JPH11258405A

JPH11258405A - 反射防止フィルム

Info

Publication number: JPH11258405A
Application number: JP10061805A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Harada; 隆宏原田; Noritoshi Tomikawa; 典俊富川; Koichi Ohata; 浩一大畑; Kazutoshi Kiyokawa; 和利清川; Haruo Uyama; 晴夫宇山; Yutaka Kobayashi; 裕小林
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1998-03-12
Filing date: 1998-03-12
Publication date: 1999-09-24

Abstract

(57)【要約】【課題】擦過により表面に傷がつきにくく、反射防止
層の剥離も生じない反射防止フィルムを得る。また、反
射防止フィルムが電磁波シールド機能を有する場合に
は、その電磁波シールド効果が長期にわたって維持され
るようにする。【解決手段】フィルム基材１上の少なくとも片面に反
射防止層２を有する反射防止フィルム１０Ａにおいて、
該反射防止層２の最上層の上に、撥水性及び／又は撥油
性を有する防汚層３を形成し、かつその防汚層３の表面
の動摩擦係数を０．３以下とする。あるいは、反射防止
層２の最上層を、撥水性及び／又は撥油性を有し、表面
の動摩擦係数が０．３以下の低屈折率層２ｂ₃とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの表
示画面等の表面に適用される反射防止フィルムに関す
る。より詳しくは、反射防止層の表面に傷がつきにく
く、また反射防止層の剥離が防止された反射防止フィル
ムに関し、更にはかかる反射防止フィルムであって電磁
波シールド機能を有する反射防止フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ディスプレイの多くは、室内
外を問わず外光等が入射するような環境下で使用され
る。ディスプレイに入射した外光は、ディスプレイ表面
等において正反射され、その反射像がディスプレイ本来
の表示光と混合して表示品質を低下させ、表示画像を見
にくくする。

【０００３】特に、最近のオフィスのＯＡ化に伴い、コ
ンピューターを使用する頻度が増し、ＣＲＴやＬＣＤ
（液晶ディスプレイ）と相対している時間が長くなって
いる。そのため外光の反射像等による表示品質の低下
は、目の疲労等の健康障害を引き起こす要因とも考えら
れ、不要な外光反射を低減させることが要求されてい
る。

【０００４】更に、近年ではアウトドアライフの普及に
伴い、ＣＲＴやＬＣＤ等のディスプレイを室外で使用す
る機会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上さ
せて表示画像を明確に認識できるようにするという要求
も出てきている。

【０００５】これらの要求を満たすための一例として、
可視光の広範囲にわたり反射防止効果を有する反射防止
フィルムをディスプレイの表面等に貼り合わせることが
知られている。このような反射防止フィルムとしては、
透明プラスティックからなるフィルム基材の表面に、ハ
ードコート層を介して金属酸化物等からなる高屈折率層
と低屈折率層との積層構造を有する反射防止層を形成し
たもの、あるいは反射防止層として、珪素酸化物や有機
フッ素化合物等の低屈折率層を単層で形成したものが使
用されている。

【０００６】これとは別に、透明プラスティックからな
るフィルム基材の表面に透明な微粒子を含むコーティン
グ層を形成し、凸凹状の表面で外光を乱反射させること
により、上述の反射防止フィルムと同様の効果を得られ
ることが知られている。

【０００７】一方、近年、ディスプレイの表面に貼り付
けるフィルムに電磁波シールド機能を求める傾向があ
る。電磁波シールド機能を有するフィルムをディスプレ
イの前面に貼り付けることにより、静電気の帯電を無く
すとともに、埃などの付着を防止し表示画像を見やすく
することができる。更に最近では、携帯電話を代表とす
る移動体通信網が拡大を続ける中、放出される電磁波の
ディスプレイに及ぼす影響が問題視されている。例え
ば、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパ
ネル）などにおいては、ディスプレイ自身が放出する電
磁波以外の外部からの電磁波は、ディスプレイに対して
ノイズとなる。そこで、反射防止フィルムに電磁波シー
ルド機能をもたせることが要求されている。

【０００８】反射防止フィルムに電磁波シールド機能を
付与する場合、薄い金属又は透明導電性セラミックスを
用いて反射防止フィルムに導電性層を形成し、その導電
性層を接地することが最も一般的である。この場合、導
電性層は、反射防止フィルムの反射防止層に作り込む
か、あるいは、反射防止層が形成されているフィルム基
材の反射面に単独で形成されたものとなっている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
反射防止フィルムは、擦過により反射防止層の表面に傷
がつきやすい。そのため反射防止フィルムをディスプレ
イの表面に貼り付けても、反射防止層の表面に形成され
た傷のために表示画像が認識しにくくなったり、外観が
著しく劣化したり、さらには、傷をきっかけとして反射
防止層が剥離するなどの問題が生じている。また、電磁
波シールド機能を有する反射防止フィルムにおいては、
その電磁波シールド機能も劣化するなどの問題が生じて
いる。

