JPH10123302A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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- JPH10123302A JPH10123302A JP8297209A JP29720996A JPH10123302A JP H10123302 A JPH10123302 A JP H10123302A JP 8297209 A JP8297209 A JP 8297209A JP 29720996 A JP29720996 A JP 29720996A JP H10123302 A JPH10123302 A JP H10123302A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止フィルムの反射防止能を低下させな
いように、反射防止膜を構成する層数を４未満とする。 【解決手段】 基材１上に多層反射防止膜２が設けられ
た反射防止フィルムにおいて、多層反射防止膜２がアル
ミニウム酸化物とランタン酸化物とを含有する層又はア
ルミニウム−ランタン複合酸化物層からなる中屈折率材
料層２ａを含有する。基材１側から、中屈折率材料層２
ａ、高屈折率材料層２ｂ及び低屈折率材料層２ｃとが配
される。
いように、反射防止膜を構成する層数を４未満とする。 【解決手段】 基材１上に多層反射防止膜２が設けられ
た反射防止フィルムにおいて、多層反射防止膜２がアル
ミニウム酸化物とランタン酸化物とを含有する層又はア
ルミニウム−ランタン複合酸化物層からなる中屈折率材
料層２ａを含有する。基材１側から、中屈折率材料層２
ａ、高屈折率材料層２ｂ及び低屈折率材料層２ｃとが配
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴや液晶ディ
スプレイ等の画像表示素子の表面の光の反射を防止する
ための反射防止フィルムに関する。
スプレイ等の画像表示素子の表面の光の反射を防止する
ための反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、種々の画像表示素子の表面に
おける外光の反射を防止するために、反射防止フィルム
を画像表示素子表面に貼り付けることが行われている。
おける外光の反射を防止するために、反射防止フィルム
を画像表示素子表面に貼り付けることが行われている。
【０００３】このような反射防止フィルムとしては、図
３に示すように光透過性の基材３１上に、反射防止フィ
ルムに耐擦過性を付与するハードコート層３２、反射防
止膜３３、更に必要に応じて反射防止フィルムに耐水性
を付与する撥水層３４が順次形成された構造のものが広
く用いられている。ここで、反射防止膜３３としては、
ハードコート層３２側から高屈折率材料層３３ａ（３３
ｃ）と屈折率が１．６以下の低屈折率材料層３３ｂ（３
３ｄ）とが交互に合計４層（各２層づつ）積層された多
層膜を用いることが提案されている（特開昭６２−２１
５２０２号公報）。この場合、高屈折率材料としては、
二酸化チタンや二酸化ジルコニウム等の屈折率が２．０
以上の無機材料が用いられており、低屈折率材料として
は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の屈折率が１．
６以下の無機材料が用いられている。そして、波長λが
５００〜６５０ｎｍにおいて反射率が０．５％程度とな
るように、高屈折率材料層３３ａ及び低屈折率材料層３
３ｂの厚みはλ／８程度に調整されており、そして高屈
折率材料層３３ｃ及び低屈折率材料層３３ｄの厚みがλ
／４程度に調整されている。
３に示すように光透過性の基材３１上に、反射防止フィ
ルムに耐擦過性を付与するハードコート層３２、反射防
止膜３３、更に必要に応じて反射防止フィルムに耐水性
を付与する撥水層３４が順次形成された構造のものが広
く用いられている。ここで、反射防止膜３３としては、
ハードコート層３２側から高屈折率材料層３３ａ（３３
ｃ）と屈折率が１．６以下の低屈折率材料層３３ｂ（３
３ｄ）とが交互に合計４層（各２層づつ）積層された多
層膜を用いることが提案されている（特開昭６２−２１
５２０２号公報）。この場合、高屈折率材料としては、
二酸化チタンや二酸化ジルコニウム等の屈折率が２．０
以上の無機材料が用いられており、低屈折率材料として
は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の屈折率が１．
６以下の無機材料が用いられている。そして、波長λが
５００〜６５０ｎｍにおいて反射率が０．５％程度とな
るように、高屈折率材料層３３ａ及び低屈折率材料層３
３ｂの厚みはλ／８程度に調整されており、そして高屈
折率材料層３３ｃ及び低屈折率材料層３３ｄの厚みがλ
／４程度に調整されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように反射防止膜を４層構成とした場合、反射防止フィ
