JP2006018089A - Polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
【課題】偏光子の透明保護層を特定のものとすることにより、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】偏光子の一方の面に少なくとも透明保護層(A)、ハードコート層(B)及び低屈折率層(C)がこの順で積層され、前記偏光子のもう一方の面に透明保護層(D)が積層されてなる偏光板において、前記透明保護層(A)は厚さ50μmにおけるヘイズ値が1.0以下であるポリエステル樹脂を含有してなるフィルムであり、上記偏光板の表面硬度が鉛筆硬度でH以上であることを特徴とする偏光板。Disclosed is a polarizing plate and a liquid crystal display device that are excellent in transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion by making a transparent protective layer of a polarizer specific. is there.
At least a transparent protective layer (A), a hard coat layer (B), and a low refractive index layer (C) are laminated in this order on one surface of a polarizer, and transparent on the other surface of the polarizer. In the polarizing plate in which the protective layer (D) is laminated, the transparent protective layer (A) is a film containing a polyester resin having a haze value of 1.0 or less at a thickness of 50 μm. A polarizing plate characterized in that the surface hardness is H or more in pencil hardness.
Description
本発明は、偏光板に関し、さらに詳しくは偏光子の両面に透明保護層を積層してなる積層体からなる、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性に優れる偏光板を提供することである。 The present invention relates to a polarizing plate, and more specifically, a polarizing plate comprising a laminate obtained by laminating a transparent protective layer on both sides of a polarizer, and having excellent transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion. Is to provide.
液晶表示装置(以下、「LCD」という)は、薄型で、軽量、また消費電力が小さいという特徴がある。LCDはその使用分野も従来の電卓や時計などから、耐久性、耐熱性の要求される自動車用途、たとえば、カーナビ、自動車用インナーパネルといった用途に拡大されつつある。
また、LCDは、液晶の配向方向を、電場の印加により配向方向を制御することで偏光の通過、遮断を切り替える機能を持つ液晶セルと、それを挟む状態で直角に配置された偏光板から構成される。
偏光板としては、偏光子の両方に偏光板保護フィルムを積層したものが用いられる。前記保護フィルムは液晶表示素子の耐傷性、反射防止性等のため、偏光子の外側に張り合わせるフィルムである。
該偏光子の素材としては、ポリビニルアルコール(以下、「PVA」という)が主に用いられており、該偏光子は、具体的にはPVAフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素あるいは二色性染料で染色するか、あるいは染色してから延伸し、さらにホウ素化合物で架橋することにより偏光子を形成している。しかし、このPVA偏光子は、機械的強度が低く、また熱や水分によって収縮するため、偏光機能が低下するので、それを防止するために、その両面に保護層が積層されている。
保護層には、光線透過性が高いこと、防湿性・耐熱性に優れていること、機械的性質に優れていること、表面が平滑であること、偏光子との接着が良好であることなどが要求されている。
保護層としてセルローストリアセテート(TAC)を用いそれを水溶性接着剤で偏光子と貼り合わせた偏光板が知られている。この偏光板にゴミや異物の付着、傷を防止するために、該TAC保護層上にハードコート層を設けたり、帯電防止層を設けたりしている。
本出願人は、保護層として熱可塑性ノルボルネン系樹脂を用いることを提案している(例えば特許文献1)。これによれば、耐水性、耐湿性、物理的強度、耐熱性、透明性、低複屈折性、粘着剤との密着性、粘着剤に対する耐久性などに優れた偏光子保護層を提供することができる。
一方、偏光板は、LCDでは液晶セルの前面側にも配置され外部に露出していることもあり、物理的な損傷を受けやすく、損傷を受けると表示画像品質を損なうので、偏光板の耐擦傷性と表面硬度の更なる強化が望まれている。加えて、LCDの表示部には、外部光の映りこみ、反射、ギラツキ等を抑えて、画面を見やすくすることや、静電気による塵埃付着がないことも望まれている。そこで、保護フィルムの表面にハードコート層、反射防止層、帯電防止層などを設けることが検討されているが未だ不十分であり、これらの特性をすべて満足することのできる偏光板が求められている。
A liquid crystal display device (hereinafter referred to as “LCD”) is characterized by being thin, lightweight, and consuming little power. The field of use of LCDs is expanding from conventional calculators and watches to automobile applications that require durability and heat resistance, such as car navigation systems and automobile inner panels.
The LCD is composed of a liquid crystal cell that has a function of switching the passage and blocking of polarized light by controlling the orientation direction of the liquid crystal by applying an electric field, and a polarizing plate arranged at right angles with the liquid crystal cell in between. Is done.
As a polarizing plate, what laminated | stacked the polarizing plate protective film on both polarizers is used. The protective film is a film that is attached to the outside of the polarizer for scratch resistance, antireflection properties, and the like of the liquid crystal display element.
As a material of the polarizer, polyvinyl alcohol (hereinafter referred to as “PVA”) is mainly used. Specifically, the polarizer is uniaxially stretched from a PVA film, and then iodine or a dichroic dye. A polarizer is formed by dyeing or stretching after dyeing and further crosslinking with a boron compound. However, since this PVA polarizer has low mechanical strength and shrinks due to heat and moisture, the polarizing function is lowered. In order to prevent this, protective layers are laminated on both sides.
Protective layer has high light transmittance, excellent moisture and heat resistance, excellent mechanical properties, smooth surface, good adhesion to polarizer, etc. Is required.
A polarizing plate is known in which cellulose triacetate (TAC) is used as a protective layer and is bonded to a polarizer with a water-soluble adhesive. In order to prevent adhesion and scratches of dust and foreign substances on the polarizing plate, a hard coat layer is provided on the TAC protective layer or an antistatic layer is provided.
The present applicant has proposed to use a thermoplastic norbornene-based resin as a protective layer (for example, Patent Document 1). According to this, providing a polarizer protective layer excellent in water resistance, moisture resistance, physical strength, heat resistance, transparency, low birefringence, adhesion to an adhesive, durability to an adhesive, and the like. Can do.
On the other hand, a polarizing plate is also disposed on the front side of a liquid crystal cell in an LCD and may be exposed to the outside, so that it is easily damaged by physical damage. Further enhancement of scratch resistance and surface hardness is desired. In addition, it is also desired that the LCD display unit is made easy to see the screen by preventing reflection of external light, reflection, glare, etc., and that there is no dust adhesion due to static electricity. Therefore, it has been studied to provide a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, etc. on the surface of the protective film, but it is still insufficient, and there is a need for a polarizing plate that can satisfy all of these characteristics. Yes.