【００１０】本発明は、このような問題点に着目してな
されたもので、その目的とするところは、反射防止層の
表面に擦過による傷がつきにくく、反射防止層の剥離の
ない反射防止フィルムを提供することにある。また、反
射防止フィルムが電磁波シールド機能を有する場合に
は、その電磁波シールド効果が長期にわたって維持され
る反射防止フィルムを提供することも目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するため、フィルム基材上の少なくとも片面に反
射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該反射防
止層の最上層の上に、撥水性及び／又は撥油性を有する
防汚層が形成されており、該防汚層の表面の動摩擦係数
が０．３以下、好ましくは０．２以下であることを特徴
とする反射防止フィルムを提供する。

【００１２】また、フィルム基材上の少なくとも片面に
反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該反射
防止層の最上層が、撥水性及び／又は撥油性を有する低
屈折率層からなり、該低屈折率層の表面の動摩擦係数が
０．３以下、好ましくは０．２以下であることを特徴と
する反射防止フィルムを提供する。

【００１３】さらに上述の反射防止フィルムにおいて、
反射防止層が、導電性層を含む態様を提供する。

【００１４】また、本発明は、上述の反射防止フィルム
を表面に有する光学機能性フィルムや、上述の反射防止
フィルムを表面に有するディスプレイからなる表示装置
を提供する。

【００１５】本発明の反射防止フィルムによれば、フィ
ルム基材と反射防止層からなる反射防止フィルムの該反
射防止層の最上層の上に撥水性及び／又は撥油性を有す
る防汚層を有するか、又は反射防止層の最上層の低屈折
率層自体が撥水性及び／又は撥油性を有するので反射防
止フィルム表面の防汚性が向上したものとなる。更に、
この撥水性及び／又は撥油性を有する層は、動摩擦係数
が０．３以下、好ましくは０．２以下であるため滑り性
がよく、耐擦傷性の向上した表面となる。

【００１６】特に、本発明の反射防止フィルムにおい
て、その反射防止層が導電性層を含む態様によれば、防
汚性が高く、かつ、電磁波シールド機能も兼ね備えたも
のとなる。

【００１７】更に、本発明の反射防止フィルムを他の偏
向フィルムなどの光学機能性フィルムや表示装置のディ
スプレイに貼り合わせることにより、その光学機能性フ
ィルムやディスプレイにも同様に防汚性を付与すること
ができる。したがって、かかるディスプレイを有する表
示装置は、そのディスプレイに擦過による傷が付きにく
く、長時間にわたって表示画像が認識しやすく、電磁波
シールド効果を有するものとなる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の態様例を図面に基
づいて詳細に説明する。なお、各図中、同一符号は同一
又は同等の構成要素を表している。

【００１９】図１は、フィルム基材１の片面に、反射防
止層２及び防汚層３が形成されている反射防止フィルム
１０Ａであって、その反射防止層２が、高屈折率層２ａ
と低屈折率層２ｂとを交互に積層した合計４層の積層構
造を有し、また、フィルム基材１と反射防止層２との間
にハードコート層４が形成されているものの層構成図で
ある。

【００２０】この反射防止フィルム１０Ａにおいて、フ
ィルム基材１としては、平滑で透明性のあるプラスティ
ックフィルムを用いることができる。例えば、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、
ポリエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポ
リオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、トリアセチルセルロース等が使用で
き、目的、用途によって適宜選択される。フィルム基材
１の厚さは、それを構成するプラスティックフィルムの
種類、目的、用途により選択、設定されるが、通常、７
０〜２００μｍの厚さが好ましい。

【００２１】反射防止層２は光の干渉性を利用したもの
で、一般に目的の反射防止特性を得るために所定の光学
膜厚ｎｄ（屈折率ｎ×形状膜厚ｄ）の層から構成される
が、図１の反射防止フィルム１０Ａの反射防止層２は、
高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとを交互に、かつ最上
層に低屈折率層２ｂが位置するように合計４層を積層し
たものからなっている。

【００２２】このように反射防止層２を高屈折率層２ａ
と低屈折率層２ｂを交互に積層したものから形成する場
合、図１には積層数４のものを示したが、本発明におい
て積層数はこれに限定されない。通常は、コスト及び反
射防止効果の面から２〜６層とすることが好ましい。

【００２３】ここで、高屈折率層２ａは、実用的な反射
防止効果を得る点から、屈折率ｎ_H＝１．８以上とする
ことが好ましく、１．９５以上とすることがより好まし
い。また、低屈折率層２ｂは、屈折率ｎ_L＝１．６以下
とすることが好ましく、１．５以下とすることがより好
ましい。

【００２４】また、このような高屈折率層２ａの形成材
料としては、実用的には、酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハ
フニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、酸化イ
ットリウム、酸化イッテリビウム、インジウム・錫酸化
物等の金属酸化物のいずれか、或いはこれらを主材料と
する混合物を用いることができる。

【００２５】高屈折率層２ａの形成方法としては、真空
蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ
ＣＶＤ法等の真空成膜プロセスによることができるが、
いかなる成膜方法であっても構わない。

【００２６】一方、低屈折率層２ｂの形成材料として
は、酸化珪素、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、弗
化バリウム等の無機化合物を使用することができる。ま
た、有機珪素系樹脂、多官能基を含むアクリル系、ウレ
タン系、ポリエステル系、メラミン系等の有機樹脂も使
用できる。

