JP5378326B2 - 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 - Google Patents
不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5378326B2 JP5378326B2 JP2010182485A JP2010182485A JP5378326B2 JP 5378326 B2 JP5378326 B2 JP 5378326B2 JP 2010182485 A JP2010182485 A JP 2010182485A JP 2010182485 A JP2010182485 A JP 2010182485A JP 5378326 B2 JP5378326 B2 JP 5378326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- erase
- command
- erase operation
- control unit
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
- G11C16/16—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/26—Sensing or reading circuits; Data output circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/344—Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/344—Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
- G11C16/3445—Circuits or methods to verify correct erasure of nonvolatile memory cells
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Description
図1は、NAND型フラッシュメモリの概略構成を示している。
図6は、第1の実施形態の第1の変形例を示している。
図7は、第1の実施形態の第2の変形例を示している。
図8、図9は、第2の実施形態を示している。図9において、図7と同一部分には同一符号を付している。
Claims (12)
- 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、
前記メモリセルのデータを消去する制御部と、
を具備し、
前記制御部は、前記メモリセルの消去動作中に、第1のコマンドに応じて消去動作を中断させ、前記中断前の消去条件を保持し、
前記制御部は、第2のコマンドに応じて前記消去動作を再開させ、
前記制御部は、前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第3のコマンドを受けると、前記第3のコマンドに応じてステータスを外部に出力し、
前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御部は、前記中断前の消去条件を保持手段に保持し、前記第2のコマンドに応じて前記保持された消去条件に基づき前記消去動作を再開させ、前記第3のコマンドと異なる第4のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記消去条件は、前記中断前の消去電圧を決定するパラメータ、又は前記消去動作のループ回数であることを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、最初に消去ベリファイを行い、ベリファイ結果がパスである場合、前記メモリセルに消去電圧を印加せずに消去動作を終了させ、前記ベリファイ結果がフェイルである場合、前記消去条件に基づき消去動作を開始することを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の不揮発性半導体装置。
- 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、前記消去動作を再開させて、前記中断時点の消去電圧以上の電圧を印加することを特徴とする請求項2乃至請求項4いずれか1項に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記制御部は、前記第2のコマンドを受けると、前記中断時点の消去電圧より一つ前のループの消去電圧で消去動作を再開させることを特徴とする請求項2乃至請求項4いずれか1項に記載の不揮発性半導体装置。
- 前記制御部は、消去動作中のどのタイミングでリセットされたかを記憶しておき、そのステータスによって消去シーケンス再開時の開始ポイントを変更することを特徴とする請求項2記載の不揮発性半導体装置。
- 前記メモリセルに対するデータの書き込み、及び読み出しを行う書き込み/読み出し回路と、
前記書き込み/読み出し回路に設けられたキャッシュメモリをさらに具備し、
前記制御部は、前記消去動作の再開後、前記キャッシュメモリをリセットせず、キャッシュメモリがレディ状態になることで前段での読み出し動作により読み出されたデータを外部端子にシリアル出力しながら、内部では消去動作を実行することを特徴とする請求項7記載の不揮発性半導体装置。 - 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイに書き込むデータ又は読み出したデータを保持する書き込み/読み出し回路と、
前記メモリセルに対するデータの読み出し、書き込み、及び消去を行う制御部と、
を具備し、
前記制御部は、消去動作中に読み出し又は書き込み動作を指示するコマンドが入力された場合、前記消去動作を中断させ、読み出し又は書き込み動作の割り込みが実行され、 前記制御部は、前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第1のコマンドを受けると、前記第1のコマンドに応じてステータスを外部に出力し、
前記制御部は、第2のコマンドに応じて前記消去動作を再開させ、
前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記制御部は、再開後最初に消去ベリファイを実行し、ベリファイ結果がパスである場合、メモリセルに消去電圧を印加せずに消去動作を終了させ、ベリファイ結果がフェイルである場合、割り込み前と同じ電圧で消去を開始させ、前記第1のコマンド及び前記第2のコマンドと異なる第3のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項9記載の不揮発性半導体装置。
- 複数のメモリセルを含むメモリセルアレイを含む不揮発性半導体記憶装置の制御方法であって、
前記メモリセルの消去動作中に、第1のコマンドに応じて消去動作を中断し、
前記中断前の消去条件を保持し、
第2のコマンドに応じて前記保持された消去条件に基づき前記消去動作を再開し、
前記消去動作を中断させたのちかつ消去動作の再開前に第3のコマンドを受けると、前記第3のコマンドに応じてステータスを外部に出力する不揮発性半導体記憶装置の制御方法であって、
前記ステータスは、中断時点で消去がパスしたか、前記中断時点で消去がフェイルしたかに関するステータスを含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の制御方法。 - 前記第2のコマンドを受けると、前記消去動作を再開させて、前記中断時点の消去電圧以上の電圧を印加し、
前記第3のコマンドと異なる第4のコマンドを受けると、プログラムベリファイのステータスを外部に出力することを特徴とする請求項11記載の不揮発性半導体記憶装置の制御方法。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010182485A JP5378326B2 (ja) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 |
