JP2003288030A - 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器 - Google Patents
電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器Info
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 保護層の落ち込みを緩和して電極の断線を低
減する。 【解決手段】 基板２上に遮光層３と、遮光層３上に形
成されカラーフィルタ層１３を仕切る仕切り層１４と、
これら遮光層３、仕切り層１４及びカラーフィルタ層１
３を封止する保護層６とを設ける。仕切り層１４の少な
くとも一部が遮光層３を覆い、保護層６と遮光層３とを
非接触状態に分離する。
減する。 【解決手段】 基板２上に遮光層３と、遮光層３上に形
成されカラーフィルタ層１３を仕切る仕切り層１４と、
これら遮光層３、仕切り層１４及びカラーフィルタ層１
３を封止する保護層６とを設ける。仕切り層１４の少な
くとも一部が遮光層３を覆い、保護層６と遮光層３とを
非接触状態に分離する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ、
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の電気光学装
置とその製造方法、及びデバイス並びに電子機器に関す
るものである。
エレクトロルミネセンス素子マトリクス等の電気光学装
置とその製造方法、及びデバイス並びに電子機器に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタ等を備えた電気光学装置
としては、インクジェット法を応用したものが知られて
いる。図６にカラーフィルタ基板の一例を示す。この図
に示すカラーフィルタ基板１は、透明基板２上にブラッ
クマトリクスと称されるＣｒ等で形成された遮光層３及
びインクの仕切りとなるバンク４が立設され、これら遮
光層３及びバンク４間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
のカラーフィルタ層５が所定パターンで配列されること
でカラーフィルタが構成される。
としては、インクジェット法を応用したものが知られて
いる。図６にカラーフィルタ基板の一例を示す。この図
に示すカラーフィルタ基板１は、透明基板２上にブラッ
クマトリクスと称されるＣｒ等で形成された遮光層３及
びインクの仕切りとなるバンク４が立設され、これら遮
光層３及びバンク４間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
のカラーフィルタ層５が所定パターンで配列されること
でカラーフィルタが構成される。
【０００３】カラーフィルタの表面上には、当該カラー
フィルタを保護するとともにカラーフィルタ基板１の表
面を平坦化するためにアクリル樹脂等の保護層（オーバ
ーコート層）６が形成され、保護層６の表面上にはＩＴ
Ｏ等の電極７が形成されている。
フィルタを保護するとともにカラーフィルタ基板１の表
面を平坦化するためにアクリル樹脂等の保護層（オーバ
ーコート層）６が形成され、保護層６の表面上にはＩＴ
Ｏ等の電極７が形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来技術には、以下のような問題が存在する。
保護層６は、カラーフィルタの端部において、遮光層３
及びバンク４の双方に接触しているが、保護層６に対す
る濡れ性が遮光層３とバンク４との間で差があるため、
保護層６の厚さ変化が急峻になる。具体的には、バンク
４に比較して遮光層３が保護層６に対する濡れ性がよい
ため、遮光層３と保護層６とが接触する部分Ａにおいて
部分的に保護層６が引っ張られる形になり、接触部近傍
の表面Ｂにおける落ち込みが急峻となってしまう。その
結果、Ｂ部近傍において保護層の表面に沿う電極７が断
線しやすく、品質不良になってしまうという問題が生じ
ていた。
たような従来技術には、以下のような問題が存在する。
保護層６は、カラーフィルタの端部において、遮光層３
及びバンク４の双方に接触しているが、保護層６に対す
る濡れ性が遮光層３とバンク４との間で差があるため、
保護層６の厚さ変化が急峻になる。具体的には、バンク
４に比較して遮光層３が保護層６に対する濡れ性がよい
ため、遮光層３と保護層６とが接触する部分Ａにおいて
部分的に保護層６が引っ張られる形になり、接触部近傍
の表面Ｂにおける落ち込みが急峻となってしまう。その
結果、Ｂ部近傍において保護層の表面に沿う電極７が断
線しやすく、品質不良になってしまうという問題が生じ
ていた。
【０００５】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、保護層の落ち込みを緩和して電極の断線を
低減できる電気光学装置とその製造方法、及びデバイス
並びに電子機器を提供することを目的とする。
れたもので、保護層の落ち込みを緩和して電極の断線を
低減できる電気光学装置とその製造方法、及びデバイス
並びに電子機器を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、以下の構成を採用している。本発明の電
気光学装置は、基板上に遮光層と、遮光層上に形成され
カラーフィルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光層、
仕切り層及びカラーフィルタ層を封止する保護層とが設
けられた電気光学装置であって、仕切り層の少なくとも
一部が遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非接触状態に
分離することを特徴とするものである。
めに本発明は、以下の構成を採用している。本発明の電
気光学装置は、基板上に遮光層と、遮光層上に形成され
カラーフィルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光層、
仕切り層及びカラーフィルタ層を封止する保護層とが設
けられた電気光学装置であって、仕切り層の少なくとも
一部が遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非接触状態に
分離することを特徴とするものである。
【０００７】従って、本発明では、保護層に対する濡れ
性が遮光層と仕切り層とで異なっていても、遮光層は保
護層と接触せず仕切り層が保護層と接触することにな
