KR987000636A - 표면파 부품 및 이에 대한 감쇠 구조를 제조하는 방법(surface wave component and method of producing an attenuaing struture the refor) - Google Patents
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Abstract
본 발명은 표면파 부품에 대해 UV-조사 개시 양이온성 경화 에폭시 수지로 구성된 감쇠 구조(5)에 관한 것이다. 용매가 제거된 에폭시 수지는 시클로지방족 수지를 기초로 하고 스크린 프린팅에 의해 웨이퍼(2)에 도포된다. 웨이퍼(2)가 절단되는 경우, 감쇠 화합물(5)는 올라가거나 쪼개지지 않으면서 절단될 수 있다. 감쇠 구조(5)의 감쇠 및 부식 작용은 표면파 필터의 조건을 만족시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 표면파 부품을 개략적으로 도시한 단면도이다.
Claims (10)
- - 압전 재료로 이루어진 기판(2), - 기판의 한 표면상에 변환기 전극(3, 4), 및 - 표면의 일부 또는 전부 상에 프린팅되고 UV 조사 개시에 의해 양이온적으로 경화되는 에폭시 수지로 구성된 음향 감쇠 구조(5)를 갖는 표면파 부품.
- 제 1 항에 있어서, 간섭 시그날이 주 시그날에 비해 50dB 이상 감쇠되는 것을 특징으로 하는 표면파 부품.
- 제 1 항 또는 2 항에 있어서, 감쇠 구조(5)의 에폭시 수지가 시클로지방족 에폭시화물을 기초로 하고 용매로부터 유리되는 것을 특징으로 하는 표면파.
- 원하는 구조(5)에서 UV 조사 개시에 의해 양이온적으로 경화되는 에폭시 수지를 표면파 부품의 표면상에 프린팅시키고, 60분 이하의 유지 시간을 지속시키며, 수지 구조(5)를 UN 복사선에 노출시켜서 경화시킴으로써 표면파 부품(7)상에 음향 감쇠 구조(5)를 제조하는 방법.
- 제 4 항에 있어서, - 시클로지방족 에폭시화물, - 시클로지방족 에폭시화물과 다가 페놀을 1:1 내지 20:1 의 반응성기의 몰비로 반응시킨 생성물, - 양이온성 경화 반응용 광개시제, 및 - 에폭시 수지에 대해 표준인 첨가제를 포함하는 에폭시 수지가 사용되고, 이 에폭시 수지가 20 내지 150 Pa.s 의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 4 항 또는 5 항에 있어서, 시클로지방족 에폭시화물이 3,4-에폭시시클로헥실멜틸, 3', 4'-에폭시시클로헥산카르복실산염 및 비스-(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디프산염 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 4 항 내지 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 에폭시 수지가 UV-조사 개시 양이온성 경화 반응에 대해 반응성인 구성 요소를 더 함유하고, 지방족 에폭시화물 및 일작용성 또는 다작용성 지방족 및 아르알리파틱 알코올 및 비닐 에테르로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 4 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 에폭시 수지에 대한 표준인 첨가제가 유량 조절제, 결합제, 틱소트로프제 및 열경화성 개시제로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 내지 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 다수의 부품(7)을 웨이퍼상에 제조하고, 프린트-구조(5)의 경화 후에, 절단 과정을 구조의 일부를 통해 수행하여 부품을 분리시키는 것을 특징으로 하는 방법.
- 감쇠 구조를 표면파 부품상에 프린팅시키기 위해 UV 조사 개시에 의해 양이온적으로 경화되는 에폭시 수지를 사용하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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