JP2000111713A

JP2000111713A - 防眩性ハードコートフイルムとその製造方法、防眩性反射防止膜およびこれらを用いた画像表示装置

Info

Publication number: JP2000111713A
Application number: JP10284506A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Amimori; 一郎網盛; Kazuhiro Nakamura; 和浩中村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1998-10-06
Publication date: 2000-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】粒子のような内部散乱の原因となる物質を用
いることなく、量産性、耐傷性、防眩性に優れたフィル
ムを提供すること。【解決手段】平滑な透明支持体上に、少なくともポリ
マー層とハードコート層がこの順に形成された防眩性ハ
ードコートフィルムにおいて、該ポリマー層が、（メ
タ）アクリル酸エステル単位を１０重量％以上含むポリ
マーを有し、かつ該ポリマー層が０．２μｍ以上、５μ
ｍ以下の厚みを有することを特徴とする防眩性ハードコ
ートフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性を有する反
射防止膜およびそれを用いた画像表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】防眩性フィルムは表面に映る反射像の輪
郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させ、画
像表示装置などの使用時に反射像の映り込みが気になら
ないようにするものである。このような防眩性を発現さ
せるためには表面に凹凸を形成する必要があるが、防眩
性を付与する手段として、表面凹凸を形成するためのマ
ット粒子を塗布液に添加する方法（特開昭５９−５８０
３６）が広く用いられている他、あらかじめ凹凸を形成
した型を転写させる方法（特開昭６３−２９８２０
１）、エンボス（特開平６−２３４１７５）、スプレー
塗布（特開平５−１９００８９）等が検討されてきた。
しかし、マット粒子を用いる方法では粒子と層を形成す
るバインダの界面に表面凹凸起因とは無関係の散乱が生
じてしまい、透過画像もぼかしてしまう問題がある。ま
たエンボスは工程が煩雑な上、微小な凹凸の制御が難し
く表面に輝点のようなものが発生してチラツキやギラツ
キを改良することができない。またスプレー塗布は大小
の凹凸の制御が困難である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、マッ
ト粒子のような内部散乱の原因となる物質を用いること
なく、また煩雑な工程を経ることなく、ハードコート上
に防眩性に対して理想的な凹凸を形成することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、平滑な
透明支持体上に、少なくともポリマー層とハードコート
層がこの順に形成された防眩性ハードコートフィルムに
おいて、該ポリマー層が、（メタ）アクリル酸エステル
単位を１０重量％以上含むポリマーを有し、かつ該ポリ
マー層が０．２μｍ以上、５μｍ以下の厚みを有するこ
とを特徴とする防眩性ハードコートフィルムにより達成
された。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい態様につ
いて説明するが本発明はこれらに限定されるものではな
い。（１）平滑な透明支持体上に、少なくともポリマー層と
ハードコート層がこの順に形成された防眩性ハードコー
トフィルムにおいて、該ポリマー層が、少なくとも下記
一般式（１）で示される（メタ）アクリル酸エステル単
位を１０重量％以上含むポリマーを有し、かつ該ポリマ
ー層が０．２μｍ以上、５μｍ以下の厚みを有すること
を特徴とする防眩性ハードコートフィルム。

