JP5649648B2 - 熱硬化型光電変換素子用シール剤を用いた光電変換素子 - Google Patents

Description

本発明は、エポキシ樹脂と特定の硬化剤を含有する熱硬化型光電変換素子用シール剤を用いた光電変換素子に関する。より詳しくは高温高湿環境下においても優れた接着性及び耐湿信頼性を有する、高信頼性の光電変換素子に関する。

クリーンなエネルギー源として注目されている太陽電池は、近年、一般住宅用に利用されるようになってきたが、未だ充分に普及するには至っていない。その理由としては、太陽電池そのものの性能が充分優れているとは言い難く、モジュールを大きくせざるを得ないことや、モジュール製造における生産性が低いこと等が挙げられ、その結果、コスト高になってしまうことなどが挙げられる。

太陽電池に用いられる光電変換素子は、一般にシリコン、ガリウム−砒素、銅−インジウム−セレンなどの光電変換素材を上部透明保護材と下部基板保護材とで保護し、光電変換素材と保護材とをシール剤で固定し、パッケージ化したものである。このため光電変換素子の製造に用いられるシール剤としては、上下の保護材との接着性が良好であること、柔軟性、耐久性に優れる等が重要な性能として要求される。

例えば、現在、太陽電池モジュールにおける光電変換素子用シール剤としては、柔軟性や透明性等の観点から、酢酸ビニルの含有割合の高いエチレン−酢酸ビニル共重合体が使用されている。しかしながら、該共重合体は耐熱性や接着性が不十分であることから、共重合反応をより促進させる目的で有機過酸化物などを使用する必要がある。この場合、これらの有機過酸化物を配合したエチレン−酢酸ビニル共重合体のシートをまず作製し、次いで、このシートを用いて光電変換素材をシールするという２段階の工程を採用する必要がある。そして、シートの製造段階では、有機過酸化物が分解しないような低温での成形が必要なため、押出成形速度を大きくすることができず、他方、光電変換素材をシールする(硬化接着)段階では、ラミネーターにより数分間乃至十数分間かけて仮接着する工程と、オーブン内において有機過酸化物が分解する高温度で数十分間ないし１時間かけて本接着する工程とからなる２段階の工程を経る必要がある。そのため光電変換素子の製造に手間と時間がかかり、その上、接着性、耐湿信頼性が十分でないという問題点を有している。このような光電変換素子を使用した太陽電池モジュール及び太陽電池はおのずと高価になり且つその性能に満足できないという結果になる。

また、前記共重合体と融点が低いアイオノマーを併用した場合には、耐熱性が充分でなく、光電変換素子用のシール剤として用いた場合、太陽電池としての使用時における温度上昇により変形する恐れがあり、また光電変換素子を加熱圧着法で製造する際に、これらのシール剤料が必要以上に流れ出してバリを生じる場合があるので好ましくない。さらに、近年の光電変換素子の大型化に伴って、加工プロセス時においてシール部にかかる応力は従来に比し格段に大きくなり、シール線長も長くなってきている。これらのことから、耐湿信頼性に優れ、シールの線幅の狭小化を可能にし、導電性支持体間の間隔を均一にでき、更に密着性、可撓性に優れた塗布型のシール剤の開発が求められている。

一方、太陽電池の普及に伴い、その製造工程や廃棄時において環境負荷の少ない太陽電池や、低コストで意匠性に優れた太陽電池といった今までに無い特性要求も出てきており、これら特長を合わせ持つ色素増感太陽電池が近年注目されている。この色素増感太陽電池は、増感色素を担持させた酸化物半導体、電荷移動層、導電性基板等から構成される太陽電池であり、比較的高い変換効率と、使用する増感色素によって色調を選択することが出来るため高い意匠性を有している。しかしながら、電荷移動層に電解液等液体を用いることから、そのシール性能として高温高湿環境下における優れた接着性、耐膨潤性、耐吸湿性等の耐湿信頼性が求められ、耐湿信頼性は太陽電池の耐久性及び信頼性に大きく影響を及ぼすことから、耐湿信頼性に優れたシール剤を開発することは極めて重要とされている。

太陽電池の耐久性向上についての取り組みとして、熱硬化性エポキシ樹脂をシール剤として利用する方法が検討されている（特許文献１）。この場合、シール剤をディスペンサー、スクリーン印刷等の方法より導電性支持体に塗布した後、加熱又は加熱無しでレベリングを行った後に、アライメントマークを用いて上下の導電性支持体を貼り合わせ、シール剤をプレスするというプロセスでセルの作製が行われている。ここで使用する熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノールノボラック類が使用されているが、このような光電変換素子用シール剤は、高温高湿環境下における長期封止性については接着性性能が劣り、電解液が漏洩するという問題点を有している。この問題点を解決する方法として特許文献２では水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いる樹脂組成物が開示されているが、この場合、高温高湿環境下における長期封止性は付与できず、電解液が漏洩する事象が示されている。また、特許文献３では光熱併用硬化型シール剤として、ビスフェノールS型エポキシ樹脂を用いる樹脂組成物が開示されており、セル耐久性に優れることが開示されている。しかしながら、耐久性試験として開示している条件は、２５℃一定温度での経時評価のみとなっており、実際の太陽電池の使用環境下での耐久性を述べる上で不十分であると考えられる。よって、この高温高湿環境下での耐久性試験をクリアできるシール剤及びシール剤を用いた太陽電池に関する報告はなされていない。

特開２００２−３６８２３６号公報 特開２００７−０８７６８４号公報 国際公開特許ＷＯ２００７−００７６７１号公報 日本国特許第３７３１７５２号公報 特開２００２−５１２７２９号公報 国際公開特許ＷＯ２００２−０１１２１３号公報 国際公開特許ＷＯ２００６−１２６５３８号公報 国際公開特許ＷＯ２００７−０４６４９９号公報

Ｃ．Ｊ．Ｂａｒｂｅ，Ｆ Ａｒｅｎｄｓｅ，Ｐ Ｃｏｍｐｔ ａｎｄ Ｍ．Ｇｒａｅｔｚｅｌ Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．，８０，１２，３１５７−７１（１９９７）

本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤は、光電変換素子の製造工程における電荷移動層に対する汚染性が極めて低く、基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度、室温での使用可能時間（ポットライフ）、低温硬化性に優れる。このようなシール剤を用いて得られた本発明の光電変換素子は、電荷移動層の汚染による作動不良が無く、接着性、耐湿信頼性に優れ、高い耐久性及び信頼性を有したものである。

本発明者らは前記した課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の組成を有する樹脂組成物が前記課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち本発明は、
（１）半導体含有層を有する第一の導電性支持体、該半導体含有層と対向電極とが所定の間隔で対向する位置に設けられた対向電極を有する第二の導電性支持体、第一及び第二の導電性支持体の間隙に挟持された電荷移動層、並びに電荷移動層をシールするために第一及び第二の導電性支持体の周辺部に設けられたシール剤を有する光電変換素子であって、該シール剤がエポキシ樹脂（ａ）と、芳香族ヒドラジド類及び炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む熱硬化剤（ｂ）とを含有する熱硬化型光電子変換素子用シール剤である光電変換素子、
（２）エポキシ樹脂（ａ）中のエポキシ基１当量に対する熱硬化剤（ｂ）中の活性水素が０．８〜３．０当量である前項（１）に記載の光電子変換素子、
（３）熱硬化剤（ｂ）に含まれる芳香族ヒドラジド類及び炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類の少なくとも一種は、分子中に２個以上のヒドラジド基を有する前項１又は２に記載の光電子変換素子、
（４）熱硬化剤（ｂ）が芳香族ヒドラジド類を含む前項（１）乃至（３）のいずれか一項に記載の光電変換素子、
（５）熱硬化剤（ｂ）がフェノールノボラック樹脂を更に含む前項（１）乃至（４）のいずれか一項に記載の光電子変換素子、
（６）熱硬化型光電変換素子用シール剤が、充填剤（ｃ）を更に含有する前項（１）乃至（５）のいずれか一項に記載の光電変換素子、
（７）充填剤（ｃ）が、含水硅酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、結晶シリカ及び溶融シリカからなる群から選ばれる１種又は２種以上からなり、且つ充填剤（ｃ）の平均粒径が１５μｍ以下である前項（６）に記載の光電変換素子、
（８）熱硬化型光電変換素子用シール剤が、シランカップリング剤（ｄ）を更に含有する前項（１）乃至（７）のいずれか一項に記載の光電変換素子、
（９）シランカップリング剤（ｄ）が、グリシジルエトキシシラン類又はグリシジルメトキシシラン類である前項（８）に記載の光電変換素子
（１０）シランカップリング剤（ｄ）が、グリシジルメトキシシラン類である前項（９）に記載の光電変換素子、
（１１）前項（１）乃至（１０）のいずれか一項に記載の光電変換素子を有してなる太陽電池、
に関する。

