JP2006039472A - Polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
【課題】偏光子の透明保護層を特定のものとすることにより、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】偏光子の一方の面に、透湿度が50〜1500g/m2・24hrである樹脂フィルム(A)、ハードコート層(B)及び反射防止層(C)が順次積層され、他方の面に、脂環式構造含有樹脂からなり、透湿度が0.3〜40g/m2・24hr、光弾性係数が12.0×10−12Pa−1以下かつダイラインの最大深さ50nm以下、最小幅500nm以上である樹脂フィルム(D)が積層されてなる偏光板を液晶表示装置に用いる。
【選択図】なし
Disclosed is a polarizing plate and a liquid crystal display device that are excellent in transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion by making a transparent protective layer of a polarizer specific. is there.
A resin film (A) having a moisture permeability of 50 to 1500 g / m 2 · 24 hr, a hard coat layer (B), and an antireflection layer (C) are sequentially laminated on one surface of a polarizer, Of the alicyclic structure-containing resin, the moisture permeability is 0.3 to 40 g / m 2 · 24 hr, the photoelastic coefficient is 12.0 × 10 −12 Pa −1 or less, and the maximum die line depth is 50 nm or less. A polarizing plate formed by laminating a resin film (D) having a minimum width of 500 nm or more is used for a liquid crystal display device.
[Selection figure] None
Description
本発明は、偏光板に関し、さらに詳しくは偏光子の両面に透明保護層を積層してなる積層体からなる、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a polarizing plate, and more specifically, it is composed of a laminate formed by laminating a transparent protective layer on both sides of a polarizer, and is excellent in all of transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion. The present invention relates to a polarizing plate and a liquid crystal display device.
液晶表示装置(以下、「LCD」という。)は、薄型で、軽量、また消費電力が小さいという特徴がある。LCDはその使用分野も従来の電卓や時計などから、耐久性、耐熱性の要求される自動車用途、たとえば、カーナビ、自動車用インナーパネルといった用途に拡大されつつある。
LCDは、一般に、電場の印加により液晶分子の配向方向を制御することで偏光の通過、遮断を切り換える機能を持つ液晶セルと、それを挟む状態で透過軸を直角に配置された二枚の偏光板から構成される。
偏光板としては、偏光子の両方に偏光板保護フィルムを積層したものが用いられる。前記保護フィルムは液晶表示素子の耐傷性、反射防止性等のため、偏光子の外側に張り合わせるフィルムである。
A liquid crystal display device (hereinafter referred to as “LCD”) is characterized by being thin, lightweight, and having low power consumption. The field of use of LCDs is expanding from conventional calculators and watches to automobile applications that require durability and heat resistance, such as car navigation systems and automobile inner panels.
In general, an LCD is a liquid crystal cell that has a function of switching between passing and blocking of polarized light by controlling the orientation direction of liquid crystal molecules by applying an electric field, and two pieces of polarized light with transmission axes arranged at right angles between them. Consists of plates.
As a polarizing plate, what laminated | stacked the polarizing plate protective film on both polarizers is used. The protective film is a film that is attached to the outside of the polarizer for scratch resistance, antireflection properties, and the like of the liquid crystal display element.
前記保護フィルムとしては、光学特性に優れていることから、セルロースエステルフィルム、特にトリアセチルセルロース(以下、「TAC」と示す。)が用いられていた。
しかし、TACは吸湿性が高いため、湿度により伸縮して、応力歪みを発生しやすい。そのため、吸湿による歪みは内部応力を発生させ、色むらを引き起こすことになる。TACは、LCDの薄型化・大型化・高輝度化等に伴って要求される偏光板の耐久性を十分に満たすことができない。
As the protective film, a cellulose ester film, particularly triacetyl cellulose (hereinafter referred to as “TAC”) has been used because of its excellent optical properties.
However, since TAC has high hygroscopicity, it tends to expand and contract due to humidity and generate stress strain. Therefore, the distortion due to moisture absorption generates internal stress and causes uneven color. The TAC cannot sufficiently satisfy the durability of the polarizing plate that is required as the LCD becomes thinner, larger, brighter, and the like.
偏光板は、例えば、高度に延伸したポリビニルアルコール等の偏光子に、偏光子を保護するための保護フィルムが貼り合わされている。偏光子保護フィルムには、1)複屈折と厚みの積で表される位相差が小さいこと、2)外部の応力などによりフィルムの位相差が変化しにくいこと、3)平面方向および厚み方向の位相差のむらが小さいこと、4)フィルム表面の凹凸による、いわゆるレンズ効果による画像のゆがみ現象が生じにくいことが要求される。
すなわち、位相差が大きかったり、外部の応力などにより位相差が変化したり、面内における位相差のむらが大きかったり、フィルム表面の凹凸によるレンズ効果があると、液晶表示装置の画質品位を著しく低下させる。すなわち、色が部分的に薄くなるなどの色とび現象や、画像が歪むなどの弊害が出る。
そこで、最近、TACの代りに光弾性率の低い、即ち、外部応力が加わったとき複屈折の変化が小さく、光学特性に影響を与えにくい、熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂シートを偏光子の保護層として使用することが提案されている(特許文献1〜4)。しかしながら、ノルボルネン系の樹脂フィルムを単に、偏光子の保護層として使用したものは、耐擦傷性、反射防止性、密着性において不十分な点があり、又額縁故障、色むら、輝点欠損などが生じることがあった。
In other words, if the phase difference is large, the phase difference changes due to external stress, etc., the in-plane retardation is large, or there is a lens effect due to irregularities on the film surface, the image quality of the liquid crystal display device is significantly reduced. Let In other words, color jumping phenomenon such as partial color fading, and adverse effects such as image distortion occur.
Therefore, instead of TAC, a thermoplastic saturated norbornene-based resin sheet having a low photoelastic modulus, that is, a small change in birefringence when external stress is applied and hardly affecting optical properties, is used as a protective layer for a polarizer. It is proposed to use as (patent documents 1-4). However, those using norbornene-based resin films simply as a protective layer for polarizers have insufficient scratch resistance, antireflection properties, adhesion, frame failure, color irregularities, bright spot defects, etc. Sometimes occurred.
本発明の目的は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、透明性、外部応力に対して複屈折の変化が小さく、機械的強度、反射防止性、耐熱性、耐擦傷性、密着性の優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することである。 The object of the present invention has been made in view of the state of the prior art, and has a small change in birefringence with respect to transparency, external stress, mechanical strength, antireflection properties, heat resistance, scratch resistance, It is to provide a polarizing plate and a liquid crystal display device having excellent adhesion.
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、偏光板の保護フィルムに特定のものを用い、且つ保護フィルムの一方にハードコート層及び反射防止層を順次積層することによって液晶表示装置に最適な偏光板をえられることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。 As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventors have used a specific film as a protective film for a polarizing plate, and sequentially laminated a hard coat layer and an antireflection layer on one of the protective films. The present inventors have found that an optimal polarizing plate can be obtained, and have completed the present invention based on this finding.
かくして本発明によれば、
(1)偏光子の一方の面に、厚みが5〜200μm、透湿度が50〜1500g/m2・24hr、及び面内レターデーションの最大値が4nm以下である樹脂フィルム(A)、ハードコート層(B)及び反射防止層(C)が順次積層され、
前記偏光子の他方の面に、脂環式構造含有樹脂からなり、厚みが5〜200μm、透湿度が0.3〜40g/m2・24hr、光弾性率が12.0×10−12Pa−1以下かつダイラインの最大深さ50nm以下、最小幅500nm以上である樹脂フィルム(D)が積層されてなる偏光板。
(2)フィルム(A)がセルロースエステルを主成分とする(1)の偏光板。
(3)反射防止層(C)が屈折率1.36以下である(1)及び(2)のいずれかの偏光板。
(4)反射防止層(C)が、エアロゲルからなる(1)〜(3)のいずれかの偏光板。
(5)樹脂フィルム(D)が、レターデーションを示すフィルムである(1)〜(4)のいずれかの偏光板。
(6)(1)〜(5)のいずれかの偏光板が、反射防止層(C)側を視認側に向けて設置されている液晶表示装置。
がそれぞれ提供される。
Thus, according to the present invention,
(1) Resin film (A) having a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 50 to 1500 g / m 2 · 24 hr, and a maximum in-plane retardation of 4 nm or less on one surface of the polarizer, hard coat The layer (B) and the antireflection layer (C) are sequentially laminated,
The other surface of the polarizer is made of an alicyclic structure-containing resin, has a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 0.3 to 40 g / m 2 · 24 hr, and a photoelastic modulus of 12.0 × 10 −12 Pa. A polarizing plate formed by laminating a resin film (D) having a maximum of −1 or less and a maximum depth of 50 nm or less and a minimum width of 500 nm or more.
(2) The polarizing plate according to (1), wherein the film (A) contains a cellulose ester as a main component.
(3) The polarizing plate according to any one of (1) and (2), wherein the antireflection layer (C) has a refractive index of 1.36 or less.
(4) The polarizing plate according to any one of (1) to (3), wherein the antireflection layer (C) is made of airgel.
(5) The polarizing plate according to any one of (1) to (4), wherein the resin film (D) is a film showing retardation.
(6) A liquid crystal display device in which the polarizing plate of any one of (1) to (5) is installed with the antireflection layer (C) side facing the viewing side.
Are provided respectively.
本発明の偏光板は、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性に優れる偏光板であり、該偏光板を液晶表示装置として好適に用いることができる。 The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate excellent in transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion, and the polarizing plate can be suitably used as a liquid crystal display device.
本発明の偏光板は、偏光子の一方の面に、厚みが5〜200μm、透湿度が50〜1500g/m2・24h、及び面内レターデーションの最大値が4nm以下である樹脂フィルム(A)、ハードコート層(B)及び反射防止層(C)が順次積層され、
前記偏光子の他方の面に、脂環式構造含有樹脂からなり、厚みが5〜200μm、透湿度が0.3〜40g/m2・24hr、光弾性係数が12.0×10−12Pa−1以下かつダイラインの最大深さ50nm以下、最小幅500nm以上である樹脂フィルム(D)が積層されてなる偏光板であることを特徴とする。
The polarizing plate of the present invention has a resin film (A) having a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 50 to 1500 g / m 2 · 24 h, and a maximum in-plane retardation of 4 nm or less on one surface of the polarizer. ), A hard coat layer (B) and an antireflection layer (C) are sequentially laminated,
The other surface of the polarizer is made of an alicyclic structure-containing resin, has a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 0.3 to 40 g / m 2 · 24 hr, and a photoelastic coefficient of 12.0 × 10 −12 Pa. The polarizing plate is formed by laminating a resin film (D) having a maximum depth of −1 or less and a maximum depth of 50 nm or less and a minimum width of 500 nm or more.
以下に本発明の偏光板に付いて図1を用い、簡単に説明する。図1に示す偏光板は、樹脂フィルム(A)4、ハードコート層(B)5、反射防止層(C)6を順次積層したものを、樹脂フィルム(A)4側に、偏光子3の一方の面にプライマーで貼り合わせてある。偏光子3のもう一方の面には、樹脂フィルム(D)2をプライマー層で貼り合わせた構成をしている。
The polarizing plate of the present invention will be briefly described below with reference to FIG. The polarizing plate shown in FIG. 1 is obtained by sequentially laminating a resin film (A) 4, a hard coat layer (B) 5, and an antireflection layer (C) 6 on the resin film (A) 4 side. Attached to one side with a primer. On the other surface of the
偏光子
本発明に用いることができる偏光子は、偏光子としての機能を有するものであれば特に限定されない。例えば、(1)ビニルアルコール重合体(PVA)・ヨウ素系偏光子、(2)PVA系フィルムに二色性染料を吸着配向させた、PVA・染料系偏光子、(3)PVA系フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光子、(4)分子内にカチオン基を含有する変性PVAからなるPVA系フィルムの表面および/または内部に二色性染料を有する偏光子などが挙げられる。偏光子の初期偏光性能の観点からは、(1)PVA・ヨウ素系偏光子が好ましく、耐熱性の観点からは(2)PVA・染料系偏光子が好ましい。
Polarizer The polarizer that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has a function as a polarizer. For example, (1) vinyl alcohol polymer (PVA) / iodine polarizer, (2) PVA / dye polarizer with dichroic dye adsorbed and oriented on PVA film, (3) dehydrated from PVA film A polyene polarizer in which a polyene is formed by inducing a reaction or by dehydrochlorination of a polyvinyl chloride film, (4) the surface and / or the inside of a PVA film comprising a modified PVA containing a cationic group in the molecule And a polarizer having a dichroic dye. From the viewpoint of the initial polarization performance of the polarizer, (1) a PVA / iodine polarizer is preferable, and from the viewpoint of heat resistance, (2) a PVA / dye polarizer is preferable.
