JP2005037927A - Optical laminated film - Google Patents
Optical laminated film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005037927A JP2005037927A JP2004187055A JP2004187055A JP2005037927A JP 2005037927 A JP2005037927 A JP 2005037927A JP 2004187055 A JP2004187055 A JP 2004187055A JP 2004187055 A JP2004187055 A JP 2004187055A JP 2005037927 A JP2005037927 A JP 2005037927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refractive index
- resin
- laminated film
- optical laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 105
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 74
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 74
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 22
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 20
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 19
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 13
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 13
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 5
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 claims description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 40
- 230000004313 glare Effects 0.000 abstract description 9
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 290
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 146
- 239000002585 base Substances 0.000 description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 description 59
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 32
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 31
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 29
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 29
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 24
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 6
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 150000001924 cycloalkanes Chemical group 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 150000001925 cycloalkenes Chemical group 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJCRKROKIPREU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F HNJCRKROKIPREU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical class CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005509 ACRYPET® VH Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N O-silylhydroxylamine Chemical class NO[SiH3] YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- CAPAZTWTGPAFQE-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol Chemical class OCCO.OCCO CAPAZTWTGPAFQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005816 fluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical class CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】本発明の目的は、従来のものよりも、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することにある。
【解決手段】透明樹脂からなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が1.35以下であり、波長550nmにおける反射率が0.8%以下で、かつ波長430〜700nmにおける反射率が1.2%以下である光学積層フィルム。An object of the present invention is to provide an optical laminate that has lower reflectivity, less glare and reflection than conventional ones, excellent visibility, and excellent contrast in bright and dark displays when used in a liquid crystal display device. To provide a film.
An optical laminated film in which at least a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated in this order on the surface of a base film made of a transparent resin, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.35. An optical laminated film having a reflectance of 0.8% or less at a wavelength of 550 nm and a reflectance of 1.2% or less at a wavelength of 430 to 700 nm.
Description
本発明は、光学積層フィルムに関し、さらに詳しくは効率よく低反射率を実現できる単層膜を積層した光学積層フィルムに関する。さらには、この光学積層フィルムを用いた反射防止機能付偏光板、及びこれを用いた光学製品に関する。 The present invention relates to an optical laminated film, and more particularly to an optical laminated film obtained by laminating a single layer film capable of efficiently realizing a low reflectance. Furthermore, it is related with the polarizing plate with an antireflection function using this optical laminated film, and an optical product using the same.
液晶表示装置(以下、「LCD」と記す)用の偏光フィルムには、映り込み防止のために、反射防止層を設ける加工処理が施されることがある。特に、野外などに用いられるLCDにおける偏光フィルムでは、高性能の反射防止機能の付与が求められている。そこで、基材フィルムの表面に反射防止膜を多層膜として、又は単層膜として形成することが行われている。
多層膜の反射防止膜を基材フィルム表面に被覆する方法としては、透明基材フィルム上に相対的に高屈折率を有する膜と相対的に低屈折率を有する膜とをこの順に積層する方法や、前記積層方法で相対的に高屈折率と低屈折率を有する膜を多数積層して多層膜を得る方法(例えば、特許文献1を参照)がある。
基材フィルム表面に膜を被覆する方法としては、ゾルゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相析出(CVD)法などが広く用いられている。
また、単層の反射防止膜を基材フィルム表面に被覆して基材フィルム表面の反射率を低減する方法としては、基材フィルム表面に、該基材の屈折率よりも屈折率の低い膜を作成する方法が知られている。
その中には、ガラス上にゾルゲル法で多成分の金属酸化物膜を形成し、次いで多成分の金属酸化物膜を加熱処理により分相させ、その後、分相した金属酸化物膜を弗化水素酸でエッチングして各相のエッチング速度の差を利用して多孔質化する方法が提案されている(例えば、非特許文献1を参照)。
A polarizing film for a liquid crystal display device (hereinafter referred to as “LCD”) may be subjected to processing for providing an antireflection layer in order to prevent reflection. In particular, polarizing films in LCDs used outdoors and the like are required to have a high-performance antireflection function. Therefore, an antireflection film is formed as a multilayer film or a single layer film on the surface of the base film.
As a method of coating the surface of the base film with the antireflection film of the multilayer film, a method of laminating a film having a relatively high refractive index and a film having a relatively low refractive index on the transparent base film in this order. Alternatively, there is a method of obtaining a multilayer film by laminating a large number of films having relatively high refractive index and low refractive index by the laminating method (see, for example, Patent Document 1).
As a method for coating the surface of the base film, a sol-gel method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, or the like is widely used.
Further, as a method for reducing the reflectance of the substrate film surface by coating the substrate film surface with a single-layer antireflection film, a film having a refractive index lower than the refractive index of the substrate is provided on the substrate film surface. How to create is known.
Among them, a multi-component metal oxide film is formed on glass by a sol-gel method, then the multi-component metal oxide film is phase-separated by heat treatment, and then the phase-separated metal oxide film is fluorinated. There has been proposed a method of making a porous structure by using a difference in the etching rate of each phase by etching with hydrogen acid (see, for example, Non-Patent Document 1).
さらに別の方法として、ガラス上にゾルゲル法により酸化マグネシウムと二酸化炭素との複合膜を形成させた後、高温でフッ素を含有するガス中にさらして酸素をフッ素と置換することにより複合膜の屈折率を小さくする方法が提案されている(例えば、非特許文献2を参照)。 As another method, a composite film of magnesium oxide and carbon dioxide is formed on glass by a sol-gel method, and then exposed to a fluorine-containing gas at a high temperature to replace oxygen with fluorine. A method for reducing the rate has been proposed (see, for example, Non-Patent Document 2).
膜を形成する方法について、ゾルゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相析出法などが挙げられるが、いずれも高温や真空を伴う工程が含まれ、とりわけ基材を高温にする工程がある場合には、樹脂基材では高温プロセスにおいて変形・変質が生じるおそれがあり、また膜の光学特性を変化させ、所望の反射防止膜を形成することが困難であった。また、真空成膜プロセスでは真空装置内で樹脂からガスが放出されるために膜の形成に必要な高真空が得られなくなって、所望の特性の反射防止膜を形成することが困難であった。
さらに、反射防止膜を2層以上の多層膜から構成する場合には、膜のコーティング回数が2回以上必要となるために製造コストを下げることが難しく、また多層膜の膜厚の制御において問題があった。
Examples of the method for forming a film include a sol-gel method, a vacuum deposition method, a sputtering method, and a chemical vapor deposition method, all of which include a step involving high temperature and vacuum, and in particular, a step of raising the substrate temperature. In some cases, the resin base material may be deformed or deteriorated in a high-temperature process, and it is difficult to change the optical characteristics of the film and form a desired antireflection film. Further, in the vacuum film formation process, gas is released from the resin in the vacuum apparatus, so that a high vacuum necessary for film formation cannot be obtained, and it is difficult to form an antireflection film having desired characteristics. .
Furthermore, when the anti-reflection film is composed of two or more multilayer films, it is difficult to reduce the manufacturing cost because the number of coating times of the film is two times or more, and there is a problem in controlling the film thickness of the multilayer film. was there.
一方、反射防止膜を単層で構成する場合には、多層膜に比べて反射率の入射角依存性が小さく、また波長依存性が小さいために低反射の波長帯域が広いという利点を有する。そして、製造の低コスト化を促進することが容易であるという利点を有する。
しかしながら、上記の従来技術は、その製造工程の中に高温プロセスを含むため、樹脂基材に反射防止膜を形成する方法として適当でない。さらに、これらの方法では、一旦金属酸化膜を形成した後、加熱処理とエッチング処理を施したり、一旦金属酸化物膜を形成した後、ガスとの化学反応処理を施したりする必要があり、製造コストを下げることが難しい。
On the other hand, when the antireflection film is composed of a single layer, the reflectance has a smaller incident angle dependency than the multilayer film, and the wavelength dependency is small. And it has the advantage that it is easy to promote the cost reduction of manufacture.
However, the above prior art includes a high-temperature process in the manufacturing process, and thus is not suitable as a method for forming an antireflection film on a resin substrate. Furthermore, in these methods, it is necessary to perform a heat treatment and an etching process after forming a metal oxide film once, or to perform a chemical reaction process with a gas after forming a metal oxide film once. It is difficult to reduce costs.
そこで、特許文献2には、アミノ基を有する有機珪素化合物を少なくとも含む1種以上の有機珪素化合物もしくはその加水分解物を含有する塗布液を樹脂基材の表面に塗布し、前記塗布液を乾燥することにより樹脂基材の表面に第一次被膜を形成し、前記第一次被膜の上に屈折率が1.40以下であり、表面が凹凸形状である二酸化珪素膜を形成させたことを特徴とする低反射樹脂基材の製造方法が記載されている。該公報によれば、低温プロセスで、密着性良く樹脂基材の全面に同時に形成することができると記載されている。
しかしながら、該公報に記載されている低反射樹脂基材を特に液晶表示装置に使用すると、視認性(例えば、輝度)が悪くなったり、明暗表示のコントラストが悪くなったりすることがある。そこで更なる改善が求められている。
Therefore, in Patent Document 2, a coating liquid containing at least one organic silicon compound containing an organosilicon compound having an amino group or a hydrolyzate thereof is applied to the surface of a resin substrate, and the coating liquid is dried. Forming a primary coating on the surface of the resin base material, and forming a silicon dioxide film having a refractive index of 1.40 or less and an uneven surface on the primary coating. A method for producing a featured low reflection resin substrate is described. According to the publication, it is described that it can be simultaneously formed on the entire surface of a resin base material with good adhesion by a low temperature process.
However, when the low-reflection resin substrate described in the publication is used particularly for a liquid crystal display device, visibility (for example, luminance) may be deteriorated, and contrast of bright and dark display may be deteriorated. Therefore, further improvement is required.
従って、本発明の目的は、従来のものよりも、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、耐擦傷性及び視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is that the reflectance is lower than that of the conventional one, the glare and the reflection are less, the scratch resistance and the visibility are excellent, and further, when used in a liquid crystal display device, the contrast in bright and dark display is improved. The object is to provide an excellent optical laminated film.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、従来よりも低屈折率を有する層を1層のみ、ハードコート層を積層した基材フィルムに積層することにより、上記目的を達成しうることを見出し、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors achieved the above object by laminating only one layer having a lower refractive index than the conventional one on a base film laminated with a hard coat layer. As a result, the present inventors have completed further research based on this finding and have completed the present invention.
かくして本発明によれば、
(1)透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が1.35以下であり、波長550nmにおける反射率が0.8%以下で、かつ波長430〜700nmにおける反射率が1.2%以下である光学積層フィルム、
(2)前記透明樹脂からなる基材フィルムのダイラインの深さ又は高さが0.1μm以下である前記(1)記載の光学積層フィルム、
(3)前記低屈折率層がエアロゲルからなる層である前記(1)又は(2)記載の光学積層フィルム、
(4)透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロース樹脂、及びポリエステル樹脂からなる群から選ばれる樹脂である前記(1)〜(3)のいずれか1つに記載の光学積層フィルム、
(5)光学部材の反射防止性保護フィルムである前記(1)〜(4)のいずれか1つに記載の光学積層フィルム、
(6)偏光板保護フィルムである前記(5)に記載の光学積層フィルム、
(7)前記(6)に記載の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板、
及び
(8)前記(7)に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品がそれぞれ提供される。
Thus, according to the present invention,
(1) An optical laminated film obtained by laminating at least a hard coat layer and a low refractive index layer in this order on the surface of a base film comprising a transparent resin, and the refractive index of the low refractive index layer is 1. 35 or less, an optical laminated film having a reflectance at a wavelength of 550 nm of 0.8% or less and a reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm of 1.2% or less,
(2) The optical laminated film according to the above (1), wherein the depth or height of the die line of the base film made of the transparent resin is 0.1 μm or less,
(3) The optical laminated film according to (1) or (2), wherein the low refractive index layer is a layer made of airgel,
(4) The optical laminate according to any one of (1) to (3), wherein the transparent resin is a resin selected from the group consisting of a polymer resin having an alicyclic structure, a cellulose resin, and a polyester resin. the film,
(5) The optical laminated film according to any one of (1) to (4), which is an antireflection protective film for an optical member,
(6) The optical laminated film according to (5), which is a polarizing plate protective film,
(7) A reflection preventing film characterized in that a polarizing film is laminated on the surface opposite to the surface on which the low refractive index layer of the base material film of the polarizing plate protective film according to (6) is provided. Functional polarizing plate,
And (8) Optical products each comprising the polarizing plate with antireflection function described in (7) are provided.
