TW200305507A - Process for producing birefringent film - Google Patents
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Description
200305507 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域] 本發明係關於一種複折射性膜之製造方法。詳細的說 ,係一種複折射性膜製造方法,其中,該複折射性膜含有 非液晶性聚合物製複折射層及液晶化合物製複折射層。 [先前技術】 為製造含有液晶化合物之複折射性膜,必須進行液晶 化合物之配向並使其配向狀態固定化。先前,為進行液晶 化合物之配向,必需準備配向膜並在配向膜上進行液晶化 合物之塗佈。這類配向膜已知者通常有將聚醯亞胺或聚乙 烯醇的薄膜以摩擦布摩擦之摩擦膜、於光二聚化聚合物之 膜上以偏光照射所形成之光配向膜(比如,參照特開平 95066號)、將聚醋膜等拉伸所形成之拉伸聚合物膜等(比 如’參照特时3-9325號)等。又,為了提高光學補償, 在此種配向膜上所形成之液晶化合物複折射性膜,有時候 會再積層另外的複折射性膜。該種另外的複折射性膜已知
有由非液晶性聚合物所报+ 土 / A 奶所形成者(比如,參照特開2〇〇〇_ 190385 號)。 但’如果在配向膜上所形成之液晶化合物複折射性膜 上再以積層另外的複折射性膜,則會有全體之厚度變厚的 問題產生。又’因為必須準備配向膜(或配向板卜會有全 體之製程數增加的問題。 200305507 [發明内容1 本發明之目的為提供一種複折射性膜之製造方法,其 中,複折射性膜全體的厚度薄且全體之製程數少。 本發明為一種複折射性膜之製造方法,係在非液晶性 聚合物製複折射層±,形成經配向之液晶化合物製複折射 曰/、中引述非液晶性聚合物製複折射層係經過配向處 里之層並以"亥配向使則述液晶化合物製複折射層在形成 之際被配向處理。 [實施方式】 (用以實施發明之最佳形態) 依本♦明之製造方法’因非液晶性聚合物製複折射層 、’、工配向處理’ &當然可使被塗佈在該非液晶性聚合物製複 折射層上之液晶化合物配向,且因前述非液晶性聚合物製 複折射層具有複折射性,故在實際使用時,可進一步實現 光學補償。即,如前述,若依先前技術,為使液晶化合物 配向必須有配向膜,且另外,為使光學補償能提高必需另 外製作複折射性膜,故所得到之膜全體的厚度會變厚。而 ,本發明之製造方法所得到之膜因為非液晶性聚合物製複 折射層兼具配向膜之功能與光學補償之作用,故當然所得 到之膜全體的厚度可以變薄。 又,因為僅以非液晶性聚合物製複折射層就可以達到 配向膜之功能與光學補償之作用,故比起先前之製造方法 ,其製程可以減少。 200305507 。本^明之製造方法所使用之非液^日性聚合物製複折射 曰可以藉比如’將非液晶性聚合物膜以配向處理來形成。 非液曰曰it聚合物膜可以利用比如以下之方式製備。非液晶 r生聚口物膜可購買市售可得者,或者也可以對基材表面塗 佈非液晶性聚合物溶液❹融液再使其固化來形成。 比如董士利用冑基材表面塗佈非液晶性聚合物並使其 固化以形成非液晶性聚合物膜之製備方法做說明。’、 百先,在基材表面,藉塗佈非液晶性聚合物形成塗 層。 月’j述非液晶性聚合物基於比如耐熱性、耐藥劑性、透 明性良好且亦富有剛性之觀點’以顯示負配向複折射性(在 聚口物膜拉伸時’拉伸方向之折射率會變小的性質)之聚合 物較佳’特別是聚醯胺、聚醯亞月安、聚酯、聚醚酮、聚芳 基醚®I %醯胺基醯亞胺、聚酯醯亞胺等聚合物為較佳。 该等聚合物可任一稽罝媚枯田 .^ 禋早獨使用,亦可比如以將聚芳基醚酮 與聚醯胺形成混合物’製成具有2種以上不同官能基之混 物的方式使用。别述非液晶性聚合物以光穿透率良好者 為較佳’ A穿透率比如為75%以上,較佳為85%以上。 該種聚合物中,基於高透明性、高配向性、高拉伸性 之觀點,以聚醯亞胺特別較佳。 、前述聚合物之分子量不特別限制,但較佳4重量平_ 分子量(Mw)為1000〜1000_之範圍者,更佳 2000〜500000之範圍者。 μ 尽^ 更里十均分子ΐ之值係以聚 烯作為標準試料,並使用二甲基甲醯胺作為溶劑以 200305507 凝膠=柱分析儀(GPC)測定。 J ^ ♦酿亞胺以比如面内配向性高且可溶於有機溶劑 ^ 兩#乂佳。具體上比如可使用特表2000-51 1296 #UA^所揭示,含有9,9-雙(胺基芳基)冑與芳香族四緩酸 酐之鈿來產物且含有1個以上以下式(1)所示重複單位之 聚合物。
t 7 N
則述式⑴中,R3〜r6為各別獨立擇自由氫、齒素、苯 基、1〜4個之齒素原子或以k。烷基所取代之苯基及 烷基所構成群中至少一種之取代基。較佳者,尺3〜 為各別獨立擇自由齒素、苯基、Η個之齒素原子或以 C,,院基所取代之苯基及c〗~〗。烷基所構成群中至少 之取代基。 者為 衍生 前述式⑴中,Z為比如,c6~2。之4價芳香族基,較佳 均苯四甲酸基、多環式料族基、多環式芳香族基之 物或以下式(2)所表示之基。 (2)
V 200305507 前式(2)中,z,比如為共價鍵,c(r7)2基、c〇基、〇 原子、s原、子、S〇2基、Si(C2H5)2基或nr8基,為複數時 ,可彼此相同或相異。又,W表示iyO之整數。R7各自 獨立,為氳或C(R9)3。R8為氫、碳原子數丨〜約2()之烷基 或者C6〜2〇芳基,為複數時,彼此為相同或不同。R9各自 獨立,為氫、氣或氣。 前述多環式芳香族基比如有萘、芴、苯弁芴或者憩所 衍生之4價基。又,别述多環式芳香族基之取代衍生物比 士有以擇自C】〜n)之烧基、其氟化衍生物及F或a等鹵素 所構成群中至少一個基做取代之前述多環式芳香族基等。 其他,比如有特表平8-5 1 1 8 12號公報所記載,重複單 位為下述通式(3)或(4)所示之均聚物或重複單位為下述通式 、)斤示之聚醯亞胺等。又通式(5)所示之聚醯亞胺為下述通 式(3)均聚物之較佳形態。 0
⑶ ⑷ 10 200305507
前述通式(3)〜(5)中,G及G,表示分別獨立擇自由共價 鍵、CH2 基、C(CH3)2 基、C(CF3)2 基、C(CX3)2 基(此處,X 為鹵素)、CO基、〇原子、S原子、S02基、Si(CH2CH3)2 基及N(CH3)基所構成群者,且彼此可相同或相異。 前述通式(3)及(5)中,L為取代基,且d及e表示其取 代數。L,比如為鹵素、烷基、鹵化烷基、苯基或 取代本基為複數日$皮此為相同或相異。前述取代苯基 比如,為具有擇自鹵素、Cm烷基及〜3鹵化烷基所構成 群中至少-種取代基之取代苯基。又,前述鹵素比如為氟 、氯、演或碘。d為0〜2之整數,e為〇〜3之整數。 前述通式(3)〜(5)中,Q為取代基,f表示其取代數。q 比如’可為擇自氫、_素、燒基、取代烧基、确基、氛基 、硫烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷酯基及取代烷酯 :所=成群之原子或基,且Q為複數時,彼此為·相同或不 同月J述函素比如為氣、氣、漠或石典。前述取代烧基比如 有齒化烷基。又前述取代芳基,比如有齒化芳基。f為〇〜4 ^數及h各為〇〜3及Μ之整數。又,以較ι 為大者為佳。 前述式(4)中 R10及 R11各自獨立,為擇自氫、鹵素 200305507 苯基、取代苯基、烷基及取代烷基所構成群之基。其中, R10及R"各自獨立,以鹵化烷基為較佳。 前述式(5)中,Μ!及M2為相同或不同,比如,為鹵素 、〜3烧基、C!〜3鹵化烧基、苯基或取代苯基。前述鹵素 比如,為氟、氯、溴或碘。又,前述取代苯基比如為具有 擇自鹵素、C〗〜3烷基及C】〜3鹵化烷基所構成群中至少一種 取代基之取代苯基。 前述式(3)所示之聚醯亞胺具體例,比如有以下式(6) 示者。
,别述聚醯亞胺,比如有將如前述骨架(重複單 )以外之酸二酐或二胺作適t共聚合所形成之共聚物。 前述酸二針比如彳芳香族四緩酸二酐。冑述芳香族
+羧酸二酐比如有均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐 萘四羧酸二酐、雜環式芳香族四羧酸二軒、2,2, 四羧酸二酐等。 聊 幻述句笨四曱酸二酐比如有均苯四甲酸二酐、3 6· 苯基均苯四甲酸二軒、3,6_雙(三說甲基)均苯四甲酸二肝' 3,6-二漠代均苯四甲酸二酐、3紅氣代均苯四甲酸二肝 。:述二苯甲酮四緩酸二野比如# 3,3’,4,4、二苯甲酮四彳 酸*一肝、2,3,3’ 4,一纪田沉门 . ,-一本甲酮四羧酸二酐、2,2,,3,3、二 酮四羧酸二酐箄。诰、+、裟m a △ ’ ’ ’ 一本 寺則述奈四羧酸二酐比如有 12 200305507 %r 魏酸一野、1,2,5,6_華四游酿—紅 /丁、四羧S夂—酐、2,6·二氯 竣酸^一野專。如述雜j罗式:¾:未# 雅衣式方香私四羧酸二酐比如有噻吩- 2.3.4.5- 四羧酸二酐、嘛噔 町爪足_2,3,5,6-四羧酸二酐、毗啶- 2.3.5.6- 四魏酸二酐笨。命、+、。、 述2,2’-取代聯笨四緩酸二酐比 如有 2,2 -二 >臭-4,4 ’ 5 S ’ f / ,,-聯本四羧酸二酐、2,2-雙(三氟代甲 基)-4,4,5,5 -聯苯四魏酸二野等。 又,纟’』述方香族四雜舱— 羧齩一酐之其他例比如有3,3,,4,4,- 聯苯四魏酸二酐、雙(2,3-二羧美笑其、田p 硬丞本基)曱烷二酐、雙(2,5,6- 三氟-3,4 -二叛基苯基)曱惊- 一斤烷一酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)_ 1,1,3,3,3,3-/、氟丙燒二酐、44,雔 μ / , 4,4 _雙(3,4·二羧基苯基)-2,2-二 苯基丙烷二酐、雙(3,4-二羧其贫|^ 硬暴本基l·醚二酐、44,-羥基二 肽酸二酐、雙(3,心二羧基芏其、 , 土本基)石頁酸二酐、3,3,,4,4,-二苯硼 四魏酸二酐、4,4’-「44,-显石” 一、 ,/、又_二苯撐氧)]雙(肽酸酐) 、:Ν,Ν-(3,4-二羧基苯基)_Ν_ 甲- Τ版一酐、雙(3,4-二羧基苯基 )-二乙基矽烷二酐等。 其中’前述芳香族四緩酸_ , 熳®文一酐之中較佳者為2,2,-取代 聯苯四羧酸二酐,更佳者為2,2,- ?雙(_ 南甲基)-4,4 ’ 5 5 ’-聯苯四身酸二酐,又更佳者為 /々,,, 4,4,,5,5、聯苯四羧酸二酐。 "、、’ 二氣甲基)- ^述:私比如有方香族二胺,具體例比如有苯二胺、 二胺基二本甲酮、萘二胺、雜 雜%式方香族二胺及其 香族二胺等。 八他义方 前述苯二胺比如有擇自鄰 〇 , ^ . 位間位及對位之苯二胺、 2,4_二胺基甲苯、i,心二胺基_2 τ羊L悬本、ι,4_二胺基_2_ 13 200305507 苯基苯及1,3-二胺基-4'氯苯等笨二胺所構成群之二胺等。 前述二胺基二苯甲嗣比如有2,2,_二胺基二笨甲嗣-及π — -月女基-本甲酮等。前述萘二胺比如有u•二胺基笼及 二胺基萘等。前述雜環式芳香族二胺比如彳2^胺 基吡啶、2,4_二胺基毗啶及2,4_二胺基三嗪等。 又,芳香族二胺除前述者以外,還有比如,-二胺基 聯苯、4,4’-二胺基聯苯甲烷、M,_(9-苟又基)二苯胺、 2,2^雙(三I曱基)_4,4,_二胺基聯苯、3,3,_二氯'4,_二胺 基二苯基甲烷、2,2、二氯_4,4,_二胺基聯苯、2,2,,5,5,四氯 Μ苯胺' 胺基$氧基苯基)丙烧、2,2_雙(心胺基苯 基^丙烧、2义雙(心胺基苯基)-U,l,3,3,3-六氟丙烧、4土,4、 :¾基一苯醚、3,4’-二胺基二苯醚、丨,弘雙(3_胺基苯氧基) 本、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、κ雙(4_胺基苯氧基)苯、 4,4’_雙(4-胺基苯氧基)聯苯、4,4,-雙(3_胺基苯氧基)聯苯、 2,2 —雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2,-雙[4-(4-胺基苯 氧基)苯基;|-1,1,1,3,3,3-六敦丙烷、4,4,-二胺基二苯基硫醚 、4,4、二胺基二苯颯等。 月’J述聚喊酮比如有特開2001 -49 1 10號公報記載,以下 述通式(7)所表示之聚芳基醚酮。
