JP6345111B2 - 複合化材料及びこれを用いた吸収性物品 - Google Patents

Description

本発明は、吸収性物品用の複合化材料及びこれを用いた吸収性物品に関する。

特許文献１（特開平０８−１６４１５９号公報）には、液透過性層と、液不透過性層と、液透過性層及び液不透過性層の間に配置された液吸収性層と、液透過性層及び液吸収性層の間に配置された液拡散性層とを備える吸収性物品が記載されている。

特許文献２（特開２００３−０３３３９０号公報）には、液透過性層と、液不透過性層と、液透過性層及び液不透過性層の間に配置された液吸収性層と、液吸収性層及び液不透過性層の間に配置された液拡散性層とを備える吸収性物品が記載されている。

熱可塑性樹脂繊維の表面に粒子を担持させる方法として、特許文献３（特開平６−３４１０４４号公報）には、熱可塑性樹脂繊維の表面に接着剤（バインダ）によって粒子を固定する方法が記載されており、特許文献４（特開２００９−１７４１１４号公報）には、熱可塑性樹脂繊維の融点より高い温度に加熱された粒子を、熱可塑性樹脂繊維と接触させ、熱可塑性樹脂繊維の表面に粒子を融着させる方法が記載されている。

母粒子に子粒子を吸着させる方法として、特許文献５（特開２０１０−６４９４５号公報）には、母粒子及び子粒子の表面を互いに反対の電荷に帯電する高分子電解質（カチオン性高分子又はアニオン性高分子）で被覆し、静電的相互作用により母粒子に子粒子を吸着させる方法が記載されている。

特開平０８−１６４１５９号公報 特開２００３−０３３３９０号公報 特開平６−３４１０４４号公報 特開２００９−１７４１１４号公報 特開２０１０−６４９４５号公報

特許文献１に記載の、液透過性層及び液吸収性層の間に配置された液拡散性層は、その液拡散性及びクッション性に基づいて、液透過性層から液拡散性層への液体移行性及び吸収性物品のクッション性を向上させる点で有用であり、特許文献２に記載の、液吸収性層及び液不透過性層の間に配置された液拡散性層は、その液拡散性及びクッション性に基づいて、液吸収性層における液体吸収性及び吸収性物品のクッション性を向上させる点で有用である。しかしながら、液拡散性層のクッション性を向上させると、液拡散性層が嵩高になるため、繊維間距離が増加し、繊維間で生じる毛細管力が減少する。これは、液拡散性層の液拡散性の低下を意味する。一方、液拡散性層の液拡散性を向上させると、繊維間距離が減少するため、液拡散性層の空隙率が減少する。これは、液拡散性層のクッション性の低下を意味する。このように、液拡散性層の液拡散性及びクッション性を両立させることは難しい。

一方、特許文献３に記載の方法では、粒子の表面が必要以上に接着剤（バインダ）によって覆われてしまい、粒子が所望の機能を有効に発揮できないおそれがある。また、特許文献４に記載の方法では、粒子が繊維に埋没するため、粒子が所望の機能を有効に発揮できないおそれがある。

そこで、本発明は、ゲスト材料がホスト材料に複合化されてなる、吸収性物品用の複合化材料であって、液拡散性及びクッション性の両立が実現可能である複合化材料、及び、これを用いた吸収性物品を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電するホスト材料に対して、前記所定の溶媒中で表面が前記ホスト材料の表面と反対の電荷に帯電するゲスト材料が静電的相互作用により吸着してなる、吸収性物品用の複合化材料であって、前記ホスト材料が、基体として、不織布基体を含み、前記ゲスト材料が、基体として、前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均粒子径を有する複数の親水性粒子基体又は前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均繊維径を有する複数の親水性繊維基体を含み、前記ホスト材料及び前記ゲスト材料の少なくとも一方が、前記基体を被覆する高分子電解質層を有する、前記複合化材料を提供する。

また、本発明は、液透過性層と、液不透過性層と、前記液透過性層及び前記液不透過性層の間に配置された液吸収性層と、前記液透過性層及び前記液吸収性層の間又は前記液吸収性層及び前記液不透過性層の間に配置された液拡散性層とを備える吸収性物品であって、前記液拡散性層が、本発明の複合化材料を含有する、前記吸収性物品を提供する。

本発明によれば、ゲスト材料がホスト材料に複合化されてなる複合化材料であって、液拡散性及びクッション性の両立が実現可能である複合化材料、及び、これを用いた吸収性物品が提供される。

図１は、本発明の吸収性物品の一実施形態に係る生理用ナプキンの平面図である。 図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。 図３は、製造例２で製造した粒子複合化不織布の電子顕微鏡写真（３００倍）である。 図４は、製造例５で製造したナノファイバー複合化不織布の電子顕微鏡写真（２０００倍）である。 図５（ａ）は、製造例６で製造したナノファイバー複合化不織布の電子顕微鏡写真（８０００倍）であり、図５（ｂ）は、製造例５で製造したナノファイバー複合化不織布の電子顕微鏡写真（８０００倍）である。

以下、本発明に包含される態様について説明する。
本発明の一態様（以下「態様１Ａ」という）に係る複合化材料は、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電するホスト材料に対して、前記所定の溶媒中で表面が前記ホスト材料の表面と反対の電荷に帯電するゲスト材料が静電的相互作用により吸着してなる、吸収性物品用の複合化材料であって、前記ホスト材料が、基体として、不織布基体を含み、前記ゲスト材料が、基体として、前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均粒子径を有する複数の親水性粒子基体又は前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均繊維径を有する複数の親水性繊維基体を含み、前記ホスト材料及び前記ゲスト材料の少なくとも一方が、前記基体を被覆する高分子電解質層を有する、前記複合化材料である。

ホスト材料は、複数の繊維（高分子電解質層で被覆されている繊維及び／又は高分子電解質層で被覆されていない繊維）で構成される。ホスト材料が、不織布基体を被覆する高分子電解質層を有しない場合、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径は、不織布基体の平均繊維径と等しい。ホスト材料が、不織布基体を被覆する高分子電解質層を有する場合、不織布基体を被覆する高分子電解質層の厚みは、不織布基体の平均繊維径に対して無視できるほど小さいので、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径は、不織布基体の平均繊維径で近似することができる。

ゲスト材料は、複数の粒子（高分子電解質層で被覆されている粒子及び／又は高分子電解質層で被覆されていない粒子）又は複数の繊維（高分子電解質層で被覆されている繊維及び／又は高分子電解質層で被覆されていない繊維）で構成される。なお、ゲスト材料は、粒子及び繊維の両方で構成されてもよい。ゲスト材料が、親水性粒子基体又は親水性繊維基体を被覆する高分子電解質層を有しない場合、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、親水性粒子基体の平均粒子径又は親水性繊維基体の平均繊維径と等しい。ゲスト材料が、親水性粒子基体又は親水性繊維基体を被覆する高分子電解質層を有する場合、親水性粒子基体又は親水性繊維基体を被覆する高分子電解質層の厚みは、親水性粒子基体の平均粒子径又は親水性繊維基体の平均繊維径に対して無視できるほど小さいので、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、親水性粒子基体の平均粒子径又は親水性繊維基体の平均繊維径で近似することができる。

上記のように、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径は、ホスト材料の不織布基体が高分子電解質層で被覆されているか否かに関らず、ホスト材料の不織布基体の平均繊維径と同一であるとみなすことができ、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体が高分子電解質層で被覆されているか否かに関らず、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体の平均粒子径又は平均繊維径と同一であるとみなすことができる。そして、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体の平均粒子径又は平均繊維径は、ホスト材料の不織布基体の平均繊維径よりも小さい。したがって、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径よりも小さい。このようなゲスト材料がホスト材料に複合化することにより、ホスト材料を構成する繊維間で毛細管力が発生するだけでなく、ホスト材料を構成する繊維の表面でも毛細管力が発生する。

ホスト材料及びゲスト材料の少なくとも一方が、基体（ホスト材料の場合には不織布基体を意味し、ゲスト材料の場合には親水性粒子基体又は親水性繊維基体を意味する）を被覆する高分子電解質層を有するので、ゲスト材料はホスト材料に対して静電的相互作用により効果的に吸着している。このため、ホスト材料及びゲスト材料は、接着剤によらず、かつ、加熱されることなく、かつ、ゲスト材料がホスト材料に埋没されることなく複合化されている。したがって、ホスト材料に複合化されたゲスト材料は、所望の機能（親水性粒子基体又は親水性繊維基体に基づく親水性）を有効に発揮することができる。

上記のように、態様１Ａに係る複合化材料では、ホスト材料を構成する繊維間で毛細管力が発生するだけでなく、ホスト材料を構成する繊維の表面でも毛細管力が発生する。そして、ホスト材料に複合化されたゲスト材料は、所望の機能（親水性粒子基体又は親水性繊維基体に基づく親水性）を有効に発揮することができる。したがって、態様１Ａに係る複合化材料では、液拡散性及びクッション性の両立を実現可能である。すなわち、態様１Ａに係る複合化材料において、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の高い（すなわち、嵩高である）不織布基体が使用される場合、ホスト材料を構成する繊維間で生じる毛細管力は低下するが、ホスト材料を構成する繊維の表面で生じる毛細管力によって、複合化材料の液拡散性の低下は防止される。但し、態様１Ａに係る複合化材料において、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の高い（すなわち、嵩高である）不織布基体が使用されることは必須ではない。ホスト材料の不織布基体のクッション性は、複合化材料の用途等に応じて、適宜調整可能である。例えば、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の低い（すなわち、空隙率が低い）不織布基体が使用される場合、ホスト材料を構成する繊維間で生じる毛細管力と、ホスト材料を構成する繊維の表面で生じる毛細管力とが相俟って、複合化材料の液拡散性は向上する。

態様１Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様２Ａ」という）では、前記複数の親水性粒子基体の平均粒子径の、前記不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性粒子基体の平均粒子径：不織布基体の平均繊維径）が１：４〜１：５０であり、前記複数の親水性繊維基体の平均繊維径の、前記不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性繊維基体の平均繊維径：不織布基体の平均繊維径）が１：４〜１：２５００である。態様２Ａに係る複合化材料は、ホスト材料を構成する繊維の表面で毛細管力を効果的に発生させることができる点で好ましい。

態様１Ａ又は態様２Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様３Ａ」という）では、前記高分子電解質層が、積層された複数の高分子電解質層からなり、前記複数の高分子電解質層において、前記所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接している。態様３Ａに係る複合化材料は、高分子電解質層の電荷密度が一定となり、その強度が増加するため、均一な表面被覆を達成することができる点で好ましい。