【０００６】

【化２】

【０００７】（２）該ハードコート層が、二以上のエチ
レン性不飽和基を有するモノマーを含む組成物の塗布乾
燥後に、電離放射線または熱による重合反応により硬化
されてなることを特徴とする項１に記載の防眩性ハード
コートフィルム。（３）該ハードコート層が、平均粒子サイズが０．５μ
ｍ以下の無機微粒子を含有することを特徴とする項１ま
たは２に記載の防眩性ハードコートフィルム。（４）該ポリマー層を形成するポリマーが、該ハードコ
ート層塗布液に部分的に溶解または膨潤していることを
特徴とする項１〜３のいずれかに記載の防眩性ハードコ
ートフィルム。（５）ハードコートフィルム表面の中心線平均粗さが
０．０５から０．５μｍであることを特徴とする項１〜
４のいずれかに記載の防眩性ハードコートフィルム。（６）ヘイズ値が２０％以下でかつ、反射率が２．５％
以下であることを特徴とする項１〜５のいずれかに記載
の防眩性ハードコートフィルム。（７）平滑な透明支持体上に、ポリマー層とハードコー
ト層を同時又は逐次塗布する工程、その後乾燥する工
程、電離放射線または熱による重合反応による硬化工程
を設けることを特徴とする項１〜６のいずれかに記載の
防眩性ハードコートフィルムの製造方法。（８）項１〜６のいずれかに記載の防眩性ハードコート
フィルム上に少なくとも１層の屈折率１．４８以下の低
屈折率層を有することを特徴とする防眩性反射防止膜。（９）項１〜６のいずれかに記載の防眩性ハードコート
フィルムまたは項８に記載の防眩性反射防止膜を表示面
に配置したことを特徴とする画像表示装置。以上のよう
な防眩性ハードコートフィルムあるいは防眩性反射防止
膜を用いることで、画像表示装置の画像表示面における
外光の反射を有効に防止することができると同時に、背
景の映り込みを有効に減少することができ、表示装置の
品位を著しく改善できるものである。

【０００８】次に、本発明の防眩性を有する反射防止膜
の基本的な構成を図面を引用しながら説明する。〔防眩性の付与〕図１に、防眩性の付与法の一例を示す
が、本発明の実施の形態はこれに限定されるものではな
い。図中、１は平滑な透明支持体、２はポリマー層、３
はハードコート層である。本発明においては、ポリマー
層とハードコート層の界面において、ポリマー層成分と
ハードコート層成分が互いに混合する、あるいは一方の
層の成分が他層に拡散する、一方の層の成分が不均一に
膨潤する、等により層内に不均一を生じてハードコート
表面に、波打った凹凸を形成する。より好ましいのは、
ポリマー層を形成するポリマーが、ハードコート層塗布
液に部分的に溶解または膨潤する場合である。凹凸の程
度は、以下に述べるポリマーの種類の他に、ポリマー層
の厚み、ハードコート層の塗布溶剤等によって自由に制
御することができる。凹凸は中心線平均粗さＲａが０．
０５乃至０．５μｍが好ましく、０．１乃至０．３μｍ
が更に好ましい。凹凸周期は０．１乃至１０００μｍの
範囲のパワースペクトルにおいて、１乃至１０μｍの自
乗平均粗さＲＭＳの占める割合が１０乃至３０％である
ことが好ましく、１５乃至２５％であると更に好まし
い。

【０００９】ヘイズは２０％以下であれば特に制限はな
いが、１０％以下であると更に好ましい。反射率は４５
０乃至６５０ｎｍの波長における平均が２．５％以下で
あれば特に制限はないが、１．５％以下であると更に好
ましく、０．８％以下であると特に好ましい。

【００１０】〔反射防止膜の形成〕図２は、反射防止膜
の様々な層構成を示す断面模式図である。図２の（ａ）
に示す態様は、透明支持体１、ハードコート層３、そし
て低屈折率層６の順序の層構成を有する。この低屈折率
層には通常屈折率が１．４０程度の含フッ素ポリマーや
ゾル−ゲル膜、粒径２００ｎｍ以下の微粒子積層膜、二
酸化珪素蒸着膜などが用いられる。図２の（ｂ）に示す
態様は、透明支持体１、ハードコート層３、高屈折率層
５、そして低屈折率層６の順序の層構成を有する。
（ｂ）のように、高屈折率層５と低屈折率層６とを有す
る反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公報に記
載されているように、高屈折率層が下記式（Ａ）、低屈
折率層が下記式（Ｂ）をそれぞれ満足することが好まし
い。