【００２７】低屈折率層２ｂの形成方法としては、無機
化合物層を形成する場合、高屈折率層２ａと同様に真空
成膜プロセスによることができる。また、有機樹脂層を
形成する場合にはグラビアコートやスクリーンコート等
のウェットコートと、熱乾燥法、熱硬化法、紫外線照射
硬化法、電子線照射硬化法等を組み合わせた成膜プロセ
スによることができ、各々の有機樹脂の塗布性や硬化性
等の特性に最適な方法が適宜選択される。この他のいか
なる成膜方法であっても構わない。また、紫外線硬化
法、電子線照射硬化法等による場合、真空中に有機樹脂
を加熱気化により、或いは超音波によりミスト化して導
入し、基材近傍で照射することにより低屈折率層２ｂを
形成することも可能である。

【００２８】防汚層３は、撥水性及び／又は撥油性を有
し、かつその表面の動摩擦係数が０．３以下であるとい
う点で本発明に特徴的なものとなっている。反射防止層
２は、表面の反射率が低いために汚れや傷が目立ちやす
いが、撥水性及び／又は撥油性を有する防汚層３を設け
ることにより反射防止層２の表面を保護し、かつ防汚性
を付与すること、より具体的には、撥水性の防汚層３を
設けることにより、水をはじき、汚れを付きにくくする
ことが可能となり、撥油性の防汚層３を設けることによ
り、容易に油性インクや指紋等の汚れを拭き取ることが
可能となる。

【００２９】防汚層３の形成材料としては、当該防汚層
３に付与する撥水性あるいは撥油性の程度等に応じて種
々の有機化合物を使用することができるが、特に、高い
撥水性と撥油性とを示す好ましい形成材料として、フッ
素含有有機化合物をあげることができる。このうち、撥
水性を示すものとしては、例えば、フルオロカーボンや
パーフルオロシラン、またはこれらの高分子化合物等を
あげることができる。また、指紋拭き取り性等の向上の
ためには、メチル基等の撥油性基を有する高分子化合物
が好適である。

【００３０】防汚層３の形成方法としては、その形成材
料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法等の
真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーン
コート法、ディップコート法等のウェットプロセスの各
種コーティング法を用いることができる。

【００３１】防汚層３の表面の動摩擦係数を０．３以
下、好ましくは０．２以下とする方法としては、均一な
ムラの無い表面となるように層形成すればよい。なお、
上述の形成材料を使用し、上述の形成方法で防汚層３を
形成する場合、上述の形成材料は本来的に表面エネルギ
ーが低く、動摩擦係数の低い表面を得やすいので、通
常、格別表面処理を施すことなく動摩擦係数を０．３以
下にすることができる。

【００３２】防汚層３の厚さは反射防止層２の機能を損
なわない厚さに設定することが必要であり、通常、形状
膜厚を５０ｎｍ以下、更には１０ｎｍ以下にすることが
好ましい。

【００３３】フィルム基材１と反射防止層２の間に形成
したハードコート層４は、反射防止層２に鉛筆等の荷重
によって引っ掻き傷が生じることを防止し、またフィル
ム屈曲によりクラックが発生することを抑制するなど、
反射防止フィルム１０Ａの機械的強度を改善するため、
本発明において必要に応じて設けられる。

【００３４】ハードコート層４の形成材料としては、透
明性と適度な硬度と機械的強度とがあれば、特に限定さ
れるものではない。例えば、電子線や紫外線の照射によ
り硬化する樹脂や熱硬化性の樹脂等を使用でき、特に紫
外線照射硬化型のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂、熱
硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。これらの樹
脂としては、フィルム基材１と屈折率が同等もしくは近
似していることがより好ましい。

【００３５】ハードコート層４の膜厚は、形成樹脂等に
もよるが、通常３μｍ以上あれば十分な強度となる。透
明性、塗工精度、取扱い性の点からは５〜７μｍとする
ことが好ましい。

【００３６】また、ハードコート層４には平均粒子径
０．０１〜３μｍの透明な無機あるいは有機の超微粒子
を混合分散させてもよく、この超微粒子として表面に凹
凸形状を有するものを使用してもよい。このような超微
粒子を使用することにより、一般にアンチグレアと呼ば
れる光拡散性の処理を施すことができる。これらの超微
粒子の形成材料としては、透明であれば特に限定はない
が、低屈折率材料が好ましく、特に、無機の酸化珪素や
弗化マグネシウム等が安定性、耐熱性等の点から好まし
い。また、ハードコート層４の形成方法としては、均一
に塗工される限り、任意の塗布方法によることができ
る。

【００３７】図２は、本発明の他の態様の反射防止フィ
ルム１０Ｂの層構成図である。この反射防止フィルム１
０Ｂは、上述の図１の反射防止フィルム１０Ａと同様
に、フィルム基材１の片面に、ハードコート層４、高屈
折率層２ａと低屈折率層２ｂとが交互に積層した反射防
止層２、及び防汚層３を有するものであるが、反射防止
層２を構成する高屈折率層２ａのうち上層の一層が導電
性層Ｘとなっているものである。