態様１Ａ〜態様３Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様４Ａ」という）では、前記所定の溶媒中における前記ホスト材料及び前記ゲスト材料のゼータ電位の絶対値が、２０ｍＶ以上であって、かつ、電荷的に釣り合っている。態様４Ａに係る複合化材料は、ホスト材料に対してゲスト材料を静電的相互作用により効果的に吸着させることができる点で好ましい。

態様１Ａ〜態様４Ａのいずれかに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様５Ａ」という）では、前記ホスト材料が、下記工程（ａ₁）及び（ａ₂）：
（ａ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する不織布基体と、前記所定の溶媒中で前記不織布基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程；
（ａ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₁の被覆体と、前記所定の溶媒中で前記第ｋ₁の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₁＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₁＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₁＝１からｋ₁＝ｍ（ここで、ｍは１以上の整数である。）までｍ回実施し、第（ｍ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｍ＋１）の被覆体を製造する工程
を含む方法によって製造された前記第（ｍ＋１）の被覆体である。

態様５Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様６Ａ」という）では、前記第（ｍ＋１）の被覆体のゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上である。

態様１Ａ〜態様６Ａのいずれかに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様７Ａ」という）では、前記ゲスト材料が、下記工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）：
（ｂ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する親水性粒子基体又は親水性繊維基体と、前記所定の溶媒中で前記親水性粒子基体又は前記親水性繊維基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程；
（ｂ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₂の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₂の被覆体と、前記所定の溶媒中で前記第ｋ₂の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₂＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₂＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₂＝１からｋ₂＝ｎ（ここで、ｎは１以上の整数である。）までｎ回実施し、第（ｎ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｎ＋１）の被覆体を製造する工程
を含む方法によって製造された前記第（ｎ＋１）の被覆体である。

態様７Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様８Ａ」という）では、前記第（ｎ＋１）の被覆体のゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上である。

態様１Ａ〜態様８Ａのいずれかに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様９Ａ」という）では、前記親水性粒子基体がシリカ粒子である。

態様１Ａ〜態様８Ａのいずれかに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様１０Ａ」という）では、前記親水性繊維基体がセルロースファイバーである。

態様１０Ａに係る複合化材料の好ましい一態様（以下「態様１１Ａ」という）では、前記複合化材料が、炭素数１〜３の一価アルコール中で、前記ホスト材料に対して、前記ゲスト材料を静電的相互作用により吸着させて得られたものである。態様１１Ａに係る複合化材料は、吸着工程の後に行われる乾燥工程において、ゲスト材料を構成する粒子及び／又は繊維間で水素結合を形成しにくくなり、ゲスト材料の比表面積が大きくなる点で好ましい。
上記観点からは、ゲスト材料がセルロースファイバーであることが好ましく、そしてフィブリル化されたセルロースファイバーであることがより好ましい。

本発明の一態様（以下「態様１Ｂ」という）に係る吸収性物品は、液透過性層と、液不透過性層と、前記液透過性層及び前記液不透過性層の間に配置された液吸収性層と、前記液透過性層及び前記液吸収性層の間又は前記液吸収性層及び前記液不透過性層の間に配置された液拡散性層とを備える吸収性物品であって、前記液拡散性層が、態様１Ａ〜態様１１Ａのいずれかに係る複合化材料を含有する、前記吸収性物品である。態様１Ｂに係る吸収性物品は、液拡散性層に含有される複合化材料の種類に応じた作用効果を発揮することができる。

態様１Ｂに係る吸収性物品の好ましい一態様（以下「態様２Ｂ」という）では、前記液拡散性層が前記液吸収性層と接している。態様２Ｂに係る吸収性物品は、液拡散性層を拡散した液体が液吸収性層に速やかに吸収される点で好ましい。

態様１Ｂ及び態様２Ｂに係る吸収性物品の種類及び用途は特に限定されるものではない。吸収性物品としては、例えば、生理用ナプキン、使い捨てオムツ、パンティーライナー等の衛生用品が挙げられ、これらはヒトを対象としてもよいし、ペット等のヒト以外の動物を対象としてもよい。吸収性物品が吸収対象とする液状排泄物としては、例えば、経血、下り物、尿、水様便等が挙げられる。

以下、生理用ナプキンを例として、図面に基づいて、本発明の複合化材料を用いた吸収性物品の実施形態を説明する。

図１は、本発明の吸収性物品の一実施形態に係る生理用ナプキン１の平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。

図１及び図２に示されるように、生理用ナプキン１は、互いに直交する長さ方向Ｘ、幅方向Ｙ及び厚み方向Ｚを有し、液透過性層２と、液不透過性層３と、液透過性層２及び液不透過性層３の間に配置された液吸収性層４と、液透過性層２及び液吸収性層４の間に配置された液拡散性層５とを備える。

生理用ナプキン１は、着用者の液状排泄物（主として経血）を吸収する目的で着用される。この際、液透過性層２が着用者の肌側に、液不透過性層３が着用者の下着側に位置するように着用される。着用者の液状排泄物は、液透過性層２から液拡散性層５に移行し、液拡散性層５に一時的に貯留された後、液拡散性層５から液吸収性層４に移行し、液吸収性層４で吸収及び保持される。液吸収性層４で吸収及び保持される液状排泄物の漏れは、液不透過性層３によって防止される。

液透過性層２は、着用者から排泄された液状排泄物が透過し得る液透過性シートで構成されている。液透過性シートとしては、例えば、不織布、液透過孔が形成された合成樹脂シート等が挙げられるが、これらのうち不織布が好ましい。

液透過性層２の周縁部は、液不透過性層３の周縁部と重ねられ、不図示のシール部によって接合されている。シール部による接合様式としては、例えば、ヒートエンボス処理による接合、ホットメルト型接着剤による接合等が挙げられる。

液不透過性層３は、着用者から排泄された液状排泄物が透過し得ない液不透過性シートで構成されている。液不透過性シートとしては、例えば、防水処理を施した不織布、合成樹脂シート、不織布と合成樹脂シートとの複合シート等が挙げられる。

液吸収性層４は、着用者から排泄された液状排泄物を吸収し得る吸収性材料を含有する。吸収性材料としては、例えば、親水性繊維、高吸収性ポリマー等が挙げられる。親水性繊維としては、例えば、木材パルプ、非木材パルプ、再生セルロース、半合成セルロース等のセルロース系繊維が挙げられる。高吸収性ポリマー（SuperＢsorbent Polymer：ＳＡＰ）としては、例えば、ポリアクリル酸塩系、ポリスルホン酸塩系等のＳＡＰが挙げられる。

液吸収性層４は、例えば、吸収性材料層と、吸収性材料層を被覆するコアラップとから構成される。吸収性材料層は、単一の層であってもよいし、複数の層であってもよい。コアラップは、着用者から排泄された液状排泄物が透過し得る液透過性シートである。コアラップとしては、例えば、不織布、液透過孔が形成された合成樹脂シート等が挙げられるが、好ましくは不織布、さらに好ましくはティッシュである。

図１及び図２に示されるように、液拡散性層５は、液透過性層２及び液吸収性層４の両方と厚み方向Ｚにおいて重なるように配置されている。液拡散性層５は、厚み方向Ｚの一方側（図２において上側）において液透過性層２と接しており、厚み方向Ｚの他方側（図２において下側）において液吸収性層４と接している。液拡散性層５が液吸収性層４と接している実施形態は、液拡散性層５を拡散した液状排泄物が液吸収性層４に速やかに吸収される点で好ましい。但し、本発明は、液拡散性層５が、液透過性層２及び液吸収性層４の一方とのみ接している実施形態、並びに、液拡散性層５が、液透過性層２及び液吸収性層４の両方と接していない実施形態を包含する。本実施形態では、液拡散性層５が液透過性層２及び液吸収性層４の間に配置されているが、液拡散性層５は、液吸収性層４及び液不透過性層３の間に配置されていてもよい。この場合、液拡散性層５は、厚み方向Ｚの一方側において液吸収性層４と接していることが好ましい。

図１及び図２に示されるように、生理用ナプキン１は、液透過性層２、液拡散性層５及び液吸収性層４を厚み方向Ｚに一体化する圧搾部６を有する。但し、本発明は、生理用ナプキン１が圧搾部６を有しない実施形態を包含する。圧搾部６は、ヒートエンボス処理により、液透過性層２の肌側表面の中央領域の周囲に形成された圧搾溝である。液透過性層２の肌側表面の中央領域は、生理用ナプキン１の着用時に着用者の排泄口（例えば、小陰唇、大陰唇等）が当接し、着用者から排泄された液状排泄物が主として供給される領域である。ヒートエンボス処理は、常法に従って実施することができる。

図１及び図２に示されるように、生理用ナプキン１は、液吸収性層４が内蔵される本体部１１と、本体部１１から幅方向Ｙの一方側（図１及び図２において左側）に延在する第１ウイング部１２と、本体部１１から幅方向Ｙの他方側（図１及び図２において右側）に延在する第２ウイング部１３とを有する。

図１及び図２に示されるように、生理用ナプキン１は、液不透過性層３の下着側表面に設けられた第１粘着部７１、第２粘着部７２及び第３粘着部７３を有する。但し、本発明は、生理用ナプキン１が第１粘着部７１〜第３粘着部７３のうち１つ以上を有しない実施形態を包含する。第１粘着部７１、第２粘着部７２及び第３粘着部７３は、着用時の生理用ナプキン１のズレを防止することができる。

以下、液拡散性層５について詳細に説明する。
液拡散性層５は、複合化材料を含有する。液拡散性層５に含有される複合化材料は、ホスト材料に対して、ゲスト材料が静電的相互作用により吸着してなる、複合化材料である。

ホスト材料は、基体として、不織布基体を含む。不織布基体としては、例えば、エアースルー不織布、スパンボンド不織布、ポイントボンド不織布、スパンレース不織布、ニードルパンチ不織布、メルトブローン不織布、これらの組み合わせ（例えば、ＳＭＳ等）等が挙げられるが、エアースルー不織布が好ましい。不織布基体の坪量、厚み等は、液拡散性層５に求められる液拡散性、クッション性等を考慮して、適宜調整される。不織布基体がエアースルー不織布である場合、坪量は、好ましくは１５〜１００ｇ／ｍ²、さらに好ましくは２０〜６０ｇ／ｍ²であり、厚みは、好ましくは０．１〜３．０ｍｍ、さらに好ましくは０．５〜２．０ｍｍである。なお、不織布の坪量（ｇ／ｍ²）及び厚み（ｍｍ）の測定は、以下の通り、実施される。

