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JPH09169508A - ニトリド含有化合物の多層被覆及びその形成法 - Google Patents

ニトリド含有化合物の多層被覆及びその形成法

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JPH09169508A
JPH09169508A JP8156324A JP15632496A JPH09169508A JP H09169508 A JPH09169508 A JP H09169508A JP 8156324 A JP8156324 A JP 8156324A JP 15632496 A JP15632496 A JP 15632496A JP H09169508 A JPH09169508 A JP H09169508A
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nitrogen
titanium
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coating
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Praxair Technology Inc
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Praxair ST Technology Inc
Praxair Technology Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 窒化チタン含有層で被覆された多層被覆
基体を提供する。 【解決手段】 基体上に配置された第一層帯域であっ
て、0〜35原子%の窒素含量を有するチタン窒素含有
層の少なくとも1つの層からなる第一層帯域と、チタン
窒素含有化合物の少なくとも2つの層からなる第二層帯
域であって、各層が38〜54原子%の窒素を含有する
第二層帯域とで基体を被覆してなり、但し、第一層帯域
が1つよりも多くのチタン窒素含有層を有する場合には
各チタン窒素含有層は隣接する下層とは2〜20原子%
異なる窒素を含有し、そして第二層帯域にある各層は隣
接する下層とは6〜14原子%異なる窒素を含有するも
のとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基体上に付着され
た第一層帯域であって、0〜35原子%の窒素含量を有
するチタン窒素含有層の少なくとも1つの層からなる第
一層帯域と、該第一層帯域上に付着された第二層帯域で
あって、38〜54原子%の窒素含量を有するチタン窒
素含有化合物の少なくとも2つの層からなる第二層帯域
とからなり、但し、第二層帯域にある各層は、隣接する
下層中に含有される窒素よりも6〜14原子%少ない窒
素を含有することからなる耐摩耗、侵食及び腐食性被覆
に関するものである。また、本発明は、多層被覆製品の
製造法にも関する。
【0002】
【従来の技術】窒化チタン(TiN)被覆は、それらの
高い硬度及び良好な化学的安定性の故に摩耗、侵食及び
腐食用途に対して興味のあるものである。様々なエンジ
ニアリング用途向けに金属及び合金部材に薄いTiN被
覆を付着させるために物理的蒸着(PVD)及び化学的
蒸着(CVD)法が成功下に使用されてきた。TiN被
覆バイト及び二次成形用具に関してそれらの優秀な摩耗
特性からの利益が十分に認識されており、そしてターボ
マシーンのTiN被覆圧縮機ブレードでは固体粒子衝突
からのそれらの良好な侵食保護が明らかになっている。
しかしながら、腐食保護では、比較的少ない成功例しか
報告されずしかも穏やかな腐食環境においてのみであ
る。
【0003】TiN被覆の腐食挙動は、それらの化学、
ミクロ構造及び厚さに左右される。ほぼ化学量論的なT
iN及びNに富むTiNは良好な耐腐食性を有すること
が判明していた。また、従来技術では、微細な等軸結晶
粒を含む完全緻密TiN被覆は、様々な腐食環境に対す
る抵抗性が多くのエンジニアリング材料よりも優秀であ
ることが報告されていた。また、柱状構造を持つ被覆は
一般的には柱状結晶粒の境界におけるミクロ細孔によっ
て貧弱な耐腐食性を有することも報告されていた。本質
的には、被覆中にあるピンホールやミクロ細孔はその腐
食特性に対して最も有害である。これは、TiNがたい
ていのエンジニアリング材料よりも電気化学的に貴であ
るためである。被覆にあるピンホールは、特に塩化物含
有環境において点食、割れ目腐食又は電食機構によって
その下側の金属の腐食を促進する可能性がある。また、
TiNの耐腐食性は、ピンホールが被覆中に侵入する可
能性を減少させることによって被覆厚の増大と共に向上
することも示されていた。典型的には、それは、腐食媒
体からのベース金属の完全な保護を提供するには厚めの
被覆(20μm)を必要とする。しかしながら、かかる
厚めの被覆をエンジニアリング部材上に均一に付着させ
るのは、それらの複雑な形状及び被覆における比較的高
い固有の圧縮応力の故に困難である。明らかに、ピンホ
ールは、TiN被覆を腐食及び摩耗/侵食の総合用途に
対して成功下に使用するのを妨げる。加えて、ピンホー
ルは、PVD及びCVD型TiN被覆における固有の構
造欠陥である。
【0004】金属中間層又は多層付着物の使用によりピ
ンホール欠陥を減少させることによってTiN被覆の耐
腐食性を向上させるために多くの方法が使用されてき
た。米国特許第4226082号には、ベース金属に隣
接したTiに富む中間層を持つTi+TiN被覆は、比
較的穏やかな摩耗及び腐食環境において装飾用途に対し
て良好な特性を提供することが開示されている。Surfac
e Coating Technologies45 (1991) 115におけるマッシ
アニ氏他による報文には、Ti中間層を持つTiN被覆
は、H2 SO4 及びNaCl溶液中においてAISI
430及びAISI 304ステンレス鋼並びにFe基
体上の単層TiN被覆に対して腐食保護を向上させるこ
とが報告されていた。日本特許第8064380号に
は、TiNを交互に積層したTi層は、被覆製品を局部
的な腐食攻撃から保護するために被覆層を貫通するピン
ホールの形成を抑制することができることが開示されて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、被覆
を貫通して基体に達する連続したピンホール又は細孔を
減少させるのに有効である良好な耐摩耗、侵食及び腐食
性を有する多層被覆基体を提供することである。
【0006】本発明の他の目的は、基体の表面とチタン
窒素含有化合物の少なくとも2つの層からなる第二帯域
との間に付着されたチタン窒素含有層の少なくとも1つ
の層からなる第一帯域を含む多層被覆基体を提供するこ
とである。
【0007】本発明の他の目的は、被覆層内における電
食攻撃を効果的に除去することができるチタン窒素含有
化合物の多層被覆を形成するための方法を提供すること
である。
【0008】上記の目的及び他の目的並びに本発明の利
益は次の説明を考慮すると明らかになるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】発明の概要 本発明は、基体上に配置された第一層帯域であって、0
〜35原子%好ましくは0〜24原子%の窒素含量を有
するチタン窒素含有層の少なくとも1つの層からなる第
一層帯域と、チタン窒素含有化合物の少なくとも2つの
層からなる第二層帯域であって、各層が38〜54原子
%の窒素を含有し、そして摩耗及び侵食特性では窒素の
原子%は38〜45原子%になり、これに対して腐食特
性では窒素の原子%は45〜54原子%になるところの
第二層帯域とで基体を被覆してなり、但し、第一層帯域
が1つよりも多くのチタン窒素含有層を有する場合には
各チタン窒素含有層は隣接する下層とは10〜20原子
%好ましくは5〜15原子%異なる窒素を含有し、そし
て第二層帯域にある各層は隣接する下層とは6〜14原
子%好ましくは6〜10原子%異なる窒素を含有するも
のとする多層被覆基体に関するものである。本発明の他
の具体例では、第一層帯域は、チタンの層又は0よりも
上から35原子%の窒素を含有するチタン窒素含有層の
層からなることができる。
【0010】また、本発明は、基体上に多層チタン窒素