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、偏光子の透明保護層を特定のものとすることにより、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the state of the prior art, and by making the transparent protective layer of the polarizer specific, transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, adhesion It is providing the polarizing plate and liquid crystal display device which are excellent in all of these.
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、偏光子、透明保護層、ハードコート層、低屈折率層を順次積層し、前記偏光子のもう一方の面に透明保護層を形成させることにより上記液晶表示素子に最適な本発明の偏光板を完成するに至った。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors sequentially laminated a polarizer, a transparent protective layer, a hard coat layer, and a low refractive index layer, and formed a transparent protective layer on the other surface of the polarizer. As a result, the polarizing plate of the present invention that is optimal for the liquid crystal display element was completed.
かくして本発明によれば、
(1) 偏光子の一方の面に少なくとも透明保護層(A)、ハードコート層(B)及び低屈折率層(C)がこの順で積層され、前記偏光子のもう一方の面に透明保護層(D)が積層されてなる偏光板において、前記透明保護層(A)は厚さ50μmにおけるヘイズ値が1.0以下であるポリエステル樹脂を含有してなるフィルムであり、
上記偏光板の表面硬度が鉛筆硬度でH以上であることを特徴とする偏光板。
(2)低屈折率層(C)の屈折率が1.36以下である前記(1)又は(2)の偏光板。
(3)低屈折率層(C)が、珪素酸化物からなるエアロゲルを含む層である前記(1)〜(3)のいずれかに記載の偏光板。
(4)透明保護層(D)が脂環式構造を有する重合体樹脂、又はセルロース系樹脂である前記(1)〜(4)のいずれかの偏光板。
(5)透明保護層(D)が、位相差を示す層である前記(1)〜(4)のいずれかの偏光板。
(6)前記(1)〜(6)のいずれかの偏光板の透明保護層(A)側が視認側に配置してなる液晶表示装置。
がそれぞれ提供される。
Thus, according to the present invention,
(1) At least a transparent protective layer (A), a hard coat layer (B), and a low refractive index layer (C) are laminated in this order on one surface of the polarizer, and transparent protection is provided on the other surface of the polarizer. In the polarizing plate in which the layer (D) is laminated, the transparent protective layer (A) is a film containing a polyester resin having a haze value of 1.0 or less at a thickness of 50 μm,
The polarizing plate is characterized in that the surface hardness of the polarizing plate is H or more in pencil hardness.
(2) The polarizing plate of (1) or (2), wherein the refractive index of the low refractive index layer (C) is 1.36 or less.
(3) The polarizing plate according to any one of (1) to (3), wherein the low refractive index layer (C) is a layer containing an airgel made of silicon oxide.
(4) The polarizing plate according to any one of (1) to (4), wherein the transparent protective layer (D) is a polymer resin having an alicyclic structure or a cellulose resin.
(5) The polarizing plate according to any one of (1) to (4), wherein the transparent protective layer (D) is a layer exhibiting a retardation.
(6) A liquid crystal display device in which the transparent protective layer (A) side of the polarizing plate of any one of (1) to (6) is disposed on the viewing side.
Are provided respectively.
本発明の偏光板は、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性に優れる偏光板であり、該偏光板を液晶表示装置として好適に用いることができる。 The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate excellent in transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion, and the polarizing plate can be suitably used as a liquid crystal display device.
本発明の偏光板は、偏光子の一方の面に少なくとも透明保護層(A)、低屈折率を有する反射防止層(B)が積層され、前記偏光子のもう一方の面に透明保護層(C)が積層され前記偏光子のもう一方の面に透明保護層(D)が積層されてなることを特徴とする。 In the polarizing plate of the present invention, at least a transparent protective layer (A) and an antireflection layer (B) having a low refractive index are laminated on one surface of a polarizer, and a transparent protective layer ( C) is laminated, and a transparent protective layer (D) is laminated on the other surface of the polarizer.
偏光子
本発明に使用する偏光子は、偏光子としての機能を有するものであれば特に限定されない。例えば、(1)ビニルアルコール重合体(PVA)・ヨウ素系偏光子、(2)PVA系フィルムに二色性染料を吸着配向させた、PVA・染料系偏光子、(3)PVA系フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニルフィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポリエン系偏光子、(4)分子内にカチオン基を含有する変性PVAからなるPVA系フィルムの表面および/または内部に二色性染料を有する偏光子などが挙げられる。偏光子の初期偏光性能の観点からは、(1)PVA・ヨウ素系偏光子が好ましく、耐熱性の観点からは(2)PVA・染料系偏光膜が好ましい。
Polarizer for use in a polarizer present invention is not particularly limited as long as it has a function as a polarizer. For example, (1) vinyl alcohol polymer (PVA) / iodine polarizer, (2) PVA / dye polarizer with dichroic dye adsorbed and oriented on PVA film, (3) dehydrated from PVA film A polyene polarizer in which a polyene is formed by inducing a reaction or by dehydrochlorination of a polyvinyl chloride film, (4) the surface and / or the inside of a PVA film comprising a modified PVA containing a cationic group in the molecule And a polarizer having a dichroic dye. From the viewpoint of the initial polarization performance of the polarizer, (1) a PVA / iodine-based polarizer is preferable, and from the viewpoint of heat resistance, (2) a PVA / dye-based polarizing film is preferable.
偏光子はその製造方法によって特に限定されない。例えば、1)PVA系フィルムを延伸後、ヨウ素イオンを吸着させる方法、2)PVA系フィルムを二色性染料による染色後、延伸する方法、3)PVA系フィルムを延伸後、二色性染料で染色する方法、4)二色性染料をPVA系フィルムに印刷後、延伸する方法、5)PVA系フィルムを延伸後、二色性染料を印刷する方法などの公知の方法が挙げられる。
例えば、1)の方法は、より詳細には、ヨウ素をヨウ化カリウム溶液に溶解してヨウ素イオンを作り、このイオンをPVAフィルムに吸着させて延伸し、次いで1〜4%ホウ酸水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して偏光板を製造する。2)の方法は、より詳細には、PVAフィルムを、1)と同様にホウ酸水溶液に浸漬し、次いで一軸方向に3〜7倍程度延伸し、0.05〜5%の二色性染料水溶液に浴温度30〜40℃で浸漬して染料を吸着させ、80〜100℃で乾燥して熱固定して偏光子を製造する。偏光子の偏光度は、99.993%以上が好ましい。
A polarizer is not specifically limited by the manufacturing method. For example, 1) a method of adsorbing iodine ions after stretching a PVA-based film, 2) a method of stretching a PVA-based film after dyeing with a dichroic dye, and 3) after stretching a PVA-based film, using a dichroic dye There are known methods such as a dyeing method, 4) a method of drawing a dichroic dye on a PVA film and then stretching, and 5) a method of printing a dichroic dye after stretching the PVA film.
