[go: up one dir, main page]

KR0173149B1 - 칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬 - Google Patents

칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬 Download PDF

Info

Publication number
KR0173149B1
KR0173149B1 KR1019940031035A KR19940031035A KR0173149B1 KR 0173149 B1 KR0173149 B1 KR 0173149B1 KR 1019940031035 A KR1019940031035 A KR 1019940031035A KR 19940031035 A KR19940031035 A KR 19940031035A KR 0173149 B1 KR0173149 B1 KR 0173149B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
substrate
resin layer
liquid crystal
exposure
Prior art date
Application number
KR1019940031035A
Other languages
English (en)
Inventor
쇼지 시바
히로시 사또
가쓰히로 시로따
히데또 요꼬이
아끼오 가시와자끼
게이이찌 무라이
다께시 미야자끼
Original Assignee
미따라이 하지메
캐논 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미따라이 하지메, 캐논 가부시끼가이샤 filed Critical 미따라이 하지메
Application granted granted Critical
Publication of KR0173149B1 publication Critical patent/KR0173149B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01—Ink jet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/003—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0045—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using protective coatings or film forming compositions cured by mechanical wave energy, e.g. ultrasonics, cured by electromagnetic radiation or waves, e.g. ultraviolet radiation, electron beams, or cured by magnetic or electric fields, e.g. electric discharge, plasma
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M7/00—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock
    • B41M7/0054—After-treatment of prints, e.g. heating, irradiating, setting of the ink, protection of the printed stock using protective coatings or film forming compositions cured by thermal means, e.g. infrared radiation, heat
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/09—Ink jet technology used for manufacturing optical filters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B41M5/5227—Macromolecular coatings characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. UV-absorbers, plasticisers, surfactants
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B41M5/5254—Macromolecular coatings characterised by the use of polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 및 이 기판 위의 수지층으로 이루어지고, 수지층은 여러 색상의 다수의 착색 부분 및 비착색 부분을 함유하는 것인 칼라 필터, 그 제조 방법, 및 이 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 화합물로 이루어진 액정 판넬을 제공한다.