本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤は、光電変換素子の製造工程における電荷移動層に対する汚染性が極めて低く、基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度、室温での使用可能時間（ポットライフ）、低温硬化性に優れる。このようなシール剤を用いて得られた本発明の光電変換素子は、電荷移動層の汚染による作動不良が無く、接着性、耐湿信頼性に優れ、高い耐久性及び信頼性を有したものである。

本発明の色素増感光電変換素子の構造を説明する要部断面模式図

本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤（以下、単に「シール剤」ということもある）は、エポキシ樹脂（ａ）と芳香族ヒドラジド類及び炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む熱硬化剤（ｂ）とを含有することを特徴とする光電子変換素子用硬化性樹脂組成物であって、半導体含有層を有する第一の導電性支持体と対向電極を有する第二の導電性支持体を、該半導体含有層と対向電極とが向き合うように所定の間隔で対向配置し、該両支持体の間隙に、電荷移動層の周辺部に設けられたシールを介して電荷移動層を挟持してなる光電変換素子において、該シールとして使用される。

本発明で用いられるエポキシ樹脂（ａ）としては、一分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を持つエポキシ樹脂が用いられる。このようなエポキシ樹脂としては、例えばノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂などが挙げられる。更に具体的には、トリスフェノールメタンノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、４，４’−ビフェノール、２，２’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、ｏ−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、４，４’−ビス（クロルメチル）−１，１’−ビフェニル、４，４’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビフェニル、１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メトキシメチル）ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールＡ等のハロゲン化ビスフェノール類、アルコール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等の固形又は液状エポキシ樹脂が挙げられ、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラブロモビスフェノールＡ等のハロゲン化ビスフェノール類、アルコール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等の固形又は液状エポキシ樹脂等であることが好ましく、トリスフェノールメタンノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であることが更に好ましい。また、これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらのエポキシ樹脂を選択すると、本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤の粘度を下げるのに有益で、常温での貼り合わせ作業を可能とし、且つギャップ形成を容易にする。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、電荷移動層に対するシール剤による汚染を出来るだけ小さくするために、シール剤中に含有される加水分解性塩素が可能な限り少ない方が好ましい。したがって、エポキシ樹脂（ａ）についても、これに含まれる加水分解性塩素量が６００ｐｐｍ以下のものが好ましく、より好ましくは３００ｐｐｍ以下のものである。加水分解性塩素量は、例えば、約０．５ｇのエポキシ樹脂を２０ｍｌのジオキサンに溶解し、１ＮのＫＯＨ／エタノール溶液５ｍｌで３０分間還流した後、０．０１Ｎ硝酸銀溶液で滴定すること等により定量することができる。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤中におけるエポキシ樹脂（ａ）の含有量は、通常５〜８０質量％、好ましくは１０〜７０質量％、より好ましくは２０〜６０質量％である。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、熱硬化剤（ｂ）として、芳香族ヒドラジド類及び／又は炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類を含有する。これらヒドラジド類としては分子中に２個以上のヒドラジド基を有する多官能ヒドラジド類が好ましく使用される。分子中に２個以上のヒドラジド基を有する多官能ヒドラジド類の具体例としては、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、スベリン酸ジヒドラジド、アゼライン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、ヘキサデカン酸ジヒドラジド等の脂肪酸骨格からなる二塩基酸ジヒドラジド類、等の炭素数６以上の脂肪族ジヒドラジド類、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフトエ酸ジヒドラジド、４，４−ビスベンゼンジヒドラジド、１，４−ナフトエ酸ジヒドラジド、２，６−ピリジンジヒドラジド、１，２，４−ベンゼントリヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド、１，４，５，８−ナフトエ酸テトラヒドラジド、フタル酸ジヒドラジド、メチルフタル酸ジヒドラジド、エチルフタル酸ジヒドラジド、メトキシフタル酸ジヒドラジド、エトキシフタル酸ジヒドラジド、フェノキシフタル酸ジヒドラジド、ヒドロキシイソフタル酸ジヒドラジド、アミノフタル酸ジヒドラジド、フランジカルボン酸ジヒドラジド、キノリン酸ジヒドラジドベンゼンスルホン酸ジヒドラジド、ナフタレンジスルホン酸ジヒドラジド、等の芳香族ジヒドラジド類及び芳香族ポリヒドラジド類、１，３−ビス（ヒドラジノカルボノエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等のバリンヒダントイン骨格を有するジヒドラジド類等が挙げられる。炭素数が６より少ない脂肪族ヒドラジドを用いた場合、硬化物の吸水性が高くなってしまい、耐湿信頼性が低下する。これら芳香族ヒドラジド類及び／又は炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類は単独又は、２種以上を併用して用いてもよい。

これらのヒドラジド類は、潜在性硬化剤として作用するように、粒径を細かくしてエポキシ樹脂（ａ）中に均一に分散させて用いるのが好ましい。多官能ヒドラジド類の平均粒径が光電変換素子のセルギャップ（第一の導電性支持体と第二の導電性支持体との間隔）に比べて大きすぎる場合、光電変換素子の２枚の基板（導電性支持体）を貼り合わせる際のギャップ形成がうまくできない等の不良要因となる場合があることから、その平均粒径は通常セルギャップ以下であり、３μｍ以下とするのが好ましく、２μｍ以下とするのがより好ましい。これらヒドラジド類の粒径は、例えばレーザー回折・散乱式粒度分布測定器（乾式）（ＬＭＳ−３０、（株）セイシン企業製）により測定することが可能である。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤が含有する熱硬化剤（ｂ）として、芳香族ヒドラジド類及び／又は炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類に加えて、アミン類やグアナミン類、イミダゾール類等を併用してもよい。併用し得るアミン類としては、エポキシ樹脂の硬化剤として知られているアミン類であれば特に限定されず、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、リノレン酸の２量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。また、併用し得るグアナミン類としては、特に限定されず、例えば、ジシアンジアミド、ｏ−トルイルビグアニド、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、フェニルアセトグアナミン等が挙げられる。

併用し得るイミダゾール類としては、特に限定されず、例えば、２−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２，４−ジシアノ−６（２’−メチルイミダゾール（１’）)エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジシアノ−６（２’−ウンデシルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

