JP5580561B2 - バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は大面積のバリアフィルムを高い生産性で供給することを目的としたものであって、スパッタリングやCVD法等の方法を用いずに無機層を形成し、かつ、高いバリア性を有するバリア性積層体および、該バリア性積層体を用いたバリアフィルムを提供することを目的とする。
(1)少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機層を有し、前記有機層は、炭素環状骨格を有する樹脂を含み、前記無機層はプラズマアシスト蒸着法によって形成されることを特徴とする、バリア性積層体。
(2)前記有機層に含まれる樹脂が、紫外線硬化性の樹脂である、(1)に記載のバリア性積層体。
(3)前記有機層に含まれる樹脂が、炭素環状骨格を有する(メタ)アクリレートを硬化させてなる樹脂である、(1)または(2)に記載のバリア性積層体。
(4)前記無機層が、ケイ素および/またはアルミニウムを含有する、(1)〜(3)のいずれか1項に記載のバリア性積層体。
(5)前記無機層成膜時に用いるプラズマが、アルゴンガス、酸素ガス、または、その混合ガスである、(1)〜(4)のいずれか1項に記載のバリア性積層体。
(6)前記バリア性積層体は、少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機層とが、交互に積層している、(1)〜(5)のいずれか1項に記載のバリア性積層体。
(7)前記有機層に含まれる樹脂が、芳香環を有する(メタ)アクリレートを硬化させてなる樹脂である、(1)〜(6)のいずれか1項に記載のバリア性積層体。
(8)前記有機層に含まれる樹脂が、多官能(メタ)アクリレートを硬化させてなる樹脂である、(1)〜(7)のいずれか1項に記載のバリア性積層体。
(9)基材フィルム上に、(1)〜(8)のいずれか1項に記載のバリア性積層体を設けたガスバリアフィルム。
(10)(9)に記載のガスバリアフィルムをバリア性積層体側を内側にして2枚貼り合せた構造を有する、複合フィルム。
(11)(9)に記載のガスバリアフィルムまたは(10)に記載の複合フィルムを用いた太陽電池用部材。
(12)少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機層を有し、前記有機層は、炭素環状骨格を有する樹脂を含むバリア性積層体の製造方法であって、前記無機層をプラズマアシスト蒸着法によって形成することを含む、バリア性積層体の製造方法。
(13)前記有機層を、芳香環を有する(メタ)アクリレートを含む重合性組成物を硬化させて形成することを含む、(12)に記載のバリア性積層体の製造方法。
本発明のバリア性積層体は、少なくとも1層の有機層と少なくとも1層の無機層を含むものであり、好ましくは有機層の表面に無機層を設けた構造を有するものであり、より好ましくは、少なくとも2層の有機層と少なくとも2層の無機層とが交互に積層した構造を有するものである。
バリア性積層体を構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には2層〜30層が好ましく、3層〜20層がさらに好ましい。また、有機層および無機層以外の他の構成層を含んでいてもよい。
本発明における有機層は、炭素環状骨格を有する樹脂を含む。炭素環状骨格としては、ベンゼン環骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、ビナフチル骨格、アズレン骨格、ビフェニレン骨格、アセナフチレン骨格、フェナントレン骨格、アントラセン骨格、トリフェニレン骨格、ピレン骨格、クリセン骨格、ナフタセン骨格、ピセン骨格、ペリレン骨格、ベンゾピレン骨格が好ましい例として挙げられる。本発明における、炭素環状骨格は、1つまたは2つ以上の芳香環を有することが好ましく、芳香環を2つ以上有する重合性化合物を硬化させてなる樹脂がより好ましい。1つまたは2つ以上の芳香環を有する炭素環状骨格を有する樹脂を採用することにより、プラズマプロセス中でもより分解されにくい層を形成することができる。この結果、バリア性が良い向上する傾向にある。
また、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、他の重合性モノマーを含んでいてもよい。他の重合性モノマーとしては、炭素環状骨格を有さない(メタ)アクリレートが挙げられる。
本発明において、光重合開始剤を用いる場合、重合性組成物中の含量は、重合性化合物の合計量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5〜2モル%であることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としてはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社から市販されているイルガキュア(Irgacure)シリーズ(例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など)、ダロキュア(Darocure)シリーズ(例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など)、ランベルティ(Lamberti)社から市販されているエザキュア(Ezacure)シリーズ(例えば、エザキュアTZM、エザキュアTZT、エザキュアKTO46など)が挙げられる。
有機層の形成方法としては、特に定めるものではないが、例えば、溶液塗布法や真空成膜法により形成することができる。溶液塗布法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第2681294号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコート法により塗布することができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、蒸着、プラズマCVD等の成膜方法が好ましい。本発明においてはポリマーを溶液塗布しても良いし、特開2000−323273号公報、特開2004−25732号公報に開示されているような無機物を含有するハイブリッドコーティング法を用いてもよい。