Description

칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬
제1a도 내지 1f도는 본 발명에 따른 액정용 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도.
제2a도 내지 2f도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도.
제3도는 본 발명의 액정 판넬의 단면도.
제4도는 본 발명의 또다른 액정 판넬의 단면도.
제5a도 내지 5e도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도.
제6a도 내지 6e도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 칼라 필터 기판 2 : 차광부
3 : 수지층 4 : 포토마스크
5 : 잉크 제트 헤드 6 : 보호층
7 : 투광부 8 : 비착색 부분
9 : 칼라 필터 10 : 투명 공통 전극
11 : 배향막 12 : 액정 화합물
13 : 화소 전극 14 : 액정 판넬 기판
15 : 편광판 16 : 백 라이트
본 발명은 칼라 텔레비젼, 퍼스날 컴퓨터 등에 사용될 수 있는 칼라 액정 디스플레이에 적합한 필터, 칼라 필터의 제조 방법, 및 칼라 필터가 설치된 액정 판넬에 관한 것이다. 더 구체적으로 말해서, 본 발명은 잉크 제트 기록 기술을 이용하여 제조한 액정 디스플레이용 칼라 필터, 칼라 필터의 제조 방법 및 칼라 필터가 설치된 액정 판넬에 관한 것이다.
최근 들어, 퍼스날 컴퓨터, 특히 휴대용 퍼스날 컴퓨터가 발전함에 따라 액정 디스플레이, 특히 칼라 액정 디스플레이의 수요가 증가하는 경향이 있다. 그러나, 액정 디스플레이를 더 널리 보급하기 위해서는 그 비용을 낮출 필요가 있으며, 특히 각 디스플레이 비용의 대부분을 차지하는 칼라 필터와 관련하여 그 비용의 감소에 대한 요구가 증가하고 있다. 종래, 칼라 필터의 요구 특성을 충족시키고 상기 수요를 만족시키기 위해 여러가지 다양한 시도를 해왔지만, 모든 요구 특성을 충족시킬 수 있는 방법은 현재까지 확립되지 않았다. 이하 칼라 필터를 제조하기 위한 몇가지 방법을 설명한다.
가장 많이 사용되고 있는 제1방법은 염색법이다. 이 염색법은 유리 기판 위에 염색용 재료인 수성 중합체 재료를 코팅시키고, 그 재료를 사진석판술을 이용하여 목적하는 형위으로 패터닝(patterning)시킨 후, 얻어진 패턴을 염색조에 침지시켜서 착색된 패턴을 얻는 것으로 이루어진다. 이 작업을 3회 반복하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 착색층을 형성시킨다.
일본 특허 출원 공개 제5-288913호는 이러한 염색법의 또다른 예를 기재하고 있는데, 이 방법은 감광층을 형성하고, 이것을 패턴을 통해 노광시키고, 비노광부분을 염색시키는 것으로 이루어지고, 이어서 이 방법을 반복하여 R, G 및 B의 세가지 색상을 갖는 칼라 필터를 제조한다.
제2 방법은 안료 분산법인데, 요즘 이 방법은 상기 염색법으로 대체되고 있다. 안료 분산법은 먼저, 안료가 분산된 감광성 수지층을 기판 위에 형성시킨 후, 수지층을 패터닝시켜서 단색 패턴을 얻는 것으로 이루어진다. 이어서, 이 방법을 3회 반복해서 R, G 및 B의 세가지 색상의 착색층들을 형성시킨다.
제3 방법은 전착법이다. 이 발명은 먼저, 기판 위에 투명 전극을 패터닝시킨 후, 이것을 안료, 수지, 전해질 등을 함유하는 전착 코팅 용액에 침지시켜서 제1 색상을 전착시키는 것으로 이루어진다. 이 방법을 3회 반복해서 R, G 및 B의 착색층들을 형성시키고, 마지막 단계에서 이 층들을 하소시킨다.
제4 방법은 인쇄법이다. 이 방법은 열경화성 수지에 안료를 분산시키고, 인쇄 작업을 3회 반복해서 R, G 및 B 색상을 코팅시킨 후, 착색 수지층을 열경화시켜서 착색층을 얻는 것으로 이루어진다. 이들 각 방법에서는, 착색층 위에 보호층을 형성하는 것이 일반적이다.
이들 방법의 공통점은 R, G 및 B의 세가지 색상을 제공하기 위해 유사한 공정을 3회 반복할 필요가 있다는 것인데, 이는 비용 증가를 초래한다. 또한, 이들 방법은 많은 단계로 이루어져 있기 때문에 수율이 저하된다. 게다가, 전착법의 경우에는 형성 가능한 패턴이 제한되어 있어서, 현재 기술로는 이 방법을 TFT에 적용하기가 어렵다. 인쇄법은 해상성 및 평활성이 불량하다는 단점이 있기 때문에, 파인(fine) 피치(pitch)를 갖는 패턴을 형성하는데는 부적당하다.
이러한 단점을 극복하기 위하여, 잉크 제트 방식을 이용한 칼라 필터 제조 기술이 개발되었고, 이 기술들은 일본 특허 출원 공개 제59-75205호, 동 제63-235901호 및 동 제1-217320호에 기재되어 있다. 그러나, 아직까지 층분히 만족스러운 방법을 얻지 못하였다.
이러한 상황 하에서, 본 발명의 목적은 종래 방법이 갖는 내열성, 내용매성 및 해상성과 같은 필요 특성을 만족시키고 잉크 제트 적합성을 만족시키며 제조공정을 단축시켜서 저렴한 비용으로 칼라 필터를 제조하는 방법: 이 방법에 의해 제조된 신뢰성이 높은 칼라 필터: 및 이 칼라 필터가 설치된 액정 판넬을 제공하는 것이다. 특히, 본 발명의 목적은 잉크 제트 방식을 이용하여 잉크 소적을 토출시켜서 착색제 배열을 수행시킬 때 색상 혼합(color mixing) 및 색상 누락 (color skip)을 방지할 수 있는 정밀도 및 신뢰성이 높은 액정용 칼라 필터; 및 칼라 필터의 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은 후술하는 본 발명에 의해 달성될 수 있다.
제1의 특징으로서, 본 발명은 기판 및 이 기판 위의 수지층으로 이루어지고, 수지층은 여러 색상의 다수의 착색 부분 및 비착색 부분을 함유하는 것인 칼라 필터에 관한 것이다.
제2의 특징으로서, 본 발명은 차광부와 투광부를 갖는 기판 및 이 기판 위의 수지층으로 이루어지고, 차광부 위의 수지층은 착색 부분과 비착색 부분을 갖는 것인 칼라 필터에 관한 것이다.
제3의 특징으로서, 본 발명은 (1) 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 경화해서 층의 잉크 수용성을 감소시킬 수 있는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 수지층의 일부를 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 경화시키는 단계, (3) 수지층의 미경화 부분에 잉크 제트 방식에 의해 착색제를 제공하는 단계, 및 (4)의 수지층을 착색 부분을 광 조사 및(또는) 가열에 의해 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 방식에 의해 기판 위에 착색제를 배열시키는 것으로 이루어진 칼라 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
제4의 특징으로서, 본 발명은 상기 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치의 기판, 및 이 기판과 칼라 필터 기판 사이에 봉입된 액정 화합물로 이루어진 액정 판넬에 관한 것이다.
제5의 특징으로서, 본 발명은 상기 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 배치된 차광부를 갖는 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어진 액정 판넬에 관한 것이다.
제6의 특징으로서, 본 발명은 (1) 잉크 수용성을 가지고, 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 광 조사 부분의 친수성 기의 잔여량이 감소하는 수지 조성물층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 수지층의 일부에 광 조사를 행하거나 또는 광 조사와 가열을 행하는 단계, (3) 수지 조성물층 위의 비조사 부분에 잉크 제트 방식으로 착색제를 제공하는 단계, 및 (4) 수지 조성물층의 착색 부분을 광 조사 및(또는) 가열에 의해 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 방식에 의해 기판 위에 착색제를 배열시키는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
제7도 특징으로서, 본 발명은 투광부를 갖는 기판 및 이 기판 위의 착색된 투광부를 갖는 수지층으로 이루어지고, 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식(I)로 표시되는 구조 단위로 이루어진 단량체의 단독 중합체 및(또는) 이 단량체와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물로 이루어지는 것이 특징인 칼라 필터에 관한 것이다.
제8의 특징으로서, 본 발명은 (1) 잉크 흡수성을 가지고, 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 처리된 조성물 부분의 흡수성이 저하되는 조성물을 함유하는 층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 기판 위의 조성물층의 일부에 광 조사를 수행하거나 또는 광 조사와 열 처리를 수행하여 조사된 부분의 잉크 흡수성을 저하시키는 단계, (3) 잉크 제트 방식을 이용하여 잉크 소적을 토출시켜서 조성물층의 비처리 부분을 착색시키는 단계, 및 (4) 조성물층에 광 조사 및(또는) 열 처리를 수행하여 조성물층을 경화시키는 단계로 이루어지고, 상기 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식 (I)로 표시되는 구조 단위로 이루어지는 단량체의 단독 중합체 및(또는) 이 단량체와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 및 (b) 할로겐화 트리아진 화함물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물로 이루어지는 것인, 잉크 제트 방식에 의해 차광부를 갖는 기판 위에 착색제를 배열시키는 것으로 이루어진 칼라 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
제9의 특징으로서, 본 발명은 제8의 특징으로 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 배열된 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어진 액정 판넬에 관한 것이다.
제10의 특징으로서, 본 발명은 (1) 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 잉크 수용성이 될 수 있는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 기판 위의 수지층을 광 조사에 의해 또는 광조사와 가열에 의해 잉크 수용성이 되게 하는 단계, (3) 수지층의 잉크 수용성 부분에 잉크 제트 방식에 의해 착색제를 제공하는 단계, 및 (4) 수지층의 착색 부분을 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 방식에 의해 투광부를 갖는 기판 위에 착색제를 배열시키는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
제11의 특징으로서, 본 발명은 제10의 특징으로 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터에 관한 것이다.
제12의 특징으로서, 본 발명은 기판 및 이 기판 위의 착색된 투광부를 갖는 수지층으로 이루어지고, 이 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식(V)로 표시되는 구조 단위를 갖는 아크릴 수지 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물로 이루어지는 것이 특징인 칼라 필터에 관한 것이다.
제13의 특징으로서, 본 발명은 (1) 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 층의 처리된 부분에서의 잉크 흡수성을 개선시킬 수 있는 조성물로 이루어지는 층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열처리에 의해 조성물층 부분의 잉크 흡수성을 개선시키는 단계, 및 (3) 잉크 제트 방식을 이용하여 잉크 소적을 토출시켜서 조성물층의 처리된 부분을 착색시키는 단계로 이루어지고, 상기 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식(V)로 표시되는 구조 단위를 갖는 아크릴 수지 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페딜요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물로 이루어지는 것인, 잉크 제트 방식으로 기판 위에 착색제를 배열시키는 것으로 이루어지는 것으로 칼라 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
제14의 특징으로서, 본 발명은 제13의 특징으로 기재된 제조 방법에 의해 제조된 칼라 필터에 관한 것이다.
제15의 특징으로서, 본 발명은 계12의 특징으로 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 배열된 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어지는 액정 판넬에 관한 것이다.
제1a도 내지 1f도는 본 발명에 따른 액정용 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.
제2a도 내지 2f도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.
제3도는 본 발명의 액정 판넬의 단면도이다.
제4도는 본 발명의 또다른 액정 판넬의 단면도이다.
제5a도 내지 5e도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.
제6a도 내지 6e도는 본 발명에 따른 또다른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.
본 발명은 도면과 관련시켜 더 상세히 설명될 것이다.
제1a도 내지 1f도는 본 발명에 따른 칼라 필터의 제조 방법을 나타내는 공정도이고, 이 도면은 본 발명에 따른 칼라 필터의 구성의 일례를 나타낸다.
본 발명에서, 기판으로서는 투광성 기판이 바람직하고, 통상적으로 유리 기판이 사용된다. 그러나, 유리 기판으로 제한되는 것은 아니며, 액정용 칼라 필터가 보유해야 하는 투명성 및 기계 강도와 같은 필요 특성을 갖는 한, 어떤 재료라도 기판으로서 사용될 수 있다.