また、その他の併用し得る熱硬化剤としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物、クレゾール−ホルムアルデヒド重縮合物、ヒドロキシベンズアルデヒド−フェノール重縮合物、クレゾール−ナフトール−ホルムアルデヒド重縮合物、レゾルシン−ホルムアルデヒド重縮合物、フルフラール−フェノール重縮合物、フェノールノボラック樹脂、α−ヒドロキシフェニル−ω−ヒドロポリ（ビフェニルジメチレン−ヒドロキシフェニレン）等の多官能ノボラック類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、チオジフェノール、４，４’−ビフェニルフェノール、ジヒドロキシナフタレン、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、２，２’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン等）とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、ｏ−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、４，４’−ビス（クロロメチル）−１，１’−ビフェニル、４，４’−ビス（メトキシメチル）−１，１’−ビフェニル、１，４’−ビス（クロロメチル）ベンゼン、１，４’−ビス（メトキシメチル）ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールＡ等のハロゲン化ビスフェノール類、テルペンとフェノール類の縮合物等の多価フェノール系硬化剤、或は無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸 、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の酸無水物系硬化剤、炭素数５以下の脂肪族ヒドラジド類等が挙げられる。これら併用し得る熱硬化剤は、単独又は２種以上を併用してもよい。
これら併用し得る熱硬化剤の使用量は、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤中の熱硬化剤（ｂ）の総量に対して通常５０質量％以下、３０質量％以下が好ましい。また、シール剤総量中における熱硬化剤（ｂ）の含有率は、重量比で通常０．１％〜３０％であり、１％〜２０％であることが好ましく、５％〜１４％であることが更に好ましく、１０％〜１３％であることが特に好ましい。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤に使用される熱硬化剤（ｂ）の含有量は、シール剤に用いられるエポキシ樹脂（ａ）中のエポキシ基１当量に対して熱硬化剤（ｂ）中の活性水素が０．８〜３．０当量が好ましく、０．９〜２．０当量がより好ましい。エポキシ基１当量に対する熱硬化剤（ｂ）中の活性水素の量が０．８当量より少ないと熱硬化反応が不十分となり、導電性支持体との接着力やシール剤の硬化物のガラス転移温度が低くなる恐れがある。一方、活性水素の量が３．０当量より多いと、硬化後のシール剤に未反応の熱硬化剤が残留して導電性支持体との接着力が低下したり、シール剤のポットライフが悪化する懸念がある。尚、ここでいう活性水素とは、エポキシ樹脂の有するエポキシ基と反応し得る熱硬化剤のヘテロ原子と、結合を有する水素原子を意味する。

熱硬化剤（ｂ）としては、芳香族ヒドラジドの単独又は２種以上の併用、又は芳香族ヒドラジドとフェノールノボラック樹脂の併用が好ましい。芳香族ヒドラジドとフェノールノボラック樹脂を併用することで、耐湿信頼性に優れたシール剤を得ることが可能となり、このシール剤を用いた場合、耐久性及び信頼性に優れた光電変換素子を得ることが可能となる。併用の際に用いられる芳香族ヒドラジドとしてはイソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフトエ酸ジヒドラジド、４，４−ビスベンゼンジヒドラジド、１，４−ナフトエ酸ジヒドラジド、２，６−ピリジンジヒドラジド、１，２，４−ベンゼントリヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド、１，４，５，８−ナフトエ酸テトラヒドラジドであることが好ましく、イソフタル酸ジヒドラジドであることが特に好ましい

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤には、必要により充填剤（ｃ）を用いることができる。用い得る充填剤（ｃ）の具体例としては、溶融シリカ、結晶シリカ、シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミナ（酸化アルミニウム）、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、含水硅酸マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、ガラス繊維、炭素繊維、二硫化モリブデン、アスベスト等が挙げられる。これらのうち、好ましいものとしては含水硅酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、結晶シリカ及び溶融シリカ等が挙げられる。これらの充填剤は１種を用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。本発明の光電変換素子に用いられるシール剤が含有し得る充填剤（ｃ）は、平均粒径が１５μｍ以下のものが好ましい。平均粒径が１５μｍより大きいと、光電変換素子製造時における上下基板貼り合わせ時に、適切なギャップ形成ができなくなる場合がある。

充填剤（ｃ）を用いる場合の含有量は、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤中に通常６０質量％以下であり、５〜６０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましい。充填剤の含有量が６０質量％を超えてしまうと、光電変換素子の作製時、電荷移動層を保持するための適切なセルギャップが形成できなくなる場合がある。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤には接着強度を向上させるために、シランカップリング剤（ｄ）を用いることができる。シランカップリング剤（ｄ）としては、シール剤と導電性支持体との接着強度を向上させ得るものであれば何れも使用できる。使用できるシランカップリング剤の具体例としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のメトキシシラン類、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−（ビニルベンジルアミノ）エチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン塩酸塩 、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン等のエトキシシラン類等が挙げられるが、グリシジルエトキシシラン類又はグリシジルメトキシシラン類が好ましく、グリシジルメトキシシラン類であることが更に好ましく、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランであることが特に好ましい。また、良好な接着強度を得る上でアミノ基を有するシランカップリング剤を用いることも好ましい。上記アミノ基を有するシランカップリング剤のうちより好ましいものとしては、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−（ビニルベンジルアミノ）エチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン塩酸塩等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は１種を用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。本発明において、シランカップリング剤を用いる場合、その含有量は本発明の光電変換素子に用いられるシール剤中通常２質量％以下、好ましくは０．１〜２質量％、より好ましくは０．２〜１．５質量％である。

更に、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤には必要に応じて、有機溶媒、有機充填剤、応力緩和剤、更には顔料、レベリング剤、消泡剤などの添加剤を配合することができる。配合し得る添加剤は特に限定されるものではなく、その添加量も目的に応じて適宣選択すればよいが、電荷移動層の漏洩を防ぐ効果を有するものや、電荷移動層に対する汚染性を低くする効果のあるものを添加することが好ましい。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、前記エポキシ樹脂（ａ）、熱硬化剤（ｂ）、必要により、前記充填剤（ｃ）、シランカップリング剤（ｄ）及び各種添加剤を、任意の順序で前記各含有量になるように必要により撹拌下に混合し、次いで、例えば３本ロール、サンドミル、ボールミル等の混合装置により均一に混合することにより製造することができる。必要により、混合が終わったあと夾雑物を除く為に、濾過処理を施してもよい。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、該シール剤を使用して、２枚の基板（導電性支持体）を貼り合わせ後に注入口から電荷移動層を注入する光電変換素子の作製法に適しており、２枚の基板に挟まれたシール剤の堰を加熱硬化させることにより、電荷移動層のシールを行うことが出来る。シール剤を基板に塗布する方法としては、バーコーター法、ディップコーティング法、スピンコート法、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、ディスペンス法、インクジェット印刷法等の塗布法が挙げられ、基板の種類、形態により適宜選択あるいは併用することが可能であるが、生産性の観点から、スプレー法、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット印刷法を用いることが好ましい。本発明の光電変換素子に用いられるシール剤が適用出来る光電変換素子としては、一般的に光エネルギーを電気エネルギーに変換する素子のすべてが挙げられる。光電変換素子から発生した電流を取り出せるようにリード線を配し、閉回路としたものを太陽電池とする。本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、特に、色素増感型光電変換素子及び該光電変換素子を有してなる太陽電池の製造に最適である。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、熱硬化後のシール幅が０．０１ｍｍ乃至１ｃｍ、好ましくは０．０１ｍｍ乃至５ｍｍ、更に好ましくは０．１ｍｍ乃至５ｍｍ、特に好ましくは１ｍｍ乃至３ｍｍになるように使用することで電解液の漏洩防止性を向上させ、太陽電池の耐久性を向上させることができる。シール剤は、太陽電池の周囲のシールに用いるのみならず、後述する電荷移動層の注入口の封止に用いることも可能である。また、太陽電池が内部直列構造等、電気的に接続された複数のセルを有している場合、それぞれのセル間の堰として用いることも可能である。また、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤を太陽電池の周囲のシールに用いる場合、２重以上に配置することも可能である。

以下本発明の色素増感型光電変換素子及び色素増感太陽電池について詳細に説明する。色素増感型光電変換素子は、色素で増感された半導体含有層を表面に有する第一の導電性支持体（酸化物半導体電極）、対向電極としての第二の導電性支持体、及び電荷移動層を主要な構成要素として構成され、本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤は、該第一と第二の導電性支持体を接着し、かつ両支持体間に電荷移動層を保持する目的で用いられる。導電性支持体としては、例えばＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）、ＩＴＯ（インジウムドープ酸化スズ）に代表される導電性物質を、ガラス、プラスチック、ポリマーフィルム、石英、シリコン等の基板の表面に薄膜化させたものが用いられる。基板の厚みは、通常０．０１〜１０ｍｍであり、その形状はフィルム状から板状まで様々な態様を取り得るが、２枚の基板のうち少なくとも一方には光透過性のある基板が用いられる。導電性支持体の導電性は通常１０００Ω／ｃｍ^２以下、好ましくは１００Ω／ｃｍ^２以下である。

