JPH07296672A

JPH07296672A - タッチパネル

Info

Publication number: JPH07296672A
Application number: JP8504894A
Authority: JP
Inventors: Satoru Miyashita; 悟宮下; Osamu Yokoyama; 修横山
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1994-04-22
Filing date: 1994-04-22
Publication date: 1995-11-10

Abstract

(57)【要約】【目的】透明度が高くて見栄えの良い、位置検出性に
優れた抵抗検出方式のタッチパネルを提供する。【構成】本発明のタッチパネルは、膜厚を制御した透
明電極が減反射コーティングの高屈折層を兼ね、導電性
微粒子を含んだ高分子層が膜厚を制御されて最表面に形
成されることを特徴とする。減反射膜は２層あるいは３
層から形成されており、各層に対応する光学的膜厚ｎｄ
が全てλ₀（λ₀＝５２０ｎｍ）以下、λ₀／２０以上に
なるよう制御して形成する。導電性微粒子を含んだ高分
子層が位置検出に影響の無い程度の導電性を示し、製造
安定性や信頼性においても実用にかなうものであった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、透明度が高くて見栄え
の良い、位置検出性に優れた抵抗検出方式のタッチパネ
ルに関する。

【０００２】

【従来の技術】入力装置に用いられるタッチパネルは、
抵抗検出方式、静電容量方式、電磁誘導方式等検出方式
に違いがあるものの、一枚以上の透明電極を有する透明
基板から構成される構造が一般的である。透明基板とし
てはガラス板かＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）
が通常用いられており、透明電極としてはＩＴＯや酸化
スズが用いられている。透明電極は全面均一の場合もあ
るし、パターンニングして用いる場合もある。ペン入力
面は書き味改善や防眩のため、プラスチックフィルムを
張り付けたり、表面に微細な凹凸面を設けた構造を取る
ようになった。タッチパネルは単体の入力装置としてだ
けでなく、ＣＲＴやＬＣＤと組み合せ、表示画面上で情
報操作できる装置としても利用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、タッチパネル
は一枚以上の透明電極を有する透明基板から構成されて
いるため、屈折率の高い透明電極と空気界面による表面
反射により、１０％以上の光量が失われてしまうという
課題があった。特に最も一般的な抵抗検出方式は、空気
を介して透明電極面を対向させた一組の透明基板から構
成されるため、透過率が低くならざるをえなかった。ま
た、表面反射によりパネルが見づらく、特に表示素子と
併用して用いる場合には大きな問題であった。

【０００４】減反射コーティングとしては、フッ化マグ
ネシウム等の低屈折率材料を蒸着する方法や、屈折率の
異なる材料を多層形成する方法が知られ（特開平１−２
５７８０１）、眼鏡レンズなどで実用化されている。ま
た、屈折率の低い含フッ素化合物で薄膜を形成する方法
も提示されている（特開昭５８−２１１７０１）。更に
屈折率の異なる材料を多層蒸着する方法において、高屈
折率膜に透明導電膜を用いる方法も提示されている（特
開昭６１−１６８８９９）。しかし、従来の減反射コー
ティング材料は最表面層の絶縁性が高く、抵抗検出方式
では、電極上に形成されると位置検出できないという致
命的な欠陥があった。

【０００５】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところは、透明度が高くて見栄
えの良い、位置検出性に優れたタッチパネルを提供する
ところにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的は、空気を介し
て透明電極面を対向させた一組の透明基板から構成され
る抵抗検出方式のタッチパネルにおいて、透明電極基板
の少なくとも一方の基材が屈折率１．４８から１．６３
であり、透明基材表面に透明電極材料からなる屈折率ｎ
₁（１．６５≦ｎ₁≦２．２）の第１層と、導電性微粒子
を含んだ高分子からなる屈折率ｎ₂（１．４５≦ｎ₂≦
１．６５）の第２層からなる減反射膜が形成されてお
り、第１層と第２層に対応する光学的膜厚ｎ₁ｄ₁とｎ₂
ｄ₂がともにλ₀以下、λ₀／２０以上であることにより
達成される。

