JP2002122703A - 反射防止積層体および光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置 - Google Patents
反射防止積層体および光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、ペン入力による傷等が付き難く、十
分な機械強度特性を有し、反射防止機能および指紋等に
対する防汚性に優れたタッチパネル等の表示装置用途の
透過色が無色透明な反射防止積層体および光学機能性積
層体およびそれを用いた表示装置を提供することを目的
とする。 【解決手段】本発明は、基材上の片側に、透明な高屈折
率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる反射
防止膜を設けた反射防止積層体において、標準光源Ｃに
おける透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が
３以下であることを特徴とする反射防止積層体および前
記反射防止積層体に透明導電性薄膜層が形成されている
光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置である。
分な機械強度特性を有し、反射防止機能および指紋等に
対する防汚性に優れたタッチパネル等の表示装置用途の
透過色が無色透明な反射防止積層体および光学機能性積
層体およびそれを用いた表示装置を提供することを目的
とする。 【解決手段】本発明は、基材上の片側に、透明な高屈折
率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる反射
防止膜を設けた反射防止積層体において、標準光源Ｃに
おける透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が
３以下であることを特徴とする反射防止積層体および前
記反射防止積層体に透明導電性薄膜層が形成されている
光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光線の反射を低減
させることを目的とした反射防止機能を有する積層体及
びそれを用いた光学機能性積層体及びそれを用いたタッ
チパネル等の表示装置に関する。
させることを目的とした反射防止機能を有する積層体及
びそれを用いた光学機能性積層体及びそれを用いたタッ
チパネル等の表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＣＲＴなどでは、表面の反射
を防止する手段および表示画面が帯電することを防止す
る手段として、多層膜を真空蒸着法などによりコーティ
ングしている。さらに液晶画面においては、それらの表
面に凹凸を設けることで乱反射をさせている。
を防止する手段および表示画面が帯電することを防止す
る手段として、多層膜を真空蒸着法などによりコーティ
ングしている。さらに液晶画面においては、それらの表
面に凹凸を設けることで乱反射をさせている。
【０００３】タッチパネルのペン入力による透明導電性
薄膜のクラックや剥離の対策として特開平１１−２２４
５３９号公報に記載されているように、基材と透明導電
性薄膜の間にハードコートを設けることが提案されてい
る。
薄膜のクラックや剥離の対策として特開平１１−２２４
５３９号公報に記載されているように、基材と透明導電
性薄膜の間にハードコートを設けることが提案されてい
る。
【０００４】近年、普及している携帯端末は屋外で使用
されることが多く、反射防止機能を付与する必要性が高
まっている。しかしながら、通常、成膜されている反射
防止膜の構成では透過色がやや黄色味を帯びているこ
と、ペン入力タイプのタッチパネルでは反射防止積層体
のペン入力耐性が劣ること、指圧入力タイプでは最表面
の防汚性に劣ること等の問題があった。
されることが多く、反射防止機能を付与する必要性が高
まっている。しかしながら、通常、成膜されている反射
防止膜の構成では透過色がやや黄色味を帯びているこ
と、ペン入力タイプのタッチパネルでは反射防止積層体
のペン入力耐性が劣ること、指圧入力タイプでは最表面
の防汚性に劣ること等の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するためになされたものであり、その目的とする
ところは、ペン入力による傷等が付き難く、十分な機械
強度特性を有し、反射防止機能および指紋等に対する防
汚性に優れたタッチパネル等の表示装置用途の透過色が
無色透明な反射防止積層体および光学機能性積層体およ
びそれを用いた表示装置を提供することにある。
を解決するためになされたものであり、その目的とする
ところは、ペン入力による傷等が付き難く、十分な機械
強度特性を有し、反射防止機能および指紋等に対する防
汚性に優れたタッチパネル等の表示装置用途の透過色が
無色透明な反射防止積層体および光学機能性積層体およ
びそれを用いた表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はこれらの課題を
解決するため、請求項１の発明は、基材上の片側に、透
明な高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させ
てなる反射防止膜を設けた反射防止積層体において、標
準光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときの
ｂ* の値が３以下であることを特徴とする反射防止積層
体である。
解決するため、請求項１の発明は、基材上の片側に、透
明な高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させ
てなる反射防止膜を設けた反射防止積層体において、標
準光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときの
ｂ* の値が３以下であることを特徴とする反射防止積層
体である。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１記載の反射防
止積層体において、前記薄膜層が、透明なセラミック薄
膜層であることを特徴とする。
止積層体において、前記薄膜層が、透明なセラミック薄
膜層であることを特徴とする。
【０００８】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の反射防止積層体において、前記反射防止積層体の標準
光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したときのｂ
*の値が２．５以下であることを特徴とする。
の反射防止積層体において、前記反射防止積層体の標準
光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したときのｂ
*の値が２．５以下であることを特徴とする。
【０００９】請求項４の発明は、請求項１または３のい
ずれか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材
がプラスチックフィルムであることを特徴とする。