含有被覆を形成する方法において、(a)被覆しようと
する基体をチタン基材ターゲット及び窒素含有ガス混合
物を収容する室に入れ、(b)チタン基材ターゲットか
らチタンを蒸発させてチタン蒸気を発生させ、これを窒
素含有ガス混合物中の窒素と反応させて基体上に0〜3
5原子%の窒素を含有する少なくとも1つのチタン窒素
含有層の第一層帯域を形成し、(c)工程(b)におけ
る窒素対チタンの比率を変えて、被覆基体の第一層帯域
上に38〜54%の窒素含量を有する窒化チタン含有層
の第二層帯域を形成し、そして(d)工程(c)を少な
くとも一度反復して第二層帯域に少なくとも2つの層の
多層被覆を形成し、ここで各層は38〜54原子%の窒
素を含有しそして各層は隣接する下層中に含有される窒
素とは6〜14原子%異なる窒素を含有する、各工程か
らなる多層チタン窒素含有被覆の形成法、に関するもの
である。窒素対チタンの比率は、電流を変えること、窒
素の流れを変えること又は両者の組み合わせによって変
えることができる。
【0011】純チタンと窒化チタンとの間には、塩化物
含有媒体中において純チタン層に電食攻撃を引き起こす
大きな自由腐食電位差が存在することが判明した。本発
明によれば、隣接する層間の電気化学電位差を減少させ
る配置を有する多層被覆は、被覆層並びに基体における
潜在的な電食攻撃を効果的に除去することができること
が判明した。表1は、チタン及びステンレス鋼と一緒に
種々のTiN含有化合物の自由腐食電位[mV(SC
F)]を示す。
【0012】
【表1】
【0013】
【発明の実施の形態】基体上に多層ニトリド含有被覆を
形成するための1つの具体例は、(a)アノードを有し
そしてチタン基材カソードを窒素含有ガス混合物と一緒
に収容する蒸着室に被覆しようとする基体を入れ、
(b)チタン基材カソードからチタンを蒸発させるため
の電流を設定するためにカソードとアノードとを横切っ
て電圧を印加してチタン蒸気を発生させ、これを窒素含
有ガス混合物中の窒素と反応させて基体上に所望の窒素
含量の窒素チタン含有層を形成し、(c)工程(b)に
おいて窒素対チタン比を変えて被覆基体の上に、先に付
着させた被覆中に含有される窒素よりも特定の窒素原子
%異なる窒素含量を有する他の窒化チタン含有層を形成
させ、そして(d)工程(c)を少なくとも一度反復し
て少なくとも3つの層の多層被覆を形成する、各工程か
らなる。
【0014】好ましくは、窒素含有ガス混合物は、アル
ゴン−窒素、クリプトン−窒素、ヘリウム−窒素、キセ
ノン−窒素、ネオン−窒素等であってよい。
【0015】多層被覆は、通常の処理技術、例えば、a
rc蒸発法、dc−rfマグネトロンスパッタリング、
反応性イオンプレーティング等のような化学的蒸着及び
物理的蒸着を使用することによって付着させることがで
きる。交互板状層を得るための窒素対チタン比の変動は
被覆用化合物の結晶粒生長を妨げ、かくして化合物の結
晶寸法はここの層の厚さよりも大きくならない。
【0016】個々の層の厚さは、例えば0.1〜5ミク
ロン厚好ましくは約1ミクロン厚の間におけるように大
きく変動することができる。本発明に従えば、本発明の
被覆の第二層を構成するチタン窒素含有化合物の層の数
は、2つから特定の用途に所望される任意の数まで変動
することができる。一般には、粉塵環境において作働す
るターボマシーンを使用するたいていの用途に対しては
5〜40層の被覆が好適である。たいていの用途には、
15〜40層が好ましいだろう。好ましくは、第一帯域
の厚さは1〜5ミクロン厚好ましくは3〜5ミクロン厚
であってよく、そして第二帯域の厚さは3〜35ミクロ
ン厚好ましくは8〜35ミクロン厚であってよい。
【0017】好ましくは、第一層帯域及び第二層帯域の
全厚さは6〜40ミクロンにすべきである。
【0018】本発明の多層被覆は、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、コバルト、鉄、マンガン、銅、それらの
合金等のような基体を被覆するのに理想的に適合する。
【0019】先に記載したように、ピンホール及びミク
ロ細孔は、一般には、PVD及びCVD型のTiN被覆
における固有の構造欠陥である。しかしながら、これら