For example, in the method of 1), more specifically, iodine is dissolved in a potassium iodide solution to form iodine ions, the ions are adsorbed on a PVA film and stretched, and then bathed in a 1 to 4% boric acid aqueous solution. A polarizing plate is produced by dipping at a temperature of 30 to 40 ° C. More specifically, in the method of 2), the PVA film is dipped in a boric acid aqueous solution in the same manner as in 1), and then stretched about 3 to 7 times in the uniaxial direction, and 0.05 to 5% dichroic dye. It is immersed in an aqueous solution at a bath temperature of 30 to 40 ° C. to adsorb the dye, dried at 80 to 100 ° C. and thermally fixed to produce a polarizer. The polarization degree of the polarizer is preferably 99.993% or more.
透明保護層(A)
本発明の透明保護層(A)はポリエステル樹脂を含有してなるものである。かかるポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートおよびこれらの構成成分を主成分とする共重合体等がある。
Transparent protective layer (A)
The transparent protective layer (A) of the present invention contains a polyester resin. Examples of such polyester include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and copolymers having these constituents as main components.
ポリエステル樹脂フィルムに用いられるポリエステル樹脂共重合体としては、テレフタル酸を主成分とする結晶性ポリエステル樹脂98〜80wt%、融点170℃以上の結晶セグメント、及び融点又は軟化点が100℃以下、分子量が400〜8000、好ましくは800〜4000の軟質重合体セグメントからなるブロック共重合ポリエステル樹脂2〜20wt%の共重合体が挙げられる。 As a polyester resin copolymer used for a polyester resin film, a crystalline polyester resin mainly composed of terephthalic acid is 98 to 80 wt%, a crystal segment having a melting point of 170 ° C. or more, and a melting point or softening point is 100 ° C. or less, and a molecular weight is Examples include a copolymer of 2 to 20 wt% of a block copolymer polyester resin composed of 400 to 8000, preferably 800 to 4000 soft polymer segments.
上記ブロック共重合ポリエステル樹脂において、融点170℃以上の結晶セグメントは、その成分だけで重合体としたときに、融点が170℃以上のものである。例えばテレフタル酸、イソフタル酸、2・6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸の残基と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタメチレングリコール、P−キシレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等の脂肪族、芳香族、脂環族ジオールの残基とからなるポリエステル等を用いることができる。
また、分子量400〜8000の軟質重合体セグメントは、該セグメント構成成分だけで測定した場合の融点或いは軟化点が100℃以下のものをいう。このような、ブロック共重合体ポリエステル樹脂を用いると、接着剤との接着性に優れる。
In the block copolymer polyester resin, the crystal segment having a melting point of 170 ° C. or higher has a melting point of 170 ° C. or higher when only the component is used as a polymer. For example, residues of aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and aliphatics such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentamethylene glycol, P-xylene glycol, and cyclohexanedimethanol Polyester composed of residues of aromatic and alicyclic diols can be used.
Further, the soft polymer segment having a molecular weight of 400 to 8000 is one having a melting point or a softening point of 100 ° C. or less when measured only with the segment constituent components. When such a block copolymer polyester resin is used, the adhesiveness with the adhesive is excellent.
本発明の偏光板に用いる透明保護層(A)は、厚さ50μmにおけるヘイズ値が1.0以下であるポリエステル系樹脂を含有してなるフィルムであるが、本発明の透明保護層(A)のポリエステル樹脂フィルムに用いられるポリエステルとしては上記条件を満たすものであれば特に限定されるものではい。 The transparent protective layer (A) used for the polarizing plate of the present invention is a film containing a polyester resin having a haze value of 1.0 or less at a thickness of 50 μm, but the transparent protective layer (A) of the present invention. The polyester used in the polyester resin film is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied.
このポリエステル中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機または無機の微粒子、充填剤、帯電防止剤、核剤などが用途に応じて適宜選択して添加されていてもよい。
添加剤の種類や添加量は、本発明のポリエステルフィルムのヘイズ等に悪影響を与えるため、厚さ50μmにおけるヘイズを1.0%以下、好ましくは0.5%以下とする範囲内で配合することが好ましい。
In this polyester, various additives such as antioxidants, heat stabilizers, weathering stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, organic lubricants, pigments, dyes, organic or inorganic fine particles, fillers, An antistatic agent, a nucleating agent, and the like may be appropriately selected and added depending on the application.
Since the type and amount of the additive adversely affect the haze and the like of the polyester film of the present invention, the haze at a thickness of 50 μm should be 1.0% or less, preferably 0.5% or less. Is preferred.
本発明においては、透明保護層(A)を構成する、ポリエステル樹脂フィルムの製造方法は、公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
たとえば、ポリエステル樹脂を有する重合体樹脂を押出機によって溶融させて当該押出機に取り付けられたダイスからシート状に押出し、押出されたシート状のポリエステル樹脂フィルムを少なくとも1つの冷却ドラムに密着させて成形して引き取る工程を有することにより得られる。
In this invention, the manufacturing method of the polyester resin film which comprises a transparent protective layer (A) can be obtained by shape | molding in a film form with a well-known shaping | molding method.
For example, a polymer resin having a polyester resin is melted by an extruder, extruded from a die attached to the extruder into a sheet shape, and the extruded sheet-shaped polyester resin film is brought into close contact with at least one cooling drum. Thus, it is obtained by having a step of taking up.
透明保護層(A)の厚さ50μmにおけるヘイズ値が1.0%を超えると、全光線透過率が低下し好ましくない。前記ヘイズ値は、1.0%以下、好ましくは0.5%以下である。ヘイズ値は、ASTM D1003に準拠して、市販の濁度計を用いて測定する。
本発明においては、使用する透明保護層(A)のJIS K7127に準拠して測定した引き取り方向(MD方向)の引張り強度が、10MPa以上であることが好ましく、15MPa以上であることがさらに好ましい。透明保護層(A)のJIS K7127に準拠して測定した長さ方向の引張り強度が上記範囲であることにより、フィルムの表面強度、熱や湿度によるひずみが緩和される。また、JIS K5400(過重500g)に準拠して測定した鉛筆硬度で、フィルムの鉛筆硬度の値が、B以上、好ましくは、HB以上である。鉛筆硬度が上記範囲にあることにより、耐擦傷性が向上する。
When the haze value at a thickness of 50 μm of the transparent protective layer (A) exceeds 1.0%, the total light transmittance is undesirably lowered. The haze value is 1.0% or less, preferably 0.5% or less. The haze value is measured using a commercially available turbidimeter in accordance with ASTM D1003.