US13/052,158 US8559236B2 (en) | 2010-08-17 | 2011-03-21 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US14/022,944 US9025390B2 (en) | 2010-08-17 | 2013-09-10 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US14/677,484 US9437308B2 (en) | 2010-08-17 | 2015-04-02 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US15/245,892 US9754672B2 (en) | 2010-08-17 | 2016-08-24 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US15/666,114 US10157675B2 (en) | 2010-08-17 | 2017-08-01 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US16/180,541 US10685715B2 (en) | 2010-08-17 | 2018-11-05 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US16/871,578 US11062777B2 (en) | 2010-08-17 | 2020-05-11 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US17/344,146 US11664077B2 (en) | 2010-08-17 | 2021-06-10 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US18/301,800 US12080354B2 (en) | 2010-08-17 | 2023-04-17 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
US18/815,433 US20240420774A1 (en) | 2010-08-17 | 2024-08-26 | Nonvolatile semiconductor memory device which performs improved erase operation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010182485A JP5378326B2 (ja) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012043496A JP2012043496A (ja) | 2012-03-01 |
JP5378326B2 true JP5378326B2 (ja) | 2013-12-25 |
Family
ID=45593995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010182485A Active JP5378326B2 (ja) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (10) | US8559236B2 (ja) |
JP (1) | JP5378326B2 (ja) |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100784862B1 (ko) * | 2006-01-09 | 2007-12-14 | 삼성전자주식회사 | 더미 셀을 포함하는 플래시 메모리 장치 |
JP5378326B2 (ja) * | 2010-08-17 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 |
JP4902002B1 (ja) * | 2011-04-20 | 2012-03-21 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2013020682A (ja) | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US8797802B2 (en) * | 2012-03-15 | 2014-08-05 | Macronix International Co., Ltd. | Method and apparatus for shortened erase operation |
KR102083490B1 (ko) * | 2012-08-08 | 2020-03-03 | 삼성전자 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 비휘발성 메모리 장치의 커맨드 실행 제어 방법 |
JP2014186787A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置、メモリコントローラ、及びメモリシステム |
US9183940B2 (en) | 2013-05-21 | 2015-11-10 | Aplus Flash Technology, Inc. | Low disturbance, power-consumption, and latency in NAND read and program-verify operations |
US9263137B2 (en) | 2013-06-27 | 2016-02-16 | Aplus Flash Technology, Inc. | NAND array architecture for multiple simutaneous program and read |
WO2015013689A2 (en) | 2013-07-25 | 2015-01-29 | Aplus Flash Technology, Inc. | Nand array hiarchical bl structures for multiple-wl and all -bl simultaneous erase, erase-verify, program, program-verify, and read operations |
US9293205B2 (en) | 2013-09-14 | 2016-03-22 | Aplus Flash Technology, Inc | Multi-task concurrent/pipeline NAND operations on all planes |
WO2015100434A2 (en) | 2013-12-25 | 2015-07-02 | Aplus Flash Technology, Inc | A HYBRID NAND WITH ALL-BL m-PAGE OPERATION SCHEME |
KR102226367B1 (ko) | 2014-01-02 | 2021-03-12 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 불휘발성 메모리 시스템 |
KR102187637B1 (ko) | 2014-02-03 | 2020-12-07 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 소거 방법 |
CN103854700B (zh) * | 2014-02-28 | 2018-05-01 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种非易失性存储器的擦除方法和装置 |
WO2016014731A1 (en) | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Aplus Flash Technology, Inc. | Yukai vsl-based vt-compensation for nand memory |
KR102203298B1 (ko) | 2014-08-01 | 2021-01-15 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 비휘발성 메모리 장치의 구동 방법 |
JP5804584B1 (ja) * | 2014-10-30 | 2015-11-04 | ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション | Nand型フラッシュメモリのプログラム方法 |