【００３８】このように反射防止層２中に導電性層Ｘを
設けることにより反射防止フィルム１０Ｂに電磁波シー
ルド機能を付与することが可能となる。この導電性層Ｘ
は、反射防止層２を構成する高屈折率層２ａでもあるこ
とから、この導電性層Ｘの形成材料としては、高屈折率
でかつ導電性を示す物質を使用する。例えば、酸化亜
鉛、酸化インジウム、酸化錫の単体、あるいはこれらの
混合物等を使用することができる。また、この導電性層
Ｘには、アルミニウム、亜鉛、インジウム、錫等の金属
をドーパントとして混入させもよい。これにより、抵抗
値の調整や低抵抗化が可能となり、電磁波シールド機能
に幅を持たせることが可能となる。

【００３９】図２には、高屈折率層２ａと低屈折率層２
ｂとが交互に合計４層積層した反射防止層２のうち、上
方の高屈折率層２ａの一層だけを導電性層Ｘとした例を
示したが、本発明において、反射防止フィルムに導電性
層を形成する態様はこれに限られない。例えば、図２の
反射防止フィルム１０Ｂにおいて、上方の高屈折率層２
ａに代えて下方の高屈折率層２ａを導電性層としてもよ
く、また２つの高屈折率層２ａの双方とも導電性層とし
てもよい。この他、反射防止性を損なわない限り、任意
の層構成の反射防止層の任意の位置に導電性層を設ける
ことができる。

【００４０】図３は、本発明の他の態様の反射防止フィ
ルム１０Ｃの層構成図である。この反射防止フィルム１
０Ｃは、フィルム基材１の片面に、ハードコート層４、
反射防止層２及び防汚層３が形成されている点では上述
の図１の反射防止フィルム１０Ａと同様であるが、反射
防止層２が、基材フィルム１側から、中間屈折率層２
ｃ、高屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂが順次積層した
層構成となっている点が異なっている。このように反射
防止層２を中間屈折率層２ｃ、高屈折率層２ａ及び低屈
折率層２ｂの３層から構成する場合、高屈折率層２ａ及
び低屈折率層２ｂは、それぞれ前述の図１の高屈折率層
２ａ及び低屈折率層２ｂと同様に形成することができ、
中間屈折率層２ｃは、高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂ
の中間の屈折率を有するように適宜形成材料を選択して
形成する。好ましくは、高屈折率層２ａの屈折率を１．
８よりも大きくし、中間屈折率層２ｃの屈折率を１．６
以上１．８以下とし、低屈折率層２ｂの屈折率を１．６
よりも小さくする。

【００４１】図４も本発明の他の反射防止フィルム１０
Ｄの層構成図である。この反射防止フィルム１０Ｄも、
フィルム基材１の片面に、ハードコート層４、反射防止
層２及び防汚層３が形成されている点では上述の図１の
反射防止フィルム１０Ａと同様であるが、反射防止層２
が、低屈折率層２ｂの単層から構成されている点が異な
っている。

【００４２】このように反射防止層２を低屈折率層２ｂ
の単層から構成する場合、その光学膜厚ｎｄが、可視光
の波長λの４分の１となるとき、即ち、ｎｄ＝１／４λ₀（式中、λ₀＝反射防止の中心波長）の反射防止条件がなりたつとき、λ₀の波長で反射率が
最も低くなる。そこでこの条件が成り立つようにするた
め、反射防止フィルム１０Ｄにおいては、低屈折率層２
ｂの屈折率ｎ_Lがフィルム基材１の屈折率よりも小さく
なるようにし、好ましくは、ハードコート層４の屈折率
よりも小さくなるようにする。

【００４３】以上のように、本発明においては、反射防
止フィルムの反射防止層２の最上層の上に、本発明に特
徴的な防汚層３が形成されている限り、反射防止層２自
体の層構成には、特に限定はない。

【００４４】図５は、更に異なる本発明の反射防止フィ
ルム１０Ｅの層構成図である。この反射防止フィルム１
０Ｅは、フィルム基材１の片面にハードコート層４を有
し、その上に高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとを交互
に積層した合計４層の積層構造からなる反射防止層２を
有する点では図１の反射防止フィルム１０Ａと同様であ
るが、反射防止層２の最上層の上に防汚層３を有してお
らず、反射防止層２の最上層の低屈折率層２ｂ₃自体に
防汚層３の機能を持たせている点が異なっている。即
ち、この反射防止層２の最上層の低屈折率層２ｂ₃は、
撥水性及び／又は撥油性を有する低屈折率材料からな
り、その表面の動摩擦係数が０．３以下、より好ましく
は０．２以下に形成されている。このように低屈折率層
２ｂ₃を撥水性及び／又は撥油性に形成し、かつその表
面の動摩擦係数を０．３以下、より好ましくは０．２以
下に形成するためには、その形成材料として、パーフル
オロエチレン等のフッ素含有有機化合物等を使用するこ
とができる。また、その表面の動摩擦係数を０．３以
下、好ましくは０．２以下に形成する方法としては、上
述のフッ素含有有機化合物は、本来的に表面エネルギー
が低く、動摩擦係数の低い表面を得やすいので、均一に
ムラの無い表面となるようように形成すればよい。