제1a도는 투광부(7) 및 차광부인 블랙 매트릭스(2)를 갖는 유리 기판(1)을 나타낸다. 먼저, 블랙 매트릭스(2)가 제공된 기판(1) 위에 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 경화해서 층의 잉크 수용성을 감소시킬 수 있는 수지 조성물을 코팅시키고, 이어서, 필요에 따라, 프리베이킹(prebaking)을 수행하여 수지층(3)을 형성시킨다 (제1b도). 수지층(3)을 형성시킬 때는 스핀 코팅, 롤 코팅,바아 코팅, 분무 코팅 또는 침지 코팅을 이용할 수 있지만, 이들 코팅 방법으로 특히 한정되는 것은 아니다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)로 차광시킨 수지층 부분을 먼저 포토마스크(4)를 통해 패턴 노광을 행하여 이 수지층 부분을 경화시켜서, 잉크를 흡수하지 않는 부위 (비착색 부분)(8)을 형성시킨다 (제1c도). 이어서, 동일 층을 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 R, G 및 B 색상으로 착색시키고, 이어서 필요에 따라 잉크를 건조 시킨다.
패턴 노광시킬 때 이용될 수 있는 포토마스크(4)는 블랙 매트릭스로 차광시킬 수지층 부분을 경화시킬 수 있는 개구부를 갖는다. 블랙 매트릭스와 접촉된 수지층 부분에서의 착색제의 색상 누락을 방지하기 위해서는 비교적 다량의 잉크가 잉크 제트 헤드로부터 토출될 필요가 있다. 이러한 목적을 위해서는 직경이 각 블랙 매트릭스의 차광 폭보다 더 작은 개구부를 갖는 마스크를 사용하는 것이 바람직하다.
착색용 잉크로서는 색소계 잉크 및 안료계 잉크를 모두 사용할 수 있고, 또한 액상 잉크 및 고상 잉크를 모두 사용할 수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 경화성 수지 조성물로서는, 잉크 수용성을 가지고, 광 조사, 또는 광 조사와 가열 중 적어도 하나의 처리에 의해 경화될 수 있는 한, 어느 것이라도 사용될 수 있다. 수지의 예로는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 규소 수지, 히드록시프로필 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스 및 카르복시메틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체, 및 이들을 개질시킨 수지가 있다.
광에 의해 또는 광과 열에 의해 수지에 가교 결합 반응을 일으키기 위해서는, 광개시제(가교제)가 사용될 수 있다. 사용 가능한 광개시제의 예로는 중크롬 산염, 비스아지도 화합물, 라디칼 개시제, 양이온계 개시제 및 음이온계 개시제가 있다. 이들 광개시제를 혼합해서 사용하거나, 또는 이들을 다른 증감제와 함께 사용할 수 있다. 게다가, 가교 결합 반응을 가속화시키기 위해서, 광 조사 후 열처리를 수행할 수도 있다.
이들 성분을 함유하는 수지층은 내열성, 내수성 등이 매우 우수하고, 후속 단계에서의 고온 및 세척에 대해서도 충분한 내성을 갖는다.
본 발명에서 사용될 수 있는 잉크 제트 방식으로는, 에너지 발생 소자로서 전기-열 변환기를 이용하는 버블 제트 타입 또는 압전 소자를 이용하는 피에조 제트 타입이 이용될 수 있다. 착색 면적 및 착색 패턴은 임의로 설정할 수 있다.
이 실시 태양에서는, 블랙 매트릭스를 기판 위에 형성시키지만, 불랙 매트릭스를 경화성 수지 조성물층을 형성시킨 후 또는 착색 후에 수지층 위에 형성시키더라도 특별한 문제가 없다. 따라서, 블랙 매트릭스의 구성이 이 실시 태양에 한정되는 것은 아니다. 블랙 매트릭스는 기판 위에 스퍼터링(sputtering) 또는 증착에 의해 금속 박막을 형성시키고, 이어서 막을 사진 석판술에 의해 패터닝시키거나 또는 다른 방법으로서 감광성 블랙수지를 패터닝시킴으로써 제조할 수 있다. 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.
이어서, 광 조사 및(또는) 열 처리를 수행하여 경화성 수지 조성물을 경화시키고(제1e도), 필요에 따라 보호층(6)을 형성시킨다(제1f도). 보호층(6)은 광경화성, 열경화성 또는 광-열경화성 제2 수지 조성물로부터 제조하거나, 또는 무기 재료를 이용하여 증착 또는 스퍼터링에 의해 제조한다. 따라서, 보호층(6)으로서는, 얻어진 칼라 필터의 투명성에 지장을 주지 않고, ITO 형성 단계 및 배향 막 형성 단계와 같은 후속 단계에 대해 층분히 내성을 가질 수 있는 한, 어떤 재료라도 사용될 수 있다.
제2a도 내지 2f도는 대향 기판 위에 블랙 매트릭스가 제공된 액정 판넬에 사용하기 위한 칼라 필터의 제조 방법을 나타낸다.
블랙 매트릭스를 칼라 필터쪽 대신에 대향 기판 위에 제공하는 방법은 개구부 비율을 개선시키는 기술로서 효과적이다.
제2a도에 나타낸 유리 기판(1) 위에 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 저하되는 조성물을 코팅시키고, 이어서, 필요에 따라, 프리베이킹을 수행하여 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 저하되는 조성물층(3)을 형성시킨다(제2b도).
이어서, 포토마스크(4)를 통해 패턴 노광을 수행하여 조성물층(3)의 노광 부분의 잉크 흡수성을 감소시키고(제2c도), 이어서 동일 층의 비노광 부분을 잉크 제트 헤드(5)를 이웅하여 R, G 및 B색상으로 착색시키고(제2d도), 이어서 필요에 따라 건조시킨다. 색상 누락을 방지하기 위해서는, 비착색 부분(8)의 폭이 대향위치의 기판에 제공된 블랙 매트릭스(도시되지 않음)의 폭보다 더 좁아야 하는 것이 중요하다.
이어서, 착색된 수지 조성물층을 광 조사 및(또는) 열 처리에 의해 경화시키고(제2e도), 필요에 따라 보호층(6)을 형성시켜서(제2f도) 칼라 필터를 얻는다.
보호층으로서는, 광경화성, 열경화성 또는 광-열경화성 수지 조성물을 사용하거나, 또는 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 재료를 사용할 수 있다. 따라서, 보호층(6)으로서는, 얻어진 칼라 필터의 투명성에 지장을 주지 않고, ITO 형성 단계 및 배향 막 형성 단계와 같은 후속 단계에 대해 충분한 내성을 갖는 한, 어떤 재료라도 사용할 수 있다.
따라서, 기판 위에 수지층, 다양한 색상을 갖는 다수의 착색 부분 및 비착색 부분을 갖는 칼라 필터가 제조된다.
제3도 및 4도는 본 발명의 칼라 필터가 설치된 TFT 칼라 액정 판넬의 단면도이다. 그러나, 이 실시 태양에 한정되는 것은 아니다.
칼라 액정 판넬은 일반적으로 칼라 필터 기판(1)을 유리 기판(14)와 조합시킨 후, 그 사이에 액정 화합물(12)를 봉입시킴으로써 형성할 수 있다. 액정 판넬의 한 기판(14)의 내측에 TFT(도시되지 않음) 및 투명 화소 전극(13)을 매트릭스 상태로 형성시킨다. 유리 기판(1)의 내측에는 화소 전극의 대향 위치에 R, G 및 B의 색상 재료가 배열되도록 칼라 필터(9)를 설치시키고, 칼라 필터(9) 위의 전면에 투명한 공통 전극(10)을 형성시킨다. 칼라 필터 기판 쪽에 블랙 매트릭스를 형성시키지만(제3도), BM 온-어레이 타입 액정 판넬의 경우에는 블랙 매트릭스를 대향 위치의 TFT 기판 쪽에 형성시킨다(제4도). 게다가, 두 기판의 표면에는 배향 막(11)을 형성시킨 후. 러빙(rubbing) 처리를 하여 액정 분자들을 일정 방향으로 배열시킨다. 또한, 각각의 유리 기판(1) 및 (4)의 외측에 편광판(15)를 부착시키고, 이들 유리 기판 사이의 공간(약 2 내지 5㎛)을 액정 화합물(12)로 충전시킨다. 백 라이트(back light) (16)으로서는, 일반적으로 형광 램프(도시되지 않음)와 산란판(도시되지 않음)을 함께 사용하고, 백 라이트의 투광율을 변화시키는 광 셔터(shutter)로서 액정 화합물을 사용함으로써 디스플레이를 수행한다.
부호(2)는 블랙 매트릭스이고, 부호(3)은 잉크 수용층이고, 부호(6)은 보호층이고, 부호(7)은 착색 부분이고, 부호(8)은 비착색 부분이다.
본 발명의 칼라 필터를 제조하기 위한 또다른 방법에 따르면, 블랙 매트릭스를 형성시킨 기판 위에 잉크 수용성을 가지고 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 광 조사 부분의 친수성 기의 잔여량이 감소되는 수지 조성물층을 코팅시킴으로써, 잉크 수용성을 가지고 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 광 조사 부분의 친수성 기의 잔여량이 감소되는 수지 조성물층을 형성시킨다. 이 방법은 노광 부분과 비노광 부분 사이의 잉크 흡수성 차이를 이용하여 잉크의 색위 혼합 및 과다한 잉크의 확산을 방지하는 것을 목적으로 한다. 이 방법에서는 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 광 조사에 의해 또는 광 조사와 가열에 의해 저하되는 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하고, 즉 히드록시기, 알콕시기 또는 아미노기와 같은 친수성 기를 통해 가교 결합을 일으킬 수 있거나 또는 친수성 기와의 부가 반응을 일으키는 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 이 실시 태양에서는 흡수성이 광 조사에 의해서만 저하되지만, 광 조사와 열 처리를 함께 행하여 가교 결합 반응을 가속화시키더라도 아무런 문제가 없다.
본 발명에서 사용될 수 있는 수지 조성물의 대표적인 예로서는 화학 증폭에 의한 가교 결합 반응을 이용하는 계가 바람직하다. 기재인 수지의 예로는 히드록시프로필 셀룰로오스 및 히드록시에틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체, 폴리비닐알콜 및 그의 유도체와 같은 고분자량 알콜, 크레졸-노볼락 및 그의 유도체와 같은 노볼락 수지, 및 히드록시에틸 메타크릴레이트와 같은 히드록시기를 갖는 아크릴 단량체를 함유하는 아크릴 수지가 있다. 가교 결합제의 일례로는 메틸올 멜라민과 같은 멜라민 유도체를 들 수 있고. 광개시제의 예로는 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트와 같은 오늄 염 및 트리클로로메틸트리아진과 같은 할로겐화 유기 화합물을 들 수 있다. 그러나, 이러한 예에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용될 수 있는 특히 바람직한 수지 조성물은 적어도 (a) 하기 일반식(I)의 구조 단위로 이루어진 단량체의 단독 중합체 및(또는) 이 단량체와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물로 이루어진다.
할로겐화 트리아진 화합물의 예로는 하기 일반식(II)의 화합물이 있다.
디페닐요오도늄염 유도체로는 하기 일반식(III)의 화합물을 들 수 있다.
디페닐요오도늄염 유도체의 바람직한 예는 광개시제로서의 기능을 가지는 것이고, 이들의 대표적인 예로는 디페닐요오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오도늄 테트라플루오로보레이트, 디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄 트리플레이트 및 이들의 유도체를 들 수 있지만, 물론 이들에 한정되는 것은 아니다.
트리페닐술포늄염 유도체로는 하기 일반식(IV)의 화합물을 들 수 있다.
트리페닐술포늄염 유도체의 바람직한 예는 광개시제로서의 기능을 가지는 것이고, 이들의 대표적인 예로는 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 테트라플루오로보레이트, 트리페닐술포늄 헥사플루오로포세이트, 트리페닐술포늄 트리플레이트 및 이들의 유도체를 들 수 있지만, 물론 이들에 한정되는 것은 아니다.
화합물 (a)와 (b)사이의 비는, 화합물(a)인 단독 중합체 100 중량부에 대하여 화합물(b)의 양이 0.01 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부이다.
상기 단독 중합체의 분자량은 102내지 107인 것이 바람직하다. 이러한 종류의 수지를 사용하면, 조사 부분과 비조사 부분 사이의 잉크 흡수성이 명확하게 차이가 나게 되고, 이로 인해 잉크의 색상 혼합을 방지할 수 있다.
먼저, 블랙 매트릭스로 차광시킨 부분의 코팅 재료를 패턴 노광시키고(제1c도), 이어서 잉크 제트 헤드(5)를 사용해서 R, G 및 B 색상을 착색시킨다(제1c도). 이어서, 필요에 따라, 잉크를 건조시킨다. 노광 부분에서는, 히드록시기, 알콕시기 또는 아미노기와 같은 친수성 기의 잔여량이 반응이 진행함에 따라 감소하므로, 노광 부분은 잉크를 거의 흡수하지 않게 되고, 이로 인해 여러 색상 잉크의 색상 혼합이 방지될 수 있다. 잉크 흡수성이 차이가 나게 하기 위해서는 노광부분에서의 친수성 기의 잔여량을 비노광 부분에서의 친수성 기의 양의 70% 이하로 감소시키는 것이 바람직하다. 이 경우, 친수성 기의 정량 분석 기술로서는 IR, NMR 등을 이용하는 스펙트럼 분석이 효과적이다. 패턴 노광시에 사용될 수 있는 포토마스크는 블랙 매트릭스로 차광시킨 부분을 노광시키기 위한 개구부를 갖는다. 이 경우, 블랙 매트릭스와 접촉된 부분에서의 색상 누락을 방지하기 위해서는 다량의 잉크를 토출시킬 필요가 있다는 사실에 비추어 볼 때, 직경이 블랙 매트릭스로 차광시킨 부분의 폭보다 더 작은 개구부가 제공된 마스크를 사용하는 것이 바람직하다.
이어서, 광 조사, 열 처리, 또는 광 조사와 열 처리를 수행하여 착색된 코팅재료를 경화시키고(제1e도), 이어서 필요에 따라 보호층을 형성시킨다(제1f도).
보호층으로서는 광경화성, 열경화성 또는 광-열경화성 수지 재료를 사용하거나, 또는 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 필름을 사용할 수 있다. 따라서, 보호층으로서는, 얻어진 칼라 필터의 투명성에 지장을 주지 않고 ITO 형성 단계 및 배향 막 형성 단계와 같은 후속 단계에 대해 충분한 내성을 가질 수 있는 한, 어떤 재료라도 사용될 수 있다.
상기 구성은 제1도에 기재되어 있지만, 물론 이 구성은 제2도의 칼라 필터 제조 방법에도 응용할 수 있다.
상기에서는 수지층을 광으로 또는 광과 열로 경화시키는 방법을 설명하였지만, 다음에서는 수지층이 광에 의해 또는 광과 열에 의해 잉크 수용성이 되게 하는 방법을 설명한다.
제5a도는 차광부(2)인 블랙 매트릭스를 갖는 유리 기판을 나타낸다. 먼저, 블랙 매트릭스가 제공된 기판 위에 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 개선될 수 있는 조성물은 코팅시키고, 이어서 필요에 따라 프리베이킹을 수행하여 수지층(3)을 형성시킨다(제5b도).
이 조성물층을 형성시킬 때는 스핀 코팅, 롤 코팅, 바아 코팅, 분무 코팅 또는 침지 코팅과 같은 코팅 방법을 이용할 수 있지만, 이 코팅 방법에 특히 한정되는 것은 아니다. 이 경우, 페릴렌, 안트라센 또는 페노티아진과 같은 화합물을 감광제로서 조성물층에 첨가할 수 있다.
이어서, 기판의 하부측에 광 조사시키고, 이 때 조성물층을 마스크로서 블랙 매트릭스를 통해 패턴 노광시켜서 조성물층의 조사 부분의 잉크 흡수성을 개선시킨다(제5c도). 이어서, 조사 부분인 개구부를 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 R, G 및 B색상으로 착색시키고(제5d도), 이어서 필요에 따라 잉크를 건조시킨다.