本発明によれば、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、耐擦傷性及び視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することができる。 According to the present invention, there is provided an optical laminated film having low reflectance, less glare and reflection, excellent scratch resistance and visibility, and excellent contrast in bright and dark display when used in a liquid crystal display device. Can do.
本発明の光学積層フィルムは、透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる。 The optical laminated film of the present invention is obtained by laminating at least a hard coat layer and a low refractive index layer in this order on the surface of a base film comprising a transparent resin.
本発明の本発明の光学積層フィルムの基材フィルムに使用する透明樹脂としては、1mm厚で全光線透過率が80%以上のものであれば特に制限されず、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリオレフィン系重合体、ポリビニルアルコール系重合体、酢酸セルロース系重合体、ポリ塩化ビニル系重合体、ポリメタクリレート系重合体、トリアセチルセルロースなどが挙げられる。これらの重合体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れ、複屈折が小さい点で、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、トリアセチルセルロース、ブチリルセルロース等のセルロース樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂;又は脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、透明性、軽量性の観点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、寸法安定性、膜厚制御性の観点からポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂がさらに好ましい。 The transparent resin used for the base film of the optical laminated film of the present invention is not particularly limited as long as it has a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more. For example, it has an alicyclic structure. Polymer resin, chain olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate polymer, polyester polymer, polysulfone polymer, polyethersulfone polymer, polystyrene polymer, polyolefin polymer, polyvinyl alcohol Examples of the polymer include cellulose polymers, cellulose acetate polymers, polyvinyl chloride polymers, polymethacrylate polymers, and triacetyl cellulose. These polymers can be used alone or in combination of two or more. Among these, cellulose resins such as diacetyl cellulose, propionyl cellulose, triacetyl cellulose, and butyryl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; A polymer resin having an alicyclic structure is preferable, and from the viewpoints of transparency and lightness, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and a polymer resin having an alicyclic structure are preferable, and from the viewpoint of dimensional stability and film thickness controllability. To polyethylene terephthalate and a polymer resin having an alicyclic structure are more preferable.
脂環式構造を有する重合体樹脂は、主鎖及び/又は側鎖に脂環式構造を有するものであり、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有するものが好ましい。 The polymer resin having an alicyclic structure has an alicyclic structure in the main chain and / or side chain, and contains an alicyclic structure in the main chain from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, etc. Is preferred.
重合体の脂環式構造としては、飽和脂環炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環炭化水素(シクロアルケン)構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が最も好ましい。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。本発明に使用される脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、もっとも好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると基材フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。 Examples of the alicyclic structure of the polymer include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene) structure. From the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, cycloalkane. A structure or a cycloalkene structure is preferable, and a cycloalkane structure is most preferable. The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15 in the mechanical strength, The properties of heat resistance and film formability are highly balanced and suitable. The proportion of the repeating unit containing the alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer used in the present invention may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 30% by weight or more, Preferably it is 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and most preferably 90% by weight or more. When the ratio of the repeating unit having an alicyclic structure in the polymer having an alicyclic structure is within this range, it is preferable from the viewpoint of the transparency and heat resistance of the base film.
脂環式構造を有する重合体樹脂は、具体的には、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン系重合体、(3)環状共役ジエン系重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加型共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開2002−321302号公報などに開示されている公知の重合体から選ばれる。
Specifically, the polymer resin having an alicyclic structure includes (1) a norbornene polymer, (2) a monocyclic olefin polymer, (3) a cyclic conjugated diene polymer, and (4) vinyl. Examples thereof include alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof. Among these, norbornene-based polymers are more preferable from the viewpoints of transparency and moldability.
Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrogenated products thereof, norbornene-based polymers Examples include addition polymers of monomers and addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers. Among these, from the viewpoint of transparency, a ring-opening (co) polymer hydrogenated product of a norbornene-based monomer is most preferable.
The polymer resin having the alicyclic structure is selected from known polymers disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-321302.
本発明に使用する透明樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは100〜250℃である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂を含んでなる基材フィルムは、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。 The glass transition temperature of the transparent resin used for this invention becomes like this. Preferably it is 80 degreeC or more, More preferably, it is 100-250 degreeC. A base film comprising a transparent resin having a glass transition temperature in such a range is excellent in durability without causing deformation or stress during use at high temperatures.
本発明に使用する透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(以下、「GPC」と略す。)で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常10,000〜100,000、好ましくは25,000〜80,000、より好ましくは25,000〜50,000である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the transparent resin used in the present invention is polyisoprene measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as “GPC”) using cyclohexane (toluene when the polymer resin is not dissolved) as a solvent. Or it is the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion, and is 10,000-100,000 normally, Preferably it is 25,000-80,000, More preferably, it is 25,000-50,000. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and moldability of the film are highly balanced and suitable.
本発明に用いる透明樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、通常1.0〜10.0、好ましくは1.0〜4.0、より好ましくは1.2〜3.5の範囲である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the transparent resin used in the present invention is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.0 to 4.0. Preferably it is the range of 1.2-3.5.
本発明の光学積層フィルムに使用する透明樹脂を含んでなる基材フィルムは、透明樹脂のみからなるものであるが、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料や顔料等の着色剤;帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは2種以上を組み合せて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂100重量部に対して、通常0〜5重量部、好ましくは0〜3重量部である。 The base film comprising the transparent resin used for the optical laminated film of the present invention is composed of only the transparent resin, but may contain other compounding agents. The compounding agent is not particularly limited, but inorganic fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; resins such as lubricants and plasticizers Modifiers; coloring agents such as dyes and pigments; antistatic agents and the like. These compounding agents can be used singly or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, and usually 0 to 100 parts by weight of the transparent resin. 5 parts by weight, preferably 0 to 3 parts by weight.
基材フィルムの膜厚は、機械的強度などの観点から、好ましくは30〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。
また、基材フィルムの膜厚変動が、基材フィルム全幅にわたって膜厚変動が前記膜厚の3%以内であることが好ましい。基材フィルムの膜厚変動が前記範囲にあることにより、ハードコート層の密着性及びその上に積層する低屈折率層の表面平滑性を向上させることができる。
The film thickness of the base film is preferably 30 to 300 μm, more preferably 40 to 200 μm from the viewpoint of mechanical strength and the like.
Moreover, it is preferable that the film thickness variation of the base film is within 3% of the film thickness over the entire width of the base film. When the film thickness fluctuation | variation of a base film exists in the said range, the adhesiveness of a hard-coat layer and the surface smoothness of the low-refractive-index layer laminated | stacked on it can be improved.
本発明において、前記基材フィルムのダイラインの深さ又は高さが0.1μm以下であることが好ましく、0.05μm以下であることがさらに好ましく、0.03μm以下であることが特に好ましい。基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを前記範囲とすることにより、本発明の光学積層フィルムを偏光板保護フィルムとして使用すると、ダイラインが目立たず、視認性に優れる。
ダイラインは、非接触式の3次元表面形状・粗さ測定機を用いて測定することができる。
In the present invention, the depth or height of the die line of the substrate film is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.03 μm or less. By setting the depth or height of the die line of the base film in the above range, when the optical laminated film of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the die line is not noticeable and excellent in visibility.
The die line can be measured using a non-contact type three-dimensional surface shape / roughness measuring machine.
本発明において、基材フィルムの揮発性成分の含有量が0.1重量%以下であることが好ましく、0.05重量%以下であることがさらに好ましい。揮発性成分の含有量が前記範囲であるものを使用すると、基材フィルムの寸法安定性が向上し、ハードコート層を積層する際の積層むらを小さくすることができる。加えて、フィルム全面にわたって均質な低屈折率層を形成させることができるので、フィルム全面にわたってむらのない反射防止効果が得ることができる。
揮発性成分は、基材フィルムに微量含まれる分子量200以下の物質であり、例えば、残留単量体や溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、透明樹脂に含まれる分子量200以下の物質の合計として、基材フィルムをガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。
In this invention, it is preferable that content of the volatile component of a base film is 0.1 weight% or less, and it is further more preferable that it is 0.05 weight% or less. When the content of the volatile component is within the above range, the dimensional stability of the base film is improved, and the lamination unevenness when the hard coat layer is laminated can be reduced. In addition, since a uniform low refractive index layer can be formed over the entire surface of the film, a uniform antireflection effect can be obtained over the entire surface of the film.
The volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less contained in a trace amount in the base film, and examples thereof include a residual monomer and a solvent. The content of the volatile component can be quantified by analyzing the base film by gas chromatography as the sum of substances having a molecular weight of 200 or less contained in the transparent resin.
本発明において、基材フィルムの飽和吸水率は、好ましくは0.01重量%以下、より好ましくは0.007重量%以下である。飽和吸水率が0.01重量%を超えると、ハードコート層と基材フィルムとの密着性、及びハードコート層と低屈折率層との密着性が低くなり、長期間の使用において低屈折率層の剥離が生じやすくなり好ましくない。
基材フィルムの飽和吸水率は、ASTM D530に従い、23℃で1週間浸漬して増加重量を測定することにより求めることができる。
In the present invention, the saturated water absorption of the substrate film is preferably 0.01% by weight or less, more preferably 0.007% by weight or less. When the saturated water absorption exceeds 0.01% by weight, the adhesiveness between the hard coat layer and the base film and the adhesiveness between the hard coat layer and the low refractive index layer are lowered, and the low refractive index is low for long-term use. Peeling of layers tends to occur, which is not preferable.
The saturated water absorption of the base film can be determined by immersing at 23 ° C. for 1 week and measuring the increased weight according to ASTM D530.
本発明に用いる基材フィルムとして、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用してもよい。表面改質処理を行うことにより、ハードコート層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時間などを調整する必要がある。
As the substrate film used in the present invention, one having one or both surfaces subjected to surface modification treatment may be used. By performing the surface modification treatment, the adhesion with the hard coat layer can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred.
As the chemical treatment, it may be immersed in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washed with water. It is effective to shake in the immersed state, but there is a problem that the surface will dissolve or the transparency will be lowered if treated for a long time. Depending on the reactivity and concentration of the chemical used, the treatment time etc. It needs to be adjusted.
本発明の光学積層フィルムに使用する基材フィルムを成形する方法としては、溶液流延法又は溶融押出成形法が挙げられる。中でも、基材フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さムラを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、ダイスを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。
基材フィルムを成形する方法として、Tダイを用いる方法を採用する場合、Tダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも80〜180℃高い温度にすることが好ましく、ガラス転移温度よりも100〜150℃高い温度にすることがより好ましい。押出機における溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。
Examples of the method for forming the base film used for the optical laminated film of the present invention include a solution casting method and a melt extrusion molding method. Among these, the melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile components in the base film and the thickness unevenness can be reduced. Furthermore, examples of the melt extrusion method include a method using a die and an inflation method, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
When adopting a method using a T die as a method for forming a base film, the melting temperature of the transparent resin in the extruder having the T die should be 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the transparent resin. The temperature is preferably 100 to 150 ° C. higher than the glass transition temperature. If the melting temperature in the extruder is excessively low, the fluidity of the transparent resin may be insufficient. Conversely, if the melting temperature is excessively high, the resin may be deteriorated.
また、本発明に使用する基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを0.1μm以下にするための手段としては、(1)ダイリップの先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキが施されたダイスを用いる;(2)ダイリップの内面にPVD(Phisical Vapor Deposition)法などにより、TiN、TiAlN、TiC、CrN、DLC(ダイアモンド状カーボン)などの被膜が形成されたダイスを用いる;(3)ダイリップの先端部にその他のセラミックスが溶射されたダイスを用いる;(4)ダイリップの先端部の表面を窒化処理したダイスを用いる方法;が挙げられる。
このようなダイスは、表面硬度が高く、樹脂との摩擦が小さいため、得られる基材フィルムに、焼けゴミなどが混入することを防止することができると共に、ダイラインを0.1μm以下にすることができる。
さらに表面精度の良いダイスを用いることにより、厚みむらを小さくすることが可能である。表面の微視的凹凸に関する表面粗さは、「平均高さRa」によって表すことができ、ダイス内面特にダイリップの先端部の平均高さRaが好ましくは0.2μm以下、より好ましくはRaが0.1μm以下である。
平均高さRaとは、JIS B 0601−2001によって定義される「算術平均高さRa」と同様のものであり、具体的には、測定曲線をカットオフ値0.8mmで位相補償型高域フィルターを通して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線からその平均線の方向に一定の基準長さを抜き取り、この抜き取り部分の平均線から粗さ曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均することにより求められる。
In addition, as means for reducing the depth or height of the die line of the base film used in the present invention to 0.1 μm or less, (1) the tip of the die lip is plated with chromium, nickel, titanium or the like. (2) Use a die in which a film such as TiN, TiAlN, TiC, CrN, or DLC (diamond-like carbon) is formed on the inner surface of the die lip by the PVD (Physical Vapor Deposition) method or the like; (3) And (4) a method of using a die obtained by nitriding the surface of the tip of the die lip.