本発明に用いることができる偏光子はその製造方法によって特に限定されない。例えば、1)PVA系フィルムを延伸後、ヨウ素イオンを吸着させる方法、2)PVA系フィルムを二色性染料による染色後、延伸する方法、3)PVA系フィルムを延伸後、二色性染料で染色する方法、4)二色性染料をPVA系フィルムに印刷後、延伸する方法、5)PVA系フィルムを延伸後、二色性染料を印刷する方法などの公知の方法が挙げられる。
例えば、1)の方法は、より詳細には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解してヨウ素イオンを作り、このイオンをPVAフィルムに吸着させて延伸し、次いで1〜4%ホウ酸水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して偏光板を製造する。2)の方法は、より詳細には、PVAフィルムを、1)と同様にホウ酸水溶液に浸漬し、次いで一軸方向に3〜7倍程度延伸し、0.05〜5%の二色性染料水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して染料を吸着させ、80〜100℃で乾燥して熱固定して偏光子を製造する。偏光子の偏光度は、99.993%以上が好ましい。
The polarizer that can be used in the present invention is not particularly limited by the production method. For example, 1) a method of adsorbing iodine ions after stretching a PVA-based film, 2) a method of stretching a PVA-based film after dyeing with a dichroic dye, and 3) after stretching a PVA-based film, using a dichroic dye There are known methods such as a dyeing method, 4) a method of drawing a dichroic dye on a PVA film and then stretching, and 5) a method of printing a dichroic dye after stretching the PVA film.
For example, in the method of 1), more specifically, iodine is dissolved in a potassium iodide solution to form iodine ions, the ions are adsorbed on a PVA film and stretched, and then bathed in a 1 to 4% boric acid aqueous solution. A polarizing plate is produced by dipping at a temperature of 30 to 40 ° C. More specifically, in the method of 2), the PVA film is dipped in a boric acid aqueous solution in the same manner as in 1), and then stretched about 3 to 7 times in the uniaxial direction, and 0.05 to 5% dichroic dye. It is immersed in an aqueous solution at a bath temperature of 30 to 40 ° C. to adsorb the dye, dried at 80 to 100 ° C. and thermally fixed to produce a polarizer. The polarization degree of the polarizer is preferably 99.993% or more.
樹脂フィルム(A)
樹脂フィルム(A)の厚みは、5〜200μm、より好ましくは20〜100μmである。
樹脂フィルム(A)の厚みが5μm未満であると偏光板の耐久性、機械的強度、耐擦傷性が低下し、200μmを超えると、高温高湿度環境下においたときに反り等が生じやすくなり、光線透過率も低下する。従って樹脂フィルム(A)の厚みが上記範囲にあると、耐久性、機械的強度、耐擦傷性及び光学性能に優れた偏光板が得られる。
Resin film (A)
The thickness of the resin film (A) is 5 to 200 μm, more preferably 20 to 100 μm.
If the thickness of the resin film (A) is less than 5 μm, the durability, mechanical strength and scratch resistance of the polarizing plate will be reduced. If the thickness exceeds 200 μm, warping will easily occur when placed in a high-temperature and high-humidity environment. The light transmittance is also reduced. Therefore, when the thickness of the resin film (A) is in the above range, a polarizing plate excellent in durability, mechanical strength, scratch resistance and optical performance can be obtained.
さらに樹脂フィルム(A)の透湿度は、50〜1500g/m2・24hr、好ましくは100〜800g/m2・24hrである。透湿度が低すぎると樹脂フィルム(A)を偏光子に接着するプライマーの乾燥が不十分となり、透湿度が高すぎると樹脂フィルムが使用環境で吸湿して、いずれの場合も偏光板の耐久性が低下するため、透湿度が上記範囲にあると、偏光板の保護膜として用いた場合、防湿性のバランスが良好であるため、偏光板の前面及び背面からの水分の浸入を防止でき、また偏光板との接着に水系のプライマーを用いた場合でも、樹脂フィルムと偏光子の間に剥離を生じにくい。そのため、上記フィルムを用いたとき偏光板としての信頼性が向上する。 Further, the moisture permeability of the resin film (A) is 50 to 1500 g / m 2 · 24 hr, preferably 100 to 800 g / m 2 · 24 hr. If the moisture permeability is too low, drying of the primer for adhering the resin film (A) to the polarizer becomes insufficient, and if the moisture permeability is too high, the resin film absorbs moisture in the usage environment. Therefore, when the moisture permeability is in the above range, when used as a protective film for a polarizing plate, the moisture-proof balance is good, so that moisture can be prevented from entering from the front and back surfaces of the polarizing plate. Even when a water-based primer is used for adhesion to the polarizing plate, peeling between the resin film and the polarizer hardly occurs. Therefore, when the film is used, the reliability as a polarizing plate is improved.
本発明においては、樹脂フィルム(A)の面内レターデーション(以下、「Re」という。)の最大値が、4nm以下である。Reが4nm以下であることにより、液晶表示ユニットに組み込んだ場合の色むらを抑えることができる。 In the present invention, the maximum value of the in-plane retardation (hereinafter referred to as “Re”) of the resin film (A) is 4 nm or less. When Re is 4 nm or less, color unevenness when incorporated in a liquid crystal display unit can be suppressed.
樹脂フィルム(A)を構成する材料は、上記フィルム厚範囲の樹脂フィルムとしたときの透湿度が上記範囲になる樹脂であればよく、例えば、エチレン−ビニルアルコールの共重合体、セルロースエステルなどが挙げられ、中でもアセチル化セルロースエステルが好ましい。
アセチル化セルロースエステルとしては、例えば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロースなどが挙げられる。特に、透明性、機械的強度等などの観点から、トリアセチルセルロースが最も好ましい。
なお、樹脂フィルム(A)は、偏光膜との接着性を向上させるために、アルカリによるケン化処理、プラズマ処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、高周波処理、及び電子線処理などを行っても構わない。
The material constituting the resin film (A) is not particularly limited as long as the moisture permeability when the resin film is in the above-mentioned film thickness range is within the above range. For example, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, cellulose ester, etc. Among them, acetylated cellulose ester is preferable.
Examples of the acetylated cellulose ester include diacetyl cellulose and triacetyl cellulose. In particular, triacetyl cellulose is most preferable from the viewpoints of transparency, mechanical strength, and the like.
The resin film (A) may be subjected to alkali saponification treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, high frequency treatment, electron beam treatment, etc. in order to improve the adhesion to the polarizing film. I do not care.
本発明においては、樹脂フィルム(A)の上にハードコート層(B)を有する。上記ハードコート層(B)は高屈折率を有することが好ましい。高屈折率にすることによって、外光の映りこみ等の反射が防止され、耐擦傷性、防汚性等にも優れた偏光板とすることが可能になる。ハードコート層(B)はまた、ハードコート層(B)とは別にハードコート層の表面に高屈折率の層を設けてもよい。
ここで、高屈折率とは、後に積層させる反射防止層(C)の屈折率よりも大きい屈折率のことをいい、好ましくは1.55以上である。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定する
ことができる。
In this invention, it has a hard-coat layer (B) on a resin film (A). The hard coat layer (B) preferably has a high refractive index. By making the refractive index high, reflection such as reflection of external light can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance and antifouling properties can be obtained. In addition to the hard coat layer (B), the hard coat layer (B) may be provided with a high refractive index layer on the surface of the hard coat layer.
Here, a high refractive index means a refractive index larger than the refractive index of the antireflection layer (C) laminated | stacked later, Preferably it is 1.55 or more.
The refractive index can be measured using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
上記ハードコート層を形成する材料としては、JIS K5700に規定される鉛筆硬度試験で、「HB」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリレート系、ウレタンアクリレート系多官能アクリレート系等の有機系ハードコート材料;二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料;等が挙げられる。
なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it shows a hardness of “HB” or higher in the pencil hardness test specified in JIS K5700. Examples thereof include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylate, and urethane acrylate polyfunctional acrylates; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide; and the like.
Of these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials are preferably used from the viewpoint of good adhesive strength and excellent productivity.
ハードコート層(B)の形成方法は特に制限されず、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂塗工液を公知の塗工方法により樹脂フィルム(A)上に塗工して、紫外線等のエネルギー線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の平均厚みは、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。
活性エネルギー線硬化性樹脂を含有させることにより、十分な強度、耐久性、密着性、透明性を兼ね備える高屈折率のハードコート層を得ることができる
The formation method in particular of a hard-coat layer (B) is not restrict | limited, For example, an active energy ray curable resin coating liquid is apply | coated on the resin film (A) with a well-known coating method, and energy rays, such as an ultraviolet-ray, are used. Can be formed by irradiating and curing. The average thickness of the hard coat layer is usually 0.5 to 30 μm, preferably 3 to 15 μm.
By containing an active energy ray-curable resin, a high refractive index hard coat layer having sufficient strength, durability, adhesion, and transparency can be obtained.
活性エネルギー線硬化性樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが、活性エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。 The active energy ray-curable resin is a resin obtained by curing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule by irradiation with active energy rays. An active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはエポキシ化合物が挙げられる。 Examples of prepolymers and oligomers having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate And methacrylates such as melamine methacrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, acrylates such as melamine acrylate, and epoxy compounds.
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類
;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;
Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl acrylate, ethyl acrylate, -2-ethylhexyl acrylate, methoxy acrylate Acrylic esters such as ethyl, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, methacrylic acid Methacrylic acid esters such as phenyl and lauryl methacrylate; acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N-dimethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N -Dibenzylamino) methyl, acrylic -2-(N, N-diethylamino) substituted amino alcohol esters of unsaturated substituted and propyl; acrylamide, unsaturated carboxylic acid amides such as methacrylamide;
エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類;
トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール類;
グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレート、グリシジルフェニルエーテル、グリシジルエチルエーテル、エピクロロヒドリン、アリルグリシジルエーテル、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が挙げられる。
本発明においては、これらのプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
Ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Multifunctional Acrela such as REIT G
Polythiols having two or more thiol groups in the molecule, such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycolate;
Examples include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl phenyl ether, glycidyl ethyl ether, epichlorohydrin, allyl glycidyl ether, ethylene oxide, and propylene oxide.
In the present invention, these prepolymers, oligomers and / or monomers can be used singly or in combination of two or more.
用いる活性エネルギー線硬化性樹脂中の前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーの含有量は、優れた塗工適性が得られる観点から、5重量%〜95重量%が好ましい。 The content of the prepolymer, oligomer and / or monomer in the active energy ray curable resin to be used is preferably 5% by weight to 95% by weight from the viewpoint of obtaining excellent coating suitability.
ハードコート層は、無機酸化物粒子をさらに含むものであるのが好ましい。
無機酸化物粒子を添加することにより、耐擦傷性に優れ、屈折率が1.55以上のハードコート層を容易に形成することが可能となる。
The hard coat layer preferably further contains inorganic oxide particles.
By adding inorganic oxide particles, a hard coat layer having excellent scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more can be easily formed.
ハードコート層(B)に用いることができる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましい。具体的には、屈折率が1.7以上、特に1.7〜2.3である無機酸化物微粒子が好ましい。 As the inorganic oxide particles that can be used for the hard coat layer (B), those having a high refractive index are preferable. Specifically, inorganic oxide fine particles having a refractive index of 1.7 or more, particularly 1.7 to 2.3 are preferable.
このような屈折率の高い無機酸化物としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等が挙げられる。
これらの中でも、五酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。
これらの無機酸化物粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of such a high refractive index inorganic oxide include, for example, titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, tin-doped indium oxide (ITO), Examples include tin oxide doped with antimony (ATO), indium oxide doped with zinc (IZO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), and tin oxide doped with fluorine (FTO).
Among these, antimony pentoxide is suitable as a component for adjusting the refractive index because it has a high refractive index and an excellent balance between conductivity and transparency.
These inorganic oxide particles can be used singly or in combination of two or more.
無機酸化物粒子は、ハードコート層の透明性を低下させないために、いわゆる超微粒子サイズ、より具体的には、一次粒子径が1nm〜100nm、好ましくは1nm〜50nmのものを用いるのが好ましい。 Inorganic oxide particles having a so-called ultrafine particle size, more specifically, a primary particle size of 1 nm to 100 nm, preferably 1 nm to 50 nm are preferably used so as not to lower the transparency of the hard coat layer.
無機酸化物粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。 The primary particle diameter of the inorganic oxide particles may be visually measured from a secondary electron emission image photograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or a dynamic light scattering method or a static light scattering method may be used. Mechanical measurement may be performed by a particle size distribution meter to be used.