【００１１】第１層式（Ａ）ｍλ／４×０．７＜ｎ1 ｄ1 ＜ｍλ／４×１．３式中、ｍは正の整数（一般に１、２または３）であり、
ｎ１は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は高屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。第２層式（Ｂ）ｎλ／４×０．７＜ｎ2 ｄ2 ＜ｎλ／４×１．３式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、ｎ２は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ２は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。

【００１２】図２の（ｃ）に示す態様は、透明支持体
１、ハードコート層３、中屈折率層４、高屈折率層５、
そして低屈折率層６の順序の層構成を有する。（ｃ）の
ように、中屈折率層４、高屈折率層５と低屈折率層６と
を有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公
報に記載されているように、中屈折率層が下記式
（Ｃ）、高屈折率層が下記式（Ｄ）、低屈折率層が下記
式（Ｅ）をそれぞれ満足することが好ましい。

【００１３】第１層式（Ｃ）ｈλ／４×０．７＜ｎ３ｄ３＜ｈλ／４×１．３式中、ｈは正の整数（一般に１、２または３）であり、
ｎ３は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は中屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。第２層式（Ｄ）ｊλ／４×０．７＜ｎ４ｄ４＜ｊλ／４×１．３式中、ｊは正の整数（一般に１、２または３）であり、
ｎ４は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ４は高屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。第３層式（Ｅ）ｋλ／４×０．７＜ｎ５ｄ５＜ｋλ／４×１．３式中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、ｎ５は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ５は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。

【００１４】透明支持体としては、プラスチックフィル
ムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材
料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロ
ース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセル
ロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロ
ヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−
１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシ
レート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン
（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフ
ィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチル
ペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポ
リアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタク
リレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。トリア
セチルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチレン
テレフタレートが好ましい。透明支持体の光透過率は、
８０％以上であることが好ましく、８６％以上であるこ
とがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％
以下であることが好ましく、１．０％以下であることが
さらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至
１．７であることが好ましい。

【００１５】ポリマー層に用いるポリマーは特に限定さ
れないが、ハードコート層の塗布溶剤に対して溶解また
は膨潤することが好ましい。このようなポリマーとして
はゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸
（塩）のような水溶性ポリマーの他、セルロースエステ
ル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、ア
セチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロ
ース）、ポリ（メタ）アクリル酸（エステル）（例、ポ
リメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）ア
クリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、ポリ
（メタ）アクリル酸）、ポリスチレンおよびポリエーテ
ルケトンおよびこれらの共重合体が含まれる。ポリマー
層に用いるポリマーは、少なくとも下記一般式（１）で
示される（メタ）アクリル酸エステル単位を１０重量％
以上含むポリマーを含有する。（メタ）アクリル酸単位
は、２０重量％以上が更に好ましく、全量であってもよ
い。

【００１６】

【化３】

【００１７】これらのポリマーの例としては、ポリメチ
ルメタアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、ポ
リブチルメタアクリレート、ポリメタアクリル酸、ポリ
メチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブ
チルメタアクリレート等をあげることができる。これら
のポリマーを構成するモノマーと他のモノマーとの共重
合体であっても良い。上記の本発明のポリマーは、他の
ポリマーと混合して用いてもよい。このようなポリマー
としてはゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギ
ン酸（塩）のような水溶性ポリマーの他、セルロースエ
ステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロース）、ポリスチレンおよびポリエーテルケトン
およびこれらの共重合体が含まれる。ポリマー層の成分
は、ハードコート層の塗布溶剤に対して溶解または膨潤
することが好ましい。ポリマー層の厚みは０．２μm 以
上、５μm 以下が好ましく、０．３μm 以上、４μm 以
下が特に好ましい。

【００１８】ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭
化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有す
るポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポ
リマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

【００１９】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基
を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による
重合反応により硬化させる必要がある。