【００４５】図５には、反射防止層２が高屈折率層2ａ
と低屈折率層２ｂとを交互に積層した層構成を有し、そ
の最上層の低屈折率層２ｂに防汚層の機能を持たせたも
のを示したが、本発明はこれに限られず、反射防止層２
の最上層が、撥水性及び／又は撥油性を有する低屈折率
材料からなり、その表面の動摩擦係数が０．３以下とな
っている限り、種々の層構成のものを広く包含する。例
えば、図２に示したように、反射防止層２が導電性層Ｘ
を含む場合に、防汚層３を形成することなく、反射防止
層２の最上層の低屈折率層２ｂに上述の防汚層の機能を
もたせてもよく、また、図３に示したように、反射防止
層２が、基材フィルム１側から、中間屈折率層２ｃ、高
屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂが順次積層した層構成
を有する場合にも、防汚層３を形成することなく、反射
防止層２の最上層の低屈折率層２ｂに上述の防汚層の機
能をもたせてもよい。さらに、図４に示したように、反
射防止層２が低屈折率層２ｂの単層からなる場合にも適
用することができる。

【００４６】以上、説明した本発明の反射防止フィルム
は、他のプラスティックフィルムや偏向フィルムなどの
光学機能性フィルム等と、ラミネート等で貼り合わせる
ことにより反射防止機能を有する光学機能性フィルムと
なる。

【００４７】この反射防止フィルムあるいは光学機能性
フィルムを粘着剤、接着剤等を用いて液晶、プラズマデ
ィスプレイ、ＣＲＴを含む種々の表示装置のディスプレ
イ前面のガラス板、プラスティック板、偏向板等と貼り
合わせることにより、そのディスプレイに反射防止機能
を付与すると共に防汚性を付与することができる。した
がって、擦過によって傷が付きにくく、画像認識のしや
すい表示装置を得ることができる。よって、本発明は、
かかる光学機能性フィルムや、反射防止フィルムあるい
は光学機能性フィルムをディスプレイに設けた表示装置
も包含する。

【００４８】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。

【００４９】実施例１図１の層構成の反射防止フィルム１０Ａを次のように作
製した。まず、フィルム基材１として透明なＰＥＴフィ
ルム（１００μｍ厚）を使用し、この上にハードコート
層４として多官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法に
より形成した。そしてこの上に、高屈折率層２ａにイン
ジウム・錫酸化物（ＩＴＯ）、低屈折率層２ｂに酸化珪
素を使用し、高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとが交互
に合計４層積層した反射防止層２をプラズマアシスト蒸
着法により形成し、更にフッ素含有有機化合物として分
子数６００のパーフルオロシランと分子量２０００のフ
ルオロシランからなる防汚層３を塗布形成した。各層の
屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄは次の表１の
通りとした。

【００５０】

【表１】フィルム基材（ＰＥＴフィルム）ｎ＝１．６３ハードコート層ｎ＝１．５５、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝６０ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝４０ｎｍ３層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝１１０ｎｍ４層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約７ｎｍ

【００５１】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００５２】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性を図６に示す。

【００５３】また、この反射防止フィルム１０Ａの防汚
層３の表面の動摩擦係数μ_Kを、図７に示す摩擦摩耗解
析装置にて、荷重Ｗを２００ｇ、移動速度Ｖを２ｍｍ／
Sとして測定した。測定結果から動摩擦係数μ_Kは０．１
１であった。

【００５４】更にスチールウール（ボンスターＮｏ．０
０００、日本スチールウール株式会社製）より２５０ｇ
／ｃｍ²の荷重で耐擦傷性試験を行った。その結果、傷
は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有することがわかっ
た。

【００５５】実施例２フィルム基材１として透明なＰＥＴフィルム（１００μ
ｍ厚）を使用し、この上にハードコート層４として多官
能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成した。
そしてプラズマアシスト蒸着法により、ハードコート層
４上の１層目に導電性を有する高屈折率層２ａ，Ｘとし
てインジウム・錫酸化物（ＩＴＯ）層を形成し、２層目
に酸化珪素からなる低屈折率層２ｂを形成し、３層目に
酸化ジルコニウムからなる高屈折率層２ａを形成し、４
層目に酸化珪素からなる低屈折率層２ｂを形成した。更
にフッ素含有有機化合物として分子量６００のパーフル
オロシランと分子量５０００のフルオロシランによる防
汚層３を塗布形成した。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、
及び光学膜厚ｎｄは、次の表２の通りとした。

【００５６】

【表２】フィルム基材（ＰＥＴフィルム）ｎ＝１．６３ハードコート層ｎ＝１．５５、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝６０ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝４０ｎｍ３層目（ＺｒＯ₂）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝１１０ｎｍ４層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約７ｎｍ

【００５７】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００５８】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例１の図６と同様であった。

【００５９】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【００６０】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００６１】実施例３フィルム基材１として透明なトリアセチルセルロースフ
ィルム（ＴＡＣフィルム）（８０μｍ厚）を使用し、こ
の上にハードコート層４として多官能性アクリル樹脂を
紫外線照射硬化法により形成した。そして、このハード
コート層４上の１層目及び３層目に高屈折率層２ａとし
てインジウム・錫酸化物層をスパッタリング法により形
成し、２層目及び４層目に低屈折率層２ｂとして酸化珪
素層をプラズマアシスト蒸着法により形成した。更に、
フッ素含有有機化合物として分子量６００のパーフルオ
ロシランと分子量５０００のフルオロシランによる防汚
層３を塗布形成した。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及
び光学膜厚ｎｄは、次の表３の通りとした。