また、有機層は先に記載したとおり平滑であることが好ましい。有機層の平滑性は1μm角の平均粗さ(Ra値)として1nm以下が好ましく、0.5nm以下であることがより好ましい。有機層の表面にはパーティクル等の異物、突起が無いことが要求される。このため、有機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。
有機層の硬度は高いほうが好ましい。有機層の硬度が高いと、無機層が平滑に成膜されその結果としてバリア能が向上することがわかっている。有機層の硬度はナノインデンテーション法に基づく微小硬度として表すことができる。有機層の微小硬度は100N/mm以上であることが好ましく、150N/mm以上であることがより好ましい。
無機層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。本発明では、無機層は、プラズマアシスト蒸着法によって、形成される。ここで、プラズマアシスト蒸着法とは、真空蒸着中に、プラズマにより蒸着材料をイオン化ながら蒸着する、あるいは別に設けたイオン源から気体イオンを照射する方法をいう。
通常の真空蒸着は、スパッタリングなどにおける薄膜と比べて飛来する粒子のもつエネルギーが小さく、膜の強度や密度において有利ではない。一方、プラズマアシストを行うことにより、蒸着物質がエネルギーを得るため、真空蒸着においても強度、密度の高い薄膜を形成することができる。また、プラズマ中の励起種は、反応性に富んでいるため、酸素、窒素、アセチレンなどのガスを導入することで蒸発原を任意に酸化、窒化、炭化させた薄膜を形成させることができる。
このような方法によって、無機層を設けることにより、スパッタリングやプラズマCVD法よりも早く製膜することができる。本発明では、有機層に、炭素環状骨格を有する樹脂を用い、プラズマによるダメージを受けにくくするとともに、プラズマアシストを用いることにより、緻密な無機層を形成し、バリア性を高く保つことに成功したものである。
本発明では、プラズマアシストは、イオン電流密度30〜300μA/cm2で行うことが好ましく、60〜120μA/cm2で行うことがより好ましい。また、イオンアシスト電圧は、100〜5000Vであることが好ましく、200〜1000Vであることがより好ましい。
プラズマアシストに用いるガスとしては、アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガス、アセチレンガス等が挙げられる。また、これらの混合ガスであっても良い。本発明では、アルゴンガス、酸素ガス、またはその混合ガスであることが好ましい。
本発明により形成される無機層の平滑性は、1μm角の平均粗さ(Ra値)として1nm未満であることが好ましく、0.5nm以下がより好ましい。
無機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス10000以下が好ましく、クラス1000以下がより好ましい。
有機層と無機層の積層は、所望の層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し製膜することにより行うことができる。バリア性積層体を作製する間、途中で大気圧に戻すことなく、常に1000Pa以下の真空中で有機層と無機層を積層することが特に好ましい。圧力は100Pa以下であることがより好ましく、50Pa以下であることがより好ましく、20Pa以下であることがさらに好ましい。
本発明のデバイスにおいては、バリア性積層体上、もしくはその他の位置に、機能層を有していても良い。機能層については、特開2006−289627号公報の段落番号0036〜0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、耐溶剤層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
本発明のバリア性積層体は、通常、支持体の上に設けるが、この支持体を選択することによって、様々な用途に用いることができる。支持体には、基材フィルムのほか、各種デバイス等が含まれる。好ましくは、本発明のバリア性積層体はガスバリアフィルムのバリア層として用いることができる。以下、これらについて詳細に説明する。
ガスバリアフィルムは、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成されたバリア性積層体とを有する。図1は、本発明のガスバリアフィルムの一例を示したものであって、基材フィルム1の上に、有機層2と無機層3がそれぞれ一層ずつからなるバリア性積層体が積層されている。従来のガスバリアフィルムでは、無機層をスパッタリングやプラズマCVD法で作成されていたため、その下地層である有機層がダメージを受けるケースが認められたが、本発明では、プラズマアシスト蒸着法を採用することにより、ダメージを受けにくくすることができる。また、プラズマアシスト蒸着法を用いることにより、緻密な無機層を形成することができる。
ガスバリアフィルムは、さらに、図2に示すように、基材フィルム1の上に、有機層2と無機層3がそれぞれ複数層設けられていてもよい。さらに、図示していないが、基材フィルムの両面に有機層及び無機層が設けられていてもよい。また、図2とは逆に、基材フィルム側から無機層、有機層、無機層、有機層の順に積層していてもよい。この場合、有機層の表面に設ける無機層をプラズマアシスト蒸着法で形成することが好ましい。
ガスバリアフィルムを構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には2層〜30層が好ましく、3層〜20層がさらに好ましい。
ガスバリアフィルムはバリア性積層体、基材フィルム以外の構成成分(例えば、易接着層等の機能性層)を有しても良い。機能性層はバリア性積層体の上、バリア性積層体と基材フィルムの間、基材フィルム上のバリア性積層体が設置されていない側(裏面)のいずれに設置してもよい。
本発明におけるガスバリアフィルムは、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等のバリア性積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
本発明では、上記ガスバリアフィルムの2枚を、バリア性積層体を内側にして2枚貼り合わせた構造を有する複合フィルムとして用いてもよい。2枚のガスバリアフィルムを貼り合せることにより、バリア性をより高めることができる。図3は、2枚のガスバリアフィルムを貼り合せた例を示したものであって、基材フィルム1の上に、有機層2および無機層3が設けられたガスバリアフィルムが、接着層4を介して貼り合わされている。さらに、このような複合フィルムに、ガスバリアフィルムを貼り合せることもできる。