ずれか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材
がプラスチックフィルムであることを特徴とする。
【００１０】請求項５の発明は、請求項１から４のいず
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が１以下であるク
リアハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視
感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴とする。
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が１以下であるク
リアハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視
感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴とする。
【００１１】請求項６の発明は、請求項１から４のいず
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が５以上である防
眩性ハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視
感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とする。
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が５以上である防
眩性ハードコート層が形成され、標準光源Ｃにおける視
感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とする。
【００１２】請求項７の発明は、請求項１から６のいず
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材ま
たはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズ
マ処理が施されているとを特徴とすることを特徴とす
る。
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記基材ま
たはハードコート層面上に、コロナ処理あるいはプラズ
マ処理が施されているとを特徴とすることを特徴とす
る。
【００１３】請求項８の発明は、請求項１から６のいず
れか１項に記載の反射防止積層体において、基材または
ハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化
物からなるグルー層が形成されていることを特徴とす
る。
れか１項に記載の反射防止積層体において、基材または
ハードコート層面上に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化
物からなるグルー層が形成されていることを特徴とす
る。
【００１４】請求項９の発明は、請求項１から８のいず
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記反射防
止膜の最表面に防汚層が形成されていることを特徴とす
る。
れか１項に記載の反射防止積層体において、前記反射防
止膜の最表面に防汚層が形成されていることを特徴とす
る。
【００１５】請求項１０の発明は、請求項１から９のい
ずれか１項に記載の反射防止積層体において、反射防止
膜を形成していない側の面に、ヘイズの値が１以下のク
リアハードコート層が形成されていることを特徴とする
反射防止積層体である。
ずれか１項に記載の反射防止積層体において、反射防止
膜を形成していない側の面に、ヘイズの値が１以下のク
リアハードコート層が形成されていることを特徴とする
反射防止積層体である。
【００１６】請求項１１の発明は、請求項１から１０の
いずれかに記載の反射防止積層体において、反射防止膜
を形成していない側の面に、透明導電性薄膜層が形成さ
れていることを特徴とする光学機能性積層体である。
いずれかに記載の反射防止積層体において、反射防止膜
を形成していない側の面に、透明導電性薄膜層が形成さ
れていることを特徴とする光学機能性積層体である。
【００１７】請求項１２の発明は、請求項１１記載の光
学機能性積層体において、反射防止膜を形成していない
側の基材面またはハードコート層上に、コロナ処理ある
いはプラズマ処理が施されているとを特徴とする光学機
能性積層体である。
学機能性積層体において、反射防止膜を形成していない
側の基材面またはハードコート層上に、コロナ処理ある
いはプラズマ処理が施されているとを特徴とする光学機
能性積層体である。
【００１８】請求項１３の発明は、請求項１１記載の光
学機能性積層体において、基材またはハードコート層上
に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層
が形成されていることを特徴とする光学機能性積層体で
ある。
学機能性積層体において、基材またはハードコート層上
に、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層
が形成されていることを特徴とする光学機能性積層体で
ある。
【００１９】請求項１４の発明は、透明導電性薄膜層を
有する１対の積層体からなるパネルを、スペーサを介し
て、所定の間隔をあけて透明導電性薄膜層同士が対向す
るように配置してなる表示装置において、少なくとも一
方のパネルが、請求項１１から１３のいずれか１項に記
載の光学機能性積層体であることを特徴とする表示装置
である。
有する１対の積層体からなるパネルを、スペーサを介し
て、所定の間隔をあけて透明導電性薄膜層同士が対向す
るように配置してなる表示装置において、少なくとも一
方のパネルが、請求項１１から１３のいずれか１項に記
載の光学機能性積層体であることを特徴とする表示装置
である。
【００２０】＜作用＞本発明において、基材上の片側
に、透明なセラミック等からなる高屈折率薄膜層と低屈
折率薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜を設け、
標準光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したとき
のｂ*の値が３以下さらに好ましくは２．５以下とする
ことにより、透過色が無色透明な反射防止積層体を提供
できる。
に、透明なセラミック等からなる高屈折率薄膜層と低屈
折率薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜を設け、
標準光源Ｃにおける透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したとき
のｂ*の値が３以下さらに好ましくは２．５以下とする
ことにより、透過色が無色透明な反射防止積層体を提供
できる。
【００２１】本発明において、基材がプラスチックフィ
ルムであることにより、二次曲面への貼り付けが可能な
反射防止積層体を提供できる。
