不銹網之族群中之犧牲性金層之氧化物層，且係由 犧牲性金_先沉積，並使之轉化成氧化物，一曆厚度不 超過15微米之氧化鋅，及最上曆選自包括氧化鍚、氧化 鉍、氧化鋁、二氧化钛及其兩種或多種混合物之族群中 之金屬氧化物覆層所形成。 2. 根據申請專利範圍第1項之基質，其中該底靨包括選自 氧化錫及二氧化钛的一種金靨氧化物層。 3. 根據申請專利範圍第1或第2項之基質，其中該底蘑包括 兩棰或多種不同金靨氧化物。 4. 根據申請專利範圃第3項之基霣，其中該底層包括一曆 沉積在基質上的二氧化鈦層及一層沉積在該二氧化钛層 上的氧化錫層。 5. 根據申請專利範圍第1項之基霣，其中該犧牲性金鼷是 鈦。 6. 根據申請專利範圍第1項之基質，其中該覆曆的氧化鋅 層厚度為5到1 5微米的範園内。 7. 根據申謫專利範圍第6項之基質，其中該氧化鋅層厚度 為7到1 3微米的範圍内。 甲 4(210x297 公釐） ·.·...........................“ ........装..............................訂.................,.........線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本黃) 3 4 4 00 2 7 7 7 7 ABCD 六、申請專利範圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本萸) 8. 根據申請專利範圍第1項之基質，其中該底層包括一層 直接沉積在銀層之下的氧化鋅層。 9. 裉據申請專利範圍第8項之基質，其中該氧化鋅的底暦 及覆層實質上具有相同的厚度，這樣的厚度為5到14微 米的範圍内' 10. 根據申請專利範画第1項之基質，其中該銀層的厚度為 8到1 2微米的範圍内。 11. 根據申請專利範圍第10項之基質，其放射率小於0.1。 12. 根據申請專利範團第1項之基質，其中銀層之各底層及 覆層的厚度為3 0到4 5微米範圍内。 13. 根撺申請專利範圍第1項之基質，其中該播牲性金屬暦 的沉積厚度為2到3微米的範画内。 14. 根據申請專利範围第2項之基質，其中存在於底層中的 氧化錫層厚度為15到30微米的範圃内，而存在於底層中 的二氧化钛層厚度為2到8微米的範圈内。 15. 根據申請專利範圍第1項之基質，其中該覆層包括一饜 沉積在該氧化鋅層及一個最上層之間的氧化錫層*這個 最上層是指二氧化钛層。 16. 根據申請專利範圍第15項之基質，其中該二氧化钛最上 層的厚度為8到15微米的範園内。 17. —種已塗覆之釉材料基質，該基質之一面周圍邊緣圍鐃 著一種粘合劑長條且在上述面的剌餘部份具有如申請專 利範圍第1項之基質所塗覆之塗層。 18. 根據申請專利範圍第1項之基質，其中該基質是透明的 甲 4(210x297 公犮） 200443 B7 _D7_ 六、申請專利範園 19. 在一種釉材料基質上沉積一種多層塗層的方法，該塗曆 包括一層夾在一棰透明底層及一種透明覆曆間的銀反射 層，銀履之底層及覆層的各別總厚度範圍為25至50微米 ，銀層的厚度範在8至45微米之間，而犧牲性金羼暦 的厚度範國在2至12微米之間，Μ及其中該曆的底層由 至少一層金驅氧化物沉積形成；且其中該銀層的覆曆由 選自包括钛、鋁及不銹網之族群中之犧牲性金羼曆，並 轉化該金靨成氧化物，一層厚度未超過15微米之氧化鋅 ，而最上層選自包括氧化錫、氧化鉍、氧化鋁、二氧化 鈦及其兩種或多種混合物之族群中之金鼷氧化物覆曆依 序沉積形成，其中是Μ磁力式加強哦鍍法沉横塗牖，且 至少一層氧化物層是於含氧氣氛中以各金鼸之反應性嗔 鍍法製造。 20. 根據申請專利範園第19項之方法，其中該哦鍍法是使用 多重陰極。 21. 根據申請專利範圍第19項之方法，其中至少二種塗曆沉 積在一個單一通道上。 22. 根據申請專利範園第19項之方法，其中俟塗装材料曆沉 積後，從基質的已塗覆面的周圃邊緣除去塗層，接著在 上述的周園邊緣部份使用粘合劑長條。 23. 根據申請專利範圍第22項之方法，其中Μ —種磨蝕機除 去塗装材料。 甲 4(210x297 公麓） .....................................................it..............................ir.................* ........^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)