In the present invention, the tensile strength in the take-up direction (MD direction) measured in accordance with JIS K7127 of the transparent protective layer (A) to be used is preferably 10 MPa or more, and more preferably 15 MPa or more. When the tensile strength in the length direction measured in accordance with JIS K7127 of the transparent protective layer (A) is in the above range, the surface strength of the film, distortion due to heat and humidity is alleviated. Further, the pencil hardness value measured according to JIS K5400 (overweight 500 g), the value of the pencil hardness of the film is B or more, preferably HB or more. When the pencil hardness is in the above range, the scratch resistance is improved.
本発明においては、透明保護層(A)は、厚さ100μmにおける全光線透過率が80%以上、好ましくは90%以上である。 In the present invention, the transparent protective layer (A) has a total light transmittance at a thickness of 100 μm of 80% or more, preferably 90% or more.
透明保護層(A)の厚さは、取扱い容易性、加工性の観点から、通常10〜500μmであり、透明性と機械的強度の観点から、好ましくは30〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。
透明保護層(A)は、単層でも多層でもよいが、通常は単層である。
また透明保護層(A)としては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
The thickness of the transparent protective layer (A) is usually 10 to 500 μm from the viewpoint of easy handling and workability, and preferably 30 to 300 μm, more preferably 40 to 200 μm from the viewpoint of transparency and mechanical strength. It is.
The transparent protective layer (A) may be a single layer or multiple layers, but is usually a single layer.
Moreover, as a transparent protective layer (A), what gave the surface modification process to the single side | surface or both surfaces can be used. By performing the surface modification treatment, adhesion to the low refractive index layer and other layers described later can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。 Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. As the chemical treatment, it may be immersed in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washed with water. It is effective to shake in the immersed state, but there is a problem that the surface dissolves or transparency decreases when treated for a long period of time. Depending on the reactivity, concentration, etc. of the chemical used, the treatment time etc. Need to adjust.
ハードコート層(B)
本発明においては、透明保護層(A)の上にハードコート層(B)を有することが好ましい。上記ハードコート層(B)は、高屈折率層を有することが好ましく、外光の映りこみ等の反射が防止され、耐擦傷性、防汚性が等にも優れた偏光板とすることが可能になる。
また、本発明の偏光板において上記ハードコート層(B)が保護フィルムと高屈折率層をかねることができ、薄膜化が可能になるばかりでなく製造コストをも削減できる。
本発明において、高屈折率層をかねたハードコート層(B)とは、低屈折率層(C)よりも大きい屈折率層を有する層をいう。高屈折率層の屈折率は、前記条件を満たせばよいが、1.55以上であることが好ましい。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
Hard coat layer (B)
In this invention, it is preferable to have a hard-coat layer (B) on a transparent protective layer (A). The hard coat layer (B) preferably has a high-refractive index layer, a reflection plate that prevents reflection of external light, etc., and has excellent scratch resistance and antifouling properties. It becomes possible.
Further, in the polarizing plate of the present invention, the hard coat layer (B) can serve as a protective film and a high refractive index layer, so that not only thinning but also manufacturing cost can be reduced.
In the present invention, the hard coat layer (B) also serving as a high refractive index layer refers to a layer having a refractive index layer larger than that of the low refractive index layer (C). Although the refractive index of a high refractive index layer should just satisfy the said conditions, it is preferable that it is 1.55 or more.
The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
上記ハードコート層の形成材料としては、JIS K5400に規定される鉛筆硬度試験で、「HB」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機系ハードコート材料;二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料;等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。 The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it shows a hardness of “HB” or higher in the pencil hardness test specified in JIS K5400. Examples thereof include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic, and urethane acrylate; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide; and the like. Of these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials are preferably used from the viewpoint of good adhesive strength and excellent productivity.
ハードコート層(B)の形成方法は特に制限されず、例えば、高屈折率層形成用塗工液を公知の塗工方法により支持体上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。高屈折率層の厚みは特に限定されないが、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。 The method for forming the hard coat layer (B) is not particularly limited. For example, the coating liquid for forming a high refractive index layer is coated on a support by a known coating method, and is formed by irradiating with ultraviolet rays and curing. The method of doing is mentioned. Although the thickness of a high refractive index layer is not specifically limited, Usually, 0.5-30 micrometers, Preferably it is 3-15 micrometers.
前記ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を含み、層全体の屈折率が1.55以上の層である。活性エネルギー線硬化型樹脂を含有させることにより、十分な強度、耐久性、密着性、透明性を兼ね備える高屈折率層を得ることができる。 The hard coat layer includes an active energy ray-curable resin, and has a refractive index of 1.55 or more as a whole. By containing an active energy ray-curable resin, a high refractive index layer having sufficient strength, durability, adhesion, and transparency can be obtained.
活性エネルギー線硬化性樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが、活性エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。 The active energy ray-curable resin is a resin obtained by curing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule by irradiation with active energy rays. An active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。 Examples of prepolymers and oligomers having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate And methacrylates such as melamine methacrylate, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, acrylates such as melamine acrylates, and cationic polymerization type epoxy compounds.
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸-2-(N,N-ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸-2-(N,N-ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類
;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;
Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl acrylate, ethyl acrylate, -2-ethylhexyl acrylate, methoxy acrylate Acrylic esters such as ethyl, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, and phenyl acrylate; methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, methacrylic acid Methacrylic acid esters such as phenyl and lauryl methacrylate; acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N-dimethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N -Dibenzylamino) methyl, acrylic -2-(N, N-diethylamino) substituted amino alcohol esters of unsaturated substituted and propyl; acrylamide, unsaturated carboxylic acid amides such as methacrylamide;
エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、2-ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類;
トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロ
ピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に2個以上のチオ
ール基を有するポリチオール類;等が挙げられる。
本発明においては、これらのプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
Ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Multifunctional Acrela such as REIT G
And polythiols having two or more thiol groups in the molecule, such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, and pentaerythritol tetrathioglycolate.
In the present invention, these prepolymers, oligomers and / or monomers can be used singly or in combination of two or more.
ハードコート層には、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、耐熱性、帯電防止性、防眩性などの向上を図る目的で、エネルギー線硬化型樹脂に加えて、例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナ等の各種フィラーを添加してもよく、無機酸化物粒子をさらに含むものであるのが好ましい。
さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤等の各種添加剤を添加することもできる。
無機酸化物粒子を添加することにより、耐擦傷性に優れ、屈折率が1.55以上の高屈折率層を容易に形成することが可能となる。
For the hard coat layer, an energy ray curable resin is used for the purpose of adjusting the refractive index, improving the flexural modulus, stabilizing the volume shrinkage, heat resistance, antistatic property, antiglare property, etc., if desired. In addition, for example, various fillers such as silica, alumina, hydrated alumina and the like may be added, and it is preferable to further include inorganic oxide particles.