る。そのため、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変
化を抑制することが可能になり、結果として保護層上の
電極の変形が緩和されることで断線の発生を低減するこ
とができる。
性が遮光層と仕切り層とで異なっていても、遮光層は保
護層と接触せず仕切り層が保護層と接触することにな
る。そのため、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変
化を抑制することが可能になり、結果として保護層上の
電極の変形が緩和されることで断線の発生を低減するこ
とができる。
【０００８】また、本発明は、遮光層及び仕切り層が所
定間隔をあけて複数配列され、遮光層を覆う仕切り層
が、配列された端部に位置する構成を採用可能である。
定間隔をあけて複数配列され、遮光層を覆う仕切り層
が、配列された端部に位置する構成を採用可能である。
【０００９】これにより、本発明では、遮光層、仕切り
層及びカラーフィルタ層が配された個所とこれらが配さ
れない個所との境界部分で保護層の厚さに変化があった
場合でも、濡れ性の差に起因する急峻な変化を抑制でき
る。
層及びカラーフィルタ層が配された個所とこれらが配さ
れない個所との境界部分で保護層の厚さに変化があった
場合でも、濡れ性の差に起因する急峻な変化を抑制でき
る。
【００１０】そして、本発明は、遮光層が金属材で形成
され、仕切り層及び保護層が合成樹脂材で形成される構
成に採用可能である。
され、仕切り層及び保護層が合成樹脂材で形成される構
成に採用可能である。
【００１１】これにより、本発明では、例えば遮光層を
Ｃｒ等の金属材で形成し、仕切り層をポリマー樹脂、保
護層をアクリル樹脂等の合成樹脂材で形成した場合で
も、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変化を抑制で
きる。
Ｃｒ等の金属材で形成し、仕切り層をポリマー樹脂、保
護層をアクリル樹脂等の合成樹脂材で形成した場合で
も、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変化を抑制で
きる。
【００１２】また、本発明のデバイスは、遮光層と、遮
光層上に形成された仕切り層と、仕切り層の間に形成さ
れてなる機能層と、遮光層、仕切り層、及び機能層を覆
う保護層とを有してなるデバイスであって、仕切り層の
少なくとも一部が遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非
接触状態に分離することを特徴としている。
光層上に形成された仕切り層と、仕切り層の間に形成さ
れてなる機能層と、遮光層、仕切り層、及び機能層を覆
う保護層とを有してなるデバイスであって、仕切り層の
少なくとも一部が遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非
接触状態に分離することを特徴としている。
【００１３】これにより、本発明では、デバイスにおけ
る断線の発生を低減して品質を向上させることが可能に
なる。機能層としては、有機ＥＬ発光層やマイクロレン
ズアレイに適用可能である。
る断線の発生を低減して品質を向上させることが可能に
なる。機能層としては、有機ＥＬ発光層やマイクロレン
ズアレイに適用可能である。
【００１４】また、本発明の電子機器は、上記の電気光
学装置を備えたことを特徴としている。
学装置を備えたことを特徴としている。
【００１５】これにより、本発明では、断線の発生を低
減でき、電子機器の品質を向上させることが可能にな
る。
減でき、電子機器の品質を向上させることが可能にな
る。
【００１６】一方、本発明の電気光学装置の製造方法
は、基板上に遮光層と、遮光層上に形成されカラーフィ
ルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光層、仕切り層及
びカラーフィルタ層を封止する保護層とを設ける電気光
学装置の製造方法であって、仕切り層の少なくとも一部
で遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非接触状態に分離
することを特徴としている。
は、基板上に遮光層と、遮光層上に形成されカラーフィ
ルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光層、仕切り層及
びカラーフィルタ層を封止する保護層とを設ける電気光
学装置の製造方法であって、仕切り層の少なくとも一部
で遮光層を覆い、保護層と遮光層とを非接触状態に分離
することを特徴としている。
【００１７】従って、本発明では、保護層に対する濡れ
性が遮光層と仕切り層とで異なっていても、遮光層は保
護層と接触せずに仕切り層が保護層と接触することにな
る。そのため、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変
化を抑制することが可能になり、結果として保護層上の
電極の変形が緩和されることで断線の発生を低減するこ
とができる。
性が遮光層と仕切り層とで異なっていても、遮光層は保
護層と接触せずに仕切り層が保護層と接触することにな
る。そのため、濡れ性の差に起因する保護層の急峻な変
化を抑制することが可能になり、結果として保護層上の
電極の変形が緩和されることで断線の発生を低減するこ
とができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の電気光学装置とそ
の製造方法、及びデバイス並びに電子機器の実施の形態
を、図１ないし図５を参照して説明する。ここでは、例
えば電気光学装置の部品としてカラーフィルタを製造す
る場合の例を用いて説明する。これらの図において、従
来例として示した図６と同一の構成要素には同一符号を
付し、その説明を省略する。
の製造方法、及びデバイス並びに電子機器の実施の形態
を、図１ないし図５を参照して説明する。ここでは、例
えば電気光学装置の部品としてカラーフィルタを製造す
る場合の例を用いて説明する。これらの図において、従
来例として示した図６と同一の構成要素には同一符号を
付し、その説明を省略する。
【００１９】図１は、この実施形態でカラーフィルタを
製造する際に用いられるカラーフィルタ基板の平面形状
を示す平面図である。図２は、図１の符号Ａで示す円内
の拡大図である。
製造する際に用いられるカラーフィルタ基板の平面形状
を示す平面図である。図２は、図１の符号Ａで示す円内
の拡大図である。
【００２０】図１に示されるように、カラーフィルタ基
板１２は、１枚のカラーフィルタとなるパネルチップ１
１が、平面上に複数並べられた状態となっている。この
実施形態では、１枚のカラーフィルタ基板１２は、約１
００枚のパネルチップ１１から構成されている。カラー
フィルタの製造時には、これら複数のパネルチップ１１
に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処理を行い、
その後、パネルチップ単位に切り離してカラーフィルタ
とする。
板１２は、１枚のカラーフィルタとなるパネルチップ１
１が、平面上に複数並べられた状態となっている。この
実施形態では、１枚のカラーフィルタ基板１２は、約１
００枚のパネルチップ１１から構成されている。カラー
フィルタの製造時には、これら複数のパネルチップ１１
に対してまとめてインクの吐出及び乾燥の処理を行い、
その後、パネルチップ単位に切り離してカラーフィルタ
とする。
【００２１】図２に示されるように、パネルチップ１１
は、マトリクス状に並んだ複数の画素部（カラーフィル
タ層）１３を備え、画素部と画素部の境目は、バンク
（仕切り層）１４によって区切られている。カラーフィ
ルタの製造の際には、上記画素部１３の１つ１つに、
赤、緑、青のいずれかのインク（色材）を数滴ずつ吐出
してカラーフィルタ層を形成する。図２の例では赤、
緑、青の配置をいわゆるモザイク型としたが、３色が均
等に配置されていれば、ストライプ型など、その他の配
置でも構わない。
は、マトリクス状に並んだ複数の画素部（カラーフィル
タ層）１３を備え、画素部と画素部の境目は、バンク
（仕切り層）１４によって区切られている。カラーフィ
ルタの製造の際には、上記画素部１３の１つ１つに、
赤、緑、青のいずれかのインク（色材）を数滴ずつ吐出
してカラーフィルタ層を形成する。図２の例では赤、
緑、青の配置をいわゆるモザイク型としたが、３色が均
等に配置されていれば、ストライプ型など、その他の配
置でも構わない。
【００２２】図３は、図２に示すパネル端部の部分拡大
図である。カラーフィルタ基板１２を構成するパネルチ
ップ１１は、透明基板２上にＣｒ等の金属材で形成され
たブラックマトリクスと称される遮光層３と、遮光層３
上にフッ素系ポリマー樹脂等の合成樹脂材で形成され画
素部１３（の領域）を仕切るバンク１４とを備えてお
り、断面形状として所定間隔で複数配列された遮光層３
及びバンク１４の間に所定パターンで画素部１３がカラ
ーフィルタとして形成される。
図である。カラーフィルタ基板１２を構成するパネルチ
ップ１１は、透明基板２上にＣｒ等の金属材で形成され
たブラックマトリクスと称される遮光層３と、遮光層３
上にフッ素系ポリマー樹脂等の合成樹脂材で形成され画
素部１３（の領域）を仕切るバンク１４とを備えてお
り、断面形状として所定間隔で複数配列された遮光層３
及びバンク１４の間に所定パターンで画素部１３がカラ
ーフィルタとして形成される。
【００２３】遮光層３、バンク１４及び画素部１３を含
むカラーフィルタは、アクリル樹脂等の合成樹脂で形成
された保護層６でカラーフィルタの外側に亘って気密に
封止されて保護されるとともに、その表面が平坦化され
ている。この保護層６の表面（上面）には、ＩＴＯ電極
（電極）７が形成されている。
むカラーフィルタは、アクリル樹脂等の合成樹脂で形成
された保護層６でカラーフィルタの外側に亘って気密に
封止されて保護されるとともに、その表面が平坦化され
ている。この保護層６の表面（上面）には、ＩＴＯ電極
（電極）７が形成されている。
【００２４】そして、複数配列されたバンク１４の中、
端部（Ｘ方向及びＹ方向の双方）に位置するバンク１４
に関しては、パネル１１の外側に延出して遮光層３を覆
うことで、保護層６と遮光層３とを非接触状態に分離す
るように配されている。
端部（Ｘ方向及びＹ方向の双方）に位置するバンク１４
に関しては、パネル１１の外側に延出して遮光層３を覆
うことで、保護層６と遮光層３とを非接触状態に分離す
るように配されている。
【００２５】続いて、本実施形態の製造方法によるカラ
ーフィルタの製造工程について、図４を用いて詳細に説
明する。
ーフィルタの製造工程について、図４を用いて詳細に説
明する。
【００２６】例えば、膜厚０．７ｍｍ、縦４７０ｍｍ、
横３７０ｍｍの無アルカリガラスからなる透明基板２の
表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗
浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って
清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム
膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層を得た。こ
の金属層の表面に、フォトレジストをスピンコートし
た。基板はホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥
し、フォトレジスト層を形成した。
横３７０ｍｍの無アルカリガラスからなる透明基板２の
表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗
浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って
清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム
膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層を得た。こ
の金属層の表面に、フォトレジストをスピンコートし
た。基板はホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥
し、フォトレジスト層を形成した。
【００２７】この基板表面に、所要のマトリクスパター
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを８
重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラッ
クマトリクス）３を得た。
ン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で
露光をおこなった。次に、これを、水酸化カリウムを８
重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光
の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパター
ニングした。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分
