KR900011773A - 피라졸로피리딘 화합물과 그것의 제조방법 - Google Patents
피라졸로피리딘 화합물과 그것의 제조방법Info
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (17)
- 하기 식(I)의 피라졸로피리딘 화합물과 그것의 약제학적 허용염.상기식에서 R1은 아릴이고, R2는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 불포화 헤테로시클릭기임.
- 제1항에 있어서, R2가 1내지 4개의 질소원자(들)을 함유한 3내지 8-원의 불포화 헤테로모노시클릭기 또는 1내지 2개의 황 원자(들)과 1내지 3개의 질소원자(들)을 함유한 불포화 축합헤테로시클릭기 이며, 각각은 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 화합물.
- 제2항에 있어서, R1은 페닐이고, 및 R2는 피리다지닐, 디히드로피리다지닐, 테트라히드로 피리다지닐, 피리미디닐, 디히드로피리미디닐, 피리딜, 디히드로피리딜, 테트라히드로리리딜, 피라졸릴 또는 이미다조티아디 아졸릴이며, 각각은 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 저급알킬, 카르복시(저급) 알케닐, 아미노, 디(저급) 알킬아미노, 할로겐, 저급 알콕시 옥소, 히드록시, 시아노 및 아실기로 구성된 그룹으로부터 선택된 치환체(들)을 하나이상 갖는 화합물 :
- 제3항에 있어서, R2는 피리다지닐, 디히드로피리다지닐, 테트라히드로 피리다지닐, 피리미디닐, 디히드로피리미디닐, 피리딜디히드로피리딜, 테트라히드로피리딜, 피자졸릴 또는 이미다조티아디아졸릴이며, 각각은 히드록시, 할로겐, 저급알콕시 및 아실기로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1내지 4개의 적당한 치환체(들)을 갖는 저급알킬, 카르복시(저급)알케닐 아미노디(저급) 알킬아미노, 할로겐, 저급알콕시, 옥소, 히드록시, 시아노 및 아실기로 구성된 그룹으로부터 선택된 1내지 4개의 적당한 치환체(들)을 갖는 화합물.
- 제4항에 있어서, R2는 피리다지닐, 디히드로피리다지닐, 테트라히드로 피리다지닐, 피리미디닐, 디히드로피리미디닐, 피리딜 디히드로피리딜, 테트라히드로피리딜, 피라졸릴 또는 이미다조리아디아졸릴이며, 각각은 저급알킬, 히드록시와 할로겐을 갖는 저급알킬 히드록시(저급)알킬, 저급알콕시(저급)알킬, 카르복시(저급)알킬, 보호된 카르복시(저급)알킬, 카르복시(저급)알케닐, 아미노디(저급)알킬아미노, 할로겐, 저급알콕시, 옥소, 히드록시, 시아노, 카르복시, 보호된 카르복시 및 저급 알카노일로 구성된 그룹으로부터 선택되는1내지 4개의 적당한 치환체(들)을 갖는 화합물.
- 제5항에 있어서, R2는 피리다지닐, 디히드로피리다지닐 또는 테트라히드로 피리다지닐이며, 각각의 저급 알킬, 히드록시와 할로겐을 갖는 저급알킬, 히드록시(저급)알킬, 저급알콕시(저급)알킬, 카르복시(저급)알킬, 에스테르화 카르복시 (저급)알킬, 아미드화 카르복시(저급)알킬, 카르복시(저급)알케닐, 디(저급)알킬아미노,할로겐, 저급알콕시, 옥소 및 에스테르화 카르복시로 구성된 그룹으로부터 선택된 1또는 2개의 적당한 치환체(들)을 갖는 화합물.
- 제6항에 있어서 R2는 저급알킬, 히드록시와 할로겐을 갖는 저급알킬 카르복시(저급)알케닐, 디(저급)알킬아미노 할로겐 및 저급 알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 적당한 치환체 하나를 갖는 피리다지닐인화합물.
- 제6항에 있어서, R2는 저급알킬, 히드록시(저급)알킬, 저급알콕시(저급)알킬, 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬, 질소원자에 두 개의 저급알킬기가 서로 결합하여 3내지 6원의 고리를 형성한 N,N- 디(저급)알킬 카바모일(저급)알킬, 할로겐, 옥소 및 저급알콕시 카르보닐로 구성된 기로부터 선택된 1내지 2개의 적당한 치환체(들)을 갖는 디히드로피리다지닐인 화합물.