Furthermore, various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, and an antifoaming agent can be added.
By adding inorganic oxide particles, a high refractive index layer having excellent scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more can be easily formed.
ハードコート層(B)用いることができる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましい。具体的には、前記無機酸化物粒子の屈折率が1.7以上であることが好ましく、1.7〜2.3であることがさらに好ましい。 As the inorganic oxide particles that can be used in the hard coat layer (B), those having a high refractive index are preferable. Specifically, the refractive index of the inorganic oxide particles is preferably 1.7 or more, and more preferably 1.7 to 2.3.
屈折率が高い無機酸化物としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等が挙げられる。
また、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物や、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)、5酸化アンチモン、酸化錫、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、
及びアンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等が挙げられる。
これらの中でも、酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。
これらの無機酸化物粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the inorganic oxide having a high refractive index include titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony oxide, tin-doped indium oxide (ITO), and antimony. Examples thereof include tin oxide (ATO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and fluorine-doped tin oxide (FTO).
In addition, metal oxide such as alumina, silica, zinc oxide, zirconium oxide, tin oxide doped with antimony (ATO), indium oxide doped with tin (ITO), indium oxide doped with zinc (IZO), aluminum Doped zinc oxide (AZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), antimony pentoxide, tin oxide, tin-doped indium oxide (ITO),
And tin oxide (ATO) doped with antimony, indium oxide (IZO) doped with zinc, zinc oxide (AZO) doped with aluminum, tin oxide (FTO) doped with fluorine, and the like.
Among these, antimony oxide is suitable as a component for adjusting the refractive index because of its high refractive index and excellent balance between conductivity and transparency.
These inorganic oxide particles can be used singly or in combination of two or more.
無機酸化物粒子は、ハードコート層の透明性を低下させないために、いわゆる超微粒子サイズ、より具体的には、一次粒子径が1nm以上であり、且つ、100nm以下、好ましくは30nm以下のものを用いるのが好ましい。 The inorganic oxide particles have a so-called ultrafine particle size, more specifically, a primary particle size of 1 nm or more and 100 nm or less, preferably 30 nm or less so as not to lower the transparency of the hard coat layer. It is preferable to use it.
無機酸化物粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。 The primary particle diameter of the inorganic oxide particles may be visually measured from a secondary electron emission image photograph obtained by a scanning electron microscope (SEM) or the like, or a dynamic light scattering method or a static light scattering method may be used. Mechanical measurement may be performed by a particle size distribution meter to be used.
無機酸化物粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、その粒子形状が球状であっても針状であっても、その他どのような形状であっても本発明に用いることができる。針状形状の場合は、その長さが、100nm以下、好ましくは、50nm以下である。 If the primary particle diameter of the inorganic oxide particles is within the above range, the particle shape can be used in the present invention regardless of whether it is spherical, needle-shaped, or any other shape. In the case of an acicular shape, the length is 100 nm or less, preferably 50 nm or less.
また、本発明に用いることができる無機酸化物粒子としては、有機溶剤中での分散性を高めるために、その表面の少なくとも一部がアニオン性の極性基を有する有機化合物又は有機金属化合物により被覆されていることが好ましい。ハードコート層を湿式法により形成する場合、用いる分散液中における無機酸化物粒子の分散性を向上させることができる。 Further, as the inorganic oxide particles that can be used in the present invention, at least a part of the surface thereof is coated with an organic compound or an organometallic compound having an anionic polar group in order to enhance dispersibility in an organic solvent. It is preferable that When the hard coat layer is formed by a wet method, the dispersibility of the inorganic oxide particles in the dispersion used can be improved.
前記アニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなアニオン性の極性基を有するものを用いることができる。例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、EO(エチレンオキサイド)変性リン酸トリアクリレート、ECH変性グリセロールトリアクリレート等が挙げられる。 As the organic compound having an anionic polar group, those having an anionic polar group such as a carboxyl group, a phosphate group, or a hydroxyl group can be used. Examples thereof include stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, EO (ethylene oxide) -modified phosphoric acid triacrylate, ECH-modified glycerol triacrylate, and the like.
また、アニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤;KR-TTS、KR-46B、KR-55、KR-41B、KR-38S、KR-138S、KR-238S、338X、KR-44、KR-9SA、KR-ET(以上、味の素ファインテクノ(株)製のチタネートカップリング剤)、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラsec-ブトキシチタン、テトラtert-ブトキシチタン等のチタネートカップリング剤;等が挙げられる。 Examples of the organometallic compound having an anionic polar group include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane Silane coupling agents such as vinyltris (2-methoxyethoxy) silane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, KR-38S, KR-138S, KR -238S, 338X, KR-44, KR-9S , KR-ET (above, titanate coupling agent manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetra sec-butoxy And titanate coupling agents such as titanium and tetra-tert-butoxytitanium;
表面が有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆して疎水性が付与された無機酸化物粒子は、前記アニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に無機酸化物を分散させた後に有機溶剤を完全に蒸発除去することにより得ることができる。 The inorganic oxide particles having a surface coated with an organic compound and / or an organic metal compound to impart hydrophobicity are obtained by dissolving the organic compound and / or the organic metal compound having the anionic polar group in an organic solvent. The organic solvent can be obtained by completely evaporating and removing the organic oxide after dispersing the inorganic oxide in the solution.
無機酸化物粒子は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この場合には、主となる機能が異なる無機酸化物粒子同士を組み合わせることにより、複数の機能をバランスよく備えた透明薄膜を形成することができる。例えば、屈折率は極めて大きいが導電性の小さいルチル型酸化チタン微粒子と、導電性は極めて大きいが屈折率はルチル型酸化チタンよりも小さい上記の導電性無機酸化物を組み合わせて、所定の屈折率と良好な帯電防止性能を兼ね備えたハードコート層を形成することが可能である。 Two or more inorganic oxide particles may be used in combination. In this case, a transparent thin film having a plurality of functions in a balanced manner can be formed by combining inorganic oxide particles having different main functions. For example, a predetermined refractive index is obtained by combining rutile-type titanium oxide fine particles having a very high refractive index but low conductivity and the above-described conductive inorganic oxide having extremely high conductivity but a refractive index smaller than that of rutile-type titanium oxide. It is possible to form a hard coat layer having good antistatic performance.