接着層は、接着剤を主成分とする層であり、通常、接着層の70重量%以上が、接着剤であることをいい、接着層の80〜90重量%が接着剤であることが好ましい。接着剤としては、公知の接着剤が広く採用できるが、好ましくは、ウレタン系接着剤である。ここでウレタン系接着剤としては、熱硬化型、紫外線硬化型が挙げられる。バリアフィルムが紫外線を吸収するものである場合、熱硬化型が好ましい。熱硬化型の中には1液型、2液混合型があるが、本発明ではいずれでも好ましく用いられる。本発明においては硬化後に無色透明となる接着剤が好ましい。市販品としては、大日精化製セイカボンドEシリーズ、DIC製、ディックドライLXシリーズ等が挙げられる。
さらに、接着剤にシランカップリング剤を添加することも好ましい。シランカップリング剤を添加することにより、接着力をより効果的に高めることができる。
本発明のバリア性積層体、ガスバリアフィルムおよび複合フィルムは空気中の化学成分(酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等)によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。特に本発明のバリア性積層体、ガスバリアフィルムおよび複合フィルムは、好ましくは、電子ペーパーおよび太陽電池のシートに用いられ、より好ましくは、太陽電池のシートに用いられる。
本発明のガスバリアフィルムは、太陽電池用のシートとして用いることができる。太陽電池素子は通常、一対の基板の間に、太陽電池として働くアクテイブ部分が設けられた構成をしているが、この一対の基板の一方または両方として本発明のガスバリアフィルムまたは複合フィルムを用いることができる。
本発明のガスバリアフィルムが好ましく用いられる太陽電池素子としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池素子、多結晶シリコン系太陽電池素子、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池素子、ガリウムヒ素(GaAs)やインジウム燐(InP)等のIII−V族化合物半導体太陽電池素子、カドミウムテルル(CdTe)等のII−VI族化合物半導体太陽電池素子、銅/インジウム/セレン系(いわゆる、CIS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン系(いわゆる、CIGS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系(いわゆる、CIGSS系)等のI−III−VI族化合物半導体太陽電池素子、色素増感型太陽電池素子、有機太陽電池素子等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池素子が、銅/インジウム/セレン系(いわゆる、CIS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン系(いわゆる、CIGS系)、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系(いわゆる、CIGSS系)等のI−III−VI族化合物半導体太陽電池素子であることが好ましい。
本発明のガスバリアフィルムは、電子ペーパーにも用いることができる。電子ペーパーは反射型電子ディスプレイであり、高精細且つ高コントラスト比を実現することが可能である。
電子ペーパーは、基板上にディスプレイ媒体および該ディスプレイ媒体を駆動するTFTを有する。ディスプレイ媒体としては、従来知られているいかなるディスプレイ媒体でも用いることができる。電気泳動方式、電子粉粒体飛翔方式、荷電トナー方式、エレクトロクロミック方式等のいずれのディスプレイ媒体であっても好ましく用いられるが、電気泳動方式のディスプレイ媒体がより好ましく、なかでもマイクロカプセル型電気泳動方式のディスプレイ媒体が特に好ましい。電気泳動方式のディスプレイ媒体は、複数のカプセルを含むディスプレイ媒体であり、該複数のカプセルのそれぞれが懸濁流体内で移動可能な少なくとも1つの粒子を含む。ここでいう少なくとも1つの粒子は、電気泳動粒子または回転ボールであることが好ましい。また、電気泳動方式のディスプレイ媒体は、第1の面および該第1の面と対向する第2の面を有し、該第1および該第2の面の内の1つの面を介して観察イメージを表示する。
また、基板上に設けられるTFTは、少なくともゲート電極、ゲート絶縁膜、活性層、ソース電極及びドレイン電極を有し、活性層とソース電極の間か活性層とドレイン電極の間の少なくとも一方に、電気的に接続する抵抗層をさらに有する。電子ペーパーは、電圧印加により光の濃淡を生じる。
その他の適用例としては、特表平10−512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5-127822号公報、特開2002-48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2002−865554号公報に記載の円偏光板、特開2007−30387号公報に記載の有機EL素子、好ましく用いることができる。
PETフィルム(コスモシャインA4300、100μm厚)を10cm角に裁断し、その表面に以下の手順で有機層、無機層を形成して評価した。
PETフィルム上に、下記表に示す組成を有する重合性化合物、紫外線重合開始剤(チバ・スペシャリティーケミカルズ製、Cibaイルガキュア184)0.6g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート190gからなる重合性組成物を、ワイヤーバーを用いて塗布し、窒素置換法によって酸素濃度が0.1%以下で高圧水銀ランプの紫外線を照射(積算照射量1.5J/cm2)して有機層を硬化させ、膜厚が約1μmの有機層を形成した。化合物FおよびPMMAを塗布するときは、紫外線重合開始剤を加えることなく塗布し、その後80℃で5分乾燥させた。
(無機層の作成)
EB+イオンガン方式でプラズマアシスト可能な蒸着装置(シンクロン製、ACE1350IAD)を用いて、イオンアシスト電圧:900V、酸素ガス流量:50sccm、アルゴンガス流量:8sccm)の条件で、前記有機層の上に無機層を、酸素プラズマアシストを使用しつつSiOを蒸着源にして蒸着を行った。無機層の厚さは、50nmであった。製膜速度は、5nm/secであった。スパッタリング法で製膜した場合の製膜速度は、0.1nm/secであり、本発明の方法は、製膜速度が極めて早いことが分かる。