⑺ ^述式(7)中’X表示取代基。q表示其取代數。X比 14 200305507 如’為鹵素原?、低級烷基、.化烷基、低級烷氧基或_ 化烷氧基,X為複數時,彼此相同或不同。
前述㈣原子,比如有氟原子m u子及蛾 原子’其中以氟原子較佳。前述低級烧基,比如,以 之直鏈或具支鏈之低級烧基為較佳,更佳者為c"之直鍵( 或支鏈烧基。具體上,車交佳者為甲基、乙基、丙基、異丙 基丁S異丁基、第二丁基及第三丁基,特別較佳者, 為甲基及乙基。前述齒化烧基比如有,三氟甲基等前述低 級烧基之函化物。前述低級院氧基比如,較佳 直鍵或支鍵烧氧基。具體上,又較佳者有甲氧基、、二 第〜基其異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基及 :乳·" |佳者為甲氧基及乙氧基。前述鹵化烷氧基 比如有三氟甲氧基等前述低級烷氧基之函化物。 前述式(7)中,q為〇〜4 為q=0,且苯環兩端所鍵結 對位。 之整數。前述式⑺中,較佳者 之羰基與醚之氧原子彼此位於 又,前述式(7)中 或1之整數。 R1為以下述式(8)所示之基,m
前述式(8)中,X,表示取代基,比如
與前述式(7)之X 15 200305507 為相同。刖述式(8)中,χ’為複數時,彼此為相同或不同。 q表不别述X’之取代數,為〇〜4之整數,q,以〇為較诘。 又’P為0或1之整數。 前述式(8)中,R2表示2價之芳香族基。該2價之芳香 私基比如有鄰位、間位或對位之苯基,或者萘、聯苯、憩 郴位、間位或對位之二聯苯、菲、二苯弁呋喃、聯苯醚 或者,衍生自聯苯碾之2價基等。該等2價之芳香族基 中,直接鍵結於芳香族之氫亦可取代為鹵素原子、低級烷 基或低級烷氧基。該等中,前述R2較佳為擇自下式 C9)〜(15)構成群之芳香族基。
下 迷則述式(7)中,前述R1以下述式(16)所示者為較佳, ,式(16)中,R2與p與前述式(8)為同義。 16 (16) 200305507 再者,前述式(7)中,n 一 之範圍,較佳在5〜5〇〇 11表不聚合度,例如在2〜5〇〇〇 重複單位所構成者 之f圍。此聚合可為由相同構造之 者。後者的情況,重福”、'由不同構造之重複單位所構成 規聚合。 位之來合形態可為嵌段聚合或無 再者,前述式(7)所示平 I方基醚酮之末端Φ 對四氟苯醯撐基側為氟为J巧既原子,氧烷撐基 聚芳基醚酮比如,可以 為』以下述通式(17)表示。又, ,η表示於前述式(7)同樣之聚合度。 較佳者為 子,該種 在下式中
(17) 前述式 不之聚芳基醚酮之具體例比 (18)〜(21)所示者,在下述各式中,η °有下式 表不於别述式(7)同樣 之聚合度 17 200305507
又,該等以外,如述聚醯胺或聚醋比如有特表平10 508048號公報記載之聚醢胺或聚酸,該等之重複單位比如 ,可以下述通式(22)表示。
OHC
2 (2 削述式(22)中,Y為〇或NH。又,E為擇自共價鍵、 C2院撐基、鹵化c2烷撐基、CH2基、C(CX3)2基(此處, X為鹵素或氫)、co基、〇原子、s原子、s〇2基、si(R)2 基、及N(R)基所構成群中至少一種之基,可彼此相或相 18 200305507
〇〜3之整數。
♦基幾基胺基及其衍生物所形成群者,為複數時,彼此相 同或不同。前述Α,比如,為擇自函素、燒基、U 化烷基、苯基及取代苯基所構成群者,為複數時,彼此相 同或不同。前述取代苯基之笨環上的取代基,比如有_素 、C】〜3烧基、Ci〜3鹵化烧基及該等之組合。前述t為〇 4 之整數,前述z為〇〜3之整數。 前述式(22)所表示之聚醯胺或聚酯之重複單位中_佳 者,為以下述通式(23)所表示者。
前述式(23)中,A、A’及Y為式(22)所定義者,且 v為 〇〜3之整數,較佳者,為0〜2之整數。X及y各為〇或J, 19 200305507 但不同時為〇。 又’其他’前述聚醯胺醯亞胺比如有特開昭61-1 625 1 2號公報所記載之聚醯胺醯亞胺。 前述基材不特別限定,可使用無機化合物之基材(Sus 帶、銅薄板、玻璃、矽晶圓等)、聚合物薄膜或金屬板等。 聚合物薄膜之形成材料,具體上比如有,聚烯烴(聚乙 烯、聚丙烯等)、非晶性聚烯烴、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺 、聚醯胺、聚醚醯亞胺、聚醚醚酮、聚醚酮、聚酮硫化物 、聚醚楓、醚楓、聚苯硫、聚苯醚、聚對苯二曱酸乙二醇 酉曰、聚對笨二甲酸丁二醇酯、聚對萘二甲酸乙二醇酯、聚 縮酸、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯 乙稀、聚丙烯、聚降冰片烯、纖維素系聚合物(三乙醯基纖 維素(TAC)等)、環氧樹脂、苯酚樹脂、降冰片烯系樹脂、 聚酯樹脂、聚醚楓樹脂、聚楓樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯 胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚降 冰片烯樹脂、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂 I氣乙稀樹月曰、聚偏氣乙稀樹脂、聚丙烯酸樹脂或該等 之混合物等。 又,其他,亦可使用液晶聚合物等。再者,亦可使用 比如’如特開平2001-343529號公報(W0 01/37007號)所 §己載’由側鏈上具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基之熱 塑性樹脂與側鏈上具有取代苯基或非取代苯基與腈基之熱 』丨生树月曰而成的混合物等。具體例,比如,由異丁烯與 甲基順丁烯二醯抱亞胺之交互共聚物及丙腈與苯乙稀之共 20 200305507 聚物而成的混合物等。 该專之形成材料中,較佳者為比如,聚乙稀、聚丙稀 、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚甲基 丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚芳酯、纖維素系聚合物、聚醚 硼、降冰片烯系樹脂、異丁烯與N-甲基順丁稀二醯抱亞胺 之父互共聚物及丙腈與苯乙烯之共聚物而成的混合物、由 側鏈上具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基之熱塑性樹脂 與側鏈上具有取代苯基或非取代苯基與腈基之熱塑性樹脂 而成的此合物。使用該混合物之聚合物膜比如有鐘淵化學 公司製之商品名「HT膜」等。 前述聚合物膜可利用將前述樹脂以擠壓成形、壓延法 、溶劑鑄塑法等製造。再者,也可將聚合物膜拉伸化(單軸 、雙軸等),以拉伸之聚合物膜較佳。 前述聚合物膜可進行親水化處理或疏水化處理、減低 基材溶解性之處理等表面處理…亦可使用後述之偏光 刖述聚合物膜之厚度通常為100 _〜200 //m,較佳為 2〇//m〜l5〇"m ’特別較佳為 30//m〜i〇〇"m。 月』述基材之表面上塗佈前述非液晶性聚合物之 不特別限定,比如右、、 涂你、 :則述非液晶性聚合物加熱溶融並 液 ^ $者將别述非液晶性聚合物溶解於溶劑之非 、光風里二勿’合液作塗佈之方法等。丨中,以作業性良好 的^較Γ制之點,以塗佈前述非液晶性聚合物溶液 21 200305507 前述非液晶性聚合物溶液中前 度不特別限定,比如由塗佈容易之勘广夜晶性聚合物之濃 1份’前述非液晶性聚合物比如為〇 :上’對溶劑100重 卜40重量份,更佳為2〜3〇重量份。.〜=重量份,較佳為 前述非液晶性聚合物若超過〇 5重旦I齊1 100重量份, 佈之黏度,故較佳。又,若為5〇重里^因可得到適於塗 能形成平滑塗佈面之黏度,故較佳。〜乂下,因可得到 ⑴述非液晶性聚合物溶液之溶劑 只要可滚絃A 符別限疋,比如, 解别述非液晶性聚合物等之 前述形成材料之種類適當決定。且切科即可,可依 -备田h 、腹例’比如有,氯仿、 m、四氯化碳、二氯乙烷、一” 四氣乙烯、氣苯、鄰_患# '、、元、二軋乙烯、 笑…, 本等幽化煙類…分、對氣苯盼等 本酚類;苯、甲苯、 卒吩寺 :¾:乐故η 本甲虱基本、丨,2·二甲氧基笨等 方香族烴類;丙酮、甲乙酮、 里 、各院嗣、N-甲Α 2 ^二莖 展己嗣、環戊鋼 Τ 土 _2_毗咯烷酮荨酮類;乙酸乙醋、 丁酯等酯類;第三丁醇、甘、、由、r —妒 酉文 單甲醚、二乙二醇二甲略/ :、二乙一醇、乙二醇 、 _子一甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基_ 2,4-戊二醇等醇類;二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等㈣^ 乙腈了腈等腈類;二乙醚、二丁醚、四氫呋喃等醚類;或 者,一硫化碳、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等。該等溶劑中 ,可使用1種,也可併用2種以上。又,以不會侵蚀前述 基材者為佳。 别述非液晶性聚合物溶液比如,亦可依需要,再配合 安定劑、可塑劑、金屬類等各種添加劑。 22 200305507 又’前述非液晶性聚合物溶液在比如前述形成材料之 配向性不會顯著下降之範圍内,亦可含有不同的其他樹脂 。前述之其他樹脂,比如,有各種通用樹脂、工程塑膠、 熱塑性樹脂、熱固性樹脂等。 前述通用樹脂比如有聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯 乙稀(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、ABS樹脂及AS樹 脂等。前述工程塑膠比如有,聚乙酸酯(POM)、聚碳酸酯 (PC)、聚酿胺(pa:尼龍)、聚對苯二曱酸乙二醇酯(pet)、 及對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)等。