JPH08310841A

JPH08310841A - 被覆光ファイバ及びその製造方法

Info

Publication number: JPH08310841A
Application number: JP7114607A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Nonaka; 毅野中; Nobuhiro Akasaka; 伸宏赤坂
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 1995-05-12
Filing date: 1995-05-12
Publication date: 1996-11-26

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、光ファイバ被覆工程において硬化
速度を向上させ、その結果光ファイバの線引速度を上昇
させる被覆光ファイバ、及びその製造方法を提供するこ
とを目的とする。【構成】本発明による光ファイバ被覆樹脂は、ビスア
シルホスフィンオキシド類の光重合開始剤を含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線硬化型樹脂混合
物を用いた被覆光ファイバ及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光通信に用いられる光ファイバは、一般
に光学ガラスファイバ、石英系ガラスファイバに限ら
ず、いずれもファイバ化した後ただちにその外周にプラ
スチック被覆を施すことが望ましいとされている。

【０００３】これは、ファイバ化されることにより発生
するファイバ表面の傷や裸ファイバの状態で空気に晒さ
れることによるクラックの成長等によりファイバの強度
が劣化することを防ぐためといわれている。

【０００４】この目的で使用されるプラスチック層とし
ては、一般に熱硬化型のシリコーン樹脂や紫外線硬化型
樹脂が用いられており、近年は作業性の点等から特にこ
の紫外線硬化型樹脂による被覆の技術の重要性が増大し
ている。

【０００５】この紫外線硬化型樹脂を得る混合物はその
基本組成としてアクリルオリゴマー、反応性性希釈剤、
及び光重合開始剤から構成されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】光重合開始剤の種類に
よっては硬化速度に大きく影響を及ぼし、従って塗布工
程でのこの樹脂の硬化速度を向上させその結果として製
造ライン速度を向上させる光重合開始剤の選択は重要で
ある。

【０００７】従って、硬化速度の極めて大きい光重合開
始剤を使用する被覆層塗布方法の開発は、製造工程の迅
速化、品質向上のために重要である。

【０００８】さらに、従来の多層の被覆構造の光ファイ
バ製造においては、外側の層の形成用の光重合開始剤が
光エネルギを吸収し、内側の層の形成用の光重合開始剤
が十分作用しえないという問題があった。

【０００９】このために、複数の被覆工程を設ける場合
があり、作業性、経済性の点で問題があった。

【００１０】以上の問題点を解決するために、本発明者
等は鋭意研究し、紫外線硬化型樹脂混合物の必須成分と
して、ビスアシルホスフィンオキシド系の光重合開始剤
を用いることにより、硬化速度の大幅な向上が可能であ
ることを見いだし本発明を完成するにいたった。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、紫外線硬化型
樹脂混合物の必須成分として、ビスアシルホスフィンオ
キシド系の光重合開始剤を含む混合物を光ファイバ用被
覆材料とした被覆光ファイバを提供するものである。

【００１２】さらに本発明は、紫外線硬化型樹脂混合物
の必須成分として、ビスアシルホスフィンオキシド系の
光重合開始剤を含む混合物を光ファイバ用被覆材料とし
た被覆光ファイバの製造方法を提供するものである。

【００１３】より詳しくは、以下本発明をより詳しく説
明する。

【００１４】本発明は、紫外線硬化型樹脂を被覆した光
ファイバにおいて、該樹脂に少なくともビスアシルホス
フィンオキシド類の光重合開始剤を含むことを特徴とす
る光被覆ファイバに関するものである。

【００１５】さらに本発明は、被覆樹脂に少なくとも、
アクリレートオリゴマーと、反応性希釈剤と、少なくと
もビスアシルホスフィンオキシド類の光重合開始剤を含
むことを特徴とする光ファイバに関するものである。