半導体含有層の調製に用いられる酸化物半導体としては、金属カルケニドの微粒子が好ましく、その具体例としてはＴｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ｗ、Ｉｎ、Ｚｒ、Ｙ、Ｌａ、Ｔａ等の遷移金属の酸化物、Ａｌの酸化物、Ｓｉの酸化物、ＳｔＴｉＯ_３、ＣａＴｉＯ_３、ＢａＴｉＯ_３等のペロブスカイト型酸化物が挙げられる。これらの中でＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２が特に好ましい。また、これらは混合して用いてもよく、ＳｎＯ_２−ＺｎＯ混合系が好ましい例として挙げられる。混合系の場合は微粒子の状態で混合したり、以下に述べるスラリーもしくはペースト状態で混合したり、各成分を層状に重ねて用いてもよい。ここで用いる酸化物半導体の一次粒径は通常１〜２００ｎｍ、好ましくは１〜５０ｎｍである。また、上記酸化物半導体として、例えば国際公開特許ＷＯ２００６／０８０３８４号公報記載の様に、チタンに、マグネシウム、ジルコニウム、ストロンチウム等の非チタン金属等を混合して作製した複合酸化物半導体を用いることも可能であり、色素増感型光電変換素子の開放電圧向上、変換効率向上、耐久性向上といった目的で適宜使用可能である。

半導体含有層の調製方法は、酸化物半導体からなる薄膜を蒸着により直接基板上に作製する方法、スラリー又はペーストを基板上に塗布またはコートした後、圧力を加えることで作製する方法、基板を電極として電気的に析出させる方法、スラリー又はペーストを基板上に塗布またはコートした後、乾燥し、硬化もしくは焼成する方法等がある。塗布またはコート法としては、バーコーター法、ディップコーティング法、スピンコート法、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、ディスペンス法、インクジェット印刷法等が挙げられ、基板の種類、形態により適宜選択あるいは併用することが可能である。酸化物半導体電極の性能上、スラリー又はペーストを用いる方法が好ましい。スラリーは２次凝集している酸化物半導体の微粒子を、分散剤を用いて分散媒中に平均１次粒子径が通常１〜２００ｎｍになるように分散させたり、ゾルゲル法にて酸化物半導体の前駆体であるアルコキサイド等を加水分解することにより得られる。また、粒径の異なる酸化物半導体の微粒子を混合して用いてもよい。

スラリーを分散させる分散媒としては、酸化物半導体の微粒子を分散させ得るものであれば特に限定されず、水、エタノール、ターピネオール等のアルコール、アセトン、アセチルアセトン等のケトン、ヘキサン等の炭化水素等の有機溶媒が用いられ、これらは混合して用いてもよく、水を用いることはスラリーの粘度変化を少なくするという点で好ましい。

安定した一次微粒子を得る目的で、スラリーに分散安定剤等を加えてもよい。用い得る分散安定剤の具体例としては、ポリエチレングリコール等の多価アルコール、フェノール、オクチルアルコール等の１価アルコール等の自己またはこれら相互間の共縮合物；ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体；ポリアクリルアマイド；アクリルアマイド、（メタ）アクリル酸若しくはその塩、（メタ）アクリル酸エステル（（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル等）等の自己または相互間の共縮合物；アクリルアマイド、（メタ）アクリル酸若しくはその塩、（メタ）アクリル酸エステル等とスチレン、エチレン、プロピレン等の疎水性モノマーとの共重合体で水溶性であるポリアクリル酸系誘導体；メラミンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物の塩；ナフタリンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物の塩；高分子量のリグニンスルホン酸塩；塩酸、硝酸、酢酸等の酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これら分散安定剤は単独又は２種以上を併用してもよい。

これらの中で、ポリエチレングリコール等の多価アルコール、フェノール、オクチルアルコール等の自己又はこれら相互間の共縮合物、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸ナトリウム、ポリ（メタ）アクリル酸カリウム、ポリ（メタ）アクリル酸リチウム、カルボキシメチルセルロース、塩酸、硝酸、酢酸等が好ましい。
スラリー中の酸化物半導体の濃度は通常１〜９０質量％、好ましくは５〜８０質量％である。

導電性支持体上に塗布したスラリーを乾燥した後、導電性支持体に用いた基板の融点（又は軟化点）以下の温度で焼成処理を行う。焼成温度は、通常１００〜９００℃、好ましくは１００〜６００℃である。また、焼成時間は特に限定はないが、概ね４時間以内である。導電性支持体上に設けられる半導体含有層の膜厚は、用いる増感色素や電荷移動層等により異なるが、おおむね通常１〜５０μｍであり、好ましくは１〜４０μｍであり、更に好ましくは３〜３０μｍである。

表面平滑性を向上させる目的で、半導体含有層に２次処理を施してもよい（非特許文献１参照）。例えば半導体含有層の調製に用いたのと同一の金属のアルコキサイドもしくは塩化物、硝化物、硫化物等の溶液に、前記の手法で調製された半導体含有層の薄膜が設けられた導電性支持体を直接浸漬して乾燥又は前記と同様に焼成（再焼成）することにより、半導体含有層の平滑性を高めることが出来る。ここで金属アルコキサイドとしてはチタンエトキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンｔ−ブトキサイド、ｎ−ジブチル−ジアセチルスズ等が挙げられ、そのアルコール溶液が用いられる。塩化物の場合には例えば四塩化チタン、四塩化スズ、塩化亜鉛等が挙げられ、その水溶液が用いられる。この様にして得られる酸化物半導体微粒子から成る半導体含有層の比表面積は、通常１〜１０００ｍ^２／ｇ、好ましくは１０〜５００ｍ^２／ｇである。

次に、半導体含有層に増感色素を担持する工程について説明する。増感色素としては、半導体含有層を構成する半導体微粒子と相まって光吸収を増感させる作用を有するものであれば特に限定はなく、ルテニウム等の金属元素を含んだ金属錯体色素や金属を含まない有機色素を単独で用いてもよく、また数種類を任意の割合で混合して用いてもよい。混合して用いる場合は金属錯体色素同士、有機色素同士及び金属錯体色素と有機色素との組み合わせのいずれであってもよいが、吸収波長領域の異なる色素同士を混合することにより、幅広い吸収波長を用いることが出来、変換効率の高い太陽電池が得られる。

担持し得る金属錯体色素に特に制限は無いが、前記特許文献４及び前記特許文献５記載のルテニウム錯体色素、フタロシアニン、ポルフィリンなどが好ましく、ルテニウム錯体であることがより好ましい。また、担持し得る有機色素としては、例えば無金属のフタロシアニン、ポルフィリンやシアニン、メロシアニン、オキソノール、トリフェニルメタン系、前記特許文献６に記載のアクリル酸系色素、前記特許文献７に記載のピラゾロン系メチン色素などのメチン系色素や、キサンテン系、アゾ系、アンスラキノン系、ペリレン系等の色素が挙げられ、国際公開ＷＯ２００２−００１６６７号公報、特許文献７、国際公開ＷＯ２００２−０７１５３０号公報、特開２００２−３３４７２９号公報、特開２００３−００７３５８号公報、特開２００３−０１７１４６号公報、特開２００３−０５９５４７号公報、特開２００３−０８６２５７号公報、特開２００３−１１５３３３号公報、特開２００３−１３２９６５号公報、特開２００３−１４２１７２号公報、特開２００３−１５１６４９号公報、特開２００３−１５７９１５号公報、特開２００３−２８２１６５号公報、特開２００４−０１４１７５号公報、特開２００４−０２２２２２号公報、特開２００４−０２２３８７号公報、特開２００４−２２７８２５号公報、特開２００５−００５０２６号公報、特開２００５−０１９１３０公報、特開２００５−１３５６５６号公報、特開２００６−０７９８９８号公報、特開２００６−１３４６４９号公報、国際公開ＷＯ２００６−０８２０６１号公報、特開２００８−０２１４９６号公報、国際公開ＷＯ２００９／０２００９８号公報、特開２０１０−１４６８６４号公報、国際公開ＷＯ２０１０／０２１３７８号公報、国際公開ＷＯ２００７／１０００３３号公報等に記載の色素であることが好ましく、メロシアニンや上記アクリル酸系等のメチン系色素等であることがさらに好ましい。色素を混合して用いる場合の各色素の比率には特に限定は無いが、一般的にはそれぞれの色素を少なくとも１０モル％程度以上使用することが好ましい。２種以上の色素を溶解もしくは分散した溶液を用いて半導体含有層に色素を担持させる場合、溶液中の色素合計の濃度は１種類のみ担持させる場合と同様でよい。色素を混合して使用する場合の溶媒としては後記するような溶媒が使用可能であり、使用する各色素用の溶媒は同一でも異なっていてもよい。