前述熱塑性樹脂比如有 ’聚苯硫(PPS)、聚醚碾(PES)、聚酮(PK)、聚醯亞胺(pi)、 聚對苯二甲酸環己烷二甲酯(PCT)、聚烯丙酸酯(PAR)及液 曰曰I合物(LCP)等。前述熱固性樹脂比如有環氧樹脂、苯 酉分樹脂、漆用酚醛樹脂等。 將如述其他樹脂等配合於前述非液晶性聚合物溶液時 ’其配合量比如,對於前述非液晶性聚合物,為〇〜5〇重 量% ’較佳為〇〜3〇重量%。 則述非液晶性聚合物溶液之塗佈方法比如有,旋塗法 矣b塗法、流塗法、模塗法、刮塗法、印刷法、浸塗法、 流延成膜法、棒塗法、照相凹版印刷法、擠壓法等。又, ^佈時可依需要採用聚合物層之重疊方式。 二則述非液晶性聚合物之熔融液不特別限定,比如有如 則述將非液晶性聚合物溶液加熱熔融後之溶液。前述非液 曰曰性聚合物之熔融液之塗佈法只要是可塗佈在前述基材之 ♦面上即不特別限定,比如,有鑄塑法、熔融擠壓法等。 23 200305507 前述非液晶性聚合物之熔融液亦可依需要,含有安定劑、 可塑劑、金屬類等各種添加劑及不同的其他樹脂。 其次,將前述基材上之非液晶性聚合物塗佈層固化以 形成非液晶性聚合物膜。 前述之固化方法只要可以使前述非液晶性聚合物固化 以形成前述非液晶性聚合物膜,即不特別限定,比如,有 自然乾燥或加熱乾燥等。其條件亦可依前述非液晶性聚合 物之種類’或為溶液時依前述溶劑之種類適當決定,比如 溫度通常為25t〜40(TC,較佳為6〇t〜3〇(rc,又更佳為 65°C〜250t。再者,固化可在固定溫度下進行’亦可分階 段-面使溫度上升或下降來進行。固化時間不特別限定, i_使用非液晶性聚合物溶液時,#需使用以固化將溶劑去 除的條件。通常,固化時間為10秒〜60分鐘,較佳為3〇 秒〜3 0分。 . 依此種方式,可在基材上形成非液晶性聚合物膜。又 ’亦可將前職材由前述非液晶性聚合物膜上I丨j離並去除 ,以單獨得到前述非液晶性聚合物膜。 〃 再者’複折射率△ n==[{(nx+ny)/2pnz] · d/d、面内相 位差Re (nx-ny) · d。前述、町及nz分別為前述非液晶 r生I 口物膜中在χ轴、γ轴及z轴方向的折射率,前述X 幸為月j述非液日日性聚合物膜之面内呈現最大折射 向,Y軸A矣-a丄 J平田万 匈衣不則述非液晶性聚合物膜面内相對於前述χ 轴為垂直的站古/^ _ 向’而Ζ軸為表示與前述X軸及γ聋 直之厚度方向。 主蛮 24 200305507 其次,在非液晶性聚合物膜上進行配向處理。配向處 理:如有拉伸處理、收縮處理及摩擦處理。依拉伸處理、 收縮處理方式的配向處理,可使非液晶性聚合物膜中之非 液晶性聚合物被配向,其結果,前述非液晶性聚合物膜在 光學上會有雙軸性,比如,會變成展現特性之 非液晶性聚合物製複折射層。藉由摩擦處理,非液晶性聚 合物膜會有光學上單軸性,即,維持展現ηχ=—ζ特性 之複折射層。 别述非液晶性聚合物膜之拉伸方法不特別限定,可使 用通常之方法。比如,拉幅(tender)橫拉伸、雙軸拉伸、輕 法縱拉料。雙軸拉伸較佳者為長軸方向之拉伸倍率比短 軸方向之拉伸倍率為小者β x,雙軸拉伸可使用全拉幅方 式做同時二軸拉伸、或是以輥拉幅法做逐次雙軸拉伸任一 種之方法。在輥縱拉伸中之加熱可使用以加熱輥進行加轨 之方法、將周圍環境氣零加熱之方法、併用兩者之方法'中、 任一:。又,亦可使用斜向拉伸法,以控制配向角。’ 前述非液晶性聚合物膜之拉伸倍率依拉伸方法有所不 同’為1〜100%,較佳為3〜50%。 使前述非液晶性聚合物膜拉伸之溫度可依前述膜之玻 璃轉移點(Tg)或冑述非液晶性聚合物膜中添加物之種類適 當決定,比如為80〜25CTC,較佳為100〜2〇(rc。特別是^ 使前述非液晶性聚合物膜拉伸之溫度較佳為在前述非=曰曰 性聚合物膜之Tg附近或者Tg以上。 攻曰曰 前述非液晶性聚合物膜之收縮方法不特別限定, J 1之 25 200305507 …方法。比如在形成非液晶性聚合 ,利用將非液晶性聚合物膜形成後的基材加敎或者= 使基材收縮。該種基材,可❹熱收縮性膜等之^收缩 此力的基材。❹具有收縮能基材時,較佳為利 定==收縮率。具體上,比如有以拉幅拉伸機設 率為1以下之方法或者在縱單軸拉伸機設定等俨 而進行寬度收縮的方法。 ’可使用通 ,以織布、 。摩擦壓力 非液晶性聚合物膜之摩擦處理不特別限定 常之方法。比如,在非液晶性聚合物膜之表面 毛氈、橡膠、刷毛等,依一定方向摩擦來進行 、摩擦次數等摩擦條件不特別限定。 依該方式,非液晶性聚合物膜可藉拉伸、收縮 處理形成非液晶性聚合物製複折射層。又,該非液晶性聚 合物製複折射層在面内配向軸之精度良好。比如,配向軸 之差異通常為±0_5度以下,較佳為±〇·3度以下。又,面 内相位差Re通常之Re$ 250nm,較佳為lnm$Reg2〇〇nm ’更佳為5nm$ Reg 15〇nm。又,厚度方向相位差Rz之 Rz 通常 $ 500nm,較佳為 2nm$Rzs4〇〇nm,更佳為 1〇nm $ RzS 300nm 〇 又,Rz=(nx-nz) · d nx、nz、d及Re與前述已定義者相同。 又’非液晶性聚合物製複折射層之厚度可依對象之影 像顯示裝置之面板大小適當決定。非液晶性聚合物製複折 射層比如,可使用厚度1 μηΊ〜2〇 //m者,較佳為2//m〜10μ 26 200305507 111 者。 本發明之製造方法可在比如於前述基材上,使前述非 液晶性聚合物之塗佈層固化後,不將前述基材剝離除去, 而在前述非液晶性聚合物膜與前述基材之積層物上,進行 如前述之配向處理,於基材上形成非液晶性聚合物製複折 射層。 又,本發明之製造方法,亦可含有下述製程。該製程 為:使得由前述基材(以下’以「第i基材」稱呼)及前述 第1基材上直接形成之非液晶性聚合物膜而成之積層體以 非液晶性聚合物膜對向的方式接著於其他基材(以下,以厂 第2基材」稱呼)上’並僅將前述第1基材剥離。對於此種 前述非液晶性聚合物膜被轉寫在第2基材上、將第丨基材 剝離所形成之前述非液晶性聚合物臈與前述第2基材2成 之積層體進行配向處理,可在基材上形成非液晶性聚合物 製複折射層。 其次’於以該方式所得到之非液晶性聚合物製複折射 層上形成配向後之液晶化合物性複折射層。為了形成經配 向之液晶化合物複折射層,比如,係在前述已配向處理之 非液晶性聚合物製複折射層上’塗佈液晶化合物溶液。 液晶化合物溶液只要含有液晶化合物則不特別限定。 液晶化合物不特別限定,比如可使用液晶聚合物、光 或熱聚合性液晶單體及該等之混合物等。x,可單獨使用 也可混合2種以上使用。前述液晶聚合物比如有向列液晶( 比如’含手性液晶之向列液晶)、碟狀液晶、膽固醇液晶( 27 200305507 :如,在可見光中,顯示圓偏光選擇反射性之膽固醇液晶) 向列液晶比如有特開平6_75114號公報、特開平6 30092號公報、特開平6_331826號公報等所記載者。- 碟狀液晶比如有特開平7_98114號公報、特開平7 146409號公報、特開平7_191217號公報等所記載者。_ 膽固醇液晶或含有手性液晶之向列液晶比如有特開平 3-67219號公報、美國專利帛579_8號公報、國際公開 WOOO/3963 1號公報所記載者等。 在可見光中,顯示圓偏光選擇反射性之膽固醇液晶比 如有特開平1-133003號公報、特開平3_459〇6號公報、特 開平6-324333號公報、特開平9_13381〇號公報等所記載 者。 其中,較佳者為向列性液晶單體,具體上,比如有下 述式(24)所表示之單體。該等液晶單體可使用1種,或者 使併用2種以上。 A1 …(24)
前述式(24)中,A1及A2分別本-取人以甘 ^ L 刀别表不聚合性基,可為相同 或相異。 又,A1及A2任一者可為氫原子。 X分別為單鍵、 〇N_、_OCO_、-C0-0-、、 28 200305507 N .pn XTt> - NR-、、-NR_、_0_c〇-NR_、_NR· C0-0-> -CFT π -v . 或者-nr-co-nr,前述X中R表示氫原 子或1 兀基、M表示内消旋(mes0genic)基。 刖述式(24)中,χ可為相同或不同,但以相同為較佳 〇 别述式(24)中之單體中,以a2對於Αι係分別配置在 鄰位上為佳。 又’前述A1及A2以各自獨立,且為以下式 Z-X-(sP)n···· (25) 所表不者較佳,且Αι及A2以係相同之基為較佳。 則述式(25)中,Z表示交聯性基,X與前述式(24)相同 ,sp表示由具有1〜30個碳原子之直鏈或支鏈烷基所構成 之分隔基(spacer),前述烷基比如可插入醚官能基中之氧原 子、硫_官能基中之硫原子、非相鄰亞胺基< CA烧基 亞胺基等。η表示〇或1。 月’J述式(25)中,ζ較佳為以下式所表示之原子團中任 一者。下式中,R比如可為甲基、乙基、正丙基、異丙基 、正丁基、異丁基、第三丁基等。
R Ο 29 200305507
—N == C === Ο , — N —- C -- S , 一C 原 又,前述式(25)中,Sp較佳者為以下述式所表示之 子團中任一者,下式中,m以1〜3、p以1〜12為較佳。 -(CH2)P-, -(CH2C H2〇)mC H2C H2-f -C H2C H2S C H2C Η2-, -ch2ch2nhch2ch2- CH, CH, CH3 CH2CH2N-CH2CH2*" -(CH2CHO)mCH2CH - H c 3 一 Η Η cIc 6
C Η •C 2 C 2 Η c 則述式(24)中,M以如下式(26)所示者較佳,在 ㈣中,X與前述式㈣中u相同m示比如j 代或未取代之;^撐基或芳香族煙原子團,或者,亦 代或未取代之直鏈或支鏈Μ”料基。 為取 (26) 則述Q若為前述芳香族 以下式所表示之原子團 /:子團日夺,比如,較佳者為 乂成等之類似取代體。 30 200305507 以
個方香族環具有1〜4個取代基,或者每一個芳香族環或基 ,具有1或2個取代基。前述取代基可彼此相同或不同。 則述取代基比如有,烷基、硝基、氟、氣、溴、碘 等鹵素原子、苯基、c,〜c4烷氧基等。 前述液晶單體之具體例比如,有以下式(27)〜(42)所 之單體。 示 〇 认0 -〇^°-Q-〇^〇-〇s^〇jU …(27) 0 〇 0 〇 L …(28) 认。〜000 -"(29) 认…(30) ^°-〇^0-〇-°",^〇-0^0v^0jU ---(31) 〇又分01〇^〇又〇一^01 …(32) ^ Ο 〇 ch3 0 〇认0一〇 儿 〇·〇^^·〇Λ〇-0 又 0,JU …⑽ 0 0 认 0 0 〇 〇 ch3 〇 〇^0_〇Α〇-Ο^〇-^〇^.〇Λ〇一〇1 0 (34) 0 0 0 0 0 31 ... (35) 200305507 ο ο ο ο Ο ch3 Ο Ο 〇 认 ο—οΑ,…(37) 〇 Ο Ο ch3 Ο Ο 〇 ΟΗ^^ο乂)^Ο乂)》〇气}*〇气}·。^0jU …(38)
认。〜v/。义。Ο Ο 0 0 气} 〇 义。‘w、〇 JU ·_· (39)
』0-〇A〇^〇-QA〇hQko^〇%-〇A〇-X •••(40) 0 OOO CH3 0 0 0 〇
认 〇 0 义 0 0 0 0 气}•。气} 0 义 0 〇 jU "•(41)