JP6453718B2 (ja) * | 2015-06-12 | 2019-01-16 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置及びメモリシステム |
US9679658B2 (en) | 2015-06-26 | 2017-06-13 | Intel Corporation | Method and apparatus for reducing read latency for a block erasable non-volatile memory |
JP6493062B2 (ja) | 2015-07-24 | 2019-04-03 | ソニー株式会社 | メモリコントローラ、メモリシステムおよび情報処理システム |
KR102377469B1 (ko) * | 2015-11-02 | 2022-03-23 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 스토리지 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법 |
JP6538597B2 (ja) | 2016-03-14 | 2019-07-03 | 東芝メモリ株式会社 | 記憶装置 |
KR102452994B1 (ko) * | 2016-09-06 | 2022-10-12 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
JP6783682B2 (ja) * | 2017-02-27 | 2020-11-11 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置及びメモリシステム |
CN109087676B (zh) * | 2017-06-14 | 2020-10-20 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种非易失性存储器的编程方法及装置 |
KR102631353B1 (ko) * | 2017-08-17 | 2024-01-31 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 이의 동작 방법 |
JP2019057342A (ja) | 2017-09-20 | 2019-04-11 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP6444475B1 (ja) | 2017-11-28 | 2018-12-26 | ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション | 半導体記憶装置 |
KR102369391B1 (ko) | 2017-12-27 | 2022-03-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치의 데이터 소거 방법 및 이를 수행하는 비휘발성 메모리 장치 |
KR102573308B1 (ko) * | 2018-06-18 | 2023-08-31 | 삼성전자 주식회사 | 소거 제어 회로를 포함하는 비휘발성 메모리 장치 |
KR102569820B1 (ko) * | 2018-10-25 | 2023-08-24 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 컨트롤러 및 그 동작 방법 |
JP7105911B2 (ja) | 2018-11-06 | 2022-07-25 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR102690405B1 (ko) * | 2019-06-03 | 2024-08-01 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 장치 및 그것의 동작 방법 |
KR102735080B1 (ko) * | 2019-11-12 | 2024-11-27 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 장치, 메모리 컨트롤러, 메모리 시스템 및 그 동작 방법 |
KR20220021770A (ko) * | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 메모리 장치 및 그 동작 방법 |
CN112270945B (zh) * | 2020-10-22 | 2021-10-08 | 芯天下技术股份有限公司 | 记录是否有擦除时掉电的方法、装置、存储介质和终端 |
CN115668379A (zh) * | 2021-01-08 | 2023-01-31 | 长江存储科技有限责任公司 | 用于nand存储操作的架构和方法 |
CN113409859A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-09-17 | 芯天下技术股份有限公司 | 防止因过擦除造成读错误的方法、装置、存储介质和终端 |
JP7181984B1 (ja) * | 2021-12-09 | 2022-12-01 | ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション | 半導体装置および消去方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5355464A (en) * | 1991-02-11 | 1994-10-11 | Intel Corporation | Circuitry and method for suspending the automated erasure of a non-volatile semiconductor memory |
DE69629315T2 (de) * | 1996-05-22 | 2004-04-22 | Macronix International Co. Ltd., Hsinchu | Flashspeicheranordnung mit löschungsunterbrechungslogik unter verwendung von mehreren prüfpunkten |
KR100257868B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2000-06-01 | 윤종용 | 노어형 플래시 메모리 장치의 소거 방법 |
JP4439530B2 (ja) | 1999-05-10 | 2010-03-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP2003036681A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-02-07 | Hitachi Ltd | 不揮発性記憶装置 |
JP4004811B2 (ja) | 2002-02-06 | 2007-11-07 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2004227635A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体メモリおよび不揮発性半導体メモリを内蔵したマイクロコンピュータ |
JP2004348808A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Sharp Corp | 半導体記憶装置、携帯電子機器、イレース動作を制御する方法及びプログラム動作を制御する方法 |
US6930925B2 (en) * | 2003-10-14 | 2005-08-16 | Atmel Corporation | Suspend-resume programming method for flash memory |
US7151694B2 (en) * | 2004-06-14 | 2006-12-19 | Macronix International Co., Ltd. | Integrated circuit memory with fast page mode verify |