ルムに良好な反射防止性を付与することができるが、反
射防止膜を作製するために比較的成膜コストが高い真空
蒸着法やスパッタ法などのドライプロセスを少なくとも
４回実施しなければならず、反射防止性を低下させずに
ドライプロセスの実施回数を少なくすること（即ち、反
射防止膜の構成層数を少なくすること）が望まれてい
た。また、反射防止フィルムの反射防止能は反射防止膜
を構成する各層の光学的膜厚｛＝ｎ（屈折率）×ｄ（層
厚）｝にも依存するためにかなりの精度でコントロール
する必要があるが、約１０〜１５０ｎｍオーダーの厚さ
の４つの層をコントロールすることは困難であり、この
点からも反射防止膜の構成層数を少なくすることが望ま
れていた。
ように反射防止膜を４層構成とした場合、反射防止フィ
ルムに良好な反射防止性を付与することができるが、反
射防止膜を作製するために比較的成膜コストが高い真空
蒸着法やスパッタ法などのドライプロセスを少なくとも
４回実施しなければならず、反射防止性を低下させずに
ドライプロセスの実施回数を少なくすること（即ち、反
射防止膜の構成層数を少なくすること）が望まれてい
た。また、反射防止フィルムの反射防止能は反射防止膜
を構成する各層の光学的膜厚｛＝ｎ（屈折率）×ｄ（層
厚）｝にも依存するためにかなりの精度でコントロール
する必要があるが、約１０〜１５０ｎｍオーダーの厚さ
の４つの層をコントロールすることは困難であり、この
点からも反射防止膜の構成層数を少なくすることが望ま
れていた。
【０００５】このような要請に対し、反射防止膜の構成
層数を３層構造とするために、ハードコート層側から、
屈折率が１．７〜１．８の中屈折率材料層と、屈折率が
２．０以上の高屈折率材料層とからなる反射防止膜の当
該高屈折率材料層上に、更に屈折率が１．６以下の低屈
折率材料層を積層することが原理的に知られている。し
かし、そのような数値範囲の単品の中屈折率材料は知ら
れていないというのが現状である。そのため、高屈折率
材料として一般的に用いられている二酸化チタンと低屈
折率材料として一般的に用いられる二酸化ケイ素とを混
合して成膜することが試みられたが、均一な膜が得られ
ず、意図した屈折率とならないという問題があった。
層数を３層構造とするために、ハードコート層側から、
屈折率が１．７〜１．８の中屈折率材料層と、屈折率が
２．０以上の高屈折率材料層とからなる反射防止膜の当
該高屈折率材料層上に、更に屈折率が１．６以下の低屈
折率材料層を積層することが原理的に知られている。し
かし、そのような数値範囲の単品の中屈折率材料は知ら
れていないというのが現状である。そのため、高屈折率
材料として一般的に用いられている二酸化チタンと低屈
折率材料として一般的に用いられる二酸化ケイ素とを混
合して成膜することが試みられたが、均一な膜が得られ
ず、意図した屈折率とならないという問題があった。
【０００６】本発明は、以上の従来の技術の課題を解決
しようとするものであり、反射防止フィルムの反射防止
能を低下させないように、反射防止膜を構成する層数を
４未満とすることを目的とする。
しようとするものであり、反射防止フィルムの反射防止
能を低下させないように、反射防止膜を構成する層数を
４未満とすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、高屈折率材
料（屈折率２．０以上）としても低屈折率材料（屈折率
１．６以下）としても従来使用することができなかった
屈折率１．９の酸化ランタンと、屈折率１．６の酸化ア
ルミニウムとが共蒸着法等により同じ成膜条件で同時に
成膜でき、しかも得られる膜の屈折率がそれらのほぼ中
間の屈折率に調整できることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
料（屈折率２．０以上）としても低屈折率材料（屈折率
１．６以下）としても従来使用することができなかった
屈折率１．９の酸化ランタンと、屈折率１．６の酸化ア
ルミニウムとが共蒸着法等により同じ成膜条件で同時に
成膜でき、しかも得られる膜の屈折率がそれらのほぼ中
間の屈折率に調整できることを見出し、本発明を完成さ
せるに至った。
【０００８】即ち、本発明は、基材上に多層反射防止膜
が設けられた反射防止フィルムにおいて、多層反射防止
膜がアルミニウム酸化物とランタン酸化物とを含有する
層又はアルミニウム−ランタン複合酸化物層からなる中
屈折率材料層を含有することを特徴とする反射防止フィ
ルムを提供する。
が設けられた反射防止フィルムにおいて、多層反射防止
膜がアルミニウム酸化物とランタン酸化物とを含有する
層又はアルミニウム−ランタン複合酸化物層からなる中
屈折率材料層を含有することを特徴とする反射防止フィ
ルムを提供する。
【０００９】本発明の反射防止フィルムにおいては、特
に多層反射防止膜が、基材側から中屈折率材料層、高屈
折率材料層及び低屈折率材料層からなる３層構造とする
ことが好ましい。また、反射防止フィルムの耐擦過性な
どの機械的性質を向上させるために基材と反射防止膜と