活性エネルギー線硬化型樹脂を含むハードコート層は、前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー、並びに所望により無機酸化物粒子を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、支持体又は支持体表面に形成されたその他の層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥し、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、形成することができる。 The hard coat layer containing an active energy ray-curable resin is an active energy ray containing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule, and optionally inorganic oxide particles. It can be formed by applying the curable resin composition on the support or other layers formed on the support surface, drying the resulting coating, and curing it by irradiating with active energy rays. it can.
用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーの含有量は、優れた塗工適性が得られる観点から、5重量%〜95重量%が好ましい。また、無機酸化物微粒子の配合量は、特に制限されないが、優れた耐擦傷性を有し、屈折率が1.55以上のハードコート層が容易に得られる観点から、ハードコート層全体に対して、40〜90重量%であるのが好ましい。 The content of the prepolymer, oligomer and / or monomer in the active energy ray-curable resin composition to be used is preferably 5% by weight to 95% by weight from the viewpoint of obtaining excellent coating suitability. Further, the amount of the inorganic oxide fine particles is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining a hard coat layer having excellent scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more, the entire hard coat layer is used. Thus, it is preferably 40 to 90% by weight.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、該組成物に光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。 When the active energy ray-curable resin composition is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator is added to the composition. As photopolymerization initiators, radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether; aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metathelone compounds, benzoin sulfonic acids Cationic polymerizable initiators such as esters; These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin composition.
また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、有機反応性ケイ素化合物を添加してもよい。用いる有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の、式:RmSi(OR’)n(式中、R及びR’はそれぞれ独立して炭素数1〜10のアルキル基を表し、m、nはそれぞれ独立して、m+n=4の関係を満たす正整数である。)で表せる有機ケイ素化合物; In addition, an organic reactive silicon compound may be added to the active energy ray-curable resin composition. Examples of the organic reactive silicon compound used include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane, formula: R m Si (oR ') n ( wherein, R and R' each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m, n it Is independently an organic silicon compound expressed by satisfying the relationship of m + n = 4 is a positive integer).;
γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤; γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane , Γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltri Acetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltri Silane coupling agents such as chlorosilane and dimethyldichlorosilane;
片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物;3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物;等が挙げられる。 One-end vinyl group-substituted polysilane, both-end vinyl group-substituted polysilane, one-end vinyl group-substituted polysiloxane, both-end vinyl group-substituted polysiloxane, vinyl group-substituted polysilane obtained by reacting these compounds, or vinyl group-substituted poly Active energy ray-curable silicon compounds such as siloxane; other organosilicon compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane And the like.
用いることができる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー、並びに所望により無機酸化物粒子を、適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。 The active energy ray-curable resin composition that can be used comprises a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule, and, if desired, inorganic oxide particles in an appropriate organic form. It can be prepared by dissolving or dispersing in a solvent.
用いることができる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。 Examples of the organic solvent that can be used include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol, Glycols such as acetone glycol; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone Oximes such as methyl ethyl ketoxime; and combinations of two or more thereof; and the like.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を支持体上に塗工する方法は特に制限されず、公知の工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。 The method for coating the active energy ray-curable resin composition on the support is not particularly limited, and a known method can be employed. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, and a roll coating method.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、活性エネルギー線を照射することにより、硬化させて高屈折率層を形成することができる。
活性エネルギー線の照射強度及び照射時間はとくに限定されず、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の組成等に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。
After obtaining the coating film of the active energy ray-curable resin composition, it can be dried and cured by irradiation with active energy rays to form a high refractive index layer.
The irradiation intensity and irradiation time of the active energy ray are not particularly limited, and irradiation conditions such as irradiation intensity and irradiation time can be appropriately set according to the composition of the active energy ray curable resin composition to be used.
ハードコート層の厚みは、通常1〜20μm、好ましくは3〜10μmである。
ハードコート層の層全体の屈折率は1.50以上の層であり、より好ましくは屈折率1.55以上である。
The thickness of the hard coat layer is usually 1 to 20 μm, preferably 3 to 10 μm.
The entire hard coat layer has a refractive index of 1.50 or more, more preferably a refractive index of 1.55 or more.
低屈折率層(C)
本発明に使用する低屈折率層(C)は、ハードコート層(B)よりも屈折率が低い層のことをいう。低屈折率層(C)の屈折率は、前記条件を満たせばよいが、1.36以下であることが好ましく、1.35〜1.25であることがさらに好ましく、1.34〜1.30であることが特に好ましい。低屈折率層の屈折率が1.25未満では、低屈折率層の強度が弱く、偏光板保護フィルムとして求められる所望の耐擦傷性が得られなくなるおそれがある。一方、1.36を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
Low refractive index layer (C)
The low refractive index layer (C) used in the present invention refers to a layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer (B). The refractive index of the low refractive index layer (C) may satisfy the above conditions, but is preferably 1.36 or less, more preferably 1.35 to 1.25, and 1.34 to 1. 30 is particularly preferred. When the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.25, the strength of the low refractive index layer is weak, and the desired scratch resistance required as a polarizing plate protective film may not be obtained. On the other hand, if it exceeds 1.36, the desired antireflection effect may not be obtained. The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
本発明の光学積層フィルムに使用する低屈折率層は、屈折率が1.36以下の層を構成する材料であれば、特に制限されないが、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。 The low refractive index layer used in the optical laminated film of the present invention is not particularly limited as long as it is a material constituting a layer having a refractive index of 1.36 or less, but it is easy to control the refractive index and water resistance. In terms of superiority, airgel is preferred.
エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気泡の大きさは大部分が200nm以下であり、気泡の含有量は通常10体積%以上60体積%以下、好ましくは20体積%以上40体積%以下である。
微小な気泡が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
The airgel is a transparent porous body in which minute bubbles are dispersed in a matrix. Most of the size of the bubbles is 200 nm or less, and the content of the bubbles is usually 10% by volume or more and 60% by volume or less, preferably 20% by volume or more and 40% by volume or less.
Specific examples of the airgel in which minute bubbles are dispersed include silica aerogel and a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix.
シリカエアロゲルは、米国特許第4402927号公報、米国特許第4432956号公報、米国特許第4610863号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは二酸化炭素等の溶媒(分散媒)の存在下で、この溶媒の臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第5137279号公報、米国特許5124364号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。 Silica airgel is a wet state composed of a silica skeleton obtained by hydrolysis polymerization reaction of alkoxysilane as disclosed in US Pat. No. 4,402,927, US Pat. No. 4,432,956, US Pat. No. 4,610,863 and the like. The gel-like compound can be produced by drying in a supercritical state above the critical point of the solvent in the presence of a solvent (dispersion medium) such as alcohol or carbon dioxide. In supercritical drying, for example, a gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or part of the solvent contained in the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a critical point lower than that of the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of or a mixed system of carbon dioxide and a solvent. Silica airgel may be produced in the same manner as described above using sodium silicate as a raw material as disclosed in US Pat. No. 5,137,279, US Pat. No. 5,124,364, and the like.
