JP5050633B2 - ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール - Google Patents
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Description
このようなヒートシンク付パワーモジュール用基板は、絶縁基板に回路層及び金属層をろう付け(1次接合)した後に、金属層とヒートシンクの天板部とをろう付け(2次接合)することによって製造される。
また、パワーモジュール用基板とヒートシンクの天板部とを接合する2次接合時に、熱応力によって反りが発生するおそれがあった。
この場合、天板部の剛性を確保することができ、天板部のうち収容凹部が形成された部分の肉厚を薄くすることが可能となり、絶縁基板の他方側に配置される金属層及びヒートシンクの天板部の厚みをさらに薄くして、熱サイクルによる熱応力を確実に低減することができる。さらに、ヒートシンク自体の反りを抑えることができるとともに、パワーモジュール用基板をヒートシンクによって効率良く冷却することができる。
この場合、変形抵抗の小さな金属層が収容凹部内で変形する空間を確保でき、金属層によって熱応力を確実に吸収して、熱サイクル信頼性を飛躍的に向上させることができるとともに、反り変形を確実に防止できる。
このパワーモジュール1は、セラミックスによって構成された絶縁基板11の一方の面11Aに回路層12がろう付けされるとともに他方の面11Bに金属層13がろう付けされたパワーモジュール用基板10と、金属層13の表面にろう付けされたヒートシンク20と、回路層12の表面にはんだ層2を介して接合された半導体チップ3と、を備えている。なお、本実施形態では、回路層12とはんだ層2との間にNiメッキ層(図示なし)が設けられている。
そして、天板部21には、金属層13の少なくとも一部が収容可能な収容凹部23が設けられている。なお、本実施形態においては、収容凹部23の幅は金属層13の幅よりも一段幅広とされ、収容凹部23の深さは金属層13の厚さと略同一とされている。
そして、天板部21は、金属層13よりも変形抵抗の大きな材料で構成されており、本実施形態では、ろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が99.99%未満であるアルミニウムまたはアルミニウム合金で構成されている。より具体的には、天板部21は、アルミニウムの濃度が90%〜99%の範囲内であるアルミニウムまたはアルミニウム合金で構成されている。
まず、Al板を打ち抜いて回路層12及び金属層13を形成する。この打ち抜きの際に、回路層12には配線パターンが形成されている。
次に、絶縁基板11の一方の面11Aに回路層12をろう付けにて接合し、絶縁基板11の他方の面11Bに金属層13をろう付けにて接合する(1次接合)。ここで、絶縁基板11と回路層12及び金属層13とは、例えば厚さが2〜70μmのAl系のろう材箔を用いてろう付けされている。このようにしてパワーモジュール用基板10が作製される。
以上のようにして、ヒートシンク20を備えたパワーモジュール1が製作される。
さらに、天板部21がろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が90%〜99%のアルミニウム又はアルミニウム合金で構成されているので、天板部21の剛性を確保することができ、天板部21の肉厚を薄くすることが可能となり、絶縁基板11の他方側に配置される金属層13及び天板部21の厚みを薄くして、熱サイクルによる熱応力を確実に低減することができる。さらに、天板部21の肉厚が薄くなるので、ヒートシンク20によってパワーモジュール用基板10を効率良く冷却することができる。
また、収容凹部23に金属層13を挿入するようにしてパワーモジュール用基板10が配置されるので、パワーモジュール用基板10をヒートシンク20の所定の位置に配置することができる。
詳述すると、収容凹部43の側壁面43Bが、底面43Aから離間するにしたがい漸次互いに離間するように傾斜させられている。ここで、収容凹部43は、底面43A部分の幅が金属層13の幅と略同一に設定され、底面43Aから離間するにしたがい漸次その幅が広がるように構成されている。なお、収容凹部43の深さは金属層13の厚さと略同一に設定されている。
天板部41は、金属層13よりも変形抵抗の大きな材料で構成されており、本実施形態では、ろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が90〜99%の範囲内であるアルミニウムまたはアルミニウム合金で構成されている。
また、収容凹部43の底面43A部分が金属層13の幅と略同一に設定されているので、パワーモジュール用基板10をヒートシンク20の所定の位置に精度良く配置することができる。
例えば、収容凹部の深さを金属層の厚さと略同一または金属層の厚さよりも浅くしたものとして説明したが、これに限定されることはなく、図4に示すように、収容凹部53の深さを金属層13の厚さよりも深くしてもよい。この場合、収容凹部53の内部に絶縁基板11や回路層12が収容されても問題はない。
さらに、絶縁基板、ろう材、はんだ材は、実施形態の材質に限定されることはなく、他の材質で構成されていてもよい。
また、Al板を打ち抜くことで配線パターンを有する回路層を形成したが、これに限定されることはなく、回路層の表面にレジスト膜を形成してエッチング処理を行うことで配線パターンを形成してもよい。
11 絶縁基板
12 回路層
13 金属層
13A 表面
13B 側面
20、30、40、50、60 ヒートシンク
21、31、41、51、61 天板部
23、33、43、53、63 収容凹部
23A、33A、43A、53A、63A 底面
23B、33B、43B、53B、63B 側壁面
Claims (4)
- 絶縁基板の一方の面に回路層が形成されるとともに他方の面に金属層が設けられ、前記金属層にヒートシンクが接合されたヒートシンク付パワーモジュール用基板であって、
前記ヒートシンクの天板部には、前記金属層の少なくとも一部が収容される収容凹部が形成され、前記金属層の表面と前記収容凹部の底面とが接合され、前記金属層が、前記天板部よりも変形抵抗の小さい金属で構成されており、
前記絶縁基板と前記金属層及び前記金属層の表面と前記収容凹部の底面がそれぞれろう付けにて接合されており、
前記金属層は、ろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が99.99%以上の純アルミニウムで構成され、
前記天板部は、ろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が99.99%未満のアルミニウム又はアルミニウム合金で構成されていることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板。 - 請求項1に記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板であって、
前記天板部は、ろう付け前の状態においてアルミニウムの濃度が90%〜99%の範囲内であるアルミニウム又はアルミニウム合金で構成されていることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板。 - 請求項1又は請求項2に記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板であって、
前記収容凹部の側壁面と前記金属層の側面との間に空隙が画成されていることを特徴とするヒートシンク付パワーモジュール用基板。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載のヒートシンク付パワーモジュール用基板と、該ヒートシンク付パワーモジュール用基板の前記回路層上に搭載されたパワー素子又は受動部品と、を備えることを特徴とするパワーモジュール。
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