Such a die has high surface hardness and low friction with the resin, so that it is possible to prevent burnt dust and the like from being mixed into the obtained base film, and to make the die line 0.1 μm or less. Can do.
Further, by using a die with good surface accuracy, it is possible to reduce the thickness unevenness. The surface roughness regarding the microscopic irregularities on the surface can be expressed by “average height Ra”, and the average height Ra of the die inner surface, particularly the tip of the die lip is preferably 0.2 μm or less, more preferably Ra is 0. .1 μm or less.
The average height Ra is the same as the “arithmetic average height Ra” defined by JIS B 0601-2001. Specifically, the measurement curve has a cutoff value of 0.8 mm and a phase compensated high frequency range. Obtain a roughness curve through a filter, extract a certain reference length from the roughness curve in the direction of the average line, and sum and average the absolute values of the deviations from the average line of the extracted part to the roughness curve. It is calculated by.
基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを0.1μm以下にするためのその他の手段としては、ダイリップに付着しているもの(例えば、ヤケやごみ)を取り除く、ダイリップの離型性をあげる、ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする、樹脂粉を減らす、樹脂ペレットの溶存酸素量を少なくする、溶融押出し機内にポリマーフィルターを設置するなどの方法が挙げられる。 Other means for reducing the depth or height of the die line of the base film to 0.1 μm or less are to remove the material adhering to the die lip (for example, burns and dust), and to improve the releasability of the die lip. Examples thereof include making the wettability of the die lip uniform over the entire surface, reducing the resin powder, reducing the amount of dissolved oxygen in the resin pellets, and installing a polymer filter in the melt extruder.
また、本発明の光学積層フィルムに使用する基材フィルムの揮発性成分の含有量を少なくするための手段としては、(1)透明樹脂自体の揮発性成分量を少なくする;(2)溶融押出成形法により基材フィルムを成形する;(3)フィルムを成形する前に用いる透明樹脂を予備乾燥する;などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば原料をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、基材フィルム中の揮発成分量を低減させる事ができ、さらに押し出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。 Moreover, as means for reducing the content of volatile components in the base film used in the optical laminated film of the present invention, (1) reducing the amount of volatile components in the transparent resin itself; (2) melt extrusion Examples thereof include a method of forming a base film by a forming method; (3) pre-drying a transparent resin used before forming the film; The preliminary drying is performed with a hot air dryer or the like, for example, in the form of pellets or the like. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing preliminary drying, the amount of volatile components in the base film can be reduced, and foaming of the transparent resin to be extruded can be prevented.
本発明の光学積層フィルムに使用するハードコート層を構成する材料としては、JIS K5600−5−4で示す鉛筆硬度試験(試験板はガラス板)で「2H」以上の硬度を示すことのできるものであれば、特に制限されない。
例えば、有機系シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機ハードコート材料;二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料;等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
本発明においては、使用するハードコート層の屈折率が、1.5以上であることが好ましく、1.53以上であることがさらに好ましく、1.55以上であることが特に好ましい。前記ハードコート層の屈折率が前記範囲であることにより、広帯域における反射防止性能に優れ、ハードコート層の上に積層する低屈折率層の設計が容易となり、耐擦傷性に優れる光学積層フィルムを得ることができる。
ハードコート層には、所望により、ハードコート層の屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、耐熱性、帯電防止性、防眩性などの向上を図る目的で、例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナ等の各種フィラーを添加してもよい。さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤等の各種添加剤を添加することもできる。
ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、屈折率や帯電防止性を調整する場合には、各種フィラーの中でもハードコート層の屈折率や帯電防止性を容易に調整可能であるという点で、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、5酸化アンチモン、錫をドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化錫(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化錫(FTO)が好ましく、透明性を維持できるという点から5酸化アンチモン、ITO、IZO、ATO、FTOがさらに好ましい。フィラーの大きさは、一次粒子径が1nm以上であり、且つ100nm以下、好ましくは30nm以下である。
ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、防眩性を付与する場合には、各種フィラーの中でも、平均粒径が0.5〜10μmのものが好ましく、1〜7μmのものがより好ましい。防眩性を付与するフィラーの具体例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂の樹脂フィラー;または酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ジルコニウム、ITO、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素等の無機フィラーが挙げられる。
The material constituting the hard coat layer used in the optical laminated film of the present invention can exhibit a hardness of 2H or higher in a pencil hardness test (test plate is a glass plate) shown in JIS K5600-5-4. If it is, it will not be restrict | limited in particular.
Examples thereof include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic, and urethane acrylate; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide; and the like. Of these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials are preferably used from the viewpoint of good adhesive strength and excellent productivity.
In the present invention, the refractive index of the hard coat layer to be used is preferably 1.5 or more, more preferably 1.53 or more, and particularly preferably 1.55 or more. An optical laminated film having excellent antireflection performance in a wide band, easy design of a low refractive index layer laminated on the hard coat layer, and excellent scratch resistance, because the refractive index of the hard coat layer is in the above range. Obtainable.
For the purpose of improving the refractive index of the hard coat layer, improving the flexural modulus, stabilizing the volume shrinkage, heat resistance, antistatic properties, antiglare properties, etc. Various fillers such as silica, alumina, and hydrated alumina may be added. Furthermore, various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, and an antifoaming agent can be added.
In the case where the hard coat layer contains a filler, when adjusting the refractive index and antistatic property, it is possible to easily adjust the refractive index and antistatic property of the hard coat layer among various fillers. Titanium, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), fluorine Doped tin oxide (FTO) is preferable, and antimony pentoxide, ITO, IZO, ATO, and FTO are more preferable from the viewpoint that transparency can be maintained. The filler has a primary particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, preferably 30 nm or less.
In the case of adding a filler to the hard coat layer, when imparting antiglare properties, among various fillers, those having an average particle size of 0.5 to 10 μm are preferable, and those having 1 to 7 μm are more preferable. Specific examples of fillers that impart antiglare properties include polymethyl methacrylate resin, fluorine resin, vinylidene fluoride resin, silicone resin, epoxy resin, nylon resin, polystyrene resin, phenol resin, polyurethane resin, crosslinked acrylic resin, crosslinked polystyrene. Resin fillers of resin, melamine resin, benzoguanamine resin; or inorganic fillers such as titanium oxide, aluminum oxide, indium oxide, zinc oxide, antimony oxide, tin oxide, zirconium oxide, ITO, magnesium fluoride, and silicon oxide.
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、加熱又は紫外線照射により、硬化させて形成する方法が挙げられる。
ハードコート層の厚さは、好ましくは0.5〜30μm、より好ましくは3〜15μmである。ハードコート層の厚さが薄すぎると、その上に形成する各層の硬度を維持できなくなり、また逆に厚すぎると光学積層フィルム全体の柔軟性が低下し、硬化に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。
The method for forming the hard coat layer is not particularly limited. For example, the hard coat layer forming coating solution is applied on a base film by a known coating method and cured by heating or ultraviolet irradiation. A method is mentioned.
The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm. If the thickness of the hard coat layer is too thin, it will not be possible to maintain the hardness of each layer formed on it, and conversely, if it is too thick, the flexibility of the entire optical laminated film will decrease, and it will take time to cure and decrease production efficiency May be incurred.
本発明の光学積層フィルムに使用する低屈折率層は、屈折率が1.35以下の層を構成する材料であれば、特に制限されないが、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。
エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気泡の大きさは大部分が200nm以下であり、気泡の含有量は通常10体積%以上60体積%以下、好ましくは20体積%以上40体積%以下である。
微小な気泡が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
シリカエアロゲルは、米国特許第4402927号公報、米国特許第4432956号公報、米国特許第4610863号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは二酸化炭素等の溶媒(分散媒)の存在下で、この溶媒の臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第5137279号公報、米国特許5124364号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。
The low refractive index layer used in the optical laminated film of the present invention is not particularly limited as long as it is a material constituting a layer having a refractive index of 1.35 or less, but it is easy to control the refractive index and is water resistant. In terms of superiority, airgel is preferred.
The airgel is a transparent porous body in which minute bubbles are dispersed in a matrix. Most of the size of the bubbles is 200 nm or less, and the content of the bubbles is usually 10% by volume or more and 60% by volume or less, preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
Specific examples of the airgel in which minute bubbles are dispersed include silica aerogel and a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix.
Silica airgel is a wet state composed of a silica skeleton obtained by hydrolysis polymerization reaction of alkoxysilane as disclosed in US Pat. No. 4,402,927, US Pat. No. 4,432,956, US Pat. No. 4,610,863 and the like. The gel-like compound can be produced by drying in a supercritical state above the critical point of the solvent in the presence of a solvent (dispersion medium) such as alcohol or carbon dioxide. In supercritical drying, for example, a gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or part of the solvent contained in the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a critical point lower than that of the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of or a mixed system of carbon dioxide and a solvent. Silica airgel may be produced in the same manner as described above using sodium silicate as a raw material as disclosed in US Pat. No. 5,137,279, US Pat. No. 5,124,364, and the like.
ここで、特開平5−279011号公報、特開平7−138375号公報に開示されているように、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。このように疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。 Here, as disclosed in JP-A-5-279011 and JP-A-7-138375, the gel-like compound obtained by hydrolysis and polymerization reaction of alkoxysilane as described above is hydrophobized. It is preferable to impart hydrophobicity to the silica airgel. Hydrophobic silica airgel imparted with hydrophobicity as described above can prevent moisture, water, and the like from entering, and prevent the performance of the silica airgel from being degraded in refractive index, light transmittance, and the like.
この疎水化処理の工程は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどしてゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行わせる方法があげられる。 This hydrophobization treatment step can be performed before or during supercritical drying of the gel compound. The hydrophobization treatment is performed to make the hydrophobization by reacting the hydroxyl group of the silanol group present on the surface of the gel compound with the functional group of the hydrophobization treatment agent and replacing it with the hydrophobic group of the hydrophobization treatment agent. . As a method of performing the hydrophobization treatment, the gel is immersed in a hydrophobization treatment solution in which the hydrophobization treatment agent is dissolved in a solvent, mixed, and so on. There is a method in which the hydrophobization reaction is performed by heating accordingly.
疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等を挙げることができるが、疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよく、これらに限定されるものではない。また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそれと置換可能なものが好ましい。また疎水化処理剤としては例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。 Examples of the solvent used for the hydrophobic treatment include methanol, ethanol, isopropanol, xylene, toluene, benzene, N, N-dimethylformamide, hexamethyldisiloxane, and the like, but the hydrophobic treatment agent can be easily dissolved. And what is necessary is just to be able to substitute for the solvent which the gel before hydrophobization treatment contains, and it is not limited to these. Further, when supercritical drying is performed in a later step, a medium that can be easily supercritically dried, such as methanol, ethanol, isopropanol, liquefied carbon dioxide, or the like, is preferable. Examples of the hydrophobizing agent include hexamethyldisilazane, hexamethyldisiloxane, trimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and methyltriethoxysilane. Etc.
シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
低屈折率層がシリカアエロゲルである場合の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前又は超臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。超臨界乾燥は、例えば前記ゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、該ゲル状化合物を含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥を行うことによって行うことができる。
The refractive index of silica airgel can be freely changed by the raw material compounding ratio of silica airgel.
When the low refractive index layer is a silica aerogel, the formation method is not particularly limited. For example, the gel compound is coated on the hard coat layer by a known coating method, and the supercritical drying is performed. The method of forming by performing is mentioned. Further, the hydrophobization treatment may be performed before or during supercritical drying. In the supercritical drying, for example, the gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or a part of the solvent containing the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a lower critical point than the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of carbon dioxide or a mixed system of carbon dioxide and a solvent.
中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開2001−233611号公報、特開2003−149642号公報に開示されているような、微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂、またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物が好ましい。
本発明において、低屈折率層として中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体を用いる場合には、低屈折率層の反射特性や防汚性を向上させることから、上記樹脂にフッ素樹脂を混合してもよい。
フッ素樹脂は結晶による光の散乱が実質的にない非晶性の含フッ素重合体であれば何ら限定されないが、中でもテトラフルオロエチレン/ビニリデンフルオライド/ヘキサフルオロプロピレン=37〜48重量%/15〜35重量%/26〜44重量%の3元共重合体などの非晶性のフルオロオレフィン系共重合体、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が機械的特性に優れるため好ましい。
As a porous material in which hollow particles are dispersed in a matrix, hollow fine particles having voids inside fine particles as disclosed in JP-A Nos. 2001-233611 and 2003-149642 are used as binder resins. And a porous material dispersed in the substrate.