【００１６】さらに本発明は、アクリレートオリゴマー
として、少なくとも、ポリオールと、イソシアネート
と、アクリレートを含むことを特徴とするものである。

【００１７】さらに本発明は、ポリオールがポリオキシ
テトラメチレングリコールであることを特徴とするもの
である。

【００１８】また本発明はつめいは、イソシアネートが
トリレンジイソシアネートであることを特徴とするもの
である。

【００１９】また本発明は、アクリレートが２ーヒドロ
キシエチルアクリレートであることを特徴とするもので
ある。

【００２０】また本発明は反応性希釈剤として、少なく
とも、２ーエチルヘキシルアクリレートまたはトリメチ
ロールプロパントリアクリレートを含むことを特徴とす
るものである。

【００２１】さらに本発明においては、光重合開始剤が
次式、

【００２２】

【化１】

【００２３】（ここで、Ｒ’が２、４、４ートリメチル
ペンチル基である場合、さらにＲが２、６ージメトキシ
フェニル基、２、６ージクロロフェニル基、２、４、６
ートリクロロフェニル基、２、４、６ートリメトキシフ
ェニル基、２、６ージメチルフェニル基、２、４、６ー
トリメチルフェニル基、フェニル基、メチル基から選ば
れる基を表し；Ｒ’がフェニル基である場合、さらにＲ
がメチル基またはフェニル基を表し；Ｒ’が４ーメチル
フェニル基である場合、さらにＲがメチル基、２、６ー
ジメトキシフェニル、２、６ージクロロフェニル基、
２、４、６ートリクロロフェニル基、２、４、６ートリ
メトキシフェニル基、２、６ージメチルフェニル基、
２、４、６ートリメチルフェニル基から選ばれる基を表
し；Ｒ’がメチル基の場合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’
がエチル基の場合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’がプロピ
ル基の場合、Ｒがメチル基を表す）で表される化合物で
あることを特徴とする光ファイバに関するものである。

【００２４】また、本発明は、さらに光重合開始剤とし
て少なくとも、ベンジルジメチルケタール、１ーヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２ーメチルー１ー
［４ー（メチルチオ）フェニル］ー２ーモルホリノプロ
パンー１ーオン、２ーヒドロキシー２ーメチルー１ーフ
ェニルーピロパンー１ーオンの１つを含むことを特徴と
するものである。

【００２５】さらに本発明は、複数の被覆層で被覆した
光ファイバの被覆層のうち、少なくとも１層被覆樹脂
が、少なくともビスアシルホスフィンオキシド類の光重
合開始剤を含むことを特徴とする光ファイバの製造方法
に関するものである。

【００２６】また本発明は、複数の被覆層で被覆した光
ファイバの被覆層のうち、少なくとも１層被覆樹脂が、
アクリレートオリゴマーと、反応性希釈剤と、少なくと
もビスアシルホスフィンオキシド類の光重合開始剤とを
含むことを特徴とする光ファイバの製造方法に関するも
のである。

【００２７】また本発明は、内側層と外側層の被覆層を
有する被覆光ファイバであって、内側被覆層を、ビスア
シルホスフィンオキシド類を光重合開始剤として形成す
ることを特徴とする被覆光ファイバに関するものであ
る。

【００２８】さらに本発明は、内側層と外側層の被覆層
を有する被覆光ファイバの製造方法であって、内側被覆
層を、ビスアシルホスフィンオキシド類を光重合開始剤
として形成することを特徴とする被覆光ファイバ製造方
法に関するものである。

【００２９】また本発明は、内側層と外側層の被覆層
が、紫外線照射により同時に硬化することを特徴とする
光ファイバ製造方法に関するものである。

【００３０】さらに本発明は、光重合開始剤としてのビ
スアシルホスフィンオキシド類が、０．１〜１０重量部
であることを特徴とする被覆光ファイバに関するもので
ある。

【００３１】また本発明は、前記光重合開始剤としての
ビスアシルホスフィンオキシド類が、０．１〜１０重量
部であることを特徴とする光ファイバ製造方法に関する
ものである。