【０００７】また、透明電極基板の少なくとも一方の基
材が屈折率１．４８から１．６３であり、透明基材表面
から順次形成された低屈折材料からなる屈折率ｎ
₁（１．３５≦ｎ₁≦１．５）の第１層と、透明電極材料
からなる屈折率ｎ₂（１．６５≦ｎ₂≦２．２）の第２層
と、導電性微粒子を含んだ高分子からなる屈折率ｎ
₃（１．４５≦ｎ₃≦１．６５）の第３層からなる減反射
膜が形成されており、上記第１層と第２層と第３層に対
応する光学的膜厚ｎ₁ｄ₁、ｎ₂ｄ₂、ｎ₃ｄ₃がともにλ₀
以下、λ₀／２０以上であることにより達成される。

【０００８】

【作用】屈折率の異なる多層膜形成による減反射効果発
現の理論式は一般に知られている。しかし使用目的によ
り材料、製造コスト、追加される必要特性等により限定
され、膜の構成は異なってくる。タッチパネルにおいて
は、基材の透明性や機械的強度が必要であり、抵抗検出
方式では特に低コスト化が強く求められるため、多層膜
形成はせいぜい３層までである。透明電極が高屈折率層
を兼ねるため、透明電極層も含め２層あるいは３層の構
成となる。また最表面層に導電性があり、屈折率がさほ
ど高くない材料を用いる必要がある。

【０００９】通常に入手できる透明性の基材は、屈折率
１．４８から１．６３である。また透明電極として通常
用いられる酸化スズやＩＴＯ、酸化亜鉛などは、屈折率
が１．６５から２．２と高く、膜の酸化状態により屈折
率や導電率を制御することができるが、屈折率において
この範囲を逸脱することは困難である。最表面層には導
電性微粒子を含んだ高分子層を用いる必要がある。導電
性微粒子は、一次粒径０．１μｍ以下の酸化スズまたは
ＩＴＯを主成分とする透明性酸化物であり、高分子は熱
硬化性ポリシロキサンまたは光硬化性アクリル樹脂であ
る。減反射効果を発現させるためには膜の屈折率は１．
６５以下である必要があり、膜を形成する材料の特性か
ら１．４５以上であれば制御可能である。導電率も位置
検出精度に対応させて制御することができる。また導電
性微粒子の分散が十分であれば、膜厚がλ₀以下と薄い
ため、導電性微粒子を含んだ高分子層の吸収による光の
減衰もほとんど無い。減反射コーティングとして３層の
膜構成を取る場合、第１層の屈折率は１．５以下でない
と形成する意味がなく、材料の限定から１．３５以上と
なる。

【００１０】形成した多層膜間の反射光を干渉させて減
反射効果を発現させるためには、光学的膜厚ｎｄがλ₀
以下、λ₀／２０以上であることが望ましい。λ₀は可視
光中心波長である。λ₀以上あると色づきが発生しやす
い上、減反射効果が顕著でなく、λ₀／２０以上ないと
光学的干渉が起こらない。２層及び３層の減反射コーテ
ィングにおいて、以上の膜厚内であれば色消しも考慮し
ていろんな膜厚の組合せが可能である。しかし理論式か
ら導かれた以下の膜厚構成を取ることが一般的であり、
また減反射効果が高い。２層膜においてはｎ₁ｄ₁＝ｎ₂
ｄ₂＝λ₀／４または、ｎ₁ｄ₁＝２ｎ₂ｄ₂＝λ₀／２の構
成であり、±λ₀／１０程度の膜厚ばらつきは許容でき
る。３層膜においてはｎ₁ｄ₁＝ｎ₂ｄ₂＝ｎ₃ｄ₃＝λ₀／
４または、２ｎ₁ｄ₁＝ｎ₂ｄ₂＝２ｎ₃ｄ₃＝λ₀／２の構
成であり、同じく±λ₀／１０程度の膜厚ばらつきは許
容できる。