【００６２】

【表３】フィルム基材（ＴＡＣフィルム）ｎ＝１．４９ハードコート層ｎ＝１．５１、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝５８ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝３８ｎｍ３層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝１２５ｎｍ４層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約８ｎｍ

【００６３】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００６４】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図８の特性を示した。

【００６５】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【００６６】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００６７】実施例４図３の層構成の反射防止フィルム１０Ｃを次のように作
製した。まず、フィルム基材１として透明なＴＡＣフィ
ルム（８０μｍ厚）を使用し、この上にハードコート層
４として単官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法によ
り形成した。そしてこのハードコート層４上の１層目の
中間屈折率層２ｃとして酸化アルミニウム層、２層目の
高屈折率層２ａとしてインジウム・錫酸化物層、３層目
の低屈折率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマアシスト
蒸着法により形成した。更に、フッ素含有有機化合物と
して分子量６００のパーフルオロシランと分子量５００
０のフルオロシランによる防汚層３を塗布形成した。各
層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄは、次の
表４の通りとした。

【００６８】

【表４】フィルム基材（ＴＡＣフィルム）ｎ＝１．４９ハードコート層ｎ＝１．５１、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（Ａｌ₂Ｏ₃）ｎ_M＝１．６５、ｎｄ＝１１０ｎｍ２層目（ＩＴＯ）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝１２５ｎｍ３層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約８ｎｍ

【００６９】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００７０】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図９の特性を示した。

【００７１】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【００７２】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００７３】実施例５図４の層構成の反射防止フィルム１０Ｄを次のように作
製した。まず、フィルム基材１として透明なＰＥＴフィ
ルム（１００μｍ厚）を使用し、この上にハードコート
層４として単官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法に
より形成した。そしてこのハードコート層４上に低屈折
率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマアシスト蒸着法に
より形成した。更に、フッ素含有有機化合物として分子
量６００のパーフルオロシランによる防汚層３を塗布形
成した。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎ
ｄは、次の表５の通りとした。

【００７４】

【表５】フィルム基材（ＰＥＴフィルム）ｎ＝１．６３ハードコート層ｎ＝１．５５、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１３８ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約７ｎｍ

【００７５】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００７６】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図１０の特性を示した。

【００７７】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．１５であった。

【００７８】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００７９】実施例６フィルム基材１として透明なＰＥＴフィルム（１００μ
ｍ厚）を使用し、この上にハードコート層４として多官
能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成した。
そして、このハードコート層４上の１層目及び３層目に
高屈折率層２ａとして酸化チタン層を、また２層目及び
４層目に低屈折率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマア
シスト蒸着法により形成した。更に、フッ素含有有機化
合物として分子量６００のパーフルオロシランと分子量
２０００のフルオロシランによる防汚層３を塗布形成し
た。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄ
は、次の表６の通りとした。

【００８０】

【表６】フィルム基材（ＰＥＴフィルム）ｎ＝１．６３ハードコート層ｎ＝１．５５、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝６０ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝４０ｎｍ３層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝１１０ｎｍ４層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約７ｎｍ

【００８１】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００８２】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図１１の特性を示した。

【００８３】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．１２であった。

【００８４】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００８５】実施例７フィルム基材１として透明なＴＡＣフィルム（８０μｍ
厚）を使用し、この上にハードコート層４として多官能
性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成した。そ
して、このハードコート層４上の１層目及び３層目に高
屈折率層２ａとして酸化チタン層を、また２層目及び４
層目に低屈折率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマアシ
スト蒸着法により形成した。更に、フッ素含有有機化合
物として分子量６００のパーフルオロシランと分子量５
０００のフルオロシランによる防汚層３を塗布形成し
た。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄ
は、次の表７の通りとした。

【００８６】

【表７】フィルム基材（ＴＡＣフィルム）ｎ＝１．４９ハードコート層ｎ＝１．５１、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝６０ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝４０ｎｍ３層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝１１０ｎｍ４層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１４５ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約７ｎｍ

【００８７】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００８８】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図１２の特性を示した。

【００８９】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【００９０】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００９１】実施例８防汚層の厚みを約８ｎｍとする以外は実施例７を繰り返
し、反射防止フィルムを作製した。

【００９２】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例７の図１２の特性と同様であ
った。

【００９３】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【００９４】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【００９５】実施例９図５の層構成の反射防止フィルム１０Ｅを次のように作
製した。まず、フィルム基材１として透明なＴＡＣフィ
ルム（８０μｍ厚）を使用し、この上にハードコート層
４として単官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法によ
り形成した。そして、このハードコート層４上の１層目
及び３層目に高屈折率層２ａとして酸化チタン層を、ま
た２層目に低屈折率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマ
アシスト蒸着法により形成し、更に、最上層の４層目に
防汚機能を有する低屈折率層２ｂ₃としてテトラフルオ
ロエチレン系樹脂をスパッタリング法により形成した。
なお、この４層目の低屈折率層２ｂ₃は防汚層として機
能するため、これと別個に防汚層を形成することはしな
かった。各層の屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎ
ｄは、次の表８の通りとした。