The binder resin can be selected from resins suitable for conditions such as dispersibility of hollow fine particles, transparency of the porous body, and strength of the porous body. For example, conventionally used polyester resins and acrylic resins Resin, urethane resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, melamine resin, fluorine resin, silicon resin, butyral resin, phenol resin, vinyl acetate resin, UV curable resin, electron beam curable resin, emulsion resin, water-soluble resin, hydrophilic resin Further, a mixture of these resins, a coating resin such as a copolymer or a modified product of these resins, a hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane, and a hydrolyzate thereof can be used.
Among these, hydrolyzable organosilicon compounds such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, silicon resins, alkoxysilanes, and hydrolysates thereof are preferable from the viewpoint of the dispersibility of the fine particles and the strength of the porous body.
In the present invention, when a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix is used as the low refractive index layer, the reflection characteristics and antifouling properties of the low refractive index layer are improved. You may mix.
The fluororesin is not limited as long as it is an amorphous fluoropolymer that is substantially free of light scattering by crystals, but tetrafluoroethylene / vinylidene fluoride / hexafluoropropylene = 37-48 wt% / 15- An amorphous fluoroolefin copolymer such as a 35% by weight / 26 to 44% by weight terpolymer and a polymer having a fluorine-containing aliphatic ring structure are preferred because of excellent mechanical properties.
前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、-(O-Si)m-O-(式中、mは自然数を表す。)結合を有するものである。
(a)式(1):SiX4で表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
The hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane and the hydrolyzate thereof are formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and in the molecule: -(O-Si) m -O- (wherein m represents a natural number) has a bond.
(A) A compound represented by formula (1): SiX 4 .
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
前記(a)の式(1)で表される化合物において、Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根などの有機酸根;アセチルアセトナートなどのβ-ジケトナート基;硝酸根、硫酸根などの無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基などのアルコキシ基;または水酸基を表す。
これらの中でも、前記式(1)で表される化合物としては、式(2):RaSiY4-a〔式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が好ましい。
In the compound represented by the formula (1) in (a), X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; an oxygen atom; Organic acid radicals such as nitrate radicals; β-diketonate groups such as acetylacetonate; inorganic acid radicals such as nitrate radicals and sulfate radicals; alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, and n-butoxy groups; or hydroxyl groups Represents.
Among these, the compound represented by the formula (1) is represented by the formula (2): R a SiY 4-a [wherein R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent. And a represents an integer of 0 to 2, and when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. ] The silicon compound represented by this is preferable.
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などの置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基などのアラルキル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基などのハロアルキル基;3,3,3-トリフルオロプロピル基、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基などのパーフルオロアルキル基;γ-メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基などのエポキシ基を有するアルキル基;γ−メルカプトプロピル基などのメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基;などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射特性から、炭素数1〜4のアルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基が好ましい。 Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group and γ-chloropropyl group; 3,3,3-trifluoropropyl group, methyl-3,3,3-tri Perfluoroalkyl group such as fluoropropyl group, heptadecafluorodecyl group, trifluoropropyl group, tridecafluorooctyl group; Alkenylcarbonyloxyalkyl groups such as methacryloxypropyl groups; alkyl groups having epoxy groups such as γ-glycidoxypropyl groups and 3,4-epoxycyclohexylethyl groups; alkyl groups having mercapto groups such as γ-mercaptopropyl groups An alkyl group having an amino group such as a 3-aminopropyl group; Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a perfluoroalkyl group, and a phenyl group are preferable because of easy synthesis, easy availability, and low reflection characteristics.
前記式(2)においてYは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、-(O-Si)m-O-結合を生じせしめる基をいう。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基;オキシム基(-O-N=C-R'(R''))、エノキシ基(-O-C(R')=C(R'')R''')、アミノ基、アミノキシ基(-O-N(R')R'')、アミド基(-N(R’)-C(=O)-R'')等が挙げられる。これらの基において、R'、R''、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。
In the formula (2), Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.
Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″) )), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (— N (R ′) — C (═O) —R ″) and the like. In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the viewpoint of availability.
前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。 The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.
前記式(2)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。 The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.
前記(b)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(1)で表される化合物の1種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。 At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (1) of (b), and represented by formula (1) of (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by fully or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (1). Can be obtained by condensation.
化合物(3)および化合物(4)は、例えば、Si(Or)4(rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[H2O]/[Or]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。 Compound (3) and compound (4) are, for example, a metal tetraalkoxide represented by Si (Or) 4 (r represents a monovalent hydrocarbon group) and a molar ratio [H 2 O] / [Or ] Is 1.0 or more, for example, 1.0 to 5.0, preferably 1.0 to 3.0, and can be obtained by hydrolysis in the presence of water. Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.
前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required, an acid catalyst is preferred.
The acid catalyst to be used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, Organic acids such as acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.
前記化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。 The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.
中空微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子が好ましく、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2-Al2O3、TiO2-ZrO2、In2O3-SnO2、Sb2O3-SnO2を例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hollow fine particles are not particularly limited as long as they are fine particles of an inorganic compound, but inorganic hollow fine particles in which cavities are formed inside the outer shell are preferable, and use of silica-based hollow fine particles is particularly preferable.
As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO One or two or more of 3 or the like can be mentioned. Examples of the two or more inorganic oxides include TiO 2 —Al 2 O 3 , TiO 2 —ZrO 2 , In 2 O 3 —SnO 2 , and Sb 2 O 3 —SnO 2 . These can be used alone or in combination of two or more.
無機中空微粒子としては、(A)無機酸化物単一層、(B)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)と(B)との二重層を包含するものを用いることができる。 As the inorganic hollow fine particles, (A) an inorganic oxide single layer, (B) a single layer of a composite oxide composed of different kinds of inorganic oxides, and (C) a double layer of (A) and (B) above What is included can be used.
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等をあげることが出来る。 The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the cavity sealed with respect to the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell are closed to make the outer shell dense, and furthermore, the inorganic hollow fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained. In particular, when a fluorine-containing organosilicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the coating layer containing fluorine atoms is formed, so that the resulting particles have a lower refractive index and are reduced to an organic solvent. The dispersibility is good, and it is also effective for imparting antifouling properties to the low refractive index layer, which is preferable. Such fluorine-containing organic silicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl. Examples thereof include trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。 The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow fine particles may not maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the inorganic hollow fine particles are small, and as a result, the ratio of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently lowered. Furthermore, the thickness of the outer shell is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the inorganic hollow fine particles.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. For the densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
The cavity may contain the solvent used when preparing the inorganic hollow fine particles and / or a gas that enters during drying, and a precursor material for forming the cavity described later remains in the cavity. Also good.
The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell or may occupy most of the interior of the cavity.
The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. When the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the cavity increases, and inorganic hollow fine particles having a low refractive index are obtained. The transparent coating obtained by blending these inorganic hollow fine particles reflects with a low refractive index. Excellent prevention performance.
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmが好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 The average particle size of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness is small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is extremely deteriorated, and the contribution due to diffuse reflection increases. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開2001-233611号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。 The method for producing inorganic hollow fine particles as described above is described in detail, for example, in JP-A-2001-233611, and the inorganic hollow fine particles that can be used in the present invention are produced based on the method described therein. In addition, commercially available inorganic hollow fine particles can also be used.
無機微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、10〜30重量%であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と耐擦傷性を兼ね備えた光学積層フィルムを得ることができる。 The blending amount of the inorganic fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. When the blending amount of the inorganic fine particles is within this range, an optical laminated film having both low refractive index properties and scratch resistance can be obtained.
前記無機微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;などが挙げられる。これらの有機溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 The inorganic fine particles can also be used in the form of a dispersion. The type of the organic solvent used in the dispersion is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol mono Ethylene glycol derivatives such as butyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic carbonization such as n-hexane and n-heptane Hydrogen; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
低屈折率層が中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体である場合の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に少なくとも微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂を含有してなる塗布液を公知の塗工方法により塗工し、必要に応じ乾燥・加熱処理を施す方法が挙げられる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。 The formation method is not particularly limited when the low refractive index layer is a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix. For example, hollow fine particles having voids at least inside the fine particles on a hard coat layer are bound as binders. Examples thereof include a method in which a coating solution containing a resin is applied by a known coating method and, if necessary, drying / heating treatment is performed. The temperature of the heating performed as necessary is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.
本発明において、低屈折率層の屈折率は、1.35以下、好ましくは1.34〜1.25、さらに好ましくは1.34〜1.30である。低屈折率層の屈折率を上記範囲とすることにより、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた光学積層フィルムを得ることができる。
本発明において、低屈折率層の厚さは、10〜1000nm、好ましくは30〜500nmである。
In the present invention, the refractive index of the low refractive index layer is 1.35 or less, preferably 1.34 to 1.25, and more preferably 1.34 to 1.30. By setting the refractive index of the low refractive index layer within the above range, an optical laminated film having an excellent balance between antireflection performance and scratch resistance can be obtained.
In the present invention, the thickness of the low refractive index layer is 10 to 1000 nm, preferably 30 to 500 nm.
本発明の光学積層フィルムの層構成の一例を図1に示す。図1に示す光学積層フィルム50は、図中下側から、基材フィルム層11、ハードコート層21、及び低屈折率層31からなっている。
An example of the layer structure of the optical laminated film of the present invention is shown in FIG. An optical
本発明の光学積層フィルムにおいては、基材フィルムとハードコート層との間にその他の層を介在させることができる。その他の層としては、プライマー層(図示を省略)が挙げられる。 In the optical laminated film of the present invention, other layers can be interposed between the base film and the hard coat layer. Examples of other layers include primer layers (not shown).
プライマー層は、基材フィルムとハードコート層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリブタジエン骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム又はこれらの重合体に極性基を導入した変性物が挙げられる。
なかでも、主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリブタジエン骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物が好ましい。
The primer layer is formed for the purpose of imparting and improving the adhesion between the base film and the hard coat layer. Materials constituting the primer layer include polyester urethane resins, polyether urethane resins, polyisocyanate resins, polyolefin resins, resins having a hydrocarbon skeleton and / or a polybutadiene skeleton in the main chain, polyamide resins, and acrylic resins. , Polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, chlorinated rubber, cyclized rubber, or modified products in which polar groups are introduced into these polymers.
Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton and / or a polybutadiene skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber are preferable.
主鎖に炭化水素骨格及び/又はポリブタジエン骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格もしくはその少なくとも一部を水素添加した骨格を有する樹脂、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)及びその水素添加物(SEBS共重合体)などが挙げられる。中でも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物が好ましい。 As the resin having a hydrocarbon skeleton and / or a polybutadiene skeleton in the main chain, a resin having a polybutadiene skeleton or a skeleton obtained by hydrogenation of at least a part thereof, specifically, a polybutadiene resin, a hydrogenated polybutadiene resin, a styrene-butadiene, Examples thereof include a styrene block copolymer (SBS copolymer) and a hydrogenated product thereof (SEBS copolymer). Among these, a modified product of a hydrogenated product of styrene / butadiene / styrene block copolymer is preferable.
導入する極性基としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましく、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等による変性物が挙げられ、密着性に優れることから、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物が好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等を、2種以上を混合して用い、変性してもよい。 The polar group to be introduced is preferably a carboxylic acid or a derivative thereof, specifically, an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid or fumaric acid; maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride, citraconic anhydride Derivatives such as unsaturated carboxylic acid halides, amides, imides, anhydrides, esters, etc .; and the like, and because of excellent adhesion, modification with unsaturated carboxylic acid or unsaturated carboxylic acid anhydride Products are preferred, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and maleic anhydride are more preferred, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferred. These unsaturated carboxylic acids and the like may be modified by mixing two or more kinds.
プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。
プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。
The method for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer layer forming coating solution is applied on a substrate film by a known coating method.
The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.
本発明の光学積層フィルムにおいては、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層の上に防汚層(図示を省略)をさらに有してもよい。
防汚層を構成する材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、CVD等の化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。
The optical laminated film of the present invention may further have an antifouling layer (not shown) on the low refractive index layer in order to protect the low refractive index layer and improve the antifouling performance.
The material constituting the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not hindered and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used. As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As a method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering, a chemical vapor deposition method such as CVD, a wet coating method, or the like can be used. The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.