ルムであることにより、二次曲面への貼り付けが可能な
反射防止積層体を提供できる。
【００２２】本発明において、基材と反射防止防止膜の
間にハードコート層および／またはグルー層を形成する
ことにより、ペン入力等の日常の使用に耐えられる十分
な機械強度特性を有する反射防止積層体を提供できる。
間にハードコート層および／またはグルー層を形成する
ことにより、ペン入力等の日常の使用に耐えられる十分
な機械強度特性を有する反射防止積層体を提供できる。
【００２３】本発明において、反射防止膜の最外面に防
汚層を形成することにより防汚効果が発現し、指紋など
が付着し難く、付着しても拭き取りやすい反射防止積層
体を提供できる。
汚層を形成することにより防汚効果が発現し、指紋など
が付着し難く、付着しても拭き取りやすい反射防止積層
体を提供できる。
【００２４】本発明において、上記反射防止積層体の反
射防止膜とは反対側に透明導電性薄膜層を形成すること
により、上記機能を有するタッチパネル等の表示装置の
部材に使用できる光学機能性積層体が提供でき、この光
学機能性積層体を用いた上記同様の機能を有するタッチ
パネル等の表示装置を提供できる。
射防止膜とは反対側に透明導電性薄膜層を形成すること
により、上記機能を有するタッチパネル等の表示装置の
部材に使用できる光学機能性積層体が提供でき、この光
学機能性積層体を用いた上記同様の機能を有するタッチ
パネル等の表示装置を提供できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の
一実施例としての反射防止積層体の層構成の断面図であ
る。本発明の反射防止積層体１０は、基材１２上の片側
に、透明な高屈折率セラミック薄膜層１１ａと低屈折率
セラミック薄膜層１１ｂを交互に積層させてなる反射防
止膜１３を積層した層構成からなる。
て図を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の
一実施例としての反射防止積層体の層構成の断面図であ
る。本発明の反射防止積層体１０は、基材１２上の片側
に、透明な高屈折率セラミック薄膜層１１ａと低屈折率
セラミック薄膜層１１ｂを交互に積層させてなる反射防
止膜１３を積層した層構成からなる。
【００２６】本発明の反射防止積層体１０は、標準光源
Ｃにおける透過色を、ＪＩＳ Ｚ８７２９-1994に記載
されたＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が３以下以
下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透過
色が無色透明な反射防止積層体を提供できる。
Ｃにおける透過色を、ＪＩＳ Ｚ８７２９-1994に記載
されたＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が３以下以
下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透過
色が無色透明な反射防止積層体を提供できる。
【００２７】透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表した場合、波長
５５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ* は大きくなり、波
長４５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ*は小さくなる。
ＴｉＯ2やＳｉＯ2等の一般的なセラミック薄膜を用いた
反射防止積層体は可視光の長波長域の透過率はほとんど
減衰しないため、ｂ*値が大きいと透過色は黄色くな
る。ｂ*を３以下にすることにより、反射防止積層体の
透過光が無色(透明)に近づき、さらに２．５以下にする
とほとんど黄色味が感じられなくなる。
５５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ* は大きくなり、波
長４５０ｎｍ付近の透過率が高いとｂ*は小さくなる。
ＴｉＯ2やＳｉＯ2等の一般的なセラミック薄膜を用いた
反射防止積層体は可視光の長波長域の透過率はほとんど
減衰しないため、ｂ*値が大きいと透過色は黄色くな
る。ｂ*を３以下にすることにより、反射防止積層体の
透過光が無色(透明)に近づき、さらに２．５以下にする
とほとんど黄色味が感じられなくなる。
【００２８】本発明で用いられる基材１２としては、透
明性を有し、かつ表面が平滑なものであれば良く、例え
ば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテル
スルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロー
ス等の高分子フィルムやガラスなどが挙げられ、目的・
用途により適宜選択される。
明性を有し、かつ表面が平滑なものであれば良く、例え
ば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテル
スルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロー
ス等の高分子フィルムやガラスなどが挙げられ、目的・
用途により適宜選択される。
【００２９】本発明における反射防止膜１３を構成する
材料としては、有機材料でも無機材料であっても屈折率
の関係を満足するものであれば特に限定されないが、セ
ラミック薄膜が好ましく、酸化物、硫化物、フッ化物、
窒化物などの材料が使用可能である。上記無機化合物か
らなる薄膜は、その材料により屈折率が異なり、その屈
折率の異なるセラミック薄膜を特定の膜厚で複数層積層
することにより、反射防止膜とすることが可能となる。
材料としては、有機材料でも無機材料であっても屈折率
の関係を満足するものであれば特に限定されないが、セ
ラミック薄膜が好ましく、酸化物、硫化物、フッ化物、
窒化物などの材料が使用可能である。上記無機化合物か
らなる薄膜は、その材料により屈折率が異なり、その屈
折率の異なるセラミック薄膜を特定の膜厚で複数層積層
することにより、反射防止膜とすることが可能となる。
【００３０】屈折率の低い材料としては、酸化マグネシ
ウム（１．６）、二酸化珪素（１．５）、フッ化マグネ
シウム（１．４）、フッ化カルシウム（１．３〜１．
４）、フッ化セリウム（１．６）、フッ化アルミニウム
（１．３）などが挙げられる。また、屈折率の高い材料
としては、二酸化チタン（２．４）、二酸化ジルコニウ
ム（２．０）、硫化亜鉛（２．３）、酸化タンタル
（２．１）、酸化亜鉛（２．１）、酸化インジウム
（２．０）が挙げられる。但し、上記括弧内の数値は屈
折率を表す。
ウム（１．６）、二酸化珪素（１．５）、フッ化マグネ
シウム（１．４）、フッ化カルシウム（１．３〜１．
４）、フッ化セリウム（１．６）、フッ化アルミニウム
（１．３）などが挙げられる。また、屈折率の高い材料
としては、二酸化チタン（２．４）、二酸化ジルコニウ
ム（２．０）、硫化亜鉛（２．３）、酸化タンタル
（２．１）、酸化亜鉛（２．１）、酸化インジウム
（２．０）が挙げられる。但し、上記括弧内の数値は屈
折率を表す。
【００３１】本発明におけるセラミック薄膜層の製造方