【００９６】

【表８】フィルム基材（ＴＡＣフィルム）ｎ＝１．４９ハードコート層ｎ＝１．５０、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝７５ｎｍ２層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝３８ｎｍ３層目（ＴｉＯ₂）ｎ_H＝２．３０、ｎｄ＝１００ｎｍ４層目（テトラフルオロエチレン系樹脂）ｎ_L＝１．３８、ｎｄ＝１４５ｎｍ

【００９７】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【００９８】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図１２と同様の特性を示した。

【００９９】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．１５であった。

【０１００】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【０１０１】実施例１０図３の層構成の反射防止フィルム１０Ｃを次のように作
製した。まず、フィルム基材１として透明なＴＡＣフィ
ルム（８０μｍ厚）を使用し、この上にハードコート層
４として単官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法によ
り形成した。そしてこのハードコート層４上の１層目の
中間屈折率層２ｃとして酸化アルミニウム層、２層目の
高屈折率層２ａとして酸化ジルコニウム層、３層目の低
屈折率層２ｂとして酸化珪素層をプラズマアシスト蒸着
法により形成した。更に、フッ素含有有機化合物として
分子量６００のパーフルオロシランと分子量５０００の
フルオロシランによる防汚層３を塗布形成した。各層の
屈折率ｎ、形状膜厚ｄ、及び光学膜厚ｎｄは、次の表９
の通りとした。

【０１０２】

【表９】フィルム基材（ＴＡＣフィルム）ｎ＝１．４９ハードコート層ｎ＝１．５１、ｄ＝約５μｍ反射防止層：１層目（Ａｌ₂Ｏ₃）ｎ_M＝１．６５、ｎｄ＝１２５ｎｍ２層目（ＺｒＯ₃）ｎ_H＝２．０５、ｎｄ＝２５５ｎｍ３層目（ＳｉＯ₂）ｎ_L＝１．４６、ｎｄ＝１３５ｎｍ防汚層（フッ素含有有機化合物）ｄ＝約８ｎｍ

【０１０３】この場合、各層の光学膜厚は、光学式の膜
厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜
を止め所定の光学膜厚を得た。

【０１０４】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、図１３の特性を示した。

【０１０５】この反射防止フィルムの防汚層３の表面の
動摩擦係数μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、
動摩擦係数μ_Kは０．０８であった。

【０１０６】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、傷は殆ど認められず良好な耐擦傷性を有するこ
とがわかった。

【０１０７】比較例１防汚層３を形成しない以外は実施例２を繰り返し、比較
例の反射防止フィルムを作製した。

【０１０８】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例２の図６と同様の特性を示し
た。

【０１０９】この反射防止フィルムの表面の動摩擦係数
μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、動摩擦係数
μ_Kは０．４２であった。

【０１１０】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、明らかにわかる傷が数本あり、細かい傷も認め
られ、耐擦傷性が劣ることがわかった。

【０１１１】比較例２防汚層３を形成しない以外は実施例３を繰り返し、比較
例の反射防止フィルムを作製した。

【０１１２】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例３の図８と同様の特性を示し
た。

【０１１３】この反射防止フィルムの表面の動摩擦係数
μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、動摩擦係数
μ_Kは０．４４であった。

【０１１４】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、明らかにわかる傷が数本あり、細かい傷も認め
られ、耐擦傷性が劣ることがわかった。

【０１１５】比較例３防汚層３を形成しない以外は実施例５を繰り返し、比較
例の反射防止フィルムを作製した。

【０１１６】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例５の図１０と同様の特性を示
した。

【０１１７】この反射防止フィルムの表面の動摩擦係数
μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、動摩擦係数
μ_Kは０．４０であった。

【０１１８】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、明らかにわかる傷が数本あり、細かい傷も認め
られ、耐擦傷性が劣ることがわかった。

【０１１９】比較例４防汚層３を形成しない以外は実施例６を繰り返し、比較
例の反射防止フィルムを作製した。

【０１２０】得られた反射防止層２の絶対反射測定によ
る分光反射特性は、実施例６の図１１と同様の特性を示
した。

【０１２１】この反射防止フィルムの表面の動摩擦係数
μ_Kを、実施例１と同様に測定したところ、動摩擦係数
μ_Kは０．３７であった。

【０１２２】更に耐擦傷性試験を実施例１と同様に行っ
た結果、明らかにわかる傷が数本あり、細かい傷も認め
られ、耐擦傷性が劣ることがわかった。

【０１２３】

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、フィルム
基材上の少なくとも片面に形成した反射防止層の上に、
撥水性及び／又は撥油性を有し、かつ表面の動摩擦係数
が０．３以下、好ましくは０．２以下の防汚層が設けら
れているか、あるいは反射防止層の最上層として、その
ような撥水性及び／又は撥油性と動摩擦係数値とを有す
る低屈折率層が設けられているので、反射防止フィルム
の防汚性や耐擦傷性が向上する。したがって、本発明の
反射防止フィルムは、表面の汚れによる反射特性のムラ
や擦過による表面の傷が非常に少なく、反射防止層の剥
離が防止されたものとなる。

【０１２４】特に、本発明の反射防止フィルムにおい
て、反射防止層に導電性層を設けた態様によれば、上述
のような防汚性及び耐擦傷性の他に電磁波シールド機能
も備えたものとなる。また、基材フィルムと反射防止層
との間にハードコート層を形成した態様によれば、機械
的強度が向上し、より信頼性の高い反射防止フィルムと
なる。

