RU2204153C2 - Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек - Google Patents
Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек Download PDFInfo
- Publication number
- RU2204153C2 RU2204153C2 RU99118579/28A RU99118579A RU2204153C2 RU 2204153 C2 RU2204153 C2 RU 2204153C2 RU 99118579/28 A RU99118579/28 A RU 99118579/28A RU 99118579 A RU99118579 A RU 99118579A RU 2204153 C2 RU2204153 C2 RU 2204153C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- thickness
- optical
- light beam
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 80
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 57
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 27
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 23
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 15
- 230000004438 eyesight Effects 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 84
- 239000010408 film Substances 0.000 description 46
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 34
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 9
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 9
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 4
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 230000016776 visual perception Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 Ta Ti Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- OGBQILNBLMPPDP-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,7,8-Pentachlorodibenzofuran Chemical compound O1C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C=C2C2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 OGBQILNBLMPPDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208202 Linaceae Species 0.000 description 1
- 235000004431 Linum usitatissimum Nutrition 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L chromyl dichloride Chemical compound Cl[Cr](Cl)(=O)=O AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007850 degeneration Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000004446 fluoropolymer coating Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/225—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/256—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
- C03C17/328—Polyolefins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/60—Control of cameras or camera modules
- H04N23/68—Control of cameras or camera modules for stable pick-up of the scene, e.g. compensating for camera body vibrations
- H04N23/681—Motion detection
- H04N23/6812—Motion detection based on additional sensors, e.g. acceleration sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/60—Control of cameras or camera modules
- H04N23/68—Control of cameras or camera modules for stable pick-up of the scene, e.g. compensating for camera body vibrations
- H04N23/681—Motion detection
- H04N23/6815—Motion detection by distinguishing pan or tilt from motion
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/60—Control of cameras or camera modules
- H04N23/68—Control of cameras or camera modules for stable pick-up of the scene, e.g. compensating for camera body vibrations
- H04N23/682—Vibration or motion blur correction
- H04N23/684—Vibration or motion blur correction performed by controlling the image sensor readout, e.g. by controlling the integration time
- H04N23/6845—Vibration or motion blur correction performed by controlling the image sensor readout, e.g. by controlling the integration time by combination of a plurality of images sequentially taken
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/14—Picture signal circuitry for video frequency region
- H04N5/144—Movement detection
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/33—Transforming infrared radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
- C03C2218/153—Deposition methods from the vapour phase by cvd by plasma-enhanced cvd
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- User Interface Of Digital Computer (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Studio Devices (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Прозрачное или полупрозрачное изделие содержит по крайней мере один слой просветляющего покрытия, толщину которого выбирают такой, чтобы воспринимаемый коэффициент отражения изделия с покрытием, определяемый по формуле, указанной в формуле изобретения, был минимальным. Устройство для осаждения просветляющей пленки содержит камеру реактора, плазменный генератор и оптический контрольно-измерительный прибор, который содержит источник поляризованного излучения для направления пучка света с выбранной длиной волны на подложку при выбранном угле падения, фотоприемник для измерения интенсивности отраженной части пучка света и микропроцессор, связанный с фотоприемником, расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником питания и управляющий ими в соответствии с интенсивностью отраженной части светового пучка. При осаждении просветляющего покрытия его толщину определяют таким образом, чтобы конечный воспринимаемый коэффициент отражения fAR≤1/2 F0, где F0 - воспринимаемый коэффициент до нанесения покрытия. Обеспечивается получение просветляющих покрытий с заданными свойствами. 3 с. и 4 з.п. ф-лы, 14 ил., 1 табл.
Description
Изобретение в общем относится к улучшению передачи светового пучка через оптические материалы, такие как очковые линзы, и, в то же время, к уменьшению отражения рассеянного светового пучка, которое приводит к ослепительному блеску от оптических материалов.
Оптически прозрачные материалы, не имеющие покрытия, отражают часть падающего светового пучка. Величина отражения изменяется от длины волны, поляризации и угла падения светового пучка, а также от показателя преломления прозрачного материала, в зависимости от длины волны. Это френелевское отражение описывается уравнениями Максвелла для электромагнитного излучения, которые известны специалистам в области оптики и описаны, например, в книге М. Борна и Е. Фульфа "Основы оптики", Нью-Йорк, Пергаммон Пресс, 1980 (М. Born and E. Wolf in Principles of Optics, New York, Pergammon Press (1980)). Также известно, что уменьшить величину отражения позволяют слои из прозрачных материалов с коэффициентами преломления, отличными от коэффициента преломления подложки. Величина этого уменьшения зависит от показателя преломления материалов покрытия, который зависит от длины волны, и их толщины, а также от длины волны, поляризации и угла падения светового пучка. Разработка и изготовление таких покрытий полностью описано в главах 3 и 9 в работе Х.А. Маклеода "Тонкопленочные оптические фильтры", Нью-Йорк: МакГроу-Хил, 1989 (Н.А. Macleod, Thin Film Optical Filters, (New York: McGraw-Hill) (1989)).
Чувствительность оптической системы глаза человека также изменяется от длины волны светового пучка и его угла падения, например, как описано в работах Гюнтера Вайжески и У.С. Стайлза "Наука цвета: понятия и методы, количественные данные и формула", Нью-Йорк: Уилей, 1982 (Gunter Wyszecki and W.S. Stiles (New York: Wiley) (1982)) и Николаса Уейда и Михаеля Суонстона "Зрительное восприятие", Лондон: Роутледж, 1991 (Visual Perception by Nicholas Wade and Michael Swanston (London: Routledge) (1991)). Эту функцию чувствительности зрения человека с успехом можно использовать при разработке и изготовлении оптических изделий с покрытием, имеющим толщину покрытия и составы, позволяющие минимизировать воспринимаемое угловое и спектральное изменение френелевского отражения от изделий.
В способах создания просветляющих (AR) покрытий предыдущего уровня техники используется осаждение из паровой фазы, при котором электронные лучи высокой энергии используются для нагревания образцов из неорганических веществ, таких как титан (Ti), кремний (Si), или фторид магния (MgF2), в вакуумной камере до тех пор, пока они не испарятся и не осядут на охлаждаемую подложку. Поток испаряемого материала является изотропным и уменьшается с квадратом расстояния между подложкой, на которую необходимо нанести покрытие, и источником испарения. В этом способе необходимо иметь вакуумную камеру, размеры которой являются большими по сравнению с размерами подложки. Типичным примером осуществления этих способов является система для осаждения в высоком вакууме модели 1100 (Лейболд-Хереауз ГмбХ, Ханау, Германия (Leybold-Hereaus GmbH, Hanau, Germany)) и система для нанесения покрытий в высоком вакууме ВАК 760 (Балзерз А.Г., Лихтенштейн (Balzers A.G., Liechtenstein)). Низкая скорость получения просветляющих покрытий с помощью способов предшествующего уровня техники, а также высокая стоимость покупки, эксплуатации и технической поддержки устройства, ограничивает их использование с основным промышленным оборудованием. Поэтому, необходимо разработать способ получения просветляющих покрытий на очковых линзах, при реализации которого потребуются только компактные, недорогие аппаратные средства и которые можно выполнить в любом месте, таком как предприятие розничной продажи оптических изделий.
Способ напыления также приводит к нагреванию подложки, потому что конвективное охлаждение является неэффективным в вакууме, и нагретые элементарные вещества испускают тепловое излучение, которое может поглощаться подложкой. Нагревание может привести к повреждению подложки, такому как внутреннее механическое напряжение и деформация, особенно пластмассовых подложек. Поэтому, чтобы избежать такое повреждение, просветляющее покрытие необходимо наносить при комнатной температуре или близкой к ней.
В известных просветляющих покрытиях для уменьшения коэффициента отражения используется один или несколько слоев из тугоплавких материалов, таких как неорганические оксиды, нитриды или фториды. Широко используемые для таких просветляющих покрытий тонкопленочные вещества описаны в главе 9 и приложении I у Маклеода (Macleod) и включают в себя оксиды Al, Sb, Be, Bi, Се, Hf, La, Mg, Nd, Pr, Sc, Si, Та, Ti, Th, Y и Zr. Табличное представление Маклеода также включает в себя фториды Bi, Са, Се, Na, Pb, Li, Mg, Nd и Th, а также несколько сульфидов и селенидов. Подобное табличное представление представлено в таблице 4.1 на странице 179 в работе Ш.А. Фурмана и А.В. Тихонравова "Оптика многослойных систем", Франция, 1992 (Sh. A. Furman and A.V. Tikhonravov, Editions Frontieres: Gif-sur-Yvette, France, 1992).
Проблема, связанная с этими просветляющими покрытиями, заключается в том, что механические характеристики неорганических соединений, такие как коэффициент теплового расширения и модули упругости, значительно отличаются у пластмассовых подложек. Поэтому более предпочтительным является нанесение слоя из органического просветляющего покрытия. К тому же требуется получить слой просветляющего покрытия, свойства которого являются промежуточными между известными неорганическими просветляющими покрытиями и пластмассовыми подложками и который выполняет роль переходного слоя между органическими и неорганическими слоями.
Коэффициент отражения оптического изделия с покрытием сильно зависит от толщины слоя или слоев с просветляющим покрытием. В предшествующем уровне техники для измерения скорости осаждения массы толщину покрытия контролируют с использованием кварцевых микровесов по месту (in situ). Масса пленки не входит непосредственно в уравнения, которые описывают оптические свойства слоя. Представляется очень выгодным контролировать рост пленки с помощью оптического сигнала, который наиболее тесно связан со свойствами просветляющего покрытия, нанесенного на изделие.
Согласно настоящему изобретению разработано просветляющее покрытие с одним или несколькими тонкими слоями с использованием свойств преломления, зависящих от длины волны и угла падения. Воспринимаемый коэффициент отражения, который характеризует зависящий от длины волны и угла падения коэффициент френелевского отражения с помощью угловой и спектральной чувствительности системы зрения человека, минимизируется, подчиняясь ограничениям, которые накладываются на имеющиеся вещества слоев.
Слои (которые упоминаются так же как "покрытия" или "пленки") формируют с помощью плазменного химического осаждения из паровой фазы (ПХОПФ (RECVD)) летучих предшественников типа с-С4F8, Si(СН3)4, Ti (OC2H5)4, С4Н4O и С6Н6. В состав предшественников входят органические и органометаллические соединения, и полученные в результате слои могут быть оптически дисперсионными (то есть, иметь изменение коэффициента преломления от длины волны). С другой стороны, результирующий слой (слои) может и не быть оптически дисперсионным.
Из компактной камеры, которая немного больше, чем подложка, на которую будут наносить покрытие, откачивают воздух и продувают химически инертным газом. Электрическую энергию передают непосредственно газу с использованием электродов и прикладывают статическое электрическое поле косвенно через емкостную или индуктивную связь с использованием изменяющихся во времени электрических полей. В результате получают плазму с низкой степенью ионизации. Подложки предпочтительно очищают, например, с помощью напыления на поверхности положительных ионов, полученных в плазме инертного газа (например, Не, Аr, N2), или с помощью травления поверхности в химически активной плазме (например, O2, HBr). Затем в камеру подают один или несколько летучих молекулярных предшественников или смешанный с инертным газовым потоком и электрически возбужденный состав. Электрическая энергия приводит к возбуждению, диссоциации и ионизации предшественника (предшественников) и к получению химически активных фрагментов, которые транспортируются к поверхности линзы и полимеризуются или коалесцируются с образованием пленки.