法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方
法でも良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れてい
る。これには真空蒸着法等の物理的気相析出法やＣＶＤ
法のような化学的気相析出法を用いることができる。
法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方
法でも良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れてい
る。これには真空蒸着法等の物理的気相析出法やＣＶＤ
法のような化学的気相析出法を用いることができる。
【００３２】図２は、本発明の反射防止積層体の他の例
の層構成を示す断面図である。図２に示すように、基材
２２上にハードコート層２４、グルー層２５を順次積層
し、グルー層２５の上に透明な高屈折率セラミック薄膜
層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に積層させてなる
反射防止膜２３を設け、最表面に防汚層２６を設けた層
構成からなる。本発明の射防止積層体は、上記層構成に
限定されるものではなく、目的・用途により、必要に応
じてハードコート層２４、グルー層２５、防汚層２６の
いずれか、またはそれらの２層もしくは３層を設けた、
例えば、基材／ハードコート層／反射防止膜、基材／ハ
ードコート層／グルー層／反射防止膜、基材／ハードコ
ート層／反射防止膜／防汚層等の構成であっても良い。
の層構成を示す断面図である。図２に示すように、基材
２２上にハードコート層２４、グルー層２５を順次積層
し、グルー層２５の上に透明な高屈折率セラミック薄膜
層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に積層させてなる
反射防止膜２３を設け、最表面に防汚層２６を設けた層
構成からなる。本発明の射防止積層体は、上記層構成に
限定されるものではなく、目的・用途により、必要に応
じてハードコート層２４、グルー層２５、防汚層２６の
いずれか、またはそれらの２層もしくは３層を設けた、
例えば、基材／ハードコート層／反射防止膜、基材／ハ
ードコート層／グルー層／反射防止膜、基材／ハードコ
ート層／反射防止膜／防汚層等の構成であっても良い。
【００３３】ハードコート層２４としては、大きく分類
してクリアタイプあるいは表面に凹凸を設ける等によ
り、反射光を散乱させて、それ自体で、ある程度反射率
を低減できる防眩性タイプの２種類存在し、適宜用途に
より使い分けられる。材料は全体の透明度を阻害しない
程度に透明なものが使用可能である。例えば、紫外線硬
化型のアクリル等が挙げられる。膜厚は３μｍ以上あれ
ば十分な強度となるが、透明性、塗工精度や取り扱いか
ら５〜２０μｍの範囲が好ましい。
してクリアタイプあるいは表面に凹凸を設ける等によ
り、反射光を散乱させて、それ自体で、ある程度反射率
を低減できる防眩性タイプの２種類存在し、適宜用途に
より使い分けられる。材料は全体の透明度を阻害しない
程度に透明なものが使用可能である。例えば、紫外線硬
化型のアクリル等が挙げられる。膜厚は３μｍ以上あれ
ば十分な強度となるが、透明性、塗工精度や取り扱いか
ら５〜２０μｍの範囲が好ましい。
【００３４】本発明の反射防止積層体において、基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が１以下である上
記のクリアハードコート層が形成され、標準光源Ｃにお
ける視感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴と
するものである。
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が１以下である上
記のクリアハードコート層が形成され、標準光源Ｃにお
ける視感反射率Ｙ値が０．７５以下であることを特徴と
するものである。
【００３５】また、防幻性ハードコート層の凹凸は、平
均粒子径０．０１〜３μｍ程度の透明な無機または有機
の超微粒子を混合分散させることによって形成できる。
または、エンボス加工等により表面に凹凸を形成させる
こともできる。上記の超微粒子は、透明であれば特に限
定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、無
機の酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等
で適している。上記ハードコート層は均一に塗布される
ものであれば、塗工方法としては特に限定されるもので
はない。
均粒子径０．０１〜３μｍ程度の透明な無機または有機
の超微粒子を混合分散させることによって形成できる。
または、エンボス加工等により表面に凹凸を形成させる
こともできる。上記の超微粒子は、透明であれば特に限
定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、無
機の酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等
で適している。上記ハードコート層は均一に塗布される
ものであれば、塗工方法としては特に限定されるもので
はない。
【００３６】本発明の反射防止積層体において、基材と
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が５以上である上
記の防眩性ハードコート層が形成され、標準光源Ｃにお
ける視感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とす
るものである。
セラミック薄膜層の間に、ヘイズの値が５以上である上
記の防眩性ハードコート層が形成され、標準光源Ｃにお
ける視感反射率Ｙ値が０．５以下であることを特徴とす
るものである。
【００３７】本発明の反射防止積層体を用いてタッチパ
ネル等の表示装置とした場合、ペン入力に対する反射防
止積層体の機械強度特性を向上させるためには、基材ま
たはハードコートとセラミック薄膜層の間の密着性を高
める必要があり、そのために基材あるいはハードコート
表面にコロナ処理もしくはプラズマ処理を施すことが好
ましい。
ネル等の表示装置とした場合、ペン入力に対する反射防
止積層体の機械強度特性を向上させるためには、基材ま
たはハードコートとセラミック薄膜層の間の密着性を高
める必要があり、そのために基材あるいはハードコート
表面にコロナ処理もしくはプラズマ処理を施すことが好
ましい。
【００３８】グルー層２５は、基材２２あるいはハード
コート層２４と反射防止膜２３のセラミック薄膜層との
密着性を高めるものであり、密着性の仕様を満たすもの
であれば、特に材料は制限されるものではない。例え
ば、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなる材料が用
いられるが、代表的な例として、クロムやシリコン等の
金属の亜酸化物からなるものが挙げられる。膜厚は、透
明度を阻害しないように設定しなければならず、５〜２
０ｎｍの範囲が好ましい。