Q 0 0 0 CH3 0 0 0 Q
认 〇 八〜^ 〇 人 〇义(^~ 〇 义 〇v/s^\ 〇jU •••(42)
前述液晶單體顯示液晶性之溫度範圍依其種類有所不 同,但是,比如,以 40〜120 °c之範圍較佳,更佳為 50〜100°C之範圍,又更佳為60〜90°C之範圍。 前述液晶單體以前述化學式(24)所示之單體較佳。該 32 200305507 種液晶單體一般為向列性液晶單體’但本發明中’因比如 错後^之手性劑賦予扭曲,最後可變成膽固醇液晶。 則述液晶化合物溶液較佳者為尚含對掌性劑。本發明 :之前述手性劑比如’係具有可使液晶單體或液晶聚:物 變成以膽固醇液晶構造方式配向的化合物。 前述手性劑只要是可以使膽固醇液晶層之構成分子配 向為膽固醇構造’則種類不特別限定,比如,有如以下者 0 前述聚合性手性劑比h,可使用下述通式(43)〜(46)所鲁 示之手性化合物。 (Z-X5)nCh (43) (Z-X2_Sp_X5)nCh (44) (P^X^.Ch (45) (Z-X2-Sp-X3.M-X4)nCh (46) 刖述各式中,Z與前述式(25)為相同,Sp與前述式 (25)為相同’ X2、X3及X4各自獨立,為化學單鍵、_〇_、_ S-、-O-CO-、-CO-0-、-0-C0-0-、_c〇-NR-、-NR-CO-、- ® O-CO-NR-、-NR-CO-O·、-NR_C〇_NR,前述 r 表示氫原子 或(^〜(^烧基。 又,X為化學單鍵,表示… 、-0-C0_0-、-CO-NR-、-NR-CO-、-〇-C〇>_NR…NR_c〇_ O …-NR-CO-NR、-CH20-、-〇-CIV、_CH=N_、-N=CH·或- N三N-°R與前述相同,表示氫原子或c】〜匕烷基。 Μ與前述相同,表示内消旋基。 33 200305507 P]表示氫原子、以1〜3個C】〜C6烷基取代之Ci〜烧 基、C^C^o鰛基或C3〜C8環烧基,η為1〜6之整數。ch表 示η價之手性基。 前述式(46)中,較佳為X3及X4至少有一者為_〇_c〇_ Ο-、-0,C0-NR-、-NR-CO_〇-或-NR-CO-NR“ 又,前述式(45)中,P1為烷基、醯基或環烷基時,比 如’其碳鏈亦可插入醚官能基内之氧原子、硫醚官能基内 之硫原子、非相鄰亞胺基或Cl〜C4烷基亞胺基。 前述Ch之手性基,比如有以下式所表示之原子團。
34 "u^〇55〇7
前述原子團中,L為CVC4烷基、Ci〜C4烷氧基、鹵 原子、C00R、〇C〇R、C〇NHR 或者 NHC〇R,前述 R 表 c〗〜c4烷基。又,以前式所 基之鍵結部位。 表不與鄰 前述原子團中,特 。 奴佳者為以下式所表示之原子 35 200305507
又,前述(44)或(46)所示之手性化合物較佳者為η表示 2、Ζ表示H2C = CH-,Ch為以下式所代表之原子團。
前述手性化合物之具體例,比如有以下式(47)〜(67)所 表示之化合物。又,該等手性化合物之扭曲力為1 χ 1 (Τ6ηπΓ 'wt%)-1 以上。 36 (47)200305507
ο ο 认 (48) (49) (50) ο 认
O^s^xO 〇 6 Ο 〇 义。义 …⑸) Ο Ο 又 Ο 〇 Ο Λ ^〇^〇J^f〇A〇^° ο
Os^^v^qJI^ · · · (52) ο Q q 〇 〇 又义〇N^^〇JU …(53) Ο 又0-〇^。^^,、。"^^。叉。^^。1-(54) (55) η ο ο
37 200305507 ο ο Ο jU · · · (58) οοο ο !〇ϋ令句^。义。一丄· (59) 0 0 0 又_〇^〇^〇^〇^°^^°^〇Λ 〇 •••(60) ο 丄,ι (61) 又 义。hQ^ohQ^oJ^〆^01^0 οοο ο _ · ·(62) 〇〇〇〇 (63) 0 0 0 0 JLr ο 〇V^V^>^N. •••(64) 〇 0 0 0 0 JL〇^wόΑ〇^〇Α〇^Λ〇
o^O-o^O-o^ 〇S^SXN*Q 0 0 0 0 (65) 9 9〇〇 〇 0人 Ο Q •••(66) 上ϋθ。今。 Η C H2~C H C〇2〇 H2C H2O —^^'^―·C 〇2*^^ ^~~C0 N H一C》 (67) CH, \ Ί 37-1 200305507 前述手性化合物以外,比 比如較佳可使用者有RE-A4342280號及德國專利申 寸〜T明案19520660.6號及 9520704.1號所揭示之手性化合物。 如述手性劑以聚合性手性 ^心佳。該等手性劑可使用 一種,亦可併用2種以上。 又’在形成膽固醇層日^ μ ^ ^ ^將則述液晶單體與前述手性 背J組合時,不特別限定,且體 0 八骽上比如有將前述式(33)之 皁體劑與前述式(6丨)之手性劑缸人 丁『W、、且σ將月丨J述式(34)之單體劑 與則述式(62)之手性劑組合等。 該等手性劑中,其扭曲力以1X1G.W1.以上 較佳’更佳為1X10-W1· («以上’更佳為ΐχΐ〇5⑽ (Wt%)九lxl0-Wl. (wt%)-】之範圍特別較佳為 峨-匕(wt%)·丨〜1X1G.W1· (wt%)·】之範圍。若使用有該 才曲力之手性劑’則可將所形成膽固醇層之螺距控制在後 述乾圍内’且藉此有充分的可能性將選擇反射波長帶控制 在特定範圍内。 、又,前述扭曲力一般係指使液晶單體或液晶聚合物等 液晶化合物扭曲並配向為螺旋狀之能力,可利用下式表示 Λ 扭曲力=W [膽固醇螺距(nm) X手性劑重量比(wt〇/c〇] 前式中手性劑重量比,可說是含有液晶化合物與手性 劑之混合物中前述手性劑之比例(重量比),以下式表示。 手性劑重量比(Wt%) = [X/(X+Y)] X 100 X:手性劑重量 38 200305507 Y ··液晶化合物重量 又’前述膽固醇層中螺距以比如〇·〇之範圍 較佳’更佳為〇·〇3〜〇·2〇 # m之範圍,特別較佳為 0·05〜0.15//m之範圍。前述螺距若為以上,則可 得到足夠之配向性,而在〇·25 “爪以下,因比如可充分抑 制在可見光之短波長側的旋光性,在偏光下用於補償用之 相位差膜等時,可充分避免漏光。又,若使用如前述扭曲 力之手性劑,則可將所形成膽固醇層之螺距控制在前述範 圍内。 比如’在製造本發明之液晶化合物製複折射層時,選 擇反射波長帶的設定可藉比如控制液晶單體與手性劑之添 加比例來進行。又,將選擇反射波長帶向低波長側偏移之 方法’比如有增加手性劑添加量之方法,但若手性劑之添 加量增加,液晶單體等膽固醇配向能進行的溫度範圍,即 ’形成液晶相之溫度範圍會變得非常狹窄。因此,在製造 選擇反射波長帶比1 〇〇nm為小之液晶化合物製複折射層時 ’必需嚴密控制用以使前述構成材料進行膽固醇配向的溫 度,會發生使製造變得困難的問題。 又,比如,使用相同扭曲力之手性劑時,對液晶單體 所添加之手性劑比例愈多,形成之選擇反射波長帶會愈往 低波長側。又,對液晶單體添加相同比例之手性劑時,比 如,手性劑之扭曲力愈大時,所形成之液晶化合物製複折 射層其選擇反射波長帶會愈往低波長側。具體例來說,所 形成之液晶化合物製複折射層其前述選擇反射波長帶若設 39 200305507 定為200〜220nm之範圍,則比如以使扭曲力為5xi〇-4nm-i (Wt /〇)之手性劑對液晶單體以成為7〜9重量%之方式配 合即可。 前述手性劑之添加比例,比如,可依所欲之螺距、所 欲之選擇反射波長帶適當選擇,但是,對前述液晶單體之 ,加比例’比如,為5〜23重量%之範圍,較佳為ι〇〜2〇重 量%之範圍。如前述,藉將液晶單體等液晶化合物與手性 劑之添加比例控制為該情形下,可設定所形成之液晶化合 物製複折射層的選擇反射波長帶。對液晶化合物之液晶化 口物手!·生诏之比例較5重量%為大時,可以容易的將所 形成之液晶化合物製複折射層的選擇反射波長帶控制在低 波長側。又,前述比例較23重量%為低時,液晶單體等之 液晶化合物進行膽固醇配向之溫度範圍,即前述液晶單體 荨液晶化合物變成液晶相之溫度範圍因為變廣,故在配向 製程時不需嚴密的進行溫度控制,使製造變得容易。 前述液晶化合物溶液較佳為尚含有聚合劑及交聯劑中 至少-種,比如,可使用紫外線硬化劑、光硬化劑、熱硬 化劑等。 前述聚合劑及交聯劑不特別限制,比如,可使用如以 下者。前述聚合劑比如,可你用贫 』便用本醯過氧化物(BPO)、偶 氮雙異丁腈(AIBN)等,在交聯劑方 . P Μ万面可使用例如異氰酸酯 :交聯劑、環氧系交聯劑、金屬餐合交聯劑等。可使用該 等中1種,也可併用2種以上。 又,對前述液晶單體等液晶化合物之交聯劑或聚合劑 200305507
得容易,又,若在1 0 之添加比例,比, 、· 重量°/〇之範圍。 人上,則比如,膽固 重量%以下,則因前 聚合劑之添加比 醇層之硬化會變得容易, 述:晶單體等液晶化合物進行膽固醇配向之溫度範圍,即 ’:述液晶單體等液晶化合物變成液晶相之溫度為足夠大 的範圍,&在後述配向冑程中之溫度控制會變得更容易。 、前述液晶化合物溶液,比如,可藉將液晶化合物溶解 或分散於適當的溶劑來調製。前述溶劑不特別限定,比如 ,可使用前所舉例用於非液晶性聚合物溶液之溶劑。該等 之中較佳者為,曱苯、二甲苯、三甲苯、贿、甲基異:丁 基酮、環己酮、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、乙酸乙酯、乙 酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸乙酯溶纖劑。該等溶劑比如可使 用1種,亦可混合2種以上使用。 又,别述液晶化合物溶液比如,亦可依需要適當添加 各種添加物。前述添加物,比如有,抗老化劑、變性劑、 界面活性劑、染料、顏料、變色防止劑、紫外線吸收劑等 。該等添加劑,可添加任1種,也可併用2種以上。具體 上,前述抗老化劑比如有,苯酚系化合物、胺系化合物、 有機硫系化合物、膦系化合物等,前述變性劑,比如有二 酉芋類、石夕_類或醇類等,可分別使用先前周知者。又,前 述界面活性劑,比如係為使液晶化合物製複折射層之表面 平滑所添加,比如,可使用矽酮系、丙烯酸系、氟系等之 界面活性劑,較佳者為矽酮系。 200305507 則述液晶化合物溶液,比如,較佳者為顯示良好之塗 佈作業性者。前述塗佈液之黏度通常,依前述液晶化合物 =濃度或溫度等有所不同,但是,在前述塗佈液中液晶化 合物之濃度為前述範圍5〜70重量%時,其黏度,比如,為 〇·2〜20mPa . s之範圍,較佳為〇 5〜15_ . s,特佳為 OmPa . s。具體而言,前述塗佈液中液晶化合物之濃度 為30重量%時,黏度比如為2〜5mpa s,較佳為3〜4悉 .s。前述塗佈液之黏度若超過0.2mPa. s,則可進一步防 止因塗佈液之移動產生液體流動之情形,又若在20mPa · s 以下’則因表面平滑性更良好,可防止厚度之不均,在塗 佈性上亦良好。又,前述黏度係在溫度為20〜301之範圍 所顯示者,但不限定於該溫度下。 、在前述經配向處理後之非液晶性聚合物製複折射層上 ’塗佈液晶化合物溶液之方法’比如有可使用輥塗法、旋 t击、線棒塗法、浸塗法、擠壓法、幕塗法、噴塗法等先 1周头之方法’其中,&塗佈效率之點,較佳者為旋塗法 、擠壓法。 於非液晶性聚合物製複折射層上所塗佈之液晶化合物 溶:可使其任意固化。前述之固化方法,只要是可使前述 液阳化合物固化之方法即不特別限定,比如有自然乾燥或 加熱乾無等。其條件亦可依前述液晶性化合物之種類或前 述命訓之種類適當決定,比如溫度通常為4〇艽〜1加。C,較 佳為60C〜l〇〇°C,又更佳為65〇c〜9(Γ(:。再者,固化,可 在固定溫度下進行,亦可分階段一面使溫度上升或下降來 42 200305507 進行。固化時間亦不特別限定,通常,固化時間為1〇秒 〜60分鐘,較佳為30秒〜3〇分鐘。 其次,於此方式所形成之液晶化合物層,藉進行配向 處理,可使别述液晶化合物配向。前述配向處理比如有加 熱處理等。