増感色素を担持させる方法としては、色素を溶媒に溶解した溶液又は色素を溶媒に分散した分散液に、上記半導体含有層の設けられた導電性支持体を浸漬する方法が挙げられる。溶液又は分散液中における色素の濃度は、色素の種類や溶解度によって適宜決めればよい。浸漬温度は概ね常温から溶媒の沸点迄であり、また浸漬時間は１時間から７２時間程度である。増感色素を溶解させるのに使用し得る溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、アセトニトリル、アセトン、ジメチルスルホキサイド、ジメチルホルムアミド、ｎ−プロパノール、ｔ−ブタノール、テトラヒドロフラン等が挙げられ、これらは単独又は２種以上を任意の割合で混合して用いてもよい。溶液中の増感色素の濃度は通常１×１０^−６Ｍ〜１Ｍ、好ましくは１×１０^−５Ｍ〜１×１０^−１Ｍである。この様に増感色素を半導体含有層の設けられた導電性支持体を浸漬させることにより、色素で増感された半導体含有層を有する導電性支持体が得られる。

半導体含有層に色素を担持する際、色素同士の会合を防ぐために、包接化合物の共存下で色素を担持することが効果的である。ここで用いる包接化合物としてはコール酸類等のステロイド系化合物、クラウンエーテル、シクロデキストリン、カリックスアレン、ポリエチレンオキサイドなどが挙げられるが、コール酸類を用いることが好ましく、コール酸類の中でもコール酸、デオキシコール酸、ケノデオキシコール酸、コール酸メチルエステル、コール酸ナトリウム、ウルソデオキシコール酸、リトコール酸等を用いることが好ましく、デオキシコール酸、ケノデオキシコール酸、ウルソデオキシコール酸、リトコール酸を用いることが更に好ましい。これら包摂化合物の使用形態としては、色素溶液に添加してもよく、予め包摂化合物を溶媒に溶解させた後に色素を溶解又は分散させてもよい。これら包摂化合物は２種類以上を組み合わせて用いることも可能であり、その割合は任意に選択することも可能である。また、色素を担持させた後、４−ｔ−ブチルピリジン、ピリジン、4-メチルピリジン、トリエチルアミン等のアミン化合物や、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の酸で半導体含有層を処理してもよい。処理の方法は、例えばアミン化合物又は酸を添加したエタノール溶液に増感色素を担持した半導体含有層の設けられた導電性支持体を浸す方法や、増感色素を担持した半導体含有層の設けられた導電性支持体に直接アミン化合物や酸を添加接触させ、一定時間後に有機溶媒又は水等で洗浄及び乾燥する方法等が採られる。

対向電極には、ＦＴＯ導電性ガラス等の導電性支持体の表面に、酸化還元系電解質の還元反応に触媒的に作用する白金、カーボン、ロジウム、ルテニウム等を蒸着したり、導電性微粒子前駆体を塗布、焼成したものが用いられる。

次に、前記のようにして得られた色素で増感された半導体含有層を有した導電性支持体（酸化物半導体電極）及び対向電極を有する導電性支持体を、熱硬化型光電変換素子用シール剤を用いて張り合わせる方法について説明する。まず、スペーサー（間隙制御材）を添加したシール剤を、いずれか一方の導電性支持体の導電面の周辺部に、電荷移動層の注入口を残してディスペンサー、スクリーン印刷機、インクジェット印刷機等により堰状に塗布した後、該シール剤が溶剤を含有する場合には、例えば９０℃で１８分間加熱して溶剤を蒸発させ、ついで第一と第二の導電性支持体の導電面が対面するように他方の導電性支持体を重ね合わせ、加熱してシール剤を硬化させる。ここで用いるスペーサーとしては、例えばグラスファイバー、シリカビーズ、ポリマービーズ等、さらには金パール、銀パール等の金属コーティングした微粒子等が用いられる。その直径は、目的に応じて異なるが、通常１〜１００μｍ、好ましくは１０〜４０μｍである。その使用量は、シール剤１００質量部に対し通常０．１〜１０質量部、好ましくは０．５〜５質量部、更に、好ましくは１〜２．５質量部である。シール剤の加熱硬化の条件は、通常９０〜１８０℃で１〜３時間である。尚、加熱硬化の方法としては、熱盤を２枚有する熱プレス機でサンドイッチ状に挟んで行う方法、冶具で固定した後オーブン中で行なう方法等が採用出来る。第一と第二の導電性支持体の間隙は通常１〜１００μｍ、好ましくは４〜５０μｍである。

本発明の色素増感光電変換素子は、上記のようにして貼り合わせた一対の導電性支持体の間隙に電荷移動層を注入して完成される。電荷移動層としては、酸化還元系電解質対や正孔輸送材料等を溶媒や常温溶融塩（イオン性液体）中に溶解させた溶液が用いられる。用い得る酸化還元系電解質としては、ハロゲンイオンを対イオンとするハロゲン化合物及びハロゲン分子からなるハロゲン酸化還元系電解質、フェロシアン酸塩−フェリシアン酸塩やフェロセン−フェリシニウムイオン、コバルト錯体などの金属錯体等の金属酸化還元系電解質、アルキルチオール−アルキルジスルフィド、ビオロゲン色素、ヒドロキノン−キノン等の有機酸化還元系電解質などをあげることができるが、ハロゲン酸化還元系電解質が好ましい。ハロゲン酸化還元系電解質におけるハロゲン分子としては、例えばヨウ素分子や臭素分子等があげられ、ヨウ素分子が好ましい。また、ハロゲン化合物としては、例えばＬｉＩ、ＮａＩ、ＫＩ、ＣｓＩ、ＣａＩ_２、ＣｕＩ等のハロゲン化金属塩あるいはテトラアルキルアンモニウムヨーダイド、イミダゾリウムヨーダイド、１−メチル−３−プロピルイミダゾリウムヨーダイド、１−メチル−３−エチルイミダゾリウムヨーダイド、１−メチル−３−ブチルイミダゾリウムヨーダイド、１−メチル−３−ヘキシルイミダゾリウムヨーダイド等の１−メチル−３−アルキルイミダゾリウムヨーダイド類、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムヨーダイド、１，２−ジメチル−３−ブチルイミダゾリウムヨーダイド、１，２−ジメチル−３−ヘキシルイミダゾリウムヨーダイド等の、１，２−ジメチル−３−アルキルイミダゾリウムヨーダイド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルピロリジニウムヨーダイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルピロリジニウムヨーダイド等のＮ，Ｎ−ジアルキルピロリジニウムヨーダイド類、ピリジニウムヨーダイドなどのハロゲンの有機４級アンモニウム塩等があげられるが、ヨウ素イオンを対イオンとする塩類が好ましい。ヨウ素イオンを対イオンとする塩類化合物の好ましい例としては、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化トリメチルアンモニウム塩、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−イミダゾリウムヨーダイド等が挙げられる。

また、電荷移動層が酸化還元系電解質を含む溶液の形で構成されている場合、その溶媒としては電気化学的に不活性なものが用いられる。用いうる溶媒の例としては、例えばアセトニトリル、バレロニトリル、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、３−メトキシプロピオニトリル、３−ブトキシプロピオニトリル、メトキシアセトニトリル、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメトキシエタン、ジエチルカーボネート、ジエチルエーテル、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、１、２−ジメトキシエタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、１、３−ジオキソラン、メチルフォルメート、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メトキシオキサジリジン−２−オン、γ−ブチロラクトン、スルフォラン、テトラヒドロフラン、水等が挙げられ、これらの中で、アセトニトリル、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、３−メトキシプロピオニトリル、メトキシアセトニトリル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、３−メチルオキサゾリジン−２−オン、γ−ブチロラクトン等が好ましい例として挙げられる。これらは単独又は２種以上を併用してもよい。電荷移動層中の酸化還元系電解質の濃度は通常０．０１Ｍ〜１０Ｍ、好ましくは０．１Ｍ〜５Ｍ、更に好ましくは０．５Ｍ〜３Ｍである。