コート層２４と反射防止膜２３のセラミック薄膜層との
密着性を高めるものであり、密着性の仕様を満たすもの
であれば、特に材料は制限されるものではない。例え
ば、金属の亜酸化物あるいは亜窒化物からなる材料が用
いられるが、代表的な例として、クロムやシリコン等の
金属の亜酸化物からなるものが挙げられる。膜厚は、透
明度を阻害しないように設定しなければならず、５〜２
０ｎｍの範囲が好ましい。
【００３９】防汚層２６は、撥水性および／または撥油
性を有し、反射防止膜２３のセラミック薄膜層の表面を
保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を
満たすものであれば、特に材料は制限されるものではな
い。代表的な例として、有機化合物、好ましくはフッ素
系含有有機化合物が適している。撥水性を示すものとし
て、例えば疎水基を有する化合物がよく、フルオロカー
ボンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高分子化
合物等が適している。指紋ふき取り防汚向上などには、
メチル基の様な撥油性を有する高分子化合物が適してい
る。
性を有し、反射防止膜２３のセラミック薄膜層の表面を
保護し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を
満たすものであれば、特に材料は制限されるものではな
い。代表的な例として、有機化合物、好ましくはフッ素
系含有有機化合物が適している。撥水性を示すものとし
て、例えば疎水基を有する化合物がよく、フルオロカー
ボンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高分子化
合物等が適している。指紋ふき取り防汚向上などには、
メチル基の様な撥油性を有する高分子化合物が適してい
る。
【００４０】これらの材料は、材料に応じて真空蒸着
法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイ
クログラビア、スクリーン等のウェットプロセスの各種
コーティング方法を用いて、防汚層２６を形成すること
ができる。膜厚は、反射防止積層体としての機能を損な
わないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下、さ
らには１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイ
クログラビア、スクリーン等のウェットプロセスの各種
コーティング方法を用いて、防汚層２６を形成すること
ができる。膜厚は、反射防止積層体としての機能を損な
わないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下、さ
らには１０ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００４１】図３は、本発明の光機能性積層体の一例の
構成を示す断面図である。反射防止積層体２０の反射防
止膜２３とは反対側に透明導電性薄膜層３７を形成した
光学機能性積層体３０はタッチパネル等の表示装置の部
材として使用できる。このとき透明導電性薄膜層３７の
クラックを防ぐためにハードコート層３４、グルー層３
５を基材２２と透明導電性薄膜層３７の間に形成した構
成を示した。
構成を示す断面図である。反射防止積層体２０の反射防
止膜２３とは反対側に透明導電性薄膜層３７を形成した
光学機能性積層体３０はタッチパネル等の表示装置の部
材として使用できる。このとき透明導電性薄膜層３７の
クラックを防ぐためにハードコート層３４、グルー層３
５を基材２２と透明導電性薄膜層３７の間に形成した構
成を示した。
【００４２】ハードコート層３４、グルー層３５のいず
れかの層、またはその両方の層を基材２２と透明導電性
薄膜層３７の間に形成しても良い。グルー層３５を設け
ない場合は、基材２２、またはハードコート３４の透明
導電性薄膜層３７を積層する面に、コロナ処理あるいは
プラズマ処理を施すことが好ましい。
れかの層、またはその両方の層を基材２２と透明導電性
薄膜層３７の間に形成しても良い。グルー層３５を設け
ない場合は、基材２２、またはハードコート３４の透明
導電性薄膜層３７を積層する面に、コロナ処理あるいは
プラズマ処理を施すことが好ましい。
【００４３】透明導電性薄膜層３７は、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの
２種類もしくは３種類の混合酸化物が挙げられるが、目
的・用途により種々の材料が使用でき、特に限定される
ものではないる。
ム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの
２種類もしくは３種類の混合酸化物が挙げられるが、目
的・用途により種々の材料が使用でき、特に限定される
ものではないる。
【００４４】図４は、本発明の表示装置の一例としてタ
ッチパネルの構成を示す断面図である。透明導電性薄膜
層を有する１対の積層体３０、５０からなるパネルを、
スペーサＳを介して、所定の間隔をあけて透明導電性薄
膜層３７、５７同士が対向するように配置してなるタッ
チパネルにおいて、一方のパネルが、本発明の光学機能
性積層体３０であることを特徴とするタッチパネルの構
成である。
ッチパネルの構成を示す断面図である。透明導電性薄膜
層を有する１対の積層体３０、５０からなるパネルを、
スペーサＳを介して、所定の間隔をあけて透明導電性薄
膜層３７、５７同士が対向するように配置してなるタッ
チパネルにおいて、一方のパネルが、本発明の光学機能
性積層体３０であることを特徴とするタッチパネルの構
成である。
【００４５】上記タッチパネルは、ペン入力による傷等
が付き難く、十分な機械強度特性を有し、反射防止およ
び指紋等に対する防汚性に優れたタッチパネルとなる。
が付き難く、十分な機械強度特性を有し、反射防止およ
び指紋等に対する防汚性に優れたタッチパネルとなる。
【００４６】
【実施例】次に、本発明を具体的な実施例を図３を参照
しながら詳細に説明する。 ＜実施例１＞透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィル
ム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリアタイプのア
クリル系ハードコート層２４、３４を５μｍの膜厚で塗
布し、グルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を
膜厚１０ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴ
ｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフル
オロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック
薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
しながら詳細に説明する。 ＜実施例１＞透明プラスチック基材２２のＰＥＴフィル