得られたガスバリアフィルムについて、MOCON社製、「PERMATRAN−W3/31」(40℃、相対湿度90%)を用いて測定した。結果を下記表に示す。
比較例として、上記ガスバリアフィルムの作成(1)において、有機層の形成に用いる化合物の種類を下記表に記載のものに代え、上記と同様あるいはイオンアシスト電圧を0Vとして無機層の作成を行い、水蒸気透過率を測定した。結果を下記表に示す。
化合物B:新中村化学工業(株) 製、NKエステルA-BPEF
化合物C:新中村化学工業(株)製、NKオリゴEA-6320
ダイセル・サイテック、TPGDA
化合物D:ダイセル・サイテック、IRR214-K
化合物F:アルドリッチ製、Polystyrene average、重量平均分子量 200000
化合物G:共栄社化学株式会社製、ライトアクリレートBEPG-A
化合物H:アルドリッチ製、Methyl acrylate
PMMA(ポリメチルメタクリレート):アルドリッチ製:Poly(methyl methacrylate) 、重量平均分子量120000以下(GPC)、粉状)
上記ガスバリアフィルムの作成(1)において、SiOに代えて、Al2O3を用いたところ、同様の傾向を示すことがわかった。
上記ガスバリアフィルムの作成(1)において、さらに、同様の手法により、有機層および無機層を形成して、多層型ガスバリアフィルムを作成した。得られたガスバリアフィルムのガスバリア性を上記方法で測定した。以下に結果を示す。
上記ガスバリアフィルムの作成(1)において、無機層の形成条件をイオンアシスト電圧:450V、酸素ガス流量:50sccm、アルゴンガス流量:8sccmに変更し、他は同様に行った。得られたガスバリアフィルムのガスバリア性を上記方法で測定した。以下に結果を示す。
上記ガスバリアフィルムの作成(1)で作成したガスバリアフィルムのバリア性積層体側同士を接着剤(大日精化製、主剤:E-372、硬化剤:C-76)にて貼り合せた。得られた複合フィルムのガスバリア性を上記方法で測定した。その結果を下記に示す。
ガスバリアフィルム(6)で作成したガスバリアフィルムを用いて、太陽電池モジュールを作成した。具体的には、太陽電池モジュールよう充填剤として、スタンダードキュアタイプのエチレンー酢酸ビニル共重合体を用いた。10cm角の強化ガラス上に厚さ450μmのエチレンー酢酸ビニル共重合体でアモルファス系のシリコン太陽電池セルを挟み込み充填し、さらにその上のガスバリアフィルムを設置することで太陽電池モジュールを作成した。設置条件は、150℃にて真空引き3分行ったあと、9分間圧着を行った。本方法で作成した太陽電池モジュールは、良好に作動し、85℃、85%相対湿度の環境下でも良好な電気出力特性を示した。
2 有機層
3 無機層
4 接着層
Claims (9)
- 前記無機層が、ケイ素および/またはアルミニウムを含有する、請求項1に記載のガスバリアフィルム。
- 前記無機層形成時に用いるプラズマが、アルゴンガス、酸素ガス、または、その混合ガスである、請求項1または2に記載のガスバリアフィルム。
- 前記バリア性積層体は、少なくとも2層の有機層と、少なくとも2層の無機層とが、交互に積層している、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスバリアフィルム。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムをバリア性積層体側を内側にして2枚貼り合せた構造を有する、複合フィルム。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリアフィルムを含む太陽電池用部材。
- 請求項5に記載の複合フィルムを含む太陽電池用部材。
- 前記硬化が、紫外線による硬化である、請求項8に記載の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009201313A JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
PCT/JP2010/065358 WO2011027902A1 (en) | 2009-09-01 | 2010-09-01 | Barrier laminate, gas barrier film and method for manufacturing the barrier laminate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009201313A JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011051194A JP2011051194A (ja) | 2011-03-17 |
JP5580561B2 true JP5580561B2 (ja) | 2014-08-27 |
Family
ID=43532632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009201313A Expired - Fee Related JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5580561B2 (ja) |
WO (1) | WO2011027902A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013028018A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Daicel Corp | ガスバリアフィルム及びデバイス |
JP5763493B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-08-12 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
TWI501873B (zh) * | 2011-12-27 | 2015-10-01 | Nitto Denko Corp | Transparent gas barrier film, transparent gas barrier film manufacturing method, organic EL element, solar cell and thin film battery |