JP5367210B2 (ja) * | 2006-01-20 | 2013-12-11 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US7562180B2 (en) * | 2006-03-28 | 2009-07-14 | Nokia Corporation | Method and device for reduced read latency of non-volatile memory |
JP4986213B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2012-07-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路及び記憶装置 |
JP2008135100A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置及びそのデータ消去方法 |
US8850103B2 (en) * | 2009-08-28 | 2014-09-30 | Microsoft Corporation | Interruptible NAND flash memory |
JP5378326B2 (ja) * | 2010-08-17 | 2013-12-25 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 |
-
2010
- 2010-08-17 JP JP2010182485A patent/JP5378326B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-21 US US13/052,158 patent/US8559236B2/en active Active
-
2013
- 2013-09-10 US US14/022,944 patent/US9025390B2/en active Active
-
2015
- 2015-04-02 US US14/677,484 patent/US9437308B2/en active Active
-
2016
- 2016-08-24 US US15/245,892 patent/US9754672B2/en active Active
-
2017
- 2017-08-01 US US15/666,114 patent/US10157675B2/en active Active
-
2018
- 2018-11-05 US US16/180,541 patent/US10685715B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-11 US US16/871,578 patent/US11062777B2/en active Active
-
2021
- 2021-06-10 US US17/344,146 patent/US11664077B2/en active Active
-
2023
- 2023-04-17 US US18/301,800 patent/US12080354B2/en active Active
-
2024
- 2024-08-26 US US18/815,433 patent/US20240420774A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230260577A1 (en) | 2023-08-17 |
US20240420774A1 (en) | 2024-12-19 |
US11062777B2 (en) | 2021-07-13 |
US20170330629A1 (en) | 2017-11-16 |
US20140010015A1 (en) | 2014-01-09 |
US11664077B2 (en) | 2023-05-30 |
US20160365153A1 (en) | 2016-12-15 |
US20120044764A1 (en) | 2012-02-23 |
JP2012043496A (ja) | 2012-03-01 |
US10685715B2 (en) | 2020-06-16 |
US8559236B2 (en) | 2013-10-15 |
US20200273524A1 (en) | 2020-08-27 |
US9025390B2 (en) | 2015-05-05 |
US20150213899A1 (en) | 2015-07-30 |
US9437308B2 (en) | 2016-09-06 |
US12080354B2 (en) | 2024-09-03 |
US20190074064A1 (en) | 2019-03-07 |
US9754672B2 (en) | 2017-09-05 |
US10157675B2 (en) | 2018-12-18 |
US20210304821A1 (en) | 2021-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5378326B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置とその制御方法 | |
US7164610B2 (en) | Microcomputer having a flush memory that can be temporarily interrupted during an erase process | |
KR101146059B1 (ko) | 비휘발성 메모리 시스템 및 비휘발성 메모리 시스템을 위한데이터 판독/기입 방법 | |
US7586785B2 (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
KR101285576B1 (ko) | 비휘발성 메모리를 프로그래밍/소거하기 위한 방법 및 장치 | |
TWI550619B (zh) | 記憶體電路及其操作方法 | |
JP2006331615A (ja) | フラッシュメモリ装置のプログラム方法 | |
JP2010009141A (ja) | データ転送方法 | |
JP4028301B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置及びその消去方法 | |
JP2021044033A (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR100898653B1 (ko) | 플래시 메모리 소자 및 프로그램 방법 | |
CN101154457A (zh) | 闪存器件及其中闪存单元块的擦除方法 | |
KR100621637B1 (ko) | 프로그램 시간을 단축시킬 수 있는 플래시 메모리 장치 및그것의 프로그램 방법 | |
JP5390006B2 (ja) | 不揮発性記憶装置 | |
JP5270598B2 (ja) | 不揮発性記憶装置 | |
JP2006065973A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
CN117789798B (zh) | 一种Flash状态转换时间可调的方法 | |
KR20110001581A (ko) | 불휘발성 메모리 장치의 카피백 동작 방법 | |
CN119248189A (zh) | 一种存储设备及其数据块擦除方法 | |
CN117577153A (zh) | 存储器及擦除方法 | |
JP2010044570A (ja) | ストレージシステム及び記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120809 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130416 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130716 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130723 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130925 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5378326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |