KR101722420B1 - 휴대 전자 기기 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 상기 휴대 전자 기기 및 충전기의 구조예의 도면.
도 3은 비휘발성 반도체 메모리 장치의 회로 구조예의 도면.
도 4a 및 도 4b는 액정 표시 장치의 표시 패널예의 개략도들이고, 도 4c는 상기 표시 패널을 구동하기 위한 방법의 예의 차트.
도 5는 휴대 전자 기기의 블록도.
도 6은 안테나, 태양 전지 및 충전지 사이의 접속 관계의 도면.
도 7은 상기 휴대 전자 기기의 구조예의 도면.
도 8a 및 도 8b는 트랜지스터의 구조예의 도면들.
도 9a 및 도 9e는 상기 트랜지스터의 제작 방법의 예를 도시한 도면들.
도 10은 트랜지스터들의 전기 특성들을 보여주는 그래프.
Claims (14)
- 휴대 전자 기기에 있어서:
제 1 트랜지스터를 포함하는 표시부로서, 상기 제 1 트랜지스터의 채널 영역은 제 1 산화물 반도체를 포함하는, 상기 표시부;
비접촉 충전에 의해 충전 가능한 충전지를 포함하는 전원부; 및
반도체 메모리 장치를 포함하는 신호 처리부로서, 상기 반도체 메모리 장치는:
제 2 트랜지스터로서, 상기 제 2 트랜지스터의 채널 영역은 결정성 실리콘을 포함하는, 상기 제 2 트랜지스터;
제 3 트랜지스터로서, 상기 제 3 트랜지스터의 채널 영역은 제 2 산화물 반도체를 포함하는, 상기 제 3 트랜지스터;
용량 소자;
소스선;
비트선;
제 1 신호선;
제 2 신호선; 및
워드선을 포함하는, 상기 신호 처리부를 포함하고,
상기 제 2 트랜지스터의 게이트는 상기 제 3 트랜지스터의 소스 및 드레인 중 하나에 전기적으로 접속되고, 상기 제 2 트랜지스터의 소스는 상기 소스선에 전기적으로 접속되고, 상기 제 2 트랜지스터의 드레인은 상기 비트선에 전기적으로 접속되고,
상기 제 3 트랜지스터의 게이트는 상기 제 2 신호선에 전기적으로 접속되고, 상기 제 3 트랜지스터의 소스 및 드레인 중 상기 하나는 상기 용량 소자의 제 1 전극에 전기적으로 접속되고, 상기 제 3 트랜지스터의 소스 및 드레인 중 다른 하나는 상기 제 1 신호선에 전기적으로 접속되고,
상기 제 3 트랜지스터의 상기 채널 영역에서의 상기 제 2 산화물 반도체는 1 aA/㎛ 이하의 오프-상태 전류를 갖는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 트랜지스터의 상기 채널 영역에서의 상기 제 1 산화물 반도체 및 상기 제 3 트랜지스터의 상기 채널 영역에서의 상기 제 2 산화물 반도체 중 적어도 하나는 진성 또는 실질적으로 진성인, 휴대 전자 기기. - 휴대 전자 기기에 있어서:
제 1 트랜지스터를 포함하는 표시부로서, 상기 제 1 트랜지스터의 채널 영역은 제 1 산화물 반도체를 포함하는, 상기 표시부;
비접촉 충전에 의해 충전 가능한 충전지를 포함하는 전원부; 및
반도체 메모리 장치를 포함하는 신호 처리부로서, 상기 반도체 메모리 장치는:
제 2 트랜지스터로서, 상기 제 2 트랜지스터의 채널 영역은 결정성 실리콘을 포함하는, 상기 제 2 트랜지스터;
제 3 트랜지스터로서, 상기 제 3 트랜지스터의 채널 영역은 제 2 산화물 반도체를 포함하는, 상기 제 3 트랜지스터;
용량 소자; 및
제 1 내지 제 5 배선들을 포함하는, 상기 신호 처리부를 포함하고,
상기 제 2 트랜지스터의 제 1 단자가 상기 제 1 배선에 전기적으로 접속되고, 상기 제 2 트랜지스터의 제 2 단자가 상기 제 2 배선에 전기적으로 접속되고, 상기 제 2 트랜지스터의 게이트가 상기 제 3 트랜지스터의 제 1 단자 또는 상기 용량 소자의 제 1 전극에 전기적으로 접속되고,
상기 제 3 트랜지스터의 제 2 단자가 상기 제 3 배선에 전기적으로 접속되고, 상기 제 3 트랜지스터의 게이트가 상기 제 4 배선에 전기적으로 접속되고,
상기 용량 소자의 제 2 전극이 상기 제 5 배선에 전기적으로 접속되고,
상기 제 3 트랜지스터의 상기 채널 영역에서의 상기 제 2 산화물 반도체는 1 aA/㎛ 이하의 오프-상태 전류를 갖는, 휴대 전자 기기. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 산화물 반도체는 상기 제 1 산화물 반도체와 동일한, 휴대 전자 기기. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 산화물 반도체는 상기 제 1 산화물 반도체와 상이한, 휴대 전자 기기. - 제 3 항에 있어서,
상기 채널 영역에서의 상기 제 2 산화물 반도체는 진성 또는 실질적으로 진성인, 휴대 전자 기기. - 제 3 항에 있어서,
상기 채널 영역에서의 상기 제 1 산화물 반도체는 진성 또는 실질적으로 진성인, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 표시부는 반사형 액정 표시 장치를 포함하는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 충전지에 축적되는 전력은 상기 표시부 및 상기 신호 처리부에서 이용되는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 전원부는 태양 전지를 포함하는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 전원부는 비접촉 충전을 위한 수전 코일을 갖는 제 1 안테나를 더 포함하고, 상기 신호 처리부는 서버로 데이터의 다운로드를 시작하기 위한 요청을 전송하고 상기 요청에 응답하여 상기 서버로부터 전송된 상기 데이터를 수신하는 제 2 안테나를 포함하는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 채널 영역에서의 상기 제 1 산화물 반도체는 1aA/㎛ 이하의 오프-상태 전류를 가지는, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 휴대 전자 기기는 전자 서적 장치인, 휴대 전자 기기. - 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 표시부는 전기 영동 디스플레이(electrophoretic display)를 포함하는, 휴대 전자 기기.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2010-010382 | 2010-01-20 | ||
| JP2010010382 | 2010-01-20 | ||
| PCT/JP2010/073890 WO2011089849A1 (en) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | Portable electronic device |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020177008259A Division KR101791829B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 휴대 전자 기기 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120117863A KR20120117863A (ko) | 2012-10-24 |
| KR101722420B1 true KR101722420B1 (ko) | 2017-04-18 |
Family
ID=44277444
Family Applications (6)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020127021295A Expired - Fee Related KR101722420B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 휴대 전자 기기 |
| KR1020217012984A Active KR102395345B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020177030095A Active KR101916012B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020187031389A Active KR102248998B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020227014598A Active KR102542681B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020177008259A Expired - Fee Related KR101791829B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 휴대 전자 기기 |