また、電荷移動層が酸化還元系電解質を含む組成物の形で構成されている場合、溶媒として揮発性の低い常温溶融塩（イオン性液体）を用いることも電荷移動層の漏洩を防ぎ、太陽電池の耐久性及び信頼性を向上させる観点から好ましい。用い得る常温溶融塩の具体例としては、１−メチル−３−アルキルイミダゾリウムヨーダイド、ビニルイミダゾリウムテトラフルオライド、１−エチルイミダゾールスルフォネート、アルキルイミダゾリウムトリフルオロメチルスルホニルイミド、１−メチルピロリンジニウムヨーダイド等が挙げられる。また、太陽電池の耐久性向上の目的で電荷移動層に低分子ゲル化剤を溶解させて増粘させたり、反応性成分を併用した電荷移動層を注入後に反応させてゲル化させたり、あらかじめ高分子化したゲルに電荷移動層をしみこませる方法、酸化チタン等無機微粒子と混合して用いる方法等により、ゲル又はゲル状電解質とすることが可能である。

また、この電荷移動層には、色素増感型光電変換素子及び色素増感太陽電池の変換効率、開放電圧、短絡電流、フィルファクター、耐湿信頼性及び耐久性等電池性能を向上させるため、添加剤を加えることも好ましい。添加剤としては例えば、ｔ−ブチルピリジン、１−メチルベンズイミダゾール、１−メチルイミダゾリウム等のアミン類、酢酸、プロピオン酸、リン酸等酸類、等が挙げられる。これらは単独又は２種以上を併用し添加してもよい。

また、電荷移動層を固体化する場合は、酸化還元系電解質の代わりに正孔輸送材料やＰ型半導体を用いることもできる。用い得る正孔輸送材料としてはアミン誘導体やポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの導電性高分子などが挙げられ、また、Ｐ型半導体としてはＣｕＩ、ＣｕＳＣＮ等が挙げられ、ヨウ素を用いない色素増感太陽電池を作製する場合にはこれらヨウ素フリー電荷移動層を用いることが可能である。

一対の導電性支持体の間隙に電荷移動層を注入した後、電荷移動層の注入口を封止することにより光電変換素子を得ることができる。電荷移動層の注入口を封止する封止剤（封口剤）としてはイソブチレン樹脂、エポキシ樹脂、ＵＶ硬化性のアクリル樹脂等が使用でき、電荷移動層が注入口から漏洩するのを防ぐ効果を持つものであれば前述に限らず用いることが可能である。封止剤としては、市販の封止剤を用いることが可能であり、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂であることが好ましい。

一方、光電変換素子の別の作製法として、特許文献８に記載のように、いずれか一方の導電性支持体の導電面の周辺部に、電荷移動層注入口を設けることなくシール剤の堰を設け、次いで前記同様の電荷移動層をシール剤の堰の内側に配し、減圧下において第一と第二の導電性支持体の導電面が対面するように他方の導電性支持体を載置し貼り合わせると同時にギャップ形成を行い、その後シール剤を硬化させることにより光電変換素子を得るという方法も採用出来る。

図１は本発明の色素増感光電変換素子の構造を説明する要部断面模式図であって、１は内側が導電性を有する導電性支持体、２は色素によって増感された半導体含有層、１と２を併せて酸化物半導体電極という。３は導電性支持体の内側の導電面の上に白金等を配した対向電極、４は一対の導電性支持体の間隙に配されている電荷移動層、５は本発明の光電変換素子に用いられるシール剤、６はガラス基板である。
このようにして得られた光電変換素子の正極と負極にリード線を配し、その間に抵抗成分を挿入する事により本発明の太陽電池を得ることが出来る。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、平面的に配置された複数の色素増感太陽電池が、電気的に直列に接続された大面積の色素増感太陽電池モジュールの作製にも適用できる。大面積化した色素増感太陽電池のモジュール構造はいくつかの種類が知られているが、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤はいずれの種類の構造にも使用可能で有り、例えば国際公開ＷＯ２００９／０５７７０４等に記載の直列接続構造を有する色素増感太陽電池モジュールにも好ましく使用することができる。

本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、光電変換素子、殊に色素増感型光電変換素子の電荷移動層の漏洩を防ぐことによって耐久性を向上させることが可能であり、また製造工程における電荷移動層に対する汚染性が極めて低く、基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度、室温での使用可能時間（ポットライフ）、低温硬化性に優れる。従って、該シール剤を用いて得られた本発明の光電変換素子は、電荷移動層の汚染による作動不良が無く、接着性、耐湿信頼性に優れたものであり、該光電変換素子を用いて調製される太陽電池は、効率的製造が可能で、その耐久性及び信頼性にも優れていることが特長である。

以下に実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

シール剤作製例１
エポキシ樹脂（ａ）としてＲＥ−３１０Ｓ（商品名、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、日本化薬（株）製、エポキシ当量１８５ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素量３０ｐｐｍ）を７０質量部、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ（商品名、トリスフェノールメタンノボラック型エポキシ樹脂、日本化薬（株）製、エポキシ当量１６５ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素量３９０ｐｐｍ）を２０質量部及びビスフェノールＡ型固形エポキシ樹脂（エポキシ当量６３０ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素５５０ｐｐｍ）を１０質量部；熱硬化剤（ｂ）としてＰＮ−１５２（商品名、フェノールノボラック樹脂、日本化薬（株）製、活性水素当量１００ｇ／ｅｑ．、軟化点５０℃）を７．５質量部；シランカップリング剤（ｄ）としてエポキシシランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を１質量部を、溶剤としてのエチレングリコールジブチルエーテル３０質量部に加熱溶解させた。この溶解液を室温まで冷却後、さらに、熱硬化剤（ｂ）としてイソフタル酸ジヒドラジドのジェットミルで微粉砕したもの（融点２２４℃、活性水素当量４８．５ｇ／ｅｑ．、平均粒径１．７μｍ、最大粒径７μｍ）を１９質量部、充填剤（ｃ）として平均粒径が０．５μｍ以下のアルミナを９０質量部及びフュームドシリカを３．５質量部を、添加して３本ロールにより混合分散し、ここに硬化促進剤として平均粒径が３μｍ以下の２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物の５質量部を添加して熱硬化型光電変換素子用シール剤（１）を得た。このシール剤（１）の２５℃における粘度は５０Ｐａ・ｓであった（粘度はＥ型粘度計で測定した。）。

シール剤作製例２
エポキシ樹脂（ａ）としてＲＥ−３１０Ｓを７０質量部、ＥＰＰＮ−５０１Ｈを２０質量部及びビスフェノールＡ型固形エポキシ樹脂（エポキシ当量６３０ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素５５０ｐｐｍ）を１０質量部；熱硬化剤（ｂ）としてＰＮ−１５２を７．５質量部；シランカップリング剤（ｄ）としてエポキシシランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を１質量部を、溶剤としてのエチレングリコールジブチルエーテル３０質量部に加熱溶解させた。この溶解液を室温まで冷却後、さらに熱硬化剤（ｂ）としてセバチン酸ジヒドラジドのジェットミルで微粉砕したもの（融点１８５℃、活性水素当量５７．６ｇ／ｅｑ．、平均粒径１．７μｍ、最大粒径７μｍ）を２２．５質量部、充填剤（ｃ）として平均粒径が０．５μｍ以下のアルミナを９０質量部及びフュームドシリカ３．５質量部を添加して３本ロールにより混合分散し、ここに硬化促進剤として平均粒径が３μｍ以下の２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物の５質量部を添加して熱硬化型光電変換素子用シール剤（２）を得た。このシール剤（２）の２５℃における粘度は４０Ｐａ・ｓであった（粘度はＥ型粘度計で測定した。）。