無機酸化物粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、その粒子形状が球状であっても針状であっても、その他どのような形状であっても本発明に用いることができる。針状の場合は、その長さを粒子径として見る。 If the primary particle diameter of the inorganic oxide particles is within the above range, the particle shape can be used in the present invention regardless of whether it is spherical, needle-shaped, or any other shape. In the case of a needle shape, the length is viewed as the particle diameter.
また、本発明に用いることができる無機酸化物粒子としては、有機溶剤中での分散性を高めるために、その表面の少なくとも一部がアニオン性の極性基を有する有機化合物又は有機金属化合物により被覆されていることが好ましい。 Further, as the inorganic oxide particles that can be used in the present invention, at least a part of the surface thereof is coated with an organic compound or an organometallic compound having an anionic polar group in order to enhance dispersibility in an organic solvent. It is preferable that
前記アニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなアニオン性の極性基を有するものを用いることができる。例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、変性リン酸トリアクリレート、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリアクリレート等が挙げられる。 As the organic compound having an anionic polar group, those having an anionic polar group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a hydroxyl group can be used. For example, stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, modified phosphoric acid triacrylate, epichlorohydrin modified glycerol triacrylate and the like can be mentioned.
また、アニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤;KR-TTS、KR-46B、KR-55、KR-41B、KR-38S、KR-138S、KR-238S、338X、KR-44、KR-9SA、KR-ET(以上、味の素ファインテクノ(株)製のチタネートカップリング剤)、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラsec-ブトキシチタン、テトラtert-ブトキシチタン等のチタネートカップリング剤;等が挙げられる。 Examples of the organometallic compound having an anionic polar group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane Silane coupling agents such as vinyltris (2-methoxyethoxy) silane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, KR-38S, KR-138S, KR -238S, 338X, KR-44, KR-9S , KR-ET (above, titanate coupling agent manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetra sec-butoxy And titanate coupling agents such as titanium and tetra-tert-butoxytitanium;
無機酸化物粒子の、表面を有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆して疎水性を付与する。前記アニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に無機酸化物を分散させた後に有機溶剤を完全に蒸発除去することにより得ることができる。この行程を経ることにより、無機微粒子の分散性の向上、再凝集を防止することができる。 The surface of the inorganic oxide particles is coated with an organic compound and / or an organometallic compound to impart hydrophobicity. Obtained by dissolving the organic compound and / or organometallic compound having an anionic polar group in an organic solvent, dispersing the inorganic oxide in the solution, and then completely evaporating and removing the organic solvent. Can do. Through this process, the dispersibility of the inorganic fine particles can be improved and re-aggregation can be prevented.
無機酸化物粒子は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この場合には、主機能が異なる無機酸化物粒子同士を組み合わせることにより、複数の機能をバランスよく備えた透明薄膜を形成することができる。例えば、屈折率は極めて大きいが導電性の小さいルチル型酸化チタン微粒子と、導電性は極めて大きいが屈折率はルチル型酸化チタンよりも小さい上記の導電性無機酸化物を組み合わせて、所定の屈折率と良好な帯電防止性能を兼ね備えたハードコート層を形成することが可能である。
また、無機酸化物微粒子の配合量は、特に制限されないが、優れた耐擦傷性を有し、屈折率が1.55以上のハードコート層が容易に得られる観点から、活性エネルギー線硬化性樹脂塗工液100重量部全体に対して、40〜90重量部であるのが好ましい。
Two or more inorganic oxide particles may be used in combination. In this case, a transparent thin film having a plurality of functions in a balanced manner can be formed by combining inorganic oxide particles having different main functions. For example, a predetermined refractive index is obtained by combining rutile-type titanium oxide fine particles having a very high refractive index but low conductivity and the above-described conductive inorganic oxide having extremely high conductivity but a refractive index smaller than that of rutile-type titanium oxide. It is possible to form a hard coat layer having good antistatic performance.
Further, the amount of the inorganic oxide fine particles is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining a hard coat layer having excellent scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more, an active energy ray curable resin. It is preferable that it is 40-90 weight part with respect to 100 weight part whole coating liquid.
活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。
When the active energy ray-curable resin is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator is added. As photopolymerization initiators, radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether; aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metathelone compounds, benzoin sulfonic acids Cationic polymerizable initiators such as esters; These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
また、活性エネルギー線硬化性樹脂には、有機反応性ケイ素化合物を添加してもよい。用いることのできる有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の、式:RmSi(OR’)n(式中、R及びR’はそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキル基を表し、m、nはそれぞれ独立して、m+n=4の関係を満たす正整数である。)で表せる有機ケイ素化合物; Further, an organic reactive silicon compound may be added to the active energy ray curable resin. Examples of organic reactive silicon compounds that can be used include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert- Butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane, formula: R m Si (oR ') n ( wherein, R and R' each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, , N represents each independently satisfy the relationship of m + n = 4 is a positive integer) the organosilicon compound represented by.;
3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N-3-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-3-アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(3-メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤; 3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane 3-methacryloxypropylmethoxysilane, N-3- (N-vinylbenzylaminoethyl) -3-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltri Acetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (3-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, Le trichlorosilane, silane coupling agents such as dimethyldichlorosilane;
片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物;3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物;等が挙げられる。 One-end vinyl group-substituted polysilane, both-end vinyl group-substituted polysilane, one-end vinyl group-substituted polysiloxane, both-end vinyl group-substituted polysiloxane, vinyl group-substituted polysilane obtained by reacting these compounds, or vinyl group-substituted poly Active energy ray-curable silicon compounds such as siloxane; other organosilicon compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane And the like.
用いることができる活性エネルギー線硬化性樹脂塗工液は、前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー、並びに所望により無機酸化物粒子を、適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。 The active energy ray-curable resin coating solution that can be used is a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule, and optionally inorganic oxide particles. It can be prepared by dissolving or dispersing in an organic solvent.
活性エネルギー線硬化性樹脂塗工液に用いることができる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。 Examples of the organic solvent that can be used in the active energy ray-curable resin coating solution include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoacetate. Glycols such as ethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, diacetone glycol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; and combinations of two or more thereof.
活性エネルギー線硬化性樹脂を樹脂フィルム(A)上に塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。 The method for coating the active energy ray-curable resin on the resin film (A) is not particularly limited, and a known coating method can be employed. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, and a roll coating method.
活性エネルギー線硬化性樹脂の塗膜を得た後は、乾燥し、活性エネルギー線を照射することにより、硬化させてハードコート層を形成することができる。
活性エネルギー線の照射強度及び照射時間は特に限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。
After obtaining the coating film of the active energy ray curable resin, it can be dried and cured by irradiating the active energy ray to form a hard coat layer.
The irradiation intensity and irradiation time of the active energy ray are not particularly limited, and irradiation conditions such as irradiation intensity and irradiation time can be appropriately set according to the active energy ray curable resin to be used.
反射防止層(C)
本発明に使用する反射防止層(C)は、ハードコート層(B)よりも屈折率が低い層のことを言う。反射防止層(C)の屈折率は、前記条件を満たせばよいが、1.36以下であることが好ましく、1.35〜1.25であることがさらに好ましく、1.34〜1.30であることが特に好ましい。上記好ましい条件であることにより、反射防止性能と耐擦傷性、強度のバランスに優れる反射防止層が形成される。
Antireflection layer (C)
The antireflection layer (C) used in the present invention refers to a layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer (B). The refractive index of the antireflection layer (C) may satisfy the above conditions, but is preferably 1.36 or less, more preferably 1.35 to 1.25, and 1.34 to 1.30. It is particularly preferred that By satisfying the above preferable conditions, an antireflection layer excellent in the balance between antireflection performance, scratch resistance and strength is formed.
反射防止層(C)を構成する材料は、特に制限されないが、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。
エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明多孔質体である。気泡の大きさは大部分が200nm以下であり、気泡の含有量は通常10体積%以上60体積%以下、好ましくは20体積%以上40体積%以下である。
微小な気泡が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
The material constituting the antireflection layer (C) is not particularly limited, but airgel is preferable in that the refractive index can be easily controlled and the water resistance is excellent.
The airgel is a transparent porous body in which minute bubbles are dispersed in a matrix. Most of the size of the bubbles is 200 nm or less, and the content of the bubbles is usually 10% by volume or more and 60% by volume or less, preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
Specific examples of the airgel in which minute bubbles are dispersed include silica aerogel and a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix.
シリカエアロゲルは、米国特許第4402927号公報、米国特許第4432956号公報、米国特許第4610863号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは液化二酸化炭素等の溶媒(分散媒)の存在下で、この溶媒の臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第5137279号公報、米国特許5124364号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。 Silica airgel is a wet state composed of a silica skeleton obtained by hydrolysis polymerization reaction of alkoxysilane, as disclosed in US Pat. No. 4,402,927, US Pat. No. 4,432,956, US Pat. No. 4,610,863 and the like. The gel compound can be produced by drying in a supercritical state above the critical point of the solvent in the presence of a solvent (dispersion medium) such as alcohol or liquefied carbon dioxide. In supercritical drying, for example, a gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or part of the solvent contained in the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a critical point lower than that of the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of or a mixed system of carbon dioxide and a solvent. Silica airgel may be produced in the same manner as described above using sodium silicate as a raw material as disclosed in US Pat. No. 5,137,279, US Pat. No. 5,124,364, and the like.
ここで、特開平5−279011号公報、特開平7−138375号公報に開示されているように、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。このように疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。 Here, as disclosed in JP-A-5-279011 and JP-A-7-138375, the gel-like compound obtained by hydrolysis and polymerization reaction of alkoxysilane as described above is hydrophobized. It is preferable to impart hydrophobicity to the silica airgel. Hydrophobic silica airgel imparted with hydrophobicity as described above can prevent moisture, water, and the like from entering, and prevent the performance of the silica airgel from being degraded in refractive index, light transmittance, and the like.
この疎水化処理の工程は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどしてゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行わせる方法があげられる。 This hydrophobization treatment step can be performed before or during supercritical drying of the gel compound. The hydrophobization treatment is performed to make the hydrophobization by reacting the hydroxyl group of the silanol group present on the surface of the gel compound with the functional group of the hydrophobization treatment agent and replacing it with the hydrophobic group of the hydrophobization treatment agent. . As a method of performing the hydrophobization treatment, the gel is immersed in a hydrophobization treatment solution in which the hydrophobization treatment agent is dissolved in a solvent, mixed, and so on. There is a method in which the hydrophobization reaction is performed by heating accordingly.
疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等を挙げることができるが、疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよく、これらに限定されるものではない。また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそれと置換可能なものが好ましい。また疎水化処理剤としては例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。 Examples of the solvent used for the hydrophobic treatment include methanol, ethanol, isopropanol, xylene, toluene, benzene, N, N-dimethylformamide, hexamethyldisiloxane, and the like, but the hydrophobic treatment agent can be easily dissolved. And what is necessary is just to be able to substitute for the solvent which the gel before hydrophobization treatment contains, and it is not limited to these. Further, when supercritical drying is performed in a later step, a medium that can be easily supercritically dried, such as methanol, ethanol, isopropanol, liquefied carbon dioxide, or the like, is preferable. Examples of the hydrophobizing agent include hexamethyldisilazane, hexamethyldisiloxane, trimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and methyltriethoxysilane. Etc.
シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
シリカエアロゲルからなる反射防止層(C)の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前又は超臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。超臨界乾燥は、例えば前記ゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、該ゲル状化合物を含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥を行うことによって行うことができる。
The refractive index of silica airgel can be freely changed by the raw material compounding ratio of silica airgel.
The formation method of the antireflection layer (C) made of silica aerogel is not particularly limited. For example, the gel compound is coated on the hard coat layer by a known coating method, and the supercritical drying is performed. The method of forming by performing is mentioned. Further, the hydrophobization treatment may be performed before or during supercritical drying. In the supercritical drying, for example, the gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or a part of the solvent containing the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a lower critical point than the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of carbon dioxide or a mixed system of carbon dioxide and a solvent.
中空微粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開2001−233611号公報、特開2003−149642号公報に開示されているような、微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂、またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物が好ましい。
As a porous material in which hollow fine particles are dispersed in a matrix, hollow fine particles having voids inside fine particles as disclosed in JP-A Nos. 2001-233611 and 2003-149642 are used as binder resins. And a porous material dispersed in the substrate.
The binder resin can be selected from resins suitable for conditions such as dispersibility of hollow fine particles, transparency of the porous body, and strength of the porous body. For example, conventionally used polyester resins and acrylic resins Resin, urethane resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, melamine resin, fluorine resin, silicone resin, butyral resin, phenol resin, vinyl acetate resin, UV curable resin, electron beam curable resin, emulsion resin, water-soluble resin, hydrophilic resin Further, a mixture of these resins, a coating resin such as a copolymer or a modified product of these resins, a hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane, and a hydrolyzate thereof can be used.