【００２０】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００２１】更にハードコート層には、屈折率の調節や
膜の硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても
良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．５μ
ｍ以下のものが好ましく、０．２μｍ以下のものが特に
好ましい。無機微粒子としては二酸化珪素粒子、二酸化
チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸
カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン
および硫酸カルシウム粒子があげられ、二酸化珪素粒
子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子が特に好
ましい。無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全重
量の１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０乃
至８０重量％であると更に好ましく、３０乃至６０重量
％が特に好ましい。ハードコート層の厚さは０．５乃至
１５μｍであることが好ましい。更に好ましくは１μm
乃至１０μm である。

【００２２】次に本発明のハードコート層の上に設ける
ことができる反射防止層について説明する。図２の
（ｂ）に示すように、低屈折率層と透明支持体との間に
高屈折率層を設けてもよい。また、図２の（ｃ）に示す
ように、高屈折率層と透明支持体との間に中屈折率層を
設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至
２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０
であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、
低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値と
なるように調整する、中屈折率層の屈折率は、１．５５
乃至１．８０であることが好ましい。高屈折率層および
中屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好まし
い。

【００２３】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００２４】屈折率の高い無機微粒子を前述の低屈折率
層中に添加するモノマーと開始剤、有機置換されたケイ
素化合物、または上記ポリマー中に分散してもよい。無
機微粒子としては、金属（例、アルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、アンチモン）の酸化物が好ましい。
モノマーと開始剤を用いる場合は、塗布後に電離放射線
または熱による重合反応によりモノマーを硬化させるこ
とで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層
が形成できる。無機微粒子の平均粒径は、１０乃至１０
０ｎｍであることが好ましい。

【００２５】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例には、金属
アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−Ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
−Ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
Ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−sec-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ−イソ
プロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−
ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エ
トキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセ
チルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセ
トネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチル
アセトアセテート、アルミニウムジ−Ｉ−プロポキシド
モノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジ
ルコニウムモノエチルアセトアセテート）、有機酸塩
（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）およびジルコニ
ウムを主成分とする活性無機ポリマーが含まれる。

【００２６】低屈折率層に用いられる化合物としては、
フッ素原子を有する化合物、下記一般式に示される有機
置換されたケイ素化合物が含まれる。これら以外の化合
物を併用しても良い。本発明の低屈折率層で好ましく用
いられる化合物は下記一般式Ａで表される化合物または
その加水分解生成物である。一般式ＡＲ¹ _aＲ² _bＳｉＸ_4-(a+b) ここでＲ¹、Ｒ²は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リル基またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、メル
カプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有する
炭化水素基を表す。Ｘはアルコキシル基、アルコキシア
ルコキシル基、ハロゲン基ないしアシルオキシ基から選
ばれた加水分解可能な置換基を表す。ａ、ｂは各々０、
１または２でかつａ＋ｂが１または２である。また、特
開平９−２８８２０１号公報に記載のように、層内に光
の波長以下のサイズの空気又は真空からなるミクロボイ
ドを均一に有することによって、低屈折率層を形成する
こともできる。

【００２７】低屈折率層に用いられるフッ素化合物は、
フッ素原子を有するモノマーを重合して形成されたポリ
マーが含まれる。モノマー単位の具体例としては、例え
ばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パー
フルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール
等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化ア
ルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニ
ルエーテル類等であり、これらの中から一つ又は複数の
モノマーを任意の比率で組み合わせて共重合により目的
のポリマーを得ることができる。

【００２８】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デンアクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エ
ステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレ
ート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼ
ン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニル
エーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステ
ル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル
等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリル
アミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタ
クリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げるこ
とができる。