シール剤作製例３
エポキシ樹脂（ａ）としてＲＥ−３１０Ｓを７０質量部、ＥＰＰＮ−５０１Ｈを２０質量部及びビスフェノールＡ型固形エポキシ樹脂（エポキシ当量６３０ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素５５０ｐｐｍ）を１０質量部；熱硬化剤（ｂ）としてＰＮ−１５２を７．５質量部；シランカップリング剤（ｄ）としてエポキシシランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を１質量部を、溶剤としてのエチレングリコールジブチルエーテル３０質量部に加熱溶解させた。この溶解液を室温まで冷却後、さらに熱硬化剤（ｂ）としてイソフタル酸ジヒドラジドのジェットミルで微粉砕したもの（融点２２４℃、活性水素当量４８．５ｇ／ｅｑ、平均粒径１．７μｍ、最大粒径７μｍ）を１９質量部、充填剤（ｃ）として平均粒径が０．８μｍ以下のシリカを９０質量部及びフュームドシリカを３．５質量部を添加して３本ロールにより混合分散し、ここに硬化促進剤として平均粒径が３μｍ以下の２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物の５質量部を添加して熱硬化型光電変換素子用シール剤（３）を得た。このシール剤（３）の２５℃における粘度は６５Ｐａ・ｓであった（粘度はＥ型粘度計で測定した。）。

シール剤作製例４
エポキシ樹脂（ａ）としてＲＥ−３１０Ｓを７０質量部、ＥＰＰＮ−５０１Ｈを２０質量部及びビスフェノールＡ型固形エポキシ樹脂（エポキシ当量６３０ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素５５０ｐｐｍ）を１０質量部；熱硬化剤（ｂ）としてＰＮ−１５２を３５．７質量部；シランカップリング剤（ｄ）としてエポキシシランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を１質量部を溶剤としてのエチレングリコールジブチルエーテル３０質量部に加熱溶解させた。この溶解液を室温まで冷却後、さらに充填剤（ｃ）として平均粒径が０．５μｍ以下のアルミナを９０質量部及びフュームドシリカを３．５質量部を添加して３本ロールにより混合分散し、ここに硬化促進剤として平均粒径が３μｍ以下の４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物の５質量部を添加して熱硬化型光電変換素子用シール剤（４）を得た。このシール剤（４）の２５℃における粘度は４３Ｐａ・ｓであった（粘度はＥ型粘度計で測定した。）。

シール剤作製例５
エポキシ樹脂（ａ）としてＲＥ−３１０Ｓを７０質量部、ＥＰＰＮ−５０１Ｈを２０質量部及びビスフェノールＡ型固形エポキシ樹脂（エポキシ当量６３０ｇ／ｅｑ．、加水分解性塩素５５０ｐｐｍ）を１０質量部、熱硬化剤（ｂ）としてＰＮ−１５２を７．５質量部、シランカップリング剤（ｄ）としてエポキシシランカップリング剤（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）を１質量部を溶剤としてのエチレングリコールジブチルエーテル３０質量部に加熱溶解させた。この溶解液を室温まで冷却後、さらに熱硬化剤（ｂ）としてコハク酸ジヒドラジドのジェットミルで微粉砕したもの（融点１４７℃、活性水素当量３６．５ｇ／ｅｑ、平均粒径１．７μｍ、最大粒径７μｍ）を１４．３質量部、充填剤（ｃ）として平均粒径が０．８μｍ以下のシリカを９０質量部及びフュームドシリカを３．５質量部を、添加して３本ロールにより混合分散し、ここに硬化促進剤として平均粒径が３μｍ以下の２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物の５質量部を添加して熱硬化型光電変換素子用シール剤（５）を得た。このシール剤（５）の２５℃における粘度は６０Ｐａ・ｓであった（粘度はＥ型粘度計で測定した。）。

評価試験１
次に、シール剤作製例１乃至５で得られた各シール剤（シール剤（１）乃至（５））について、接着強度、プレッシャークッカー（ＰＣＴ）試験後の接着強度、膨潤率、吸湿率を測定した。結果を表１に示した。

表１から明らかなように、シール剤（１）乃至（３）は、膨潤率においてシール剤（４）より優れていたことがわかった。また、シール剤（１）乃至（３）は、接着強度、ＰＣＴ試験後の接着強度及び吸湿率（低吸湿性）においてシール剤（５）より優れた性能を有している。すなわち、本発明の光電変換素子に用いられるシール剤は、従来のシール剤より優れた耐湿信頼性を有していた事がわかる。なお、各テストは下記の方法で実施した。

接着強度
各シール剤１００質量部にスペーサーとして直径２０μｍのグラスファイバー１質量部を添加して混合撹拌を行った。このシール剤を５０ｍｍ×５０ｍｍの導電性支持体（ＦＴＯガラス基板）上にディスペンサーで塗布し、ホットプレートによる加熱で溶剤を揮発させた後、導電性支持体上のシール剤上に２ｍｍ×２ｍｍのガラス片を貼り合わせ１５０℃、１時間の条件で硬化させ、得られた試験片のせん断接着強度を測定した。

ＰＣＴ試験後の接着強度
接着強度の測定に用いたのと同じ方法で作製した試験片について、１２１℃、２気圧、湿度１００％の条件で１２時間プレシャークッカーテスト（ＰＣＴ）を行い、せん断接着強度を測定した。

膨潤率
各シール剤を、ポリイミドフィルム上に、アプリケータを用いて塗布し、乾燥機中で溶剤を乾燥した後、ホットプレート上で１５０℃、１時間の条件で硬化させ、ポリイミドフィルムを剥離することで各シール剤のフィルム状サンプルを得た。このフィルムを３ｃｍ×３ｃｍの大きさに切り出し、８５℃の３−ブトキシプロピオニトリルに２時間浸漬させた。浸漬前後の質量から次式に基づき膨潤率を算出した。
膨潤率［％］＝（浸漬後の質量−浸漬前の質量）／浸漬前の質量×１００

吸湿率
膨潤性の測定に用いたのと同じ方法で作製したフィルム状サンプルを３ｃｍ×３ｃｍの大きさに切り出し、６５℃、９０％ＲＨの恒温恒湿槽中で１２時間保持し、吸湿させた。吸湿前後の質量の増分から次式に基づき吸湿率を算出した。
吸湿率［％］＝（吸湿後の質量−吸湿前の質量）／吸湿前の質量×１００

実施例１
光電変換素子の例（図１）に示すように、導電性支持体であるＦＴＯ導電性ガラス支持体の導電面上に、ＴｉＯ_２微粒子（平均粒子径２０ｎｍ）をターピネオールでペースト状にしたものをスクリーン印刷機で塗布して、４５０℃で３０分間焼成し、半導体含有層（膜厚１０μｍ 短軸幅５ｍｍ）を有する導電性支持体を形成した。式（１）で示される色素を、アセトニトリルとｔ−ブチルアルコールの１：１混合溶媒に３．２×１０^−４Ｍの濃度で溶解し、この色素溶液に前記で得られた半導体含有層の設けられた導電性支持体を室温で４８時間浸漬して酸化物半導体電極を作製した。つぎに、同じくＦＴＯ導電性ガラス支持体の導電面上にＰｔを５０Å蒸着させて対向電極を作製した。

次に、シール剤作製例１で得られたシール剤（１）にスペーサーとして金パール（パール径２０μｍ）を２．５質量％添加し、混合撹拌した。このシール剤を対向電極の周縁に、電荷移動層の注入口を残すようにスクリーン印刷機を用いて塗布した後、温風乾燥機で９０℃、１８分間加熱し、溶剤を除去した。その後、酸化物半導体電極を、対向電極の導電面と半導体含有層とが対面するようにシール剤上に重ね合わせ、熱プレス機を用いで２．５ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で、１５０℃で６０分間硬化させることにより両導電性支持体を貼り合わせたセルを得た。