В одном варианте осуществления изобретения просветляющий слой образуется с помощью катионов (например, C2F4 +, Si(СН3)3 +), которые ускоряются с помощью электростатической оболочки на границе плазмы до сверхтепловой кинетической энергии (более 0,025 эВ). Эти слои обладают свойствами преломления, которые зависят от предшественника, условий осаждения и толщины пленки. Таким способом получают одно- и многослойные просветляющие покрытия.
В предпочтительном варианте осуществления, просветляющая пленка имеет, по меньшей мере, один слой полимерного фторуглерода, например, полученного способом ПХОПФ из с-C4F8, C2F4, или другие перфторированные вещества предшественника. Эти фторполимерные пленки имеют коэффициенты преломления обычно менее 1,4 и могут служить в качестве используемых однослойных просветляющих покрытий, а также как элементы в многослойных структурах.
В другом варианте осуществления органометаллический слой, например, сформированный способом ПХОПФ из (CH3)4Si или (СН3)4SiН, используется для улучшения сцепления между органической подложкой или слоем и неорганической подложкой или слоем. В другом варианте осуществления, один или несколько оптически тонких металлических слоев, таких как слой хрома, можно осадить из органометаллического предшественника, такого как хлорид хромила, для улучшения адгезии слоя (слоев).
Настоящее изобретение также предусматривает способ для оптического контроля за чистотой подложки и выращиванием пленки с использованием светоизлучающего диода с поляризованным излучением, поляризационного оптического фильтра и фотодиода. Обратная связь с оптическим контрольно-измерительным прибором используется для управления процессами очистки и осаждения просветляющего покрытия, например, при управлении скоростью потока предшественника, давлением в камере или электрическим возбуждением поодиночке или в комбинации, для получения одно- и многослойных пленок или покрытий с заданными свойствами просветления.
Сущность изобретения иллюстрируется ссылкой на сопроводительные чертежи, на которых:
фиг. 1 изображает трехмерный график коэффициента отражения для s-поляризации ("поляризации, перпендикулярной плоскости падения пучка") в зависимости от длины волны и угла падения для просветляющего покрытия, согласно одному варианту осуществления изобретения;
фиг. 2 изображает трехмерный график коэффициента отражения для р-поляризации ("поляризации, параллельной плоскости падения пучка") в зависимости от длины волны и угла падения для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.1);
фиг. 3 изображает график чувствительности зрения человека в зависимости от длины волны;
фиг. 4 изображает график чувствительности зрения человека в зависимости от угла падения;
фиг. 5 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для нескольких значений оптической толщины рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.6);
фиг. 6 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для нескольких значений оптической толщины просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг. 7 изображает график коэффициента отражения для s-поляризации в зависимости от оптической толщины при нескольких углах падения для просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг.8 изображает график коэффициента отражения для р-поляризации в зависимости от оптической толщины при нескольких углах падения для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.5);
фиг. 9 изображает схематический чертеж устройства для оптического контроля за процессом выращивания пленки на подложке;
фиг. 10 изображает схематический чертеж предпочтительного устройства для получения просветляющих покрытий на оптических подложках, согласно настоящему изобретению;
фиг. 11 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для многослойного просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг.12 изображает график коэффициента отражения для s-поляризации в зависимости от длины волны для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг. 11);
фиг.13 изображает в схематическом виде поперечное сечение глазной линзы, изготовленной согласно настоящему изобретению, с одним просветляющим слоем и
фиг. 14 изображает схематически вид в поперечном сечении глазной линзы, изготовленной согласно настоящему изобретению, с двумя просветляющими слоями.
фиг. 1 изображает трехмерный график коэффициента отражения для s-поляризации ("поляризации, перпендикулярной плоскости падения пучка") в зависимости от длины волны и угла падения для просветляющего покрытия, согласно одному варианту осуществления изобретения;
фиг. 2 изображает трехмерный график коэффициента отражения для р-поляризации ("поляризации, параллельной плоскости падения пучка") в зависимости от длины волны и угла падения для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.1);
фиг. 3 изображает график чувствительности зрения человека в зависимости от длины волны;
фиг. 4 изображает график чувствительности зрения человека в зависимости от угла падения;
фиг. 5 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для нескольких значений оптической толщины рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.6);
фиг. 6 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для нескольких значений оптической толщины просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг. 7 изображает график коэффициента отражения для s-поляризации в зависимости от оптической толщины при нескольких углах падения для просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг.8 изображает график коэффициента отражения для р-поляризации в зависимости от оптической толщины при нескольких углах падения для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг.5);
фиг. 9 изображает схематический чертеж устройства для оптического контроля за процессом выращивания пленки на подложке;
фиг. 10 изображает схематический чертеж предпочтительного устройства для получения просветляющих покрытий на оптических подложках, согласно настоящему изобретению;
фиг. 11 изображает график коэффициента отражения в зависимости от длины волны для многослойного просветляющего покрытия, согласно другому варианту осуществления изобретения;
фиг.12 изображает график коэффициента отражения для s-поляризации в зависимости от длины волны для рассматриваемого просветляющего покрытия (фиг. 11);
фиг.13 изображает в схематическом виде поперечное сечение глазной линзы, изготовленной согласно настоящему изобретению, с одним просветляющим слоем и
фиг. 14 изображает схематически вид в поперечном сечении глазной линзы, изготовленной согласно настоящему изобретению, с двумя просветляющими слоями.
Настоящее изобретение предусматривает способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек и новые одно- и многослойные просветляющие покрытия, нанесенные на оптические подложки. В этом описании термины "оптические материалы", "оптические подложки" и "оптические изделия" относятся к прозрачным или полупрозрачным материалам, таким как стекло и пластмасса, и изделиям, изготовленным из таких материалов. Не ограничивающие примеры таких изделий включают в себя линзы, окна, экраны телевизоров и мониторов компьютеров и ветровые стекла.
Коэффициент отражения R равен отношению интенсивности отраженной части светового пучка Ir к интенсивности падающего зондирующего светового пучка Ii:
Коэффициент отражения в зависимости от длины волны светового пучка λ, угла падения θ и поляризации Р светового пучка. Он равен произведению коэффициента френелевского отражения ρ на комплексно-сопряженный коэффициент френелевского отражения ρ*, который можно также выразить в терминах оптической проводимости для среднего числа у0 подложки и среднего числа уi для падающего пучка. Оптическая проводимость
Y=2,6544•10-3(n-ik)=(С/В), (2)
где n - действительная часть показателя преломления, k - поглощающая (мнимая) часть показателя преломления и численная постоянная - коэффициент преобразования для величин SI. Оптическая проводимость оптического изделия в случае, когда одни или несколько тонких слоев образованы на подложке, проводимость которой ηm становится равной Y=(С/В), где С и В вычисляют при решении матричного уравнения
где ηr является наклонной оптической проводимостью, в частности, одного из слоев. В уравнении (3) аргумент тригонометрических функций для каждого слоя г, физическая толщина которого равна dr, имеет вид
δr = 2π(n-ik)drcos(θr)/λ. (4)
При нормальном падении (θ= 0) и проводимость является одинаковой для любой поляризации. При других углах падения падающая волна расщепляется на две поляризации p и s и определяет наклонные оптические проводимости
ηp = 2,6544×10-3(n-ik)/cos(θ);
ηs = 2,6544×10-3(n-ik)×cos(θ), (5)
которые приводят к общему коэффициенту отражения R, передаче Т и поглощению А в виде формул:
где нижние индексы 0 и m относятся к среде и подложке, на которые падает световой пучок, соответственно. Вывод этих уравнений описан в главе 1 у Х.А. Маклеода.
Коэффициент отражения в зависимости от длины волны светового пучка λ, угла падения θ и поляризации Р светового пучка. Он равен произведению коэффициента френелевского отражения ρ на комплексно-сопряженный коэффициент френелевского отражения ρ*, который можно также выразить в терминах оптической проводимости для среднего числа у0 подложки и среднего числа уi для падающего пучка. Оптическая проводимость
Y=2,6544•10-3(n-ik)=(С/В), (2)
где n - действительная часть показателя преломления, k - поглощающая (мнимая) часть показателя преломления и численная постоянная - коэффициент преобразования для величин SI. Оптическая проводимость оптического изделия в случае, когда одни или несколько тонких слоев образованы на подложке, проводимость которой ηm становится равной Y=(С/В), где С и В вычисляют при решении матричного уравнения
где ηr является наклонной оптической проводимостью, в частности, одного из слоев. В уравнении (3) аргумент тригонометрических функций для каждого слоя г, физическая толщина которого равна dr, имеет вид
δr = 2π(n-ik)drcos(θr)/λ. (4)
При нормальном падении (θ= 0) и проводимость является одинаковой для любой поляризации. При других углах падения падающая волна расщепляется на две поляризации p и s и определяет наклонные оптические проводимости
ηp = 2,6544×10-3(n-ik)/cos(θ);
ηs = 2,6544×10-3(n-ik)×cos(θ), (5)
которые приводят к общему коэффициенту отражения R, передаче Т и поглощению А в виде формул:
где нижние индексы 0 и m относятся к среде и подложке, на которые падает световой пучок, соответственно. Вывод этих уравнений описан в главе 1 у Х.А. Маклеода.
Примеры решения этих уравнений с использованием длин волн в интервале 300 и 750 нм и углов вплоть до 60o для поликарбонатовой подложки с покрытием SiO2 толщиной 200 нм и полимера CFx толщиной 135 нм показаны на фиг.1 и 2 для s- и р-поляризованных световых пучков. Изменения в подложке, свойств преломления слоев или порядка, в котором их наносят на подложку, приводят к сложным, но легко вычисляемым изменениям коэффициента отражения R (λ, θ, Р).