本発明の光学積層フィルムは、波長550nmにおける反射率が0.8%以下でかつ波長430〜700nmにおける反射率が1.2%以下であり、好ましくは、波長550nmにおける反射率が0.7%以下でかつ波長430〜700nmにおける反射率が1.1%以下であり、さらに好ましくは、波長550nmにおける反射率が0.7%以下でかつ波長430〜700nmにおける反射率が1.0%以下である。反射率が上記範囲であることにより、反射光による表面のギラツキがないので、表示内容の視認性に優れる。さらに反射率が広帯域にわたり小さいので、反射光が着色することなく、表示内容の色調を正確に再現することができる。ここで、波長430〜700nmにおける反射率は、波長430nm〜700nmにおける反射率の内、最大値を波長430〜700nmにおける反射率とする。 The optical laminated film of the present invention has a reflectance of 0.8% or less at a wavelength of 550 nm and a reflectance of 1.2% or less at a wavelength of 430 to 700 nm, preferably a reflectance of 0.7% at a wavelength of 550 nm. The reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm is 1.1% or less, and more preferably, the reflectance at a wavelength of 550 nm is 0.7% or less and the reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm is 1.0% or less. is there. When the reflectance is in the above range, there is no glare on the surface due to the reflected light, and thus the display content is excellent in visibility. Furthermore, since the reflectance is small over a wide band, the color tone of the display content can be accurately reproduced without coloring the reflected light. Here, the reflectance in the wavelength of 430-700 nm makes the maximum value the reflectance in wavelength 430-700 nm among the reflectance in wavelength 430-700 nm.
本発明の光学積層フィルムは、光学特性に優れ、反射率が低いことから、光学部材の反射防止性保護フィルムとしての用途が好ましい。
反射防止性保護フィルムは、一般に液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、EL素子、陰極管表示装置などの画像表示装置やタッチパネル等の光学装置において、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために用いられている。これらの反射防止性保護フィルムは、通常各光学装置における視認側最上層に形成されている光学部材の反射防止性保護フィルムとして設けられることが多い。
Since the optical laminated film of the present invention is excellent in optical properties and has a low reflectance, it is preferably used as an antireflection protective film for optical members.
Anti-reflection protective films generally reduce contrast and image reflection due to reflection of external light in image display devices such as liquid crystal display devices, plasma display panels, EL elements, cathode ray tube display devices, and optical devices such as touch panels. Used to prevent. These antireflection protective films are often provided as an antireflection protective film for optical members usually formed in the uppermost layer on the viewing side in each optical device.
本発明の光学積層フィルムは、前記光学部材として、特に液晶表示装置における偏光板の保護フィルムに適用することが好ましい。 The optical laminated film of the present invention is preferably applied as a protective film for a polarizing plate in a liquid crystal display device as the optical member.
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜が積層されてなる。 The polarizing plate with an antireflection function of the present invention is formed by laminating a polarizing film on the surface opposite to the surface on which the low refractive index layer of the base film of the optical laminated film of the present invention is provided.
本発明で使用できる偏光膜は、偏光子としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系やポリエン系の偏光膜が挙げられる。
本発明においては、用いる偏光膜として、偏光度が99.9%以上のものが好ましく、99.95%以上であることがさらに好ましい。偏光膜の偏光度が前記範囲であることにより、反射によるコントラストの低下がなく、液晶表示を黒表示にしたときの再現性に優れる。偏光度は、2枚の偏光膜を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率(H0)と、直交に重ね合わせた場合の透過率(H90)それぞれを、JIS Z8701の2度視野(C光源)により、分光光度計を用いて測定し、これらを用いて以下の式から求めることができる。なお、前記H0及びH90は、視感度補正したY値である。
偏光度(%)=[(H0−H90)/(H0+H90)]1/2×100
偏光膜の製造方法は特に限定されない。PVA系の偏光膜を製造する方法としては、PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、PVA系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光膜を製造する方法としては、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。
The polarizing film that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has a function as a polarizer. For example, a polyvinyl alcohol (PVA) -based or polyene-based polarizing film can be used.
In the present invention, the polarizing film to be used preferably has a polarization degree of 99.9% or more, more preferably 99.95% or more. When the polarization degree of the polarizing film is in the above range, there is no reduction in contrast due to reflection, and the reproducibility when the liquid crystal display is black is excellent. As for the degree of polarization, the transmittance (H 0 ) when two polarizing films are superposed so that their polarization axes are parallel to each other, and the transmittance (H 90 ) when they are superposed orthogonally are JIS Z8701 It can be measured using a spectrophotometer with a 2-degree field of view (C light source), and can be obtained from the following equation using these. Note that H 0 and H 90 are Y values corrected for visibility.
Polarization degree (%) = [(H 0 −H 90 ) / (H 0 + H 90 )] 1/2 × 100
The manufacturing method of a polarizing film is not specifically limited. As a method for producing a PVA-based polarizing film, a method of stretching uniaxially after iodine ions are adsorbed on a PVA-based film, a method of adsorbing iodine ions after stretching a uniaxially stretched PVA-based film, A method of simultaneously performing iodine ion adsorption and uniaxial stretching, a method of stretching a uniaxial film after dyeing a PVA film with a dichroic dye, a method of stretching a uniaxial film and then adsorbing with a dichroic dye, a PVA system The method of performing simultaneously dyeing | staining with a dichroic dye and uniaxial stretching to a film is mentioned. In addition, as a method for producing a polyene polarizing film, a method of heating and dehydrating in the presence of a dehydration catalyst after stretching a PVA film uniaxially, a method of stretching a polyvinyl chloride film uniaxially and then in the presence of a dehydrochlorination catalyst And publicly known methods such as heating and dehydrating.
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜を積層することにより製造することができる。
基材フィルムと偏光膜との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。
The polarizing plate with an antireflection function of the present invention can be produced by laminating a polarizing film on the surface opposite to the surface on which the low refractive index layer of the base film of the optical laminated film of the present invention is provided. it can.
Lamination | stacking with a base film and a polarizing film can be bonded together using appropriate adhesion means, such as an adhesive agent and an adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, an acrylic type is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency.
本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図を図2に示す。図2に示す反射防止機能付偏光板81は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルム11の低屈折率層31が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層61を介して、偏光膜71及び保護フィルム41が積層された構造を有している。
FIG. 2 shows a sectional view of the layer structure of the polarizing plate with antireflection function of the present invention. The
本発明の反射防止機能付偏光板においては、図2に示すように偏光膜の基材フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、別の保護フィルム(図2の番号41を参照)が積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロースエステルや脂環式構造を有する重合体樹脂などが挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性などに優れる点から脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、本発明の基材フィルムの部分で記載したものと同様のものが挙げられる。本発明においては、使用する保護フィルムは、等方性でもよく、複屈折性を有していてもよい。前記保護フィルムが、複屈折性を有している場合は、液晶表示装置の形成に際して積層する位相差板をこの保護フィルムが兼ねることができ、部材の薄型化が可能になる。接着剤又は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光膜との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。本発明の反射防止機能付偏光板の厚みは、特に制限されないが、通常60μm〜2mmの範囲である。
In the polarizing plate with antireflection function of the present invention, as shown in FIG. 2, another protective film (see FIG. 2) is provided on the surface on which the base film of the polarizing film is not laminated via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive layer. 2 (see
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置に用いる液晶表示素子、タッチパネル等が挙げられる。 The optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention. Preferable specific examples of the optical product of the present invention include a liquid crystal display element and a touch panel used for a liquid crystal display device.
本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示素子の層構成例を図3に示す。図3に示す液晶表示素子は、下から順に、下側偏光板91、位相差板92、液晶セル93、及び本発明の反射防止機能付偏光板81からなる。反射防止機能付偏光板81は、液晶セル93上に、接着剤又は粘着剤(図示を省略)を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル93は、例えば図4に示すように、透明電極94を備えた電極基板95の2枚をそれぞれ透明電極94が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶96を封入することにより作製される。図4中、97はシールである。
As an example of an optical product including the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, FIG. The liquid crystal display element shown in FIG. 3 includes a lower
液晶96の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、例えば、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment Nematic)型、MVA(Multiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型、などが挙げられる。
また、図3に示す液晶表示素子は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
この液晶表示素子を用いて液晶表示装置を形成するには、他の部材、例えば、輝度向上フィルム、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライト等の適宜な部品を適宜な位置に1層又は2層以上配置すればよい。また、これらの配置方法は従来の液晶表示装置の配置方法で行えばよい。
The liquid crystal mode of the
Further, the liquid crystal display element shown in FIG. 3 has a normally white mode in which a bright display is applied when the applied voltage is low, a dark display when the applied voltage is high, a dark display when the applied voltage is low, and a normally black mode which is bright when the applied voltage is high. Can be used.
In order to form a liquid crystal display device using this liquid crystal display element, other members, for example, appropriate components such as a brightness enhancement film, a prism array sheet, a lens array sheet, a light guide plate, a light diffusion plate, and a backlight are appropriately used. One layer or two or more layers may be disposed at any position. These arrangement methods may be performed by the conventional arrangement method of the liquid crystal display device.
本発明の光学製品は、広帯域にわたって低反射率を達成できる反射防止機能付偏光板を備える。従って、特に液晶表示装置に用いた場合に、視認性に優れ(グレアや映り込みがない)、さらに明暗表示のコントラストに優れる。 The optical product of the present invention includes a polarizing plate with an antireflection function capable of achieving a low reflectance over a wide band. Therefore, particularly when used in a liquid crystal display device, the visibility is excellent (there is no glare or reflection) and the contrast of bright and dark display is excellent.
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
(1)基材フィルムの膜厚(基準膜厚、膜厚変動値)
フィルムを長さ方向に100mm毎に切り出し、その切り出したフィルムについて、接触式ウェブ厚さ計(明産社製、RC−101)を用いて、フィルムの幅方向に0.48mm毎に測定し、その測定値の算術平均値を基準膜厚T(μm)とする。膜厚変動は、前記測定した膜厚の内最大値をTMAX(μm)、最小値をTMIN(μm)として以下の式から算出する。
膜厚変動(%)=(TMAX−TMIN)/T×100
(2)基材フィルムのダイラインの深さ又は高さ
非接触3次元表面形状・粗さ測定機(ザイゴ社製)を用いて、横5.6mm×縦4.4mmの視野で、縦を480分割、横を640分割して640×480升目で観察する。
(3)基材フィルムの揮発性成分の含有量
基材フィルム200mgを、表面に吸着していた水分や有機物を完全に除去した内径4mmのガラスチューブの試料容器に入れる。次に、その容器を温度100℃で60分間加熱し、容器から出てきた気体を連続的に捕集する。そして、捕集した気体を熱脱着ガスクロマトグラフィー質量分析計(TDS-GC-MS)で分析し、その中で分子量200以下の成分の合計量を残留揮発性成分として測定する。
(4)基材フィルムの飽和吸水率
ASTM D530に従い、23℃で1週間浸漬して増加重量を測定することにより求める。
(5)ハードコート層及び低屈折率層の屈折率
高速分光エリプソメーター(J.A.Woollam社製、M−2000U)を用いて、測定波長245〜1000nm、入射角55°、60°及び65°で測定し、その測定値を元に算出した値を屈折率とする。
(6)偏光膜の偏光度
2枚の偏光膜を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率(H0)と、直交に重ね合わせた場合の透過率(H90)を、JIS Z8701の2度視野(C光源)により、分光光度計を用いて測定し、以下の式から偏光度を求める。なお、前記H0及びH90は、視感度補正したY値である。
偏光度(%)=[(H0−H90)/(H0+H90)]1/2×100
(6)反射率
分光光度計(日本分光社製:「紫外可視近赤外分光光度計 V−570」)を用い、入射角5°にて反射スペクトルを測定し、波長430〜700nmにおける反射率を求め、波長550nmにおける反射率と、波長430〜700nmにおける反射率の最大値を波長430〜700nmにおける反射率とする。
The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.
Evaluation in this example is performed by the following method.
(1) Film thickness of the base film (reference film thickness, film thickness fluctuation value)
The film is cut every 100 mm in the length direction, and the cut film is measured every 0.48 mm in the width direction of the film using a contact web thickness meter (manufactured by Meisho Co., Ltd., RC-101). The arithmetic average value of the measured values is defined as a reference film thickness T (μm). The film thickness variation is calculated from the following equation, with the maximum value of the measured film thickness being T MAX (μm) and the minimum value being T MIN (μm).
Film thickness variation (%) = (T MAX −T MIN ) / T × 100
(2) Depth or height of die line of substrate film Using a non-contact three-dimensional surface shape / roughness measuring machine (manufactured by Zygo Co., Ltd.), with a field of view of 5.6 mm in width and 4.4 mm in length, the length is 480 Divide and divide the side by 640 and observe at 640 × 480 squares.
(3) Content of volatile component of base film 200 mg of the base film is put into a sample container of a glass tube having an inner diameter of 4 mm from which moisture and organic substances adsorbed on the surface are completely removed. Next, the container is heated at a temperature of 100 ° C. for 60 minutes, and the gas coming out of the container is continuously collected. The collected gas is analyzed by a thermal desorption gas chromatography mass spectrometer (TDS-GC-MS), and the total amount of components having a molecular weight of 200 or less is measured as a residual volatile component.