【００３２】以下本発明をより詳しく説明する。

【００３３】（アクリルオリゴマー）本発明の係るアク
リルオリゴマー（または（メタ）アクリルオリゴマー）
の必須成分は、ポリオール成分、イソシアネート成分、
及びアクリレート成分からなる。以下で説明する種々の
成分を使用可能であるが、該オリゴマーの好ましい分子
量としては、１０００〜１０００００である。

【００３４】本発明においてはポリオール成分は特に制
限されないが、好適に使用可能なポリオール成分として
は、例えばポリオキシテトラメチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等ポリ
エーテルポリオール、またはポリオレフィングリコー
ル、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオ
ール、ポリカプロラクトンポリオール等である。

【００３５】また、本発明においてはイソシアネート成
分は特に制限されないが、好適に使用可能なイソシアネ
ート成分としては、トリレンジイソシアネート、ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ｐーフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等で
ある。

【００３６】また、本発明においてはアクリレート成分
は特に制限されないが、好適に使用可能なアクリレート
成分としては、２ーヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、２ーヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等
のヒドロキシアルキル基の炭素数が２〜４程度のもので
ある。

【００３７】（反応性希釈剤）本発明において使用可能
な反応希釈剤は特に制限されないが、好適に使用可能な
反応性希釈剤としては、２ーエチルヘキシルアクリレー
トテトラヒドロフルフリルアルコールカプロラクトン付
加物の（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレ
ノキシド付加物の（メタ）アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ
グリシジルエーテルから合成したエポキシ（メタ）アク
リレート等のモノないしポリ（メタ）アクリレート類、
ジアリルアジペート、ジアリルフタレート、トリアリル
トリメリテート、トリアリルイソシアヌレート等のアク
リルエステル類、スチレン、ビニルアセテート、Ｎービ
ニルピロリドン、Ｎ、Ｎ’ージメチルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ’ージメチルアミノプロピルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ’ージメチルアミノえちるアクリリレート等のビ
ニル化合物である。

【００３８】（光重合開始剤）本発明で好適に使用可能
な光重合開始剤の１つとしては、ビスアシルホスフィン
オキシド系（特開平５−３４５７９０）であって、硬化
性のよい光重合開始剤であれば特に分子構造に制限はな
いが、特に次式、

【００３９】

【化１】

【００４０】（ここで、Ｒ’が２、４、４ートリメチル
ペンチル基である場合、さらにＲが２、６ージメトキシ
フェニル基、２、６ージクロロフェニル基、２、４、６
ートリクロロフェニル基、２、４、６ートリメトキシフ
ェニル基、２、６ージメチルフェニル基、２、４、６ー
トリメチルフェニル基、フェニル基、メチル基から選ば
れる基を表し；Ｒ’がフェニル基である場合、さらにＲ
がメチル基またはフェニル基を表し；Ｒ’が４ーメチル
フェニル基である場合、さらにＲがメチル基、２、６ー
ジメトキシフェニル、２、６ージクロロフェニル基、
２、４、６ートリクロロフェニル基、２、４、６ートリ
メトキシフェニル基、２、６ージメチルフェニル基、
２、４、６ートリメチルフェニル基から選ばれる基を表
し；Ｒ’がメチル基の場合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’
がエチル基の場合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’がプロピ
ル基の場合、Ｒがメチル基を表す）で表される化合物が
好適に使用可能である。

【００４１】さらに本発明は光重合開始剤として、ベン
ジルジメチルケタール、１ーヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、２ーメチルー１ー［４ー（メチルチ
オ）フェニル］ー２ーモルホリノプロパンー１ーオン、
２ーヒドロキシー２ーメチルー１ーフェニルーピロパン
ー１ーオンが好適に使用可能である。