とするエッチング液でエッチング除去した。このように
して所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラッ
クマトリクス）３を得た。
【００２８】この基板２上に、さらにネガ型の透明アク
リル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗
布した。１００℃で２０分間プレベークした後、所定の
マトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用
いて紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはり
アルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピ
ン乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを２００
℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク１４
を形成した（図４（ａ）参照）。このとき、上述したよ
うに、端部に位置するバンク１４が遮光層３の外側を覆
うように外方へ延出して形成した。
リル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗
布した。１００℃で２０分間プレベークした後、所定の
マトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用
いて紫外線露光を行った。未露光部分の樹脂を、やはり
アルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピ
ン乾燥した。最終乾燥としてのアフターベークを２００
℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させ、バンク１４
を形成した（図４（ａ）参照）。このとき、上述したよ
うに、端部に位置するバンク１４が遮光層３の外側を覆
うように外方へ延出して形成した。
【００２９】得られた遮光層３およびバンク１４で仕切
られた（区画された）カラーフィルタ層形成領域（画素
部）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチン
グ、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。ヘリウムに
酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズ
マ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに形成し、基
板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチン
グし、バンク１４とともにカラーフィルタ層形成領域
（ガラス基板の露出面）の活性化処理を行った。
られた（区画された）カラーフィルタ層形成領域（画素
部）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチン
グ、すなわち大気圧プラズマ処理を行った。ヘリウムに
酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズ
マ雰囲気を大気圧内でエッチングスポットに形成し、基
板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチン
グし、バンク１４とともにカラーフィルタ層形成領域
（ガラス基板の露出面）の活性化処理を行った。
【００３０】このカラーフィルタ層形成領域（画素部１
３）に、インクジェットヘッド１５から色材であるイン
クを高精度で制御しつつ吐出し、インクを塗布した（図
４（ｂ）参照）。インクジェットプリンティングヘッド
１５には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用
し、微小インク滴を着色形成領域（画素部１３）毎に、
例えば８滴（約１０ｐｌ／滴）、選択的に飛ばした。ヘ
ッドよりターゲットであるカラーフィルタ層形成領域へ
の飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷
走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘ
ッドのピエゾ素子を駆動する電圧と、その波形が重要で
ある。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログ
ラムして、インク滴を赤、緑、青の３色を塗布して所定
の配色パターンのカラーフィルタ層を形成した。
３）に、インクジェットヘッド１５から色材であるイン
クを高精度で制御しつつ吐出し、インクを塗布した（図
４（ｂ）参照）。インクジェットプリンティングヘッド
１５には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用
し、微小インク滴を着色形成領域（画素部１３）毎に、
例えば８滴（約１０ｐｌ／滴）、選択的に飛ばした。ヘ
ッドよりターゲットであるカラーフィルタ層形成領域へ
の飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷
走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘ
ッドのピエゾ素子を駆動する電圧と、その波形が重要で
ある。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログ
ラムして、インク滴を赤、緑、青の３色を塗布して所定
の配色パターンのカラーフィルタ層を形成した。
【００３１】なお、インクの組成例としては、熱硬化性
アクリル樹脂を２０重量％、有機顔料を１０重量％、ジ
エチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤を７
０重量％としたものを用いた。
アクリル樹脂を２０重量％、有機顔料を１０重量％、ジ
エチレングリコールブチルエーテル誘導体等の溶剤を７
０重量％としたものを用いた。
【００３２】そして、画素部１３へのインク滴塗布後の
乾燥は、自然雰囲気中で３時間放置してインク層のセッ
ティングを行った後、例えば８０℃のホットプレート上
で４０分間加熱（プレベーク）し、最後にオーブン中で
２００℃で３０分間加熱（ポストベーク）してインク層