Among these, hydrolyzable organosilicon compounds such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, silicone resins, alkoxysilanes and hydrolysates thereof are preferred from the viewpoint of the dispersibility of the fine particles and the strength of the porous body.
前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、-(O-Si)m-O-(式中、mは自然数を表す。)結合を有するものである。
(a)式(1):SiX4で表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
The hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane and the hydrolyzate thereof are formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and in the molecule: -(O-Si) m -O- (wherein m represents a natural number) has a bond.
(A) A compound represented by formula (1): SiX 4 .
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
但し式(1)において、Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根などの有機酸根;アセチルアセトナートなどの3-ジケトナート基;硝酸根、硫酸根などの無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基などのアルコキシ基;または水酸基を表す。 In the formula (1), X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; an oxygen atom; an organic acid radical such as an acetate radical or a nitrate radical; A 3-diketonate group such as acetonate; an inorganic acid group such as nitrate or sulfate; an alkoxy group such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, or n-butoxy; or a hydroxyl group.
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などの置換基を有していてもよいアリル基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基などのハロアルキル基;3,3,3-トリフルオロプロピル基、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基などのパーフルオロアルキル基;3-メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカルボニルオキシアルキル基;3-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基などのエポキシ基を有するアルキル基;3−メルカプトプロピル基などのメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基;などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射特性から、炭素数1〜4のアルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基が好ましい。
これら(a)の化合物の中でも、式(2):RaSiY4-a〔式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が好ましい。
Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an allyl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group and 3-chloropropyl group; 3,3,3-trifluoropropyl group, methyl-3,3,3-tri A perfluoroalkyl group such as a fluoropropyl group, a heptadecafluorodecyl group, a trifluoropropyl group, a tridecafluorooctyl group; An alkenylcarbonyloxyalkyl group such as a tacryloxypropyl group; an alkyl group having an epoxy group such as a 3-glycidoxypropyl group or a 3,4-epoxycyclohexylethyl group; an alkyl group having a mercapto group such as a 3-mercaptopropyl group An alkyl group having an amino group such as a 3-aminopropyl group; Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a perfluoroalkyl group, and a phenyl group are preferable because of easy synthesis, easy availability, and low reflection characteristics.
Among these compounds (a), formula (2): R a SiY 4-a [wherein, R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a represents 0-2. Represents an integer, and when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. ] The silicon compound represented by this is preferable.
前記式(2)においてYは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、-(O-Si)m-O-結合を生じせしめる基をいう。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基;オキシム基(-O-N=C-R'(R''))、エノキシ基(-O-C(R')=C(R'')R''')、アミノ基、アミノキシ基(-O-N(R')R'')、アミド基(-N(R’)-C(=O)-R'')等が挙げられる。これらの基において、R'、R''、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。
In the formula (2), Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.
Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″) )), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (— N (R ′) — C (═O) —R ″) and the like. In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the viewpoint of availability.
前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。 The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.
前記式(2)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。 The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.
前記(b)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(1)で表される化合物の1種またはそれ以上を、完全又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。 At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (1) of (b), and represented by formula (1) of (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by completely or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (1). Can be obtained by condensation.
化合物(3)および化合物(4)は、例えば、Si(Or)4(rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[H2O]/[Or]が1.0以上、1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。 Compound (3) and compound (4) are, for example, a metal tetraalkoxide represented by Si (Or) 4 (r represents a monovalent hydrocarbon group) and a molar ratio [H 2 O] / [Or ] Can be obtained by hydrolysis in the presence of water in an amount of 1.0 or more, 1.0 to 5.0, preferably 1.0 to 3.0. Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.
前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは完全加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or complete hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required for this, an acid catalyst is preferred.
The acid catalyst to be used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, Organic acids such as acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.
前記化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。 The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.
中空微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子が好ましく、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2-Al2O3、TiO2-ZrO2、In2O3-SnO2、Sb2O3-SnO2を例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hollow fine particles are not particularly limited as long as they are fine particles of an inorganic compound, but inorganic hollow fine particles in which cavities are formed inside the outer shell are preferable, and use of silica-based hollow fine particles is particularly preferable.
As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2
無機中空微粒子としては、(a)無機酸化物単一層、(b)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(c)上記(a)と(b)との二重層を包含するものを用いることができる。 The inorganic hollow fine particles include (a) a single layer of an inorganic oxide, (b) a single layer of a composite oxide composed of different types of inorganic oxides, and (c) a double layer of (a) and (b) above. What is included can be used.
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化させたり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等をあげることが出来る。 The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the cavity sealed with respect to the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell can be closed to make the outer shell dense, and furthermore, inorganic hollow fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained. In particular, when a fluorine-containing organosilicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the coating layer containing fluorine atoms is formed, so that the resulting particles have a lower refractive index and are reduced to an organic solvent. The dispersibility is good, and further, it is effective for imparting antifouling property to the low refractive index layer, which is preferable. Such fluorine-containing organic silicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl. Examples thereof include trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。 The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow fine particles may not maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the inorganic hollow fine particles are small, and as a result, the ratio of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently lowered.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、1〜50nmの範囲となるようにすればよい。特に、緻密化された外殻の場合、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよい
When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. In particular, in the case of a densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
Further, the solvent used when preparing the inorganic hollow fine particles and / or a gas that enters during drying may be present in the cavity.
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmが好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、低屈折率になる効果が小さくなり易い、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなり易い。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 The average particle size of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index tends to be small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is deteriorated and the contribution due to diffuse reflection tends to be large. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
本発明に使用できる無機中空微粒子は、例えば特開2001-233611号公報に詳細に記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。 The inorganic hollow fine particles that can be used in the present invention can be produced, for example, based on the method described in detail in JP-A No. 2001-233611, and commercially available inorganic hollow fine particles can also be used.
無機中空微粒子の配合量は、特に制限されないが、反射防止層(C)全体に対して、10〜30重量%であることが好ましい。無機中空微粒子の配合量がこの範囲であるときに、反射防止性と耐擦傷性を兼ね備えた積層フィルムを得ることができる。 The blending amount of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the whole antireflection layer (C). When the blending amount of the inorganic hollow fine particles is within this range, a laminated film having both antireflection properties and scratch resistance can be obtained.
反射防止層(C)が中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体である場合、その形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に中空微粒子とバインダー樹脂とを含有してなる塗布液を公知の塗工方法により塗工し、必要に応じ乾燥・加熱処理を施す方法が挙げられる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。 When the antireflection layer (C) is a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix, the formation method is not particularly limited. For example, the antireflection layer (C) contains hollow fine particles and a binder resin on the hard coat layer. The coating liquid which becomes is apply | coated by the well-known coating method, and the method of performing a drying and heat processing as needed is mentioned. The temperature of the heating performed as necessary is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.
本発明において、反射防止層(C)の平均厚さは、10〜1000nm、好ましくは30〜500nmである。 In the present invention, the average thickness of the antireflection layer (C) is 10 to 1000 nm, preferably 30 to 500 nm.
樹脂フィルム(D)
本発明の脂環式構造含有重合体樹脂からなる樹脂フィルム(D)の平均厚さは、5〜200μm、好ましくは30〜100μmである。
厚みが5μm未満であると、保護フィルムとしての機械的強度が低下し、さらに、偏光板を高温高湿度環境下においたときに反り等が生じやすくなる。厚みが200μmを超えると保護フィルムの光線透過率が低下する。したがって、樹脂フィルム(D)の厚みが上記範囲にあると、機械的強度及び耐久性に優れた積層体が得られる。
Resin film (D)
The average thickness of the resin film (D) made of the alicyclic structure-containing polymer resin of the present invention is 5 to 200 μm, preferably 30 to 100 μm.
When the thickness is less than 5 μm, the mechanical strength as a protective film is lowered, and warpage or the like is likely to occur when the polarizing plate is placed in a high temperature and high humidity environment. When thickness exceeds 200 micrometers, the light transmittance of a protective film will fall. Therefore, when the thickness of the resin film (D) is in the above range, a laminate having excellent mechanical strength and durability can be obtained.
樹脂フィルム(D)の光弾性係数は、好ましくは12.0×10−12Pa−1以下、より好ましくは、9.0×10−12Pa−1以下である。光弾性係数が高すぎると、熱などによる応力の発生を緩和し、複屈折が生じ色むら、光漏れが発生する。つまり、光弾性係数が、上記範囲にある樹脂フィルム(D)を用いた偏光板を液晶表示装置に組み込んだときに、色むら、光漏れを防止することができる。
光弾性係数はピエゾ光学係数とも称され、ピエゾ光学効果(光弾性効果)の大きさを記述する物質定数であり、エリプソメータを用いて測定することができる。光弾性係数は外部応力に対する光学歪みの程度を示す値であり、値が小さければ小さい程、偏光板の保護フィルムとして光学的に良好である。
光弾性係数は、樹脂フィルムに50〜150gの範囲で荷重を加えながら、フィルム面内のレターデーション(Re)をレターデーション測定装置(王子計測機器(社)製、「KOBRA−21ADH」)を用いて測定し、これをフィルムの厚みで割って複屈折値Δnを求める。荷重を変えながらΔnを求め、荷重−Δn曲線を作成する。その傾きを光弾性係数とする。
The photoelastic coefficient of the resin film (D) is preferably 12.0 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 9.0 × 10 −12 Pa −1 or less. If the photoelastic coefficient is too high, the generation of stress due to heat or the like is alleviated, birefringence occurs, and uneven color causes light leakage. That is, when a polarizing plate using a resin film (D) having a photoelastic coefficient in the above range is incorporated in a liquid crystal display device, uneven color and light leakage can be prevented.
The photoelastic coefficient is also referred to as a piezo optical coefficient and is a material constant that describes the magnitude of the piezo optical effect (photoelastic effect) and can be measured using an ellipsometer. The photoelastic coefficient is a value indicating the degree of optical distortion with respect to external stress. The smaller the value, the better the optical film as a protective film for a polarizing plate.
For the photoelastic coefficient, a retardation measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., “KOBRA-21ADH”) is used to calculate retardation (Re) in the film surface while applying a load in the range of 50 to 150 g to the resin film. The birefringence value Δn is obtained by dividing this by the thickness of the film. Δn is obtained while changing the load, and a load-Δn curve is created. The inclination is defined as a photoelastic coefficient.
本発明に使用される樹脂フィルム(D)は脂環式構造含有重合体樹脂からなるものである。脂環式構造含有重合体樹脂は主鎖及び/又は側鎖に脂環式構造を有するものであり、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有するものが好ましい。 The resin film (D) used in the present invention is made of an alicyclic structure-containing polymer resin. The alicyclic structure-containing polymer resin has an alicyclic structure in the main chain and / or side chain, and preferably contains an alicyclic structure in the main chain from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance and the like. .
脂環式構造重合体としては、飽和脂環炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環炭化水素(シクロアルケン)構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が最も好ましい。
脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。本発明に使用される脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、もっとも好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあるとフィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
Examples of the alicyclic structure polymer include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene) structure. From the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, etc., the cycloalkane structure. Or a cycloalkene structure is preferable, and a cycloalkane structure is most preferable.
The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15 in the mechanical strength, The properties of heat resistance and film formability are highly balanced and suitable. The proportion of the repeating unit containing the alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer used in the present invention may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 30% by weight or more, Preferably it is 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and most preferably 90% by weight or more. It is preferable from the viewpoints of transparency and heat resistance of the film that the ratio of the repeating unit having an alicyclic structure in the polymer resin having an alicyclic structure is in this range.
脂環式構造を有する重合体樹脂は、具体的には、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン系重合体、(3)環状共役ジエン系重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加型共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開2002-321302号公報などに開示されている公知の重合体が挙げられる。
Specifically, the polymer resin having an alicyclic structure includes (1) a norbornene polymer, (2) a monocyclic olefin polymer, (3) a cyclic conjugated diene polymer, and (4) vinyl. Examples thereof include alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof. Among these, norbornene-based polymers are more preferable from the viewpoints of transparency and moldability.
Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrogenated products thereof, norbornene-based polymers Examples include addition polymers of monomers and addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers. Among these, from the viewpoint of transparency, a ring-opening (co) polymer hydrogenated product of a norbornene-based monomer is most preferable.
Examples of the polymer resin having the alicyclic structure include known polymers disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-321302.
本発明の樹脂フィルムに好適に用いられるノルボルネン系重合体の中でも、繰り返し単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4-ジイル-エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン-7,9-ジイル-エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、熱可塑性ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの重量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる樹脂フィルムを得ることができる。 Among norbornene polymers suitably used for the resin film of the present invention, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3 are used as repeating units. .0.1 2,5 ] decane-7,9-diyl-ethylene structure, and the content of these repeating units is 90% by weight or more based on the total repeating units of the thermoplastic norbornene resin. And the ratio of the content ratio of X and the content ratio of Y is preferably 100: 0 to 40:60 in terms of a weight ratio of X: Y. By using such a resin, it is possible to obtain a resin film having no dimensional change over a long period of time and excellent optical property stability.