칼라 필터의 색상 누락을 방지하기 위해서는 블랙 매트릭스의 개구부보다 더 넓은 면적을 갖는 조성물층 부분을 착색시키는 것이 바람직하고, 이와 같이 착색 시키기 위해서는 마스크인 블랙 매트릭스보다 더 넓은 면적을 갖는 조성물층 부분이 반응에 참여하는 것이 필요하다. 이러한 반응을 일으키기 위해서는, 몇 가지 수단이 효과적이고, 예를 들면, 노광시에 조사광으로서 산광을 사용할 수 있거나, 다량의 에너지를 조사할 수 있거나, 또는 노광 후 장기간 열 처리하여 반응을 확산시킬 수 있다. 이 실시 태양에서는 마스크로서 블랙 매트릭스를 사용하여 패턴 노광을 수행하는 예를 기재하고 있지만, 패턴 노광은 다른 포토마스크를 사용하여 수지 조성물층의 상부측에 수행할 수도 있다.
제6a도 내지 6e도는 대향 기판 위에 블랙 매트릭스를 형성시킨 액정 판넬용 칼라 필터의 제조 방법을 나타낸다.
블랙 매트리스를 칼라 필터 쪽 대신에 대향 위치의 기판 위에 제공시키는 방법은 개구부 비율을 개선시키는 기술로서 효과적이다.
제6a도에 나타낸 유리 기판(1) 위에 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 개선될 수 있는 조성물을 코팅시키고, 이어서 필요에 따라 프리베이킹을 수행하여 조성물층(3)을 형성시킨다(제6b도).
이어서, 패턴 노광을 포토마스크(4)를 통해서 수행하여 조성물층(3)의 노광부분의 잉크 흡수성을 개선시키고(제6c도), 층의 노광 부분을 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 R, G 및 B 색위으로 착색시키고(제6d도), 이어서 필요에 따라 건조시킨다. 색상 누락을 방지하기 위해서는 비착색 부분(8)의 폭이 대향 기판 상에 제공된 블랙 매트릭스(도시되지 않음)의 폭보다 더 좁아야 하는 것이 중요하다.
잉크 수용성이 될 수 있는 본 발명에 사용되는 수지 조성물은 본래는 잉크 수용성이 불량하지만, 일정 조건 하에서 광 조사, 또는 광 조사와 열 처리 중의 어느 하나에 의해 잉크 수용성이 될 수 있다. 일정 조건 하에서 경화될 수 있는 한, 어떤 재료라도 사용할 수 있고, 이러한 수지의 예로는 크레졸-노볼락, 폴리파라히드록시스티렌 및 그의 유도체(여기서, 히드록시기는 트리메틸실릴기로 봉쇄됨)와 같은 노볼락 수지, 히드록시프로필 셀룰로오스, 히드록시에틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스 및 카르복시메틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체(여기서, 히드록시기는 에스테르화되거나 또는 아세틸기 등으로 봉쇄됨)를 들 수 있다.
광에 의해 또는 광과 열에 의해 반응을 가속화시킬 수 있는 광개시제로서 적합하게 사용될 수 있는 예는 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트와 같은 오늄 염, 트리클로로메틸트리아진, 나프토퀴논디아지드 및 이들의 유도체와 같은 할로겐화 유기 화합물이다.
본 발명에서 사용될 수 있는 륵히 바람직한 수지 조성물은 적어도 (a) 하기 일반식 (V)의 구조 단위를 갖는 아크릴 수지 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 광개시제 화합물로 이루어진다.
상기 일반식(V)의 구조 단위를 갖는 아크릴 수지(a)는 광 조사에 의해 광개시제로부터 형성된 양이온에 의해 에테르 결합을 가수 분해시켜서 히드록시기를 생성하는 것이 바람직하다. 아크릴 수지의 태표적인 예는 다음과 같다.
이 수지의 분자량은 102내지 107인 것이 바람직하다. 이러한 종류의 수지를 사용하면 조사 부분과 비조사 부분 사이의 잉크 흡수성이 명확하게 차이가 나게 되고, 이로 인해 잉크의 색상 혼합을 방지할 수 있다.
화합물(b)에 있어서, 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리테닐술포늄염 유도체의 사용 가능한 예는 상기한 바와 같다.
화합물 (a) 및 (b) 사이의 비는, 화합물(a)인 아크릴 수지 100 중량부에 대하여 화합물(b)의 양이 0.01 내지 10중량부, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부이다.
이러한 성분으로 이루어진 수지층의 노광 부분에서는 히드록시기의 양이 반응이 진행함에 따라 증가하므로, 이 부분은 잉크를 흡수하기가 쉬어지게 된다.
따라서, 수지층을 착색시킬 때, 잉크의 색상 혼합을 방지할 수 있다.
수지의 잉크 흡수성을 개선시키기 위해서는 수지의 친수성기 전환율이 30% 이상인 것이 바람직하다. 이러한 친수성 기에 대한 정량 분석 기술로서는 IR, NMR등을 이용하는 스펙트럼 분석이 효과적이다.
이러한 성분들로 이루어지는 수지층은 내열성, 내수성 등이 매우 우수하고, 후속 단계에서의 고온 및 세척에 대해서도 충분한 내성을 갖는다.
이어서, 필요에 따라, 보호층(6)을 형성시켜서(제5e도 및 6e도), 칼라 필터를 얻는다. 보호층으로서는 광경화성, 열경화성 또는 광-열경화성 수지 재료를 사용하거나, 또는 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 필름을 사용할 수 있다. 따라서, 보호층으로서는, 얻어진 칼라 필터의 투명성에 지장을 주지 않고, ITO 형성 단계 및 배향 막 형성 단계와 같은 후속 단계에 대해 충분한 내성을 가질 수 있는 한, 어떤 재료라도 사용할 수 있다.
이어서, 본 발명을 실시예와 관련시켜서 상세히 설명하지만, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 실시예에서 % 표시는 다른 언급이 없는 한 중량%를 나타낸다.
[실시예 1]
제1a도에 나타낸 바와 같이, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 플리비닐피롤리돈 및 비스아지도 화합물(광개시제)로 이루어진 수용성 네가형 레지스트를 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 광경화성 수지층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스 위의 수지층의 일부를 패턴 노광시켜 경화시켰다.
다시, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색한 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서 전면 노광을 행하여 수지층(3)을 경화시켰다.
[실시예 2]
실시예 1에 따라 착색된 수지층(3)에 에폭시 아크릴레이트 및 광개시제로 이루어진 광경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다. 이어서, 전면 노광을 행하여 보호층(6)을 경화시켜 액정용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 3]
실시예 1에 따라 얻은 수지층(3)에 2액형 에폭시 아크릴레이트 기재 열경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 롤 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다. 이어서, 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판델을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 4]
실시예 1에 따라 착색된 수지층(3)에 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 광양이온계 개시제로 이루어진 광경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다.
이어서, 전면 노광을 행한 다음 230℃에서 30분 동안 열 처리를 행하여 보호층(6)을 완전히 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 5]
실시예 1에 따라 착색된 수지층(3) 위에 스퍼터링으로 SiO2막(6)을 막 두께가 0.5㎛가 되도록 형성시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이링게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 6]
블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 광양이온계 개시제로 이루어진 광경화성 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 광경화성 수지 조성물층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스 상의 수지층의 일부를 패턴 노광시키고, 120℃에서 10분 동안 열처리를 행하여 경화시켰다. 다시, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 안료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색한 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 전면 노광을 행한 후 200℃에서 60분 동안 열처리를 행하여 수지층(3)을 완전히 경화시켰다.
[실시예 7]
실시예 6에 따라 착색된 수지층(3)에 에폭시 아크릴레이트 및 광개시제로 이루어진 광경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다. 이어서, 전면 노광을 행하여 보호충(5)을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 8]
실시예 6에 따라 착색된 수지층(3)에 2액형 열경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다. 이어서, 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 9]
실시예 6에 따라 착색된 수지충(3)에 실시예 6에서 사용한 것과 동일한 광경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 보호층(6)을 형성시켰다. 이어서, 전면 노광을 행한 다음 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 완전히 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 10]
실시예 6에 따라 착색된 수지층(3) 위에 스퍼터링으로 SiO2막(6)을 막 두께가 0.5㎛가 되도록 형성시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 11]
히드록시프로필 셀룰로오스(Nippon Soda Co.,Ltd.제품, HPC-H) 5 g, 메틸올 멜라민 유도체(Sumitomo Chemicals Inc.제품, Sumitex M-3) 5 g 및 양이온계 광개시제(Adeca Co., Ltd.제품, SP-170) 0,25 g으로 이루어지고, 수성 잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 수지 조성물을 규소 기판 상에 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하였다. 이어서, 1 J/cm2의 노광량으로 전면 노광을 행한 후 FT-IR (Nippon Bunko Kogyo Co., Ltd.제품, Micro FTIR-100)을 사용하여 반사 모드로 적외선 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이렇게 측정한 적외선 흡수 스펙트럼을 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 검사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 70%로 감소하였다.
이어서, 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하였다.
그 후, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 생성된 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시켜 수지층의 일부를 경화시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 수지층의 비노광 부분을 착색하여 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서 전면 노광을 행하였다.
이어서, 수지층에 보호층으로서 2액형 열경화성 수지 55-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 12]
규소 기판에 실시예 11에서와 전적으로 동일한 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하였다. 이어서, 1 J/cm2의 노광량으로 전면 노광을 행한 후 150℃의 열판 상에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 그 후, 실시예 11에서와 동일한 방법으로 노광 전과 후의 히드록시기 잔여량을 비교한 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 50 %로 감소된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 유리 기판에 상기 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지 조성물층(3)을 형성시켰다.
그 후, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시킨 후 150℃의 열판상에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, C 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 전면 노광에 이어 200℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층을 경화시켰다.
이어서, 수지층에 보호층으로서 2액형 열경화성 수지 55-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 13]
블랙 매트릭스가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 실시예 11에서와 전적으로 동일한 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지 조성물 층을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시킨 후 150℃의 열판 상에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 안료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층을 경화시켰다.
그 후, 수지층에 보호층으로서 2액형 열경화성 수지 55-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 14]