ム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリアタイプのア
クリル系ハードコート層２４、３４を５μｍの膜厚で塗
布し、グルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を
膜厚１０ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴ
ｉＯ2とＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフル
オロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック
薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
【００４７】積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊
および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試
験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得
られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試
験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得
られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００４８】＜実施例２＞透明プラスチック基材２２の
ＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリ
アタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μ
ｍの膜厚で塗布し、ハードコート表面を１Ｐａの酸素雰
囲気下で基材１ｃｍ2当たり１Ｗのｒｆプラズマにより
処理を行った後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳ
ｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアル
キルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層
の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
ＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリ
アタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μ
ｍの膜厚で塗布し、ハードコート表面を１Ｐａの酸素雰
囲気下で基材１ｃｍ2当たり１Ｗのｒｆプラズマにより
処理を行った後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳ
ｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアル
キルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層
の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
【００４９】積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊
および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で５万字の文字を書く試験
を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得ら
れた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
および視感反射率Ｙがそれぞれ１．５および０．７の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で５万字の文字を書く試験
を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得ら
れた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００５０】＜実施例３＞透明プラスチック基材２２の
ＰＥＴフィルム７５μｍの片側に、紫外線硬化性の防眩
性タイプ（ヘイズ７）のアクリル系ハードコート層２
４、および基材の反対側にクリアタイプのアクリル系ハ
ードコート層３４をそれぞれ５μｍの膜厚で塗布し、グ
ルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚１０
ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2と
ＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロア
ルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各
層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
ＰＥＴフィルム７５μｍの片側に、紫外線硬化性の防眩
性タイプ（ヘイズ７）のアクリル系ハードコート層２
４、および基材の反対側にクリアタイプのアクリル系ハ
ードコート層３４をそれぞれ５μｍの膜厚で塗布し、グ
ルー層２５、３５としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚１０
ｎｍで成膜した後に、反射防止膜２３としてＴｉＯ2と
ＳｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロア
ルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各
層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６７ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝３２ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝１１０ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１４０ｎｍ） とした。
【００５１】積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊
および視感反射率Ｙがそれぞれ２．５および０．５の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試
験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得
られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