重合してXの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとしては、ノルボルネン環に五員環が結合した構造を有するノルボルネン系単量体が挙げられ、より具体的には、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3,7-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)及びその誘導体、7,8-ベンゾトリシクロ[4.3.0.10,5]デカ-3-エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、及びその誘導体が挙げられる。 Examples of the monomer that gives a repeating unit having the structure of X by polymerization include norbornene-based monomers having a structure in which a 5-membered ring is bonded to a norbornene ring. More specifically, tricyclo [4.3.0. 1 2,5 ] deca-3,7-diene (common name: dicyclopentadiene) and derivatives thereof, 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 0,5 ] dec-3-ene (conventional) Name: methanotetrahydrofluorene), and derivatives thereof.
また、重合してYの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとしては、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]デカ-3,7-ジエン(慣用名:テトラシクロドデセン)及びその誘導体が挙げられる。
ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
As the monomer polymerized to provide the repeating units of the structure Y, tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] deca-3,7-diene (common name: tetracyclododecene) and its derivatives.
Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more.
このようなノルボルネン系重合体を得る手段としては、具体的には、a)重合して前記Xの構造の繰り返し単位を与えるモノマーと、重合して前記Yの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとの共重合比をコントロールして重合し、必要に応じてポリマー中の不飽和結合を水素添加する方法や、b)前記Xの構造を繰り返し単位として有するポリマーと、前記Yの構造を繰り返し単位として有するポリマーとのブレンド比でコントロールする方法が挙げられる。 Specifically, as means for obtaining such a norbornene-based polymer, a) a monomer that is polymerized to give a repeating unit of the structure of X and a monomer that is polymerized to give a repeating unit of the structure of Y A method of polymerizing by controlling the copolymerization ratio, and if necessary, hydrogenating unsaturated bonds in the polymer; b) having a polymer having the X structure as a repeating unit, and having the Y structure as a repeating unit The method of controlling by the blend ratio with a polymer is mentioned.
本発明に使用する脂環式構造含有重合体樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(以下、「GPC」と略す。)で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常8,000〜100,000、好ましくは10,000〜80,000、より好ましくは15,000〜50,000である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer resin used in the present invention is a polyisoprene or polystyrene equivalent weight measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as “GPC”) using cyclohexane as a solvent. The average molecular weight (Mw) is usually 8,000 to 100,000, preferably 10,000 to 80,000, more preferably 15,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and moldability of the film are highly balanced and suitable.
本発明に用いる脂環式構造含有重合体樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、通常1.0〜10.0、好ましくは1.0〜4.0、より好ましくは1.2〜3.5の範囲である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the alicyclic structure-containing polymer resin used in the present invention is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.0. It is -4.0, More preferably, it is the range of 1.2-3.5.
本発明に用いることができる脂環式構造含有重合体樹脂は、配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、層状結晶化合物;無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料や顔料等の着色剤;帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。 The alicyclic structure-containing polymer resin that can be used in the present invention may contain a compounding agent. The compounding agent is not particularly limited, but is a layered crystal compound; inorganic fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, ultraviolet absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; lubricants, plastics Resin modifiers such as agents; Colorants such as dyes and pigments; Antistatic agents and the like. These compounding agents can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention.
本発明における、樹脂フィルム(D)の厚さ変動は、接触式ウェブ厚さ計(明産社製、RC-101ロータリーキャリパー計)を設置し、厚さ計を横に移動させ、樹脂フィルムの幅方向に0.48mm間隔で測定する。その測定値の算術平均値(平均厚さ)と最大厚さ、最小厚さを求めた。最大厚さと平均厚さとの差、及び最小厚さと平均厚さとの差を比べ、その差の大きい方が平均厚さの何%かを求め、これを厚さ変動とした。
樹脂フィルム(D)の厚さ変動は、平均厚さの3.0%以内であることが好ましく、2.5%以内であることがさらに好ましい。樹脂フィルム(D)の厚さを上記範囲内であることにより本発明の樹脂フィルム(D)を液晶表示装置に組み込んだ場合の色むらを小さくすることができる。
In the present invention, the thickness variation of the resin film (D) is determined by installing a contact web thickness meter (RC-101 rotary caliper meter, manufactured by Meisho Co., Ltd.), moving the thickness meter to the side, Measurements are made at intervals of 0.48 mm in the width direction. The arithmetic average value (average thickness), maximum thickness, and minimum thickness of the measured values were obtained. The difference between the maximum thickness and the average thickness and the difference between the minimum thickness and the average thickness were compared, and the larger one was determined to determine what percentage of the average thickness, and this was regarded as the thickness variation.
The thickness variation of the resin film (D) is preferably within 3.0% of the average thickness, and more preferably within 2.5%. By setting the thickness of the resin film (D) within the above range, color unevenness when the resin film (D) of the present invention is incorporated in a liquid crystal display device can be reduced.
本発明に用いる樹脂フィルム(D)は、樹脂フィルムの揮発性成分の含有量が、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下である。揮発性成分の含有量が前記範囲にあることにより、使用環境による寸法変化を少なくすることができ、さらに液晶ディスプレイに長期間使用してもディスプレイの表示むらが発生しないなどの光学特性の安定性に優れる。
揮発性成分は、樹脂フィルム中に微量含まれる分子量200以下の比較的低沸点の物質であり、例えば、残留単量体や溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、脂環式構造含有重合体樹脂に微量含まれる分子量200以下の物質の合計であり、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。
In the resin film (D) used in the present invention, the content of the volatile component of the resin film is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less. Due to the content of the volatile component within the above range, the dimensional change due to the use environment can be reduced, and the stability of the optical characteristics such as display non-uniformity does not occur even if used for a long time in a liquid crystal display. Excellent.
The volatile component is a relatively low boiling point substance having a molecular weight of 200 or less contained in a trace amount in the resin film, and examples thereof include residual monomers and solvents. The content of the volatile component is the sum of the substances having a molecular weight of 200 or less contained in a small amount in the alicyclic structure-containing polymer resin, and can be quantified by analysis by gas chromatography.
本発明に用いる樹脂フィルム(D)のダイラインは、樹脂フィルムの長手方向に形成されるダイラインの最大深さが50nm以下、ダイラインの最小幅が500nm以上である。
ダイラインの深さ、並びにその幅は、三次元構造解析顕微鏡(サイゴ社製)を用い、フィルムの凹凸のある面を下から上に一定速度で走査させて干渉縞を観察することにより測定できる。
前記ダイラインが、上記範囲であることにより、高輝度のバックライトユニットを有する液晶表示ユニットに組み込む場合にも輝点がなく良好な表示状態とすることができる。
In the die line of the resin film (D) used in the present invention, the maximum depth of the die line formed in the longitudinal direction of the resin film is 50 nm or less, and the minimum width of the die line is 500 nm or more.
The depth of the die line and the width thereof can be measured by using a three-dimensional structural analysis microscope (manufactured by Saigo Co., Ltd.) and scanning the uneven surface of the film from the bottom to the top at a constant speed and observing the interference fringes.
When the die line is within the above range, even when the die line is incorporated in a liquid crystal display unit having a high-brightness backlight unit, there is no bright spot and a good display state can be obtained.
ここにおいて、ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの深さ及び幅を測定する場合、図3のようにベースライン12を引いて、山の頂点14又は谷の底点13からそのベースライン12へ垂直に引いた線15および16とベースライン12との交点17,18までの距離を測定し、山の頂点からベースラインまでの距離と谷の底点とベースラインまでの距離の和をダイラインの深さとする。
また、頂点14の左側にある谷13までの距離(17と18間の距離)と、頂点14の右側にある次の谷19までの距離(17と19間の距離)とを測定し、合計を頂点14を有するダイラインの幅とする。
Here, when measuring the depth and width from the top of the adjacent peak of the die line to the bottom of the valley, the base line 12 is drawn as shown in FIG. Measure the distance to the
Also, the distance to the
面内レターデーション(Re)は、フィルム面内の主屈折率をnx、nyとし、フィルムの厚さをdとすると、Re=(nx-ny)×dで求めることができる。
また、フィルム厚さ方向のレターデーション(Rth)は、フィルム面内の主屈折率をnx、nyとし、フィルム厚さ方向の屈折率をnz、フィルムの厚さをd(nm)とすると、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dで求めることができる。
Re及びRthは、市販の自動複屈折計(王子計測社製、「KOBRA-21ADH」)を用いて測定することができる。
In-plane retardation (Re) can be obtained by Re = (nx−ny) × d, where the main refractive index in the film plane is nx, ny, and the thickness of the film is d.
The retardation (Rth) in the film thickness direction is defined as Rth, where the main refractive index in the film plane is nx, ny, the refractive index in the film thickness direction is nz, and the thickness of the film is d (nm). = {(Nx + ny) / 2-nz} × d.
Re and Rth can be measured using a commercially available automatic birefringence meter (“KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments).
本発明の樹脂フィルムは、溶液流延法や溶融押出し法、好ましくは、溶融押出し法によって成形して得ることができる。 The resin film of the present invention can be obtained by molding by a solution casting method or a melt extrusion method, preferably a melt extrusion method.
樹脂フィルム(D)の表面は必要に応じて、粗面化することができる。粗面化する手段に特に制限はなく、例えば、コロナ放電処理、サンドブラスト、エッチング、微粒子の付着などを挙げることができる。樹脂フィルム(D)の表面を粗面化することにより、接着性を向上させることができる。 The surface of the resin film (D) can be roughened as necessary. The means for roughening is not particularly limited, and examples thereof include corona discharge treatment, sand blasting, etching, and fine particle adhesion. Adhesion can be improved by roughening the surface of the resin film (D).
樹脂フィルム(D)はレターデーションを有するフィルムが好ましい。樹脂フィルム(D)は、そのレターデーションの値に特に制限はない。
例えば、所定の波長に対して1/2の面内のレターデーションReを与えるものは、1/2波長板として機能する。1/4の面内のレターデーションReを与えるものを1/4波長板として機能する。
樹脂フィルム(D)にはさらに他の樹脂からなるフィルムを積層してもよい。例えば、フィルム(D)が1/4波長板であるとき、これに1/2波長板を積層することにより、広帯域1/4波長板にすることができる。
The resin film (D) is preferably a film having retardation. There is no restriction | limiting in particular in the value of the retardation of a resin film (D).
For example, a material that gives an in-plane retardation Re with respect to a predetermined wavelength functions as a half-wave plate. A material that gives an in-plane retardation Re functions as a quarter-wave plate.
A film made of another resin may be further laminated on the resin film (D). For example, when the film (D) is a ¼ wavelength plate, a broadband ¼ wavelength plate can be obtained by laminating a ½ wavelength plate on the film (D).
樹脂フィルム(D)の他の態様としては、(1)〜(4)のいずれかの関係を有するものが挙げられる。
nx≒ny<nz (1)
nx≒ny>nz (2)
nx>ny≒nz (3)
nx≒nz>ny (4)
nx、ny及びnzは、前記位相差板等におけるX軸、Y軸、及びZ軸方向の屈折率を表し、前記X軸方向とは、前記層の面内での屈折率が最大となる方向(面内遅相軸方向)であり、前記Y軸方向とは、前記層の面内で前記X軸方向に垂直な方向(面内進相軸方向)であり、前記Z軸方向とは、前記X軸方向及び前記Y軸方向に垂直な層の厚さ方向である。
As another aspect of a resin film (D), what has the relationship in any one of (1)-(4) is mentioned.
nx≈ny <nz (1)
nx≈ny> nz (2)
nx> ny≈nz (3)
nx≈nz> ny (4)
nx, ny, and nz represent refractive indexes in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in the retardation plate or the like, and the X-axis direction is a direction in which the refractive index in the plane of the layer is maximized. (In-plane slow axis direction), and the Y-axis direction is a direction (in-plane fast axis direction) perpendicular to the X-axis direction in the plane of the layer, and the Z-axis direction is The thickness direction of the layer is perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.
本発明の樹脂フィルム(D)においては、複数枚の位相差フィルムを、各々の遅相軸が所定の角度で交差又は、平行になるように積層させたものであってもよい。積層させる場合は、公知の積層方法を用いればよい。また、積層の際に粘着剤等を用いても良い。 In the resin film (D) of the present invention, a plurality of retardation films may be laminated such that each slow axis intersects or is parallel at a predetermined angle. When laminating, a known laminating method may be used. Moreover, you may use an adhesive etc. in the case of lamination | stacking.