히드록시에틸 셀룰로오스(Fuji Chemical Co,, Ltd.제품, AH-15) 5 g, 메틸올 멜라민 유도체(Sumitomo Chemicals Inc.제품, Sumitex M-3)5g 및 1-나프틸-비스-트리클로로메틸-5-트리아진 0.25 g으로 이루어지고, 수성 잉크 홉수성을 가지며, 광 조사에 의해 또는 광 조사와 열 처리에 의해 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 수지 조성물을 사용하여 실시예 11에서와 같이 샘플을 제조한 후 적외선 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이렇게 측정한 적외선 흡수 스펙트럼을 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 검사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 65 %로 감소된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하였다.
그 후, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 생성된 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시켜 수지층(3)의 일부를 경화시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 수지층의 비노광 부분을 착색하여 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 전면 노광을 행하여 수지층을 경화시켰다.
이어서, 수지층에 보호층(6)으로서 2액형 열경화성 수지 SS-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 15]
실시예 14와 동일한 수지 조성물을 사용하고, 실시예 12와 전적으로 동일한 방법으로 전면 노광 및 열처리를 행하였다. 또한, 적외선 흡수 스펙트럼을 측정한 다음 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 검사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 48 %로 감소된 것이 확인되었다.
이어서. 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지 조성물층(3)을 형성시켰다.
그 후, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스 상의 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시킨 후, 150℃의 열판 상에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃ 에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 전면 노광에 이어 200℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층을 경화시켰다.
이어서, 수지층에 보호층(6)으로서 2액형 열경화성 수지 SS-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 16]
블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 실시예 14에서와 동일한 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지 조성물층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 수지층의 일부를 1 J/cm2의 노광량으로 패턴 노광시킨 후 150℃의 열판 상에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 안료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층을 경화시켰다.
이어서, 수지층에 보호층(6)으로서 2액형 열경화성 수지 SS-7625(JSR제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 17]
히드록시에틸 메타크릴레이트-메틸 메타크릴레이트 공중합체 5 g, 메틸올 멜라민 유도체(Sumitomo Chemicals Inc.제품, Sumitex M-3) 5 g 및 양이온계 광개시제(Adeca Co., Ltd.제품, SP-170) 0.25 g으로 이루어지고, 수성 잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 수지 조성물을 사용하여 실시예 11에서와 전적으로 동일한 방법으로 샘플을 제조하였다. 이어서, 적외선 흡수 스펙트럼을 측정한 다음 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 조사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 40 %로 감소된 것이 확인되었다.
이어서, 실시예 11에서와 전적으로 동일한 방법으로 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조한 다음 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 18]
히드록시프로필 셀룰로오스(Nippon Soda Co.,Ltd.제품, HPC-H) 5 g, 디메틸올우레아(Mitsui Toatsu Chemicals Inc. 제품, T-251)5g 및 양이온계 광개시제(Adeca Co., Ltd.제품, SP-170) 0.25 g으로 이루어지고, 수성 잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 수지 조성물을 사용하여 실시예 11에서와 전적으로 동일한 방법으로 샘플을 제조하였다. 이어서, 적외선 흡수 스펙트럼을 측정한 다음 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 조사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 60 %로 감소된 것이 확인되었다.
이어서, 실시예 11에서와 전적으로 동일한 방법으로 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조한 다음 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 19]
제2도에 나타낸 바와 같이, 유리 기판(1)에 실시예 1, 6 및 11의 각 조성물을 코팅시켜 수지 조성물층(3)을 형성시켰다. 이어서, 포토마스크(4)를 통하여 수지층(3) 쪽에 패턴 노광을 행하여 수지의 노광 부분의 잉크 흡수성을 저하시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 노광 부분을 착색시켜 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 다음 각 실시예에서와 동일한 조건 하에서 열처리를 행하였다.
이어서, 실시예 2에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제4도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 20]
(a) N-메틸올아크릴아미드, 메틸 메타크릴레이트 및 히드록시에틸 메타크릴레이트의 3성분 공중합체 10 중량부 및 (b) 하기 구조식의 할로겐화 트리아진 화합물(Midori Chemical Co., Ltd.제품, TAZ-101) 0.5 중량부로 이루어지고, 수성잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 홉수성이 저하되는 조성물을 제조하였다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 조성물을 스핀 코팅시키고, 50℃에서 10분 동안 프리베이킹을 행하여 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 조성물층(3)을 형성시켰다. 이 때, 층(3)의 두께는 1㎛이었다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스(2) 상의 수지층(3) 부분을 패턴 노광시켜 노광 부분의 잉크 흡수성을 저하시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다.
이어서, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층을 경화시켜 본 발명에 따른 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 21 내지 29]
표 1에 나타낸 각 조성물을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 20에서와 동일한 방법을 행하여 본 발명에 따른 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 20과 동일한 효과가 확인되었다.
[실시예 30]
실시예 20에서 얻은 착색충(3)에 2액형 열경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 제2 수지층(6)을 형성시켰다. 이어서, 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 제2 수지층을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 31]
(a) N-메틸올아크릴아미드, 메틸 메타크릴레이트 및 히드록시에틸 메타크릴레이트의 3성분 공중합체 10중량부 및 (b) 트리페닐술포늄 트리플레이트 (Midori Chemical Co., Ltd.제품, TPS-105) 0.2중량부로 이루어지고, 수성 잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 조성물을 제조하였다. 이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 조성물을 스핀 코팅시키고, 60℃에서 10분 동안 프리베이킹을 행하여 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 조성물층(3)을 형성시켰다. 이 때, 층 두께는 1㎛이었다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스 상의 수지층 부분을 패턴 노광시켜 노광 부분의 잉크 흡수성을 저하시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 착색 수지층을 경화시켜 본 발명에 따른 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 32 내지 40]
표 2에 나타낸 각 조성물을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 31에서와 동일한 방법을 행하여 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 31과 동일한 효과가 확인되었다.
[실시예 41]
실시예 31에서 얻은 착색충(3)에 2액형 열경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 제2 수지층(6)을 형성시켰다. 이어서, 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 제2 수지층을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 42]
(a) N-메틸올아크릴아미드, 메틸 메타크릴레이트 및 히드록시에틸 메타크릴레이트의 3성분 공중합체 10중량부 및 (b) 디페닐요오도늄 트리플레이트 (Midori Chemical Co., Ltd.제품, DPI-105) 0.2중량부로 이루어지고, 수성 잉크 흡수성을 가지며, 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 수지 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 조성물을 제조하였다. 이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 조성물을 스핀 코팅시키고, 50 ℃에서 10분 동안 프리베이킹을 행하여 광 조사에 의하여 또는 광 조사와 열처리에 의하여 조성물의 광 조사 부분의 잉크 흡수성이 저하되는 조성물층(3)을 형성시켰다. 이 때, 층 두께는 1㎛이었다.
이어서, 블랙 매트릭스의 폭보다 작은 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 블랙 매트릭스 상의 수지층의 일부를 패턴 노광시켜 노광 부분의 잉크흡수성을 저하시켰다. 또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 염료 잉크로 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 착색시킨 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 착색 수지층을 경화시켜 본 발명에 따른 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 43 내지 51]
표 3에 나타낸 각 조성물을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 42에서와 동일한 방법을 행하여 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 42와 동일한 효과가 확인되었다.
[실시예 52]
실시예 42에서 얻은 착색층(3)에 2액형 열경화성 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 제2 수지층(6)을 형성시켰다. 이어서, 230℃에서 30분 동안 열처리를 행하여 제2수지층을 경화시켜 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 53]
트리메틸실릴기로 보호된 히드록시기를 갖는 폴리파라히드록시스티렌 5 g 및 양이온계 광개시제(Adeca Co., Ltd.제품, SP-170) 0.5 g을 에틸 셀로솔브 아세테이트 250 g에 용해시켜 본 발명에 사용할 수 있는 수지 조성물을 제조하였다.
유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 막 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 100℃에서 15분 동안 프리베이킹을 행하였다. 이어서, 1.5 J/cm 의 노광량으로 전면 노광을 행한 후 FT-IR (Nippon Bunko Kogyo Co., Ltd. 제품, Micro FTIR-100)을 사용하여 반사 모드로 적외선 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이렇게 측정한 적외선 흡수 스펙트럼을 노광 전의 스펙트럼과 비교하여 히드록시기 잔여량을 조사하였다. 그 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 700 %로 증가된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 막 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 100℃에서 15분 동안 프리베이킹을 행하였다.
그 후, 투광부의 폭보다 큰 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 투광부(부분적으로 블랙 매트릭스 위에 수지를 함유함) 상의 생성된 수지층의 일부를 1.5 J/cm 의 노광량으로 패턴 노광시켜 수지층을 잉크 허용성으로 만들었다.