【００１１】

【実施例】

（実施例１）屈折率１．５２のガラス基板上に、屈折率
１．７のＩＴＯをｎ₁ｄ₁＝λ₀／２の膜厚になるようス
パッタ法で形成した。次にメチルセロソルブにγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランを溶解し触媒量の
塩酸を加え、室温で攪拌して加水分解を行なった。そこ
に平均粒径８０Åの酸化スズ微粒子の分散液を混合し、
更に過塩素酸マグネシウムを触媒量添加し、十分に攪拌
し塗布液とした。この塗布液をＩＴＯ透明電極上にロー
ルコート法で塗布し、１５０℃で乾燥させ、屈折率１．
５光学的膜厚ｎ₂ｄ₂＝λ₀／４の酸化スズ微粒子を含ん
だシロキサン高分子層を形成した。膜厚は５０ｎｍ程度
の範囲で十分制御できた。表面硬度は鉛筆硬度で５Ｈ以
上と高く、曇度も０．５％以下で、透明感が高かった。
２層の膜の密着性は、碁盤目試験１００／１００と良好
で、耐擦傷性は＃００００のスチールウールを１ｋｇ／
ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても傷が認められな
かった。また、アルコール、酸、アルカリ、洗剤の滴下
実験において異常は認められなかった。

【００１２】このようにして作製した透明基板を用いた
タッチパネルの、模式的な断面図を図１に示す。図１に
おいて、１１はガラス基板、１２がＰＥＴ基板、１３と
１４がＩＴＯ透明電極、１５がスペーサーである。ま
た、１６が前述の方法で形成した酸化スズ微粒子を含ん
だシロキサン高分子層である。２層膜の構成をとってい
るが抵抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく
位置検出することができた。図２にガラス基板上に２層
からなる減反射コーティングを施した時の反射率の分光
特性を示す。全線透過率は８３％から９２％に向上して
いた。

【００１３】このタッチパネルに対し、信頼性試験をお
こなった。５０℃、９０％ＲＨで１０００時間の高温高
湿試験において、剥がれ、クラック等は発生せず、ヤケ
も発生しなかった。また−２０℃、２５℃、６０℃の熱
衝撃試験においても、異常は認められなかった。２００
００ラングレイの日光暴露試験においても、異常は認め
られなかった。本実施例において、透明感のある見やす
いタッチパネルを歩留まり良く、コストもほとんど割高
にならず達成できた。表面反射による眩しさはほとんど
感じなかった。

【００１４】（実施例２）屈折率１．５のガラス基板上
に、屈折率１．９の酸化スズ膜をｎ₁ｄ₁＝０．４３λ₀
の膜厚になるようＣＶＤ法で形成した。実施例１と同様
の塗布液中にこのガラス基板を浸し、適当な速度で引き
上げ１５０℃で３０分間加熱して硬化させ、屈折率１．
５光学的膜厚ｎ₂ｄ₂＝０．２３λ₀の酸化スズ微粒子を
含んだシロキサン高分子層を形成した。膜厚は５０ｎｍ
程度の範囲で十分制御できた。表面硬度は鉛筆硬度で５
Ｈ以上と高く、曇度も０．５％以下で、透明感が高かっ
た。２層の膜の密着性は、碁盤目試験１００／１００と
良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウールを１ｋ
ｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても傷が認めら
れなかった。また、アルコール、酸、アルカリ、洗剤の
滴下実験において異常は認められなかった。

【００１５】図３にガラス基板上に２層からなる減反射
コーティングを施した時の反射率の分光特性を示す。全
線透過率は８３％から９２％に向上していた。このよう
にして作製した透明基板を用いたタッチパネルを、実施
例１と同様に組み立てた。２層膜の構成をとっているが
抵抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく位置
検出することができた。バックライトを有するＬＣＤと
タッチパネルを組み合せたところ、表示表面における輝
度は、従来の５５カンデラから６０カンデラに向上し
た。面内の輝度分布もほとんど観察されず、明るく見栄
えの良いパネルを達成できた。