【００４２】またこれらの２種以上の光重合開始剤を混
合して使用することも可能であり、もしくはアミン類等
の少量の増感助剤との併用も可能である。

【００４３】本発明に係る混合物の光重合開始剤の添加
量は、０．１重量部以上１０重量部以下であることが望
ましい。

【００４４】すなわち、０．１以下では十分な硬化速度
を得ることが困難であり、１０部以上では光重合開始剤
が析出する等の問題が生じるおそれがある。

【００４５】（紫外線硬化型樹脂混合物調整方法）本発
明の紫外線硬化型樹脂は上記のアクリルオリゴマー、反
応性希釈剤、光重合開始剤を必須成分とするが、さらに
必要に応じてアクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエー
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、
シリコーン樹脂、フェノール樹脂等の各種の変性用樹脂
や、有機ケイ素化合物、界面活性剤、増感剤等の各種の
添加剤を配合してもよい。

【００４６】混合物全体の粘度は、作業性の観点から、
通常１０００〜１００００センチポイズ（２５℃）の範
囲に調製されていることが望ましい。

【００４７】本発明においては、該混合物の調整方法は
特に制限されない。通常の加熱撹拌装置があれがよい。
反応の進行は赤外線吸収スペクトル法により、イソシア
ネートによる特性吸収（例えば２２７０ｃｍ^-1）の消失
により、モニタ可能である。

【００４８】各成分の成分量については、本発明におい
ては特に制限はされず、使用する成分の種類、要求され
る被覆層の物理的化学的性質等により、最適化可能であ
る。

【００４９】（光ファイバ被覆工程）本発明の被覆光フ
ァイバの製造法は特に制限されない。従来公知のファイ
バ化装置及び紫外線照射型の樹脂被覆形成装置が好適に
使用可能である。

【００５０】例えば、図１に示される光ファイバ母材１
を線引炉２に送りこみ、加熱溶融して光ファイバ（ガラ
スファイバ）３に線引し、紫外線硬化型樹脂塗布のため
の塗布装置４または５に送り、後これを紫外線照射装置
６により紫外線を照射することに、塗布層を硬化させて
被覆光ファイバ７とし、これを引きながら巻取り装置９
に巻き取るといった方法が可能である。

【００５１】本発明においては、光ファイバの素材、組
成等も特に制限はない。

【００５２】さらに形成された被覆樹脂については物性
及び被覆厚みについて特に限定はされない。

【００５３】さらに被覆樹脂は単層でも多層でもよく、
着色層を設けた構造でもよい。また本発明の光重合開始
剤は着色層にも使用可能である。

【００５４】本発明においては、多層樹脂被覆層の形成
方法は特に制限されない。一般的なコート装置（例えば
特開平１−１４８７３３参照）が好適に使用可能であ
る。

【００５５】本発明においては、紫外線照射装置に特に
制限はなく、通常の装置が好適に使用可能である。例え
ば、照射波長２００〜６００であって、照射エネルギ密
度は３６５ｎｍで２００ｍＷ/ ｃｍ²以上のものが好適
に使用可能である。

【００５６】

【作用】本発明に係る光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹
脂混合物は、ビスアシルホスフィンオキシド骨格を有す
る光重合開始剤を含むことにより、光ファイバ被覆工程
において硬化速度を向上させ、その結果光ファイバの線
引速度を上昇させる。

【００５７】さらに、光ファイバの多層被覆工程におい
て、硬化性を損なわずに一括して被覆可能とする。

【００５８】

【実施例】以下実施例に基づき本発明を具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に
限定されるものではない。

【００５９】（実施例１）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）（三菱化学Ｐ
ＴＭＧ１０００）と、トリレンジイソシアネート（２モ
ル）を、６０〜７０℃で約２時間撹拌混合した。さらに
２ーヒドロキシエチルアクリレート（２モル）を加えて
撹拌混合し、イソシアネート基による赤外線の特性吸収
（２２７０ｃｍ^ー1）をモニターしながら反応を完結させ
た。

【００６０】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として
２、４、４ートリメチルペンチルービス（２、６ージメ
トキシベンゾイル）（３部）を加えて紫外線硬化型樹脂
混合物を製造した。