또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 pH 9의 염료 잉크로 수지층의 잉크 허용성 부분을 착색하여 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서 200℃에서 60분 동안 열처리를 행하여 수지층(3)을 경화시켰다.
이어서, 수지층(3)에 보호층(6)으로서 2액형 열경화성 수지 SS-7625(JSR 제품)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 230℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 보호층(6)을 경화시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 54]
규소 기판에 실시예 53에서 제조한 수지 조성물을 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 100℃에서 15분 동안 프리베이킹을 행하였다. 이어서, 1.5J/cm 의 노광량으로 전면 노광을 행한 후 150℃의 열판에서 1분 동안 열처리를 행하였다. 그 후, 실시예 53에서와 동일한 방법으로 노광 전과 후의 히드록시기 잔여량을 비교한 결과, 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 500%로 증가된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 층 두께가 2㎛가 되도록 스핀 코팅시키고, 100℃에서 15분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
그 후, 투과부의 폭보다 큰 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 투광부 (블랙 매트릭스 위에 수지를 부분적으로 함유함) 위의 생성된 수지층의 일부를 1.5 J/cm 의 노광량으로 패턴 노광시킨 후 150℃의 열판에서 1분 동안 열처리를 행하여 수지층을 잉크 수용성으로 만들었다.
또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 pH 9.5의 염료 잉크로 수지층의 잉크 수용성 부분을 착색하여 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 200℃에서 1시간 동안 열처리를 행하여 수지층(3)을 경화시키고, 실시예 53에서와 동일한 방법으로 수지층(3) 위에 보호층(6)을 추가로 형성시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용하는 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 55]
제5a도 내지 5e도에 나타낸 바와 같이, 포토마스크로서 블랙 매트릭스를 이용하여 기판(1) 쪽에 노광을 행하는 것을 제와하고는 실시예 54에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 56]
셀룰로오스 트리아세테이트 5 g 및 1-나프틸-비스-트리클로로메틸-β -트리아진 0.7 g을 클로로포름 250 g중에 용해시켜서, 본 발명에서 사용될 수 있는 수지조성물을 제조하였다.
그 후, 실시예 53에서와 동일한 방법으로 노광 전과 후의 히드록시기 잔여량을 비교한 결과, 노광 후의 히드록시기 잔여량은 노광 전의 히드록시기 잔여량의 500 %로 증가된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 층 두께가 2㎛가 되도록 롤 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
그 후, 투광부 (블랙 매트릭스 위에 수지를 부분적으로 함유함)의 폭보다 큰 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 투광부 위의 수지층의 일부를 1J/cm 의 노광량으로 패턴 노광시킨 후 수지층이 잉크 수용성이 되게 하였다.
또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 pH 8.5의 염료 잉크로 수지층의 잉크 수용성 부분을 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 200℃에서 60 분 동안 열처리를 행하여 수지층(3)을 경화시켰다.
이어서, 수지층(3)에 실시예 53과 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 57]
실시예 56에서 제조된 수지 조성물에 대해서, 실시예 54에서와 동일한 방법으로 노광 전과 후의 히드록시기 양을 비교한 결과, 노광 후의 히드록시기 양은 노광 전의 히드록시기 양의 600 %로 증가된 것이 확인되었다.
이어서, 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1)에 상기 수지 조성물을 층 두께가 2㎛가 되도록 롤 코팅시키고, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
그 후, 투광부 (블랙 매트릭스 위에 수지를 부분적으로 함유함)의 폭보다 큰 직경을 갖는 개구부를 갖는 포토마스크를 통해 투광부 위의 수지층의 일부를 1J/cm 의 노광량으로 패턴 노광시킨 후, 열판 상에서 150℃에서 1분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층이 잉크 수응성이 되게 하였다.
또한, 잉크 제트 헤드(5)를 사용하여 pH 9.3의 염료 잉크로 수지층의 잉크 수용성 부분을 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 얻은 후, 90℃에서 5분 동안 잉크를 건조시켰다. 이어서, 전면 노광에 이어 200℃에서 60 분 동안 열처리를 행하여 수지층(3)을 경화시켰다.
이어서, 수지층(3)에 실시예 54와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켰다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 58]
제5a도 내지 5e도에 나타낸 바와 같이, 포토마스크로서 블랙 매트릭스를 이용하여 기판(1) 쪽에 노광을 행하는 것을 제외하고는, 실시예 57에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
[실시예 59]
잉크로서 pH 9.1의 안료 잉크를 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 57에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 갈은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 60]
제5도에 나타낸 바와 같이, (a) 폴리페녹시에틸 메타크릴레이트 (분자량=12,000) 10 중량부 및 (b) 하기 구조식의 할로겐화 트리아진 화합물(Midori Chemical Co., Ltd. 제품, 상품명: TAZ-110) 0.5 중량부로 이루어진 수지 조성물을 충 두께가 2㎛가 되도록 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1) 상에 스핀 코팅시킨 후, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스(2) 상의 수지 조성물의 일부가 광 조사되도록 기판(1) 쪽에 전면 패턴 노광을 행한 후, 110℃에서 60초 동안 열처리를 행하였다.
그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 수지 조성물층(3)의 개구부를 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃에서 5분 동안 및 200 ℃에서 30 분 동안 열 처리를 행하였다.
이어서, 수지층(3) 상에 보호층(6)으로서 2액형 열경화성 수지(Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 제품, 상품명 Optomer 55-6688)를 층 두께가 1㎛가 되도록 스핀 코팅시킨 후, 90℃에서 30분 동안 프리베이킹을 행하여 제2 수지층(6)을 형성시키고, 이어서 230℃에서 30 분 동안 열 처리를 행하여 제2 수지층을 경화시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 61 내지 63]
각각 표 4에 나타낸 조성물을 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 60에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 60에서와 동일한 효과가 관찰되었다.
[실시예 64]
제5도에 나타낸 바와 같이, (a) 폴리페녹시에틸 메타크릴레이트 (분자량=12,000) 10 중량부 및 (b) 하기 구조식의 디페닐요오도늄염(Midori Chemical Co., Ltd. 제품, 상품명: DPI-105) 0.2중량부로 이루어진 수지 조성물을 층 두께가 2㎛가 되도록 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1) 상에 스핀 코팅시킨 후, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스(2) 상의 수지 조성물의 일부가 광 조사되도록 기판(1) 쪽에 전면 패턴 노광을 행한 후, 110℃에서 60초 동안 열처리를 행하였다.
그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 수지 조성물층의 개구부를 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃에서 5분 동안 및 200℃에서 30 분 동안 열 처리를 행하였다.
또한, 실시예 60에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다. 이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 65 내지 67]
각각 표 5에 나타낸 조성물을 사용하는 것을 제외하고는, 실시예 64에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 64에서와 동일한 효과가 관찰되었다.
[실시예 68]
제5도에 나타낸 바와 같이, (a) 폴리페녹시에틸 메타크릴레이트 (분자량=12,000) 10 중량부 및 (b) 하기 구조식의 트리페닐술포늄염(Midori Chemical Co., Ltd. 제품, 상품명: TPS-105) 0.2중량부로 이루어진 수지 조성물을 층 두께가 2㎛가 되도록 블랙 매트릭스(2)가 형성되어 있는 유리 기판(1) 상에 스핀 코팅시킨 후, 90℃에서 20분 동안 프리베이킹을 행하여 수지층(3)을 형성시켰다.
이어서, 블랙 매트릭스(2) 상의 수지 조성물의 일부가 광 조사되도록 기판(1) 쪽에 전면 패턴 노광을 행한 후, 110℃에서 60초 동안 열처리를 행하였다.
그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 수지 조성물층의 개구부를 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃에서 5분 동안 및 200℃에서 30 분 동안 열 처리를 행하였다.
또한, 실시예 60에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제3도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 69 내지 71]
각각 표 6에 나타낸 조성물을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 68에 기재된 방법과 동일한 방법으로 수행하여 칼라 필터를 제조하였다. 그 결과, 실시예 68 에서와 동일한 효과가 관찰되었다.
[실시예 72]
제6도에 나타낸 바와 같이, 유리 기판 (1) 상에 실시예 60에 기재된 조성물을 코팅시켜서 수지층(3)을 형성시켰다. 이어서, 포토마스크(4)를 통해 수지층(3) 쪽에 패턴 노광을 행하여 수지의 노광 부분의 잉크 흡수성을 개선시켰다. 그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 노광 부분을 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃ 에서 5분 동안 및 200℃에서 30 분 동안 열 처리를 행하였다.
또한, 실시예 60에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제4도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 73]
제6도에 나타낸 바와 같이, 유리 기판 (1) 상에 실시예 64에 기재된 조성물을 코팅시켜서 수지 조성물층(3)을 형성시켰다. 이어서, 포토마스크(4)를 통해 수지층(3) 쪽에 패턴 노광을 행하여 수지의 노광 부분의 잉크 흡수성을 개선시켰다. 그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 노광 부분을 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃에서 5분 동안 및 200℃에서 30분 동안 열 처리를 행하였다.
또한, 실시예 60에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제4도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
[실시예 74]
제6도에 나타낸 바와 같이, 유리 기판 (1) 상에 실시예 68에 기재된 조성물을 코팅시켜서 수지 조성물층(3)을 형성시켰다. 이어서, 포토마스크(4)를 통해 수지층(3) 쪽에 패턴 노광을 행하여 수지의 노광 부분의 잉크 흡수성을 개선시켰다. 그 후, 잉크 제트 헤드(5)를 이용하여 염료 잉크로 노광 부분을 착색시켜서 R, G 및 B의 매트릭스 패턴을 형성시킨 후, 90℃에서 5분 동안 및 200℃에서 30분 동안 열 처리를 행하였다.
또한, 실시예 60에서와 동일한 방법으로 보호층(6)을 형성시켜서, 액정 디스플레이용 칼라 필터를 제조하였다.
이렇게 제조된 액정 디스플레이용 칼라 필터를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함은 관찰되지 않았다.
이 칼라 필터를 사용하여 제4도에 나타낸 바와 같은 액정 판넬을 제조하였으며, 이 판넬을 사용한 장치를 구동시켰을 때 고도로 선명한 칼라 디스플레이가 가능하였다.
본 발명에 따르면, 색상 혼합, 색상 불균일 및 색상 누락과 같은 결함이 없는 신뢰성이 높은 액정 디스플레이용 칼라 필터, 및 고도로 선명한 칼라 디스플레이를 가능하게 하는 액정 판넬을 제공할 수 있다.
본 명세서에서는 본 발명을 바람직한 실시 태양과 관련시켜서 설명하였지만, 본 발명은 기재된 실시 태양에 한정되는 것은 아니라는 것을 이해해야 한다. 이와 반대로, 본 발명은 첨부된 특허 청구의 범위의 정신 및 범주에 포함되는 여러가지 변형 및 균등 배열을 망라하는 것을 목적으로 한다. 다음 특허 청구 범위의 범주는 이러한 모든 변형 및 균등 구조 및 기능을 포함할 수 있도록 최대로 넓게 해석하여야 한다.