Чувствительность зрения человека изменяется от оптической длины волны и угла падения, как обусловлено, например, в работах Гюнтера Вайжески и У.С. Стайлза, "Наука цвета: понятия и методы, количественные данные и формулы", Нью-Йорк: Уилей, 1982 (Color Science: Concepts and Methods, Quantitative Data and Formulae by Gunter Wyszecki and W.S. Stiles (New York: Wiley) (1982) и Николаса Уейда и Михаеля Суэн-стона "Зрительное восприятие", Лондон: Роутледж, 1991 (Visual Perception by Nicholas Wade and Michael Swanston (London: Routledge)(1991)). Однако оптическая система глаза человека не чувствительна к поляризации. График S (X) чувствительности зрения человека в зависимости от длины волны графически изображен на фиг.3, на котором показана чувствительность для каждой зоны цветоразличения (обычно красной, зеленой и синей), а также суммарная чувствительность. Эта суммарная чувствительность называется дневной чувствительностью. На фиг.4 изображены средние значения для чувствительности зрения человека для светового пучка в зависимости от угла S (θ) во всем диапазоне углов. Хотя глаз человека обнаруживает световой пучок, который преломляется при прохождении через роговую оболочку во всем диапазоне горизонтальных угловых отклонений 208o и вертикальных отклонений 120o, глаз не ощущает световой пучок во всем этом диапазоне углов с равной чувствительностью и точностью, при этом такое изменение описывается чувствительностью S(θ). Как и в случае для глазных рецепторов, имеются средние значения и стандартные отклонения от этих средних значений, которые представлены в работе Брайэна Уандела "Основы зрения", Сандерлэнд, МА: Синауер Ассошиэйтс, 1955 (Brian Wandell, Foundations of Vision (Sunderland, MA: Sinauer Associates) (1995). Как показано на фиг.3, зрение человека имеет самую высокую спектральную чувствительность приблизительно на длине волны 550 нм. Как показано на фиг.4, зрение человека имеет самую высокую чувствительность в диапазоне углов приблизительно 20o относительно центрального фиксированного положения. Функция S(θ) зависит от физиологических переменных особенностей, таких как размер и положение носа, структура роговой оболочки и оптическая однородность и другие факторы, похожие на те, которые известны из практики предшествующего уровня техники, связанного с психофизическим восприятием.
Согласно настоящему изобретению, структура просветляющего покрытия основана на воспринимаемом отражении. Воспринимаемое наблюдателем отражение F светового пучка от поверхности определяется как интеграл от произведения коэффициента отражения R(λ, θ) на функцию чувствительности человека S(λ, θ):
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ, (7)
где R(λ, θ) - средний коэффициент отражения для р- и s-поляризаций и используется потому, что оптическая система зрения человека не чувствительна к поляризации.
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ, (7)
где R(λ, θ) - средний коэффициент отражения для р- и s-поляризаций и используется потому, что оптическая система зрения человека не чувствительна к поляризации.
Значение F зависит от показателей преломления, которые зависят от длины волны, сред подложки и слоя и от толщины слоев.
Согласно одному аспекту изобретения, статистически определенные средние значения S(λ, θ) для заданной совокупности людей используются для определения предпочтительного коэффициента чувствительности, который будет использоваться при разработке просветляющего покрытия. Однако построение индивидуальных профилей для отдельного человека с такими специфическими ограничениями по S(θ), которые могут возникать, например, у отдельных людей, которые являются слепыми на один глаз или которые страдают от пятнообразного вырождения, также предусмотрено настоящим изобретением.
Воспринимаемый коэффициент отражения F численно оценивается для одного или нескольких слоев на оптической подложке в зависимости от толщины, состава и порядка, в котором они наносятся на подложку. R(λ, θ) вычисляют во всем диапазоне значений толщины для каждого слоя просветляющего покрытия. Для многослойного просветляющего покрытия R(λ, θ) вычисляют во всем диапазоне значений толщины для каждого слоя при сохранении постоянными значений толщины других слоев, тогда как для однослойного просветляющего покрытия R(λ, θ) просто вычисляют во всем диапазоне значений толщины для одного слоя. Например, при разработке оптимального многослойного просветляющего покрытия, содержащего первый слой TiO на подложке, с физической толщиной d1, и второй слой CFx, с физической толщиной d2, R(λ, θ) вычисляют для данной толщины d2 слоя CFx, например, 10 нм, и так далее, так что область значений d1 вычисляют во всем диапазоне d2, то есть, во всем диапазоне 5-300 нм с интервалами 5 нм. Из уравнения (7) воспринимаемый коэффициент отражения F вычисляют для этого просветляющего покрытия из произведения R(λ, θ)•S(λ, θ) для вычисленных значений R(λ, θ, d) во всем диапазоне значений толщины d1=5-300 нм и d2=5-300 нм. Один или несколько минимальных значений F затем определяют из вычисленных значений F во всем диапазоне значений толщины d1, d2.
Состав и порядок может ограничиваться другими характеристиками вещества, такими как адгезия, поверхностная энергия, стойкость к химическому воздействию и так далее. Согласно настоящему изобретению, предпочтительная толщина, состав и порядок слоев в просветляющем покрытии позволяют минимизировать значение F, удовлетворяющее указанным ограничениям.
Согласно одному варианту осуществления изобретения, на оптическую подложку, имеющую воспринимаемый усредненный коэффициент отражения F0, наносят просветляющее покрытие, разработанное так, как описано выше, так что воспринимаемый усредненный коэффициент отражения FAR изделия с покрытием меньше F0 и, предпочтительно, меньше или равно приблизительно половине F0. В этом случае "воспринимаемый усредненный коэффициент отражения" равен воспринимаемому коэффициенту отражения, вычисленному из статистически определенных средних значений характеристики чувствительности S(λ, θ) человека.
Сразу после определения предпочтительных систем подложки и слоя (слоев) (в терминах составов, толщины и порядка осаждения) следует этап подготовки изделия с покрытием.
Согласно настоящему изобретению, одну или несколько подложек, таких как глазные линзы, помещают в компактную камеру, которая немного больше, чем подложка (подложки), на которую будут наносить покрытие. Предпочтительно, чтобы камера имела объем не более приблизительно двух объемов подложек, на которые будут наносить покрытие. Из камеры откачивают воздух и продувают химически инертным газом, таким как аргон или азот. Для получения плазмы инертный газ возбуждают с помощью электрической мощности. Поверхность подложки очищают, с распылением над ней инертного газа (например, Не, N2, Ar) или с помощью химического травления поверхности с использованием химически активного газа (например, O2, HBr), как известно из предшествующего уровня техники обработки плазмой.
Для получения плазмы один или несколько молекулярных предшественников (которые описываются ниже) смешивают с потоком инертного газа и возбуждают с помощью электрической энергии. Плазма приводит к возбуждению, диссоциации и ионизации предшественника, а также к получению химически активных фрагментов, которые транспортируются к поверхности подложки и полимеризируются с образованием пленок. Эти пленки обладают свойствами преломления, которые зависят от предшественников, условий осаждения и значений толщины пленки, поэтому можно синтезировать достаточно много разнообразных однослойных и многослойных покрытий, которые уменьшают отражение.
Не ограничивающие примеры молекулярных предшественников, состава получившейся в результате пленки и средний коэффициент преломления пленки представлены в таблице.
Обнаружено, что конкретно используемый класс предшественников содержит перфторированные органические соединения, такие как перфторалифатические, перфторциклоалифатические и другие фторуглеродные соединения. Не ограничивающие примеры включают в себя перфторциклобутан, гексафторэтан, тетрафторэтилен и гексафторпропан. Полимерные фторуглеродные пленки, изготовленные посредством плазменного осаждения таких предшественников, имеют очень низкие коэффициенты преломления, обычно менее 1,4, что делает их хорошо подходящими для использования в просветляющих покрытиях. Теоретическая база для получения низкого коэффициента преломления фторполимерных материалов обсуждена в работе У. Гроха и А. Циммермана "Макромолекулы", 24, 6660-3, 1991 (W. Groh and A. Zimmerman in Macromolecules, 24, 6660-3 (1991)). Предпочтительно, фторполимерные пленки широко используются благодаря их полезным маслянистым свойствам, таким как способность отталкивать воду и повышать чистоту подложки. Такие свойства обычно не изменяются заметно от толщины фторполимерной пленки.
Типичный пример изменения коэффициента отражения от толщины однослойного просветляющего покрытия показан на фиг. 5. Коэффициент отражения от слоя толщиной 250 нм на оптической длине волны 500 нм равен коэффициенту отражения подложки без покрытия, хотя слой толщиной 387 нм (3/4 от длины волны 516 нм) уменьшается до значения, равного коэффициенту отражения, который наблюдается для 1/4 слоя волны (125 нм) на длине волны 500 нм. Другими словами, фторутлеродный состав, не отвечающий, сам по себe, требованиям получения свойств просветления. Толщину слоя необходимо выбирать и точно управлять для того, чтобы достигнуть свойства просветления. В случае однослойной фторполимерной пленки, локальные минимумы функции воспринимаемого коэффициента отражения F получают тогда, когда оптическая толщина становится кратной 550/4. (Оптическая толщина ndr равна произведению коэффициента преломления n слоя на физическую толщину dr).
Важной особенностью настоящего изобретения является то, что отражение поляризованного светового пучка на одной или нескольких длинах волн и под одним или несколькими углами падения используется для контроля и управления процессом выращивания просветляющего покрытия. После выбора толщины (нескольких значений толщины) и состава (составов), уравнения (2)-(6) решают для дискретных значений толщины слоя вплоть до и включая предпочтительную толщину. Для каждой промежуточной толщины, результат выглядит в виде трехмерных поверхностей, одна для коэффициента отражения для s-поляризации, а другая для коэффициента отражения для р-поляризации (фиг.1 и 2). На фиг.6 изображены поперечные сечения этих поверхностей при нормальном падении (θ =0) для полимерной фторуглеродной пленки на поликарбонате в диапазоне значений оптической толщины от 90 до 180 нм и оптических длин волн в пределах 350 и 750 нм. На фиг.7 и 8 изображены поперечные сечения (через одинаковые поверхности) при углах падения 0, 10, 20, 30, 40 и 50o и фиксированной длине волны 500 нм. (Из уравнения (5) следует, что коэффициенты отражения для р- и s-поляризации являются идентичными при нормальном падении).
Используя изменение коэффициента отражения R(λ, θ, P) за счет выбора толщины пленки, одну или несколько зондирующих длин волн и один или несколько зондирующих углов выбирают для оптического мониторинга по месту за процессом нанесения просветляющего покрытия. Выбор основывается на изменении коэффициента отражения во всем диапазоне толщины, где необходимо производить управление, например, в случае, когда выполняют переключение между двумя предшественниками пленки. Кроме того, длину волны зондирующего пучка выбирают предпочтительно так, чтобы избежать излучения на длинах волн, на которых эмиссия плазмы оказывала бы помеховое влияние на детектор. Подобным способом, угол падения зондирующего пучка ограничивается геометрией реактора и общей чувствительностью, при этом необходимо избегать углы менее приблизительно 5o или равные приблизительно 90o, так как под этими углами электроды или другие конструктивные элементы могут мешать передаче или приему зондирующего светового пучка.
Выращивание пленки на подложке контролируется оптическим способом с использованием источника оптического излучения, например, светоизлучающего диода с поляризованным излучением, и детектора, например, поляризационного оптического фильтра, в комбинации с фотодиодом. Результаты измерений, полученные с помощью прибора, предназначенного для контроля за процессом выращивания пленки, используются с системой обратной связи, предназначенной для управления скоростью осаждения пленок, что позволяет получать пленки с заданными свойствами просветления. Система обратной связи управляет скоростью осаждения с помощью управления скоростью потока предшественника, возбуждения плазмы и/или давлением в камере.