プライマー
本発明の偏光板は、偏光子と上記樹脂フィルム(A)との間、偏光子と上記樹脂フィルム(D)との間にプライマーを設けてもよい。プライマーを設けることにより、偏光子との密着性が向上し、機械的強度、偏光子の耐久性、光学特性が向上する。
Primer The polarizing plate of this invention may provide a primer between a polarizer and the said resin film (A), and between a polarizer and the said resin film (D). By providing the primer, adhesion with the polarizer is improved, and mechanical strength, durability of the polarizer, and optical characteristics are improved.
プライマーとしては、ビニルアルコール重合体からなる層、シリコーン系の層、ウレタン系の層、アクリル系の層、内部に環化構造を有する共役ジエン系重合体又はその水素添加物を含有するプライマー、などが挙げられる。信頼性、機械的強度、光学特性等の観点から、ビニルアルコール重合体からなるプライマー又は内部に環化構造を有する共役ジエン系重合体又はその水素添加物を含有するプライマーや、ビニルアルコール重合体からなるものが好ましい。 As a primer, a layer comprising a vinyl alcohol polymer, a silicone layer, a urethane layer, an acrylic layer, a primer containing a conjugated diene polymer having a cyclized structure inside or a hydrogenated product thereof, etc. Is mentioned. From the viewpoint of reliability, mechanical strength, optical properties, etc., from a primer comprising a vinyl alcohol polymer or a primer containing a conjugated diene polymer having a cyclized structure inside or a hydrogenated product thereof, or a vinyl alcohol polymer Is preferred.
ビニルアルコール重合体(PVAということがある)は、一般的に知られている従来公知のポリマーである。このPVAは、例えば、ビニルエステル単量体を主体とするビニル単量体を従来公知の方法で重合して、ビニルエステル重合体(すなわち、ビニルエステル単量体の単独重合体、2種以上のビニルエステル単量体の共重合体、及びビニルエステル単量体と他のエチレン性不飽和単量体との共重合体)を得、次いでこのビニルエステル重合体を常法によりけん化することによって容易に得られる。本発明において使用するPVAのけん化度は、好ましくは70〜99%であり、重合度は200〜3000である。本発明に使用するPVAは、本発明の目的を損なわない範囲で、例えば、アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸等が数モル%程度共重合したものであってもよく、また、例えば、アルキル基、エポキシ基、カルボニル基、シラノール基、又はチオール基等を有する化合物をグラフト付加等させて変性したものであってもよい。 A vinyl alcohol polymer (sometimes referred to as PVA) is a generally known polymer. This PVA is obtained by, for example, polymerizing a vinyl monomer mainly composed of a vinyl ester monomer by a conventionally known method to produce a vinyl ester polymer (that is, a vinyl ester monomer homopolymer, two or more kinds). A vinyl ester monomer copolymer and a copolymer of a vinyl ester monomer and another ethylenically unsaturated monomer), and then saponifying the vinyl ester polymer by a conventional method. Is obtained. The saponification degree of the PVA used in the present invention is preferably 70 to 99%, and the polymerization degree is 200 to 3000. The PVA used in the present invention may be one in which, for example, acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid and the like are copolymerized to a few mol% within a range that does not impair the object of the present invention. Further, a compound having an epoxy group, a carbonyl group, a silanol group, a thiol group, or the like may be modified by graft addition or the like.
プライマーには、本発明の目的を損なわない範囲で、例えば、硬化剤;シランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤;テルペン樹脂、フェノール樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジン樹脂、キシレン樹脂などの粘着付与剤;炭酸カルシウム、クレー、酸化チタン、カーボンブラックなどの無機充填剤;エアロジル、ディスバロンなどの揺変剤;紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等が含有されていてもよい。 In the primer, for example, a curing agent; a coupling agent such as a silane coupling agent and a titanium coupling agent; a terpene resin, a phenol resin, a terpene-phenol resin, a rosin resin, and a xylene resin. Tackifiers such as calcium carbonate, clay, titanium oxide, carbon black and other inorganic fillers; aerosil, disvalon and other thixotropic agents; UV absorbers, antioxidants, heat stabilizers, hydrolysis stabilizers, etc. Stabilizers and the like may be contained.
プライマーの形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー形成用塗工液を公知の塗工方法により、樹脂フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマーの厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜20μmである。 The method for forming the primer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer forming coating solution is applied on a resin film by a known coating method. The thickness of the primer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 20 μm.
本発明の偏光板は、その製法によって特に限定されないが、あらかじめ、樹脂フィルム(A)にハードコート層(B)及び反射防止層(C)を積層し、次いで樹脂フィルム(A)が内側になるように偏光子と重ね、偏光子のもう一方の面に樹脂フィルム(D)を重ねて積層する方法が好ましい。 Although the polarizing plate of this invention is not specifically limited by the manufacturing method, a hard-coat layer (B) and an antireflection layer (C) are laminated | stacked beforehand on a resin film (A), and then the resin film (A) becomes an inner side. Thus, it is preferable to overlap the polarizer and laminate the resin film (D) on the other surface of the polarizer.
プライマーを用いた積層方法には、プライマーの成分を含む溶液を塗工し、塗膜が乾燥しないうちに偏光子の両面に上記樹脂フィルム(A)及び上記樹脂フィルム(D)とを貼り合わせ、次いで溶媒を除去して接着する方法(以下「ウェットラミネーション」という。)、
及び、プライマーの成分を含む溶液を塗工し、次いで溶媒を除去して塗膜を乾燥させてから偏光子の両面に上記樹脂フィルム(A)及び上記樹脂フィルム(D)とを貼り合わせ、加圧及び/又は加熱等により接着する方法(以下「ドライラミネーション」という。)が挙げられる。
ウェットラミネーションの場合は、メイヤバー、グラビアコーター、マイクログラビアコーター等で溶液を偏光膜又は/及びフィルムに塗工又は滴下し、積層体を例えば2本のロールなどでラミネートしながら溶媒を加熱等により除去する。
ドライラミネーションの場合は、バーコーター、ロールコーター、グラビアコーター等で溶液を偏光膜又は/及びフィルムに塗工し、乾燥炉を通すなどの手段を用いて塗膜中の溶媒を除去する。
In the laminating method using a primer, a solution containing a primer component is applied, and the resin film (A) and the resin film (D) are bonded to both sides of the polarizer before the coating film is dried, Next, a method of removing the solvent and bonding (hereinafter referred to as “wet lamination”),
And after applying the solution containing the primer component, removing the solvent and drying the coating film, the resin film (A) and the resin film (D) are bonded to both sides of the polarizer, And a method of bonding by pressure and / or heating (hereinafter referred to as “dry lamination”).
In the case of wet lamination, the solution is applied or dropped onto a polarizing film or / and film with a Meyer bar, gravure coater, micro gravure coater, etc., and the solvent is removed by heating while laminating the laminate with, for example, two rolls. To do.
In the case of dry lamination, the solution is applied to the polarizing film or / and the film with a bar coater, roll coater, gravure coater or the like, and the solvent in the coating film is removed using means such as passing through a drying furnace.
上記において、介在させるプライマーの種類及び偏光子に樹脂フィルムを貼りあわせる方法は、偏光子と上記樹脂フィルム(A)との間、及び、偏光板と上記樹脂フィルム(D)との間で、それぞれ異なっていてもよい。
本発明においては、偏光子に上記ハードコート層(B)及び反射防止層(C)が積層された上記樹脂フィルム(A)及び上記樹脂フィルム(D)を貼り合わせる場合には、ビニルアルコール重合体の溶液を用いて、ウェットラミネーションにより積層体を製造するのが好ましい。その場合、用いるビニルアルコール重合体溶液の粘度は、好ましくは10〜20000cP(センチポアズ)、より好ましくは100〜12000cPの範囲である。10cP未満であると、ラミネート時の加圧によって溶液が積層体の外に余分に流れ出し、プライマーの厚みが薄くなり、一方、20000cPを超えると、塗工性が低下する。
ウェットラミネーションにおいては溶媒に水を用いると積層体の各層間の接着強度に優れるために好ましい。
In the above, the kind of the intervening primer and the method of laminating the resin film on the polarizer are respectively between the polarizer and the resin film (A) and between the polarizing plate and the resin film (D). May be different.
In the present invention, when the resin film (A) and the resin film (D) in which the hard coat layer (B) and the antireflection layer (C) are laminated on a polarizer are bonded together, a vinyl alcohol polymer is used. It is preferable to produce a laminate by wet lamination using the above solution. In that case, the viscosity of the vinyl alcohol polymer solution used is preferably in the range of 10 to 20000 cP (centipoise), more preferably 100 to 12000 cP. When the pressure is less than 10 cP, the solution flows excessively out of the laminate due to pressurization at the time of lamination, and the thickness of the primer becomes thin. On the other hand, when the pressure exceeds 20000 cP, the coating property is deteriorated.
In wet lamination, it is preferable to use water as the solvent because the adhesive strength between the layers of the laminate is excellent.
ウェットラミネーション及びドライラミネーションのいずれにおいても、各フィルムと偏光子との積層は、公知のいかなる手段を用いてもよいが、ニップロールによるのが簡便で、且つ、生産性にも優れるので好ましい。ニップロールとしてはゴムロールと金属ロール、又はゴムロールとゴムロールとを組み合わせることができる。積層時の圧力は、ニップ線圧で通常1〜100kgf/cm、好ましくは3〜30kgf/cmである。 In any of wet lamination and dry lamination, lamination of each film and a polarizer may be performed by any known means, but is preferable because it is easy to use a nip roll and is excellent in productivity. As the nip roll, a rubber roll and a metal roll, or a rubber roll and a rubber roll can be combined. The pressure at the time of lamination is usually 1 to 100 kgf / cm, preferably 3 to 30 kgf / cm in terms of nip line pressure.
上記方法で得られた偏光板は、養生することによって偏光子と各フィルムとの接着強度、偏光子の耐久性を向上でき、高温高湿環境下における偏光板の反りを低減できる。養生の条件は、温度が好ましくは2〜150℃、より好ましくは20〜80℃、保持時間が0.5〜200時間、好ましくは48〜100時間である。養生の温度及び保持時間が上記範囲にあると、耐久性、光学性能などに優れた偏光フィルムが得られる。
また、各フィルムと偏光子とを、プライマーを介して貼り合わせた後、これに圧力をかけることによりプライマーの厚みをコントロールするのが好ましい。
By curing the polarizing plate obtained by the above method, the adhesive strength between the polarizer and each film and the durability of the polarizer can be improved, and the warpage of the polarizing plate in a high temperature and high humidity environment can be reduced. The curing conditions are such that the temperature is preferably 2 to 150 ° C, more preferably 20 to 80 ° C, and the holding time is 0.5 to 200 hours, preferably 48 to 100 hours. When the curing temperature and holding time are within the above ranges, a polarizing film excellent in durability, optical performance and the like can be obtained.
Moreover, after bonding each film and a polarizer through a primer, it is preferable to control the thickness of a primer by applying a pressure to this.
本発明の偏光板は、反射防止層(C)の防汚性能を高めるために、反射防止層(C)上に防汚層をさらに形成することができる。
防汚層の形成材料としては、反射防止層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;CVD等の化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。
In the polarizing plate of the present invention, an antifouling layer can be further formed on the antireflection layer (C) in order to enhance the antifouling performance of the antireflection layer (C).
The antifouling layer forming material is not particularly limited as long as the function of the antireflection layer is not hindered and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used.
As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As the method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method such as CVD; a wet coating method; The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.
本発明の偏光板は、樹脂フィルム(A)、ハードコート層(B)と反射防止層(C)を順次積層させた面の反射率が、通常0.7%以下、好ましくは0.5%以下である。反射率は、例えば、公知の分光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率として求めることができる。 In the polarizing plate of the present invention, the reflectance of the surface on which the resin film (A), the hard coat layer (B) and the antireflection layer (C) are sequentially laminated is usually 0.7% or less, preferably 0.5%. It is as follows. The reflectance can be obtained as a reflectance at a wavelength of 550 nm by measuring a reflection spectrum at a predetermined incident angle using a known spectrophotometer, for example.
本発明の偏光板の反射防止層(C)側の面は耐擦傷性に優れる。例えば、スチールウールに0.025MPaの荷重をかけた状態で、偏光板の反射防止層(C)側の表面を10回擦る試験(スチールウール試験)を行った後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められない。 The surface on the antireflection layer (C) side of the polarizing plate of the present invention is excellent in scratch resistance. For example, even after a test (steel wool test) in which the surface of the antireflection layer (C) side of the polarizing plate is rubbed 10 times with a load of 0.025 MPa applied to steel wool, No scratches are observed on the film surface.