- 제8항에 있어서, R2는 저급알킬, 히드록시(저급)알킬, 저급알콕시(저급)알킬 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬, 카바모일(저급)알킬 및 질소원자에 두 개의 저급알킬기가 서로 결합하여 3내지 6-원의 고리를 형성한 N.N-디(저급)알킬 카바모일(저급)알킬로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적당한 치환체 하나를 갖는 3-옥소-2, 3-디히드로피리다지닐인 화합물.
- 제9항에 있어서, R2는 카르복시(저급)알킬을 갖는 3-옥소-2, 3-디히드로 피리다지닐인 화합물.
- 제10항에 있어서, 3-〔2-(2-카르복시에틸)-3-옥소-2, 3-디히드로피리다진-6일〕-2-페닐피라졸로〔1,5-a〕피리딘, 3-〔2-(3-카르복시프로필)-3-옥소-2, 3-디히드로피리다진-6일〕-2-페닐피라졸로〔1,5-a〕피리딘, 및 3-〔2-(4-카르복시부틸)-3-옥소-2, 3-디히드로피리다진-6-일〕-2-페닐파라졸로〔1,5-a〕피리딘으로 구성된 화합물로부터 선택된 화합물.
- 제6항에 있어서, R2는 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 저급알콕시 카르보닐(저급) 알킬 및 옥소로 구성된 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 적당한 치환체(들ㅇ)을 갖는 테트라히드로피리다 지닐인 화합물.
- 제5항에 있어서, R2는 저급알킬, 아미노, 할로겐 및 저급알콕시로 구성된 그룹으로부터 선택된 적당한 치환체 하나를 갖는 피리미디닐 ; 저급알콕시카르보닐(저급) 알킬 및 옥소로 구성된 그룹으로부터 선택된 1내지 2개의 적당한 치환체를 갖는 디히드로피리미디닐, 할로겐, 저급알콕시, 시아노 및 저급 알카노일로 구성된 그룹으로부터 선택된 1개의 적당한 치환체를 갖는 피리딜, 저급알킬, 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬, 옥소, 시아노, 카르복시, 저급알콕시 카르보닐 및 저급 알카노일로 구성된 구성된 그룹으로부터 선택된 1내지 4개의 적당한 치환체(들)을 갖는 디히드로피리딜 ; 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬 및 옥소로 구성된 그룹으로부터 선택된 1또는 2개의 적당한 치환체(들)을 갖는 테트라히드로 피리딜, 저급알킬, 카르복시(저급)알킬, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬 및 히드록시로 구성된 그룹으로부터 선택된 1또는 2개의 적당한 치환체(들)을 갖는 피라졸릴 및 저급알킬을 갖는 이미다졸릴티아디아졸릴인 화합물.
- 1)식 (Ⅱ)의 화합물 또는 그것의 염을 식 (Ⅲ)의 화합물 또는 그것이 염과 반응시키거나, 2)식 (Ⅱ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(Ⅳ)의 화합물 또는 그것의 염과 반응시켜서, 식(Ia)의 화합물 또는 그것의 염을산출하거나, 3), 식(Ia)의 화합물 또는 그것의 염을 아실기 제거반응으로 처리하여 식(Ib)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 4) 식(Ic)의 화합물 또는 그것의 염을 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 저급알킬기의 도입반응으로 처리하여 식(Id)의 화합물 또는 그것이 염을 산출하거나, 5) 식(Ie)의 화합물 또는 그것의 염을 카르복시 보호기의 제거반응으로 처리하여 식(If)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 6) 식(Ⅴ)의 화합물 또는 그것의 염을 피리다지논기의 형성반응으로 처리하여 식(Ig)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 7) 식(Ⅵ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(Ⅶ)의 화합물 또는 그것의 염과 반응하여 식(Ih)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 8) 식 (Ⅷ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(IX)의 화합물 또는 메틸기에 반응성이 있는유도체 또는 그것의 염과 반응하여 식(Ii)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 9) 식(X)의 화합물 또는 그것의 염을 식(Ⅸ)의 화합물 또는 그것의 염과 반응하여 식(Ij)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 10)식(XⅡ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(XI)의 화합물 또는 그것의 염과 반응시켜 식(Ik)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 11) 식(XⅢ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(ⅩⅣ)의 화합물 또는 그것의 염과 반응시켜서 식(Iℓ)의 화합물을 산출하거나, 12), 식(XⅤ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(ⅩⅥ)의 화합물 또는 그것의 염과 반응시켜서 식(Im)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 13), 식(XⅤ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(ⅩⅦ) 또는 그것의 염과 반응시켜서 식(In)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 14), 식(XⅤ)의 화합물 또는 그것의 염을 