の間に、ハードコート層を更に形成することが好まし
い。また、反射防止フィルムの耐水性を向上させるため
に、反射防止膜上に、更に撥水層を形成することが好ま
しい。
に多層反射防止膜が、基材側から中屈折率材料層、高屈
折率材料層及び低屈折率材料層からなる３層構造とする
ことが好ましい。また、反射防止フィルムの耐擦過性な
どの機械的性質を向上させるために基材と反射防止膜と
の間に、ハードコート層を更に形成することが好まし
い。また、反射防止フィルムの耐水性を向上させるため
に、反射防止膜上に、更に撥水層を形成することが好ま
しい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
ら詳細に説明する。
【００１１】図１は、本発明の反射防止フィルムの基本
的態様の断面図である。また、図２（ａ）及び（ｂ）
は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの別の態様の断
面図である。
的態様の断面図である。また、図２（ａ）及び（ｂ）
は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの別の態様の断
面図である。
【００１２】図１の反射防止フィルムは、基材１上に反
射防止膜２が積層された構造を有する。ここで、反射防
止膜２は、基材１側から中屈折率材料層２ａ、高屈折率
材料層２ｂ、及び低屈折率材料層２ｃが積層された構造
の多層膜となっている。そして、この中屈折率材料層２
ａとして、アルミニウム酸化物とランタン酸化物とを含
有する層又はアルミニウム−ランタン複合酸化物層を使
用する。
射防止膜２が積層された構造を有する。ここで、反射防
止膜２は、基材１側から中屈折率材料層２ａ、高屈折率
材料層２ｂ、及び低屈折率材料層２ｃが積層された構造
の多層膜となっている。そして、この中屈折率材料層２
ａとして、アルミニウム酸化物とランタン酸化物とを含
有する層又はアルミニウム−ランタン複合酸化物層を使
用する。
【００１３】このような３層構造とすることにより、従
来の４層構造の反射防止膜に比べ、反射防止能を低下さ
せずに成膜工程を一つ減ずることができ、結果的に反射
防止フィルムの製造コストを低減させることができる。
来の４層構造の反射防止膜に比べ、反射防止能を低下さ
せずに成膜工程を一つ減ずることができ、結果的に反射
防止フィルムの製造コストを低減させることができる。
【００１４】本発明において基材１としては、従来の反
射防止フィルムにおいて用いられている基材と同様のも
のを使用することができ、フィルム状のガラスや光透過
性のプラスチックフィルム、例えば、ポリカーボネート
フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエー
テルスルホンフィルム、ポリメチルアクリレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用する
ことができる。
射防止フィルムにおいて用いられている基材と同様のも
のを使用することができ、フィルム状のガラスや光透過
性のプラスチックフィルム、例えば、ポリカーボネート
フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエー
テルスルホンフィルム、ポリメチルアクリレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用する
ことができる。
【００１５】なお、基材１の種類、厚み、光透過度等に
ついては、反射防止フィルムの使用目的等に応じて適宜
選択することができる。
ついては、反射防止フィルムの使用目的等に応じて適宜
選択することができる。
【００１６】中屈折率材料層２ａは、前述したようにア
ルミニウム酸化物（屈折率１．６）とランタン酸化物
（屈折率１．９）とを含有する層、又はアルミニウム−
ランタン複合酸化物層を使用する。
ルミニウム酸化物（屈折率１．６）とランタン酸化物
（屈折率１．９）とを含有する層、又はアルミニウム−
ランタン複合酸化物層を使用する。
【００１７】ここで、アルミニウム酸化物とランタン酸
化物とを含有する層とは、(Ａｌ2Ｏ3)a(Ｌａ2Ｏ3)b｛式
中、ａ及びｂはモルである｝で表される混合物からなる
層である。この混合物は、微小構造的には、それぞれＡ
ｌ2Ｏ3とＬａ2Ｏ3とが独立して存在するが、光学的には
均一な屈折率を示す。また、ａとｂとの数値を変化させ
ることにより、１．６〜１．９の範囲の任意の屈折率を
選択することができる。この層は、真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタリング法などの物理蒸着法
で形成することができる。
化物とを含有する層とは、(Ａｌ2Ｏ3)a(Ｌａ2Ｏ3)b｛式
中、ａ及びｂはモルである｝で表される混合物からなる
層である。この混合物は、微小構造的には、それぞれＡ
ｌ2Ｏ3とＬａ2Ｏ3とが独立して存在するが、光学的には
均一な屈折率を示す。また、ａとｂとの数値を変化させ