の欠陥は、完全には除去することができない場合があ
る。本発明は、被覆の層構造を貫通して連続のピンホー
ルやミクロ細孔が発生するのを減少させそして被覆及び
ベース金属における電食を減少させることによって全腐
食及び摩耗/侵食性能を向上させるための多層被覆に関
するものである。これを達成するために、TiNx 層被
覆(第二層)とベース金属との間の中間層として、窒素
含量が徐々に変化するミクロ構造を持つTi(N)層又
は窒素含量が0〜35原子%窒素まで変動する多層を使
用すべきである。このような中間層を使用する配置で
は、Ti(N)、TiNx 被覆及びベース金属の間の自
由腐食電位差が大きく減少され、かくして電食を防止す
ることができる。腐食及び摩耗/侵食環境に暴露される
最外TiNx 層は、隣接するTiNx 層よりも少ない窒
素含量を有するべきである。第二帯域における各層間の
窒素含量の差異は6〜14原子%の間にすべきである。
それ故に、外層は、隣接層(カソード)と比較して化学
的により活性である(アノード)。その結果、腐食は、
ピンホールの存在の場合でさえも最外層に制限される。
【0020】
【実施例】25℃の3.56重量%NaCl溶液におい
て17−4PH基体(ステンレス鋼)上の単層TiN被
覆及び多層TiN/TiNx 被覆の点食挙動を評価する
ために循環分極研究を実施した。化学量論的単層TiN
被覆の厚さは、2、8及び15.4μmであった。Ti
N被覆試料のすべてにおいて17−4PH基体の点食が
起こった。TiN被覆並びにTi下層、Epit (Ti
N)及びEpit (TiN+Ti)をそれぞれ含めた被覆
の臨界的点食電位は、全被覆厚さの増大と共に向上し
た。
【0021】7.1〜18.5μmの様々な被覆厚さ及
び0.7〜2.8μmの様々な層厚さを有する多層Ti
N/TiNx 被覆を研究した。14.2μmの被覆厚さ
及び1.6μmの層厚さを有する多層被覆について点食
の発生がない典型的な循環分極曲線が認められた。0.
12mA cm-2の臨界電流密度及び−80mV(SC
E)の電位において活性/不働態転移が起こり、次いで
−10mV(SCE)よりも大きい電位において不働態
化が起こった。この活性/不働態転移は、恐らく、被覆
層内にピンホールの形成をもたらした被覆表面からの腐
食生成物の溶解の結果であった。これは、3.56重量
%NaCl溶液における多層TiN/TiNx 被覆の明
白な分極特性である。
【0022】
【発明の効果】表2には、単層及び多層被覆の循環分極
試験結果が要約されている。単層及び多層被覆の被覆厚
さは、約1μのTi(N)及び1.5μmのTi下層を
それぞれ含んでいた。被覆系の耐点食性は、Epit −E
corrとして測定された。データは、Ti下層を含む場合
及び含まない場合の単層被覆及び多層被覆について被覆
厚さの線関数としてEpit −Ecorrを示す。その結果
は、使用する特定の環境における結果と直接の定量的な
関係を全く有していなかった。しかしながら、Epi t
corrを基にして、所定の被覆厚さでは多層被覆は明ら
かに、Ti下層を有する又は有しない単層被覆よりもず
っと耐点食性であった。所定の被覆厚さでは、多層Ti
N/TiNx 被覆は、塩化物含有環境中において17−
4PHベース金属の点食に対して単層TiN被覆よりも
実質上良好な保護を示す。
【0023】
【表2】
【0024】本発明の特定の具体例を説明したけれど
も、本発明の範囲から逸脱することなく幾多の変更修正
をなし得ることを理解されたい。

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体上に配置された第一層帯域であっ
    て、0〜35原子%の窒素含量を有するチタン窒素含有
    層の少なくとも1つの層からなる第一層帯域と、チタン
    窒素含有化合物の少なくとも2つの層からなる第二層帯
    域であって、各層が38〜54原子%の窒素を含有する
    第二層帯域とで基体を被覆してなり、但し、第一層帯域
    が1つよりも多くのチタン窒素含有層を有する場合には
    各チタン窒素含有層は隣接する下層とは2〜20原子%
    異なる窒素を含有し、そして第二層帯域にある各層は隣