［坪量］
標準状態（温度２３±２℃，相対湿度５０±５％）において２４時間以上保存することにより状態調節した不織布から切り出された３個の試験片（１０ｍｍ×１０ｍｍ）の質量を直示天秤（例えば、研精工業株式会社製 電子天秤ＨＦ−３００）で測定し、３個の試験片の質量の平均値から算出された不織布の単位面積当たりの質量を不織布の坪量（ｇ／ｍ²）とする。不織布の坪量の測定に関し、上記で特に規定しない測定条件については、ＩＳＯ ９０７３−１又はＪＩＳ Ｌ １９１３ ６．２に記載の測定条件を採用する。なお、実施例で使用した不織布の坪量も同様の方法で測定した。

［厚み］
標準状態（温度２３±２℃，相対湿度５０±５％）において２４時間以上保存することにより状態調節した不織布の異なる３つの部位を、厚み計（例えば、株式会社大栄科学精器製作所製ＦＳ−６０ＤＳ，測定子面積１５ｃｍ²）を用いて、定圧３ｇ／ｃｍ²で加圧し、各部位における加圧１０秒後の厚みを測定し、３つの部位の厚みの平均値を不織布の厚み（ｍｍ）とする。なお、実施例で使用した不織布の厚みも同様の方法で測定した。

不織布基体を構成する繊維としては、例えば、天然繊維（羊毛，コットン等）、再生繊維（レーヨン，アセテート等）、熱可塑性樹脂繊維（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−アクリル酸エチルコポリマー、エチレン−アクリル酸コポリマー、アイオノマー樹脂等のポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタラート、ポリトリメチレンテレフタラート、ポリ乳酸等のポリエステル；ナイロン等のポリアミド）、これらの表面修飾体等が挙げられるが、熱可塑性樹脂繊維又はその表面修飾体が好ましい。不織布基体を構成する繊維は、単一成分の繊維；芯鞘型繊維、サイド・バイ・サイド型繊維、島／海型繊維等の複合繊維；中空タイプの繊維；扁平、Ｙ型、Ｃ型等の異型繊維；潜在捲縮又は顕在捲縮の立体捲縮繊維；水流、熱、エンボス加工等の物理的負荷により分割する分割繊維等のいずれであってもよい。

ゲスト材料は、基体として、複数の親水性粒子基体又は複数の親水性繊維基体を含む。ゲスト材料は、基体として、複数の親水性粒子基体及び複数の親水性繊維基体の両方を含んでもよい。

上記親水性粒子基体は、その表面が親水性であれば特に制限されず、例えば、表面が親水性である親水性無機粒子、表面が親水性である親水性有機粒子等が挙げられる。また、親水性粒子基体は、多孔質であってもよいし、非多孔質であってもよいが、多孔質であることが好ましい。親水性粒子基体が多孔質であることにより、比表面積が大きくなり、液体との接触の機会が増えるためである。

上記親水性無機粒子としては、例えば、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン及び遷移金属から選択された少なくとも１種の元素の酸化物又は水酸化物の粒子が挙げられるが、シリカ（ＳｉＯ₂）粒子が好ましい。

上記親水性有機粒子としては、例えば、親水性樹脂から形成された親水性樹脂粒子が挙げられる。上記親水性樹脂粒子は、常法に従って製造することができる。親水性樹脂粒子の製造方法の一例は、次の通りである。親水性樹脂を有機溶媒（例えば、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸イソプロピル、テトラヒドロフラン、アセトン、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミド、それらの混合溶媒等）に溶解し、必要に応じて、親水性樹脂が溶解した有機溶媒中で中和（造塩）処理（例えば、アルカリ処理）を施した後、有機溶媒に貧溶媒（例えば、水）を加えて乳化処理を行う。次いで、乾燥・粒子化を施し、必要に応じて、粉砕・分級を行う。親水性樹脂は、親水性官能基を有する限り特に限定されるものではない。親水性官能基としては、例えば、水酸基、エチレンオキサイド基、カルボン酸基等の弱酸性官能基、スルホン酸基等の強酸性官能基等が挙げられる。

親水性樹脂は、親水性単量体のホモポリマー又はコポリマーであることができ、そして親水性単量体と疎水性単量体とのコポリマーであってもよい。親水性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン／（メタ）アクリル酸／（無水）マレイン酸類コポリマー、エチレン／プロピレン等のオレフィン系ポリマー（又はこの変性体、又は共重合によるカルボン酸ユニット導入物）、トリメリット酸等で酸価を向上した分岐ポリエステル、ポリアミド等が挙げられる。
上記親水性有機粒子は、表面が親水化処理された有機粒子、例えば、表面が親水化処理された、疎水性単量体のコポリマーであってもよい。

親水性繊維基体としては、例えば、セルロース系繊維等の親水性繊維が挙げられる。セルロース系繊維としては、例えば、針葉樹又は広葉樹を原料として得られる木材パルプ（例えば、砕木パルプ、リファイナーグランドパルプ、サーモメカニカルパルプ、ケミサーモメカニカルパルプ等の機械パルプ；クラフトパルプ、サルファイドパルプ、アルカリパルプ等の化学パルプ；半化学パルプ等）；木材パルプに化学処理を施して得られるマーセル化パルプ又は架橋パルプ；バガス、ケナフ、竹、麻、綿（例えばコットンリンター）等の非木材パルプ；レーヨン、フィブリルレーヨン等の再生セルロース；アセテート、トリアセテート等の半合成セルロース等が挙げられる。

好ましい親水性繊維基体は、セルロースファイバーである。セルロースファイバーとしては、例えば、セルロースナノファイバー、セルロースナノクリスタル、粉砕パルプ等が挙げられる。セルロースファイバーは、市販品を使用してもよいし、常法に従って製造したものを使用してもよい。セルロースナノファイバーは、パルプ等の植物繊維を機械的解繊することにより製造することができ、セルロースナノクリスタルは、パルプ等の植物繊維を酸加水分解することにより製造することができる。セルロースファイバーの平均繊維径は、通常２０〜５００ｎｍ、好ましくは２０〜３００ｎｍであり、平均繊維長は、通常０．５０〜１０．００μｍ、好ましくは０．９０〜５．００μｍである。セルロースファイバーの平均繊維径の測定方法は、親水性繊維基体の平均繊維径の測定方法（後述）と同様である。セルロースファイバーの平均繊維長は、重さ加重平均繊維長を意味する。重さ加重平均繊維長は、メッツォオートメーション（ｍｅｔｓｏ ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）社製のカヤーニファイバーラボファイバープロパティーズ（オフライン）［ｋａｊａａｎｉＦｉｂｅｒＬａｂ ｆｉｂｅｒ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ（ｏｆｆ−ｌｉｎｅ）］により、Ｌ（ｗ）値として測定される。なお、実施例における平均繊維長の意義及び測定方法も同様である。

ホスト材料及びゲスト材料の少なくとも一方は、基体（ホスト材料の場合には不織布基体を意味し、ゲスト材料の場合には親水性粒子基体又は親水性繊維基体を意味する）を被覆する高分子電解質層を有する。これにより、ホスト材料に対してゲスト材料を静電的相互作用により効果的に吸着させることができる。ホスト材料の基体及びゲスト材料の基体のうちの一方が高分子電解質層で被覆されている限り、他方は高分子電解質層で被覆されていてもよいし、被覆されていなくてもよいが、ホスト材料に対してゲスト材料を静電的相互作用により効果的に吸着させる点から、ホスト材料の基体及びゲスト材料の基体の両方が、高分子電解質で被覆されていることが好ましい。ホスト材料の基体が高分子電解質層で被覆されている場合、ホスト材料には、高分子電解質層を表層に有する被覆繊維に加えて、高分子電解質層を表層に有しない繊維が含まれていてもよい。ホスト材料に含まれる複数の被覆繊維において、高分子電解質層の種類は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。ゲスト材料の基体が高分子電解質層で被覆されている場合、ゲスト材料には、高分子電解質層を表層に有する被覆粒子又は被覆繊維に加えて、高分子電解質層を表層に有しない粒子又は繊維が含まれていてもよい。ゲスト材料に含まれる複数の被覆粒子又は複数の被覆繊維において、高分子電解質層の種類は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。

ゲスト材料に含まれる親水性粒子基体の平均粒子径は、ホスト材料に含まれる不織布基体の平均繊維径よりも小さく、ゲスト材料に含まれる親水性繊維基体の平均繊維径は、ホスト材料に含まれる不織布基体の平均繊維径よりも小さい。親水性粒子基体の平均粒子径の、不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性粒子基体の平均粒子径：不織布基体の平均繊維径）は、好ましくは１：４〜１：５０であり、親水性繊維基体の平均繊維径の、不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性繊維基体の平均繊維径：不織布基体の平均繊維径）は、好ましくは１：４〜１：２５００である。上記範囲は、ホスト材料を構成する繊維の表面において毛細管力を効果的に発生させることができる点で好ましい。

ホスト材料に含まれる不織布基体の平均繊維径は、次のようにして測定される。液拡散性層を電子顕微鏡（例えば、株式会社キーエンス社製ＶＥ−８８００）で３００倍に拡大し、拡大画像中に存在する繊維のうち、ホスト材料を構成する繊維の繊維径（２点間距離）を測定する。任意の３０本の繊維について同様の測定を行い（ｎ＝３０）、平均値を求める。不織布基体が高分子電解質層で被覆されていない場合、この平均値を不織布基体の平均繊維径とする。不織布基体が高分子電解質層で被覆されている場合も同様に、この平均値を不織布基体の平均繊維径とする。これは、不織布基体を被覆する高分子電解質層の厚みが、不織布基体を構成する繊維の平均繊維径に対して無視できるほど小さいので、高分子電解質層による被覆後の平均繊維径を、高分子分解質層による被覆前の平均繊維径で近似することができるためである。液拡散性層を拡大する際、１つの拡大画像に数本（例えば、３〜５本程度）の繊維しか映らない場合、電子顕微鏡で拡大する部位を変えて、拡大画像を複数回撮影し、ｎ＝３０とする。こうして測定された不織布基体の平均繊維径は、通常１０〜５０μｍ、好ましくは１２〜４８μｍ、さらに好ましくは１４〜４６μｍである。