の硬化処理を行って、カラーフィルタ層を得た。この乾
燥により、画素部１３におけるインクは、加熱により溶
剤が蒸発し体積が減ることで、最終的にインクの固形分
のみが残留して膜化する（図４（ｃ）参照）。この工程
を他の色に関しても同様に繰り返し、Ｒ・Ｇ・Ｂの画素
部１３をそれぞれ形成する（図４（ｄ）参照）。
乾燥は、自然雰囲気中で３時間放置してインク層のセッ
ティングを行った後、例えば８０℃のホットプレート上
で４０分間加熱（プレベーク）し、最後にオーブン中で
２００℃で３０分間加熱（ポストベーク）してインク層
の硬化処理を行って、カラーフィルタ層を得た。この乾
燥により、画素部１３におけるインクは、加熱により溶
剤が蒸発し体積が減ることで、最終的にインクの固形分
のみが残留して膜化する（図４（ｃ）参照）。この工程
を他の色に関しても同様に繰り返し、Ｒ・Ｇ・Ｂの画素
部１３をそれぞれ形成する（図４（ｄ）参照）。
【００３３】そして、このように製造されたカラーフィ
ルタ基板に透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平
滑面を有する保護層６（オーバーコート層）を得た（図
４（ｅ）参照）。さらに、この上面にＩＴＯからなる電
極層７を所要パターンで形成して、カラーフィルタとし
た。なお、液晶の駆動にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ ＦｉｌｍＴ
ｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等を用いる場合ではこのパターニ
ングは不用である。得られたカラーフィルタは、熱サイ
クル耐久試験、紫外線照射試験、加湿試験等の耐久試験
に合格し、液晶表示装置などの要素基板として十分用い
得ることを確認した。
ルタ基板に透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平
滑面を有する保護層６（オーバーコート層）を得た（図
４（ｅ）参照）。さらに、この上面にＩＴＯからなる電
極層７を所要パターンで形成して、カラーフィルタとし
た。なお、液晶の駆動にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ ＦｉｌｍＴ
ｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等を用いる場合ではこのパターニ
ングは不用である。得られたカラーフィルタは、熱サイ
クル耐久試験、紫外線照射試験、加湿試験等の耐久試験
に合格し、液晶表示装置などの要素基板として十分用い
得ることを確認した。
【００３４】このように、本実施の形態では、端部にお
ける遮光層３がバンク１４によって覆われているので、
保護層６と遮光層３とが接触しない。そのため、金属材
の遮光層３と合成樹脂材のバンク１４とで保護層６に対
する濡れ性に差があっても、保護層６はパネル端部にお
いて、濡れ性がよくないバンク１４と接触することにな
り部分的に引っ張られる等の不都合が生じない。従っ
て、保護層６の急峻な変化を回避でき、結果として保護
層６の表面に沿う電極７の変形を緩和して断線の発生を
低減することができる。
ける遮光層３がバンク１４によって覆われているので、
保護層６と遮光層３とが接触しない。そのため、金属材
の遮光層３と合成樹脂材のバンク１４とで保護層６に対
する濡れ性に差があっても、保護層６はパネル端部にお
いて、濡れ性がよくないバンク１４と接触することにな
り部分的に引っ張られる等の不都合が生じない。従っ
て、保護層６の急峻な変化を回避でき、結果として保護
層６の表面に沿う電極７の変形を緩和して断線の発生を
低減することができる。
【００３５】次に、電気光学装置として上記のカラーフ
ィルタを備えた電子機器の例について説明する。図５
（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５
（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、
符号１００１は上記のカラーフィルタを用いた表示部を
示している。
ィルタを備えた電子機器の例について説明する。図５
（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５
（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、
符号１００１は上記のカラーフィルタを用いた表示部を
示している。
【００３６】図５（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を
示した斜視図である。図５（ｂ）において、符号１１０
０は時計本体を示し、符号１１０１は上記のカラーフィ
ルタを用いた表示部を示している。
示した斜視図である。図５（ｂ）において、符号１１０
０は時計本体を示し、符号１１０１は上記のカラーフィ
ルタを用いた表示部を示している。
【００３７】図５（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５
（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１
２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報
処理装置本体、符号１２０６は上記のカラーフィルタを
用いた表示部を示している。
携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５
（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１
２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報
処理装置本体、符号１２０６は上記のカラーフィルタを
用いた表示部を示している。
【００３８】図５（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器では、
上記実施形態のカラーフィルタを備えているので、断線
等の不良が抑制され高品質の電子機器を実現することが
できる。
上記実施形態のカラーフィルタを備えているので、断線
等の不良が抑制され高品質の電子機器を実現することが
できる。
【００３９】なお、本発明の技術範囲は、上記実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。
本発明の電気光学装置は、たとえば液晶表示デバイス用
のカラーフィルタに限定されるものではなく、たとえ