前述液晶化合物之配向不特別限定,只要適當設定為 可得到最適光學補償之方式即可。比如,有水平配向、垂 直配向、扭轉配向、混成配向、垂直均勻(home〇tr〇pic)配 向、均質(h〇m〇genius)配向、傾斜配向、焦點二次曲線 (focal conic)配向等。 當前述液晶化合物溶液中含有前述液晶化合物及手性 劑時,形成液晶相(液晶狀態)之液晶化合物係在前述手性 劑賦予扭曲力之狀態下進行配向。即,液晶化合物顯示膽 固醇構造(螺旋構造)。
上又,為得到良好的視角補償,前述液晶化合物複折射 層較佳為具有光學軸,該光學軸位於平面之平行方向、平 面之垂直方向或相對於平面之垂直方向呈傾斜。光學轴在 平面平行方向者稱為所謂的c板,其中光學轴方向之折射 率較其正交方向之折射率大者’稱為所謂正的c板,光學 軸方向之折射率較其直進方向之折射率小者稱為負的c板 "。又,光學軸在平面垂直方向者稱為所謂的A板,光學轴 從平面往垂直方向做傾斜者稱為所謂的〇板。 又’將上述内容以折射率之關係表示,如以下。正纪 〇板表示其ηχ=π<ηζ,負的C板表示nx=ny>nz,正的\ 43 200305507 板表不nx>ny-nz,負的A板表示尸^。前述似、 叮及nz分別表示在前述液晶化合物複折射層中X轴、γ 轴及Z軸方向之折射率,前述χ軸為在前述液晶化合物複 折射層面内呈現最大折射率的轴方向,”由表示在前述面 内對Χ轴為垂直的軸方向’Ζ轴表示與前述X轴及Υ轴呈 垂直之厚度方向。 該光學軸方向在比如™型液晶顯示裝置或OCB型液 晶顯示裝置之液晶元件中’因於平面往垂直方向傾斜者可 ㈣良好之視角補償,故較佳。又,纟VA型液晶顯示器 Β型液晶顯示器之液晶元件中,因光學軸之方向對平 面為水平方向者可得到良好之視角補償,故較佳。 正的〇板(參照纟1)。含手性液晶之向列液晶其水平配向 為負之C板,混成配向為正或負的〇板。
具體上,碟狀液晶之水平配向為負之c板,垂直配向 成為負的Α板,混成配向為負的〇板。再者,向列液晶之 水平配向為正之A板’垂直配向為正的c板,混成配向為 44 200305507 削述加熱處理之溫度條件,比如,可依前述液晶化合 物之種類,具體上,依前述液晶化合物顯示液晶性之溫度 適田决疋,通常,為40〜120°C之範圍,較佳為50〜100°C 之範圍,更佳為00〜90°C之範圍。前述溫度在4(rc以上, 則通吊液晶化合物可充分配向。比如,以液晶聚合物作為 液晶化合物之前述液晶化合物層中,藉自前述液晶聚合物 玻璃轉移點到呈現等向相之熔融狀態之溫度範圍來加熱, 可進行配向處理。 加熱時間可依加熱處理之溫度、前述液晶化合物之種 類等適當決定,通常為〇·5〜2〇分鐘,較佳為卜15分鐘, 更佳為2〜1〇分鐘。 其次’較佳為將前述已配向之液晶化合物固定化,以 形成液晶化合物製複折射層。 固定化之方法依液晶化合物之種類有所不同,但只要 可將前述配向狀態固定則不特別限定,比如,有光照射處 理、熱處理、冷卻處理等。再者,為使以液晶聚合物作為 液aa化合物之前述液晶化合物層其配向狀態固定化,可進 行比如冷卻處理。該冷卻處理通常使用自然冷卻。 為使以液晶聚合物作為液晶化合物之前述液晶化合物 層其配向狀態固定化,可使用比如光照射處理、熱處理等 Ο 前述光照射處理或熱處理,比如,可依所使用之光聚 合劑或光交聯劑之種類適當選擇。比如,使用光聚合劑或 光交聯劑時,則施以光照射,使用紫外線聚合劑或紫外線 45 200305507 交聯劑時,則施以紫外線照射即可。藉該等處理,可將液 晶單體進行聚合或交聯化,並固定化。 將配向狀態固定化並形成液晶化合物製複折射層者為 較佳的。所得到之液晶化合物製複折射層厚度不特別限定 比如,使用為光學補償用之相位差膜時,由防止配向紊 亂或穿透率下降、選擇反射性、防止著色、生產性等之點 ,較佳為在〇」〜5〇/zm之範圍,更佳為在〇5〜3〇em之範 圍’特別較佳為在^20#^之範圍。 又’该液晶化合物製複折射層配向軸之差異通常為士 〇.5度以下,較佳為±〇3度以下。又,面内相位差Re通 币 Onmg Re$ 300nm,較佳為 3〇nm$ Re$ 15〇nm。又厚 度方向相位差Rz通常4〇nm$ Rzg 800nm,較佳為40nmg Rz$ 600nm,更佳為 4〇nm$ Rz^ 4〇〇nm。 又,Re=(nx_ny) · d .
Rz=(nx_nz) · d 〇 nx、ny及nz分別表示前述液晶化合物製複折射層在 X軸、Y軸及Z軸方向上的折射率,前述χ軸為前述液晶 化合物製複折射層之面内呈現最大折射率的軸方向,γ軸 為表示前述液晶化合物製複折射層之面内對前述χ軸為垂 直的軸方向,而Ζ軸為表示與前述χ軸及γ軸呈垂直的厚 度方向。d表示前述液晶化合物製複折射層之厚度。 ^其次,本發明之偏光板為包含複折射性膜之附光學補 °之偏光板其特徵為,前述複折射性膜為本發明的複 折射性膜。 46 200305507 、=附光學補償層之偏光板只要具有以本發明之製皮 ^戶:得到之複折射膜或前述複折射膜與前述基材的積= 體“發明之複折射性膜及偏光元件,則其構成不特別: 疋,比如,可例示者有如下的偏光板。 首先第1之附光學補償層之偏光板比如,^ 1 :本七明之複折射性膜、偏光元件及2層透明保護層:且 前述偏光元件之兩面上各積層有透明保護層,且在 透明保護層表面上尚積層有前述複折射性膜。 、
又,別述透明保護層可積層在前述偏光元件兩側,也 可僅積層在任-面。又,積層於兩面時,比如,可❹同 種類之透明保護層’也可使用不同種類之透明保護層。 另外第2之附光學補償層之偏光板形態為具有前述 本發明之複折射性膜與基材之積層體、偏光元件及透明保 護層,且前述偏光元件之一面的表面上積層有前述複折射 性膜’前述偏光it件之另外—表面上積層有前述透明保護 層。此情形中’基材以透明之基材較佳。
以前述複折射性膜與基材之積層體之任一表面面向前 述偏光元件皆可’但因以下之理由,較佳者為以將前述複 折射性膜之前述基材側面向偏光元件之方式配置。因依該 構成,前述複折射性膜之前述基材可兼用為前述偏光板中 的透明保護層。即,在前述偏光元件之一面上積層透明保 護層以取代在前述偏光元件之兩面積層透明保護層,並在 偏光元件之另一面上,以面向前述基材之方式積層複折射 性膜,可使前述基材亦能產生透明保護層之作用。如此, 47 200305507 可得到更薄型化之偏光板。 第3之附光學補償層之偏光板形態為具有前述本發明 之複折射性膜與作為基材之偏光元件之積層體及透明保護 層,且則述積層體之偏光元件之表面上各有前述透明保護 層被積層。 月’J述複折射性膜與作為基材之偏光元件之積層體中, 因前述複折射性膜可兼作為偏光元件之保護層故較佳。即 ,在前述偏光元件之一面上積層透明保護層以取代在前述 偏光元件之兩面積層透明保護層,並在另一面上,積層複 折射性膜,可使前述複折射性膜亦能產生保護層之作用。 如此’可得到更薄型化之偏光板。 前述偏光元件(偏光膜)不特別限定,比如,可使用以 先剛A知之方法,在各種膜上使礙或雙色性染料等雙色性 物質吸附以染色,再依交聯、拉伸、乾燥以調製者。其中 ,較佳者為使自然光入射時直線偏光可穿透之膜,又以光 穿透率或偏光度良好者為佳。作為吸附前述雙色性物質之 各種膜比如,有聚乙烯醇(PVA)系膜、部分甲縮醛化pvA 系膜、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系部分鹼化膜、纖維素系 膜等親水性尚分子膜等,其他,亦可使用比如pvA之脫水 處理物或聚氣乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯配向膜。該等中 幸又佳者為PVA系膜。又,前述偏光膜之厚度通常為丨〜肋 # m之範圍,但不限定於此。 前述保護層不特別限定,可使用先前周知的透明膜, 但以比如透明性、機械強度、熱安定性、水分阻絕性等方 48 200305507 面良好者為佳。該種透明保護層材質之具體例比如有三乙 醯基纖維素等纖維素系樹脂或聚酯系、聚碳酸酯系、聚醯 胺系、聚醯亞胺系、聚醚楓系、聚硼系、聚苯乙烯系、聚 降冰片稀系、聚烯烴系、丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂 。又’還有比如前述丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸聚氨酯 系、環氧系、矽酮系等熱固型樹脂或紫外線硬化型樹脂。 該等之中,由偏光特性或耐久性之點,較佳者為表面以鹼 等作鹼化處理後之TAC膜。 又’還有特開2001-343529號公報(W001-37007)所載 之聚合物膜。該聚合物材料可使用比如側鏈上具有取代或 非取代醯亞胺基之熱塑性樹脂,及側鏈上具有取代或非取 代苯基及腈基之含熱塑性樹脂之樹脂組成物,比如,可使 用異丁烯與N-曱基順丁烯二醯抱亞胺之交互共聚物及具有 丙烯腈一苯乙烯共聚物的樹脂組成物等。又,前述聚合物 膜亦可為前述樹脂組成物之擠壓成形物。 又’前述保護層較佳為無著色者。具體上,以下式所 示之膜厚度方向上其相位差值(Re)以·9〇ηηι〜+75nm之範圍 較佳,更佳為-80nm〜+60nm,特別較佳為_70nm〜+45nm之 範圍。如述相位差值若在-90nm〜+75nm之範圍,則足以解 消因保護膜產生之偏光板著色(光學性著色)。又,在下式 中,nx、ny、nz與前述相同,d表示膜厚。
Re = [{(nx+ny)/2}-nz] · d 又’前述透明保護層亦可進一步具有光學補償機能。 此種具有光學補償功能之透明保護層,可使用例如以基於 49 200305507 液晶7C件之相位差之視讀角變化為原因之著色等之防止、 良好視讀之視野角的擴大等之目的之眾知之物。具體而言 ,可舉出例如將前述透明樹脂做單軸拉伸或雙軸拉伸之各 種拉伸溥膜、液晶聚合物等之配向薄膜、於透明基材上配 置液晶聚合物等之配向層之積層體等。當中,基於可達成 良好視碩之寬廣視野角的觀點,以前述液晶聚合物之配向 '為佳尤其疋將碟狀系或向列系之液晶聚合物之傾斜 •向層所構成之光學補償層以前述三乙醯纖維素薄膜等所 支持之光子補秘巧位差板為佳。此種光學補償相位差板, 可舉出例如富士相片股份有限公司製造「WV肖膜」等之 ^ 則述光學補償相位差板亦可將前述相位差薄 膜或三乙醯纖維素薄膜等之薄膜支持體做2層以上積層來 控制相位差等之光學特性。 前述透明保護層$厘# 4 ~ 隻層之居度並無特別㈣,可依據相位差 或保蠖強度等來適宜決,# 、疋 通常為5mm以下,較祛盔 以下,更佳為,… 广佳為 範圍。 Γ符佳為5〜150/zm之 月述透明保護層亦可莊 種透明π々士、 藉由例如在刖述偏光薄膜塗佈各 年垔月才对月曰之方法、於 …福… 别述偏光薄膜積層透明樹脂製薄膜 成,亦可使用市售品。 力沄來適且形 又’前述透明保護層可 _ 射防止卢捜苴 步施以例如硬膜處理、反 耵防止處理、基於黏附 夂 乂擴散、抗眩等之目66夕泠Μ 。别面所說之硬膜處理 寻之目的之處理 、土;方止偏光板表面之刮傷的 50 200305507 目的’而例如在透明保護層之表面形成由硬化型樹脂所構 成之具優異硬度、平滑性之硬化被膜之處理。在硬化型樹 脂方面,可使用例如矽酮系、聚氨酯系、丙烯酸系、環氧 系等之紫外線硬化型樹脂等,前述處理可藉由以往眾知之 方法來進行。黏附防止,係基於防止與鄰接之層出現密合 之目的。前面所說之反射防止處理係基於防止來自外部之 光線在偏光板表面反射之目的,可藉由以往眾知之反射防 止層等的形成來進行。