【００２９】反射防止膜には、さらに、防湿層、帯電防
止層や保護層を設けてもよい。特に低屈折率層の上に、
保護層を設けることが好ましい。保護層は、滑り層また
は汚れ防止層として機能する。滑り層に用いる滑り剤の
例には、ポリオルガノシロキサン（例、ポリジメチルシ
ロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリジフェニルシ
ロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、アルキル変
性ポリジメチルシロキサン）、天然ワックス（例、カル
ナウバワックス、キャンデリラワックス、ホホバ油、ラ
イスワックス、木ろう、蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モ
ンタンワックス）、石油ワックス（例、パラフィンワッ
クス、マイクロクリスタリンワックス）、合成ワックス
（例、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシ
ュワックス）、高級脂肪脂肪酸アミド（例、ステアラミ
ド、オレインアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアラ
ミド）、高級脂肪酸エステル（例、ステアリン酸メチ
ル、ステアリン酸ブチル、グリセリンモノステアレー
ト、ソルビタンモノオレエート）、高級脂肪酸金属塩
（例、ステアリン酸亜鉛）およびフッ素含有ポリマー
（例、パーフルオロ主鎖型パーフルオロポリエーテル、
パーフルオロ側鎖型パーフルオロポリエーテル、アルコ
ール変性パーフルオロポリエーテル、イソシアネート変
性パーフルオロポリエーテル）が含まれる。汚れ防止層
には、含フッ素疎水性化合物（例、含フッ素ポリマー、
含フッ素界面活性剤、含フッ素オイル）を添加する。保
護層の厚さは、反射防止機能に影響しないようにするた
め、２０ｎｍ以下であることが好ましい。

【００３０】反射防止膜の各層は、ディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエ
クストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号
明細書）により、塗布により形成することができる。二
以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ
いては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝
倉書店（１９７３）に記載がある。

【００３１】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置
（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表
示装置の画像表示面に接着する。

【００３２】本発明を詳細に説明するために、以下に実
施例をあげて説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。

【００３３】

【実施例】（ポリマー層用塗布液Ａの調製）攪拌装置、
温度計、還流冷却管を装着した５００mlのガラス製三口
フラスコに、蒸留水２３５ml、界面活性剤スルホコハク
酸ジオクチルナトリウム塩の７０％水溶液０．５７ｇ、
水酸化カリウム１．１ｇをそれぞれ添加、攪拌する。上
述の液に、過硫酸カリウム０．１２８ｇを蒸留水８mlに
溶解した液を添加し直ちにメチルメタクリレート２４
ｇ、エチルメタクリレート４．５ｇ、アクリル酸１．５
ｇの混合物を３時間にわたり滴下した。モノマー液の滴
下終了時点で同開始剤溶液を再度添加し、さらにそのま
ま８０℃で３時間加熱攪拌を続け重合を完結させ、固形
分２５重量％のポリマー分散物を得た。このポリマー分
散物にメタノール６０ｇを添加、室温にて１時間撹拌し
た後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過してポリマー層用塗布液Ａを調製した。

【００３４】（ポリマー用塗布液Ｂの調製）上記と同様
に固形分２５％のポリマー分散物を作成し、凍結乾燥し
てポリマー粉末を得た。この粉末３０ｇをシクロヘキサ
ノン１３５ｇ、メチルエチルケトン１３５ｇに撹拌、溶
解した後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルター
でろ過してポリマー層用塗布液Ｂを調製した。

【００３５】（ハードコート層用塗布液Ａの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇの工業用変性エ
タノールに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇお
よび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）
製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した
溶液を加えた。混合物を攪拌した後、孔径１μｍのポリ
プロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗
布液を調製した。

【００３６】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率２．７
０）３０重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：ＤＭ
ＡＥＡ、興人（株）製）０．３重量部およびメチルエチ
ルケトン６５．２重量部をサンドグラインダーにより分
散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００３７】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．０
ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３０分間撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
て、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００３８】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン３７．
２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解した。さ
らに、上記の二酸化チタン分散物１３．１３ｇおよびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室温で３０分間
撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルター
でろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００３９】（低屈折率層用塗布液の調製）紫外線架橋
性含フッ素ポリマー（ＴＭ−０１１、ＪＳＲ（株）製）
２００ｇにメチルイソブチルケトンを２００ｇ添加、撹
拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ
過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【００４０】〔実施例１〕８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、ゼラチン下塗り層を設け、ゼラ
チン下塗り層の上に、上記のポリマー層用塗布液Ａをバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した。得ら
れたポリマー層は１．５μｍであった。このポリマー層
上に、ハードコート層用塗布液Ａをバーコーターを用い
て塗布し、１２０℃で乾燥の後、紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成し
た。得られたフィルムは防眩性を示していた。