【００６１】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００６２】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は３００
ｍ／分であった。

【００６３】（実施例２）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００６４】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として
２、４、４ートリメチルペンチルービス（２、６ージク
ロロベンゾイル）（３部）を加えて紫外線硬化型樹脂混
合物を製造した。

【００６５】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００６６】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は３１０
ｍ／分であった。

【００６７】（実施例３）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００６８】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として
２、４、４ートリメチルペンチルービス（２、４、６ー
トリクロロベンゾイル）（３部）を加えて紫外線硬化型
樹脂混合物を製造した。

【００６９】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００７０】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は３３０
ｍ／分であった。

【００７１】（実施例４）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００７２】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として
２、４、４ートリメチルペンチルービス（２、６ージメ
トキシベンゾイル）（３部）、及びベンジルジメチルケ
タール（１部）を加えて紫外線硬化型樹脂混合物を製造
した。

【００７３】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００７４】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は３５０
ｍ／分であった。

【００７５】（実施例５）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００７６】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として
２、４、４ートリメチルペンチルービス（２、６ージメ
トキシベンゾイル）（３部）を加え紫外線硬化型樹脂混
合物を製造した。得られた樹脂混合物を内側層被覆層と
して使用した。

【００７７】さらに、このウレタンアクリレートオリゴ
マー（６０部）に、反応性希釈剤としてトリメチロール
プロパントリアクリレート（４０部）、さらに光重合開
始剤としてベンジルジメチルケタール（３部）を加え紫
外線硬化型樹脂混合物を製造した。得られた樹脂混合物
を外側層被覆層として使用した。

【００７８】得られた２種類の樹脂混合物を、図２の線
引装置を用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバ
まわりに塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００７９】このとき、得られた内側被覆層の厚みは３
０μｍであり、外側被覆層の厚みは３０μｍであった。
また被覆樹脂が硬化するための最高速度は２９０ｍ／分
であった。

【００８０】（比較例１）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００８１】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤としてベ
ンジルジメチルケタール（３部）（チバガイギ社製、イ
ルガキュア６５１）を加えて紫外線硬化型樹脂混合物を
製造した。

【００８２】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００８３】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は１８０
ｍ／分であった。

【００８４】（比較例２）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００８５】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として１
ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（３部）
（チバガイギ社製イルガキュア１８４）を加えて紫外線
硬化型樹脂混合物を製造した。

【００８６】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００８７】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は１６０
ｍ／分であった。

【００８８】（比較例３）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００８９】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として２
ーメチルー１ー［４ー（メチルチオ）フェニル］ー２ー
モルホリノプロパンー１ーオン（３部）（チバガイギ社
製イルガキュア９０７）を加えて紫外線硬化型樹脂混合
物を製造した。

【００９０】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍファイバまわりに塗布硬化さ
せ、被覆光ファイバを製造した。

【００９１】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は１７０
ｍ／分であった。

【００９２】（比較例４）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００９３】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として２
ーヒドロキシー２ーメチルーフェニループロパンー１ー
オン（３部）（チバガイギ社製ダロキュア１１７３）を
加えて紫外線硬化型樹脂混合物を製造した。

【００９４】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００９５】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は１７０
ｍ／分であった。

【００９６】（比較例５）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【００９７】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として４
ートリメチルペンチルービス（２、６ージメトキシベン
ゾイル）（０．０７部）を加えて紫外線硬化型樹脂混合
物を製造した。

【００９８】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【００９９】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は１６０
ｍ／分であった。

【０１００】（比較例６）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【０１０１】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として４
ートリメチルペンチルービス（２、６ージメトキシベン
ゾイル）（１３部）を加えて紫外線硬化型樹脂混合物を
製造した。

【０１０２】得られた樹脂混合物を、図１の線引装置を
用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバまわりに
塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【０１０３】このとき、得られた被覆層の厚みは３０μ
ｍであり、被覆樹脂が硬化するための最高速度は３５０
ｍ／分であった。