ゲスト材料に含まれる親水性粒子基体の平均粒子径は、次のようにして測定される。液拡散性層を電子顕微鏡（例えば、株式会社キーエンス社製ＶＥ−８８００）で１０００倍に拡大し、拡大画像中に存在する粒子の粒子径（２点間距離）を測定する。任意の１００個の粒子について同様の測定を行い（ｎ＝１００）、平均値を求める。親水性粒子基体が高分子電解質層で被覆されていない場合、この平均値を親水性粒子基体の平均粒子径とする。親水性粒子基体が高分子電解質層で被覆されている場合も同様に、この平均値を親水性粒子基体の平均粒子径とする。これは、親水性粒子基体を被覆する高分子電解質層の厚みが、親水性粒子基体の平均粒子径に対して無視できるほど小さいので、高分子電解質層による被覆後の平均粒子径を、高分子分解質層による被覆前の平均粒子径で近似することができるためである。液拡散性層を拡大する際、１つの拡大画像に数個（例えば、３〜５個程度）の粒子しか映らない場合、電子顕微鏡で拡大する部位を変えて、拡大画像を複数回撮影し、ｎ＝１００とする。こうして測定された親水性粒子基体の平均粒子径は、通常１．０〜１２．０μｍ、好ましくは３．０〜１０．０μｍ、さらに好ましくは５．０〜８．０μｍである。

ゲスト材料に含まれる親水性繊維基体の平均繊維径は、次のようにして測定される。液拡散性層を電子顕微鏡（株式会社キーエンス社製，ＶＥ−８８００）で８０００倍に拡大し、拡大画像中に存在する繊維のうち、ゲスト材料を構成する繊維の繊維径（２点間距離）を測定する。任意の３０本の繊維について同様の測定を行い（ｎ＝３０）、平均値を求める。親水性繊維基体が高分子電解質層で被覆されていない場合、この平均値を親水性繊維基体の平均繊維径とする。親水性繊維基体が高分子電解質層で被覆されている場合も同様に、この平均値を親水性繊維基体の平均繊維径とする。これは、親水性繊維基体を被覆する高分子電解質層の厚みが、親水性繊維基体の平均繊維径に対して無視できるほど小さいので、高分子電解質層による被覆後の平均繊維径を、高分子分解質層による被覆前の平均繊維径で近似することができるためである。液拡散性層を拡大する際、１つの拡大画像に数本（例えば、３〜５本程度）の繊維しか映らない場合、電子顕微鏡で拡大する部位を変えて、拡大画像を複数回撮影し、ｎ＝３０とする。こうして測定された親水性繊維基体の平均繊維径は、通常０．０２〜１．００μｍ、好ましくは０．０５〜０．５０μｍ、さらに好ましくは０．１０〜０．３０μｍである。

ゲスト材料は、界面活性剤で表面処理されていることが好ましい。なお、ゲスト材料の基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）が高分子電解質層で被覆されている場合、界面活性剤による処理は、基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）を高分子電解質層で被覆した後に実施される。界面活性剤としては、例えば、ＤＫエステル（第一工業製薬社製）等が挙げられる。ＤＫエステルは、ショ糖の水酸基に脂肪酸をエステル結合させた界面活性剤である。ショ糖１分子中には８個の水酸基が存在するので、ショ糖脂肪酸エステルとして、ショ糖１分子に脂肪酸１分子が結合したモノエステル〜ショ糖１分子に脂肪酸８分子が結合したオクタエステルが存在する。ＤＫエステルは、これらのエステル化度の異なるショ糖脂肪酸エステルの混合物である。

ホスト材料は、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電し、ゲスト材料は、該所定の溶媒中で表面がホスト材料の表面と反対の電荷に帯電する。高分子電解質層で被覆されている材料の表面の電荷は、表層に位置する高分子電解質層の電荷で判断される。例えば、所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質層を表層に有する材料は、所定の溶媒中で表面が正に帯電する材料であり、所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質層を表層に有する材料は、所定の溶媒中で表面が負に帯電する材料である。

所定の溶媒中におけるホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位の絶対値は、好ましくは２０ｍＶ以上、さらに好ましくは５０ｍＶ以上である。すなわち、正に帯電する場合のゼータ電位は、好ましくは＋２０ｍＶ以上、さらに好ましくは＋５０ｍＶ以上であり、負に帯電する場合のゼータ電位は、好ましくは−２０ｍＶ以下、さらに好ましくは−５０ｍＶ以下である。また、所定の溶媒中におけるホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位の絶対値は、電荷的に釣り合っていることが好ましい。ここで、「電荷的に釣り合う」とは、ホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位の絶対値が等しい又はほぼ等しいことを意味し、「絶対値がほぼ等しい」とは、ホスト材料のゼータ電位の絶対値と吸収性材料のゼータ電位の絶対値との差（大きい方の絶対値から小さい方の絶対値を引くことにより求められる差）が、大きい方の絶対値を基準として２０％以下、好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１０％以下であることを意味する。なお、ゼータ電位の上限値は、正に帯電する場合、通常＋１００ｍＶ、好ましくは＋７０ｍＶであり、負に帯電する場合、通常−１００ｍＶ、好ましくは−７０ｍＶである。

ホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位は、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して２０℃の環境雰囲気下で測定される。この際、粒子のゼータ電位の測定において、モードはフローセルを使用しての測定であり、測定原理はレーザードップラー法（電気泳動光散乱測定法）を利用したものである。また、繊維のゼータ電位の測定において、モードは平板試料用セルを使用しての測定であり、測定原理は試料表面に接する液体に生じる電気浸透流を利用したものである。

ホスト材料としては、不織布基体と、該基体を被覆する１以上の高分子電解質層とを有し、そのうちの１の高分子電解質層が表層に位置する被覆体を使用することができる。ホスト材料として使用される被覆体は、積層された複数の高分子電解質層を有し、複数の高分子電解質層において、所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接していることが好ましい。被覆体が有する高分子電解質層の数は、特に限定されるものではないが、所定の溶媒中でのゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上となるように（すなわち、正に帯電する場合、＋２０ｍＶ以上となるように、負に帯電する場合、−２０ｍＶ以下となるように）調節されることが好ましく、５０ｍＶ以上となるように（すなわち、正に帯電する場合、＋５０ｍＶ以上となるように、負に帯電する場合、−５０ｍＶ以下となるように）調節されることがさらに好ましい。また、被覆体が有する高分子電解質層の数は、ホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位の絶対値が電荷的に釣り合うように調節されることが好ましい。ここで、「電荷的に釣り合う」とは、上記と同義である。

ゲスト材料としては、親水性を有する基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）と、該基体を被覆する１以上の高分子電解質層とを有し、そのうちの１の高分子電解質層が表層に位置する被覆体を使用することができる。ゲスト材料として使用される被覆体は、積層された複数の高分子電解質層を有し、複数の高分子電解質層において、所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接していることが好ましい。被覆体が有する高分子電解質層の数は、特に限定されるものではないが、所定の溶媒中でのゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上となるように（すなわち、正に帯電する場合、＋２０ｍＶ以上となるように、負に帯電する場合、−２０ｍＶ以下となるように）調節されることが好ましく、５０ｍＶ以上となるように（すなわち、正に帯電する場合、＋５０ｍＶ以上となるように、負に帯電する場合、−５０ｍＶ以下となるように）調節されることがさらに好ましい。また、被覆体が有する高分子電解質層の数は、ホスト材料及びゲスト材料のゼータ電位の絶対値が電荷的に釣り合うように調節されることが好ましい。ここで、「電荷的に釣り合う」とは、上記と同義である。

複合化材料は、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電するホスト材料と、該所定の溶媒中で表面がホスト材料の表面と反対の電荷に帯電するゲスト材料とを接触させ、静電的相互作用によりホスト材料にゲスト材料を吸着させる吸着工程を含む方法により製造することができる。

吸着工程では、水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒が使用される。無極性有機溶媒及び極性有機溶媒の種類は、高分子電解質のイオン化が可能である限り特に限定されない。一般的な高分子電解質は、極性溶媒中でイオン化するが、無極性溶媒中でイオン化するように設計された高分子電解質も存在する（例えば、ACS Macro Lett. 2012, 1, 1270-1273）。高分子電解質が極性溶媒中でイオン化する場合、吸着工程で使用される溶媒は、水、極性有機溶媒又は極性有機溶媒と水との混合溶媒であり、高分子電解質が無極性溶媒中でイオン化する場合、吸着工程で使用される溶媒は、無極性有機溶媒である。有機溶媒は容易に揮発させることができるので、吸着工程を経て製造された複合化材料は、自然乾燥により、又は強制乾燥の場合には少ない加熱量で、容易に乾燥させることができる。したがって、吸着工程の後に行われる乾燥工程で生じるおそれがあるホスト材料及びゲスト材料の構造及び性質の変化を防止することができる。

ゲスト材料としてセルロースファイバーを使用する場合、吸着工程において、極性有機溶媒を使用することが好ましく、炭素数１〜３の一価アルコールを使用することがさらに好ましい。吸着工程において水を使用すると、吸着工程の後に行われる乾燥工程において、セルロースファイバー間で水素結合を形成しやすくなる傾向がある、例えば、セルロースファイバーがフィブリル化されている場合には、セルロースファイバーのフィブリルがセルロースファイバーと水素結合を形成しやすくなる傾向がある。
これに対して、吸着工程において、極性有機溶媒（特に、炭素数１〜３の一価アルコール）を使用すると、吸着工程の後に行われる乾燥工程において、セルロースファイバー間で水素結合を形成しにくくなり、そしてセルロースファイバーがフィブリル化されている場合には、フィブリルが残存しやすいため、セルロースファイバーの比表面積が大きくなる。

水としては、例えば、水道水、イオン交換水、蒸留水等が挙げられるが、好ましくは、イオン交換水である。極性有機溶媒としては、例えば、一価アルコール、多価アルコール、ケトン等が挙げられる。一価アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、ケトンとしては、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、ジエチルケトン等が挙げられる。極性有機溶媒は、好ましくはアルコールであり、さらに好ましくは炭素数１〜３の一価アルコールである。極性有機溶媒と水との混合溶媒における極性有機溶媒の割合は特に限定されないが、有機溶媒の割合が高くなるほど、吸着工程を経て製造された複合化材料の乾燥に必要な時間、加熱量等を減少させることができる。したがって、混合溶媒における有機溶媒の割合は、高いほど好ましい。混合溶媒における有機溶媒の割合は、通常９５．０重量％以上、好ましくは、９７．０重量％以上、さらに好ましくは９９．５重量％以上である。