(4) Saturated water absorption rate of substrate film It is determined by immersing at 23 ° C. for 1 week and measuring the increased weight according to ASTM D530.
(5) Refractive Index of Hard Coat Layer and Low Refractive Index Layer Using a high-speed spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA Woollam, M-2000U), measurement wavelength 245 to 1000 nm, incident angles 55 °, 60 ° and 65 Measured at °, and the value calculated based on the measured value is taken as the refractive index.
(6) Polarization degree of polarizing film The transmittance (H 0 ) when two polarizing films are superposed so that their polarization axes are parallel, and the transmittance (H 90 ) when they are superposed orthogonally, Measured using a spectrophotometer with a two-degree field of view (C light source) of JIS Z8701, and the degree of polarization is obtained from the following equation. Note that H 0 and H 90 are Y values corrected for visibility.
Polarization degree (%) = [(H 0 −H 90 ) / (H 0 + H 90 )] 1/2 × 100
(6) Reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation: “UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570”), the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 °, and the reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm. And the maximum value of the reflectance at a wavelength of 550 nm and the reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm is defined as the reflectance at a wavelength of 430 to 700 nm.
(7)視認性
得られた反射防止機能付偏光板を適当な大きさ(10インチ四方)に切り出し、低屈折率層を形成させたほうの面を上面にして、図3に示すように液晶表示素子に組み込んで液晶表示素子を作製する。次いで、市販のライトボックス(商品名:ライトビュア-7000PRO、ハクバ写真産業社製)の上に、前記液晶表示素子をのせて簡易液晶パネルを作製し、液晶表示素子の表示を黒にして、正面よりパネルを目視にて観察し、以下の3段階で評価を行う。
○:グレア(視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や見にくさのことで、光源から直接又は間接に受けるギラギラしたまぶしさなどのことをいう)や映りこみがまったくない。
△:グレアや映りこみが少し見られる。
×:グレアや映りこみが画面全面で見られる。
なお、図3に示す液晶表示素子は、液晶セル93の片面に反射防止機能付偏光板81、他面に位相差板92を介して下側偏光板91を積層することにより構成される。液晶セル93は、透明電極94を備えた電極基板95の透明電極94面に配向膜を形成した後、その透明電極94を備えた電極基板95を2枚それぞれの透明電極94が対向する状態で所定の間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液晶96を封入することにより作製される。97はシールである。この液晶表示素子は、プラスチックの額縁に固定することによって保持される。
反射防止機能付偏光板81は、偏光膜71に接着剤又は粘着剤からなる層61を介して、偏光膜の上側に光学積層フィルム50が積層されている。
(7) Visibility The obtained polarizing plate with antireflection function was cut out to an appropriate size (10 inches square), and the liquid crystal as shown in FIG. A liquid crystal display element is manufactured by incorporating into a display element. Next, a simple liquid crystal panel is prepared by placing the liquid crystal display element on a commercially available light box (trade name: Light Viewer-7000PRO, manufactured by Hakuba Photo Industry Co., Ltd.). The panel is visually observed and evaluated in the following three stages.
○: Glare (discomfort or difficulty in viewing due to excessively bright spots or surfaces in the field of view, meaning glare directly or indirectly received from the light source) or reflection Not at all.
Δ: Some glare or reflection is seen.
X: Glare and reflection can be seen on the entire screen.
The liquid crystal display element shown in FIG. 3 is configured by laminating a
In the
(8)コントラスト
前記(7)で作成した簡易液晶表示パネルを暗室に設置し、暗表示の時と明表示の時の正面から5°の位置における輝度を色彩輝度計(トプコン社製、色彩輝度計BM−7)を用いて測定する。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比(=明表示の輝度/暗表示の輝度)を計算し、これをコントラストとする。コントラストが大きいほど、視認性に優れる。
(8) Contrast The simple liquid crystal display panel created in (7) above is installed in a dark room, and the luminance at a position of 5 ° from the front at the time of dark display and light display is measured by a color luminance meter (manufactured by Topcon, color luminance). Measured using a total of BM-7). Then, the ratio between the brightness of the bright display and the brightness of the dark display (= brightness of the bright display / brightness of the dark display) is calculated and used as the contrast. The greater the contrast, the better the visibility.
(9)傷つき性
偏光板のハードコート層及び低屈折率が積層されている方の面にスチールウール♯0000をあて、スチールウールに荷重0.05MPaをかけた状態で10往復させ、10往復させたあとの偏光板の表面状態を目視で観察する。傷のまったくないものを○、弱い傷がわずかに見られるものを△、明らかに傷が認められるものを×とする。
(9) Scratch property The steel wool # 0000 is applied to the surface of the polarizing plate where the hard coat layer and the low refractive index are laminated, and the steel wool is subjected to 10 reciprocations with a load of 0.05 MPa applied. After that, the surface state of the polarizing plate is visually observed. ◯ indicates that there is no scratch, Δ indicates that a slight scratch is observed, and X indicates that a scratch is clearly observed.
(製造例1)基材フィルム1Aの製造
ノルボルネン系重合体(製品名「ZEONOR 1420R」、日本ゼオン社製;ガラス転移温度136℃、飽和吸水率0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて110℃で、4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター(濾過精度30μm)を設置したダイリップの先端部にクロムめっきを施した平均表面高さRa=0.05μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、260℃で溶融押出して600mm幅の基材フィルムを得た。得られた基材フィルムの揮発性成分の含有量は0.01重量%以下、飽和吸水率は0.01重量%以下であった。また、この基材フィルム1Aの基準膜厚は40μm、膜厚変動は2.3%、ダイラインの深さは0.028μmであった。
(Production Example 1) Production of base film 1A A pellet of a norbornene polymer (product name “ZEONOR 1420R”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 136 ° C., saturated water absorption less than 0.01% by weight) It dried for 4 hours at 110 degreeC using the distribute | circulated hot air dryer. And this pellet was coated with a coat hanger type T-die with a lip width of 650 mm with an average surface height Ra = 0.05 μm and a chrome-plated tip of the die lip provided with a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy 30 μm). Using a short shaft extruder, the substrate was melt extruded at 260 ° C. to obtain a base film having a width of 600 mm. The content of the volatile component of the obtained base film was 0.01% by weight or less, and the saturated water absorption was 0.01% by weight or less. The base film 1A had a reference film thickness of 40 μm, a film thickness variation of 2.3%, and a die line depth of 0.028 μm.
(製造例2)ハードコート剤1の調製
5酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度30%、触媒化成社製)100重量部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート(商品名:紫光UV7000B、日本合成化学社製)10重量部、光重合開始剤(商品名:イルガキュアー184、チバガイギー社製)0.4重量部を混合し、紫外線硬化型のハードコート剤1を得た。
(Production Example 2) Preparation of hard coating agent 1 Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content concentration 30%, manufactured by Catalytic Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight, UV curable urethane acrylate (trade name: Shigamine UV7000B, Nippon Synthetic Chemical) 10 parts by weight) and a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, Ciba Geigy) 0.4 parts by weight were mixed to obtain an ultraviolet curable hard coat agent 1.
(製造例3)ハードコート剤2の調製
アクリル系紫外線硬化型組成物(日本化薬社製、商品名「KAYANOVAFOP-5000」)30部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤2を得た。
(Production Example 3) Preparation of hard coating agent 2 30 parts of an acrylic ultraviolet curable composition (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “KAYANOVAFOP-5000”) is mixed with a homogenizer, and is made of an ultraviolet curable resin composition. A coating agent 2 was obtained.
(製造例4)高屈折率層用組成物の調製
ポリメチルメタクリレート(三菱レーヨン社製、アクリペットVH)32部、メチルエチルケトン4900部をポリメチルメタクリレートを溶解するまでよく混合した後、TiO2微粒子(シーアイ化成製、NanoTek TiO2(ルチル)、トルエンスラリー15%)68部を加え、ディスパーでよく混合し高屈折率層用組成物を得た。
(Production Example 4) Preparation of polymethyl methacrylate of the high refractive index layer composition (Mitsubishi Rayon Co., ACRYPET VH) 32 parts, was mixed well methyl ethyl ketone 4900 parts until dissolved polymethylmethacrylate, TiO 2 fine particles ( 68 parts of Cai Kasei, NanoTek TiO 2 (rutile), toluene slurry 15%) were added and mixed well with a disper to obtain a composition for a high refractive index layer.
(製造例5)低屈折率層用塗布液1の調製
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器にメチルメタクリレート90部、n−ブチルアクリレート40部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン20部、キシレン130部を加え混合した後、攪拌しながら80℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル4部をキシレン10部に溶解したものを30分間かけて滴下し、さらに80℃で5時間反応させて固形分濃度50%のシリル基含有ビニル樹脂溶液を得た。このシリル基含有ビニル系樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量は12000であり、ポリマー1分子あたり平均6個のシリル基を含有していることが推定された。
次に還流冷却器を備えた反応器、メチルトリメトキシシラン100部、ジメチルジメトキシシラン10部、上記シリル基含有ビニル樹脂溶液50部、アルミニウムトリス(エチル)アセトアセテート10部、イソプロピルアルコール30部を加え混合した後、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させた後、室温まで冷却し、アセチルアセトン7部を添加し低屈折率層用塗布液1を得た。
(Production Example 5) Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer 90 parts of methyl methacrylate, 40 parts of n-butyl acrylate, 20 parts of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, xylene in a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer After adding 130 parts and mixing, the mixture was heated to 80 ° C. with stirring. To this mixture, 4 parts of azobisisovaleronitrile dissolved in 10 parts of xylene was added dropwise over 30 minutes, and further at 80 ° C. for 5 hours. A silyl group-containing vinyl resin solution with a solid content concentration of 50% was obtained by reaction. The number average molecular weight in terms of polystyrene of this silyl group-containing vinyl resin by gel permeation chromatography was 12000, and it was estimated that the polymer contains an average of 6 silyl groups per molecule.
Next, a reactor equipped with a reflux condenser, 100 parts of methyltrimethoxysilane, 10 parts of dimethyldimethoxysilane, 50 parts of the silyl group-containing vinyl resin solution, 10 parts of aluminum tris (ethyl) acetoacetate, and 30 parts of isopropyl alcohol were added. After mixing, 30 parts of ion exchange water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature, and 7 parts of acetylacetone was added to obtain a coating solution 1 for low refractive index layer.
(製造例6)低屈折率層用塗布液2の調製
テトラエトキシシラン208部にメタノール356部を加え、さらに水18部および、0.01Nの塩酸18部を混合し、これをディスパーを用いてよく混合した。この混合液を25℃恒温漕中で2時間攪拌して、重量平均分子量を850に調整することにより、4官能シリコーンレジンを得た。次にこの4官能シリコーンレジンに、中空シリカ微粒子成分として中空シリカイソプロパノール(IPA)分散ゾル(固形分20質量%、平均1次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm、触媒化成工業製)を用い、中空シリカ微粒子/4官能シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で質量比が85/25となるように添加し、その後、全固形分が10質量%になるようにメタノールで希釈して、低屈折率層用塗布液2を得た。
(Production Example 6) Preparation of coating solution 2 for low refractive index layer 356 parts of methanol was added to 208 parts of tetraethoxysilane, 18 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid were mixed, and this was used with a disper. Mix well. The mixture was stirred for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C., and the weight average molecular weight was adjusted to 850 to obtain a tetrafunctional silicone resin. Next, hollow silica isopropanol (IPA) dispersion sol (solid content: 20% by mass, average primary particle diameter: about 35 nm, outer shell thickness: about 8 nm, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) is used as the hollow silica fine particle component for this tetrafunctional silicone resin. , Hollow silica fine particles / 4-functional silicone resin (condensed compound equivalent) is added so that the mass ratio is 85/25 based on the solid content, and then diluted with methanol so that the total solid content becomes 10 mass%. Thus, a coating solution 2 for a low refractive index layer was obtained.
(製造例7)低屈折率層用塗布液3の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー(商品名:メチルシリケート511、コルコート社製)とメタノールを、重量比で47:75となるように混合してA液を調製した。次いで、水、アンモニア水(アンモニア28重量%)、メタノールを重量比で60:1.2:97.2で混合してB液を調製した。そして、A液とB液を16:17の重量比で混合して低屈折率層用塗布液3を得た。
(Production Example 7) Preparation of coating solution 3 for low refractive index layer A tetramethoxysilane oligomer (trade name: Methyl silicate 511, manufactured by Colcoat Co.) and methanol were mixed to a weight ratio of 47:75. A liquid was prepared. Subsequently, water, ammonia water (ammonia 28% by weight), and methanol were mixed at a weight ratio of 60: 1.2: 97.2 to prepare a liquid B. And A liquid and B liquid were mixed by the weight ratio of 16:17, and the coating liquid 3 for low refractive index layers was obtained.