Family Applications After (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020217012984A Active KR102395345B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020177030095A Active KR101916012B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020187031389A Active KR102248998B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020227014598A Active KR102542681B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 전자 기기 |
| KR1020177008259A Expired - Fee Related KR101791829B1 (ko) | 2010-01-20 | 2010-12-27 | 휴대 전자 기기 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (6) | US8830661B2 (ko) |
| JP (10) | JP5618844B2 (ko) |
| KR (6) | KR101722420B1 (ko) |
| TW (3) | TWI599185B (ko) |
| WO (1) | WO2011089849A1 (ko) |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2011096277A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of driving semiconductor device |
| WO2011096262A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| KR101822962B1 (ko) | 2010-02-05 | 2018-01-31 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
| WO2011096264A1 (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of driving semiconductor device |
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| US9612795B2 (en) | 2013-03-14 | 2017-04-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Data processing device, data processing method, and computer program |
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| JP6594576B1 (ja) | 2018-06-07 | 2019-10-23 | キヤノン株式会社 | 光学系、それを備える撮像装置及び撮像システム |
| JP7114059B2 (ja) | 2018-06-07 | 2022-08-08 | 三甲株式会社 | トレー |
| JP6991930B2 (ja) | 2018-06-07 | 2022-01-13 | 相互印刷株式会社 | プレススルーパックの包装体 |
| JP6788174B1 (ja) | 2019-06-11 | 2020-11-25 | 馨 林谷 | 母板に雑草粘着液排除孔のある刈り払い刃。 |
-
2010
- 2010-12-27 KR KR1020127021295A patent/KR101722420B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-27 KR KR1020217012984A patent/KR102395345B1/ko active Active
- 2010-12-27 KR KR1020177030095A patent/KR101916012B1/ko active Active
- 2010-12-27 KR KR1020187031389A patent/KR102248998B1/ko active Active
- 2010-12-27 KR KR1020227014598A patent/KR102542681B1/ko active Active
- 2010-12-27 KR KR1020177008259A patent/KR101791829B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-27 WO PCT/JP2010/073890 patent/WO2011089849A1/en not_active Ceased
-
2011
- 2011-01-12 TW TW104106255A patent/TWI599185B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-01-12 TW TW100101098A patent/TWI484765B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-01-12 TW TW106120929A patent/TWI656751B/zh active
- 2011-01-13 US US13/005,775 patent/US8830661B2/en active Active
- 2011-01-19 JP JP2011008466A patent/JP5618844B2/ja active Active
-
2014
- 2014-09-04 US US14/477,119 patent/US9740241B2/en active Active
- 2014-09-10 JP JP2014183919A patent/JP5876911B2/ja active Active
-
2016
- 2016-01-21 JP JP2016009356A patent/JP6080990B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-17 JP JP2017006103A patent/JP6280248B2/ja active Active
- 2017-08-17 US US15/679,347 patent/US10845846B2/en active Active
- 2017-11-06 JP JP2017213515A patent/JP2018057261A/ja not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-03-01 JP JP2019037179A patent/JP6661810B2/ja active Active
-
2020
- 2020-02-12 JP JP2020021382A patent/JP6857758B2/ja active Active
- 2020-11-20 US US16/953,511 patent/US11573601B2/en active Active
-
2021
- 2021-03-22 JP JP2021047319A patent/JP2021101612A/ja not_active Withdrawn
-
2022
- 2022-11-07 JP JP2022177834A patent/JP2023027049A/ja not_active Withdrawn
- 2022-12-16 US US18/082,679 patent/US12001241B2/en active Active
-
2024
- 2024-04-25 US US18/645,788 patent/US12416943B2/en active Active
- 2024-09-24 JP JP2024164963A patent/JP7753485B2/ja active Active
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A15-nap-PA0105 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| PA0104 | Divisional application for international application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A18-div-PA0104 St.27 status event code: A-0-1-A10-A16-div-PA0104 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U12-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200227 Year of fee payment: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20210329 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20210329 |