前面所說之抗眩處理,係基於防止外部光線於偏光柄 表面反射造成偏光板穿透光之視讀受阻等之目的,而以例 如以往眾知之方法,在透明保護層之表面形成微細凹凸構 造來進行。此種凹凸構造之形成方法,可舉出例如噴砂法 或壓花加工等之粗面化方式、於前述般透明樹脂中配合透 明微粒子來形成透明保護層之方式等。 在透明微粒子方面’可舉出例如二氧化矽、氧化鋁、
^匕欽、氧化錯、氧化錫、氧化銦、氧化鑛、氧化録等, 除此以外尚可使用具有導電性之盔 上 …、機糸从粒子、由交聯過 或未父聯之聚合物粒狀物等所構 QB . 有拽系微粒子等。透 月U粒子之+均粒徑並無特別 …圍。又,透明微粒子…比::出例如〇·5〜2〇" I- iP Μ - ^ no . · 口比例並無特別限定,一 ,又相對於透明树脂100質量份以2〜70新旦a冰 ,更佳為5〜50質量份之範圍。 貝里伤之粑圍為佳 配合有前述透明微粒子之抗 本身來使用,亦可於透明保護 ::為透明保護層 U為塗佈層來形成。 51 200305507 再者,前述抗眩層亦可兼做用以擴散偏光板穿透光來放大 視角之擴散層(視覺補償機能等)。 又’前述反射防止層、點附防止層、擴散層、抗眩層 等亦可與前述透明保護層分開,比如,作成由設有該等之 層所構成之光學層,並積層於偏光板上。 各構成物彼此(複折射性膜、偏光元件、透明保護層等 )之積層方法不特別限定,可依先前周知的方法進行…般 ’可使用與前述相同之黏著劑或接著劑。其種類可依前述 各構成物之材質適當決定。前述接著劑比如有丙稀酸系、 乙烯醇系、矽酮系、聚酯系、聚氨酯系'、聚醚系等聚合物 製接著劑或者’橡膠系接著劑等。又,亦可使㈣酸、蝴 砂、戊二駿、三聚氰胺、草酸等乙稀醇系聚合物之水性交 聯劑所構成之接著劑。前述之黏著劑、接著劑比如受溫度 或熱的影響也不㈣離,且光穿透率或偏光度也报良好。 具體上’前述偏光元件為PVA系膜時,比如,以接著處理 的安定性之點,較佳者為PVA系接著f,卜該等之接著劑或 黏著劑,比如,可直接塗佈在偏光元件或透明保護層之表 面上,亦可將前述接著劑或黏著劑所構成之膠帶或片材層 配置在前述表面上。又’比如,調製為水溶液時,亦可依 需要配合其他的添加劑或者酸等觸媒。該接著層之厚度不 特別限定’比如’為lnm〜5〇〇nm’較佳為Lm 更佳為/〇nm〜100nm。不特別限定,比如,可以採用使用 丙婦酸,聚合物或乙烯醇系聚合物等接著劑之先前周知方 法。該等接著劑’比如’可藉將其水溶液塗佈在各構成物 52 200305507 表面、,再藉乾燥等來使用。前述水溶液中,比如,依需要 可添加其他的添加劑或者酸等觸媒。該等之中,由與 PVA系膜之接著性良好的前述接著劑之點,以系接 著劑較佳。 又’ VA $液晶顯示裝置巾,若使偏光板《穿透軸與 複折射性膜之延遲軸方向以平行或正交的位置關係進行積 層則不會影響對比之正面方向特性並可校正斜視方向的 特性’因而可使視角擴大,故較佳。 +發明之附光學補償偏光板在實際使用時,在前述本 發明之複折射性膜之外,亦可尚含有其他之光學層。前述 光學層比如比如以下所示之偏光板、反射板、半穿透 反射板、売度提升膜、其他之相位差板、擴散控制膜、偏 光散射膜等在液晶顯示裝置等之形成時所使用的先前公知 之各種光學層。該等光學層可以使用1種,也可以併用2 種以上’又’一層也可以,積層2層以上亦可。此種尚含 有光學層之附光學補償層之偏光板較佳為作為具有光學補 償機能之-體型偏光板使用,比如,適用在各種影像顯示 裝置之液晶元件表面配置等。 以下,針對此種一體型偏光板做說明。 首先’針對反射型偏光板或半穿透反射型偏光板之一 例做說明。前述反射型偏光板係於本發明之附光學補償層 之偏光板進一步積層反射板所得者,前述半穿透反射型偏 光板係於本發明之附光學補償層之偏光板進一步積層半穿 透反射板所得者。 53 200305507 反射型偏光板通常係配置於液晶元件之裏側,可使用 於將來自視讀側(顯示側)之入射光反射而進行顯示之類型 的液晶顯示裝置(反射型液晶顯示裝置)等。此種反射型偏 光板由於可省略背光等之内藏光源,所以可謀求液晶顯示 裝置之薄型化,此為其優點所在。 反射型偏光板可藉由例如在顯示前述彈性率之偏光板 的單面形成由金屬等所構成之反射板等以往眾知之方法來 製作。具體而言,例如可舉出對前述偏光板之透明保護層 的單面(路出面)依所需施行消光(matte)處理,然後於該面 形成鋁等之反射性金屬所構成之金屬箔或蒸鍍膜做為反射 板而成之反射型偏光板等。 又’亦可舉出使得前述各種透明樹脂含有微粒子將表 面做成微細凹凸構造之透明保護層,然後於該透明保護層 上形成可反映該微細凹凸構造之反射板所成之反射型偏光 板等。表面為微細凹凸構造之反射板,可使得入射光不規 則反射而擴散,可防止定向性或眩目之外觀,可抑制明暗 不均’此為優點所在。此種反射板可例如在前述透明保護 層之凹凸表面以真空蒸鍍方式、離子植入方式、濺鍍方式 等之蒸鍍方式或鍍敷方式等習知方式直接以金屬箔或金屬 蒸鍍膜的形式來形成。 又’亦可取代前述於偏光板之透明保護層直接形成反 射板之方式,改為使用在前述透明保護薄膜般適當的薄膜 設置反射層而成之反射片等來做為反射板。反射板之反射 層通常係由金屬所構成,所以基於例如防止氧化所造成之 54 200305507 反射率的下降、或是為了長期維持初期反射率、或是避免 另外形成透明保護層等觀點,其使用形態,以反射層之反 射面以前述薄膜或偏光板等來被覆之狀態為佳。 另方面,則述半穿透型偏光板,係反射型偏光板中 反射板改為半穿透型反射板者。在半穿透型反射板方面 ’可舉出例如以反射層來反射光、且具有讓光穿透之半透 鏡等。 半穿透型偏光板,通常係設於液晶元件之裏側,可使 用在下述類型之液晶顯示裝置等中。#即,當液晶顯示裝 置等在較為明亮之環境下使用時,係將來自視讀側(顯示側 )之入射光加以反射並顯示影像,在相對陰暗之環境下則是 使用半穿透型#光板之背光側所内藏之背光光源等内藏光 源來顯示影像。因此,其對於半穿透型偏光板在明亮環境 下可節省背光光源之使用能量、而在相對陰暗之環境下則 了使用忒内藏光源之類型的液晶顯示裝置等之形成上係有 用的。 其次’針對在本發明之附光學補償層之偏光板進一步 積層亮度提升膜之偏光板的一例做說明。 在亮度提升膜方面並無特別限定,可使用例如電介體 之多層薄膜或是折射率異向性不同之薄膜的多層積層體此 等可讓既定偏光軸之直線偏光穿透但將其他的光予以反射 者。此種亮度提昇膜可舉出例如3M公司製造之商品名r D-BEF」等。又,亦可使用膽固醇液晶層(特別是膽固醇液 晶聚合物之配向薄膜)、或是配向液晶層支持於薄膜基材上 55 200305507 之物。該等係將左右側的圓偏光加以反射、而使得其他光 穿透之物,可舉出例如日東電工公司製造之商品名Γ PCF350」、Merck公司製造之商品名r Transmax」等。 又’複折射性膜以外之相位差板除1/4波長板以外, 也可使用單軸或雙軸等拉伸聚合物膜、Z轴配向處理後之 聚合物膜、液晶性聚合物層等具有適當相位差者。擴散控 制膜係用以控制與視角或解析度有關之眩目、散射光者, 且亦可為利用擴散、散射及/或折射之光學機能膜。偏光散 射膜係在膜中含有散射性物質使偏光會因其振動方向產生 散射異向性之薄膜,可用於偏光控制用。 本發明之各種偏光板亦可含2層以上光學層之光學配 件,比如由含有前述複折射層之積層偏光板及光學層所積 層者。
此種積層2層以上光學層之光學構件,可在比如液晶 =器等之製造過程中’依順序以各別之方式積層形成, 4疋右使用預先積層之光學構件,則有比如品質之安定性 或組裝作業性上良好、可提高液晶顯示裝置製造效率之優 點‘又,積層時,和前述相同,亦可使用黏著層等各種接 著方法。 前述各種偏光板,基於可易於與液晶元 雜故積層,以進-步具有黏著劑層或接著劑層為佳:= 了配置於偏光板之單面或雙面。在黏著層之材料方面, 、'無特別限定’可使用丙烯酸系聚合物等以往果知之材料 ’特別是基於可形成可防止吸濕所造成之發泡、制離,熱 56 200305507 月疫脹差所造成之光學特性之降低,液晶元件之彎曲等而可 成為高品質、耐久性優異之液晶顯示裝置的觀點,以例如 吸濕率低且耐熱性優異之黏著層為佳。又,亦可為含有微 粒子而展現光擴散性之黏著層等。做為於偏光板表面形成 黏著劑層之方式,可藉由例如將各種黏著材料之溶液或熔 融液以流延或塗佈等直接添加於偏光板之既定面來形成層 之方式、或是同樣地在後述之間隔物(separat〇r)上形成黏 著劑層,將其移往偏光板之既定面之方式來進行。又,這 些層可形成於偏光板之任一表面,例如可形成於偏光板之 相位差板之露出面。 當設於偏光板之黏著劑層之表面露出之情況下,在將 黏著層供實用之前,基於防止污染之目的,藉由間隔物來 遮覆該表面乃為所希望者。此間隔物可藉由在透明保護薄 膜等之適當的薄膜上依必要性設置矽酮系、長鏈烷系、氟 系、硫化鉬等之剝離劑所成之剝離塗層之方法來形成。, 前述黏著劑層等可為單層體亦可為積層體。在積層體 方面亦可使用將不同組成或不同種類之單層做組合之^層 體。又,當配置於偏光板之兩面時,兩面可為相同之黏^ 劑層亦可為不同組成或不同種類之黏著劑層。 —黏著劑層之厚度可依據例如偏光板之構成等來適宜決 定,一般為1〜500 # m。 '、 、形成黏著劑層時所使用之黏著劑,以展現優異之光學 透明性、適度之濕潤性、凝集性與接著性之黏著特性為= 。具體例子可舉出以丙稀酸系聚合物或石夕酮系聚合物、聚 57 200305507 :二:氨酿、聚峻、合成橡膠等之聚合物做為基礎聚合物 所调製之黏著劑等。 荖⑽者:層之黏者特性的控制’可藉由例如選擇形成黏 =之,合物之組成與分子量、交聯方式、交聯性 “b :之3有比例、交聯劑之配合比例等來調整交聯度與 刀子里此種以往眾知之方法來適宜進行。 :’、形成以上本發明之複折射性膜、偏光板、各種光 ;(進夕積層光學層之各種偏光板)之偏光薄膜、透 々呆蔓層光予層、黏著層等之各層亦可為利用例如水揚 酉m合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唾系化合物、 合物1配鹽系化合物等之紫外線吸收劑 做適當處理來賦予紫外線吸收能力之物。 