Claims (79)

  1. 차광부 및 투광부를 갖는 기판 및 이 기판 위의 수지층으로 이루어지고, 상기 수지층은 착색 부분 및 비착색 부분을 함유하며 비착색 부분은 차광부에 위치하는 것인 칼라 필터.
  2. 제1항에 있어서, 보호층이 수지층 위에 형성되는 것인 칼라 필터.
  3. 제1항에 있어서, 착색 부분은 차광부와 접촉되어 있는 것인 칼라 필터.
  4. 제1항에 있어서, 비착색 부분의 폭이 차광부의 폭보다 더 좁은 것인 칼라 필터.
  5. 제1항에 있어서, 착색 부분은 잉크 도트로 형성된 것인 칼라 필터.
  6. (1) 노광에 의해 잉크 수용성이 저하되는 조성물을 포함하는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2)노광된 부분의 잉크 수용성을 저하시키기 위하여 수지층을 단일 패턴 노광시키는 단계, (3)2 색 이상의 패턴을 형성하기 위하여 수지층의 비노광 부분에 잉크 제트 프린트 방식에 의해 착색제를 제공하는 단계, 및 (4) 수지층의 착색 부분을 노광 또는 가열에 의해 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 프린트 방식에 의해 기판 위에 착색제를 부여하는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 가지고, 이 차광부가 단계 (2)에서 노광되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 차광부의 폭이 단계 (2)에서 노광되는 수지층 부분의 폭보다 더 큰 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 경화성 제2 수지층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 경화성 제2 수지층은 노광 또는 열 처리에 의해 경화될 수 있는 수지 조성물로 이루어지는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  11. 제6항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 증착 또는 스퍼터링에 의해서 무기층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  12. 제6항 내지 11항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터.
  13. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 배치된 기판, 및 이 기판과 칼라 필터 기판 사이에 봉입된 액정 화합물로 이루어지는 액정 패널.
  14. (1) 잉크 수용성을 갖고 노광에 의해 친수성 기의 함량이 감소되는 조성물을 함유하는 수지 층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 상기 친수성기의 함량을 감소시키기 위하여 수지층을 단일 패턴 노광시키는 단계, (3) 2 색 이상의 패턴을 형성하기 위하여 수지층의 비노광 부분에 잉크 제트 프린트 방식에 의해 착색제를 제공하는 단계, 및 (4) 수지층의 착색 부분을 노광 또는 가열에 의해 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 프린트 방식에 의해 투광부를 갖는 기판 위에 착색제를 부여하는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 가지고, 이 차광부가 단계 (2)에서 노광되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서, 차광부의 폭이 단계 (2)에서 노광되는 수지층 부분의 폭보다 더 큰 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  17. 제14항에 있어서, 수지 층은 노광에 의해 산을 형성하는 화합물을 함유하는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  18. 제14항에 있어서, 단계(4)의 종료 후 수지층 위에 경화성 제2 수지층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  19. 제18항에 있어서, 경화성 제2수지층은 노광 또는 열 처리에 의해 경화될 수 있는 수지 조성물로 이루어지는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  20. 제14항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 증착 또는 스퍼터링에 의해서 무기층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  21. 제14항 내지 20항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터.
  22. 투광부를 갖는 기판 및 이 기판 위의 착색된 투광부를 갖는 수지층으로 이루어지고, 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식 (I)로 표시되는 구조 단위로 이루어지는 단량체의 단독 중합체 및(또는) 상기 단량체와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼라 필터.
    식 중, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기이다.
  23. 제22항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 가지고, 수지층은 이 기판 위에 형성된 것인 칼라 필터.
  24. 제22항에 있어서, 차광부 위의 수지층 부분이 착색된 것인 칼라 필터.
  25. 제24항에 있어서, 차광부 위의 수지층의 비착색 부분의 폭은 차광부의 폭 보다 더 좁은 것인 칼라 필터.
  26. 제22항에 있어서, 화합물(b)의 양은 단독 중합체 또는 공중합체 (a) 100 중량부에 대해 0.01 내지 10 중량부인 것인 칼라 필터.
  27. (1) 노광에 의해 저하되는 잉크 흡수성을 갖는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 수지층의 노광부분의 잉크 수용성을 저하시키기 위하여 수지층을 단일 패턴 노광시키는 단계, (3) 2 색 이상의 패턴을 형성시키기 위하여 잉크 제트 프린트 방식을 이용하여 수지 층의 비노광 부분을 착색시키는 단계, 및 (4) 노광 또는 열 처리를 행하여 수지층을 경화시키는 단계로 이루어지고, 상기 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식 (I)로 표시되는 구조 단위로 이루어진 단량체의 단독 중합체 또는 하기 일반식 (I)로 표시되는 구조 단위와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐 요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크 제트 프린트 방식에 의해 투광부를 갖는 기판 위에 착색제를 부여하는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법.
    식 중, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기이다.
  28. 제27항에 있어서, 차광부가 단계 (2)에서 노광되고 차광부의 폭이 노광되는 수지층 부분의 폭보다 더 넓은 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  29. 제27항에 있어서, 화합물(b)의 양은 단독 중합체 또는 공중합체 (a) 100 중량부에 대해 0.01 내지 10 중량부인 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  30. 제27항 내지 29항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터.
  31. 제22항 내지 24항 중 어느 한 항에 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 설치된 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어지는 액정 패널.
  32. (1) 노광에 의해 잉크 수용성이 될 수 있는 조성물을 포함하는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 수지층의 노광부가 잉크 수용성으로 되도록 수지층을 단일 패턴 노광시키는 단계, (3) 2 색 이상의 패턴을 형성시키기 위하여 잉크 제트 프린트 방식을 이용하여 수지 층의 노광 부분을 착색시키는 단계, 및 (4) 노광 또는 열 처리를 행하여 수지층의 착색 부분을 경화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 잉크 제트 프린트 방식에 의해 투광부를 갖는 기판 위에 착색제를 부여하는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법.
  33. 제32항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 갖는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  34. 제33항에 있어서, 단계 (2)에서 잉크 수용성이 되는 수지층 부분이 상기 기판의 투광부에 위치하는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  35. 제34항에 있어서, 기판의 투광부의 폭이 단계(2)에서 잉크 수용성으로 되는 수지층 부분의 폭보다 더 좁은 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  36. 제32항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 경화성 제2 수지층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  37. 제36항에 있어서, 경화성 제2 수지층은 노광 또는 열 처리에 의해 경화될 수 있는 수지 조성물로 이루어지는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  38. 제32항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 증착 또는 스퍼터링에 의해 무기층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  39. 제32항 내지 38항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터.
  40. 기판 및 이 기판 위의 착색된 투광부를 갖는 수지층으로 이루어지고, 이 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식 (V)로 표시되는 구조 단위를 갖는 아크릴 수지 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼라 필터.
    식 중, R1은 수소 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기이고, R2는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기 또는 페닐렌기이고, R3은 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기, 알킬 치환 실릴기, 페닐기 또는 치환 방향족기이다.
  41. 제40항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 가지고, 수지층은 이 기판 위에 형성된 것인 칼라 필터.
  42. 제41항에 있어서, 차광부 위의 수지층 부분이 착색된 것인 칼라 필터.
  43. 제42항에 있어서, 차광부 위의 수지층의 비착색 부분의 폭이 차광부의 폭보다 더 좁은 것인 칼라 필터.
  44. 제40항에 있어서, 화합물(b)의 양은 아크릴 수지(a) 100 중량부에 대해 0.01 내지 10 중량부인 것인 칼라 필터.
  45. (1) 노광에 의해 잉크 수용성이 될 수 있는 수지층을 기판 위에 형성시키는 단계, (2) 수지층의 노광부가 잉크 수용성으로 되도록 수지층을 단일 패턴 노광시키는 단계, (3) 2 색 이상의 패턴을 형성시키기 위하여 잉크 제트 프린트 방식을 이용하여 수지 층의 잉크 수용성 부분을 착색시키는 단계, 및 (4) 노광 또는 열 처리를 행하여 수지층을 경화시키는 단계로 이루어지고, 상기 수지층은 적어도 (a) 하기 일반식 (V)로 표시되는 구조 단위를 갖는 아크릴 수지 및 (b) 할로겐화 트리아진 화합물, 디페닐요오도늄염 유도체 및 트리페닐술포늄염 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크 제트 프린트 방식으로 투광부를 갖는 기판 위에 착색제를 부여하는 것으로 이루어지는 칼라 필터의 제조 방법.
    식 중 R1은 수소 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기이고, R2는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기 또는 페닐렌기이고, R3은 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기, 알킬 치환 실릴기, 페닐기 또는 치환 방향족기이다.
  46. 제45항에 있어서, 기판은 그 위에 차광부를 갖는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  47. 제46항에 있어서, 기판의 투광부의 폭이 단계 (2)에서 잉크 수용성으로 되는 수지층 부분의 폭보다 더 좁은 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  48. 제45항에 있어서, 화합물(b)의 양은 아크릴수지 (a) 100 중량부에 대해 0.01 내지 10 중량부인 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  49. 제45항 내지 48항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 칼라 필터.
  50. 제41항 내지 43항 중 어느 한 항에 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 설치된 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어지는 액정 패널.
  51. 제40항에 기재된 칼라 필터, 이 칼라 필터의 대향 위치에 설치된 차광부를 갖는 기판, 및 칼라 필터와 기판 사이에 봉입된 액정 조성물로 이루어지는 액정 패널.
  52. 제6항에 있어서, 단계 (1)이 노광후 열처리에 의하여 수행되고 단계 (2)가 단일 패턴 노광 후 열처리에 의해 수행되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  53. 제6항에 있어서, 기판이 유리인 칼라 필터의 제조 방법.
  54. 제6항에 있어서, 적색, 녹색, 청색의 착색제가 서로 중첩되지 않도록 부여되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  55. (1) 제6항 내지 11항, 53항 또는 54항 중 어느 한 항에 따른 칼라 필터 기판을 제조하는 단계, (2) 픽셀(pixel) 전극을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 (3) 칼라 필터 기판과 픽셀 전극을 갖는 기판사이의 공간에 액정 화합물을 봉입하는 단계로 이루어지는 액정 디스플레이 패널의 제조 방법.
  56. 제55항에 있어서, 픽셀 전극을 갖는 기판이 차광부를 갖는 방법.
  57. 제14항에 있어서, 단계 (1)이 노광후 열처리에 의하여 수행되고 단계(2)가 단일 패턴 노광 후 열처리에 의해 수행되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  58. 제14항에 있어서, 기판이 유리인 칼라 필터의 제조 방법.
  59. (1) 제14항 내지 제20항, 또는 제58항 중 어느 한 항에 따른 칼라 필터 기판을 제조하는 단계, (2) 픽셀(pixel) 전극을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 (3) 칼라 필터 기판과 픽셀 전극을 갖는 기판사이의 공간에 액정 화합물을 봉입하는 단계로 이루어지는 액정 디스플레이 패널의 제조 방법.
  60. 제59항에 있어서, 픽셀 전극을 갖는 기판이 차광부를 갖는 방법.
  61. 제27항에 있어서, 단계 (1)이 노광후 열처리에 의하여 수행되고 단계 (2)가 단일 패턴 노광 후 열처리에 의해 수행되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  62. 제27항에 있어서, 기판이 유리인 칼라 필터의 제조 방법.
  63. 제27항에 있어서, 기판이 차광부를 갖는 칼라 필터의 제조 방법.
  64. 제27항에 있어서, 적색, 녹색, 청색의 착색제가 서로 중첩되지 않도록 부여되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  65. (1) 제27항, 제29항, 제62항 내지 제64항 중 어느 한 항에 따른 칼라 필터 기판을 제조하는 단계, (2) 픽셀(pixel) 전극을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 (3) 칼라 필터 기판과 픽셀 전극을 갖는 기판사이의 공간에 액정 화합물을 봉입하는 단계로 이루어지는 액정 디스플레이 패널의 제조 방법.
  66. 제65항에 있어서, 픽셀 전극을 갖는 기판이 차광부를 갖는 방법.
  67. 제32항에 있어서, 단계 (2)가 단일 패턴 노광 후 열처리에 의해 수행되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  68. 제32항에 있어서, 기판이 유리인 칼라 필터의 제조 방법.
  69. 제32항에 있어서, 적색, 녹색, 청색의 착색제가 서로 중첩되지 않도록 부여되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  70. (1) 제32항 내지 제38항, 제68항 또는 제69항 중 어느 한 항에 따른 필터 기판을 제조하는 단계, (2) 픽셀(pixel) 전극을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 (3) 칼라 필터 기판과 픽셀 전극을 갖는 기판사이의 공간에 액정 화합물을 봉입하는 단계로 이루어지는 액정 디스플레이 패널의 제조 방법.
  71. 제65항에 있어서, 픽셀 전극을 갖는 기판이 차광부를 갖는 방법.
  72. 제45항에 있어서, 단계 (1)이 노광후 열처리에 의하여 수행되고 단계 (2)가 단일 패턴 노광 후 열처리에 의해 수행되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  73. 제45항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 경화성 제2 수지층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  74. 제73항에 있어서, 경화성 제2 수지층은 노광 또는 열 처리에 의해 경화될 수 있는 수지 조성물로 이루어지는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  75. 제45항에 있어서, 단계 (4)의 종료 후 수지층 위에 증착 또는 스퍼터링에 의해 무기층이 형성되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  76. 제45항에 있어서, 기판이 유리인 칼라 필터의 제조 방법.
  77. 제45항에 있어서, 적색, 녹색, 청색의 착색제가 서로 중첩되지 않도록 부여되는 것인 칼라 필터의 제조 방법.
  78. (1) 제45항 내지 제48항, 제73항 내지 제77항 중 어느 한 항에 따른 칼라 필터 기판을 제조하는 단계, (2) 픽셀(pixel) 전극을 갖는 기판을 제공하는 단계 및 (3) 칼라 필터 기판과 픽셀 전극을 갖는 기판사이의 공간에 액정 화합물을 봉입하는 단계로 이루어지는 액정 디스플레이 패널의 제조 방법.
  79. 제78항에 있어서, 픽셀 전극을 갖는 기판이 차광부를 갖는 방법.
KR1019940031035A 1993-11-24 1994-11-24 칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬 KR0173149B1 (ko)

Applications Claiming Priority (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29339593 1993-11-24
JP93-293395 1993-11-24
JP32213393 1993-12-21
JP93-322133 1993-12-21
JP15087494 1994-07-01
JP94-150874 1994-07-01
JP94-150870 1994-07-01
JP15087094 1994-07-01
JP94-220049 1994-09-14
JP22004994 1994-09-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR0173149B1 true KR0173149B1 (ko) 1999-03-20

Family

ID=27527933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940031035A KR0173149B1 (ko) 1993-11-24 1994-11-24 칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬

Country Status (6)

Country Link
US (2) US5716740A (ko)
EP (3) EP0942326B1 (ko)
KR (1) KR0173149B1 (ko)
AT (3) ATE213845T1 (ko)
DE (3) DE69432824T2 (ko)
TW (1) TW417034B (ko)

Families Citing this family (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6686104B1 (en) * 1993-11-24 2004-02-03 Canon Kabushiki Kaisha Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel
DE69523351T2 (de) * 1994-01-28 2002-05-02 Canon K.K., Tokio/Tokyo Farbfilter, Verfahren zu seiner Herstellung, und Flüssigkristalltafel
TW426806B (en) * 1994-05-18 2001-03-21 Toshiba Corp Fabricating method of liquid crystal display apparatus
JP3014923B2 (ja) * 1994-06-24 2000-02-28 キヤノン株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法ならびにそのフィルターを用いた液晶表示装置
JPH08227011A (ja) * 1994-09-30 1996-09-03 Canon Inc カラーフィルタ、その製造方法、液晶パネル、及びこれを備えた情報処理装置
US5736278A (en) * 1995-06-20 1998-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Color filter having light screening resin layer and filter resin layer
JP3133949B2 (ja) * 1995-08-25 2001-02-13 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及び製造装置
JPH09171953A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Sony Corp 基板加熱装置、基板加熱方法および半導体集積回路装置、フォトマスクならびに液晶表示装置
KR100479000B1 (ko) 1996-05-15 2005-08-01 세이코 엡슨 가부시키가이샤 박막디바이스,액정패널및전자기기및박막디바이스의제조방법
US20020075422A1 (en) * 1996-09-19 2002-06-20 Seiko Epson Corporation Matrix type display device and manufacturing method thereof
KR100525642B1 (ko) * 1996-09-19 2005-11-02 세이코 엡슨 가부시키가이샤 유기 반도체막의 형성 방법 및 발광소자의 제조 방법
US5956487A (en) * 1996-10-25 1999-09-21 Hewlett-Packard Company Embedding web access mechanism in an appliance for user interface functions including a web server and web browser
WO1998019188A1 (fr) * 1996-10-30 1998-05-07 Seiko Epson Corporation Filtre colore et son procede de fabrication
JP3899566B2 (ja) 1996-11-25 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ表示装置の製造方法
JP3106110B2 (ja) * 1997-03-17 2000-11-06 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及び製造装置及び表示装置の製造方法
JP3302296B2 (ja) * 1997-05-30 2002-07-15 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法
JPH10332925A (ja) * 1997-06-02 1998-12-18 Canon Inc カラーフィルタ基板とその製造方法、該基板を用いた液晶素子
US5948577A (en) * 1997-06-02 1999-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Color filter substrate, liquid crystal display device using the same and method of manufacturing color filter substrate
JPH112716A (ja) * 1997-06-13 1999-01-06 Canon Inc カラーフィルタ、これを用いた液晶素子及びこれらの製造方法、並びに該製造方法に用いられるインクジェット用インク
DE69841238D1 (de) 1997-08-08 2009-11-26 Dainippon Printing Co Ltd Objekt zur erzeugung von mustern, methode zur erzeugung von mustern, sowie deren anwendungen
JP3332822B2 (ja) * 1997-09-05 2002-10-07 キヤノン株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法
JP3559697B2 (ja) * 1997-12-01 2004-09-02 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2000009916A (ja) 1998-06-18 2000-01-14 Canon Inc カラーフィルタ、液晶パネル、コンピュータ及びカラーフィルタの製造方法
GB9824818D0 (en) * 1998-11-12 1999-01-06 Zeneca Ltd Composition,process and use
US6630274B1 (en) * 1998-12-21 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
EP1643276A1 (en) * 1998-12-21 2006-04-05 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing color filters, method for manufacturing a display device and method for manufacturing an electronic device
US6309783B1 (en) 1998-12-22 2001-10-30 Canon Kabushiki Kaisha Color filter and method of manufacturing the same
JP2000189880A (ja) 1998-12-28 2000-07-11 Canon Inc 塗布方法および装置ならびにカラ―フィルタの製造方法
JP4377984B2 (ja) 1999-03-10 2009-12-02 キヤノン株式会社 カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子
US6221543B1 (en) 1999-05-14 2001-04-24 3M Innovatives Properties Process for making active substrates for color displays
US6501527B1 (en) 1999-07-29 2002-12-31 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal elemental device, production process thereof and spacer-bearing substrate
US6245469B1 (en) 1999-09-09 2001-06-12 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method for color filter and liquid crystal element using color filter manufactured thereby
DE60119025T8 (de) 2000-06-02 2007-04-12 Canon K.K. Herstellungsverfahren für ein optisches Element
JP2002169291A (ja) * 2000-12-04 2002-06-14 Canon Inc 感光性樹脂組成物、レジスト組成物、パターン形成方法およびデバイス
CN1229655C (zh) * 2001-06-01 2005-11-30 精工爱普生株式会社 滤色膜层及电光学装置
EP1271243A3 (en) * 2001-06-19 2003-10-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material, color filter master plate, and color filter
CN100390573C (zh) * 2002-02-19 2008-05-28 佳能株式会社 光量调节装置、其制造方法以及摄影装置
JP2003288030A (ja) * 2002-03-27 2003-10-10 Seiko Epson Corp 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器
JP2004212814A (ja) * 2003-01-07 2004-07-29 Sharp Corp カラーフィルタ製造方法、カラーフィルタ、及び表示装置
US7514149B2 (en) * 2003-04-04 2009-04-07 Corning Incorporated High-strength laminated sheet for optical applications
KR100585094B1 (ko) * 2003-06-26 2006-05-30 삼성전자주식회사 멀티미디어 시스템에서의 효율적인 데이터 저장/재생 방법및 장치
JP2005118769A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Rohm & Haas Electronic Materials Llc パターン形成
US20050164122A1 (en) * 2004-01-26 2005-07-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chemically amplified resist and pattern formation method
US7011529B2 (en) * 2004-03-01 2006-03-14 Anritsu Company Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation
US20050255253A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 White John M Apparatus and methods for curing ink on a substrate using an electron beam
US20050253917A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 Quanyuan Shang Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting
JP4480141B2 (ja) 2004-06-28 2010-06-16 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドの製造方法
US20060109296A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-25 Bassam Shamoun Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays
US20060092218A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing
US7556334B2 (en) * 2004-11-04 2009-07-07 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for aligning print heads
US20070042113A1 (en) * 2004-11-04 2007-02-22 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays using pattern data
US7413272B2 (en) * 2004-11-04 2008-08-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for precision control of print head assemblies
US20060093751A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. System and methods for inkjet printing for flat panel displays
TWI294529B (en) * 2004-12-22 2008-03-11 Ind Tech Res Inst Method of forming micro pattern
US20060159843A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Applied Materials, Inc. Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems
US20060185587A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing
TWI292069B (en) * 2005-05-27 2008-01-01 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
US7544723B2 (en) * 2005-07-15 2009-06-09 Applied Materials, Inc. Blue printing ink for color filter applications
US20070015847A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Applied Materials, Inc. Red printing ink for color filter applications
US7460267B2 (en) * 2005-07-15 2008-12-02 Applied Materials, Inc. Green printing ink for color filter applications
KR20070014986A (ko) * 2005-07-28 2007-02-01 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 동시적인 잉크젯 프린팅 및 결함 검사를 위한 방법 및 장치
US20070065571A1 (en) * 2005-09-19 2007-03-22 Applied Materials. Inc. Method and apparatus for manufacturing a pixel matrix of a color filter for a flat panel display
US20070070132A1 (en) * 2005-09-27 2007-03-29 Fan-Cheung Sze Inkjet delivery module
US7611217B2 (en) * 2005-09-29 2009-11-03 Applied Materials, Inc. Methods and systems for inkjet drop positioning
US20070068560A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 Quanyuan Shang Methods and apparatus for inkjet print head cleaning
US20070070109A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 White John M Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning
US20080018677A1 (en) * 2005-09-29 2008-01-24 White John M Methods and apparatus for inkjet print head cleaning using an inflatable bladder
US20070076040A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet nozzle calibration
TWI338189B (en) * 2006-01-13 2011-03-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Substrate structure and method of manufacturing thin film pattern layer using the same
TWI328520B (en) 2006-02-07 2010-08-11 Applied Materials Inc Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters
KR20070081303A (ko) * 2006-02-10 2007-08-16 삼성전자주식회사 표시 장치 및 이의 제조 방법
JPWO2007125917A1 (ja) * 2006-04-24 2009-09-10 東洋インキ製造株式会社 非水性インクジェットインキ、インクジェット記録用インク組成物、及びカラーフィルター基板
US20070252863A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-01 Lizhong Sun Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures with spray mechanisms
US20070256709A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-08 Quanyuan Shang Methods and apparatus for operating an inkjet printing system
US20070263026A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-15 Quanyuan Shang Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures
US20080024532A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Si-Kyoung Kim Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance
WO2008013902A2 (en) * 2006-07-28 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for improved manufacturing of color filters
US20080204501A1 (en) * 2006-12-01 2008-08-28 Shinichi Kurita Inkjet print head pressure regulator
US20100033826A1 (en) 2007-02-27 2010-02-11 Kolb Brant U Brightness enhancing film comprising nanocomposite structure having improved crack resistance
US7857413B2 (en) 2007-03-01 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads
US20080221291A1 (en) 2007-03-07 2008-09-11 3M Innovative Properties Company Microstructured optical films comprising biphenyl difunctional monomers
CN101627064A (zh) * 2007-03-09 2010-01-13 3M创新有限公司 包含联苯双官能单体的微结构化光学薄膜
US8586154B2 (en) * 2007-03-09 2013-11-19 3M Innovative Properties Company Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films
US7637587B2 (en) * 2007-08-29 2009-12-29 Applied Materials, Inc. System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers
US20090141218A1 (en) * 2007-10-26 2009-06-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for curing pixel matrix filter materials
US20090284698A1 (en) * 2008-05-16 2009-11-19 Mi-Kyoung Kim Ink composition, color filter manufactured by using the same, and display device comprising the same
CN102707352A (zh) * 2011-04-19 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3649268A (en) * 1969-02-05 1972-03-14 Du Pont Process for forming images by photohardening and applying a colorant
CA1127227A (en) * 1977-10-03 1982-07-06 Ichiro Endo Liquid jet recording process and apparatus therefor
JPS5936879B2 (ja) * 1977-10-14 1984-09-06 キヤノン株式会社 熱転写記録用媒体
US4330787A (en) * 1978-10-31 1982-05-18 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording device
US4345262A (en) * 1979-02-19 1982-08-17 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording method
US4463359A (en) * 1979-04-02 1984-07-31 Canon Kabushiki Kaisha Droplet generating method and apparatus thereof
US4313124A (en) * 1979-05-18 1982-01-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording process and liquid jet recording head
US4418284A (en) * 1980-03-17 1983-11-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solid-state color-image sensor and process for fabricating the same
US4558333A (en) * 1981-07-09 1985-12-10 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording head
NL8105071A (nl) * 1981-11-10 1983-06-01 Philips Nv Kleurenbeeldopneeminrichting.
JPS5975205A (ja) * 1982-10-25 1984-04-27 Seiko Epson Corp カラ−フイルタの製造方法
JPS59123670A (ja) * 1982-12-28 1984-07-17 Canon Inc インクジエツトヘツド
JPS59138461A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 Canon Inc 液体噴射記録装置
US4698113A (en) * 1983-08-11 1987-10-06 Matsushita Electric Method of curing photocurable and heat-curable compositions and a method of adhering members to each other by using them
JPS6071260A (ja) * 1983-09-28 1985-04-23 Erumu:Kk 記録装置
JPS6177014A (ja) * 1984-09-25 1986-04-19 Seikosha Co Ltd カラ−フイルタの製造方法
US4808501A (en) * 1985-10-15 1989-02-28 Polaroid Corporation, Patent Dept. Method for manufacturing an optical filter
JPS62124976A (ja) * 1985-11-26 1987-06-06 Canon Inc 被記録材
US4864324A (en) * 1986-08-13 1989-09-05 Canon Kabushiki Kaisha Color image forming method and ink used therefor
EP0271900B1 (en) * 1986-12-17 1993-12-29 Canon Kabushiki Kaisha Device, method and apparatus for optical modulation
JP2739315B2 (ja) * 1987-01-23 1998-04-15 キヤノン株式会社 カラーフィルターおよびカラー液晶素子
JPS63235901A (ja) * 1987-03-24 1988-09-30 Fujitsu Ltd カラ−フイルタの形成方法
JPH0721562B2 (ja) * 1987-05-14 1995-03-08 凸版印刷株式会社 カラ−フイルタ
JPS63294503A (ja) * 1987-05-27 1988-12-01 Fujitsu Ltd カラ−フィルタの製造方法
JP2637469B2 (ja) * 1987-06-04 1997-08-06 キヤノン株式会社 高分子液晶素子
US4981614A (en) * 1987-09-21 1991-01-01 Canon Kabushiki Kaisha Solid solution
JP2692833B2 (ja) * 1988-02-25 1997-12-17 株式会社東芝 液晶セルの製造方法
JPH01235903A (ja) * 1988-03-16 1989-09-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフイルターの製造方法
US5011623A (en) * 1988-07-20 1991-04-30 Canon Kabushiki Kaisha Nonlinear optical material and nonlinear optical device
EP0366937A2 (en) * 1988-10-31 1990-05-09 International Business Machines Corporation Method of forming relief patterns and use thereof
ES2053911T3 (es) * 1988-11-02 1994-08-01 Canon Kk Sistema de impresion por chorros de tinta y metodo para la impresion por chorros de tinta.
EP0368260B1 (en) * 1988-11-10 1995-01-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Liquid crystal display device and color filter for use with the liquid crystal display device and method of making the color filter
JPH02173703A (ja) * 1988-12-27 1990-07-05 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法
EP0380223A1 (en) * 1989-01-17 1990-08-01 Konica Corporation Colour filter and process for producing the same
JPH02228605A (ja) * 1989-02-28 1990-09-11 Fujitsu Ltd カラーフィルタの製造方法
GB8912486D0 (en) * 1989-05-31 1989-07-19 Kodak Ltd Method of making grid lines for thermally-transferred colour filter array element
JP2513902B2 (ja) * 1989-06-02 1996-07-10 東レ株式会社 表面多孔質フィルム
JPH0310220A (ja) * 1989-06-07 1991-01-17 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
DE69132630T2 (de) * 1990-06-20 2002-02-07 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Farbfilter und dessen herstellungsverfahren
JP3172167B2 (ja) * 1990-07-12 2001-06-04 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電気光学装置の製造方法
KR920702506A (ko) * 1990-08-31 1992-09-04 이데미쯔 아끼스께 칼라필터 및 그 제조방법과 그 칼라필터를 사용한 칼라 액정 패널 및 구동방법
US5079214A (en) * 1990-10-11 1992-01-07 Eastman Kodak Company Patterned receiver for color filter array
JPH04317007A (ja) * 1991-04-16 1992-11-09 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタの製造方法
JPH04349401A (ja) * 1991-05-28 1992-12-03 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタの製造方法
JP2975173B2 (ja) * 1991-06-06 1999-11-10 日本化薬株式会社 カラーフイルターの保護膜用材料及びその硬化物
JP3084824B2 (ja) * 1991-09-19 2000-09-04 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ用電子写真感光体組成物およびそれを用いたカラーフィルタ用基板
US5250121A (en) * 1991-09-26 1993-10-05 Canon Kabushiki Kaisha Ink-jet textile printing ink and ink-jet textile printing process
DE4242802A1 (ko) * 1991-12-17 1993-07-08 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH05173010A (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 Toray Ind Inc カラ−フィルタ
CA2087110A1 (en) * 1992-01-14 1993-07-15 Hiroshi Tsushima Method of forming color pattern
US5482803A (en) * 1992-02-07 1996-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Process for preparing filter
JPH05232310A (ja) * 1992-02-21 1993-09-10 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタの製造方法
JPH05288913A (ja) * 1992-04-10 1993-11-05 Konica Corp カラーフィルターの製造方法
DE69326745T2 (de) * 1992-06-01 2000-04-27 Advanced Technology Incubator, Inc. Lichtsteuerelement für hochauflösende optische systeme und verfahren zu seiner herstellung
JP2803515B2 (ja) * 1993-02-04 1998-09-24 信越化学工業株式会社 染色ポリシランフィルムの製造方法
US5650251A (en) 1993-07-07 1997-07-22 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing color filter comprising an ultrasonic wave projected perpendicularly to the substrate
US5570120A (en) 1993-07-16 1996-10-29 Canon Kabushiki Kaisha Ink-jet recording method and color image forming method
US5340619A (en) * 1993-10-18 1994-08-23 Brewer Science, Inc. Method of manufacturing a color filter array
US5614007A (en) 1994-03-29 1997-03-25 Canon Kabushiki Kaisha Ink set, and method and apparatus for image formation employing the same
TW426806B (en) 1994-05-18 2001-03-21 Toshiba Corp Fabricating method of liquid crystal display apparatus
JP3376169B2 (ja) 1994-06-17 2003-02-10 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及びその方法により製造されたカラーフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
DE69429969T2 (de) 2002-08-29
ATE242889T1 (de) 2003-06-15
EP0655647B1 (en) 2002-02-27
EP0942326B1 (en) 2003-06-11
ATE412923T1 (de) 2008-11-15
TW417034B (en) 2001-01-01
US5716740A (en) 1998-02-10
EP0942326A1 (en) 1999-09-15
DE69429969D1 (de) 2002-04-04
DE69435160D1 (de) 2008-12-11
EP0942327B1 (en) 2008-10-29
DE69432824T2 (de) 2004-05-19
US6180294B1 (en) 2001-01-30
DE69432824D1 (de) 2003-07-17
EP0655647A1 (en) 1995-05-31
EP0942327A1 (en) 1999-09-15
ATE213845T1 (de) 2002-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0173149B1 (ko) 칼라 필터, 그의 제조 방법 및 액정 판넬
US6686104B1 (en) Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel
KR0179188B1 (ko) 칼라필터, 그 제조 방법 및 액정 패널
KR100261405B1 (ko) 컬러 필터 생산 공정 및 액정 표시 장치
JP2000089017A (ja) カラーフィルタとその製造方法、製造装置、該カラーフィルタを用いた液晶素子
JP4261657B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
KR100226641B1 (ko) 칼라 필터의 제조 방법
JP2872594B2 (ja) カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法
JPH08179110A (ja) カラーフィルタ、その製造方法及び液晶パネル
JPH08230314A (ja) カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びこれを用いた液晶パネル
JP3342242B2 (ja) 液晶用カラーフィルターおよびその製造方法ならびに液晶パネル
JP2001154008A (ja) カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子
JP2872596B2 (ja) カラーフィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法
US6309783B1 (en) Color filter and method of manufacturing the same
JPH10197718A (ja) 液晶表示用カラーフィルターの製造方法、液晶表示用カラーフィルター、及び該カラーフィルターを具備する液晶パネル
JPH09178929A (ja) カラーフィルターおよび液晶表示装置ならびにそれらの製造方法
JP4474025B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JPH0915580A (ja) 液晶用カラーフィルターおよびその製造方法ならびに液晶パネル
JP2872595B2 (ja) カラーフィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法
JP4261656B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
JPH08271715A (ja) カラーフィルタおよびその製造方法ならびに液晶表示装置
JPH0921911A (ja) カラーフィルターおよびその製造方法ならびに液晶パネル
JP3241225B2 (ja) 液晶用カラーフィルタの製造方法、該方法により製造された液晶用カラーフィルタ及び液晶パネル
JP2001108814A (ja) スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子
JPH07120611A (ja) カラーフィルタ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 19941124

PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 19941124

Comment text: Request for Examination of Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 19980226

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 19980831

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 19981028

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 19981028

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
PG1701 Publication of correction

Patent event code: PG17011E01I

Patent event date: 19990511

Comment text: Request for Publication of Correction

Publication date: 19990601

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20010914

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20021025

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20031023

Start annual number: 6

End annual number: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20041025

Start annual number: 7

End annual number: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20051025

Start annual number: 8

End annual number: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20061026

Start annual number: 9

End annual number: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20071026

Start annual number: 10

End annual number: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20080925

Start annual number: 11

End annual number: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20090924

Start annual number: 12

End annual number: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20100927

Start annual number: 13

End annual number: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110923

Start annual number: 14

End annual number: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120924

Year of fee payment: 15

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120924

Start annual number: 15

End annual number: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130926

Year of fee payment: 16

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20130926

Start annual number: 16

End annual number: 16

EXPY Expiration of term
PC1801 Expiration of term

Termination date: 20150524

Termination category: Expiration of duration