(製造例8)偏光膜の調製
厚さ45μmのPVAフィルム(重合度2400、ケン化度99.9%)を純粋中で膨潤させてから、ヨウ素1重量%とヨウ化カリウム3重量%の混合水溶液に浸漬し、前記PVAフィルムを染色した。次いで、このフィルムを4.5重量%ホウ酸水溶液に浸漬し、長手方向に5.3倍延伸し、続いて5重量%ホウ砂水溶液に浸漬し、長手方向における総延伸倍率が5.5倍となるように延伸した。延伸後、フィルム表面の水分を取り除き、50℃で乾燥して偏光膜を調製した。この偏光膜の厚さは18μm、偏光度は99.95%であった。
(Production Example 8) Preparation of Polarizing Film After a PVA film having a thickness of 45 μm (polymerization degree 2400, saponification degree 99.9%) was swollen in pure, mixing of 1% by weight of iodine and 3% by weight of potassium iodide The PVA film was dyed in an aqueous solution. Next, the film was immersed in a 4.5% by weight boric acid aqueous solution, stretched 5.3 times in the longitudinal direction, and subsequently immersed in a 5% by weight borax aqueous solution, so that the total stretching ratio in the longitudinal direction was 5.5 times. It extended | stretched so that it might become. After stretching, moisture on the film surface was removed and dried at 50 ° C. to prepare a polarizing film. The polarizing film had a thickness of 18 μm and a degree of polarization of 99.95%.
(実施例1)
製造例1で得られた基材フィルム1Aの両面に、高周波発振機(コロナジェネレーターHV05−2、Tamtec社製)を用いて、出力電圧100%、出力250Wで、直径1.2mmのワイヤー電極で、電極長240mm、ワーク電極間1.5mmの条件で3秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が0.072N/mになるように表面改質した基材フィルム1Bを得た。
基材フィルム1Bの片面に、製造例2で得られたハードコート剤1を硬化後のハードコート層の膜厚が5μmになるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、これを80℃で5分間乾燥させた後、紫外線照射(積算光量300mJ/cm2)を行うことにより、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルム1Cを得た。硬化後のハードコート層の膜厚は5μm、屈折率は1.62、表面粗さは0.2μmであった。
(Example 1)
Using a high-frequency oscillator (corona generator HV05-2, manufactured by Tamtec) on both surfaces of the base film 1A obtained in Production Example 1, a wire electrode having a diameter of 1.2 mm with an output voltage of 100%, an output of 250 W Then, a corona discharge treatment was performed for 3 seconds under the conditions of an electrode length of 240 mm and a work electrode distance of 1.5 mm to obtain a base film 1B whose surface was modified so that the surface tension was 0.072 N / m.
The hard coat agent 1 obtained in Production Example 2 was continuously applied to one side of the base film 1B using a die coater so that the thickness of the hard coat layer after curing was 5 μm. Subsequently, after drying this at 80 degreeC for 5 minute (s), the hard-coat agent was hardened by performing ultraviolet irradiation (integrated light quantity 300mJ / cm < 2 >), and hard coat layer laminated | multilayer film 1C was obtained. The thickness of the hard coat layer after curing was 5 μm, the refractive index was 1.62, and the surface roughness was 0.2 μm.
前記ハードコート層積層フィルム1Cの上に低屈折率層を構成する材料として製造例6で得られた低屈折率層用塗布液2をワイヤーバーコーターにより塗工し、空気中で120℃、5分間熱処理を行うことにより、厚さ100nmの低屈折率層が形成された光学積層フィルム1Dを得た。この低屈折率層の屈折率は1.34であった。 The low-refractive-index layer coating solution 2 obtained in Production Example 6 as a material constituting the low-refractive index layer on the hard coat layer laminated film 1C is applied by a wire bar coater, and is 120 ° C., 5 ° C. in air. By performing heat treatment for a minute, an optical laminated film 1D having a low refractive index layer having a thickness of 100 nm was obtained. The refractive index of this low refractive index layer was 1.34.
得られた光学積層フィルム1Dのハードコート剤及び低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、製造例8で得られた偏光膜及び保護フィルムとして製造例1で得られた基材フィルム1Aを、それぞれアクリル系接着剤(住友スリーエム社製、「DP−8005クリア」)を介して、この順で貼り合わせることにより反射防止機能付偏光板1Eを得た。この偏光板1Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。 The substrate obtained in Production Example 1 as the polarizing film and protective film obtained in Production Example 8 on the surface opposite to the surface on which the hard coat agent and the low refractive index layer of the obtained optical laminated film 1D were provided. The material film 1A was bonded together in this order via an acrylic adhesive (manufactured by Sumitomo 3M, “DP-8005 clear”) to obtain a polarizing plate 1E with an antireflection function. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 1E. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例2)
実施例1で得られたハードコート層積層フィルム1Cをスピンコーターの回転室に入れ、このフィルム1Cの上に製造例7で得られた低屈折率層用塗布液3を混合を開始して1分経過した後で、回転数700rpmの条件でスピンコーティングを10秒間行って、ゲル状の薄膜を形成させた。なお、スピンコーターの回転室は予めメタノール雰囲気になるようにしておいた。
次に、このゲル状の薄膜を、5分間、水と28%アンモニア水とメタノールを質量比で162:4:640で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で1昼夜養生した。さらにこのように養生したゲル状の薄膜をヘキサメチルジシラザンの10%イソプロパノール溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。
次に、このように疎水化処理をしたゲル状の薄膜をイソプロパノール中へ浸漬して洗浄した後、高圧容器中に入れ、高圧容器内を液化炭酸ガスで満たし、80℃、16MPa、2時間の条件で超臨界乾燥を行うことにより、積層フィルム1Cの上に膜厚100nmのシリカエアロゲル薄膜(低屈折率層)が形成された光学積層フィルム2Dを得た。このシリカエアロゲル薄膜(低屈折率層)の屈折率は1.34であった。
光学積層フィルムとして、光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム2Dを用いた他は、実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板2Eを得た。そして、この偏光板2Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 2)
The hard coat layer laminated film 1C obtained in Example 1 was put in a rotating chamber of a spin coater, and mixing of the coating solution 3 for low refractive index layer obtained in Production Example 7 was started on this film 1C. After a lapse of time, spin coating was performed for 10 seconds under the condition of a rotation speed of 700 rpm to form a gel-like thin film. The rotating chamber of the spin coater was previously set in a methanol atmosphere.
Next, this gel-like thin film was immersed in a curing solution having a composition in which water, 28% ammonia water, and methanol were mixed at a mass ratio of 162: 4: 640 for 5 minutes, and then cured at room temperature for one day. Further, the gel-like thin film thus cured was immersed in a 10% isopropanol solution of hexamethyldisilazane to perform a hydrophobic treatment.
Next, the gel-like thin film thus hydrophobized is immersed in isopropanol and washed, and then placed in a high-pressure vessel, and the inside of the high-pressure vessel is filled with liquefied carbon dioxide gas. By performing supercritical drying under conditions, an optical laminated film 2D in which a silica airgel thin film (low refractive index layer) having a film thickness of 100 nm was formed on the laminated film 1C was obtained. The refractive index of this silica airgel thin film (low refractive index layer) was 1.34.
A polarizing plate 2E with an antireflection function is obtained by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1 except that the optical laminated film 2D is used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. It was. And optical performance was evaluated using this polarizing plate 2E. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例3)
ハードコート剤としてハードコート剤1のかわりに製造例3で得られたハードコート剤2を用いた他は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成させることにより、光学積層フィルム3Dを得た。このときのハードコート層の膜厚は5μm、屈折率は1.53、表面粗さは0.2μmであった。
次いで、光学積層フィルムとして、光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム3Dを用いた他は、実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板3Eを得た。この偏光板3Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 3)
An optical laminated film 3D is obtained by forming a hard coat layer in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 2 obtained in Production Example 3 is used instead of the hard coat agent 1 as the hard coat agent. It was. At this time, the thickness of the hard coat layer was 5 μm, the refractive index was 1.53, and the surface roughness was 0.2 μm.
Next, a polarizing film 3E with an antireflection function is obtained by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1, except that the optical laminated film 3D is used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. Got. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 3E. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例4)
ハードコート剤としてハードコート剤1のかわりに製造例3で得られたハードコート剤2を用いた他は、実施例1と同様にしてハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム4Cを得た。ハードコート層の膜厚は5μm、屈折率は1.53、表面粗さは0.2μmであった。
次いで、このハードコート層積層フィルム4Cの上に、低屈折率層用塗布液として製造例7で得られた低屈折率層用塗布液3を用いた他は、実施例2と同様にして低屈折率層を形成させることにより光学積層フィルム4Dを得た。この低屈折率層の屈折率は1.34であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム4Dを用いた他は、実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板4Eを得た。この偏光板4Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 4)
A hard coat layer laminated film 4C was formed by forming a hard coat layer in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 2 obtained in Production Example 3 was used instead of the hard coat agent 1 as the hard coat agent. Obtained. The hard coat layer had a thickness of 5 μm, a refractive index of 1.53, and a surface roughness of 0.2 μm.
Next, a low refractive index layer coating solution 3 obtained in Production Example 7 was used as a low refractive index layer coating solution on the hard coat layer laminated film 4C. An optical laminated film 4D was obtained by forming a refractive index layer. The refractive index of this low refractive index layer was 1.34.
Next, a polarizing film 4E with an antireflection function is obtained by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1 except that the optical laminated film 4D is used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. Obtained. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 4E. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例5)
基材フィルムとして、基材フィルム1Aのかわりにポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、商品名「コスモシャイン A4300」、厚さ50μm、飽和吸水率0.3重量%、以下「基材フィルム2A」と記す。)を用いた他は、実施例1と同様にしてハードコート層及び低屈折率層を形成させることにより、光学積層フィルム5Dを得た。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム5Dを用いた他は、実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板5Eを得た。この偏光板5Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 5)
Instead of the base film 1A, a polyethylene terephthalate film (trade name “Cosmo Shine A4300”,
Next, a polarizing film 5E with an antireflection function is obtained by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1 except that the optical laminated film 5D is used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. Obtained. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 5E. The evaluation results are shown in Table 1.
(実施例6)
基材フィルムとして、基材フィルム1Aのかわりに、トリアセチルセルロースフィルムを用いた偏光板(ポラテクノ社製、商品名「スーパーハイコントラスト偏光板 SKN−18243T」、偏光度99.993%、以下「基材フィルム3A」と記す)を用いた他は、実施例1と同様にして、ハードコート層及び低屈折率層を形成させることにより、光学積層フィルム6Dを得た。この光学積層フィルム6Dは偏光膜及び保護フィルムが積層されているので、これをそのまま反射防止機能付偏光板として用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Example 6)
A polarizing plate using a triacetyl cellulose film instead of the base film 1A as the base film (trade name “Super High Contrast Polarizing Plate SKN-18243T”, Polarity 99.993%, hereinafter “Base” An optical laminated film 6D was obtained by forming a hard coat layer and a low refractive index layer in the same manner as in Example 1 except that the material film 3A ”was used. Since the polarizing film and the protective film are laminated on the optical laminated film 6D, the optical performance was evaluated using the polarizing film with the antireflection function as it is. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例1)
表面改質した基材フィルム1Bの片面に、ハードコート剤としてハードコート剤1のかわりに製造例3で得られたハードコート剤2を用いた他は実施例1と同様の操作でハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム7Cを得た。ハードコート層の膜厚は5μm、屈折率は1.53、表面粗さは0.2μmであった。
このハードコート層積層フィルム7Cをスピンコーターの回転室に入れ、このフィルム7Cの上に製造例7で得られた低屈折率層用塗布液3を混合開始後1分を経過した後で、回転数700rpmの条件でスピンコーティングを10秒間行って、ゲル状の薄膜を形成させた。なお、スピンコーターの回転室は予めメタノール雰囲気になるようにしておいた。
次に、このゲル状の薄膜を形成させた積層フィルム7Cをギヤオーブン中で、120℃で10分間熱処理を行うことにより、光学積層フィルム7Dを得た。光学積層フィルム7Dの低屈折率層の屈折率は1.39であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム7Dを用いた他は、実施例1と同様にして実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板7Eを得た。この偏光板7Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A hard coat layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 2 obtained in Production Example 3 was used instead of the hard coat agent 1 on one side of the surface-modified base film 1B. A hard coat layer laminated film 7C was obtained. The hard coat layer had a thickness of 5 μm, a refractive index of 1.53, and a surface roughness of 0.2 μm.