無極性有機溶媒としては、例えば、塩化メチレン、酢酸エチル、クロロホルム、ジエチルエーテル、トルエン、ベンゼン、ヘキサン等が挙げられる。

吸着工程において、ホスト材料及びゲスト材料を溶媒中で接触させる際、接触時間は、通常１〜６０分、好ましくは３〜２０分、さらに好ましくは５〜１５分であり、溶媒の温度は、通常０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃、さらに好ましくは２０〜３０℃であり、溶媒のｐＨは、通常４〜１０、好ましくは５〜９、さらに好ましくは６〜８である。ゲスト材料が粒子（すなわち、親水性粒子基体と、表層に設けられた高分子電解質層とを有する被覆粒子）である場合、ホスト材料及びゲスト材料を溶媒中で接触させる際の溶媒中の粒子の濃度は、通常０．１〜２０ｖｏｌ％、好ましくは０．２〜１０ｖｏｌ％、さらに好ましくは０．５〜５ｖｏｌ％である。

吸着工程において、静電的相互作用によりホスト材料にゲスト材料を吸着させることにより、ホスト材料及びゲスト材料が複合化した複合化材料を製造することができる。吸着工程の後、乾燥工程を実施し、複合化材料を乾燥してもよい。上記乾燥工程としては、自然乾燥又は強制乾燥、例えば、乾燥機による乾燥が挙げられる。上記強制乾燥において、乾燥温度は、ホスト材料及びゲスト材料の融点よりも低いことが必要である。ホスト材料及びゲスト材料の融点が１００℃を超える場合、通常３０〜１００℃、好ましくは４０〜９０℃、さらに好ましくは５０〜８０℃である。上記強制乾燥において、乾燥時間は、乾燥温度に応じて適宜調節することができるが、通常１〜３０分、好ましくは５〜２５分、さらに好ましくは１０〜２０分である。
上記強制乾燥は、所定の溶媒が水を含む場合に好ましく、そして上記自然乾燥は、所定の溶媒が有機溶媒である場合に好ましい。

不織布基体と、該基体を被覆する１の高分子電解質層とを有する被覆体は、下記工程（ａ₁）により製造することができ、こうして製造された被覆体を、ホスト材料として、吸着工程で使用することができる。不織布基体と、該基体を被覆する２以上の高分子電解質層とを有する被覆体は、下記工程（ａ₁）及び（ａ₂）により製造することができ、こうして製造された被覆体（第（ｍ＋１）の被覆体）を、ホスト材料として、吸着工程で使用することができる。

（ａ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する不織布基体と、該所定の溶媒中で不織布基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程

（ａ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₁の被覆体（ここで、ｋ₁は１以上の整数である。）と、該所定の溶媒中で第ｋ₁の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₁＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₁＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₁＝１からｋ₁＝ｍ（ここで、ｍは１以上の整数である。）までｍ回実施し、第（ｍ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｍ＋１）の被覆体を製造する工程

以下、工程（ａ₁）及び（ａ₂）について説明する。
＜工程（ａ₁）＞
所定の溶媒中で表面が正に帯電する不織布基体は、表面にカチオン性基を有する限り特に限定されない。カチオン性基は、所定の溶媒中で電離して正に帯電する基であり、例えば、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、第４級ホスホニウム基、スルホニウム基、ピリジニウム基等が挙げられる。カチオン性基は、基体が元来有する基であってもよいし、人為的に導入された基であってもよい。所定の溶媒中で表面が正に帯電する不織布基体は、表面が全体として正に帯電する限り、表面に若干のアニオン性基を有していてもよい。

所定の溶媒中で表面が負に帯電する不織布基体は、表面にアニオン性基を有する限り特に限定されない。アニオン性基は、所定の溶媒中で電離して負に帯電する基であり、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リン酸基等が挙げられる。アニオン性基は、基体が元来有する基であってもよいし、人為的に導入された基であってもよい。所定の溶媒中で表面が負に帯電する不織布基体は、表面が全体として負に帯電する限り、表面に若干のカチオン性基を有していてもよい。

不織布基体の表面修飾（カチオン性基又はアニオン性基の導入）は、常法に従って行うことができる。

工程（ａ₁）において、所定の溶媒中で表面が正に帯電する不織布基体が使用される場合、該所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質が使用される。所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質としては、例えば、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）、ポリビニル硫酸（ＰＶＳ）、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、ポリメタクリル酸（ＰＭＡ）、ポリカルボン酸（ＰＣＡ）等のアニオン性高分子が挙げられる。

工程（ａ₁）において、所定の溶媒中で表面が負に帯電する不織布基体が使用される場合、該所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質が使用される。所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質としては、例えば、ポリ（ジアリルジメチルアンモニウムクロライド）（ＰＤＤＡ）、ポリエチレンイミン（ＰＥＩ）、ポリビニルアミン（ＰＶＡｍ）、ポリ（ビニルピロリドン・Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリル酸）共重合等のカチオン性高分子が挙げられる。

水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒は、高分子電解質のイオン化が可能である限り特に限定されない。高分子電解質が極性溶媒中でイオン化する場合、工程（ａ₁）で使用される溶媒は、水、極性有機溶媒又は極性有機溶媒と水との混合溶媒であり、高分子電解質が無極性溶媒中でイオン化する場合、工程（ａ₁）で使用される溶媒は、無極性有機溶媒である。水、極性有機溶媒及び無極性有機溶媒の具体例は、吸着工程と同様である。

不織布基体及び高分子電解質を所定の溶媒中で接触させる際、溶媒中の高分子電解質の濃度は、通常０．０５〜１０ｗｔ％、好ましくは０．１〜５ｗｔ％、さらに好ましくは０．２〜１ｗｔ％であり、接触時間は、通常１〜６０分、好ましくは３〜２０分、さらに好ましくは５〜１５分であり、溶媒の温度は、通常０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃、さらに好ましくは２０〜３０℃であり、溶媒のｐＨは、通常４〜１０、好ましくは５〜９、さらに好ましくは６〜８である。

工程（ａ₁）の一実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が正に帯電する不織布基体と、該所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、正に帯電する不織布基体が負に帯電する高分子電解質層で被覆された第１の被覆体を製造することができる。工程（ａ₁）の別の実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が負に帯電する不織布基体と、該所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、負に帯電する不織布基体が正に帯電する高分子電解質層で被覆された第１の被覆体を製造することができる。

工程（ａ₁）の後、洗浄工程を実施し、第１の被覆体を有機溶媒で洗浄して第１の被覆体に付着する余剰の高分子電解質を除去することが好ましい。洗浄工程の後、乾燥工程を実施し、第１の被覆体を乾燥してもよい。乾燥工程は、自然乾燥であってもよいし、あるいは強制乾燥であってもよい。

＜工程（ａ₂）＞
工程（ａ₂）の一実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で正に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₁の被覆体と、該所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、該所定の溶媒中で負に帯電する第（ｋ₁＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₁＋１）の被覆体を製造することができる。

工程（ａ₂）の別の実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で負に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₁の被覆体と、該所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、該所定の溶媒中で正に帯電する第（ｋ₁＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₁＋１）の被覆体を製造することができる。

高分子電解質の具体例、所定の溶媒の具体例、所定の溶媒中での第ｋ₁の被覆体と高分子電解質との接触条件等は、工程（ａ₁）と同様である。

工程（ａ₂）をｋ₁＝１からｋ₁＝ｍ（ここで、ｍは１以上の整数である。）までｍ回実施することにより、基体と該基体を被覆する第１〜第（ｍ＋１）の高分子電解質層とを有し、第（ｍ＋１）の高分子電解質層が表層に位置する第（ｍ＋１）の被覆体を製造することができる。第１〜第（ｍ＋１）の高分子電解質層は、所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接するように積層される。例えば、所定の溶媒中で表面が正に帯電する基体が使用され、ｍが３である場合、基体に、負に帯電する第１の高分子電解質層、正に帯電する第２の高分子電解質層、負に帯電する第３の高分子電解質層、及び正に帯電する第４の高分子電解質層が積層され、第４の高分子電解質層が表層に位置する、第４の被覆体を製造することができる。また、所定の溶媒中で表面が負に帯電する基体が使用され、ｍが３である場合、基体に、正に帯電する第１の高分子電解質層、負に帯電する第２の高分子電解質層、正に帯電する第３の高分子電解質層、及び負に帯電する第４の高分子電解質層が積層され、第４の高分子電解質層が表層に位置する、第４の被覆体を製造することができる。
なお、ｍが１である場合には、基体と該基体を被覆する第１及び第２の高分子電解質層とを有し、第２の高分子電解質層が表層に位置する第２の被覆体が製造される。

ｍは１以上の整数である限り特に限定されないが、２〜５であることが好ましく、３〜４であることがさらに好ましい。これにより、高分子電解質層の電荷密度が一定となり、その強度が増加するため、均一な表面被覆を達成することができる。なお、ｍは、第（ｍ＋１）の被覆体の表層に位置する高分子電解質層が、吸着工程において第（ｍ＋１）の被覆体と接触させるゲスト材料の表面と反対の電荷に帯電するように調整される。

工程（ａ₁）及び（ａ₂）の一実施形態では、所定の溶媒中で表面が正に帯電する不織布基体を、アニオン性高分子溶液と、カチオン性高分子溶液とに交互に浸漬することにより、不織布基体に、アニオン性高分子層及びカチオン性高分子層が積層された被覆体を製造することができる。

工程（ａ₁）及び（ａ₂）の別の実施形態では、所定の溶媒中で表面が負に帯電する不織布基体を、カチオン性高分子溶液と、アニオン性高分子溶液とに交互に浸漬することにより、不織布基体に、カチオン性高分子層及びアニオン性高分子層が積層された被覆体を製造することができる。

親水性を有する基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）と、該基体を被覆する１の高分子電解質層とを有する被覆体は、下記工程（ｂ₁）により製造することができ、こうして製造された被覆体を、ゲスト材料として、吸着工程で使用することができる。親水性を有する基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）と、該基体を被覆する２以上の高分子電解質層とを有する被覆体は、下記工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）により製造することができ、こうして製造された被覆体（第（ｎ＋１）の被覆体）を、ゲスト材料として、吸着工程で使用することができる。

（ｂ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する親水性粒子基体又は親水性繊維基体と、該所定の溶媒中で親水性粒子基体又は親水性繊維基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程