ここで、特開平5−279011号公報、特開平7−138375号公報に開示されているように、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。このように疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。 Here, as disclosed in JP-A-5-279011 and JP-A-7-138375, the gel-like compound obtained by hydrolysis and polymerization reaction of alkoxysilane as described above is hydrophobized. It is preferable to impart hydrophobicity to the silica airgel. Hydrophobic silica airgel imparted with hydrophobicity as described above can prevent moisture, water, and the like from entering, and prevent the performance of the silica airgel from being degraded in refractive index, light transmittance, and the like.
この疎水化処理の工程は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどしてゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行わせる方法があげられる。 This hydrophobization treatment step can be performed before or during supercritical drying of the gel compound. The hydrophobization treatment is performed to make the hydrophobization by reacting the hydroxyl group of the silanol group present on the surface of the gel compound with the functional group of the hydrophobization treatment agent and replacing it with the hydrophobic group of the hydrophobization treatment agent. . As a method of performing the hydrophobization treatment, the gel is immersed in a hydrophobization treatment solution in which the hydrophobization treatment agent is dissolved in a solvent, mixed, and so on. There is a method in which the hydrophobization reaction is performed by heating accordingly.
疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等を挙げることができるが、疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよく、これらに限定されるものではない。また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそれと置換可能なものが好ましい。また疎水化処理剤としては例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。 Examples of the solvent used for the hydrophobic treatment include methanol, ethanol, isopropanol, xylene, toluene, benzene, N, N-dimethylformamide, hexamethyldisiloxane, and the like, but the hydrophobic treatment agent can be easily dissolved. And what is necessary is just to be able to substitute for the solvent which the gel before hydrophobization treatment contains, and it is not limited to these. Further, when supercritical drying is performed in a later step, a medium that can be easily supercritically dried, such as methanol, ethanol, isopropanol, liquefied carbon dioxide, or the like, is preferable. Examples of the hydrophobizing agent include hexamethyldisilazane, hexamethyldisiloxane, trimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, trimethylethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and methyltriethoxysilane. Etc.
シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
低屈折率層がシリカアエロゲルである場合の、低屈折率層の形成方法は特に制限されず、例えば、高屈折率層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前又は超臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。超臨界乾燥は、例えば前記ゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、該ゲル状化合物を含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥を行うことによって行うことができる。
The refractive index of silica airgel can be freely changed by the raw material compounding ratio of silica airgel.
When the low refractive index layer is silica aerogel, the formation method of the low refractive index layer is not particularly limited. For example, the gel compound is applied on the high refractive index layer by a known coating method. And a method of forming by performing the above-mentioned supercritical drying. Further, the hydrophobization treatment may be performed before or during supercritical drying. In the supercritical drying, for example, the gel compound is immersed in liquefied carbon dioxide, and all or a part of the solvent containing the gel compound is replaced with liquefied carbon dioxide having a lower critical point than the solvent. It can be carried out by drying under supercritical conditions of a single system of carbon dioxide or a mixed system of carbon dioxide and a solvent.
中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開2001−233611号公報、特開2003−149642号公報に開示されているような、微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂、またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物が好ましい。
本発明において、低屈折率層として中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体を用いる場合には、低屈折率層の反射特性や防汚性を向上させることから、上記樹脂にフッ素樹脂を混合してもよい。
フッ素樹脂は結晶による光の散乱が実質的にない非晶性の含フッ素重合体であれば何ら限定されないが、中でもテトラフルオロエチレン/ビニリデンフルオライド/ヘキサフルオロプロピレン=37〜48重量%/15〜35重量%/26〜44重量%の3元共重合体などの非晶性のフルオロオレフィン系共重合体、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が機械的特性に優れるため好ましい。
As a porous material in which hollow particles are dispersed in a matrix, hollow fine particles having voids inside fine particles as disclosed in JP-A Nos. 2001-233611 and 2003-149642 are used as binder resins. And a porous material dispersed in the substrate.
The binder resin can be selected from resins suitable for conditions such as dispersibility of hollow fine particles, transparency of the porous body, and strength of the porous body. For example, conventionally used polyester resins and acrylic resins Resin, urethane resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, melamine resin, fluorine resin, silicon resin, butyral resin, phenol resin, vinyl acetate resin, UV curable resin, electron beam curable resin, emulsion resin, water-soluble resin, hydrophilic resin Further, a mixture of these resins, a coating resin such as a copolymer or a modified product of these resins, a hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane, and a hydrolyzate thereof can be used.
Among these, hydrolyzable organosilicon compounds such as acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, silicon resins, alkoxysilanes, and hydrolysates thereof are preferable from the viewpoint of the dispersibility of the fine particles and the strength of the porous body.
In the present invention, when a porous body in which hollow particles are dispersed in a matrix is used as the low refractive index layer, the reflection characteristics and antifouling properties of the low refractive index layer are improved. You may mix.
The fluororesin is not limited as long as it is an amorphous fluoropolymer that is substantially free of light scattering by crystals, but tetrafluoroethylene / vinylidene fluoride / hexafluoropropylene = 37-48 wt% / 15- An amorphous fluoroolefin copolymer such as a 35% by weight / 26 to 44% by weight terpolymer and a polymer having a fluorine-containing aliphatic ring structure are preferred because of excellent mechanical properties.
前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、-(O-Si)m-O-(式中、mは自然数を表す。)結合を有するものである。
(a)式(1):SiX4で表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
The hydrolyzable organosilicon compound such as alkoxysilane and the hydrolyzate thereof are formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and in the molecule: -(O-Si) m -O- (wherein m represents a natural number) has a bond.
(A) A compound represented by formula (1): SiX 4 .
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
前記(a)の式(1)で表される化合物において、Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根などの有機酸根;アセチルアセトナートなどのβ-ジケトナート基;硝酸根、硫酸根などの無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、n-ブトキシ基などのアルコキシ基;または水酸基を表す。
これらの中でも、前記式(1)で表される化合物としては、式(2):RaSiY4-a〔式中、Rは置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が好ましい。
In the compound represented by the formula (1) in (a), X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; an oxygen atom; Organic acid radicals such as nitrate radicals; β-diketonate groups such as acetylacetonate; inorganic acid radicals such as nitrate radicals and sulfate radicals; alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, and n-butoxy groups; or hydroxyl groups Represents.