【０１０４】（比較例７）平均分子量１０００のポリオ
キシテトラメチレングリコール（１モル）と、トリレン
ジイソシアネート（２モル）を、６０〜７０℃で約２時
間撹拌混合した。さらに２ーヒドロキシエチルアクリレ
ート（２モル）を加えて撹拌混合し、イソシアネート基
による赤外線の特性吸収（２２７０ｃｍ^ー1）をモニター
しながら反応を完結させた。

【０１０５】得られたウレタンアクリレートオリゴマー
（６０部）に、反応性希釈剤として２ーエチルヘキシル
アクリレート（４０部）、さらに光重合開始剤として１
ーヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（３部）
（チバガイギ社製イルガキョア１８４）を加え紫外線硬
化型樹脂混合物を製造した。得られた樹脂混合物を内側
層被覆層として使用した。

【０１０６】さらに、このウレタンアクリレートオリゴ
マー（６０部）に、反応性希釈剤としてトリメチロール
プロパントリアクリレート（４０部）、さらに光重合開
始剤としてベンジルジメチルケタール（３部）を加え紫
外線硬化型樹脂混合物を製造した。得られた樹脂混合物
を外側層被覆層として使用した。

【０１０７】得られた２種類の樹脂混合物を、図２の線
引装置を用いて、直径１２５μｍの石英ガラスファイバ
まわりに塗布硬化させ、被覆光ファイバを製造した。

【０１０８】このとき、得られた内側被覆層の厚みは３
０μｍであり、外側被覆層の厚みは３０μｍであった。
また被覆樹脂が硬化するための最高速度は１５０ｍ／分
であった。

【０１０９】

【発明の効果】本発明によれば、紫外線硬化型樹脂が、
ビスアシルホスフィンオキシド類の光重合開始剤を含む
ことにより、光ファイバ被覆工程において硬化速度を向
上させ、その結果光ファイバの線引速度を上昇させる。

【０１１０】さらに、光ファイバの多層被覆工程におい
て、硬化性を損なわずに一括して被覆可能とする。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ファイバ母材を線引き炉により溶融し、光フ
ァイバ被覆用紫外線硬化型樹脂混合物を１層ごとに塗布
し、紫外線照射により硬化し、巻き取ることにより被覆
光ファイバを製造する方法を示す図である。

【図２】光ファイバ母材を線引き炉により溶融し、複数
の光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹脂混合物を同時に塗
布し、紫外線照射により硬化し、巻き取ることにより被
覆光ファイバを製造する方法を示す図である。