【００１６】このタッチパネルに対し、信頼性試験をお
こなった。５０℃、９０％ＲＨで１０００時間の高温高
湿試験において、剥がれ、クラック等は発生せず、ヤケ
も発生しなかった。また−２０℃、２５℃、６０℃の熱
衝撃試験においても、異常は認められなかった。２００
００ラングレイの日光暴露試験においても、異常は認め
られなかった。

【００１７】（実施例３）屈折率１．５のガラス基板上
に、屈折率１．９の酸化スズ膜をｎ₁ｄ₁＝０．１λ₀の
膜厚になるようＣＶＤ法で形成した。実施例１と同様の
塗布液中にこのガラス基板を浸し、適当な速度で引き上
げ１５０℃で３０分間加熱して硬化させ、屈折率１．５
光学的膜厚ｎ₂ｄ₂＝０．３３λ₀の酸化スズ微粒子を含
んだシロキサン高分子層を形成した。膜厚は５０ｎｍ程
度の範囲で十分制御できた。表面硬度は鉛筆硬度で５Ｈ
以上と高く、曇度も０．５％以下で、透明感が高かっ
た。２層の膜の密着性は、碁盤目試験１００／１００と
良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウールを１ｋ
ｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても傷が認めら
れなかった。また、アルコール、酸、アルカリ、洗剤の
滴下実験において異常は認められなかった。

【００１８】図４にガラス基板上に２層からなる減反射
コーティングを施した時の反射率の分光特性を示す。全
線透過率は８２％から９１％に向上していた。このよう
にして作製した透明基板を用いたタッチパネルを、実施
例１と同様に組み立てた。２層膜の構成をとっているが
抵抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく位置
検出することができた。

【００１９】（実施例４）屈折率１．５２のガラス基板
上に、屈折率１．８５のＩＴＯをｎ₁ｄ₁＝λ₀／４の膜
厚になるようスパッタ法で形成した。同じく屈折率１．
６のＰＥＴフィルム上に、屈折率１．８のＩＴＯをｎ₁
ｄ₁＝λ₀／４の膜厚になるようスパッタ法で形成した。
次にエチルセロソルブに３−メタアクリロキシプロピル
トリメトキシシランを溶解し触媒量の塩酸を加え、室温
で攪拌して加水分解を行なった。そこに平均粒径２００
ÅのＩＴＯ微粒子の分散液を混合し、更にベンゾフェノ
ンを触媒量添加し、十分に攪拌し塗布液とした。

【００２０】イエロールーム内で、この塗布液をＩＴＯ
付きガラス板の透明電極面、及びＩＴＯ付きＰＥＴフィ
ルムの透明電極面に、ロールコート法で塗布し成膜し
た。５０℃で３時間加熱した後、紫外線を１ジュール照
射し、屈折率１．６光学的膜厚ｎ₂ｄ₂＝λ₀／４のＩＴ
Ｏ微粒子を含んだアクリルシロキサン高分子層とした。
膜厚は５０ｎｍ程度の範囲で十分制御できた。表面硬度
は鉛筆硬度で５Ｈ以上と高く、曇度も１％以下で、透明
感が高かった。２層の膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても
傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アルカ
リ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかった。
図５にガラス基板上に２層からなる減反射コーティング
を施した時の反射率の分光特性を示す。

【００２１】実施例１と同様の構造をもつ抵抗検出方式
のタッチパネルを組み立てたところ、２層膜の構成をと
っているが抵抗検出方式のタッチパネルとして、全く問
題なく位置検出することができた。タッチパネルとして
の全線透過率が、１０％以上改善されて８９％となり、
また曇度も２％以下で透明感が高かった。反射型のＬＣ
Ｄとタッチパネルを組み合せたところ、表示表面におけ
る明るさが格段に改善され、見やすく見栄えの良いパネ
ルを達成できた。このＬＣＤ付タッチパネルに対し、信
頼性試験をおこなった。５０℃、９０％ＲＨで１０００
時間の高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は発
生せず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５
℃、６０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められな
かった。２００００ラングレイの日光暴露試験において
も、異常は認められなかった。