Один вариант осуществления оптического контрольно-измерительного прибора 14 схематично изображен на фиг.9. Источник 36 света излучает зондирующий световой пучок 37 с определенной длиной волны и поляризацией. В этом варианте осуществления, источником 36 света является лампа 38 с поляризационным фильтром 40 и интерференционным фильтром 42. С другой стороны, источником света является лазер или светоизлучающий диод с поляризованным излучением. Зондирующий световой пучок может быть монохроматическим, однако это не является обязательным требованием. Длина волны зондирующего светового пучка может иметь узкую или даже среднюю ширину полосы, так как это позволяет легко обнаружить изменения коэффициента отражения в требуемой толщине осажденного слоя для системы обратной связи, которая обсуждается более подробно ниже. Длину волны или ширину полосы фильтрованного зондирующего светового пучка выбирают так, чтобы он отличался от длин волн окружающего света или света, который излучается с помощью активной плазмы во время процесса ПХОПФ. Зондирующий световой пучок имеет определенный угол θ падения на поверхность подложки. Зондирующий световой пучок проходит через окно 44 и падает на подложку. Лицевая сторона окна 44 позиционируется перпендикулярно падающему зондирующему световому пучку, и окно устанавливается в конце узкой трубы 46, которая должна быть достаточно длинной для того, чтобы препятствовать осаждению пленки на его внутреннюю поверхность, например, обычно ее длина должна быть в четыре раза больше диаметра окна.
Угол падения зондирующего светового пучка, падающего на подложку, ограничивается частично за счет размещения и оптических свойств окна 44. Угол может принимать значения в диапазоне от 0 до 90o, с предпочтительным углом в пределах приблизительно 5 и 50o для избежания интерференции за счет отражения от поверхностей окна и облегчения юстировки.
Часть зондирующего светового пучка отражается от поверхности подложки, тогда как неотраженная часть пучка преломляется и/или поглощается, поскольку он проходит через осажденную пленку и подлежащую подложку. Отраженная часть зондированного светового пучка проходит через подходящее размещение позиционированного детектора, которое включает в себя трубку 48, окно 50, интерференционный фильтр 52, поляризационный фильтр 54 и детектор 56, например, компактный фотоэлектронный умножитель или фотодиод. Длина трубки 48 также должна быть приблизительно в четыре раза больше его диаметра для защиты поверхности окна от предшественников пленки. Влиянием светового излучения плазмы управляют с помощью выбора зондирующей длины волны, или ширины полосы, в которой плазма не излучает. Интерференционный и поляризационный фильтры позволяют пропускать только длину волны зондирующего светового пучка, обеспечивая, таким образом, точное считывание интенсивности отраженной части зондирующего светового пучка.
На фиг. 10 схематически изображено устройство 10 способа плазменного химического осаждения из паровой фазы (ПХОПФ), согласно предпочтительному варианту осуществления изобретения, с физическими размерами, подходящими для размещения пары глазных (очковых) линз, которые могут быть стеклянными или пластмассовыми (например, поликарбонат, смолы бис-фенол А, такие как CR-39ТМ, поставляемые фирмой ППГ Индастриез (PPG Industries) и так далее). Устройство ПХОПФ включает в себя микропроцессор 12, оптический контрольно-измерительный прибор 14, источник 16 реактивов, впускной коллектор 18, нагнетательный клапан 20, расходный клапан 22, плазменный реактор 24, источник питания 26, держатель 28 подложек, вакуумный насос 30 и выпускной фильтр 32. Пластмассовые или стеклянные глазные подложки 34 (в этом случае пара глазных линз) устанавливают или размещают на держателе 28 подложек и вводят в камеру плазменного реактора, которая предпочтительно имеет объем меньше, приблизительно, в два раза, чем у подложки (подложек), предназначенной для нанесения покрытия.
В способ ПХОПФ входят следующие операции: размещают подложку в камере реактора, пропускают, по меньшей мере, один материал предшественника, позволяющий формировать требуемый слой через камеру в ламинарном потоке, относящемся к поверхности покрытия и при соответствующем давлении, и затем вырабатывают электрическое поле для образования плазмы с предшественником (предшественниками). Связь энергии в газе происходит посредством электрических полей, которые могут быть статическими (связанными с постоянным током) или динамическими (связанными с переменным током). Связь по переменному току может быть и/или емкостной, индуктивной. Предшественник (предшественники) распадаются на части и реагируют в плазме и на поверхности покрытия для формирования требуемого слоя. В зависимости от состава предшественника (предшественников), напряженности электрического поля и других параметров, пленка может иметь расширенный массив с регулярно повторяющимися молекулярными компонентами, аморфными областями или смесями с упорядоченными и неупорядоченными полимерными областями.
Большинство из соединений предшественников, приведенных в таблице, являются жидкостями при комнатной температуре и давлении. В предпочтительном варианте осуществления, жидкий предшественник дегазируют путем его охлаждения и затем воздействуют на него с помощью вакуума. В зависимости от его температуры кипения, жидкость затем нагревают до температуры окружающей среды или выше для получения достаточного положительного давления пара, необходимого для протекания через систему каналов. С другой стороны, газ-носитель, такой как гелий, можно доставить через жидкость для получения разбавленной смеси пара с необходимым составом.
Газообразные предшественники, которые образуют просветляющее покрытие в соответствии с изобретением, можно подавать из внешнего источника через ряд впускных трубок в камеру реактора. Технические особенности системы образования каналов для различных газов в камере реактора хорошо известны в технике.
Потоком носителя и газами реагентов в реакторе можно управлять с помощью расходных клапанов, которые хорошо известны в технике и служат как для измерения потока газов, так и управления таким потоком. Кроме того, газ-носитель во время использования можно предварительно смешать с газообразными реагентами или подать в центральную магистраль подачи с помощью отдельного ввода.
Как показано на фиг.10, давление и поток газа предшественника в плазменном реакторе 24 управляют электронным способом с помощью расходных клапанов 22. Температура в камере, предпочтительно, равна или приблизительно равна температуре окружающей среды.
Устройство 10 включает в себя систему обратной связи, которая позволяет точно управлять процессом осаждения просветляющего покрытия на подложку. Просветляющее покрытие может состоять из одного слоя или многочисленных слоев, причем каждый слой имеет заданную толщину. Важно, чтобы толщина каждого слоя точно соответствовала заданной толщине конструкции для максимизации свойств просветляющего покрытия. Система обратной связи позволяет измерять толщину каждого слоя в процессе его осаждения и управлять скоростью осаждения, соответственно, для того, чтобы точно управлять толщиной осажденного слоя. Система обратной связи включает в себя микропроцессор 12, оптический контрольно-измерительный прибор 14 и один (или несколько) нагнетательный клапан 20, расходный клапан 22 и плазменный реактор 24, который включает в себя плазменный генератор и камеру реактора и источник питания 26. Предпочтительно, микропроцессор связан со всеми элементами управления и источником питания. Первичными управляющими элементами, регулируемыми с помощью микропроцессора 12 в ответ на сигнал обратной связи из оптического контрольно-измерительного прибора 14, являются скорости газовых потоков, проходящие через расходный клапан 22 и плазменное возбуждение с помощью источника питания 26 для плазменного реактора 24. В некоторых вариантах осуществления это является преимуществом для регулировки давления камеры с помощью нагнетательного клапана 20 при переходе между этапами очистки или травления подложки (подложек) и осаждения многочисленных слоев материала покрытия.
Ниже приводятся некоторые примеры профилей коэффициента отражения, вычисленные из уравнений (1)-(6) для различных просветляющих покрытий. Предполагается, что эти примеры рассматриваются для иллюстрации изобретения, а не ограничения того, что раскрыто здесь в описании и формуле изобретения.
На фиг.1 и 2 изображен коэффициент отражения для составляющих s- и р-поляризации неполяризованного светового источника из типичного двухслойного просветляющего покрытия, нанесенного на пластмассовую глазную подложку. Вычисление показано для слоя 135 нм фторполимера (CFx), расположенного над слоем 200 нм SiO2 на поликарбонатовой подложке.
На фиг. 7 показан коэффициент отражения для s-поляризации при отражении от тонких фторполимерных пленок на оптической длине волны 500 нм, вычисленный при шести различных углах падения в диапазоне от 0 до 50o.
На фиг. 8 показан коэффициент отражения для р-поляризации при отражении от тонких фторполимерных пленок на оптической длине волны 500 нм, вычисленный при шести различных углах падения в диапазоне от 0 до 50o.
Изменение р-поляризованного отраженного светового пучка с толщиной покрытия и углом падения по существу отличается от изменения s-поляриэованного светового пучка, как видно при сравнении фиг.7 и 8. Ниже рассматривается случай, когда необходимая оптическая толщина пленки 125 нм измерялась с помощью зеленого зондирующего светового пучка (500 нм) под углом 50o, в качестве примера такой диагностики. Коэффициент отражения для s-поляризации уменьшается с 9,6% при оптической толщине 90 нм до 6%, так как толщина образца изменяется от 80 до 125 нм (фиг.7). В этом одинаковом диапазоне значений толщины пленки, коэффициент отражения для р-поляризации уменьшается с 0,5 до 0,4% (фиг.8), который намного меньше по значению и который более трудно измерить точно. При всех других равных факторах, s-поляризованный сигнал выбирается для управления обратной связью в процессе осаждения при угле падения 50o зондирующего светового пучка.
Другими словами, в одном аспекте изобретения, оптическая толщина образца идентифицируется для одного или нескольких слоев, и затем решают уравнения (1)-(6) для нахождения изменения поляризованных коэффициентов отражения в пределах длины волны, угла падения и толщины слоя. Один или несколько углов и одну или несколько длин волн выбирают для зондирования (контроля) слоя во время осаждения. Когда интенсивность отраженного светового пучка достигает значения, вычисленного для толщины образца на выбранной длине волны (длин волн) и угле (углах), процесс осаждения завершается с помощью, например, микропроцессора 12. Этот метод легко обобщить для более чем одного слоя.
В некоторых вариантах осуществления, выгодно формировать многослойное, а не однослойное покрытие. Многослойные покрытия позволяют получить более широкую спектральную область с низким коэффициентом отражения, по сравнению с однослойным покрытием. Другие рассматриваемые вещества включают в себя адгезию, стойкость к царапинам, стойкость к химическому воздействию (такую как стойкость к травлению), сопротивление износу и другие необходимые свойства. На фиг.11 представлены расчетные данные усредненного коэффициента отражения для одного не ограничивающего примера двухслойного покрытия, нанесенного на поликарбонатовую подложку. Первым слоем является TiO с оптической толщиной 180 нм (физическая толщина 81,8 нм), который наносится способом химического осаждения из паровой фазы Ti(i-PrO)4. Он следует за слоем пленки фторуглерода (СFx) (оптическая толщина 125 нм), который получают с использованием c-C4F8 в качестве предшественника. Следует отметить, что область с низким коэффициентом отражения расширяется по сравнению с той, которая находится для простого покрытия CFx (фиг.6).
Как и в случае просветляющих покрытий или пленок с одиночным слоем, для управления процессом осаждения при подготовке многослойной просветляющей пленки можно использовать коэффициент отражения поляризованного излучения при различных углах и длинах волн. Например, на фиг.12 показан коэффициент отражения для s-поляризации при углах 0-50o для законченного двухслойного покрытия. Для одного фторполимерного
покрытия можно использовать семейство кривых (фиг.7 и 8) для того, чтобы вычислить коэффициент отражения поляризованного излучения, при этом выбранные значения коэффициента отражения поляризованного излучения соответствуют необходимой толщине, вызывающей переключение от предшественника TiO к предшественнику CFx.