This hard coat layer laminated film 7C was put into a rotating chamber of a spin coater, and the coating solution 3 for low refractive index layer obtained in Production Example 7 was put on this film 7C after 1 minute had elapsed and then rotated. Spin coating was performed for 10 seconds under the condition of several 700 rpm to form a gel-like thin film. The rotating chamber of the spin coater was previously set in a methanol atmosphere.
Next, the laminated film 7C on which this gel-like thin film was formed was heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes in a gear oven, to obtain an optical laminated film 7D. The refractive index of the low refractive index layer of the optical laminated film 7D was 1.39.
Next, reflection was performed by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1 except that the optical laminated film 7D was used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. A polarizing plate 7E with a prevention function was obtained. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 7E. The evaluation results are shown in Table 1.
(比較例2)
表面改質した基材フィルム1Bの片面に、ハードコート剤としてハードコート剤1のかわりに製造例3で得られたハードコート剤2を用いた他は実施例1と同様にしてハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム8Cを得た。ハードコート層の膜厚は5μm、屈折率は1.53、表面粗さは0.2μmであった。
このハードコート積層フィルム8Cの上に、製造例4で得られた高屈折率組成物を厚さが127nmとなるように、ダイコーターを用いて塗工し、80℃で乾燥した。この高屈折率層の屈折率は1.70であった。この高屈折率層の上に低屈折率層用塗布液として製造例5で得られた低屈折率層用塗布液1を用いた他は、実施例1と同様にして低屈折率層を形成させることにより光学積層フィルム8Dを得た。低屈折率層の屈折率は1.33であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム1Dのかわりに光学積層フィルム8Dを用いた他は、実施例1と同様にして偏光膜及び基材フィルム1Aを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板8Eを得た。この偏光板8Eを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A hard coat layer was formed on one side of the surface-modified base film 1B in the same manner as in Example 1 except that the hard coat agent 2 obtained in Production Example 3 was used instead of the hard coat agent 1 as the hard coat agent. A hard coat layer laminated film 8C was obtained by forming the film. The hard coat layer had a thickness of 5 μm, a refractive index of 1.53, and a surface roughness of 0.2 μm.
On this hard coat laminated film 8C, the high refractive index composition obtained in Production Example 4 was applied using a die coater so as to have a thickness of 127 nm, and dried at 80 ° C. The refractive index of this high refractive index layer was 1.70. A low refractive index layer is formed on the high refractive index layer in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer coating liquid 1 obtained in Production Example 5 is used as the low refractive index layer coating liquid. By doing so, an optical laminated film 8D was obtained. The refractive index of the low refractive index layer was 1.33.
Subsequently, the polarizing plate 8E with an antireflection function was obtained by laminating the polarizing film and the base film 1A in the same manner as in Example 1 except that the optical laminated film 8D was used instead of the optical laminated film 1D as the optical laminated film. Obtained. Optical performance was evaluated using this polarizing plate 8E. The evaluation results are shown in Table 1.
表1の結果から以下のことがわかる。本発明によれば、透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が1.35以下であり、波長550nmにおける反射率が0.8%以下で、かつ波長430〜700nmにおける反射率が1.2%以下である光学積層フィルムは、反射防止性及び傷つき性に優れ、液晶表示装置に用いたとき、視認性に優れ、さらに明暗表示のコントラストに優れる。
一方、低屈折率層として屈折率が1.35を超えるものを用いたもの(比較例1)や、低屈折率層の屈折率は1.35以下であるが反射率が本発明の範囲から外れているもの(比較例2)は、傷つき性や視認性に劣るだけでなく、明暗表示のコントラストが悪い。
From the results in Table 1, the following can be understood. According to the present invention, an optical laminated film obtained by laminating at least a hard coat layer and a low refractive index layer in this order on the surface of a base film comprising a transparent resin, the refractive index of the low refractive index layer Is 1.35 or less, an optical laminated film having a reflectance of 0.8% or less at a wavelength of 550 nm and a reflectance of 1.2% or less at a wavelength of 430 to 700 nm is excellent in antireflection property and scratch resistance. When used in a liquid crystal display device, it has excellent visibility and contrast for bright and dark display.
On the other hand, a low-refractive index layer having a refractive index exceeding 1.35 (Comparative Example 1) or a low-refractive index layer having a refractive index of 1.35 or less but having a reflectance within the scope of the present invention. What has been removed (Comparative Example 2) is not only inferior to scratching and visibility, but also has poor contrast in bright and dark display.
11:基材フィルム、21:ハードコート層、31:低屈折率層、41:保護フィルム、50:光学積層フィルム、61:接着剤又は粘着剤層、71:偏光膜、81:反射防止機能付偏光板、91:下側偏光板、92:位相差板、93:液晶セル、94:透明電極、95:電極基板、96:液晶、97:シール 11: base film, 21: hard coat layer, 31: low refractive index layer, 41: protective film, 50: optical laminated film, 61: adhesive or pressure-sensitive adhesive layer, 71: polarizing film, 81: with antireflection function Polarizing plate, 91: lower polarizing plate, 92: retardation plate, 93: liquid crystal cell, 94: transparent electrode, 95: electrode substrate, 96: liquid crystal, 97: seal
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004187055A JP2005037927A (en) | 2003-06-26 | 2004-06-24 | Optical laminated film |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003181987 | 2003-06-26 | ||
JP2004187055A JP2005037927A (en) | 2003-06-26 | 2004-06-24 | Optical laminated film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005037927A true JP2005037927A (en) | 2005-02-10 |
Family
ID=34220279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004187055A Pending JP2005037927A (en) | 2003-06-26 | 2004-06-24 | Optical laminated film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005037927A (en) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073325A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Resin composition for antistatic hard coating |
JP2006235125A (en) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Works Ltd | Anti-reflection film and manufacturing method thereof |
JP2006297329A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Pentax Corp | Silica aerogel film and its manufacturing method |
JP2007171782A (en) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device and display device |
WO2008001612A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Fujifilm Corporation | Antireflection film and method for producing the same |
JP5194798B2 (en) * | 2005-12-05 | 2013-05-08 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | Roll optical film, method for manufacturing roll optical film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2013257550A (en) * | 2012-05-15 | 2013-12-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Laminate substrate, laminate, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device |
CN105118393A (en) * | 2015-08-20 | 2015-12-02 | 上海和辉光电有限公司 | Ultraviolet resistant OLED structure and preparation method |
CN114220979A (en) * | 2021-11-13 | 2022-03-22 | 深圳信息职业技术学院 | Catalyst carrier, preparation method thereof, catalyst and fuel cell |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62257101A (en) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | Optical element having metallic film |
JPH07287102A (en) * | 1994-04-14 | 1995-10-31 | Dainippon Printing Co Ltd | Reflection preventing film, its production and polarizing plate and liquid crystal display device |
JPH08267689A (en) * | 1995-02-02 | 1996-10-15 | Teijin Ltd | Transparent laminated film |
JPH09227713A (en) * | 1996-02-20 | 1997-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-reflection film and image displaying device |
JPH10726A (en) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Reflection preventive film and manufacture thereof |
JPH10282336A (en) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Optical film |
JPH1164601A (en) * | 1997-08-11 | 1999-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and display device arranged therewith |
JP2000319523A (en) * | 1999-03-11 | 2000-11-21 | Konica Corp | Composition for high refractive index, antireflection material, method for producing antireflection material, film for protecting polarizing plate, and polarizing plate |
JP2001337201A (en) * | 2000-03-22 | 2001-12-07 | Konica Corp | Optical film and liquid crystal display |
JP2003119052A (en) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Matsushita Electric Works Ltd | Light transmitting sheet, light emitting device using the same, and method for manufacturing light transmitting sheet |
JP2003149642A (en) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Front light for liquid crystal |
WO2005001525A1 (en) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Zeon Corporation | Optical multilayer film, polarizing plate and optical product |
-
2004
- 2004-06-24 JP JP2004187055A patent/JP2005037927A/en active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62257101A (en) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | Optical element having metallic film |
JPH07287102A (en) * | 1994-04-14 | 1995-10-31 | Dainippon Printing Co Ltd | Reflection preventing film, its production and polarizing plate and liquid crystal display device |
JPH08267689A (en) * | 1995-02-02 | 1996-10-15 | Teijin Ltd | Transparent laminated film |
JPH09227713A (en) * | 1996-02-20 | 1997-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-reflection film and image displaying device |
JPH10726A (en) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Reflection preventive film and manufacture thereof |
JPH10282336A (en) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Optical film |
JPH1164601A (en) * | 1997-08-11 | 1999-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film and display device arranged therewith |
JP2000319523A (en) * | 1999-03-11 | 2000-11-21 | Konica Corp | Composition for high refractive index, antireflection material, method for producing antireflection material, film for protecting polarizing plate, and polarizing plate |
JP2001337201A (en) * | 2000-03-22 | 2001-12-07 | Konica Corp | Optical film and liquid crystal display |
JP2003119052A (en) * | 2001-10-12 | 2003-04-23 | Matsushita Electric Works Ltd | Light transmitting sheet, light emitting device using the same, and method for manufacturing light transmitting sheet |
JP2003149642A (en) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Front light for liquid crystal |
WO2005001525A1 (en) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Zeon Corporation | Optical multilayer film, polarizing plate and optical product |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073325A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Resin composition for antistatic hard coating |
JP2006235125A (en) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Works Ltd | Anti-reflection film and manufacturing method thereof |
US8298622B2 (en) | 2005-04-22 | 2012-10-30 | Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. | Silica aerogel coating and its production method |
JP2006297329A (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Pentax Corp | Silica aerogel film and its manufacturing method |
JP5194798B2 (en) * | 2005-12-05 | 2013-05-08 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | Roll optical film, method for manufacturing roll optical film, polarizing plate and liquid crystal display device |
US9793299B2 (en) | 2005-12-26 | 2017-10-17 | Japan Display Inc. | Display device and hand-held electronic device |
US8164717B2 (en) | 2005-12-26 | 2012-04-24 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display and display |
US8045101B2 (en) | 2005-12-26 | 2011-10-25 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display and display |
US9013653B2 (en) | 2005-12-26 | 2015-04-21 | Japan Display Inc. | Display device and hand-held electronic device |
JP2007171782A (en) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device and display device |
US10332915B2 (en) | 2005-12-26 | 2019-06-25 | Japan Display Inc. | Display device and hand-held electronic device |
US10831048B2 (en) | 2005-12-26 | 2020-11-10 | Japan Display Inc. | Display device and hand-held electronic device |
WO2008001612A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Fujifilm Corporation | Antireflection film and method for producing the same |
JP2013257550A (en) * | 2012-05-15 | 2013-12-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Laminate substrate, laminate, polarizing plate, liquid crystal display panel, and image display device |
CN105118393A (en) * | 2015-08-20 | 2015-12-02 | 上海和辉光电有限公司 | Ultraviolet resistant OLED structure and preparation method |
CN114220979A (en) * | 2021-11-13 | 2022-03-22 | 深圳信息职业技术学院 | Catalyst carrier, preparation method thereof, catalyst and fuel cell |
CN114220979B (en) * | 2021-11-13 | 2024-04-16 | 深圳信息职业技术学院 | Catalyst carrier, preparation method thereof, catalyst and fuel cell |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5045823B2 (en) | Optical laminated film, polarizing plate and optical product | |
CN101128752B (en) | Optical laminated film for liquid crystal display device | |
US7824043B2 (en) | Reflection preventing layered product and optical member | |
JPWO2005064367A1 (en) | Polarizing plate protective film, polarizing plate with antireflection function and optical product | |
CN100420961C (en) | Optical multilayer film, polarizing plate and optical product | |
JP4556613B2 (en) | Anti-glare film and method for producing the same | |
JP5052900B2 (en) | Liquid crystal display | |
JP4556664B2 (en) | Anti-reflection laminate | |
JP2006018089A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2005037927A (en) | Optical laminated film | |
JP2006030870A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2007038447A (en) | Antireflection laminate, optical member, and liquid crystal display element | |
JP2007062101A (en) | Antireflection laminate | |
JP2006058322A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2007065191A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2005316101A (en) | Polarizing plate protective film, polarizing plate with antireflection function, and optical product | |
JP2006039472A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
WO2006019086A1 (en) | Polarization plate and liquid crystal display device | |
JP2007041073A (en) | Liquid crystal display | |
JP2005338165A (en) | Antireflection laminate, polarizing plate with antireflection function and optical product | |
JP2006084934A (en) | Polarizing plate protective film, polarizing plate with antireflection function, and optical product | |
JP2007062102A (en) | Anti-glare film and method for producing the same | |
JP2007041334A (en) | Liquid crystal display | |
JP2006184302A (en) | Liquid crystal display | |
JP2006171119A (en) | Antireflection film, method for producing the same, and optical member |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090624 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090821 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091009 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100802 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110419 |