ば、ＭＬＡ（マイクロレンズアレイ）やＥＬ（エレクト
ロルミネッセンス）表示デバイスに応用が可能である。
ＥＬ表示デバイスは、蛍光性の無機および有機化合物を
含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、前記薄
膜に電子および正孔（ホール）を注入して再結合させる
ことにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキ
シトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用し
て発光させる素子である。こうしたＥＬ表示素子に用い
られる蛍光性材料のうち、赤、緑および青色の各発光色
を呈する材料すなわち発光層形成材料及び正孔注入／電
子輸送層を形成する材料をインクとし、各々を本発明の
製膜装置を用いて、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａ
ｎｓｉｓｔｏｒ）やＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏ
ｄｅ）等の素子基板上に機能層としてパターニングする
ことで、自発光フルカラーＥＬデバイスを製造すること
ができる。本発明における電気光学装置の範囲にはこの
ようなＥＬデバイスをも含むものである。
態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲において種々の変更を加えることが可能である。
本発明の電気光学装置は、たとえば液晶表示デバイス用
のカラーフィルタに限定されるものではなく、たとえ
ば、ＭＬＡ（マイクロレンズアレイ）やＥＬ（エレクト
ロルミネッセンス）表示デバイスに応用が可能である。
ＥＬ表示デバイスは、蛍光性の無機および有機化合物を
含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、前記薄
膜に電子および正孔（ホール）を注入して再結合させる
ことにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキ
シトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用し
て発光させる素子である。こうしたＥＬ表示素子に用い
られる蛍光性材料のうち、赤、緑および青色の各発光色
を呈する材料すなわち発光層形成材料及び正孔注入／電
子輸送層を形成する材料をインクとし、各々を本発明の
製膜装置を用いて、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａ
ｎｓｉｓｔｏｒ）やＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏ
ｄｅ）等の素子基板上に機能層としてパターニングする
ことで、自発光フルカラーＥＬデバイスを製造すること
ができる。本発明における電気光学装置の範囲にはこの
ようなＥＬデバイスをも含むものである。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、保護
層の急峻な変化を回避して電極の断線の発生を低減でき
るという効果を奏する。また、本発明では、断線等の不
良が抑制された高品質の電子機器及びデバイスが得られ
るという効果を奏する。
層の急峻な変化を回避して電極の断線の発生を低減でき
るという効果を奏する。また、本発明では、断線等の不
良が抑制された高品質の電子機器及びデバイスが得られ
るという効果を奏する。
【図１】 カラーフィルタを製造する際に用いられる
カラーフィルタ基板の平面図である。
カラーフィルタ基板の平面図である。
【図２】 図１中、符号Ａで示す円内の拡大図であ
る。
る。
【図３】 図２に示すパネル端部の部分断面図であ
る。
る。
【図４】 （ａ）〜（ｆ）は、基板を用いてカラーフ
ィルタを製造する手順の一例を示す図である。
ィルタを製造する手順の一例を示す図である。
【図５】 電気光学装置を備えた電子機器の一例を示
す図であり、（ａ）は携帯電話、（ｂ）は腕時計型電子
機器、（ｃ）は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視図で
ある。
す図であり、（ａ）は携帯電話、（ｂ）は腕時計型電子
機器、（ｃ）は携帯型情報処理装置のそれぞれ斜視図で
ある。
【図６】 従来技術によるカラーフィルタ基板の一例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
３ 遮光層
６ 保護層
７ ＩＴＯ電極（電極）
１２ カラーフィルタ基板（電気光学装置）
１３ 画素部（カラーフィルタ層）
１４ バンク（仕切り層）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ ５Ｇ４３５
５０５ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８
Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８ Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ
Ｆターム(参考） 2C056 EA24 FB01
2H048 BA02 BA55 BA64 BB01 BB02
BB08 BB24 BB28 BB37 BB42
2H090 HA04 HA05 HB07X HC11
HC13 HC16 HD01 LA05 LA12
LA15
2H091 FA02Y FA29Y FA34Y FA44Y
FB03 FD04 FD05 GA03 GA07
GA16 LA12
5C094 AA32 BA27 BA43 CA19 ED03
FA02 FB01 HA08
5G435 AA16 BB05 BB12 FF11 FF13
GG12 HH02 KK05 KK07 LL07
LL08
Claims (8)
- 【請求項１】 基板上に遮光層と、該遮光層上に形成
されカラーフィルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光
層、仕切り層及びカラーフィルタ層を封止する保護層と
が設けられた電気光学装置であって、 前記仕切り層の少なくとも一部が前記遮光層を覆い、前
記保護層と前記遮光層とを非接触状態に分離することを
特徴とする電気光学装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の電気光学装置におい
て、 前記遮光層及び仕切り層は、所定間隔をあけて複数配列
され、 前記遮光層を覆う前記仕切り層は、配列された端部に位
置することを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の電気光学装置
において、 前記遮光層は金属材で形成され、 前記仕切り層及び前記保護層は、合成樹脂材で形成され
ることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれかに記
載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。 - 【請求項５】 遮光層と、前記遮光層上に形成された
仕切り層と、前記仕切り層の間に形成されてなる機能層
と、前記遮光層、前記仕切り層、及び前記機能層を覆う
保護層とを有してなるデバイスであって、 前記仕切り層の少なくとも一部が前記遮光層を覆い、前
記保護層と前記遮光層とを非接触状態に分離することを
特徴とするデバイス。 - 【請求項６】 請求項５記載のデバイスにおいて、 前記機能層が有機ＥＬ発光層であることを特徴とするデ
バイス。 - 【請求項７】 請求項５記載のデバイスにおいて、 前記機能層がマイクロレンズアレイであることを特徴と
するデバイス。 - 【請求項８】 基板上に遮光層と、該遮光層上に形成
されカラーフィルタ層を仕切る仕切り層と、これら遮光
層、仕切り層及びカラーフィルタ層を封止する保護層と
を設ける電気光学装置の製造方法であって、 前記仕切り層の少なくとも一部で前記遮光層を覆い、前
記保護層と前記遮光層とを非接触状態に分離することを
特徴とする電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002089811A JP2003288030A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器 |
| KR10-2003-0018374A KR100491589B1 (ko) | 2002-03-27 | 2003-03-25 | 전기 광학 장치와 그 제조 방법 및 디바이스와 전자 기기 |
| TW092106832A TW591563B (en) | 2002-03-27 | 2003-03-26 | Electro-optical apparatus, its production method, devices and electronic appliances |
| US10/396,335 US7106399B2 (en) | 2002-03-27 | 2003-03-26 | Electro-optical apparatus, comprising a partition layer formed on a shading layer its production method, devices and electronic appliances |
| CNB031082858A CN1214283C (zh) | 2002-03-27 | 2003-03-27 | 电光装置及其制造方法以及器件和电子仪器 |
| US11/431,078 US7330228B2 (en) | 2002-03-27 | 2006-05-10 | Electro-optical apparatus, its production method, devices and electronic appliances |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002089811A JP2003288030A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003288030A true JP2003288030A (ja) | 2003-10-10 |
Family
ID=28449541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002089811A Withdrawn JP2003288030A (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7106399B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003288030A (ja) |
| KR (1) | KR100491589B1 (ja) |
| CN (1) | CN1214283C (ja) |
| TW (1) | TW591563B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007034235A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置 |
| US7311378B2 (en) | 2004-01-22 | 2007-12-25 | Seiko Epson Corporation | Wiping apparatus and imaging apparatus provided therewith, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| JP2009128742A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、電気光学装置、およびカラーフィルタ基板の製造方法 |
| US7667794B2 (en) | 2004-02-04 | 2010-02-23 | Seiko Epson Corporation | Color element-equipped substrate, method for manufacturing color element-equipped substrate, and electronic device |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002099477A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore et dispositif electro-optique |
| TWI227340B (en) * | 2002-02-25 | 2005-02-01 | Himax Tech Inc | Color filter and liquid crystal display |
| JP4401806B2 (ja) * | 2003-02-18 | 2010-01-20 | シャープ株式会社 | 複合膜の製造方法、複合膜、カラーフィルタ、及びカラーフィルタを備えた表示装置 |