покрытия можно использовать семейство кривых (фиг.7 и 8) для того, чтобы вычислить коэффициент отражения поляризованного излучения, при этом выбранные значения коэффициента отражения поляризованного излучения соответствуют необходимой толщине, вызывающей переключение от предшественника TiO к предшественнику CFx.
Неполяризованный зондирующий световой пучок можно также различить с использованием поляризационного расщепителя луча, установленного между поляризационным фильтром 54 и двумя согласованными детекторами, заменяющими одиночный детектор 56 (фиг.9). Отношение выходных сигналов детектора равно отношению квадратов соответствующих коэффициентов френелевского отражения, вычисленных из уравнений (1)-(6). Это отношение позволяет получить поверхность чувствительности, которая характеризуется отношением (фиг.1 и 2) для однослойной пленки и семейства таких поверхностей для выращивания пленки или многослойной пленки.
В этих вариантах осуществления выгодно выбрать более одной длины волны для падающего зондирующего светового пучка и/или поляризацию, в частности, если используется более чем один предшественник, или если одна длина волны является оптимальной для этапа очистки и другая длина волны является предпочтительной для осаждения.
Состав подложки входит в уравнение (2) через свою оптическую проводимость Yо. Очевидно, что различия по толщине подложки не входят в уравнения, так как толщина глазных подложек намного больше, чем оптические длины волн падающего светового пучка. Форма подложки не входит в уравнения, поскольку отношение радиуса кривизны подложки к радиусу пятна светового пучка в месте, где зондирующий световой пучок падает на линзу, намного больше единицы, то есть, всегда соблюдается условие достаточно маленького пятна зондирующего пучка, падающего на глазные подложки.
Согласно первому варианту осуществления, перед осаждением пленки подложку очищают с помощью плазмы ионов инертных газов, химически активных радикалов или с помощью других средств, известных в технике. Способ выработки и прикладывания электрического поля для создания плазмы не является критическим в этом процессе. Например, поле можно выработать с помощью систем прямой, индуктивной или емкостной связи. Не ограничивающие примеры таких систем приведены в работе Дона Смита "Осаждение тонких пленок", Нью-Йорк: МакГроу Хил, 1995 (Thin-Film Deposition, Principle and Practice by Don Smith, (New York: McGraw Hill) 1995).
Этап (этапы), который используется для очистки подложки, изменяется от состава подложки, степени и типа загрязнения и диапазона параметров плазмы, которую получают в результате из потока и электрических ограничений для конкретно используемой плазменной камеры. Общим случаем, например, является вытравливание органического материала с помощью кислородной плазмы в течение нескольких минут перед осаждением тонкой пленки. Травление органических загрязнений и поверхностной оксидной пленки можно также выполнить с помощью разреженных галогенизированных газов, таких как НВг.
В одном варианте осуществления этап очистки инициализируется с помощью активизации вакуумного насоса 30 и ввода газа Аr в трубку при давлениях 1-20 миллибар. Плазма зажигается при подаче электрической энергии с частотой 50 кГц на кольцевые электроды, установленные внутри (для прямой связи) или снаружи (для емкостной или индуктивной связи) плазменного реактора 24. Электроны, ионы Аr+, возбужденные частицы и световой пучок падают на обе стороны подложки, устраняя поглощенные примеси и активизируя поверхность для адгезии просветляющего покрытия.
Эта подготовка поверхности может привести к изменению коэффициента преломления поверхностных слоев. Изменение коэффициента преломления можно также использовать для оптического мониторигна на этапе очистки. Изменение коэффициента преломления поверхностного слоя вызывает изменение френелевского отражения от этой поверхности, изменение можно измерить с помощью оптического контрольно-измерительного прибора 14. Таким образом, этапом очистки можно управлять с использованием системы обратной связи по настоящему изобретению, которая описана выше за счет продолжения этапа очистки до тех пор, пока не будет обнаружен необходимый коэффициент преломления, соответствующий достаточно чистой подложке.
Согласно другому варианту осуществления, процесс очистки контролируют с помощью наблюдения флюоресценции, которая возникает из загрязнений, которые очищают с помощью плазменного реактора 24. Например, возбужденный ОН образуется путем диссоциативного возбуждения водяного пара за счет бомбардировки электронов, которая позволяет наблюдать флуоресцентное излучение. Так как концентрация водяного пара в плазменном реакторе 24 уменьшается во время очистки плазмы, то уменьшается интенсивность этого флуоресцентного излучения.
Из камеры реактора откачивают воздух перед вводом газообразных реагентов. Давление в камере, которое подходит для процесса в соответствии с настоящим изобретением, обычно меньше, чем одна двадцатая одной атмосферы и обычно находится в диапазоне приблизительно от 50 мТорр до приблизительно 10 Торр.
Так как предшественник (предшественники) вводятся в камеру реактора после очистки и подготовки поверхности для покрытия, как описано выше, электрическое поле вырабатывается при условиях предварительно выбранной частоты и мощности для ионизации смеси газов, таким образом образуя плазму. Когда разряд производится при низком давлении в пленочно-образующем газообразном предшественнике (предшественниках), предшественник (предшественники) становятся ионизированными, образуя при этом плазму. Часть вещества находится в виде ионов, электронов и нейтральных свободных радикалов, которые вырабатываются в плазме перед формированием пленки по или на подложке. Способы выработки электрического поля между электродами хорошо известны в технике и описаны, например, в работе "Осаждение тонких пленок: основы и практика" (Thin Film Deposition: Principal and Practice (ibid)).
Предпочтительная скорость осаждения находится в пределах приблизительно 0,1 и 10 нм/с, однако, можно увеличить скорость до приблизительно 65 нм/с. Скорость осаждения ограничивается только скоростью, при которой можно получить однородную плазму для того, чтобы сформировать однородный осажденный слой.
Предпочтительно, просветляющее покрытие непрерывно осаждается без прерывания между слоями. Это выполняют за счет уменьшения скорости потока первого предшественника при одновременном инициировании увеличения скорости потока второго предшественника так, что оба материала при этом осаждаются одновременно. Этим способом можно создать более плавные изменения профиля коэффициента преломления. С другой стороны, могут возникнуть случаи, в которых может потребоваться этап промежуточной очистки или активации, например, для ослабления внутренних напряжений или улучшения адгезии на поверхности между слоями.
Предпочтительно, чтобы многослойное просветляющее покрытие было "закрыто" оптически тонким (например, ndr<20 нм) слоем из гидрофобного материала. Например, гидрофобную, полимерную фторуглеродную пленку можно изготовить из предшественника, такого как перфторированное органическое соединение, например, перфторциклобутан (c-C4F8), трифторметан (НСF3), тетрафторэтилен (С2F4) или гексафторпропан (С3F6). Наличие такого слоя позволяет облегчить очистку подложки с покрытием и препятствует образованию водяных и жирных пятен.
Согласно другому варианту осуществления изобретения, имеется плавный переход между этапом очистки и этапом осаждения. Ближе к концу цикла очистки осаждаемое вещество предшественника смешивается в камере, и реагент очистки, например, кислород, постепенно ограничивается сбалансированным способом так, чтобы поверхность непрерывно подвергалась бомбардировке частицами высокой энергии во время образования первого слоя пленки. Это важно, так как присутствие загрязнения с концентрацией даже 10-6 Торр приведет к образованию одного слоя менее чем за одну секунду. Плавное переключение от очистки к осаждению этим способом также улучшает адгезию пленки.
Способ ПХОПФ с помощью химически активных ионов является подходящим для нанесения покрытий на подложки с поверхностями правильной, а также неправильными формами, включая выступы, которые находятся на бифокальных глазных линзах. Во время осаждения направление потока ионов, приводящего к получению тонкопленочного покрытия, определяется с помощью электростатической оболочки и отношение тепловой температуры ионов (в эВ) к потенциалу оболочки. Оболочка сориентирована нормально к тангенциальной плоскости на поверхности подложки и не изменяется в случае, когда пространственный масштаб структуры является меньше приблизительно 10 длин Дебая. Длина Дебая является параметром плазмы, который описывает расстояние, на котором электрическое поле можно поддерживать в среде электрически проводящей плазмы. Если число электронов в кубическом сантиметре составляет Ne и температура электронов в эВ равна Тe, то длина Дебая 1 в сантиметрах равна
l=525 (TeNe -1)1/2 (8)
при типичном наборе условий плазмы, с плотностью электронов 109 см-3 и электронной температурой 2 электрон-вольта (эВ), эта длина Дебая составляет 0,02 см, так как признаки с радиусом кривизны менее чем приблизительно 10 1= 2 мм не будут влиять на направление электрического поля оболочки. Угловая расходимость потока ионов равна арктангенсу от квадратного корня отношения тепловой энергии ионов к потенциалу оболочки:
θ ==tan-1(TiV-1 оболочки)1/2. (9)
Эта угловая расходимость равна 9o для типичной температуры ионов 600К и потенциала оболочки 2 эВ. Это угловое усреднение позволяет получить наиболее одинаковый охват по топографии, чем в случае для моноэнергетического пучка ионов без поперечной энергии.
l=525 (TeNe -1)1/2 (8)
при типичном наборе условий плазмы, с плотностью электронов 109 см-3 и электронной температурой 2 электрон-вольта (эВ), эта длина Дебая составляет 0,02 см, так как признаки с радиусом кривизны менее чем приблизительно 10 1= 2 мм не будут влиять на направление электрического поля оболочки. Угловая расходимость потока ионов равна арктангенсу от квадратного корня отношения тепловой энергии ионов к потенциалу оболочки:
θ ==tan-1(TiV-1 оболочки)1/2. (9)
Эта угловая расходимость равна 9o для типичной температуры ионов 600К и потенциала оболочки 2 эВ. Это угловое усреднение позволяет получить наиболее одинаковый охват по топографии, чем в случае для моноэнергетического пучка ионов без поперечной энергии.
Конформный охват по этапам, который имеет практический интерес для глазных подложек, например, выступы для бифокальных линз, можно получить путем изменения условий плазмы, путем увеличения Тe или уменьшения Ne для увеличения пространственного масштаба для конформного покрытия.
Следует оценить, что в дополнение к способам и устройству, описанному выше, изобретение также предусматривает уникальные изделия производства, которые характеризуются низким коэффициентом отражения. Изделия обычно являются прозрачными, например, глазные линзы, окна, ветровые стекла, телевизионные экраны и мониторы компьютеров и так далее. Прозрачные изделия и подложки не поглощают свет во всем диапазоне спектра, в котором система зрения человека является чувствительной, то есть в пределах приблизительно 350 и приблизительно 750 нм. Однако, в некоторых вариантах осуществления, изделие может быть полупрозрачным. Полупрозрачные изделия и подложки пропускают свет в тех же самых длинах волн видимого диапазона спектра, но поглощают некоторую часть или весь свет на одной или нескольких длинах волн видимого диапазона спектра. Не ограничивающие примеры полупрозрачных изделий включают в себя тонированные и теневые солнцезащитные очки, стеклянные окна и тонированные ветровые стекла.