ることにより、１．６〜１．９の範囲の任意の屈折率を
選択することができる。この層は、真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタリング法などの物理蒸着法
で形成することができる。
【００１８】また、アルミニウム−ランタン複合酸化物
層とは、（ＬａxＡｌyＯz）で表される化合物（式中、
ｘ＝０．５〜１、ｙ＝１〜１．５、ｚ＝３である。）か
らなる層であり、光学的に均一な屈折率を示す。また、
ｘとｙとｚとの数値を変化させることにより、１．６〜
１．９の範囲の任意の屈折率を選択することができる。
この層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法などの物理蒸着法で形成することができ
る。
層とは、（ＬａxＡｌyＯz）で表される化合物（式中、
ｘ＝０．５〜１、ｙ＝１〜１．５、ｚ＝３である。）か
らなる層であり、光学的に均一な屈折率を示す。また、
ｘとｙとｚとの数値を変化させることにより、１．６〜
１．９の範囲の任意の屈折率を選択することができる。
この層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法などの物理蒸着法で形成することができ
る。
【００１９】高屈折率材料層２ｂを構成する高屈折率材
料としては、屈折率が１．９を超えるものを使用する。
このような材料としては、二酸化チタン、二酸化ジルコ
ニウム、二酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、
酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化スズなどを挙げる
ことができる。
料としては、屈折率が１．９を超えるものを使用する。
このような材料としては、二酸化チタン、二酸化ジルコ
ニウム、二酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、
酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化スズなどを挙げる
ことができる。
【００２０】なお、高屈折率材料層２ｂの層厚は、生産
性、フレキシビリティー、膜構成等を考慮するとλ／２
程度とすることが好ましい。
性、フレキシビリティー、膜構成等を考慮するとλ／２
程度とすることが好ましい。
【００２１】低屈折率材料層２ｃを構成する低屈折率材
料としては、屈折率が１．６以下のものを使用する。こ
のような材料としては、二酸化ケイ素、フッ化マグネシ
ウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化アル
ミニウム、酸化アルミニウムなどを使用することができ
る。
料としては、屈折率が１．６以下のものを使用する。こ
のような材料としては、二酸化ケイ素、フッ化マグネシ
ウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化アル
ミニウム、酸化アルミニウムなどを使用することができ
る。
【００２２】なお、低屈折率材料層２ｃの層厚は、生産
性やフレキシビリティー等を考慮するとλ／４程度とす
ることが好ましい。
性やフレキシビリティー等を考慮するとλ／４程度とす
ることが好ましい。
【００２３】図１には、基材１と反射防止膜２とからな
る反射防止フィルムを示したが、本発明の反射防止フィ
ルムは、図２（ａ）に示すように、基材１と反射防止膜
２との間に、反射防止フィルムの耐擦過性を向上させ、
反射防止膜２の剥離を防止するためにハードコート層３
を設けることが好ましい。更に、反射防止フィルムに耐
水性や耐汚染性を付与するために、図２（ｂ）に示すよ
うに、反射防止膜２上に撥水層４を設けることが好まし
い。
る反射防止フィルムを示したが、本発明の反射防止フィ
ルムは、図２（ａ）に示すように、基材１と反射防止膜
２との間に、反射防止フィルムの耐擦過性を向上させ、
反射防止膜２の剥離を防止するためにハードコート層３
を設けることが好ましい。更に、反射防止フィルムに耐
水性や耐汚染性を付与するために、図２（ｂ）に示すよ
うに、反射防止膜２上に撥水層４を設けることが好まし
い。
【００２４】本発明において、ハードコート層３として
は、従来の反射防止フィルムにおいて用いられているハ
ードコート層と同様の光透過性の材料から形成されたも
のを使用することができる。例えば、紫外線硬化型のア
クリル樹脂やシリコーン樹脂等を使用することができ
る。
は、従来の反射防止フィルムにおいて用いられているハ
ードコート層と同様の光透過性の材料から形成されたも
のを使用することができる。例えば、紫外線硬化型のア
クリル樹脂やシリコーン樹脂等を使用することができ
る。
【００２５】なお、ハードコート層３の屈折率を、中屈
折率材料層２ａの屈折率より低くなるようにする。これ
により、反射防止膜２による反射防止性を向上させるこ
とができる。また、ハードコート層３の屈折率を、反射
防止特性のために基材１と同程度の屈折率となるように
するのが好ましい。
折率材料層２ａの屈折率より低くなるようにする。これ
により、反射防止膜２による反射防止性を向上させるこ
とができる。また、ハードコート層３の屈折率を、反射
防止特性のために基材１と同程度の屈折率となるように
するのが好ましい。
【００２６】ハードコート層３の厚みとしては、硬度、
生産性等の観点から形状膜厚として３〜１０μｍとする
ことが好ましい。
生産性等の観点から形状膜厚として３〜１０μｍとする
ことが好ましい。
【００２７】また、撥水層４としても従来の反射防止フ
ィルムにおいて用いられている撥水層と同様の疎水性材
料から形成されたものを使用することができる。例え
ば、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を挙げる
ことができる。
ィルムにおいて用いられている撥水層と同様の疎水性材
料から形成されたものを使用することができる。例え
ば、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を挙げる
ことができる。
【００２８】次に、本発明の反射防止フィルムの製造方
法を、図２（ｂ）の態様の反射防止フィルムを例にとり
説明する。
法を、図２（ｂ）の態様の反射防止フィルムを例にとり
説明する。
【００２９】まず、基材１上に、ハードコート層形成用
樹脂組成物をマイクログラビアコーターにより塗布し、
乾燥することによりハードコート層３を形成する。
樹脂組成物をマイクログラビアコーターにより塗布し、
乾燥することによりハードコート層３を形成する。
【００３０】次に、ハードコート層３上に、イオンプレ
ーティング法などによりアルミニウム酸化物とランタン
酸化物とを含有する層又はアルミニウム−ランタン複合
酸化物層などの中屈折率材料を堆積させて中屈折率材料
層２ａを形成する。
ーティング法などによりアルミニウム酸化物とランタン
酸化物とを含有する層又はアルミニウム−ランタン複合
酸化物層などの中屈折率材料を堆積させて中屈折率材料
層２ａを形成する。
【００３１】次に、この中屈折率材料層２ａ上に、高屈
折率材料を真空蒸着法やスパッタ法などにより堆積させ
て高屈折率材料層２ｂを形成する。
折率材料を真空蒸着法やスパッタ法などにより堆積させ
て高屈折率材料層２ｂを形成する。
【００３２】次に、この高屈折率材料層２ｂ上に、真空
蒸着法やスパッタ法などにより低屈折率材料層２ｃを形
成する。
蒸着法やスパッタ法などにより低屈折率材料層２ｃを形
成する。
【００３３】最後に、低屈折率材料とにより図２（ｂ）
に示した反射防止フィルムを作製することができる。
に示した反射防止フィルムを作製することができる。
【００３４】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【００３５】比較例１ λ＝５５０ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．４８９の８０μ
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、屈折率ｎ＝２．２
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
をλ／８厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４５
の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層をλ／８厚
で形成し、その上に再び屈折率ｎ＝２．２の二酸化チタ
ンを常法により堆積させて高屈折率材料層をλ／８厚で
形成し、その上に屈折率ｎ＝１．４５の二酸化ケイ素を
堆積させて低屈折率材料層をλ／８厚で形成し、従来の
反射防止フィルムを得た。
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、屈折率ｎ＝２．２
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
をλ／８厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４５
の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層をλ／８厚
で形成し、その上に再び屈折率ｎ＝２．２の二酸化チタ
ンを常法により堆積させて高屈折率材料層をλ／８厚で
形成し、その上に屈折率ｎ＝１．４５の二酸化ケイ素を
堆積させて低屈折率材料層をλ／８厚で形成し、従来の
反射防止フィルムを得た。
【００３６】得られた反射防止フィルムの分光反射特性
を分光光度計を使用して測定した。得られた結果を図５
に示す。この図から明らかなように、４７５〜６２５ｎ
ｍの範囲に亘って反射率が０．３％以下となっており、
優れた反射防止特性を示していた。
を分光光度計を使用して測定した。得られた結果を図５
に示す。この図から明らかなように、４７５〜６２５ｎ
ｍの範囲に亘って反射率が０．３％以下となっており、
優れた反射防止特性を示していた。
【００３７】実施例１ λ＝５５０ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．４８９の８０μ
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、Ａｌ2Ｏ3とＬａ2
Ｏ3とを屈折率ｎが１．７７となるようにイオンプレー
ティングして中屈折率材料層をλ／４厚で形成した。
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、Ａｌ2Ｏ3とＬａ2
Ｏ3とを屈折率ｎが１．７７となるようにイオンプレー
ティングして中屈折率材料層をλ／４厚で形成した。
【００３８】この中屈折率材料層上に屈折率ｎ＝２．２
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
を約λ／２厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４
５の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層を約λ／
４厚で形成し、反射防止フィルムを得た。
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
を約λ／２厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４
５の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層を約λ／
４厚で形成し、反射防止フィルムを得た。
【００３９】得られた反射防止フィルムの分光反射特性
を図４に示す。図４から明らかなように、広範囲（４２
５〜６７５ｎｍ）に亘って反射率が０．３％以下となっ
ており、反射防止層数が一つ多い従来の反射防止フィル
ム（比較例１）の分光反射特性（図５）より広い範囲で
優れた反射防止特性を示していた。
を図４に示す。図４から明らかなように、広範囲（４２
５〜６７５ｎｍ）に亘って反射率が０．３％以下となっ
ており、反射防止層数が一つ多い従来の反射防止フィル
ム（比較例１）の分光反射特性（図５）より広い範囲で
優れた反射防止特性を示していた。
【００４０】実施例２ λ＝５５０ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．４８９の８０μ
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、アクリル樹脂を含
有するコーティング液を常法に従って塗工し、乾燥して
屈折率ｎ＝１．５０の７μｍ厚のハードコート層を形成
した。
ｍ厚のトリアセチルセルロース基材（フジタック（８０
μｍ厚）、富士フィルム社製）上に、アクリル樹脂を含
有するコーティング液を常法に従って塗工し、乾燥して
屈折率ｎ＝１．５０の７μｍ厚のハードコート層を形成
した。
【００４１】このハードコート層上に、Ａｌ2Ｏ3とＬａ
2Ｏ3とを屈折率ｎが１．７７となるようにイオンプレー
ティングして中屈折率材料層をλ／４厚で形成した。
2Ｏ3とを屈折率ｎが１．７７となるようにイオンプレー
ティングして中屈折率材料層をλ／４厚で形成した。
【００４２】この中屈折率材料層上に屈折率ｎ＝２．２
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
をλ／２厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４５
の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層を４／λ厚
で形成し、反射防止フィルムを得た。
の二酸化チタンを常法により堆積させて高屈折率材料層
をλ／２厚で形成し、更にその上に屈折率ｎ＝１．４５
の二酸化ケイ素を堆積させて低屈折率材料層を４／λ厚
で形成し、反射防止フィルムを得た。
【００４３】得られた反射防止フィルムの分光反射特性
は実施例１と同様に優れたものであった。しかも反射防
止層の耐剥離性も向上していた。
は実施例１と同様に優れたものであった。しかも反射防
止層の耐剥離性も向上していた。
【００４４】実施例３ 低屈折率材料層上に更に、パーフルオロシラン（ＫＢＭ
−７８０３、信越化学社製）を塗布して撥水層を形成す
る以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作
製した。
−７８０３、信越化学社製）を塗布して撥水層を形成す
る以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作
製した。
【００４５】得られた反射防止フィルムは、実施例１と
同様の反射防止特性を示し、更に撥水性に優れ、且つ指
紋のふきとり性にも優れていた。
同様の反射防止特性を示し、更に撥水性に優れ、且つ指
紋のふきとり性にも優れていた。
【００４６】
【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、高屈折率
材料層、低屈折率材料層及び特定の中屈折率材料層から
なる３層構造の反射防止膜を有するので、従来の４層構
造の反射防止膜を有する反射防止フィルムと同レベルの
反射防止性能を有する。従って、本発明の反射防止フィ
ルムを製造する際に、反射防止性能を低下させずに成膜
工程数を減らすことができ、製造コストを低減させるこ
とができる。
材料層、低屈折率材料層及び特定の中屈折率材料層から
なる３層構造の反射防止膜を有するので、従来の４層構
造の反射防止膜を有する反射防止フィルムと同レベルの
反射防止性能を有する。従って、本発明の反射防止フィ
ルムを製造する際に、反射防止性能を低下させずに成膜
工程数を減らすことができ、製造コストを低減させるこ
とができる。
【図１】本発明の反射防止フィルムの基本的態様の断面
図である。
図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムの別の態様の断面図
（同図（ａ）及び（ｂ））である。
（同図（ａ）及び（ｂ））である。
【図３】従来の反射防止フィルムの断面図である。
【図４】実施例１の反射防止フィルムの分光反射特性図
である。
である。
【図５】比較例１の反射防止フィルムの分光反射特性図
である。
である。
１ 基材 ２ 反射防止膜 ３ ハードコート層 ４ 撥水層
Claims (4)
- 【請求項１】 基材上に多層反射防止膜が設けられた反
射防止フィルムにおいて、多層反射防止膜がアルミニウ
ム酸化物とランタン酸化物とを含有する層又はアルミニ
ウム−ランタン複合酸化物層からなる中屈折率材料層を
含有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項２】 多層反射防止膜が、基材側から中屈折率
材料層、高屈折率材料層及び低屈折率材料層からなる３
層構造となっている請求項１記載の反射防止フィルム。 - 【請求項３】 基材と反射防止膜との間に、ハードコー
ト層が更に形成されている請求項１又は２記載の反射防
止フィルム。 - 【請求項４】 反射防止膜上に、更に撥水層が形成され
ている請求項３記載の反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297209A JPH10123302A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8297209A JPH10123302A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123302A true JPH10123302A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17843601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8297209A Pending JPH10123302A (ja) | 1996-10-18 | 1996-10-18 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10123302A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107501A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ハードコート層を有するフィルム、反射防止フィルム、およびそれらの製造方法 |
| JP2002243902A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| CN109799552A (zh) * | 2017-11-16 | 2019-05-24 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种防反射膜及其制备方法 |
-
1996
- 1996-10-18 JP JP8297209A patent/JPH10123302A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107501A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ハードコート層を有するフィルム、反射防止フィルム、およびそれらの製造方法 |
| JP2002243902A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| CN109799552A (zh) * | 2017-11-16 | 2019-05-24 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种防反射膜及其制备方法 |
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