    接する下層とは6〜14原子%異なる窒素を含有するも
    のとする多層被覆基体。
  2. 【請求項2】 第一層帯域にあるチタン窒素含有層が0
    〜24原子%の窒素含量を有する請求項1記載の多層被
    覆基体。
  3. 【請求項3】 第二層帯域にあるチタン窒素含有層が3
    8〜45原子%の窒素含量を有する請求項1記載の多層
    被覆基体。
  4. 【請求項4】 第二層帯域にある各層が隣接する下層と
    は6〜10原子%異なる窒素を含有する請求項1記載の
    多層被覆基体。
  5. 【請求項5】 第一層帯域がチタンの層からなる請求項
    1記載の多層被覆基体。
  6. 【請求項6】 第一層帯域が、チタン層に付着された少
    なくとも1つのチタン窒素含有層を有する請求項1記載
    の多層被覆基体。
  7. 【請求項7】 第一層帯域及び第二層帯域にある各層の
    厚さが0.1〜5μ厚である請求項1記載の多層被覆基
    体。
  8. 【請求項8】 第一層帯域にあるチタン窒素含有層が0
    〜24原子%の窒素含量を有する請求項7記載の多層被
    覆基体。
  9. 【請求項9】 第二層帯域にある各層が38〜45原子
    %の窒素を含有する請求項8記載の多層被覆基体。
  10. 【請求項10】 基体がチタン、鉄、アルミニウム、ニ
    ッケル、コバルト、マンガン、銅及びそれらの合金より
    なる群から選択される請求項1記載の多層被覆基体。
  11. 【請求項11】 第二層帯域にあるチタン窒素含有化合
    物が38〜45原子%の窒素含量を有する請求項10記
    載の多層被覆基体。
  12. 【請求項12】 第二層帯域にある各層が、隣接する下
    層とは6〜10原子%異なる窒素を含有する請求項11
    記載の多層被覆基体。
  13. 【請求項13】 基体上に多層チタン窒素含有被覆を形
    成する方法において、 (a)被覆しようとする基体をチタン基材ターゲット及
    び窒素含有ガス混合物を収容する室に入れ、 (b)チタン基材ターゲットからチタンを蒸発させてチ
    タン蒸気を発生させ、これを窒素含有ガス混合物中の窒
    素と反応させて基体上に0〜35原子%の窒素を含有す
    る少なくとも1つのチタン窒素含有層の第一帯域を形成
    し、 (c)工程(b)における窒素対チタンの比率を変え
    て、被覆基体の第一帯域上に38〜54%の窒素含量を
    有するチタン窒素含有層を形成し、そして (d)工程(c)を少なくとも一度反復して少なくとも
    2つの層の多層被覆を形成し、ここで各層は38〜54
    原子%の窒素を含有しそして第二層にある各層は隣接す
    る下層中に含有される窒素とは6〜14原子%異なる窒
    素を含有する、各工程からなる多層チタン窒素含有被覆
    の形成法。
  14. 【請求項14】 工程(b)において第一帯域がチタン
    層を有する請求項13記載の方法。
  15. 【請求項15】 工程(b)において第一帯域が、チタ
    ン層上に付着された少なくとも1つのチタン窒素含有層
    を有する請求項14記載の方法。
  16. 【請求項16】 窒素含有ガス混合物が、アルゴン−窒
    素、クリプトン−窒素、ヘリウム−窒素、キセノン−窒
    素及びネオン−窒素よりなる群から選択される請求項1
    3記載の方法。
  17. 【請求項17】 窒素含有ガス混合物がアルゴン−窒素
    である請求項16記載の方法。
  18. 【請求項18】 基体がチタン、鉄、アルミニウム、ニ
    ッケル、コバルト、マンガン、銅及びそれらの合金より
    なる群から選択される請求項13記載の方法。
  19. 【請求項19】 多層被覆の全厚さが6〜40ミクロン
    厚である請求項13記載の方法。
JP15632496A 1995-05-30 1996-05-29 ニトリド含有化合物の多層被覆及びその形成法 Expired - Fee Related JP3391981B2 (ja)

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