В одном варианте осуществления прозрачное или полупрозрачное изделие с низким коэффициентом отражения содержит оптическую подложку и один или несколько слоев из просветляющего материала. Предпочтительно, чтобы по меньшей мере один из слоев представлял собой тонкую фторполимерную пленку. На фиг.13 схематически изображено одно такое изделие, а именно очковая линза 100. Линза состоит из оптической заготовки 102, которая имеет противоположные по отношению друг к другу первую и вторую поверхности 104, 106 и слой просветляющего материала 108 (более точно осажденного) на, по меньшей мере, часть первой поверхности 104 глазной линзы. В других вариантах осуществления (не показано) просветляющий материал осаждается на нижнюю поверхность линзы, на обе верхнюю и нижнюю поверхности линзы и/или край линзы.
На фиг. 14 схематически изображено поперечное сечение другого изделия с низким коэффициентом отражения, а именно глазной линзы 100. Линза состоит из оптической заготовки 102 с двумя нанесенными различными слоями 110 и 112 из просветляющего материала. Оба слоя рассматриваются как осажденные или "нанесенные" на оптическую подложку, хотя, как показано, только один такой слой 110 расположен рядом с подложкой, а другой слой 112 расположен рядом с первым слоем просветляющего материала. Легко оценить, что изделия с низким коэффициентом отражения, имеющие больше чем два слоя материала, осажденного на подлежащую оптическую подложку, находятся также в пределах объема настоящего изобретения.
Изобретение описано в предпочтительных и образцовых вариантах осуществления, но не ограничено ими. Множество модификаций, режимов работы и варианты осуществления, понятные специалистам, можно выполнить без отклонения от настоящего изобретения. Например, просветляющие покрытия и способы конструирования и их приложения можно использовать на большом разнообразии оптических подложек в дополнение к глазным линзам. Даже на большие изделия, подобные автомобильным ветровым стеклам, можно нанести просветляющие покрытия, если изготовить подходящий большой реактор.
Все ссылки, приведенные здесь, представлены ссылкой так, как если бы она была изложена здесь в полном объеме. Как в тексте, так и в формуле изобретения, использование слова "приблизительно" относится к диапазону численных значений и предназначено для модификации высоких и низких устанавливаемых значений.
Claims (7)
1. Прозрачное или полупрозрачное изделие с покрытием, имеющее воспринимаемый коэффициент отражения F, в котором
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ,
где λ - длина волны;
θ - угол падения;
S(λ, θ) - функция чувствительности зрения человека от длины волны и угла падения;
F(λ, θ) - среднее значение коэффициентов отражения для р- и s-поляризации,
и содержащее оптическую подложку и один или несколько слоев просветляющего покрытия, нанесенного по меньшей мере на часть оптической подложки, причем толщину одного или нескольких слоев выбирают такой, чтобы воспринимаемый коэффициент отражения F изделия с нанесенным покрытием был минимальным.
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ,
где λ - длина волны;
θ - угол падения;
S(λ, θ) - функция чувствительности зрения человека от длины волны и угла падения;
F(λ, θ) - среднее значение коэффициентов отражения для р- и s-поляризации,
и содержащее оптическую подложку и один или несколько слоев просветляющего покрытия, нанесенного по меньшей мере на часть оптической подложки, причем толщину одного или нескольких слоев выбирают такой, чтобы воспринимаемый коэффициент отражения F изделия с нанесенным покрытием был минимальным.
2. Изделие с покрытием по п. 1, отличающееся тем, что по меньшей мере один слой просветляющего материала содержит фторуглеродную пленку.
3. Устройство для осаждения просветляющей пленки на оптическую подложку, содержащее плазменный реактор, имеющий плазменный генератор и камеру реактора для приема оптической подложки, источник питания, подсоединенный к плазменному реактору, расходный клапан, подключенный к камере реактора, нагнетательный клапан, подсоединенный к камере реактора, оптический контрольно-измерительный прибор, расположенный в непосредственной близости к камере реактора, адаптированный для управления толщиной просветляющей пленки, при этом оптический контрольно-измерительный прибор содержит источник излучения поляризованного светового пучка для направления пучка поляризованного света с выбранной длиной волны или шириной полосы длин волн на подложку при выбранном угле падения, фотоприемник для измерения интенсивности отраженной части поляризованного светового пучка, направленного из подложки, и микропроцессор, связанный с фотоприемником, с расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником питания, при этом микропроцессор позволяет одновременно управлять указанными расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником питания в соответствии с интенсивностью отраженной части поляризованного светового пучка, обнаруженного с помощью фотоприемника.
4. Устройство по п. 3, отличающееся тем, что источник излучения выполнен в виде лазера и соединен с интерференционным фильтром и поляризационным фильтром или в виде диода, испускающего поляризованный свет.
5. Способ осаждения просветляющего покрытия на оптическую подложку, содержащий следующие этапы: инициализируют осаждение слоя по меньшей мере одного просветляющего материала на подложку, осуществляют оптический контроль за толщиной слоя в ходе его осаждения и завершают осаждение, когда слой достигает необходимой толщины, при этом толщину слоя контролируют оптическим способом посредством отражения поляризованного светового пучка, имеющего выбранную интенсивность и выбранную длину волны или ширину полосы длин волн, от поверхности подложки, на которую был осажден слой материала при выбранном угле падения, обнаружения интенсивности отраженной части поляризованного светового луча и определения толщины слоя из интенсивности отраженной части светового пучка, и необходимую толщину просветляющей пленки вычисляют таким образом, что оптическая подложка имеет конечный воспринимаемый коэффициент отражения FAR при условии, что FAR≤1/2 F0, где F0 - воспринимаемый коэффициент до нанесения покрытия, при этом FAR и F0 определяются в соответствии с формулой воспринимаемого коэффициента отражения
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ,
где λ - длина волны;
θ - угол падения;
S(λ, θ) - функция чувствительности зрения человека от длины волны и угла падения;
R(λ, θ) - среднее значение коэффициентов отражения для р- и s-поляризации.
F = ∫∫S(λ, θ)R(λ, θ)dλdθ,
где λ - длина волны;
θ - угол падения;
S(λ, θ) - функция чувствительности зрения человека от длины волны и угла падения;
R(λ, θ) - среднее значение коэффициентов отражения для р- и s-поляризации.
6. Способ по п. 5, отличающийся тем, что дополнительно содержит следующие этапы: генерируют плазму рядом с подложкой, инициализируют поток ионизированного первого материала в плазме для осаждения на подложку и образования первого слоя, осуществляют оптический контроль толщины первого слоя в ходе осаждения, завершают поток первого материала в случае, когда первый слой достигает первой необходимой толщины, инициализируют поток второго материала в плазме для осаждения на подложку и образования второго слоя, осуществляют оптический контроль толщины второго слоя в ходе осаждения и завершают осаждение второго материала в случае, когда второй слой достигает второй необходимой толщины.
7. Способ по п. 5, отличающийся тем, что S(λ, θ) имеет статистическим способом определенное среднее значение.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US3723997P | 1997-01-27 | 1997-01-27 | |
| US60/037,239 | 1997-01-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU99118579A RU99118579A (ru) | 2001-07-20 |
| RU2204153C2 true RU2204153C2 (ru) | 2003-05-10 |
Family
ID=21893233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU99118579/28A RU2204153C2 (ru) | 1997-01-27 | 1997-12-12 | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (5) | US6096371A (ru) |
| EP (1) | EP1012635B1 (ru) |
| JP (1) | JP2001509910A (ru) |
| KR (1) | KR100495338B1 (ru) |
| CN (1) | CN1131441C (ru) |
| AU (1) | AU733162B2 (ru) |
| BR (1) | BR9714213A (ru) |
| CA (1) | CA2279425A1 (ru) |
| DE (1) | DE69735727T2 (ru) |
| ES (1) | ES2263184T3 (ru) |
| HK (1) | HK1025152A1 (ru) |
| IL (1) | IL131090A (ru) |
| RU (1) | RU2204153C2 (ru) |
| TW (2) | TW400437B (ru) |
| WO (1) | WO1998033077A2 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2490222C1 (ru) * | 2012-01-27 | 2013-08-20 | Открытое акционерное общество "Производственное объединение "Новосибирский приборостроительный завод" (ОАО "ПО "НПЗ") | Способ нанесения просветляющего покрытия |
| RU2508202C2 (ru) * | 2009-08-10 | 2014-02-27 | Сэнт-Гобен Перформанс Пластикс Корпорейшн | Фторполимерный содержащий порошковый наполнитель защитный лист |
| RU2685887C1 (ru) * | 2018-05-07 | 2019-04-23 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него |
Families Citing this family (73)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6172812B1 (en) * | 1997-01-27 | 2001-01-09 | Peter D. Haaland | Anti-reflection coatings and coated articles |
| US6432471B1 (en) * | 1998-11-09 | 2002-08-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Method for generating an anti-reflection coating for a laser diode |
| US6503373B2 (en) * | 2000-01-13 | 2003-01-07 | Ingersoll-Rand Company | Method of applying a coating by physical vapor deposition |
| WO2001063358A1 (en) * | 2000-02-22 | 2001-08-30 | Brewer Science, Inc. | Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition |
| US6936405B2 (en) * | 2000-02-22 | 2005-08-30 | Brewer Science Inc. | Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition |
| FR2806076B1 (fr) * | 2000-03-08 | 2002-09-20 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent revetu d'une couche polymere |
| EP1176434B1 (en) * | 2000-07-27 | 2006-09-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Substrate provided with antireflection films and its production method |
| DE20013791U1 (de) | 2000-08-10 | 2000-11-23 | Dippmann Christian | Medizinische Spiegel, insbesondere hochreflektierende Dentalspiegel, mit Frontbeschichtung |
| US20030054117A1 (en) * | 2001-02-02 | 2003-03-20 | Brewer Science, Inc. | Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| US7132219B2 (en) * | 2001-02-02 | 2006-11-07 | Brewer Science Inc. | Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| US6797139B2 (en) * | 2001-03-19 | 2004-09-28 | Applera Corporation | Detection cell for guiding excitation light therein and method for using same |
| KR100409040B1 (ko) * | 2001-06-13 | 2003-12-11 | 부진효 | 티오펜 유도체의 플라즈마 보조 화학 기상 증착에 의한유기 고분자 박막의 제조방법 |