（ｂ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₂の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₂の被覆体（ここで、ｋ₂は１以上の整数である。）と、該所定の溶媒中で第ｋ₂の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₂＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₂＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₂＝１からｋ₂＝ｎ（ここで、ｎは１以上の整数である。）までｎ回実施し、第（ｎ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｎ＋１）の被覆体を製造する工程

以下、工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）について説明する。
＜工程（ｂ₁）＞
所定の溶媒中で表面が正に帯電する親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）は、表面にカチオン性基を有する限り特に限定されない。カチオン性基は、所定の溶媒中で電離して正に帯電する基であり、例えば、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、第４級ホスホニウム基、スルホニウム基、ピリジニウム基等が挙げられる。カチオン性基は、基体の材料が元来有する基であってもよいし、人為的に導入された基であってもよい。所定の溶媒中で表面が正に帯電する親水性基体は、表面が全体として正に帯電する限り、表面に若干のアニオン性基を有していてもよい。

所定の溶媒中で表面が負に帯電する親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）は、表面にアニオン性基を有する限り特に限定されない。アニオン性基は、所定の溶媒中で電離して負に帯電する基であり、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リン酸基等が挙げられる。アニオン性基は、基体の材料が元来有する基であってもよいし、人為的に導入された基であってもよい。所定の溶媒中で表面が負に帯電する親水性基体は、表面が全体として負に帯電する限り、表面に若干のカチオン性基を有していてもよい。

親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）の表面修飾（カチオン性基又はアニオン性基の導入）は、常法に従って行うことができる。

高分子電解質の具体例、所定の溶媒の具体例、所定の溶媒中での基体粒子と高分子電解質との接触条件等は、工程（ａ₁）と同様である。

工程（ｂ₁）の一実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が正に帯電する親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）と、該所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、正に帯電する親水性基体が負に帯電する高分子電解質層で被覆された第１の被覆体を製造することができる。工程（ｂ₁）の別の実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で表面が負に帯電する親水性基体と、該所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、負に帯電する親水性基体が正に帯電する高分子電解質層で被覆された第１の被覆体を製造することができる。

工程（ｂ₁）の後、洗浄工程を実施し、第１の被覆体を有機溶媒で洗浄して第１の被覆体に付着する余剰の高分子電解質を除去することが好ましい。洗浄工程の後、乾燥工程を実施し、第１の被覆体を乾燥してもよい。乾燥工程は、自然乾燥であってもよいし、あるいは強制乾燥であってもよい。

＜工程（ｂ₂）＞
工程（ｂ₂）の一実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で正に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₂の被覆体と、該所定の溶媒中で負に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、該所定の溶媒中で負に帯電する第（ｋ₂＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₂＋１）の被覆体を製造することができる。

工程（ｂ₂）の別の実施形態では、所定の溶媒中において、該所定の溶媒中で負に帯電する第ｋ₂の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₂の被覆体と、該所定の溶媒中で正に帯電する高分子電解質とを接触させることにより、該所定の溶媒中で正に帯電する第（ｋ₂＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₂＋１）の被覆体を製造することができる。

高分子電解質の具体例、所定の溶媒の具体例、所定の溶媒中での第ｋ₂の被覆体と高分子電解質との接触条件等は、工程（ａ₁）と同様である。

工程（ｂ₂）をｋ₂＝１からｋ₂＝ｎ（ここで、ｎは１以上の整数である。）までｎ回実施することにより、基体と該基体を被覆する第１〜第（ｎ＋１）の高分子電解質層とを有し、第（ｎ＋１）の高分子電解質層が表層に位置する第（ｎ＋１）の被覆体を製造することができる。第１〜第（ｎ＋１）の高分子電解質層は、所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接するように積層される。例えば、所定の溶媒中で表面が正に帯電する基体が使用され、ｎが３である場合、基体に、負に帯電する第１の高分子電解質層、正に帯電する第２の高分子電解質層、負に帯電する第３の高分子電解質層、及び正に帯電する第４の高分子電解質層が積層され、第４の高分子電解質層が表層に位置する、第４の被覆体を製造することができる。また、所定の溶媒中で表面が負に帯電する基体が使用され、ｎが３である場合、基体に、正に帯電する第１の高分子電解質層、負に帯電する第２の高分子電解質層、正に帯電する第３の高分子電解質層、及び負に帯電する第４の高分子電解質層が積層され、第４の高分子電解質層が表層に位置する、第４の被覆体を製造することができる。
なお、ｎが１である場合には、基体と該基体を被覆する第１及び第２の高分子電解質層とを有し、第２の高分子電解質層が表層に位置する第２の被覆体が製造される。

ｎは１以上の整数である限り特に限定されないが、２〜５であることが好ましく、２〜３であることがさらに好ましい。これにより、高分子電解質層の電荷密度が一定となり、その強度が増加するため、均一な表面被覆を達成することができる。なお、ｎは、被覆体の表層に位置する高分子電解質層が、吸着工程において被覆体と接触させるホスト材料の表面と反対の電荷に帯電するように調整される。

工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）の一実施形態では、所定の溶媒中で表面が正に帯電する親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）を、アニオン性高分子溶液と、カチオン性高分子溶液とに交互に浸漬することにより、親水性基体に、アニオン性高分子層及びカチオン性高分子層が積層された被覆体を製造することができる。

工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）の別の実施形態では、所定の溶媒中で表面が負に帯電する親水性基体（親水性粒子基体又は親水性繊維基体）を、カチオン性高分子溶液と、アニオン性高分子溶液とに交互に浸漬することにより、親水性基体に、カチオン性高分子層及びアニオン性高分子層が積層された被覆体を製造することができる。

液拡散性層５に含有される複合化材料において、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径は、ホスト材料の不織布基体が高分子電解質層で被覆されているか否かに関らず、ホスト材料の不織布基体の平均繊維径と同一であるとみなすことができ、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体が高分子電解質層で被覆されているか否かに関らず、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体の平均粒子径又は平均繊維径と同一であるとみなすことができる。そして、ゲスト材料の親水性粒子基体又は親水性繊維基体の平均粒子径又は平均繊維径は、ホスト材料の不織布基体の平均繊維径よりも小さい。したがって、ゲスト材料を構成する粒子又は繊維の平均粒子径又は平均繊維径は、ホスト材料を構成する繊維の平均繊維径よりも小さい。このようなゲスト材料がホスト材料に複合化することにより、ホスト材料を構成する繊維間で毛細管力が発生するだけでなく、ホスト材料を構成する繊維の表面でも毛細管力が発生する。

液拡散性層５に含有される複合化材料において、ホスト材料及びゲスト材料の少なくとも一方が、基体（ホスト材料の場合には不織布基体を意味し、ゲスト材料の場合には親水性粒子基体又は親水性繊維基体を意味する）を被覆する高分子電解質層を有するので、ゲスト材料はホスト材料に対して静電的相互作用により効果的に吸着している。このため、ホスト材料及びゲスト材料は、接着剤によらず、かつ、加熱されることなく、かつ、ゲスト材料がホスト材料に埋没されることなく複合化されている。したがって、ホスト材料に複合化されたゲスト材料は、所望の機能（親水性粒子基体又は親水性繊維基体に基づく親水性）を有効に発揮することができる。

上記のように、液拡散性層５に含有される複合化材料では、ホスト材料を構成する繊維間で毛細管力が発生するだけでなく、ホスト材料を構成する繊維の表面でも毛細管力が発生する。そして、ホスト材料に複合化されたゲスト材料は、所望の機能（親水性粒子基体又は親水性繊維基体に基づく親水性）を有効に発揮することができる。液拡散性層５がこのような複合化材料を含有することにより、液拡散性層５における液拡散性及びクッション性の両立を実現可能である。すなわち、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の高い（すなわち、嵩高である）不織布基体が使用される場合、液拡散性層５のクッション性は向上する一方、ホスト材料を構成する繊維間で生じる毛細管力は低下するが、ホスト材料を構成する繊維の表面で生じる毛細管力によって、液透過性層５における液拡散性の低下は防止される。但し、液拡散性層５に含有される複合化材料において、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の高い（すなわち、嵩高である）不織布基体が使用されることは必須ではない。ホスト材料の不織布基体のクッション性は、液拡散性層５に求められる機能等に応じて、適宜調整可能である。例えば、液拡散性層５にクッション性の向上よりも液拡散性の向上が求められる場合、ホスト材料の不織布基体として、クッション性の低い（すなわち、空隙率が低い）不織布基体を使用することができる。この場合、ホスト材料を構成する繊維間で生じる毛細管力と、ホスト材料を構成する繊維の表面で生じる毛細管力とが相俟って、液拡散性層５の液拡散性が向上する。

以下の製造例において、別段規定しない限り、以下の材料、試薬、条件等を採用した。
遠心分離は、遠心分離機（製造元：株式会社久保田製作所，販売元：久保田商事株式会社，型式：ユニバーサル冷却遠心機５９２２）を使用して実施し、遠心分離の条件は、８．５×ｇで５分間とした。
水として、イオン交換水を使用した。
メタノールとして、和光純薬工業株式会社製の純度９９．５％のメタノールを使用した。
ポリ（ジアリルジメチルアンモニウムクロライド）（以下「ＰＤＤＡ」という）として、アルドリッチ社製の重量平均分子量（Ｍｗ）１０万〜２０万のＰＤＤＡを使用した。
ポリアクリル酸（以下「ＰＡＡ」という）として、アルドリッチ社製の重量平均分子量（Ｍｗ）２．５万〜５万のＰＡＡを使用した。
シリカ粒子として、富士シリシア化学株式会社製のシリカ粒子（商品名：サイリシア４４０，メジアン径（ｄ５０）：５．９６μｍ）を使用した。
第１の不織布（以下「不織布Ｆ₁」という）として、ＰＥＴを芯成分とし、ＰＥを鞘成分とする芯鞘型複合繊維（平均繊維径：３０μｍ，平均繊維長：５１ｍｍ）で構成されたスルーエアー不織布（坪量：２０ｇ／ｍ²，厚み：０．９８ｍｍ，密度：０．０２０ｇ／ｃｍ³）を使用した。
第２の不織布（以下「不織布Ｆ₂」という）として、ＰＥＴを芯成分とし、ＰＥを鞘成分とする芯鞘型複合繊維（平均繊維径：３０μｍ，平均繊維長：５１ｍｍ）で構成されたスルーエアー不織布（坪量：３８ｇ／ｍ²，厚み：０．５１ｍｍ，密度：０．０７４ｇ／ｃｍ³）を使用した。
セルロースナノファイバーとして、スギノマシン社製のセルロースナノファイバー（平均繊維径：２０．０ｎｍ，平均繊維長：２．０μｍ）として使用した。