【００２２】（実施例５）屈折率１．５２のガラス基板
上に、屈折率１．４７の二酸化珪素膜をｎ₁ｄ₁＝λ₀／
４の膜厚になるよう電子線蒸着法により形成し、屈折率
２．０の酸化スズ膜をｎ₂ｄ₂＝λ₀／４の膜厚になるよ
うＣＶＤ法で形成した。次にアルコール系溶媒にアクリ
ル系のオリゴマーを溶解し、平均粒径４００ÅのＩＴＯ
微粒子の分散液を混合し、十分に攪拌し塗布液とした。

【００２３】この塗布液をガラス基板の酸化スズ透明電
極上に、ロールコート法で塗布し成膜した。５０℃で２
時間加熱した後、電子線を２００キロボルトの加速電圧
で照射して硬化させ、屈折率１．６５光学的膜厚ｎ₃ｄ₃
＝λ₀／４のＩＴＯ微粒子を含んだアクリル高分子層と
した。膜厚は５０ｎｍ程度の範囲で十分制御できた。表
面硬度は鉛筆硬度で５Ｈ以上と高く、曇度も１％以下
で、透明感が高かった。２層の膜の密着性は、碁盤目試
験１００／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のス
チールウールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復
させても傷が認められなかった。また、アルコール、
酸、アルカリ、洗剤の滴下実験において異常は認められ
なかった。図６にガラス基板上に３層からなる減反射コ
ーティングを施した時の反射率の分光特性を示す。

【００２４】実施例１と同様の構造をもつ抵抗検出方式
のタッチパネルを組み立て、ＰＥＴフィルム表面に防眩
フィルムを貼りつけた。３層膜の構成をとっているが抵
抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく位置検
出することができた。タッチパネルとしての全線透過率
が改善されて８５％となった。また外光の映り込みがな
く、見やすく見栄えの良いパネルを達成できた。

【００２５】（実施例６）屈折率１．５のガラス基板上
に、屈折率１．４６の二酸化珪素膜をｎ₁ｄ₁＝λ₀／４
の膜厚になるようスパッタ法により形成し、連続して屈
折率１．８のＩＴＯをｎ₁ｄ₁＝λ₀／２の膜厚になるよ
うスパッタ法で形成した。同じく屈折率１．５５のＰＥ
Ｓ（ポリエーテルサルフォン）フィルム上に、屈折率
１．４６の二酸化珪素膜をｎ₁ｄ₁＝λ₀／４の膜厚にな
るようスパッタ法により形成し、連続して屈折率１．８
のＩＴＯをｎ₁ｄ₁＝λ₀／２の膜厚になるようスパッタ
法で形成した。

【００２６】次に平均粒径５０Åから１００Åのアンチ
モン含有酸化スズ超微粒子が分散している、シロキサン
系低分子が溶解したアルコール溶液「透明帯電防止コー
ティング液Ｐ１０４」（秩父セメント社製）を、ガラス
基板とＰＥＳフィルムの両面にディッピングにより塗布
した。引き上げ速度２０ｃｍ／分で成膜し、８０℃で３
０分間加熱して定着させた。更に引き上げ速度２０ｃｍ
／分で重ねて成膜し、１２０℃で１時間加熱して硬化さ
せた。屈折率１．５光学的膜厚ｎ₃ｄ₃＝λ₀／４の酸化
スズ微粒子を含んだシロキサン高分子層を形成した。膜
厚は５０ｎｍ程度の範囲で十分制御できた。表面硬度は
鉛筆硬度で５Ｈ以上と高く、曇度も０．５％以下で、透
明感が高かった。２層の膜の密着性は、碁盤目試験１０
０／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチール
ウールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させて
も傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アル
カリ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかっ
た。図７にガラス基板上に３層からなる減反射コーティ
ングを施した時の反射率の分光特性を示す。