| AU2002301541B8 (en) | 2001-10-25 | 2005-07-14 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
| US6763875B2 (en) | 2002-02-06 | 2004-07-20 | Andersen Corporation | Reduced visibility insect screen |
| US6880612B2 (en) | 2002-02-06 | 2005-04-19 | Andersen Corporation | Reduced visibility insect screen |
| US20040005416A1 (en) * | 2002-07-03 | 2004-01-08 | Cosmos Vacuum Technology Corporation | Method for making an anti-reflection coating on a substrate for the production of a polarizer |
| US20040046969A1 (en) * | 2002-09-10 | 2004-03-11 | Honeywell International Inc. | System and method for monitoring thin film deposition on optical substrates |
| US7108775B2 (en) * | 2002-11-08 | 2006-09-19 | Applera Corporation | Apparatus and method for confining eluted samples in electrophoresis systems |
| US20040192129A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-09-30 | Mcgregor Gordon L. | Insect screen with improved optical properties |
| US20040203303A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Mcgregor Gordon L. | Durable insect screen with improved optical properties |
| US20040198115A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-07 | Mcgregor Gordon L. | Insect screen with improved optical properties |
| US7018713B2 (en) * | 2003-04-02 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Flexible high-temperature ultrabarrier |
| TW573444B (en) * | 2003-04-22 | 2004-01-21 | Ind Tech Res Inst | Substrate having organic and inorganic functional package |
| JPWO2004113966A1 (ja) * | 2003-06-18 | 2006-08-03 | 旭化成株式会社 | 反射防止膜 |
| US20100129548A1 (en) * | 2003-06-27 | 2010-05-27 | Sundew Technologies, Llc | Ald apparatus and method |
| EP1649076B1 (en) * | 2003-06-27 | 2010-05-19 | Sundew Technologies, LLC | Apparatus and method for chemical source vapor pressure control |
| WO2005012950A2 (en) * | 2003-07-28 | 2005-02-10 | Vampire Optical Coatings, Inc. | High refractive index layers |
| US7794831B2 (en) * | 2003-07-28 | 2010-09-14 | Vampire Optical Coating, Inc. | Anti-reflective coating |
| DE102004020245A1 (de) * | 2004-04-22 | 2005-12-22 | Schott Ag | Organisches, elektro-optisches Element mit erhöhter Auskoppeleffizienz |
| DE102004056965A1 (de) * | 2004-11-25 | 2006-06-08 | Rodenstock Gmbh | Verbesserung der Haftung von hydrophoben Beschichtungen auf Brillengläsern |
| JP2007005381A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置 |
| US7534836B2 (en) * | 2005-07-01 | 2009-05-19 | Bausch & Lomb Incorporated | Biomedical devices |
| US7354779B2 (en) * | 2006-03-10 | 2008-04-08 | International Business Machines Corporation | Topography compensated film application methods |
| US20080160215A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-03 | Ball Aerospace & Technologies Corp. | Contamination Resistant Surfaces |
| EP2111480A2 (en) * | 2006-12-29 | 2009-10-28 | 3M Innovative Properties Company | Method of making inorganic or inorganic/organic hybrid films |
| GB0703300D0 (en) * | 2007-02-21 | 2007-03-28 | Optical Reference Systems Ltd | Semiconductor Growth Control Method and Apparatus |
| EP2238275B1 (en) * | 2007-12-27 | 2018-10-03 | Exatec, LLC. | Multi-pass vacuum coating systems |
| JP2011508062A (ja) | 2007-12-28 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 可撓性封入フィルムシステム |
| ES2302661B1 (es) * | 2008-02-14 | 2009-10-29 | Indo Internacional S.A. | Lente de base polimerica que comprende una capa endurecedora, una multicapa interferencial y una capa dura intercalada entre ambas, y procedimiento de fabricacion correspondiente. |
| WO2010002755A2 (en) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Method of making inorganic or inorganic/organic hybrid barrier films |
| US8023250B2 (en) * | 2008-09-12 | 2011-09-20 | Avx Corporation | Substrate for use in wet capacitors |
| JP5313862B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2013-10-09 | 株式会社日立製作所 | ２次元光切断法による寸法測定方法および装置 |
| JP5523382B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム |
| JP2013527873A (ja) | 2010-04-29 | 2013-07-04 | バテル メモリアル インスティチュート | 高屈折率組成物 |
| US20170031525A1 (en) | 2010-05-14 | 2017-02-02 | Racing Optics, Inc. | Touch screen shield |
| JP2013152425A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-08-08 | Tamron Co Ltd | 反射防止膜及び光学素子 |
| CN103936297B (zh) * | 2014-05-04 | 2016-01-20 | 江南大学 | 一种超双疏增透玻璃表面层及其制备方法 |
| DE102014008369A1 (de) | 2014-06-05 | 2015-12-17 | Rosenberger-Osi Gmbh & Co. Ohg | Endflächenbeschichtung eines Wellenleiters |
| US9295297B2 (en) | 2014-06-17 | 2016-03-29 | Racing Optics, Inc. | Adhesive mountable stack of removable layers |
| CN105268110B (zh) * | 2014-06-19 | 2018-03-13 | 昆山科技大学 | 黄疸光疗装置 |
| RU2720663C2 (ru) * | 2015-03-23 | 2020-05-12 | Конинклейке Филипс Н.В. | Оптический датчик жизненных показателей |
| CN106684205B (zh) * | 2015-11-06 | 2018-05-29 | 上海空间电源研究所 | 一种多结太阳电池减反射膜及其制备方法 |
| FR3045033B1 (fr) | 2015-12-09 | 2020-12-11 | Saint Gobain | Procede et installation pour l'obtention d'un vitrage colore |
| WO2018125015A1 (en) * | 2016-12-30 | 2018-07-05 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | A technique for the production of a transparent conductive oxide film by a roller coating technique |
| US10725209B2 (en) | 2017-01-17 | 2020-07-28 | The Penn State Research Foundation | Broadband and omnidirectional polymer antireflection coatings |
| JP7157976B2 (ja) * | 2018-07-31 | 2022-10-21 | 國雄 吉田 | 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜 |
| US11585962B2 (en) | 2018-10-19 | 2023-02-21 | Racing Optics, Inc. | Transparent covering having anti-reflective coatings |
| CN113453882B (zh) | 2019-02-01 | 2024-03-15 | 锐思凌光学有限责任公司 | 具有集成可成形模具的热成形挡风玻璃堆叠 |
| US11846788B2 (en) | 2019-02-01 | 2023-12-19 | Racing Optics, Inc. | Thermoform windshield stack with integrated formable mold |
| US10935709B2 (en) * | 2019-03-05 | 2021-03-02 | High Performance Optics, Inc. | Methods and devices for reducing actual and perceived glare |
| CN110184588A (zh) * | 2019-05-13 | 2019-08-30 | 江苏新唯尊光学眼镜有限公司 | 一种具有多层减反射膜镜片的镀膜工艺 |
| US11364715B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-06-21 | Racing Optics, Inc. | Polymer safety glazing for vehicles |
| US11648723B2 (en) | 2019-12-03 | 2023-05-16 | Racing Optics, Inc. | Method and apparatus for reducing non-normal incidence distortion in glazing films |
| US11548356B2 (en) | 2020-03-10 | 2023-01-10 | Racing Optics, Inc. | Protective barrier for safety glazing |
| US11490667B1 (en) | 2021-06-08 | 2022-11-08 | Racing Optics, Inc. | Low haze UV blocking removable lens stack |
| US11709296B2 (en) | 2021-07-27 | 2023-07-25 | Racing Optics, Inc. | Low reflectance removable lens stack |
| US11307329B1 (en) | 2021-07-27 | 2022-04-19 | Racing Optics, Inc. | Low reflectance removable lens stack |
| US12140781B2 (en) | 2021-07-27 | 2024-11-12 | Laminated Film Llc | Low reflectance removable lens stack |
| US12162330B2 (en) | 2022-02-08 | 2024-12-10 | Ro Technologies, Llc | Multi-layer windshield film having progressive thickness layers |
| WO2023218284A1 (en) * | 2022-05-08 | 2023-11-16 | Bagira Systems Ltd. | Portable gaming console |
| US11933943B2 (en) | 2022-06-06 | 2024-03-19 | Laminated Film Llc | Stack of sterile peelable lenses with low creep |
| US11808952B1 (en) | 2022-09-26 | 2023-11-07 | Racing Optics, Inc. | Low static optical removable lens stack |
| WO2024155532A1 (en) * | 2023-01-17 | 2024-07-25 | University Of Rochester | Multilayer optical thin films with continuously varying refractive index |
Family Cites Families (64)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3356522A (en) * | 1964-02-10 | 1967-12-05 | Mc Donnell Douglas Corp | Polycarbonate film containing an antireflection coating |
| JPS53306B2 (ru) * | 1973-10-16 | 1978-01-07 | ||
| US3892490A (en) * | 1974-03-06 | 1975-07-01 | Minolta Camera Kk | Monitoring system for coating a substrate |
| US4058638A (en) * | 1974-12-19 | 1977-11-15 | Texas Instruments Incorporated | Method of optical thin film coating |
| FR2328733A1 (fr) * | 1975-10-20 | 1977-05-20 | Us Of America Nasa | Revetement anti-reflechissant pour lentilles en matiere plastique |
| US4096315A (en) * | 1976-12-15 | 1978-06-20 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Process for producing a well-adhered durable optical coating on an optical plastic substrate |
| CH625054A5 (ru) * | 1976-12-27 | 1981-08-31 | Balzers Hochvakuum | |
| US4166784A (en) * | 1978-04-28 | 1979-09-04 | Applied Films Lab, Inc. | Feedback control for vacuum deposition apparatus |
| JPS55500588A (ru) * | 1978-08-18 | 1980-09-04 | ||
| GB2064987B (en) * | 1979-11-14 | 1983-11-30 | Toray Industries | Process for producing transparent shaped article having enhanced anti-reflective effect |
| JPS5726702A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method and device for measuring film thickness |
| JPS5872103A (ja) * | 1981-10-26 | 1983-04-30 | Seiko Epson Corp | 合成樹脂製レンズ |
| ATE25880T1 (de) * | 1982-12-22 | 1987-03-15 | Ibm | Antireflektionsbeschichtung fuer bildschirme. |
| JPH0642003B2 (ja) * | 1983-09-20 | 1994-06-01 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
| JPS60163901A (ja) * | 1984-02-04 | 1985-08-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | プラズマ重合処理方法 |
| DE3413019A1 (de) * | 1984-04-06 | 1985-10-17 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum aufbringen einer duennen, transparenten schicht auf der oberflaeche optischer elemente |
| US4676646A (en) * | 1985-10-15 | 1987-06-30 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method and apparatus for controlling thickness of a layer of an optical data storage device by measuring an optical property of the layer |
| CH670318A5 (ru) * | 1985-10-22 | 1989-05-31 | Satis Vacuum Ag | |
| US4837044A (en) * | 1987-01-23 | 1989-06-06 | Itt Research Institute | Rugate optical filter systems |
| US5053244A (en) * | 1987-02-21 | 1991-10-01 | Leybold Aktiengesellschaft | Process for depositing silicon oxide on a substrate |
| US4842941A (en) * | 1987-04-06 | 1989-06-27 | General Electric Company | Method for forming abrasion-resistant polycarbonate articles, and articles of manufacture produced thereby |
| FR2614317B1 (fr) * | 1987-04-22 | 1989-07-13 | Air Liquide | Procede de protection de substrat polymerique par depot par plasma de composes du type oxynitrure de silicium et dispositif pour sa mise en oeuvre. |
| US4815962A (en) * | 1987-12-11 | 1989-03-28 | Polaroid Corporation | Process for coating synthetic optical substrates |
| US5225057A (en) * | 1988-02-08 | 1993-07-06 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Process for depositing optical films on both planar and non-planar substrates |