【０１２５】さらに、本発明の反射防止フィルムを他の
プラスティックフィルムや偏向フィルム等と貼り合わせ
ることにより光学機能性フィルムを作製すると、得られ
る光学機能性フィルムにも上述した効果を付与できる。
また、これらの反射防止フィルムや光学機能性フィルム
を表示装置のディスプレイの前面板等に貼り合わせるこ
とにより、そのディスプレイに擦過による傷がつくこと
を抑え、表示品質を向上させ、表示画像をより明確に認
識できるようになる。また、長期にわたって当初の外観
や電磁波シールド効果を維持できる表示装置となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。

【図２】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。

【図３】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。

【図４】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。

【図５】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。

【図６】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶対
反射測定による分光反射特性図である。

【図７】摩擦摩耗解析装置の説明図である。

【図８】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶対
反射測定による分光反射特性図である。

【図９】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶対
反射測定による分光反射特性図である。

【図１０】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶
対反射測定による分光反射特性図である。

【図１１】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶
対反射測定による分光反射特性図である。

【図１２】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶
対反射測定による分光反射特性図である。

【図１３】実施例の反射防止フィルムの反射防止層の絶
対反射測定による分光反射特性図である。

【符号の説明】

１フィルム基材２反射防止層２ａ高屈折率層２ｂ低屈折率層２ｂ₃ 防汚機能を有する低屈折率層２ｃ中間屈折率層３防汚層４ハードコート層Ｘ導電性層１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｅ反射防止
フィルム

フロントページの続き (72)発明者清川和利東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内 (72)発明者宇山晴夫東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内 (72)発明者小林裕東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フィルム基材上の少なくとも片面に反射
防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該反射防止
層の最上層の上に、撥水性及び／又は撥油性を有する防
汚層が形成されており、該防汚層の表面の動摩擦係数が
０．３以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】防汚層の表面の動摩擦係数が０．２以下
である請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】防汚層が、フッ素含有有機化合物からな
る請求項１又は２記載の反射防止フィルム。
【請求項４】反射防止層が、フィルム基材上に交互に
積層された高屈折率層と低屈折率層からなる請求項１〜
３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】フィルム基材上に交互に積層された高屈
折率層と低屈折率層との合計の層数が２〜６である請求
項４記載の反射防止フィルム。
【請求項６】反射防止層が、フィルム基材上に積層さ
れた中間屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からなる
請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】反射防止層の最上層が低屈折率層である
請求項４〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】フィルム基材上の少なくとも片面に反射
防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該反射防止
層の最上層が、撥水性及び／又は撥油性を有する低屈折
率層からなり、該低屈折率層の表面の動摩擦係数が０．
３以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項９】反射防止層の最上層の低屈折率層の表面
の動摩擦係数が０．２以下である請求項８記載の反射防
止フィルム。
【請求項１０】反射防止層の最上層の低屈折率層が、
フッ素含有有機化合物からなる請求項８又は９記載の反
射防止フィルム。
【請求項１１】反射防止層が、フィルム基材上に交互
に積層された高屈折率層と低屈折率層からなる請求項８
〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】フィルム基材上に交互に積層された高
屈折率層と低屈折率層との合計の層数が２〜６である請
求項１１記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】反射防止層が、フィルム基材上に積層
された中間屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層からな
る請求項８〜１０のいずれかに記載の反射防止フィル
ム。
【請求項１４】反射防止層が、導電性層を含む請求項
１〜１３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】反射防止層に含まれる導電性層が、酸
化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫又はこれらの２以上の
混合物からなる請求項１４記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】反射防止層に含まれる導電性層に、金
属ドーパントが混入している請求項１４又は１５記載の
反射防止フィルム。
【請求項１７】金属ドーパントが、アルミニウム、亜
鉛、インジウム又は錫からなる請求項１６記載の反射防
止フィルム。
【請求項１８】反射防止層の高屈折率層の屈折率が
１．８以上である請求項４又は１１記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項１９】反射防止層の低屈折率層の屈折率が
１．６以下である請求項４又は１１記載の反射防止フィ
ルム。
【請求項２０】反射防止層の中間屈折率層の屈折率が
１．６以上１．８以下である請求項６又は１３記載の反
射防止フィルム。
【請求項２１】フィルム基材と反射防止層との間にハ
ードコート層が形成されている請求項１〜２０のいずれ
かに記載の反射防止フィルム。
【請求項２２】ハードコート層が紫外線硬化性である
請求項２１記載の反射防止フィルム。
【請求項２３】ハードコート層が電子線硬化性である
請求項２１記載の反射防止フィルム。
【請求項２４】ハードコート層が熱硬化性である請求
項２１記載の反射防止フィルム。
【請求項２５】ハードコート層が、平均粒子径０．０
１〜３μｍの透明微粒子を含有する請求項２１記載の反
射防止フィルム。
【請求項２６】請求項１〜２５のいずれかに記載の反
射防止フィルムを表面に有する光学機能性フィルム。
【請求項２７】請求項１〜２５のいずれかに記載の反
射防止フィルムを表面に有するディスプレイからなる表
示装置。