本电月之複折射性膜或偏光板’如前述般可適宜使用 於液曰曰顯不裝置等之各種顯示裝置的形成Jl,例如可將偏 光板配置於液晶元件之單側或兩側做成液晶面板,而可使 用於反射型或半穿透型、穿透·反射兩用型等之液晶顯示裝 置上。 形成液曰曰顯示裝置之液晶元件的種類,可任意地選擇 ,例如可使用以薄膜電晶體型為代表之主動陣列驅動型者 j以扭轉向列型或超級扭轉向列型為代表之單純陣列驅動 型者等,可使用各種類型之液晶元件。當巾,本發明之複 折射性膜或偏光板特別適用& VA(垂直配向,· V】 Alighned)元件之光學補償上,做為VA模式之液晶顯示裝 置之視角補償膜非常有用。 58 200305507 、又,前述液晶元件通常係於對向液晶元件基板之間隙 注入液晶之構造,在液晶元件基板方面並無特別限定,可 使用例如玻璃基板或塑膠基板。x,塑膠基板之材質並益 特別限定可舉出以往眾知之材料。 …、 又於液晶凡件之兩面設置偏光板或光學構件的情況 :該:可為相同種類亦可為不同。又,於液晶顯示裝置之 形成時,可在適宜的位置進一步配置丨層或2層以上之菱 鏡列片、透鏡列片、光擴散板或背光等之適宜的構件。 再者,本發明之液晶顯示裝置係包含液晶面板,在液 晶面板方面除了使用本發明之液晶面板以外,it無特別限 亦了進一步具有光源,而光源種類亦無特別限制 ,例如,基於可有效使用光能之觀點,以例如可射出偏光 之平面光源為佳。 本發明之液晶面板的一例,可舉出例如以下形態。液 曰曰面板係具有例如液晶元件、本發明之複折射性膜、偏光 元件以及透明保護層,於該液晶元件之一側面積層有該複 折射性膜’於該複折射性膜之另一側面依序積層有該偏光 元件與透明保護層。該液晶元件係於兩片之液晶元件基板 之間保持著液晶所構成者。又,該複折射性膜當如前述般 為複折射層與基材而成之積層體時,其配置並無特別限制 ’可舉出例如複折射層側面向於液晶元件,基材侧面向於 偏光元件之形態。 於本發明之液晶顯示裝置中,可在視讀側之複折射性 膜(偏光板)上進一步配置擴散板、抗眩層、反射防止膜、 59 200305507 保護層、保護板、反射板、半穿透反射板、亮度提升膜、 擴散控制膜、偏光散射膜等其他的光學層丨層以上,或是 於液晶面板之液晶元件與偏光板之間適宜配置補償用相位 差板等。 再者,本發明之複折射性膜或偏光板並不限於前述液 晶顯示裝置,亦可使用於例如有機電致發光(EL)顯示器、 電聚顯示器(PD)以及FED(電場放射顯示器:Field Emission Display)等之自發光型影像顯示裝置。使用於自 發光型平面顯示器的情況,例如將本發明之複折射性膜之 面内向位差值Re設定成λ/4,可得到圓偏光,所以可做為 反射防止濾片來使用。 以下,針對具備本發明之偏光板的電致發光(EL)顯示 裝置做說明。本發明之EL顯示裝置係具有本發明之複折 射性膜或偏光板的顯示裝置,此EL裝置可為有機EL以及 無機EL之任一者。 最近,在EL顯示裝置方面,係提出了將偏光元件或 偏光板等之光學薄膜與λ /4板併用以防止黑狀態中來自電 極的反射。本發明之偏光板或複折射性膜特別在自EL層 發射直線偏光、圓偏光或是橢圓偏光之任一偏光的情形、 或是朝正面方向發射自然光、朝斜方向之出射光呈部分偏 光之情形等係非常有用。 首先’就一般有機EL顯示裝置做說明。一般,有機 EL顯示裝置係在透明基板上依序積層透明電極、有機發光 層、金屬電極來形成發光體(有機EL·發光體)。有機發光層 200305507 係各種的有機薄膜之積層體,已知有例如三苯胺衍生物等 所構成之電洞植入層與射之螢光性有機固體所構成之發 光層而成之積層體、前述發光層與二禁嵌苯衍生物等所構 成之電子植入層而成之積層體、或是電洞植入層、發光層 與電子植入層之積層體等各種的組合。 曰 又,此種有機EL顯示裝置係基於以下原理來發光。 亦卩對别述陽極與陰極施加電壓,以對有機發光層植入 電洞與電子,言亥等電洞與電子之再結合所產生之能量會激 發螢光物質,所激發之螢光物質在回到基態時會發光。電 洞與電子再結合此種機制,係與—般之二極體同樣,電流 與毛光強度對於施加電壓顯示伴隨整流性之強非線形性。 於有機EL顯示裝置中,為了自有機發光層導出發光 ,至少一側之電極需為透明電極,通常係將由氧化銦錫 (ITO)等之透明導電體所形成之透明電極當做陽極來使用。 另一方面,為了使得電子植入變得容易來提昇發光效率, 陰極使用工作函數小之物質一事是重要的,通常可使用 Mg-Ag、Al-Li等之金屬電極。 於前述構成之有機EL顯示裝置中,有機發光層以厚 度薄達10nm程度之薄膜來形成為佳。此乃由於,有機發 光層亦與透明電極同樣可使得光近乎完全穿透之故。於是 ’非發光時自透明基板之表面入射之穿透透明電極與有機 發光層而在金屬電極被反射之光,會再度往透明基板之表 面側射出。所以自外部觀看時,有機EL顯示裝置之顯示 面會呈現鏡面。 200305507 ^本^月之有機EL顯示裝置,例如在包含有機EL發光 月豆(有機發光層之表面側具備透明電極,有機發光層之裏面 側具備金屬電極)之有機EL顯示裝置中,以在透明電極之 表面側°又置本發明之複折射性(偏光板等)為佳,以進一步 在偏,板# EL元件之間設置;板為佳。藉由配置本發 月之複折射性冑’可$為一種展現抑制外界反射、視讀性 獲得提升之效果的有機EL顯示裝置。又,於透明電極與 複折射性膜之間進一步配置相位差板為佳。 前述相位差板與複折射性膜(偏光板等)由於具有將自 外部所入射、在金屬電極被反射之光加以偏光之作用,所 以利用其偏光作用,自外部無法視讀金屬電極之鏡面,此 為其效果所在。特別是,只要以1/4波長板來構成相位差 板、且將偏.光板與相位差板之偏光方向所成角度調整為7Γ /4 ’即可將金屬電極之鏡面完全遮蔽。亦即,對有機el 裝置所入射之外部光,利用偏光板僅直線偏光成分可穿透 。此直線偏光藉由相位差板一般可成為橢圓偏光,但當相 位差板為1 /4波長板、且偏光板與相位差板之偏光方向所 成角度為7Γ /4時,則會成為圓偏光。 此圓偏光通常會穿透透明基板、透明電極、有機薄膜 ’於金屬電極被反射,再次穿透有機薄膜、透明電極、透 明基板,以相位差板再次成為直線偏光。此直線偏光由於 與偏光板之偏光方向成正交,所以無法穿透偏光板。於是 ,可將金屬電極之鏡面完全遮蔽。 62 200305507 <實施例> 以下’利用實施例與比較例’對本發明更具體的說明 但本發明不限定於 心丁七疋於以下之實細例。又’複折射膜之特性係 以如下方法評價。 (相位差測定) 。使用商品名K〇BRA21ADH(王子測量機器製)進行測定 (軸精度測定) 。使用商品名刪⑽娜(王子測量機器製)進行測定 又,在各層中Re及Rz係以下式得出。 Re(面内方向之相位差值)=(nx_ny) · d
Rz(厚度方向之相位差值)==(ηχ_ηζ) · d 乂、,,、π处層中在
Υ軸及ζ軸方向上的折射率,前述χ軸為前 現最大折射率的軸方向’ γ軸為前述面内相對於曰 為垂直的軸方向,而ζ軸表示與前述χ轴及 ’L 厚度方向。d表示前述層之厚度。 呈垂 (實施例1) 將由2,2-雙(3,4-二缓基笨基)六銳丙燒盘 甲基)-4,4’-二胺基聯苯二酚所合成、重量平H(三氟 為12。_之聚酿亞胺溶解於環己_以調製心h(Mw) 聚醯亞胺溶液…將前述聚醯亞胺溶液塗体5重量%之 在厚度50// 63 200305507 m之三乙醯基纖維素(TAC)膜上^再,將該塗佈膜以剛。c 進行10分鐘乾燥處理,結果形成厚度6_之聚醢亞胺膜 。前述聚醯亞胺臈之Re& 〇.〇4nm,Rz為24〇說。 將前述聚醯亞胺膜與TAC膜之積層體於16〇t下進行 對拉伸前積層體之長度& 10%之,縱單軸拉伸。拉伸後積層 體中前述聚醯亞胺膜顯示nx>ny>nz的特性,且為以 140nm,Rz為250nm之複折射性層。
將下述化予式(68)所不之棒狀向列液晶單體(9〇重量份 )與光聚合起始劑(商品名:衣魯甲邱爾9〇7··吉巴特用化學公 司製)(5 t量份)及甲乙綱⑽^量份)混合,並將該混合物 以約Mem之厚度塗佈於前述複折射性層上。然後,於 9〇°C下進# 1分鐘之加熱處理,使液晶單體配向後,以紫
外線照射將前述單㈣合並固定化。該液晶化合物層為厚 Μ 〇·8_’ Rel〇〇nm’並顯示ηχ>〒ηζ特性(正的a幻 射層。得到含有呈現η,、特性之非液晶性聚 折射層與液晶化合物製複折射層之複折射性膜。 所仔到複折射性臈之光學特性如下述表2所示。 CH2=CHC02(CH2)4〇
0(CH2)4〇COCH=CH2 (68) (實施例2) 除殘存溶劑量為1重量 m m ^ k由 里/°並形成厚度〇·5 /zm之聚醯亞 月女膜以外,與實施例1 〜 4± ^ ^ ^ ^ ,進仃。付到含有顯示nx>ny>nz 特性之非液晶性聚合物製 奶表複折射層與液晶化合物製複折射 64 200305507 層之複折射性膜。 2所示。 所得到複折射性膜之光學特性如下述表 (實施例3)
2,2’-二氯-4,4’-二胺基聯苯所合成、 ,卜一琴基丙跪二酐與 重量平均分子量(Mw) 為3萬之聚醯亞胺溶解於環庚酮以調製為2〇重量%之聚醯 亞胺溶液。又,將前述聚醯亞胺溶液塗佈在厚度8〇//m之 三乙醯基纖維素(TAC)膜上。再,將該塗佈膜以13代進行 5分鐘熱處理,、结果形成厚度7师之透明平滑聚酿亞胺膜 。前述聚醯亞胺膜之Re為〇·〇5ηιη,Rz為n5nm。 將前述聚醯亞胺膜與TAC膜之積層體於16〇<t下進行 對拉伸前積層體之長度為15%之橫單軸拉伸(拉幅)。拉伸 後積層體之聚醯亞胺膜顯示nx>ny>nz的特性,且為Re 1 30nm,Rz為260nm之複折射性層。 與實施例1同樣,在前述複折射性層上,形成厚度約 0.8// m,Re為100nm,且nx>ny=nz的複折射層,並得到 含有呈現nX>ny>nz特性之非液晶性聚合物製複折射層與 液晶化合物製複折射層之複折射性膜。所得到複折射性膜 之光學特性如下述表2所示。 (實施例4) 將實施例1所調製之聚醯亞胺溶液塗佈在厚度5〇^m 之TAC膜上。再,將該塗佈膜以i〇〇°C進行1〇分鐘乾燥 處理,結果形成厚度6 之聚醯亞胺膜。該聚醯亞胺膜 為 Re 〇.〇4nm、Rz240nm 之膜。 65 200305507 在前述聚醯亞胺膜上,用摩擦布進行摩擦處理。 與實施例1同樣,在前述複折射性層上,形成厚度約 0.8 //m,Re為1 OOnm,且nx>ny=nz的複折射層。得到含 有呈現nx>ny〉nz特性之非液晶性聚合物製複折射層與液 晶化合物製複折射層之複折射性膜。所得到複折射性膜之 光學特性如下述表2所示。 (比較例1) 將側鏈上具有氰基苯之聚合物溶解於環己酮以調製1 重量%之聚合物溶液。並且’塗佈在厚度50//Π1之TAC膜 上。並將可見偏光以800mJ/cm2之強度照射在該塗佈膜上 ,以形成配向膜。 在前述配向膜上,與實施例1同樣,形成厚度約0.8// m,Re為1 OOnm,且nx>ny=nz的複折射層。得到含有先 前之配向膜層與液晶化合物製複折射層之複折射性膜。所 得到複折射性膜之光學特性如下述表2所示。 表2 非液晶性聚合物製複折射層或配向膜 液晶性聚合物製複折射層 厚度 (//m) Re(nm) Rz(nm) 折射率之關係 軸精度 (度) 厚度 (jum) Re(nm) 折射率之關係 軸精度 (度) 實施例1 5.8 140 250 nx>ny>nz ±0.3 0.8 100 nx>ny=nz ±0·3 實施例2 0.5 15 24 nx>ny>nz ±0.3 0.8 100 nx>ny=nz ±0.3 實施例3 6.8 130 260 nx>ny>nz ±0·3 0.8 100 nx>ny=nz ±0·3 實施例4 6 0.04 240 nx=ny>nz _ 0.8 100 nx>ny=nz ±0.3 比較例1 0.2 二 0 二 0 • 鑛 0.8 100 nx>ny=nz ±0·3 (評價試驗) 將實施例1〜4所得到之複折射性膜及比較例1所得到 之複折射性膜分別以其延遲軸與偏光板之吸收軸正交的方 66 200305507 式’將偏光板(日東電工公司製、商品名:SEG1425DU)透過 丙烯酸系黏著層進行積層。將其以兩侧偏光板之偏光軸為 直進的方式,透過丙稀酸系黏著層接著在垂直配向模式之 液晶元件兩側,形成液晶面板。