【符号の説明】

１…ガラス光ファイバ、４１…光ファイバ母材、４２…
線引炉、４３ａ、４３ｂ…単樹脂層塗布装置、４３ｃ…
複数樹脂層塗布装置、４４ａ、４４ｂ…紫外線照射装
置、４６ａ、４６ｂ…紫外線照射ランプ、４７ａ、４７
ｂ…反射鏡、４８…樹脂被膜光ファイバ、４９…巻取り
機。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】紫外線硬化型樹脂を被覆した光ファイバ
において、該樹脂に少なくともビスアシルホスフィンオ
キシド類の光重合開始剤を含むことを特徴とする光被覆
ファイバ。
【請求項２】紫外線硬化型樹脂を被覆した光ファイバ
において、該樹脂に少なくとも、アクリレートオリゴマ
ーと、反応性希釈剤と、少なくともビスアシルホスフィ
ンオキシド類の光重合開始剤を含むことを特徴とする光
ファイバ。
【請求項３】前記アクリレートオリゴマーが、少なく
とも、ポリオールと、イソシアネートと、アクリレート
を含むことを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項４】前記ポリオールがポリオキシテトラメチ
レングリコールであることを特徴とする請求項３に記載
の光ファイバ。
【請求項５】前記イソシアネートがトリレンジイソシ
アネートであることを特徴とする請求項３に記載の光フ
ァイバ。
【請求項６】前記アクリレートが２ーヒドロキシエチ
ルアクリレートであることを特徴とする請求項３に記載
の光ファイバ。
【請求項７】前記反応性希釈剤が、少なくとも、２ー
エチルヘキシルアクリレートまたはトリメチロールプロ
パントリアクリレートを含むことを特徴とする請求項２
に記載の光ファイバ。
【請求項８】前記光重合開始剤が次式、【化１】（ここで、Ｒ’が２、４、４ートリメチルペンチル基で
ある場合、さらにＲが２、６ージメトキシフェニル基、
２、６ージクロロフェニル基、２、４、６ートリクロロ
フェニル基、２、４、６ートリメトキシフェニル基、
２、６ージメチルフェニル基、２、４、６ートリメチル
フェニル基、フェニル基、メチル基から選ばれる基を表
し；Ｒ’がフェニル基である場合、さらにＲがメチル基
またはフェニル基を表し；Ｒ’が４ーメチルフェニル基
である場合、さらにＲがメチル基、２、６ージメトキシ
フェニル、２、６ージクロロフェニル基、２、４、６ー
トリクロロフェニル基、２、４、６ートリメトキシフェ
ニル基、２、６ージメチルフェニル基、２、４、６ート
リメチルフェニル基から選ばれる基を表し；Ｒ’がメチ
ル基の場合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’がエチル基の場
合、Ｒがメチル基を表し；Ｒ’がプロピル基の場合、Ｒ
がメチル基を表す）で表される化合物であることを特徴
とする請求項２に記載の光ファイバ。
【請求項９】前記光重合開始剤が、さらに光重合開始
剤として少なくとも、ベンジルジメチルケタール、１ー
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２ーメチル
ー１ー［４ー（メチルチオ）フェニル］ー２ーモルホリ
ノプロパンー１ーオン、２ーヒドロキシー２ーメチルー
１ーフェニルーピロパンー１ーオンの１つを含む請求項
１に記載の光ファイバ。
【請求項１０】紫外線硬化型樹脂で被覆した光ファイ
バの被覆層のうち、少なくとも１層の該樹脂が、少なく
ともビスアシルホスフィンオキシド類の光重合開始剤を
含むことを特徴とする光ファイバの製造方法。
【請求項１１】紫外線硬化型樹脂で被覆した光ファイ
バの被覆層のうち、少なくとも１層の該樹脂が、アクリ
レートオリゴマーと、反応性希釈剤と、少なくともビス
アシルホスフィンオキシド類の光重合開始剤とを含むこ
とを特徴とする光ファイバの製造方法。
【請求項１２】内側層と外側層の被覆層を有する被覆
光ファイバであって、該内側被覆層を、ビスアシルホス
フィンオキシド類を光重合開始剤とする請求項１または
２に記載の光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹脂混合物を
用いて形成することを特徴とする被覆光ファイバ。
【請求項１３】内側層と外側層の被覆層を有する被覆
光ファイバの製造方法であって、該内側被覆層を、ビス
アシルホスフィンオキシド類を光重合開始剤とする請求
項１または２に記載の光ファイバ被覆用紫外線硬化型樹
脂混合物を用いて形成することを特徴とする被覆光ファ
イバ製造方法。
【請求項１４】前記内側層と外側層の被覆層が、紫外
線照射により同時に硬化することを特徴とする請求項１
１に記載の光ファイバ製造方法。
【請求項１５】前記光重合開始剤としてのビスアシル
ホスフィンオキシド類が、０．１〜１０重量部であるこ
とを特徴とする請求項１〜９、１２のいずれかに記載の
被覆光ファイバ。
【請求項１６】前記光重合開始剤としてのビスアシル
ホスフィンオキシド類が、０．１〜１０重量部であるこ
とを特徴とする請求項１０、１１、１３、１４のいずれ
かに記載の光ファイバ製造方法。