【００２７】実施例１と同様の構造をもつ抵抗検出方式
のタッチパネルを組み立てた。３層膜の構成をとってい
るが抵抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく
位置検出することができた。タッチパネルとしての全線
透過率が、１０％以上改善されて９０％となり、また曇
度も１％以下で透明感が高かった。反射型のＬＣＤとタ
ッチパネルを組み合せたところ、表示表面における明る
さが格段に改善され、見やすく見栄えの良いパネルを達
成できた。このＬＣＤ付タッチパネルに対し、信頼性試
験をおこなった。５０℃、９０％ＲＨで１０００時間の
高温高湿試験において、剥がれ、クラック等は発生せ
ず、ヤケも発生しなかった。また−２０℃、２５℃、６
０℃の熱衝撃試験においても、異常は認められなかっ
た。２００００ラングレイの日光暴露試験においても、
異常は認められなかった。

【００２８】（実施例７）屈折率１．５２のガラス基板
上に、屈折率１．３８の弗化マグネシウム膜をｎ₁ｄ₁＝
０．２３λ₀の膜厚になるよう電子線蒸着法により形成
し、屈折率１．９の酸化スズ膜をｎ₂ｄ₂＝０．６５λ₀
の膜厚になるようＣＶＤ法で形成した。次に実施例４と
同様の塗布液をガラス基板の酸化スズ透明電極上に、ロ
ールコート法で塗布し成膜した。５０℃で２時間加熱し
た後、電子線を２００キロボルトの加速電圧で照射して
硬化させ、屈折率１．６５光学的膜厚ｎ₃ｄ₃＝０．２３
λ₀のＩＴＯ微粒子を含んだアクリル高分子層とした。
膜厚は５０ｎｍ程度の範囲で十分制御できた。表面硬度
は鉛筆硬度で５Ｈ以上と高く、曇度も１％以下で、透明
感が高かった。２層の膜の密着性は、碁盤目試験１００
／１００と良好で、耐擦傷性は＃００００のスチールウ
ールを１ｋｇ／ｃｍ² の荷重をかけて１０往復させても
傷が認められなかった。また、アルコール、酸、アルカ
リ、洗剤の滴下実験において異常は認められなかった。
図８にガラス基板上に３層からなる減反射コーティング
を施した時の反射率の分光特性を示す。

【００２９】実施例１と同様の構造をもつ抵抗検出方式
のタッチパネルを組み立て、ＰＥＴフィルム表面に防眩
フィルムを貼りつけた。３層膜の構成をとっているが抵
抗検出方式のタッチパネルとして、全く問題なく位置検
出することができた。タッチパネルとしての全線透過率
が改善されて８５％となった。また外光の映り込みがな
く、見やすく見栄えの良いパネルを達成できた。

【００３０】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、膜厚
を制御した透明電極が減反射コーティングの高屈折層を
兼ね、導電性微粒子を含んだ高分子層が膜厚を制御され
て最表面に形成されることにより、透明度が高くて見栄
えの良い、位置検出性に優れたタッチパネルを提供する
ことができた。製造安定性や、信頼性においても実用に
かなうものであった。本発明のタッチパネルは部品構成
上は全く従来と変わらないため、本発明の導入により即
座に大きな効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１におけるタッチパネルの概念
を模式的に表す断面図である。

【図２】本発明の実施例１における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図３】本発明の実施例２における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図４】本発明の実施例３における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図５】本発明の実施例４における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図６】本発明の実施例５における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図７】本発明の実施例６における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【図８】本発明の実施例７における透明基板に形成され
た透明電極面の、反射率の分光特性を示すスペクトル図
である。