其次’測定所得到液晶面板之上下、左右、對角 (45〜225° )、對角(135〜315。)之方向上對比(c〇)^1〇之視 角。對比係在前述液晶面板上,顯示白影像與黑影像,以 Ez C〇ntrast 160D(ELDIM公司製),對顯示面板之正面、上 下左右’分別測定在視角0〜7〇。中,χγζ顯示系之Y值 、X值、y值。並由在白影像中之γ值(¥〜)與在黑影像中 之Υ值(υβ),算出各視角中之對比(yw/yb)。 含有實施例1及2與比較例丨得到之複折射性膜之液 晶面板對比圖分別表示在圖i〜3。含有實施例3及4'所得 到複折射性膜之液晶面板對比圖與含有實施例丨所得到^ 折射f生膜之液晶面板對比圖大致相同。又,圖中,里 分表示10以下之對比。 …、邑邛
如圖’顯示含有實施例i、3及4所得到複折射性膜 之液晶面板其對比良好。而含有糊2所得到 性 膜之液晶面板與實施例卜3及4比較,其顯㈣ 低’但仍在實用上沒有問題的水平。 乂 可利用性 因此’本發明之製造方法,為製程數較少 膜之厚度較薄之複折射性膜之製造方法。若 :性 衣k方法 67 200305507 > ,則可將使液晶層配向之機能與光學補償機能集中在非液 晶性聚合物製複折射層中。其結果,不需為了得到良好對 比,而再積層相位差板。又,藉使液晶性聚合物製 層製成雙軸性膜,可得到非常良好之對比。 于 [圖式簡單說明] 圖1為實施例1之液晶面板之對比曲線。 圖2為實施例2之液晶面板之對比曲線。 圖3為實施例3之液晶面板之對比曲線。 鲁
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Claims (1)
- 200305507 拾、申請專利範圍: 1 · 一種複折射性膜之製造方法,係在非液晶性聚合物 製複折射層上形成配向之液晶化合物製複折射層而製造出 複折射性膜’該非液晶性聚合物製複折射層係經配向處理 之層’藉5亥非液晶性聚合物製複折射層之配向,而使該液 晶化合物製複折射層在形成時受到配向處理。 2·如申請專利範圍第1項之製造方法,其中,該非液 晶性聚合物製複折射層,係將非液晶性聚合物膜藉由擇自 拉伸處理、收縮處理及摩擦處理所構成群中至少1種之處 理作配向處理之層。 項之製造方法,其中,該非液 聚酿亞胺、聚酯、聚謎酮、聚 以及聚酯醯亞胺所構成群中1 3·如申請專利範圍第1 晶性聚合物係擇自聚醯胺、 芳基醚酮、聚醯胺醯亞胺、 種以上之聚合物。 4·如申請專利範圍第1項之製造方法,其中,該非液 晶性聚合物製複折射層之厚度為〜20/zm。 5·如申請專利範圍帛"員之製造方法,其中,該非液 晶性聚合物製複折射層呈現nx>ny>nz之特性,該『Μ 及Z刀別表示4非液晶性聚合物製複折射層在X軸、γ 轴及Z軸方向上的折射率,該χ轴為該非液晶性聚合物製 複折射層面内呈現最大折射率的軸方向,γ轴為該面内相 對於該X軸為垂亩&缸士 ^ ^置的轴方向’巾Ζ軸表示與該X軸及γ 軸呈垂直的厚度方向。 6.如申請專利範圍帛1項之製造方法,其中,該非液 69 200305507 晶性聚合物製複折射層滿足下4 r 下式(I)及式(II)所示之條件: 0(nm)^ Re^ 200(nm)⑴ 40(nm)^ Rz^ 800(nm) ⑴) 該式(I)及式(II)中, Re = (nx-ny) · d Rz=(nx-nz) . d, 該nx、ny及nz分別表示該非液晶性聚合物製複折射 層在X軸、Y軸及Z軸方向上之折射率,軸係在該非 液晶聚合物製複折射層之面内呈現最大折射率的軸方向, Υ軸為該面内對於該X軸為垂直的軸方向,而ζ軸表示與 ,亥X軸及Υ軸呈垂直之厚度方向,d表示該非液晶性聚合 物製複折射層之厚度。 7.如申請專利範圍帛i項之製造方法,其中,該液晶 化合物製複折射層之形成,係藉在該配向處理後之非液晶 性聚合物製複折射層上塗佈液晶化合物溶液來進行。 8·如申請專利範圍第丨項之製造方法,其中,該液晶 化合物製複折射層之形成,係藉由將已配向之液晶化合物 固定化來進行。 9·如申請專利範圍第1項之製造方法,其中,該液晶 化合物含有擇自液晶聚合物、光聚合性液晶單體及熱聚合 性液晶單體所構成群中1種以上之液晶化合物。 1 〇·如申請專利範圍第.9項之製造方法,其中,該液 晶聚合物為向列液晶、碟狀液晶或膽固醇液晶。 1 L如申請專利範圍第1項之製造方法,其中,該液 200305507 % 晶化合物之配向為水平配向、垂直配向、扭轉配向、混成 配向、垂直均勻(homeotropic)配向、均質(h〇m〇genius)配 向、傾斜配向或焦點二次曲線(f〇cal c〇nic)配向。 12·如申請專利範圍第丨項之製造方法,其中,該液 曰曰化合物製複折射層具有光學軸,該光學軸位於平面之平 行方向、平面之垂直方向或相對於平面之垂直方向呈傾斜 13. —種複折射性膜,其特徵在於:係藉由申請專利範 圍第1項之製造方法所製得者。 14. 一種複折射性膜,其含有非液晶性聚合物製複折 射性層及液晶化合物製複折射性層’係於非液晶性聚合物 製複折射性層Ji直接形成配向《液晶化合物製複折射性層 :其中’#液晶性聚合物製複折射性層為滿足下述式(m) 及式(IV)所示條件之複折射性膜: 〇(nm)^ Re^ 200(nm) (in) 40(nm)^ Rz^ 800(nm) (iv) 該式(III)及式(IV)中, 鲁 Re=(nx_ny) · d Rz=(nx_nz) · d, nx、ny及nz分別表示該非液晶性聚合物製複折射層 在X轴、Y軸及Z軸方向上之折射率,該χ軸係在該非液 晶聚合物製複折射層之面内呈現最大折射率的車由方向,Y 軸為該面内對於該X軸為垂直的轴 j平田万向,而z軸表示與該 X軸及Y軸呈垂直之厚度方向,H主- n d表不该非液晶性聚合物 71 200305507 製複折射層之厚度。 15·-種附光學補償層之偏光板,其含有複折射性膜, 其特徵在於:該複折射性膜係申請專利範圍第13項或第 14項之複折射性膜。 ' — 16. —種液晶面板’其含有液晶元件及光學構件,且該 液晶元件至少一表面配置有該光學構件,其特徵在於:^ 光學構件為中請專利範圍第13項或第14項之複折射性膜 或申請專利範圍第15項之附光學補償層之偏光板。 17. 一種液晶顯示裝置,其含有液晶面板,其特徵在於 .該液晶面板係申請專利範圍帛16項之液晶面板。 18. 一種影像顯示裝置,其特徵在於:含有申請專利範 第 貞或^ 14項之複折射性臈或申請專利範圍第i 5 項之附光學補償層之偏光板。 拾壹、圖式: 如次頁 72
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002125346 | 2002-04-26 | ||
JP2002341636 | 2002-11-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200305507A true TW200305507A (en) | 2003-11-01 |
Family
ID=29272356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092109538A TW200305507A (en) | 2002-04-26 | 2003-04-24 | Process for producing birefringent film |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7462381B2 (zh) |
KR (1) | KR100720887B1 (zh) |
CN (1) | CN1281984C (zh) |
TW (1) | TW200305507A (zh) |
WO (1) | WO2003091767A1 (zh) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4888931B2 (ja) * | 2003-08-08 | 2012-02-29 | 日東電工株式会社 | 液晶表示装置用重畳フィルムの製造方法、液晶表示装置用重畳フィルム及び液晶表示装置 |
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-
2003
- 2003-04-24 CN CNB038093626A patent/CN1281984C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-24 KR KR1020047017237A patent/KR100720887B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-04-24 WO PCT/JP2003/005230 patent/WO2003091767A1/ja active Application Filing
- 2003-04-24 US US10/512,561 patent/US7462381B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-24 TW TW092109538A patent/TW200305507A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050151906A1 (en) | 2005-07-14 |
WO2003091767A1 (fr) | 2003-11-06 |
US7462381B2 (en) | 2008-12-09 |
KR20040104640A (ko) | 2004-12-10 |
KR100720887B1 (ko) | 2007-05-22 |
CN1650198A (zh) | 2005-08-03 |
CN1281984C (zh) | 2006-10-25 |
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