次に、ヨウ素系の電荷移動層（ヨウ素／ヨウ化リチウム／１−メチル−３−プロピルイミダゾリウムヨーダイド／１−メチルベンズイミダゾールをそれぞれ０．１Ｍ／０．１Ｍ／１．２Ｍ／０．５Ｍとなるように３−ブトキシプロキオニトリルに溶解）を前記で得られたセルの注入口からセル内に充填した後、注入口をＵＶ硬化性アクリル系樹脂で封止することにより本発明の光電変換素子（素子１）を得た。

実施例２
実施例１において、シール剤（１）をシール剤作製例２のシール剤（２）に変更したこと以外は実施例１と同様にして本発明の光電変換素子（素子２）を得た。

実施例３
実施例１において、シール剤（１）をシール剤作製例３のシール剤（３）に変更したこと以外は実施例１と同様にして本発明の光電変換素子（素子３）を得た。

比較例１
実施例１において、シール剤（１）をシール剤作製例４のシール剤（４）に変更したこと以外は実施例１と同様にして比較用の光電変換素子（素子４）を得た。

評価試験２
光電変換効率測定
実施例１乃至３及び比較例１で得られた各光電変換素子について、両極にリード線を接続し、電圧計、電流計を配置し本発明の太陽電池を得た。各太陽電池につき、光電変換能の測定を行った。光源は１ｋＷキセノンランプ（ＷＡＣＯＭ製）を用いて、ＡＭ１．５フィルターを通して１００ｍＷ／ｃｍ^２とした。短絡電流、解放電圧、変換効率をソーラシミュレータ（ＷＸＳ−１５５Ｓ−１０、ＷＡＣＯＭ製）を用いて測定した。結果は表２に示した。

表２から明らかなように、実施例１乃至３で得られた光電変換素子（素子１乃至３）は、従来のシール剤を用いて得られた光電変換素子（素子４）と同等以上の光電変換効率を発現しており、本発明のシール剤が光電変換素子の構成部材としても優れていることが判る。

評価試験３
光電変換素子の耐湿信頼性試験
シール剤作製例１乃至４で得られた各シール剤に、スペーサーとして金パール（パール径２０μｍ）を２．５質量％添加し、混合撹拌した。厚さ１．１ｍｍのガラス基板の周縁に、これらシール剤を光電変換素子と同様の形状で、電荷移動層用の注入口を残すようにスクリーン印刷機を用いてそれぞれ塗布した後、温風乾燥機で９０℃１８分間加熱し、溶剤を除去した。その後、別のガラス基板をシール剤上に重ね合わせ、熱プレス機を用いて２．５ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で、１５０℃で６０分間硬化させることにより、光電変換素子と同様の形状を有する模擬光電変換素子のセルを作製した。
次に、ヨウ素系の電荷移動層（ヨウ素／ヨウ化リチウム／１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムヨーダイド／１−メチルベンズイミダゾールをそれぞれ０．１Ｍ／０．１Ｍ／１．２Ｍ／０．５Ｍとなるように３−ブトキシプロキオニトリルに溶解）を前記で得られた模擬光電変換素子のセルの注入口からセル内に充填した後、注入口をＵＶ硬化性アクリル系樹脂で封止することにより、耐湿信頼性試験用の模擬光電変換素子をそれぞれ得た。
これら電荷移動層を封入した模擬光電変換素子と実施例１乃至３及び比較例１の素子１乃至４のサンプルを２つずつ作製し、１つは、８５℃８５％ＲＨの恒温恒湿槽中で保持し、もう１つは１２０℃、２気圧、湿度１００％の条件下（ＰＣＴ）で保持し、電荷移動層の漏れ具合を観察することで素子の耐湿信頼性を評価した。模擬光電変換素子での結果を表３に、光電変換素子での結果を表４に示した。

表３及び表４から明らかなように、本発明の模擬光電変換素子及び素子１乃至３は、比較用の模擬光電変換素子及び素子４よりも耐湿信頼性において優れていることがわかった。すなわち、本発明の光電変換素子は、従来のシール剤を用いた光電変換素子と同等以上の光電変換特性を維持したまま、耐湿信頼性に優れる事がわかった。

評価試験４
光電変換素子の耐湿信頼性試験２
表５に本発明の光電変換素子（素子２及び素子３）と比較用の光電変換素子（素子４）の温度８５℃湿度８５％耐湿信頼性試験結果（変換効率維持率の経時変化）を示す。
なお、素子２、素子３及び素子４に用いたシール剤のシール幅は、いずれも熱硬化後１．２ｍｍになるよう配置した。表５中の値は、試験開始時の変換効率を１とした場合の各時間における変換効率を表わす。

表５から明らかなように、温度８５℃湿度８５％条件下では、比較用の光電変換素子（素子４）が、１９２時間経過により、変換効率維持率が０．１５（変換効率で、０ｈを１００％とした場合、１５％を維持）であったのに対し、本発明の素子２では３００時間経過しても変換効率維持率は０．３４８であり、本発明の素子３においては３１２時間経過しても変換効率維持率は０．９７であった。すなわち、本発明の素子２及び素子３は比較用の素子４と比較して変換効率維持率が高く、優れた耐久性及び信頼性を有することが明らかとなった。また、３００時間以上経過時の素子２と素子３の変換効率維持率を比較した場合、素子３は素子２の２．７８倍以上の変換効率維持率を示していることから、素子３に用いている熱硬化型光電変換素子用シール剤（３）が、熱硬化剤（ｂ）として、芳香族ヒドラジド及びフェノールノボラック樹脂を用いることでシール剤及び光電変換素子に高い電解液漏洩防止性が付与されたためと考えられる。

本発明の光電変換素子に用いられる熱硬化型光電変換素子用シール剤は、光電変換素子の製造工程における電荷移動層に対する汚染性が極めて低く、基板への塗布作業性、貼り合わせ性、接着強度、室温での使用可能時間（ポットライフ）、低温硬化性に優れる。このようなシール剤を用いて得られた本発明の光電変換素子は、電荷移動層の汚染による作動不良が無く、接着性、耐湿信頼性に優れ、高い耐久性及び信頼性を有したものである。

１ 導電性支持体
２ 色素によって増感された半導体含有層
３ 対向電極
４ 電荷移動層
５ シール剤
６ ガラス基板

Claims (10)

1. 半導体含有層を有する第一の導電性支持体、該半導体含有層と対向電極とが所定の間隔で対向する位置に設けられた対向電極を有する第二の導電性支持体、第一及び第二の導電性支持体の間隙に挟持された電荷移動層、並びに電荷移動層をシールするために第一及び第二の導電性支持体の周辺部に設けられたシール剤を有する光電変換素子であって、
   該シール剤がエポキシ樹脂（ａ）と、芳香族ヒドラジド類及び炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類からなる群から選ばれる少なくとも一種、並びにフェノールノボラック樹脂を含む熱硬化剤（ｂ）とを含有する熱硬化型光電子変換素子用シール剤である光電変換素子。
2. エポキシ樹脂（ａ）中のエポキシ基１当量に対する熱硬化剤（ｂ）中の活性水素が０．８〜３．０当量である請求項１に記載の光電子変換素子。
3. 熱硬化剤（ｂ）に含まれる芳香族ヒドラジド類及び炭素数６以上の脂肪族ヒドラジド類の少なくとも一種は、分子中に２個以上のヒドラジド基を有する請求項１又は２に記載の光電子変換素子。
4. 熱硬化剤（ｂ）が芳香族ヒドラジド類を含む請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光電変換素子。
5. 熱硬化型光電変換素子用シール剤が、充填剤（ｃ）を更に含有する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光電変換素子。
6. 充填剤（ｃ）が、含水硅酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、結晶シリカ及び溶融シリカからなる群から選ばれる１種又は２種以上からなり、且つ充填剤（ｃ）の平均粒径が１５μｍ以下である請求項５に記載の光電変換素子。
7. 熱硬化型光電変換素子用シール剤が、シランカップリング剤（ｄ）を更に含有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光電変換素子。
8. シランカップリング剤（ｄ）が、グリシジルエトキシシラン類又はグリシジルメトキシシラン類である請求項７に記載の光電変換素子。
9. シランカップリング剤（ｄ）が、グリシジルメトキシシラン類である請求項８に記載の光電変換素子。
10. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光電変換素子を有してなる太陽電池。

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