図2に、本発明の液晶表示装置のパネル構成の例を示す。液晶表示装置は、液晶が封入されたセル21の下方に偏光板22と液晶セルを挟む状態で最表部に透過軸と垂直に(クロスニコル)配置された本発明の偏光板1で構成される。光源は図の下方から入射され、下方に配置された偏光板、液晶セル、上部にある偏光板を透過し、画像は上部偏光板の最表部に投影される。
本発明の偏光板は、反射防止層(C)側を視認側に向け、さらに液晶セルの視認側に設置される。
FIG. 2 shows an example of the panel configuration of the liquid crystal display device of the present invention. The liquid crystal display device is composed of the
The polarizing plate of the present invention is installed on the viewing side of the liquid crystal cell with the antireflection layer (C) side facing the viewing side.
液晶セルに使用する液晶モードとしては、インプレーンスイッチング(IPS)モード、バーチカルアラインメント(VA)モード、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)モード、ツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モード、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)モードなどを挙げることができる。 The liquid crystal mode used in the liquid crystal cell includes an in-plane switching (IPS) mode, a vertical alignment (VA) mode, a multi-domain vertical alignment (MVA) mode, a continuous spin wheel alignment (CPA) mode, and a twisted nematic (TN) mode. , Super twisted nematic (STN) mode, hybrid alignment nematic (HAN) mode, and optically compensated bend (OCB) mode.
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.
Evaluation in this example is performed by the following method.
(1) ダイラインの深さと幅
三次元構造解析顕微鏡(サイゴ社製)を用い、フィルムの凹凸のある面を下から上に一定速度で走査させて干渉縞を観察することにより測定した。
図3に示すように、隣り合う谷の底点13と山の頂点14とに、ベースライン12を引いて、谷の底点13又は山の頂点14からそのベースライン12へ垂直に引いた線15および16とベースライン12との交点17,18までの距離を測定し、山の頂点からベースライン間での距離と谷の底点からベースラインまでの距離との和をダイラインの深さとする。
ダイラインの幅は、頂点14の左側にある谷13までの距離(17と18間の距離)と、頂点14の右側にある次の谷19との距離(17と19間の距離)とを測定し、その合計距離を、頂点14を有するダイラインの幅とする。
(1) Depth and width of die line Using a three-dimensional structural analysis microscope (manufactured by Saigo Co., Ltd.), measurement was performed by observing interference fringes by scanning the uneven surface of the film from the bottom to the top at a constant speed.
As shown in FIG. 3, the base line 12 is drawn to the bottom 13 of the adjacent valley and the
The width of the die line is measured by measuring the distance to the
(2)フィルムの厚さ(平均厚さと厚さ変動)
1350mm幅の樹脂フィルムに、接触式ウェブ厚さ計(明産社製、RC-101ロータリーキャリパー計)を設置し、厚さ計を横に移動させ、樹脂フィルムの幅方向に0.48mm間隔で測定する。その測定値の算術平均値(平均厚さ)と最大厚さ、最小厚さを求めた。最大厚さと平均厚さとの差、及び最小厚さと平均厚さとの差を比べ、その差の大きい方が平均厚さの何%かを求め、これを厚さ変動とした。
(2) Film thickness (average thickness and thickness variation)
A contact-type web thickness meter (RC-101 rotary caliper meter, manufactured by Meisho Co., Ltd.) is installed on a 1350 mm width resin film, and the thickness meter is moved sideways at intervals of 0.48 mm in the width direction of the resin film. taking measurement. The arithmetic average value (average thickness), maximum thickness, and minimum thickness of the measured values were obtained. The difference between the maximum thickness and the average thickness and the difference between the minimum thickness and the average thickness were compared, and the larger one was determined to determine what percentage of the average thickness, and this was regarded as the thickness variation.
(3)透湿度
上記フィルムの透湿度は、JIS Z0280によるカップ法を用いて、温度40℃、湿度90%で測定した。
(3) Moisture permeability The moisture permeability of the film was measured at a temperature of 40 ° C and a humidity of 90% using a cup method according to JIS Z0280.
(4)光弾性係数
樹脂フィルムに50〜150gの範囲で荷重を加えながら、フィルム面内レターデーション(Re)をレターデーション測定装置(王子計測機器(社)製、「KOBRA−21ADH」)を用いて測定し、これをフィルムの厚みで割って複屈折値Δnを求める。荷重を変えながらΔnを求め、荷重−Δn曲線を作成した。その傾きを光弾性係数とした。
(4) Using a retardation measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments, “KOBRA-21ADH”) for in-plane retardation (Re) while applying a load in the range of 50 to 150 g to the photoelastic coefficient resin film. The birefringence value Δn is obtained by dividing this by the thickness of the film. Δn was obtained while changing the load, and a load-Δn curve was created. The slope was taken as the photoelastic coefficient.
(5)面内Re、厚さ方向Rthの測定
フィルム面内の(Re)は、フィルム面内の主屈折率をnx(TD方向)、ny(MD方向)とし、フィルムの厚さをd(nm)とすると、Re=(nx-ny)×dで求めることができる。
また、フィルム厚さ方向の(Rth)は、フィルム面内の主屈折率をnx、nyとし、フィルム厚さ方向の屈折率をnz、フィルムの厚さをd(nm)とすると、Rth={(nx+ny)/2−nz}×dで求めることができる。
値は、自動複屈折計[王子計測機器(株)社製、KOBRA-21ADH]を用いて測定した。
(5) Measurement of in-plane Re and thickness direction Rth (Re) in the film plane is set to nx (TD direction) and ny (MD direction) as the main refractive index in the film plane, and the thickness of the film is d ( nm), Re = (nx−ny) × d.
Also, (Rth) in the film thickness direction is defined as Rth = {ny, where the main refractive index in the film plane is nx, ny, the refractive index in the film thickness direction is nz, and the thickness of the film is d (nm). (Nx + ny) / 2−nz} × d.
The value was measured using an automatic birefringence meter [manufactured by Oji Scientific Instruments, KOBRA-21ADH].
(6)偏光板鉛筆硬度
JIS−K5700に従い500g荷重で測定した。
(6) Polarizing plate pencil hardness It measured with the load of 500g according to JIS-K5700.
(7)偏光板反射率(%)
分光光度計(日本分光(株)社製、紫外可視近赤外分光光度計V−750)を用い、入射角5度にて反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率を求めた。
(7) Polarizing plate reflectance (%)
Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, UV-visible near-infrared spectrophotometer V-750), the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 degrees, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was determined.
(8)全光線透過率
日本電色工業(株)社製、「濁度計NDH-300A」を用いてASTM D1003に準拠して、測定する。なお、同様の測定を5回行い、その算術平均値を全光線透過率の代表値とする。
(8) Total light transmittance Measured in accordance with ASTM D1003 using a “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. In addition, the same measurement is performed 5 times and the arithmetic average value is set as a representative value of the total light transmittance.
(9)偏光板スチールウール試験
偏光板の反射防止層表面をスチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、10回擦り、その後に顕微鏡観察を行い次の指標で評価した。
○:傷なし
△:少し傷
×:目立った傷多数
(9) Polarizing plate steel wool test The surface of the antireflection layer of the polarizing plate was rubbed 10 times in a state where a load of 0.025 MPa was applied to steel wool # 0000, followed by microscopic observation and evaluation according to the following index.
○: No scratch △: Slight scratch ×: Many conspicuous scratches
(10)耐久試験
偏光板(50cm2)を、温度60℃、湿度90%のオーブンに入れ、300時間放置し、偏光板の変化を観察した。
○:変化なし。
△:両端にそりが見られる。
×:両端に変形、縮み、巻きが発生している。
(10) Durability test A polarizing plate (50 cm 2 ) was placed in an oven at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% and left for 300 hours, and changes in the polarizing plate were observed.
○: No change.
Δ: Sled at both ends.
X: Deformation, shrinkage, and winding occurred at both ends.
(11)表示性能の評価
市販の液晶テレビ(MVAモードの20V型液晶テレビ及びIPSモードの20V型液晶テレビを用いた。)から液晶表示パネルを取り外し、液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムの内、視認側に設置されている、偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし取り、
それに変えて実施例、比較例で得た偏光板を該液晶セルに貼り合せて、液晶表示パネルを組み直して、もとの液晶テレビに設置した。
背景を黒表示で白色文字を表示させて、正面から視線を上下左右へ移動させ、その際に白文字が読みとれなくなる角度を測定する。
(11) Evaluation of display performance A liquid crystal display panel is removed from a commercially available liquid crystal television (a 20V liquid crystal television of MVA mode and a 20V liquid crystal television of IPS mode), and a polarizing plate and a viewing angle sandwiching the liquid crystal cell Of the compensation film, the polarizing plate and viewing angle compensation film installed on the viewing side are peeled off,
Instead, the polarizing plates obtained in Examples and Comparative Examples were bonded to the liquid crystal cell, and the liquid crystal display panel was reassembled and installed in the original liquid crystal television.
A white character is displayed with a black background, and the line of sight is moved up and down, left and right from the front, and the angle at which the white character cannot be read is measured.
(12)額縁故障(色むら)評価
評価(11)で作製した液晶表示装置を暗表示し、温度60℃、湿度90%で300時間放置した。その後、暗室内で暗表示にしその表示画面全体を真正面から観察し、以下の指標で評価した。
○:全体的に均一な黒表示になっており、光漏れがない。
△:額縁の上下左右に暗表示の色むらが見られる。
×:額縁の上下左右に光漏れが見られる。
(12) Frame failure (color unevenness) evaluation The liquid crystal display device produced in evaluation (11) was darkly displayed and left for 300 hours at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%. Thereafter, the display was darkened in a dark room, the entire display screen was observed from the front, and evaluated according to the following indicators.
○: A uniform black display as a whole and no light leakage.
Δ: Color unevenness of dark display is seen on the top, bottom, left and right of the frame.
X: Light leakage is observed on the top, bottom, left and right of the frame.
(13)輝点欠損評価
評価(11)で作製した液晶表示装置を暗表示し、温度60℃、湿度90%で300時間放置し、暗室内で、その表示画面全体を真正面から観察し、輝点の数を数えた。
(13) Bright spot defect evaluation The liquid crystal display device produced in the evaluation (11) is darkly displayed and left for 300 hours at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%, and the entire display screen is observed from the front in a dark room. The number of points was counted.
(ハードコート剤の調製)
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度30%、触媒化成社製)100部に、UV硬化型ウレタンアクリレート紫光UV7000B(日本合成化学社製)10部及び光開始剤イルガキュア-184(チバガイギー社製)0.4部を混合し、UV硬化型のハードコート剤を得た。
(Preparation of hard coat agent)
Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content concentration 30%, manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.), UV curable urethane acrylate purple light UV7000B (manufactured by Nippon Gosei Kagaku) and photoinitiator Irgacure-184 (Ciba Geigy) ) 0.4 part was mixed to obtain a UV curable hard coat agent.
(反射防止層用塗工液の調製)
テトラメトキシシランのオリゴマ−(コルコート社製「メチルシリケート51」)と、メタノール、水、0.01Nの塩酸水溶液を質量比21:36:2:2で混合し、これを25℃の高温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調製し、シリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20%,平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、その後,全固形分が1%になるようにメタノールで希釈し、反射防止層用塗工液を調製した。
(Preparation of coating solution for antireflection layer)
An oligomer of tetramethoxysilane (“Methyl silicate 51” manufactured by Colcoat Co.), methanol, water, and 0.01N hydrochloric acid aqueous solution were mixed at a mass ratio of 21: 36: 2: 2, and this was mixed in a high-temperature bath at 25 ° C. The mixture was stirred for 2 hours to adjust the weight average molecular weight to 850 to obtain a silicone resin.
Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., solid content 20%, average primary particle diameter of about 35 nm, outer shell thickness of about 8 nm) is added to the silicone resin as hollow silica fine particles, and hollow silica fine particles / silicone resin ( (Condensation compound equivalent) was blended so that the weight ratio was 8: 2 based on the solid content, and then diluted with methanol so that the total solid content was 1% to prepare a coating solution for the antireflection layer.
(プライマ−溶液の調製)
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物(旭化成(株)社製、タフテックM1913、メルトインデックス値は200℃、5kg荷重で1.0g/10分、スチレンブロック含量30部、水素添加率80部以上、無水マレイン酸付加量2%)2部を、キシレン8部とメチルイソブチルケトン40部の混合溶媒に溶解し、孔径1μmのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターを濾過して、完全な溶液のみをプライマ−溶液として調製した。
(Preparation of primer solution)
Hydrogenated maleic anhydride-modified styrene / butadiene / styrene block copolymer (Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec M1913, melt index value at 200 ° C. under 5 kg load, 1.0 g / 10 min, styrene block content 30
(製造例1)
樹脂フィルム(A1)として平均厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ製、KC 4UX2M)を用いた。上記樹脂フィルム(A1)は以下の性質を示す。
透湿度は300g/m2・24hrであった。
面内のレターデーションの最大値は2.1nmであった。
光弾性率は、25×10−12Pa−1であった。
そして、樹脂フィルム(A1)上に上記ハードコート剤を、ダイコーターを用いて塗工し、80℃で5分間乾燥させ、次いで紫外線(積算光量300mJ/cm2)を照射し、ハードコート剤を硬化させ、膜厚5μmのハードコート層を積層させた。
さらに上記樹脂フィルムのハードコート層側表面に反射防止層用塗工液を塗工し、塗膜を120℃で10分間熱処理し、厚さ200nmの反射防止層を有する樹脂フィルム(A2)を得た。
(Production Example 1)
A triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Konica Minolta, KC 4UX2M) having an average thickness of 40 μm was used as the resin film (A1). The resin film (A1) exhibits the following properties.