［製造例１］第１の粒子複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
工程Ａ₁：不織布Ｆ₁を容器に入れた。
工程Ｂ₁：工程Ａ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＤＤＡ水溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＤＤＡ水溶液を除去した。
工程Ｃ₁：工程Ｂ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量の水を加え、十分に振盪した後、水を除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｄ₁：工程Ｃ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＡＡ水溶液（ＰＡＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＡＡ水溶液を除去した。
工程Ｅ₁：工程Ｄ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量の水を加え、十分に振盪した後、水を除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｆ₁：工程Ｅ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＤＤＡ水溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＤＤＡ水溶液を除去した。
工程Ｇ₁：工程Ｆ₁の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量の水を加え、十分に振盪した後、水を除去した。この洗浄を２回繰り返した。

工程Ａ₁〜工程Ｇ₁により、基体である不織布Ｆ₁がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する、第１の被覆不織布（以下「被覆不織布ＣＦ₁」という）を製造した。なお、不織布として、不織布Ｆ₁の代わりに、ＰＥＴを芯成分とし、ＰＥを鞘成分とする芯鞘型複合繊維（４．４ｄｔｅｘ×３８ｍｍ）で構成されたスルーエアー不織布（坪量：３８ｇ／ｍ²，厚み：１．４ｍｍ）を使用し、ＰＤＤＡ溶液の溶媒及びＰＡＡ溶液の溶媒として、水の代わりに、和光純薬社製の純度９９．５％のエタノールを使用した点を除き、被覆不織布ＣＦ₁と同様にして製造した被覆不織布に関し、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、エタノール中における被覆不織布のゼータ電位を測定したところ、被覆不織布のゼータ電位は＋４０ｍＶであった。なお、被覆不織布のゼータ電位の測定に関し、モードは平板試料用セルを使用しての測定であり、測定原理は試料表面に接する液体に生じる電気浸透流を利用したものである。この結果に基づくと、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、水中における被覆不織布ＣＦ₁のゼータ電位を測定する場合、被覆不織布ＣＦ₁のゼータ電位は＋２０ｍＶ以上であると予測される。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆シリカ粒子の製造
工程Ａ₂：水１０ｍＬ及びシリカ粒子０．５ｇを遠心分離機付属の遠沈管に加え、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｂ₂：工程Ａ₂の後、遠沈管にＰＤＤＡ水溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を１０ｍＬ加え、１５分間放置した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｃ₂：工程Ｂ₂の後、遠沈管に水を１０ｍＬ加え、十分に撹拌した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｄ₂：工程Ｃ₂の後、遠沈管にＰＡＡ水溶液（ＰＡＡ濃度：０．５重量％）を１０ｍＬ加え、１５分間放置した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｅ₂：工程Ｄ₂の後、遠沈管に水を１０ｍＬ加え、十分に撹拌した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。この洗浄を２回繰り返した。

工程Ａ₂〜工程Ｅ₂により、基体であるシリカ粒子がＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆シリカ粒子を製造した。なお、粒子として、シリカ粒子の代わりに、住友精化株式会社製のＳＡＰ粒子（商品名：ＳＡ５５ＳＸ−ＩＩ）を使用し、ＰＤＤＡ溶液の溶媒及びＰＡＡ溶液の溶媒として、水の代わりに、和光純薬社製の純度９９．５％のエタノールを使用した点を除き、被覆シリカ粒子と同様にして製造した被覆ＳＡＰ粒子に関し、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、エタノール中における被覆ＳＡＰ粒子のゼータ電位を測定したところ、被覆ＳＡＰ粒子のゼータ電位は−４０ｍＶであった。なお、被覆ＳＡＰ粒子のゼータ電位の測定に関し、モードはフローセルを使用しての測定であり、測定原理はレーザードップラー法（電気泳動光散乱測定法）を利用したものである。この結果に基づくと、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、水中における被覆シリカ粒子のゼータ電位を測定する場合、被覆シリカ粒子のゼータ電位は−２０ｍＶ以下であると予測される。

（３）粒子複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₁及び被覆シリカ粒子を水中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₁に被覆シリカ粒子を吸着させ、第１の粒子複合化不織布（以下「粒子複合化不織布Ｍ₁」という）を製造した。

［製造例２］第２の粒子複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
不織布Ｆ₁に代えて不織布Ｆ₂を使用した点を除き、製造例１と同様にして工程Ａ₁〜工程Ｇ₁を実施し、基体である不織布Ｆ₂がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する第２の被覆不織布（以下「被覆不織布ＣＦ₂」という）を製造した。なお、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、水中における被覆不織布ＣＦ₂のゼータ電位を測定する場合、被覆不織布ＣＦ₂のゼータ電位は、被覆不織布ＣＦ₁と同様、＋２０ｍＶ以上であると予測される。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆シリカ粒子の製造
製造例１と同様にして工程Ａ₂〜工程Ｅ₂を実施し、基体であるシリカ粒子がＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆シリカ粒子を製造した。

（３）粒子複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₂及び被覆シリカ粒子を水中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₂に被覆シリカ粒子を吸着させ、第２の粒子複合化不織布（以下「粒子複合化不織布Ｍ₂」という）を製造した。図３は、粒子複合化不織布Ｍ₂の電子顕微鏡写真（３００倍）である。図３に基づいて求められる、被覆シリカ粒子ＣＦ₂の平均粒子径の、被覆不織布ＣＦ₂の平均繊維径に対する比（被覆シリカ粒子ＣＦ₂の平均粒子径：被覆不織布ＣＦ₂の平均繊維径）は１：１０であった。

［製造例３］第３の粒子複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
不織布Ｆ₁に代えて不織布Ｆ₂を使用した点を除き、製造例１と同様にして工程Ａ₁〜工程Ｇ₁を実施し、基体である不織布Ｆ₂がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する被覆不織布ＣＦ₂を製造した。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆シリカ粒子の製造
製造例１と同様にして工程Ａ₂〜工程Ｅ₂を実施し、基体であるシリカ粒子がＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆シリカ粒子を製造した。その後、被覆シリカ粒子に、ＤＫエステル（第一工業製薬社製）を噴霧した。この際、ＤＫエステルの水溶液（ＤＫエステル濃度：１．０重量％）を、霧吹きを使用して噴霧した。噴霧量は粒子複合化後不織布の重量を基準として０．５重量％とした。

（３）粒子複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₂及びＤＫエステル処理化被覆シリカ粒子を水中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₂にＤＫエステル処理化被覆シリカ粒子を吸着させ、第３の粒子複合化不織布（以下「粒子複合化不織布Ｍ₃」という）を製造した。

［製造例４］第１のナノファイバー複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
工程Ａ₃：不織布Ｆ₁を容器に入れた。
工程Ｂ₃：工程Ａ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＤＤＡのメタノール溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＤＤＡのメタノール溶液を除去した。
工程Ｃ₃：工程Ｂ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のメタノールを加え、十分に振盪した後、メタノールを除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｄ₃：工程Ｃ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＡＡのメタノール溶液（ＰＡＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＡＡのメタノール溶液を除去した。
工程Ｅ₃：工程Ｄ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のメタノールを加え、十分に振盪した後、メタノールを除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｆ₃：工程Ｅ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のＰＤＤＡのメタノール溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を加え、１５分間放置した後、ＰＤＤＡのメタノール溶液を除去した。
工程Ｇ₃：工程Ｆ₃の後、不織布Ｆ₁が十分に浸漬する量のメタノールを加え、十分に振盪した後、メタノールを除去した。この洗浄を２回繰り返した。

工程Ａ₃〜工程Ｇ₃により、基体である不織布Ｆ₁がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する、第３の被覆不織布（以下「被覆不織布ＣＦ₃」という）を製造した。なお、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、水中における被覆不織布ＣＦ₃のゼータ電位を測定する場合、被覆不織布ＣＦ₃のゼータ電位は、被覆不織布ＣＦ₁と同様、＋２０ｍＶ以上であると予測される。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆セルロースナノファイバーの製造
工程Ａ₄：メタノール５．０ｍＬ及びセルロースナノファイバー１．０ｇを遠心分離機付属の遠沈管に加え、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｂ₄：工程Ａ₄の後、遠沈管にＰＤＤＡのメタノール溶液（ＰＤＤＡ濃度：０．５重量％）を１０ｍＬ加え、１５分間放置した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｃ₄：工程Ｂ₄の後、遠沈管にメタノールを１０ｍＬ加え、十分に撹拌した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。この洗浄を２回繰り返した。
工程Ｄ₄：工程Ｃ₄の後、遠沈管にＰＡＡのメタノール溶液（ＰＡＡ濃度：０．５重量％）を１０ｍＬ加え、１５分間放置した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。
工程Ｅ₄：工程Ｄ₄の後、遠沈管にメタノールを１０ｍＬ加え、十分に撹拌した後、遠心分離し、遠心上清を除去した。この洗浄を２回繰り返した。

工程Ａ₄〜工程Ｅ₄により、基体であるセルロースナノファイバーがＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆セルロースナノファイバーを製造した。なお、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、メタノール中における被覆セルロースナノファイバー不織布ＣＦ₂のゼータ電位を測定する場合、被覆セルロースナノファイバーのゼータ電位は、被覆シリカ粒子と同様、−２０ｍＶ以下であると予測される。

（３）ナノファイバー複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₃及び被覆セルロースナノファイバーをメタノール中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₃に被覆セルロースナノファイバーを吸着させ、第１のナノファイバー複合化不織布（以下「ナノファイバー複合化不織布Ｎ₁」という）を製造した。

［製造例５］第２のナノファイバー複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
不織布Ｆ₁に代えて不織布Ｆ₂を使用した点を除き、製造例４と同様にして工程Ａ₃〜工程Ｇ₃を実施し、基体である不織布Ｆ₂がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する、第４の被覆不織布（以下「被覆不織布ＣＦ₄」という）を製造した。なお、２０℃の環境雰囲気下、大塚電子製のゼータ電位測定システムＥＬＳＺ−１を使用して、水中における被覆不織布ＣＦ₄のゼータ電位を測定する場合、被覆不織布ＣＦ₄のゼータ電位は、被覆不織布ＣＦ₁と同様、＋２０ｍＶ以上であると予測される。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆セルロースナノファイバーの製造
製造例４と同様にして工程Ａ₄〜工程Ｅ₄を実施し、基体であるセルロースナノファイバーがＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆セルロースナノファイバーを製造した。