【符号の説明】

１１‥‥‥‥ガラス基板１２‥‥‥‥ＰＥＴ基板１３‥‥‥‥ＩＴＯ透明電極１４‥‥‥‥ＩＴＯ透明電極１５‥‥‥‥スペーサー１６‥‥‥‥導電性微粒子を含んだ高分子層２１‥‥‥‥２層からなる減反射コーティングを施した
面の分光反射特性曲線３１‥‥‥‥３層からなる減反射コーティングを施した
面の分光反射特性曲線

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】空気を介して透明電極面を対向させた一
組の透明基板から構成される抵抗検出方式のタッチパネ
ルにおいて、透明電極基板の少なくとも一方の基材が屈
折率１．４８から１．６３であり、透明基材表面に透明
電極材料からなる屈折率ｎ₁（１．６５≦ｎ₁≦２．２）
の第１層と、導電性微粒子を含んだ高分子からなる屈折
率ｎ₂（１．４５≦ｎ₂≦１．６５）の第２層からなる減
反射膜が形成されており、第１層と第２層に対応する光
学的膜厚ｎ₁ｄ₁とｎ₂ｄ₂がともにλ₀（λ₀＝５２０ｎ
ｍ、以下同様の波長を示す）以下、λ₀／２０以上であ
ることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】少なくとも一方の透明基材表面に、透明
電極も含め２層から構成される減反射膜を有する上記タ
ッチパネルにおいて、第１層と第２層に対応する光学的
膜厚ｎ₁ｄ₁とｎ₂ｄ₂が、ｎ₁ｄ₁＝ｎ₂ｄ₂＝λ₀／４（±
λ₀／１０）の範囲であることを特徴とする請求項１記
載のタッチパネル。
【請求項３】少なくとも一方の透明基材表面に、透明
電極も含め２層から構成される減反射膜を有する上記タ
ッチパネルにおいて、第１層と第２層に対応する光学的
膜厚ｎ₁ｄ₁とｎ₂ｄ₂がｎ₁ｄ₁＝２ｎ₂ｄ₂＝λ₀／２（±
λ₀／１０）であることを特徴とする請求項１記載のタ
ッチパネル。
【請求項４】空気を介して透明電極面を対向させた一
組の透明基板から構成される抵抗検出方式のタッチパネ
ルにおいて、透明電極基板の少なくとも一方の基材が屈
折率１．４８から１．６３であり、透明基材表面から順
次形成された低屈折材料からなる屈折率ｎ₁（１．３５
≦ｎ₁≦１．５）の第１層と、透明電極材料からなる屈
折率ｎ₂（１．６５≦ｎ₂≦２．２）の第２層と、導電性
微粒子を含んだ高分子からなる屈折率ｎ₃（１．４５≦
ｎ₃≦１．６５）の第３層からなる減反射膜が形成され
ており、上記第１層と第２層と第３層に対応する光学的
膜厚ｎ₁ｄ₁、ｎ₂ｄ₂、ｎ₃ｄ₃がともにλ₀以下、λ₀／２
０以上であることを特徴とするタッチパネル。
【請求項５】少なくとも一方の透明基材表面に、透明
電極も含め３層から構成される減反射膜を有する上記タ
ッチパネルにおいて、第１層と第２層と第３層に対応す
る光学的膜厚ｎ₁ｄ₁、ｎ₂ｄ₂、ｎ₃ｄ₃が、ｎ₁ｄ₁＝ｎ₂
ｄ₂＝ｎ₃ｄ₃＝λ₀／４（±λ₀／１０）の範囲であるこ
とを特徴とする請求項４記載のタッチパネル。
【請求項６】少なくとも一方の透明基材表面に、透明
電極も含め３層から構成される減反射膜を有する上記タ
ッチパネルにおいて、第１層と第２層と第３層に対応す
る光学的膜厚ｎ₁ｄ₁、ｎ₂ｄ₂、ｎ₃ｄ₃が２ｎ₁ｄ₁＝ｎ₂
ｄ₂＝２ｎ₃ｄ₃＝λ₀／２（±λ₀／１０）の範囲である
ことを特徴とする請求項４記載のタッチパネル。