The moisture permeability was 300 g / m 2 · 24 hr.
The maximum value of in-plane retardation was 2.1 nm.
The photoelastic modulus was 25 × 10 −12 Pa −1 .
Then, the hard coat agent is applied onto the resin film (A1) using a die coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays (integrated light amount 300 mJ / cm 2 ). It was cured and a hard coat layer having a thickness of 5 μm was laminated.
Further, an antireflection layer coating solution is applied to the hard coat layer side surface of the resin film, and the coating film is heat treated at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a resin film (A2) having an antireflection layer having a thickness of 200 nm. It was.
(製造例2)
溶融押出し成形で作製した、脂環式構造含有重合体樹脂(ZEONOR1420、日本ゼオン社製;ガラス転移温度Tg136℃)からなる、幅1350mm、平均厚さ80μmの樹脂フィルム(D1)を用いた。面内の(Re)は、2.1nmであった。
この樹脂フィルム(D1)は以下のような性質を持っている。
上記樹脂フィルムを、評価(1)に従いダイラインを測定したところ、ダイラインの最大深さは25nm、最小幅は1100nmであった。
評価(2)に従い厚さ変動を測定したところ、1.6%であった。
透湿度は2.6g/m2・24hrであった。
光弾性率は、6.3×10−12Pa−1であった。
さらに、樹脂フィルム(D1)を縦延伸機(ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法)で、140℃雰囲気下で1.3倍に延伸し、平均厚さ68μm、面内の(Re):35nm、厚さ方向の(Rth):130nmの位相差を有する樹脂フィルム(D2)を得た。
この樹脂フィルム(D2)は以下のような性質を持っている。
上記樹脂フィルムを、評価(1)に従いダイラインを測定したところ、ダイラインの最大深さは32nm、最小幅は900nmであった。
評価(2)に従い厚さ変動を測定したところ、2.1%であった。
透湿度は2.8g/m2・24hrであった。
光弾性率は、7.5×10−12Pa−1であった。
(Production Example 2)
A resin film (D1) having a width of 1350 mm and an average thickness of 80 μm made of an alicyclic structure-containing polymer resin (ZEONOR 1420, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature Tg 136 ° C.) produced by melt extrusion molding was used. The in-plane (Re) was 2.1 nm.
This resin film (D1) has the following properties.
When the die line was measured for the resin film according to the evaluation (1), the maximum depth of the die line was 25 nm and the minimum width was 1100 nm.
When the thickness variation was measured according to Evaluation (2), it was 1.6%.
The moisture permeability was 2.6 g / m 2 · 24 hr.
The photoelastic modulus was 6.3 × 10 −12 Pa −1 .
Further, the resin film (D1) was stretched 1.3 times in a 140 ° C. atmosphere by a longitudinal stretching machine (a method of uniaxial stretching in the longitudinal direction using the difference in peripheral speed on the roll side), and an average thickness of 68 μm. In-plane (Re): 35 nm, and in the thickness direction (Rth): a resin film (D2) having a retardation of 130 nm was obtained.
This resin film (D2) has the following properties.
When the die line of the resin film was measured according to the evaluation (1), the maximum depth of the die line was 32 nm and the minimum width was 900 nm.
When the thickness variation was measured according to Evaluation (2), it was 2.1%.
The water vapor transmission rate was 2.8 g / m 2 · 24 hr.
The photoelastic modulus was 7.5 × 10 −12 Pa −1 .
(製造例3)
溶融押出し成形で作製した、脂環式構造含有重合体樹脂(ZEONOR1420、日本ゼオン社製;ガラス転移温度Tg136℃)からなる、1350mm幅、平均厚さ80μmの樹脂フィルム(D3)を用いた。
この樹脂フィルム(D3)は以下のような性質を持っている。
上記フィルムを、評価(1)に従い測定したところ、ダイラインの最大深さは180nm、最小幅は、450nmであった。
評価(2)に従い厚さ変動を測定したところ、1.2%であった。
透湿度は2.2g/m2・24hrであった。
光弾性率は、6.5×10−12Pa−1
さらに、樹脂フィルム(D3)を用い、縦延伸機(ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法)で、140℃雰囲気下で1.3倍に延伸し、平均厚さ70μm、Re:32nm、Rth:135nmの位相差を有する樹脂フィルム(D4)を得た。
この樹脂フィルム(D4)は以下のような性質を持っている。
上記フィルムを、評価(1)に従い測定したところ、ダイラインの最大深さは160nm、最小幅は、300nmであった。
評価(2)に従い厚さ変動を測定したところ、1.9%であった。
透湿度は3.2g/m2・24hrであった。
光弾性率は、7.5×10−12Pa−1
(Production Example 3)
A resin film (D3) having a width of 1350 mm and an average thickness of 80 μm made of an alicyclic structure-containing polymer resin (ZEONOR1420, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature Tg 136 ° C.) produced by melt extrusion molding was used.
This resin film (D3) has the following properties.
When the film was measured according to the evaluation (1), the maximum depth of the die line was 180 nm and the minimum width was 450 nm.
When the thickness variation was measured according to Evaluation (2), it was 1.2%.
The moisture permeability was 2.2 g / m 2 · 24 hr.
The photoelastic modulus is 6.5 × 10 −12 Pa −1.
Further, using the resin film (D3), the film was stretched 1.3 times in a 140 ° C. atmosphere by a longitudinal stretching machine (a method of uniaxial stretching in the longitudinal direction using the difference in peripheral speed on the roll side), and the average thickness A resin film (D4) having a thickness of 70 μm, Re: 32 nm, and Rth: 135 nm was obtained.
This resin film (D4) has the following properties.
When the film was measured according to the evaluation (1), the maximum depth of the die line was 160 nm and the minimum width was 300 nm.
When the thickness variation was measured according to the evaluation (2), it was 1.9%.
The water vapor transmission rate was 3.2 g / m 2 · 24 hr.
The photoelastic modulus is 7.5 × 10 −12 Pa −1.
(製造例4)PVA偏光子
厚さ85μmのPVAフィルム(クラレ社製 ビニロン#8500)をチャックに装着し、2.5倍延伸し、ヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリウム60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリウム30g/lの組成の水溶液に浸漬すると共に、同時に6.0倍に一軸延伸しつつ5分間に渡ってホウ酸処理を行った。最後に室温で24時間乾燥し、平均厚さ30μmで、偏光度99.993%の偏光子(E1)を得た。
Production Example 4 PVA Polarizer A PVA film having a thickness of 85 μm (Kuraray Vinylon # 8500) is mounted on a chuck, stretched 2.5 times, and composed of 0.2 g / l iodine and 60 g / l potassium iodide. Immerse it in an aqueous solution at 30 ° C. for 240 seconds, then immerse it in an aqueous solution having a composition of boric acid 70 g / l and potassium iodide 30 g / l and simultaneously uniaxially stretch 6.0 times for 5 minutes. Acid treatment was performed. Finally, it was dried at room temperature for 24 hours to obtain a polarizer (E1) having an average thickness of 30 μm and a polarization degree of 99.993%.
(実施例1)
樹脂フィルム(A2)の樹脂フィルム(A1)側に、プライマー溶液を介して、偏光子(E1)を貼り合わせ、次に、樹脂フィルム(D2)を偏光子(E1)のもう一方の面にプライマー溶液を介して貼り合わせ、偏光板を得た。
評価結果を表1及び表2に示す。
Example 1
The polarizer (E1) is bonded to the resin film (A2) side of the resin film (A1) via a primer solution, and then the resin film (D2) is attached to the other surface of the polarizer (E1) as a primer. It bonded together through the solution and obtained the polarizing plate.
The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
(比較例1)
樹脂フィルム(D2)を樹脂フィルム(D4)に変えた他は、実施例1と同様にして偏光板を得た。評価結果を表1及び表2に示す。
(Comparative Example 1)
A polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin film (D2) was changed to the resin film (D4). The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
(実施例2)
樹脂フィルム(D2)を樹脂フィルム(D1)に変えた他は、実施例1と同様にして偏光板を得た。評価結果を表1及び表2に示す。
(Example 2)
A polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin film (D2) was changed to the resin film (D1). The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
(比較例2)
樹脂フィルムとして厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(D5):(コニカミノルタ製、KC 8UX2M)を用いた。
上記樹脂フィルム(D5)は以下の性質を示した。
透湿度は640g/m2・24hrであった。
面内のレターデーション(Re)の最大値は3.6nmであった。
光弾性率は、22×10−12Pa−1であった。
樹脂フィルム(D2)を上記樹脂フィルム(D5)に変えた他は、実施例1と同様にして偏光板を得た。評価結果を表1及び表2に示す。
(Comparative Example 2)
A 80 μm thick triacetyl cellulose (TAC) film (D5): (Konica Minolta, KC 8UX2M) was used as the resin film.
The resin film (D5) exhibited the following properties.
The moisture permeability was 640 g / m 2 · 24 hr.
The maximum value of in-plane retardation (Re) was 3.6 nm.
The photoelastic modulus was 22 × 10 −12 Pa −1 .
A polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin film (D2) was changed to the resin film (D5). The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
表1の結果から以下のことがわかる。
実施例に示すように、本発明の偏光板は、偏光子の一方の面に、ハードコート層、反射防止層を積層したTACフィルムを用い、他方の面に、脂環式構造含有重合体樹脂を用いて構成される。
透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板を形成できることがわかる。さらに、耐久性試験(温度60℃、湿度90%で300時間放置の環境下に置く試験)において、偏光板のそり、リタデーションむら、色むら、輝点欠損のない、位相差板であることが明白である。
表2に示すように、液晶表示装置を作製し、各種液晶のモードに合わせて、視野角を測定したところ、本発明の位相差板は、視野角特性が改善されていることが判る。また、比較例においては、視野角を測定したが、全体的に、視野角低下に加えて、輝度が低下していることも確認された。
From the results in Table 1, the following can be understood.
As shown in the examples, the polarizing plate of the present invention uses a TAC film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated on one surface of a polarizer, and an alicyclic structure-containing polymer resin on the other surface. It is configured using.
It can be seen that a polarizing plate excellent in all of transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance and adhesion can be formed. Further, in a durability test (a test placed in an environment of standing at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% for 300 hours), the retardation plate is free from warpage, retardation unevenness, color unevenness, and bright spot defect of a polarizing plate. It is obvious.
As shown in Table 2, when a liquid crystal display device was produced and the viewing angle was measured in accordance with various liquid crystal modes, it was found that the viewing angle characteristics of the retardation plate of the present invention were improved. Moreover, in the comparative example, the viewing angle was measured, but it was also confirmed that the brightness was lowered in addition to the viewing angle reduction as a whole.
1 偏光板
2 樹脂フィルム(D)
3 偏光子
4 樹脂フィルム(A)。
5 ハードコート層(B)
6 反射防止層(C)
21 液晶セル
22 偏光板
12〜19 ダイラインを説明する符号
1 Polarizing
3
5 Hard coat layer (B)
6 Antireflection layer (C)
21
12-19 Codes describing the die line
Claims (6)
前記偏光子の他方の面に、脂環式構造含有樹脂からなり、厚みが5〜200μm、透湿度が0.3〜40g/m2・24hr、光弾性係数が12.0×10−12Pa−1以下かつダイラインの最大深さ50nm以下、最小幅500nm以上である樹脂フィルム(D)が積層されてなる偏光板。 On one surface of the polarizer, a resin film (A) having a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 50 to 1500 g / m 2 · 24 hr, and a maximum in-plane retardation of 4 nm or less, a hard coat layer (B ) And an antireflection layer (C) are sequentially laminated,
The other surface of the polarizer is made of an alicyclic structure-containing resin, has a thickness of 5 to 200 μm, a moisture permeability of 0.3 to 40 g / m 2 · 24 hr, and a photoelastic coefficient of 12.0 × 10 −12 Pa. A polarizing plate formed by laminating a resin film (D) having a maximum of −1 or less and a maximum depth of 50 nm or less and a minimum width of 500 nm or more.
A liquid crystal display device in which the polarizing plate according to claim 1 is installed with the antireflection layer (C) side facing the viewing side.
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