| KR101111470B1 (ko) * | 2003-11-14 | 2012-02-21 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| JP2006292801A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Seiko Epson Corp | 液晶装置並びに電子機器 |
| JP4352043B2 (ja) | 2005-12-02 | 2009-10-28 | 株式会社エンプラス | 撮像レンズ |
| KR20080001744A (ko) * | 2006-06-30 | 2008-01-04 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 점착반송기판 및 이를 이용한 플렉서블 표시장치 제조방법 |
| US8873003B2 (en) * | 2011-12-19 | 2014-10-28 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Liquid crystal display device and manufacture method thereof |
| CN112133734B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-08-30 | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 | 显示面板及显示装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0571625B1 (en) * | 1990-06-20 | 2001-06-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Color filter and method of manufacturing the same |
| WO1993024240A1 (en) | 1992-06-01 | 1993-12-09 | Advanced Technology Incubator, Inc. | Light influencing element for high resolution optical systems and method of making same |
| JPH06118217A (ja) | 1992-10-01 | 1994-04-28 | Toray Ind Inc | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH06130218A (ja) | 1992-10-20 | 1994-05-13 | Toshiba Corp | カラ−フィルタおよび液晶表示装置 |
| JP2872594B2 (ja) | 1993-11-24 | 1999-03-17 | キヤノン株式会社 | カラーフィルターの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
| TW417034B (en) | 1993-11-24 | 2001-01-01 | Canon Kk | Color filter, method for manufacturing it, and liquid crystal panel |
| JPH112716A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Canon Inc | カラーフィルタ、これを用いた液晶素子及びこれらの製造方法、並びに該製造方法に用いられるインクジェット用インク |
| JP3919356B2 (ja) * | 1998-09-09 | 2007-05-23 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタの製造装置、および液晶素子の製造方法 |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002089811A patent/JP2003288030A/ja not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-03-25 KR KR10-2003-0018374A patent/KR100491589B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-26 US US10/396,335 patent/US7106399B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-26 TW TW092106832A patent/TW591563B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-03-27 CN CNB031082858A patent/CN1214283C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-05-10 US US11/431,078 patent/US7330228B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7311378B2 (en) | 2004-01-22 | 2007-12-25 | Seiko Epson Corporation | Wiping apparatus and imaging apparatus provided therewith, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
| US7667794B2 (en) | 2004-02-04 | 2010-02-23 | Seiko Epson Corporation | Color element-equipped substrate, method for manufacturing color element-equipped substrate, and electronic device |
| JP2007034235A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置 |
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