（３）ナノファイバー複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₄及び被覆セルロースナノファイバーをメタノール中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₄に被覆セルロースナノファイバーを吸着させ、第２のナノファイバー複合化不織布（以下「ナノファイバー複合化不織布Ｎ₂」という）を製造した。図４は、ナノファイバー複合化不織布Ｎ₂の電子顕微鏡写真（２０００倍）である。

［製造例６］第３のナノファイバー複合化不織布の製造
（１）高分子電解質層で被覆された被覆不織布の製造
製造例５と同様にして、基体である不織布Ｆ₂がＰＤＤＡ層、ＰＡＡ層及びＰＤＤＡ層で順次被覆され、表層にＰＤＤＡ層が位置する、被覆不織布ＣＦ₄を製造した。

（２）高分子電解質層で被覆された被覆セルロースナノファイバーの製造
製造例５と同様にして、基体であるセルロースナノファイバーがＰＤＤＡ層及びＰＡＡ層で被覆され、表層にＰＡＡ層が位置する被覆セルロースナノファイバーを製造した。

（３）ナノファイバー複合化不織布の製造
被覆不織布ＣＦ₄及び被覆セルロースナノファイバーを水中で混合し、静電的相互作用により被覆不織布ＣＦ₄に被覆セルロースナノファイバーを吸着させ、第３のナノファイバー複合化不織布（以下「ナノファイバー複合化不織布Ｎ₃」という）を製造した。図５（ａ）は、ナノファイバー複合化不織布Ｎ₃の電子顕微鏡写真（８０００倍）であり、図５（ｂ）は、ナノファイバー複合化不織布Ｎ₂の電子顕微鏡写真（８０００倍）である。図５（ａ）に基づいて求められる、被覆セルロースナノファイバーの平均繊維径の、被覆不織布ＣＦ₄の平均繊維径に対する比（被覆セルロースナノファイバーの平均繊維径：被覆不織布ＣＦ₄の平均繊維径）は１：１０００であり、図５（ｂ）に基づいて求められる、被覆セルロースナノファイバーの平均繊維径の、被覆不織布ＣＦ₄の平均繊維径に対する比（被覆セルロースナノファイバーの平均繊維径：被覆不織布ＣＦ₄の平均繊維径）は１：２０００であった。

［試験例１］人工経血ハケ時間の測定
高分子電解質層で被覆する前の不織布Ｆ₁及びＦ₂、並びに、粒子複合化不織布Ｍ₁〜Ｍ₃及びナノファイバー複合化不織布Ｎ₁〜Ｎ₃から、１５０ｍｍ×６０ｍｍの試験片を切り出した。各試験片の上側に、表面シート（商品名ソフィ はだおもいの表面シートを使用）を重ねるとともに、各試験片の下側に、吸収体を重ねて、吸収性物品サンプルを製造した。吸収体として、坪量３００ｇ／ｍ²のパルプ積層体の上下を坪量１５ｇ／ｍ²のティッシュで挟んだ後、密度が０．１ｇ／ｃｍ³となるように厚みを調整したもの（調整後の厚みは約３．０ｍｍ）を使用した。吸収性物品サンプルの表面シート上に穴あきアクリル板（中央に４０ｍｍ×１０ｍｍの穴、２００ｍｍ（長さ）×１００ｍｍ（幅））を重ねた。オートビュレット（柴田化学器械工業（株），マルチドジマットＥ７２５−１型）を使用して、アクリル板の穴に向けて、人工経血（イオン交換水１Ｌに対して、グリセリン８０ｇ，カルボキシメチルセルロースナトリウム８ｇ，塩化ナトリウム１０ｇ，炭酸水素ナトリウム４ｇ，赤色１０２号８ｇ、赤色２号２ｇ，黄色５号２ｇを加えて十分に攪拌したものを使用）を９０ｍＬ／分で３ｍＬを注入した（１回目）。注入開始後、アクリル板の穴に滞留する人工経血が無くなるまでの時間を測定し、これを、１回目の人工経血ハケ時間（秒）とした。なお、１回目の人工経血ハケ時間（秒）は、５回の測定によって得られた測定値の平均値として算出した。

１回目の注入開始から２分後、人工経血を９０ｍＬ／秒の滴下速度で３ｍＬ注入した（２回目）。２回目の注入開始後、アクリル板の穴に滞留する人工経血が無くなるまでの時間を測定し、これを、２回目の人工経血ハケ時間（秒）とした。なお、２回目の人工経血ハケ時間（秒）は、５回の測定によって得られた測定値の平均値として算出した。
結果を表１に示す。

［試験例２］液吸い上げ高さの測定
高分子電解質層で被覆する前の不織布Ｆ₁、並びに、粒子複合化不織布Ｍ₁及びナノファイバー複合化不織布Ｎ₁から、長さ１００ｍｍ×幅２５ｍｍの試験片を切り出し、高さを調節可能なバーに、試験片の長さ方向の一端を固定した。色素含有水（色素の種類：青色１号，色素の濃度：０．０１重量％）を含有する容器を、試験片の下方に設置した。バーの高さを調節し、試験片の長さ方向の他端を容器中の色素含有水に浸した。この際、試験片の長さ方向の他端から約３０ｍｍまでの部分が色素含有水に浸るように、バーの高さを調節した。試験片を色素含有水に浸してから１０分後、容器中の色素含有水の水面から、試験片によって吸い上げられた色素含有水の端部までの距離を測定し、これを、液吸い上げ高さ（ｍｍ）とした。液吸い上げ高さ（ｍｍ）は、５回の測定によって得られた測定値の平均値として算出した。その結果、不織布Ｆ₁の液吸い上げ高さは０ｍｍ、粒子複合化不織布Ｍ₁の液吸い上げ高さは１０ｍｍ、ナノファイバー複合化不織布Ｎ₁の液吸い上げ高さは２０ｍｍであった。

Claims (13)

1. 水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電するホスト材料に対して、前記所定の溶媒中で表面が前記ホスト材料の表面と反対の電荷に帯電するゲスト材料が静電的相互作用により吸着してなる、吸収性物品用の複合化材料であって、
   前記ホスト材料が、基体として、不織布基体を含み、
   前記ゲスト材料が、基体として、前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均粒子径を有する複数の親水性粒子基体又は前記不織布基体の平均繊維径よりも小さい平均繊維径を有する複数の親水性繊維基体を含み、
   前記ホスト材料及び前記ゲスト材料の少なくとも一方が、前記基体を被覆する高分子電解質層を有する、前記複合化材料。
2. 前記複数の親水性粒子基体の平均粒子径の、前記不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性粒子基体の平均粒子径：不織布基体の平均繊維径）が１：４〜１：５０であり、前記複数の親水性繊維基体の平均繊維径の、前記不織布基体の平均繊維径に対する比（親水性繊維基体の平均繊維径：不織布基体の平均繊維径）が１：４〜１：２５００である、請求項１に記載の複合化材料。
3. 前記高分子電解質層が、積層された複数の高分子電解質層からなり、前記複数の高分子電解質層において、前記所定の溶媒中で互いに反対の荷電に帯電する高分子電解質層が隣接している、請求項１又は２に記載の複合化材料。
4. 前記所定の溶媒中における前記ホスト材料及び前記ゲスト材料のゼータ電位の絶対値が、２０ｍＶ以上であって、かつ、電荷的に釣り合っている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の複合化材料。
5. 前記ホスト材料が、下記工程（ａ₁）及び（ａ₂）：
   （ａ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する不織布基体と、前記所定の溶媒中で前記不織布基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程；
   （ａ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₁の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₁の被覆体と、前記所定の溶媒中で前記第ｋ₁の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₁＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₁＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₁＝１からｋ₁＝ｍ（ここで、ｍは１以上の整数である。）までｍ回実施し、第（ｍ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｍ＋１）の被覆体を製造する工程
   を含む方法によって製造された前記第（ｍ＋１）の被覆体である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の複合化材料。
6. 前記第（ｍ＋１）の被覆体のゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上である、請求項５に記載の複合化材料。
7. 前記ゲスト材料が、下記工程（ｂ₁）及び（ｂ₂）：
   （ｂ₁）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で表面が正又は負に帯電する親水性粒子基体又は親水性繊維基体と、前記所定の溶媒中で前記親水性粒子基体又は前記親水性繊維基体の表面と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第１の高分子電解質層を表層に有する第１の被覆体を製造する工程；
   （ｂ₂）水、無極性有機溶媒、極性有機溶媒、及び、極性有機溶媒と水との混合溶媒から選択される所定の溶媒中において、前記所定の溶媒中で正又は負に帯電する第ｋ₂の高分子電解質層を表層に有する第ｋ₂の被覆体と、前記所定の溶媒中で前記第ｋ₂の高分子電解質層と反対の電荷に帯電する高分子電解質とを接触させ、第（ｋ₂＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｋ₂＋１）の被覆体を製造する手順を、ｋ₂＝１からｋ₂＝ｎ（ここで、ｎは１以上の整数である。）までｎ回実施し、第（ｎ＋１）の高分子電解質層を表層に有する第（ｎ＋１）の被覆体を製造する工程
   を含む方法によって製造された前記第（ｎ＋１）の被覆体である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の複合化材料。
8. 前記第（ｎ＋１）の被覆体のゼータ電位の絶対値が２０ｍＶ以上である、請求項７に記載の複合化材料。
9. 前記親水性粒子基体がシリカ粒子である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の複合化材料。
10. 前記親水性繊維基体がセルロースファイバーである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の複合化材料。
11. 炭素数１〜３の一価アルコール中で、前記ホスト材料に対して、前記ゲスト材料を静電的相互作用により吸着させて得られたものである、請求項１０に記載の複合化材料。
12. 液透過性層と、液不透過性層と、前記液透過性層及び前記液不透過性層の間に配置された液吸収性層と、前記液透過性層及び前記液吸収性層の間又は前記液吸収性層及び前記液不透過性層の間に配置された液拡散性層とを備える吸収性物品であって、前記液拡散性層が、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の複合化材料を含有する、前記吸収性物品。
13. 前記液拡散性層が前記液吸収性層と接している、請求項１２に記載の吸収性物品。