| JPH01238601A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Kuraray Co Ltd | 反射防止用フイルター |
| US5181142A (en) * | 1988-06-10 | 1993-01-19 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Plastic lens and method of forming an anti-reflecting layer on a plastic lens |
| US4906844A (en) * | 1988-08-12 | 1990-03-06 | Rockwell International Corporation | Phase sensitive optical monitor for thin film deposition |
| US5264724A (en) * | 1989-02-13 | 1993-11-23 | The University Of Arkansas | Silicon nitride for application as the gate dielectric in MOS devices |
| US5181141A (en) * | 1989-03-31 | 1993-01-19 | Hoya Corporation | Anti-reflection optical element |
| US5246782A (en) * | 1990-12-10 | 1993-09-21 | The Dow Chemical Company | Laminates of polymers having perfluorocyclobutane rings and polymers containing perfluorocyclobutane rings |
| US5009920A (en) * | 1990-03-30 | 1991-04-23 | Honeywell Inc. | Method for applying optical interference coating |
| JPH04191701A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | Akifumi Nishikawa | 反射防止光学材料およびその製造法 |
| US5171414A (en) * | 1990-12-10 | 1992-12-15 | Ford Motor Company | Method of making transparent anti-reflective coating |
| US5225244A (en) * | 1990-12-17 | 1993-07-06 | Allied-Signal Inc. | Polymeric anti-reflection coatings and coated articles |
| US5178955A (en) * | 1990-12-17 | 1993-01-12 | Allied-Signal Inc. | Polymeric anti-reflection coatings and coated articles |
| FR2680583B1 (fr) * | 1991-08-22 | 1993-10-08 | Commissariat A Energie Atomique | Materiau presentant des proprietes antireflet, hydrophobes et de resistance a l'abrasion et procede de depot d'une couche antireflet, hydrophobe et resistante a l'abrasion sur un substrat. |
| JPH0597478A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 |
| AU4689293A (en) * | 1992-07-15 | 1994-02-14 | On-Line Technologies, Inc. | Method and apparatus for monitoring layer processing |
| WO1994019709A1 (en) * | 1993-02-19 | 1994-09-01 | Photran Corporation | A light attenuating anti-reflection coating including electrically conductive layers |
| US5443941A (en) * | 1993-03-01 | 1995-08-22 | National Semiconductor Corporation | Plasma polymer antireflective coating |
| JP3770625B2 (ja) * | 1993-03-12 | 2006-04-26 | 旭硝子株式会社 | 反射防止層を有する光学物品 |
| US5354575A (en) * | 1993-04-16 | 1994-10-11 | University Of Maryland | Ellipsometric approach to anti-reflection coatings of semiconductor laser amplifiers |
| US5911856A (en) * | 1993-09-03 | 1999-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for forming thin film |
| DE4338040C2 (de) * | 1993-11-08 | 1997-01-30 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
| US5494697A (en) * | 1993-11-15 | 1996-02-27 | At&T Corp. | Process for fabricating a device using an ellipsometric technique |
| DE4407909C3 (de) * | 1994-03-09 | 2003-05-15 | Unaxis Deutschland Holding | Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen oder quasi-kontinuierlichen Beschichten von Brillengläsern |
| JPH0817743A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Sony Corp | Ｃｖｄ装置およびこれを用いた成膜方法 |
| US5425964A (en) * | 1994-07-22 | 1995-06-20 | Rockwell International Corporation | Deposition of multiple layer thin films using a broadband spectral monitor |
| US5580606A (en) * | 1995-10-06 | 1996-12-03 | Singapore Institute Of Standards Etc. | Method for forming interference anti-reflective coatings by plasma surface modification |
| US5772861A (en) * | 1995-10-16 | 1998-06-30 | Viratec Thin Films, Inc. | System for evaluating thin film coatings |
| US5728456A (en) * | 1996-02-01 | 1998-03-17 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Methods and apparatus for providing an absorbing, broad band, low brightness, antireflection coating |
| JP3739478B2 (ja) * | 1996-03-25 | 2006-01-25 | 株式会社アルバック | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
| US5789040A (en) * | 1997-05-21 | 1998-08-04 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Methods and apparatus for simultaneous multi-sided coating of optical thin film designs using dual-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| US6738099B2 (en) | 2001-02-16 | 2004-05-18 | Tektronix, Inc. | Robust camera motion estimation for video sequences |
| US20060028562A1 (en) | 2004-08-09 | 2006-02-09 | Martin Schmitz | Fast area-selected filtering for pixel-noise and analog artifacts reduction |
| US8750645B2 (en) * | 2009-12-10 | 2014-06-10 | Microsoft Corporation | Generating a composite image from video frames |
| WO2012064106A2 (en) | 2010-11-12 | 2012-05-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for video stabilization by compensating for view direction of camera |
| US20120148216A1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-06-14 | Qualcomm Incorporated | Self-editing video recording |
| US20130021512A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Broadcom Corporation | Framing of Images in an Image Capture Device |
| GB201116566D0 (en) * | 2011-09-26 | 2011-11-09 | Skype Ltd | Video stabilisation |
| US9300871B2 (en) | 2012-06-08 | 2016-03-29 | Apple Inc. | Stationary camera detection and virtual tripod transition for video stabilization |
| EP2680568B1 (en) | 2012-06-25 | 2016-05-25 | ST-Ericsson SA | Video stabilisation with deblurring |
| US10638047B2 (en) * | 2015-12-16 | 2020-04-28 | Gopro, Inc. | Dynamic synchronization of frame rate to a detected cadence in a time lapse image sequence |
| US10469749B1 (en) * | 2018-05-01 | 2019-11-05 | Ambarella, Inc. | Temporal filter with criteria setting maximum amount of temporal blend |
-
1997
- 1997-12-12 AU AU56075/98A patent/AU733162B2/en not_active Ceased
- 1997-12-12 US US08/990,001 patent/US6096371A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-12 JP JP53196798A patent/JP2001509910A/ja not_active Ceased
- 1997-12-12 US US08/990,003 patent/US5991081A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-12 CN CN97182041.4A patent/CN1131441C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-12 EP EP97952479A patent/EP1012635B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-12 IL IL13109097A patent/IL131090A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-12-12 RU RU99118579/28A patent/RU2204153C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-12-12 DE DE69735727T patent/DE69735727T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-12 CA CA002279425A patent/CA2279425A1/en not_active Abandoned
- 1997-12-12 BR BR9714213-1A patent/BR9714213A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-12-12 WO PCT/US1997/023231 patent/WO1998033077A2/en active IP Right Grant
- 1997-12-12 KR KR10-1999-7006783A patent/KR100495338B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-12-12 ES ES97952479T patent/ES2263184T3/es not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-02-02 TW TW087101210A patent/TW400437B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-02-02 TW TW087101208A patent/TW400436B/zh not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-07-19 HK HK00104414A patent/HK1025152A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2021
- 2021-04-02 US US17/221,745 patent/US11606482B2/en active Active
-
2023
- 2023-03-14 US US18/183,570 patent/US20230212064A1/en not_active Abandoned
- 2023-12-22 US US18/394,009 patent/US20240391824A1/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2508202C2 (ru) * | 2009-08-10 | 2014-02-27 | Сэнт-Гобен Перформанс Пластикс Корпорейшн | Фторполимерный содержащий порошковый наполнитель защитный лист |
| RU2490222C1 (ru) * | 2012-01-27 | 2013-08-20 | Открытое акционерное общество "Производственное объединение "Новосибирский приборостроительный завод" (ОАО "ПО "НПЗ") | Способ нанесения просветляющего покрытия |
| RU2685887C1 (ru) * | 2018-05-07 | 2019-04-23 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Антибликовый экран на основе силикатного стекла, антибликовое и антибликовое электрообогревное покрытия для него |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5991081A (en) | 1999-11-23 |
| HK1025152A1 (en) | 2000-11-03 |
| BR9714213A (pt) | 2000-02-29 |
| CN1249040A (zh) | 2000-03-29 |
| DE69735727D1 (de) | 2006-05-24 |
| CA2279425A1 (en) | 1998-07-30 |
| WO1998033077A3 (en) | 1998-09-11 |
| KR20000070538A (ko) | 2000-11-25 |
| IL131090A (en) | 2003-05-29 |
| TW400437B (en) | 2000-08-01 |
| JP2001509910A (ja) | 2001-07-24 |
| US20210227103A1 (en) | 2021-07-22 |
| TW400436B (en) | 2000-08-01 |
| AU733162B2 (en) | 2001-05-10 |
| AU5607598A (en) | 1998-08-18 |
| ES2263184T3 (es) | 2006-12-01 |
| IL131090A0 (en) | 2001-01-28 |
| CN1131441C (zh) | 2003-12-17 |
| EP1012635A2 (en) | 2000-06-28 |
| US20240391824A1 (en) | 2024-11-28 |
| WO1998033077A2 (en) | 1998-07-30 |
| KR100495338B1 (ko) | 2005-06-14 |
| EP1012635B1 (en) | 2006-04-19 |
| US20230212064A1 (en) | 2023-07-06 |
| US11606482B2 (en) | 2023-03-14 |
| US6096371A (en) | 2000-08-01 |
| DE69735727T2 (de) | 2007-01-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2204153C2 (ru) | Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек | |
| US7679820B2 (en) | IR absorbing reflector | |
| US20240247368A1 (en) | Methods for coating a substrate with magnesium fluoride via atomic layer deposition | |
| JP2003515196A (ja) | 熱フィルタおよびこのフィルタの製造方法 | |
| CN100383073C (zh) | 具有金红石结构的氧化钛-铝和/或氧化铝透明涂层 | |
| EP1590306B1 (en) | Method of producing transparent titanium oxide coatings having a rutile structure | |
| CN100418913C (zh) | 透明氧化锆-钽和/或氧化钽涂层 | |
| JP2005195625A (ja) | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 | |
| JP4598177B2 (ja) | 反射防止膜の設計方法 | |
| MXPA99006935A (en) | Coatings, methods and apparatus for reducing reflection from optical substrates | |
| US7504154B2 (en) | Moisture barrier coatings for infrared salt optics | |
| Flint | Special application coatings for the vacuum ultraviolet (VUV) | |
| Morton | Optical Thin-Film Coatings | |
| Schulz et al. | Plasma pretreatment and coating of PMMA Fresnel lenses | |
| WO2023069226A1 (en) | Atomic layer deposition derived protective coatings for calcium fluoride optical components | |
| CN116802165A (zh) | 近红外透明、可见光吸收涂层及具有涂层的玻璃基板 | |
| US20060147739A1 (en) | Plasma polymerized methyl acrylate as an adhesion layer and moisture barrier organic interlayer for potassium bromide-salt optics | |
| Hsu et al. | Ultra-low Anti-reflection Coating on a Plastic Cover Slip in Liquid for He-Ne Laser Light | |
| Zoeller et al. | Direct optical monitoring enables high performance applications in mass production | |
| Yeh | Electron-bean biased reactive evaporation of silicon, silicon oxides, and silicon nitrides | |
| JPS6243601A (ja) | 合成樹脂製光学物品の多層反射防止膜の形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20061213 |