식(ⅩⅧ) 또는 그것의 염과 반응시켜서 식(Io)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 15), 식(Ip)의 화합물 또는 그것의 염을 시아노기의 가수분해 반응으로 처리하여 식(Ig)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 16) 식(Ig)의 화합물 또는 그것의 염을 카르복시기 제거반응으로 처리하여 식(Ir)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 17) 식(If)의 화합물 또는 그것의 염을 아미드화 반응으로 처리하여 식(Is)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 18) 식(It)의 화합물 또는 그것의 염을 아미노기의 옥소기로의 전환반응 처리하여 식(Iu)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 19) 식(Iu)의 화합물 또는 그것의 염을 할로겐화 반응으로 처리하여 식(Iv)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 20) 식(Iv)의 화합물 또는 그것의 염을 디(저급)알킬아민 또는 그것의 염과 반응시켜서 식(Iw)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 21) 식(Iv)의 화합물 또는 그것의 염을 할로겐에서 저급알콕시로의 전환반응 처리하여 식(Ix)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 22) 식(Ix)의 화합물 또는 그것의 염을 저급알콕시에서 옥소기로 전환반응 처리하여 식(Iv)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하거나, 23) 식(xIx)의 화합물 또는 그것의 염을 식(xx)의 화합물과 암모니아로 반응시켜서 식(Iy)의 화합물 또는 그것의 염을 산출하는 것을 포함한 식 (I)의 피라졸로 피리딘 화합물 또는 그것의 염을 제조하는 방법.상기식에서, R1은 아릴이고, R2는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 불포화헤테로 시클릭기이며, R2 a는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 가지며, 그것의 고리내에부위를 갖는 헤테로시클릭 화합물이며, R2 b는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 가지며, 그것의 고리내에 =N-부위를 갖는 N-함유의 불포화 헤테로시클릭 화합물이고, R2 c는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함한 N-함유불포화 헤테로시클릭이고, R2 d는 하나 이상의 적당한 치환체(들)를 포함하며, 시아노기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이며, R2 e는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함하며, 카르복시기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 f는 카르복시 이외에 하나이상의 적당한 치환체(들)를 포함하는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 g는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함하며 아미노기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 h는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함하며, 옥소기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 i는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함하며, 할로겐을 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 j는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 포함하고, 디(저급)알킬 아미노기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R2 k는 하나이상의 적당한 치환체(들)를 포함하고, 저급 알콕시기를 갖는 불포화 헤테로시클릭기이고, R3는 아실기이고, 식의 기는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 불포화 시클릭 아미노기이며, R4는 하나이상의 적당한 치환체(들)을 갖는 저급알킬이며, R4 a는 보호된 카르복시 (저급)알킬이고, R4 b는 카르복시(저급)알킬이고, R4 c는 아미드화 카르복시(저급)알킬이며, R5는 보호된 카르복시기이고, R6는 저급알킬이고, R7은 수소 또는 저급 알킬이고, R8은 수소, 저급알킬 또는 아미노기이며, R9은 저급 알킬이고, R10은 보호된 카르복시이며, x는 이탈기임.
- 약제학적 허용 담체와의 혼합물중에 활성성분으로 제1항의 화합물 또는 그것의 약제학적 허용염을 포함한 약제학적 조성물.
- 의약으로 사용하기 위한 제1항의 화합물 또는 그것의 약제학적 허용염.
- 우울증, 심장질환, 고혈압, 신부전증, 부종, 비만증, 천식, 통풍, 과뇨산혈증, 유아급사증, 면역억제증, 당뇨병, 근경색증, 혈전증 폐쇄증, 폐색성 동맥경화증, 혈전성 정맥염, 뇌경색증, 일시적인 저혈증 또는 협심증을 치료하기 위하여, 제1항의 화합물 또는 그것의 약제학적 허용염을 인체 또는 동물에 투여하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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