【００４１】〔実施例２〕実施例１においてポリマー層
用塗布液Ａの代わりにポリマー層用塗布液Ｂを用いる他
は、実施例１と同様にして防眩性ハードコートフィルム
を作成した。

【００４２】〔実施例３〕実施例２においてポリマー層
の膜厚が０．５μｍである他は、実施例２と同様にして
防眩性ハードコートフィルムを作成した。

【００４３】〔実施例４〕実施例２の防眩性ハードコー
トフィルム上に、低屈折率層用塗布液をバーコーターを
用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ０．１μｍの低屈折率層を形成
した。

【００４４】〔実施例５〕実施例２の防眩性ハードコー
トフィルム上に、中屈折率層用塗布液、興屈折率層用塗
布液、低屈折率層用塗布液をこの順にバーコーターを用
いて塗布、１２０℃乾燥、紫外線照射して塗布層を硬化
することを繰り返した。こうして、それぞれ０．０８μ
ｍ、０．０６μｍ、０．１μｍの膜厚の反射防止膜を形
成した。

【００４５】（ハードコート層用塗布液Ｂの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）１５０ｇを、４３９ｇの工業用変性エ
タノールに溶解した。得られた溶液に、平均粒径４μｍ
の不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−７０９、
水澤化学工業（株）製）１００ｇを添加して、高速ディ
スパにて５０００ｒｐｍで１時間撹拌、分散した。この
液に光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチ
ルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
てハードコート層の塗布液を調製した。

【００４６】〔比較例１〕８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、ゼラチン下塗り層を設け、ゼラ
チン下塗り層の上に、上記のハードコート層用塗布液Ｂ
をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、
紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防
眩性ハードコート層を形成した。

【００４７】〔比較例２〕８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、ゼラチン下塗り層を設け、ゼラ
チン下塗り層の上に、上記のハードコート層用塗布液Ａ
をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、
紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハ
ードコート層を形成した。このハードコートフィルムに
片面エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）
を用いて、プレス圧力６００Ｋｇ／ｃｍ、プレヒートロ
ール温度１２０℃、エンボスロール温度１２０℃、処理
速度２m／分の条件でエンボス処理を行った。

【００４８】（防眩性ハードコートフィルムの評価）得
られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。（１）平均反射率分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。（２）ヘイズ得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。（３）防眩性評価作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ/m²)を映し、その反射像のボケの程度
を以下の基準で評価した。蛍光灯の輪郭が全くわからない：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる：△ 蛍光灯がほとんどぼけない：× （４）ギラツキ評価作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。ほとんどギラツキが見られない：○ わずかにギラツキがある：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある：× （５）耐傷性得られたフィルムを２５℃、相対湿度６０％の条件で２
時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験
用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆
硬度評価法法に従い、１ｋｇの荷重にて傷が全く認めら
れない硬度を測定した。（６）表面粗さ得られたフィルムの表面を原子力顕微鏡ＳＰＡ−４００
（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて１００
μｍ角の範囲を測定した。この領域の表面粗さを解析
し、中心線平均粗さを求めた。

【００４９】以上のようにして評価した結果を表１に示
す。得られたハードコートフィルムは実施例、比較例い
ずれも良好な耐傷性を示した。実施例１から３は反射率
の低下および防眩性が十分でギラツキも問題ないレベル
であった。比較例１は反射率の低下および防眩性は十分
でギラツキも問題なかったが、実施例１から３よりもヘ
イズが大きかった。これはシリカ粒子とモノマーバイン
ダーとの界面に防眩性に寄与しない内部散乱を有するた
めである。比較例２は反射率の低下がやや小さかった。
また、防眩性も劣り。ギラツキはかなり悪かった。ヘイ
ズは小さかった。

【００５０】表１試験結果反射率ヘイズ防眩性ギラツキ耐傷性表面粗さ実施例１ 1.32％ 12.3％ ◎ ○ ３Ｈ０．１６μｍ２ 1.45％ 10.8％ ◎ ○ ３Ｈ０．１７μｍ３ 2.25％ 4.2％ ○ ○ ３Ｈ０．１４μｍ４ 1.51％ 6.2％ ◎ ○ ３Ｈ０．１５μｍ５ 0.82％ 4.5％ ◎ ○ ３Ｈ０．１５μｍ比較例１ 1.63％ 23.0％ ◎ ○ ２Ｈ２ 3.82％ 1.1％ △ × ３Ｈ０．１７μｍ

【図面の簡単な説明】

【図１】防眩性ハードコートフィルムの層構成を示す模
式図である。

【図２】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。

【符号の説明】１透明支持体２ポリマー層３ハードコート層４中屈折率層５高屈折率層６低屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＡＦターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA15 BA20 2K009 AA02 AA04 AA05 AA06 AA12 AA15 BB11 CC09 CC21 DD02 DD05 DD06 EE02 EE03 EE05 4F006 AA02 AA12 AA15 AA22 AA31 AA35 AA36 AA38 AA39 AA40 AB02 AB03 AB16 AB19 AB20 AB24 AB32 AB33 AB34 AB35 AB37 AB42 AB63 AB64 AB65 AB66 AB67 AB74 BA14 CA05 DA04 EA03 EA05 5G435 AA01 AA17 HH03 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】平滑な透明支持体上に、少なくともポリ
マー層とハードコート層がこの順に形成された防眩性ハ
ードコートフィルムにおいて、該ポリマー層が、少なく
とも下記一般式（１）で示される（メタ）アクリル酸エ
ステル単位を１０重量％以上含むポリマーを有し、かつ
該ポリマー層が０．２μｍ以上、５μｍ以下の厚みを有
することを特徴とする防眩性ハードコートフィルム。【化１】
【請求項２】該ハードコート層が、二以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを含む組成物の塗布乾燥後
に、電離放射線または熱による重合反応により硬化され
てなることを特徴とする請求項１に記載の防眩性ハード
コートフィルム。
【請求項３】該ハードコート層が、平均粒子サイズが
０．５μｍ以下の無機微粒子を含有することを特徴とす
る請求項１または２に記載の防眩性ハードコートフィル
ム。
【請求項４】該ポリマー層を形成するポリマーが、該
ハードコート層塗布液に部分的に溶解または膨潤してい
ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防
眩性ハードコートフィルム。
【請求項５】ハードコートフィルム表面の中心線平均
粗さが０．０５から０．５μｍであることを特徴とする
請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性ハードコートフ
ィルム。
【請求項６】ヘイズ値が２０％以下でかつ、反射率が
２．５％以下であることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれかに記載の防眩性ハードコートフィルム。
【請求項７】平滑な透明支持体上に、ポリマー層とハ
ードコート層を同時又は逐次塗布する工程、その後乾燥
する工程、電離放射線または熱による重合反応による硬
化工程を設けることを特徴とする請求項１〜６のいずれ
かに記載の防眩性ハードコートフィルムの製造方法。
【請求項８】請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性
ハードコートフィルム上に少なくとも１層の屈折率１．
４８以下の低屈折率層を有することを特徴とする防眩性
反射防止膜。
【請求項９】請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性
ハードコートフィルムまたは請求項８に記載の防眩性反
射防止膜を表示面に配置したことを特徴とする画像表示
装置。