JP2014032248A5 - - Google Patents

Description

（ＳＥＭ観察）
反射抑制膜を電界放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、日立製作所、Ｓ−４５００）によって観察した。また、反射抑制膜の凹部の３０°斜め上方からの断面におけるＦＥ−ＳＥＭ写真から、反射抑制膜の凹部（底部）における反射抑制膜の厚みを測定した。ＦＥ−ＳＥＭ写真から測定点５点について求めたガラス板の凹部（底部）における反射抑制膜の厚みの平均値を反射抑制膜の厚みとした。さらに、反射抑制膜の凸部（頂部）における真上からのＦＥ−ＳＥＭ写真から、１辺がシリカ微粒子の平均粒径の１０倍である正方形を当てはめ、その正方形内に完全に含まれているシリカ微粒子の数をカウントした。直径がシリカ微粒子の平均粒径と同一の直径を有する球をその正方形内に最密に充填すると、その球を１０５個充填することができる。この最密充填した場合の球の充填数に対する上述のカウントしたシリカ微粒子の数の百分率を、反射抑制膜の凸部（頂部）におけるシリカ微粒子の充填率とした。

（実施例２〜実施例８）
原液及びコーティング液を調製するときの各原料の比率、反射抑制膜を形成する条件（乾燥条件及び焼成条件）を表２の通りとし、実施例１と同様にして実施例２〜８に係るカバーガラスを得た。表２に示す通り、実施例３及び実施例４において、シリコン系界面活性剤として、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製、「ＣｏａｔＯＳｉｌ３５０５」を用いた。このようにして得た実施例２〜８に係るカバーガラスに対して上記特性を評価した。評価結果を表１に示す。

図１に示す通り、実施例１のガラス板の表面凹凸の頂部において、シリカ微粒子が均一に配置されていた。実施例１の表面凹凸の頂部におけるシリカ微粒子の充填率（充填率）は、表１に示す通り、４９．４％であった。図３に示す通り、比較例１のガラス板の表面凹凸の頂部において、シリカ微粒子は、実施例１よりも密な状態で配置されていた。表４に示す通り、比較例１の充填率は６７．２％であった。図５に示す通り、比較例２のガラス板の表面凹凸の頂部において、シリカ微粒子は、実施例１よりも疎な状態で配置されていた。表４に示す通り、比較例２の充填率は２９．９％であった。また、図５に示す通り、シリカ微粒子同士の間隔が、表面凹凸の頂部の他の箇所におけるシリカ微粒子同士の間隔よりも大きい部分がところどころに見られた。換言すると、比較例２のガラス板の表面凹凸の頂部において、シリカ微粒子は均一に配置されていなかった。表１及び表４に示す通り、実施例１の透過率ゲインが２．４６であったのに対し、比較例１の透過率ゲインが２．０５、比較例２の透過率ゲインが２．３５であった。これにより、ガラス板の表面凹凸の頂部において、シリカ微粒子の充填率が３５〜６５％の範囲にあるカバーガラスは、２．４％以上の高い透過率ゲインを示すことが示唆された。