および視感反射率Ｙがそれぞれ２．５および０．５の光
学特性が得られた。また、タッチペンを用いて２ｃｍ×
２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重で１０万字の文字を書く試
験を行った結果、キズは殆ど認められず良好な結果が得
られた。また、反射防止積層体表面に指紋を付着させた
が、ティッシュペーパーで容易に拭き取れた。
【００５２】さらに基材の反射防止膜とは反対側に透明
導電性薄膜３７として５００Ω／□のＩＴＯ薄膜を成膜
した光機能性積層体を用いてタッチパネルを作製し、タ
ッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重
で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止積
層体と同様にキズは殆ど認められず良好な結果が得られ
た。
導電性薄膜３７として５００Ω／□のＩＴＯ薄膜を成膜
した光機能性積層体を用いてタッチパネルを作製し、タ
ッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重
で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止積
層体と同様にキズは殆ど認められず良好な結果が得られ
た。
【００５３】＜比較例１＞透明プラスチック基材２２の
ＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリ
アタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μ
ｍの膜厚で塗布し、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳ
ｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアル
キルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層
の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝４３ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝９５ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１３９ｎｍ） とした。
ＰＥＴフィルム７５μｍの両面に、紫外線硬化性のクリ
アタイプのアクリル系ハードコート層２４、３４を５μ
ｍの膜厚で塗布し、反射防止膜２３としてＴｉＯ2とＳ
ｉＯ2を積層し、さらに防汚層２６としてフルオロアル
キルシラン７ｎｍを塗布形成した。セラミック薄膜各層
の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝６５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝４３ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2 （ｎ＝２．０５ ｎｄ＝９５ｎｍ） ４層目：ＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６ ｎｄ＝１３９ｎｍ） とした。
【００５４】積層体は標準光源Ｃにおける透過色のｂ＊
および視感反射率Ｙがそれぞれ３．５および０．７の光
学特性が得られ、透過色がやや黄色くなった。また、タ
ッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重
で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止膜
剥がれによる顕著なキズが観察された。
および視感反射率Ｙがそれぞれ３．５および０．７の光
学特性が得られ、透過色がやや黄色くなった。また、タ
ッチペンを用いて２ｃｍ×２ｃｍの範囲に２５０ｇ荷重
で１０万字の文字を書く試験を行った結果、反射防止膜
剥がれによる顕著なキズが観察された。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、基材上の片側に透明な高
屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる
反射防止膜を設けた反射防止積層体において、標準光源
Ｃの透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値を３
以下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透
過色が無色透明な反射防止積層体を提供することが可能
となった。
屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる
反射防止膜を設けた反射防止積層体において、標準光源
Ｃの透過色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値を３
以下さらに好ましくは２．５以下とすることにより、透
過色が無色透明な反射防止積層体を提供することが可能
となった。
【００５６】また、基材がプラスチックフィルムである
ことにより、二次曲面への貼り付けが可能な反射防止積
層体を提供することが可能となった。
ことにより、二次曲面への貼り付けが可能な反射防止積
層体を提供することが可能となった。
【００５７】また、基材と反射防止膜の間にハードコー
ト層および／またはグルー層を設けるか、ないしはコロ
ナ処理・プラズマ処理等を施すことにより、ペン入力
等、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有す
る反射防止積層体を提供することが可能となった。
ト層および／またはグルー層を設けるか、ないしはコロ
ナ処理・プラズマ処理等を施すことにより、ペン入力
等、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特性を有す
る反射防止積層体を提供することが可能となった。
【００５８】また、反射防止膜の最外面にに防汚層を形
成することにより、指紋等などが付着し難く、付着して
も拭き取り易い反射防止積層体を提供することが可能と
なった。
成することにより、指紋等などが付着し難く、付着して
も拭き取り易い反射防止積層体を提供することが可能と
なった。
【００５９】また、上記反射防止積層体の反射防止膜と
は反対側に透明導電性薄膜を形成して光機能性積層体と
し、これを使用して上記同様の機能を有するタッチパネ
ル等の表示装置を提供することが可能となった。
は反対側に透明導電性薄膜を形成して光機能性積層体と
し、これを使用して上記同様の機能を有するタッチパネ
ル等の表示装置を提供することが可能となった。
【図１】本発明の反射防止積層体の一例の構成を示す断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の反射防止積層体の他の例の構成を示す
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の光機能性積層体の一例の構成を示す断
面図である。
面図である。
【図４】本発明の表示装置としてタッチパネルの一例の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
１０、２０…反射防止積層体 １１ａ、２１ａ…高屈折率薄膜層 １１ｂ、２１ｂ…低屈折率薄膜層 １２、２２…基材 １３、２３…反射防止膜 ２４、３４…ハードコート層１１ ２５、３５…グルー層 ２６…防汚層 ３０…光機能性積層体（パネル） ３７、５７…透明導電性薄膜層 ４０…タッチパネル ５０…パネル Ｓ…スペーサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA02 AA07 AA15 CC01 CC02 CC03 DD03 DD17 EE03 EE05 4F100 AA12E AA17E AA20 AA21 AD00B AD00C AH05 AH06 AK01A AK25 AK42 AR00D AR00E AS00D AT00A BA03 BA04 BA05 BA10A BA10B BA10C EH461 EJ55A EJ55D GB41 JG01E JL06E JM02B JM02C JM02E JN01B JN01C JN01D JN01E JN06 JN08 JN18B JN18C JN30 YY00 5G307 FA02 FB01 FC02 FC09 FC10
Claims (14)
- 【請求項１】基材上の片側に、透明な高屈折率薄膜層と
低屈折率薄膜層を交互に積層させてなる反射防止膜を設
けた反射防止積層体において、標準光源Ｃにおける透過
色をＬ*ａ*ｂ*系で表したときのｂ* の値が３以下であ
ることを特徴とする反射防止積層体。 - 【請求項２】前記薄膜層が、透明なセラミック薄膜層で
あることを特徴とする請求項１記載の反射防止積層体。 - 【請求項３】前記反射防止積層体の標準光源Ｃにおける
透過色をＬ*ａ*ｂ* 系で表したときのｂ*の値が２．５
以下であることを特徴とする請求項１または２記載の反
射防止積層体。 - 【請求項４】前記基材が、プラスチックフィルムである
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載
の反射防止積層体。 - 【請求項５】前記基材とセラミック薄膜層の間に、ヘイ
ズの値が１以下であるクリアハードコート層が形成さ
れ、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．７５以下
であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項
に記載の反射防止積層体。 - 【請求項６】前記基材とセラミック薄膜層の間に、ヘイ
ズの値が５以上である防眩性ハードコート層が形成さ
れ、標準光源Ｃにおける視感反射率Ｙ値が０．５以下で
あることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に
記載の反射防止積層体。 - 【請求項７】前記基材またはハードコート層面上に、コ
ロナ処理あるいはプラズマ処理が施されているとを特徴
とする請求項１から６のいずれか１項に記載の反射防止
積層体。 - 【請求項８】基材またはハードコート層面上に、金属の
亜酸化物あるいは亜窒化物からなるグルー層が形成され
ていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項
に記載の反射防止積層体。 - 【請求項９】前記反射防止膜の最表面に防汚層が形成さ
れていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１
項に記載の反射防止積層体。 - 【請求項１０】請求項１から９のいずれか１項に記載の
反射防止積層体において、反射防止膜を形成していない
側の面に、ヘイズの値が１以下のクリアハードコート層
が形成されていることを特徴とする反射防止積層体。 - 【請求項１１】請求項１から１０のいずれかに記載の反
射防止積層体において、反射防止膜を形成していない側
の面に、透明導電性薄膜層が形成されていることを特徴
とする光学機能性積層体。 - 【請求項１２】請求項１１記載の光学機能性積層体にお
いて、反射防止膜を形成していない側の基材面またはハ
ードコート層上に、コロナ処理あるいはプラズマ処理が
施されているとを特徴とすることを特徴とする光学機能
性積層体。 - 【請求項１３】請求項１１記載の光学機能性積層体にお
いて、基材またはハードコート上に、金属の亜酸化物あ
るいは亜窒化物からなるグルー層が形成されていること
を特徴とする光学機能性積層体。 - 【請求項１４】透明導電性薄膜層を有する１対の積層体
からなるパネルを、スペーサを介して、所定の間隔をあ
けて透明導電性薄膜層同士が対向するように配置してな
る表示装置において、少なくとも一方のパネルが、請求
項１１から１３のいずれか１項に記載の光学機能性積層
体であることを特徴とする表示装置。
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002122703A true JP2002122703A (ja) | 2002-04-26 |
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ID=18797622
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Cited By (12)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2008307880A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-12-25 | Toppan Printing Co Ltd | 二色成形品およびその製造方法 |
| JP2009078436A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Toppan Printing Co Ltd | 二色成形品およびその製造方法 |
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| JP2009541808A (ja) * | 2006-06-28 | 2009-11-26 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 低屈折率層および高屈折率層の厚み比率が最適化されている耐熱性反射防止被覆を有する光学物品 |
| JP2010184478A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Toppan Printing Co Ltd | 多層フィルムおよびその製造方法 |
| KR101244889B1 (ko) | 2012-03-19 | 2013-03-18 | 한국기계연구원 | 보호층이 구비된 반사 방지 기판 및 그 제조 방법 |
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