JP5812916B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-11-17 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
US20150029681A1 (en) * | 2013-07-29 | 2015-01-29 | Evonik Industries Ag | Flexible composite, production thereof and use thereof |
GB2579871B (en) * | 2019-02-22 | 2021-07-14 | P2I Ltd | Coatings |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE513714A (ja) | 1951-08-23 | 1900-01-01 | ||
JPH05127822A (ja) | 1991-10-30 | 1993-05-25 | Daicel Chem Ind Ltd | タツチパネル |
JP3204356B2 (ja) | 1994-12-14 | 2001-09-04 | 住友ベークライト株式会社 | 透明導電フイルム |
JP2000227603A (ja) | 1998-11-30 | 2000-08-15 | Teijin Ltd | 液晶表示素子及びそれに好適な透明導電性基板 |
JP2000323273A (ja) | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2001150584A (ja) | 1999-11-29 | 2001-06-05 | Nippon Zeon Co Ltd | 導電性基板およびこれを用いた表示素子 |
JP2002080616A (ja) | 2000-06-30 | 2002-03-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示素子用高分子フィルム及びこれを用いた表示素子用基板 |
JP2002048913A (ja) | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置 |
JP4402864B2 (ja) | 2002-06-27 | 2010-01-20 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリア性フィルム |
JP4254350B2 (ja) * | 2002-12-16 | 2009-04-15 | 住友ベークライト株式会社 | 透明バリアフィルム |
JP4383077B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-12-16 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア性基板 |
JP4310788B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2009-08-12 | 恵和株式会社 | 高バリア性積層シート |
US7378157B2 (en) * | 2004-06-28 | 2008-05-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Gas barrier film, and display substrate and display using the same |
JP4716773B2 (ja) | 2005-04-06 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムとそれを用いた有機デバイス |
JP2007030387A (ja) | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Fujifilm Corp | バリア性フィルム基板およびそれを用いた有機電界発光素子 |
JP2007038445A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材及び有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
JP4922148B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2012-04-25 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、バリア性フィルム基板、それらの製造方法、およびデバイス |
US8586154B2 (en) * | 2007-03-09 | 2013-11-19 | 3M Innovative Properties Company | Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films |
JP5339772B2 (ja) | 2007-06-11 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 電子ディスプレイ |
JP2009049252A (ja) | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | 太陽電池用部材 |
JP5320167B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび積層体の製造方法 |
-
2009
- 2009-09-01 JP JP2009201313A patent/JP5580561B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-01 WO PCT/JP2010/065358 patent/WO2011027902A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011027902A1 (en) | 2011-03-10 |
JP2011051194A (ja) | 2011-03-17 |
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