Among these, as the compound represented by the formula (1), the formula (2): R a SiY 4-a [wherein, R represents a hydrocarbon group which may have a substituent, a Represents an integer of 0 to 2, and when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. ] The silicon compound represented by this is preferable.
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基などの置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基などのアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基などのアラルキル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基などのハロアルキル基;3,3,3-トリフルオロプロピル基、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基などのパーフルオロアルキル基;γ-メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基などのエポキシ基を有するアルキル基;γ−メルカプトプロピル基などのメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基;などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射特性から、炭素数1〜4のアルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基が好ましい。 Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group and γ-chloropropyl group; 3,3,3-trifluoropropyl group, methyl-3,3,3-tri Perfluoroalkyl group such as fluoropropyl group, heptadecafluorodecyl group, trifluoropropyl group, tridecafluorooctyl group; Alkenylcarbonyloxyalkyl groups such as methacryloxypropyl groups; alkyl groups having epoxy groups such as γ-glycidoxypropyl groups and 3,4-epoxycyclohexylethyl groups; alkyl groups having mercapto groups such as γ-mercaptopropyl groups An alkyl group having an amino group such as a 3-aminopropyl group; Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a perfluoroalkyl group, and a phenyl group are preferable because of easy synthesis, easy availability, and low reflection characteristics.
前記式(2)においてYは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、-(O-Si)m-O-結合を生じせしめる基をいう。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基;オキシム基(-O-N=C-R'(R''))、エノキシ基(-O-C(R')=C(R'')R''')、アミノ基、アミノキシ基(-O-N(R')R'')、アミド基(-N(R’)-C(=O)-R'')等が挙げられる。これらの基において、R'、R''、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。
In the formula (2), Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.
Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″) )), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (— N (R ′) — C (═O) —R ″) and the like. In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the viewpoint of availability.
前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。 The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.
前記式(2)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。 The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.
前記(b)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(1)で表される化合物の1種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。 At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (1) of (b), and represented by formula (1) of (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by fully or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (1). Can be obtained by condensation.
化合物(3)および化合物(4)は、例えば、Si(Or)4(rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[H2O]/[Or]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。 Compound (3) and compound (4) are, for example, a metal tetraalkoxide represented by Si (Or) 4 (r represents a monovalent hydrocarbon group) and a molar ratio [H 2 O] / [Or ] Is 1.0 or more, for example, 1.0 to 5.0, preferably 1.0 to 3.0, and can be obtained by hydrolysis in the presence of water. Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.
前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required, an acid catalyst is preferred.
The acid catalyst to be used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, Organic acids such as acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.
前記化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。 The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.
中空微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2-Al2O3、TiO2-ZrO2、In2O3-SnO2、Sb2O3-SnO2を例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hollow fine particles are not particularly limited as long as they are inorganic compound fine particles, but the use of silica-based hollow fine particles is particularly preferable.
As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2
無機中空微粒子としては、(1)無機酸化物単一層、(2)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(3)上記(1)と(2)との二重層を包含するものを用いることができる。 As the inorganic hollow fine particles, (1) an inorganic oxide single layer, (2) a single layer of a composite oxide composed of different kinds of inorganic oxides, and (3) a double layer of the above (1) and (2) What is included can be used.
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等をあげることが出来る。 The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the cavity sealed with respect to the outside of the outer shell. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell are closed to make the outer shell dense, and furthermore, the inorganic hollow fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained. In particular, when a fluorine-containing organosilicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the coating layer containing fluorine atoms is formed, so that the resulting particles have a lower refractive index and are reduced to an organic solvent. The dispersibility is good, and further, it is effective for imparting antifouling property to the low refractive index layer, which is preferable. Such fluorine-containing organic silicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl. Examples thereof include trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。 The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow fine particles may not maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the inorganic hollow fine particles are small, and as a result, the ratio of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently lowered. Furthermore, the thickness of the outer shell is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the inorganic hollow fine particles.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. For the densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
In addition, the solvent used when preparing the inorganic hollow fine particles and / or the gas that enters during drying may exist in the cavity, and a precursor substance for forming the cavity described later remains in the cavity. Also good.
The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell or may occupy the majority of the cavity.
The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. If the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the cavity increases, and inorganic hollow fine particles having a low refractive index are obtained. Excellent prevention performance.
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmが好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 The average particle size of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness is small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is extremely deteriorated, and the contribution due to diffuse reflection increases. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開2001-233611号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。 The method for producing inorganic hollow fine particles as described above is described in detail, for example, in JP-A-2001-233611, and the inorganic hollow fine particles that can be used in the present invention are produced based on the method described therein. In addition, commercially available inorganic hollow fine particles can also be used.
無機中空微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、10〜30重量%であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と耐擦傷性を兼ね備えた光学積層フィルムを得ることができる。 The blending amount of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. When the blending amount of the inorganic fine particles is within this range, an optical laminated film having both low refractive index properties and scratch resistance can be obtained.
前記無機中空微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;などが挙げられる。これらの有機溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 The inorganic hollow fine particles can also be used in the form of a dispersion. The type of the organic solvent used in the dispersion is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol mono Ethylene glycol derivatives such as butyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic carbonization such as n-hexane and n-heptane Hydrogen; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
低屈折率層を構成する無機中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体である場合の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に少なくとも微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂とを含有してなる塗布液を公知の塗工方法により塗工し、必要に応じ乾燥・加熱処理を施す方法が挙げられる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。 The formation method is not particularly limited when the inorganic hollow particles constituting the low refractive index layer are porous bodies dispersed in a matrix. For example, a hollow having voids at least inside the fine particles on the hard coat layer An example is a method in which a coating liquid containing fine particles containing a binder resin is applied by a known coating method and, if necessary, dried and heat-treated. The temperature of the heating performed as necessary is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.
本発明において、低屈折率層の屈折率は、1.35以下、好ましくは1.34〜1.25、さらに好ましくは1.34〜1.30である。低屈折率層の屈折率を上記範囲とすることにより、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた光学積層フィルムを得ることができる。
本発明において、低屈折率層の厚さは、10〜1000nm、好ましくは30〜500nmである。
In the present invention, the refractive index of the low refractive index layer is 1.35 or less, preferably 1.34 to 1.25, and more preferably 1.34 to 1.30. By setting the refractive index of the low refractive index layer within the above range, an optical laminated film having an excellent balance between antireflection performance and scratch resistance can be obtained.
In the present invention, the thickness of the low refractive index layer is 10 to 1000 nm, preferably 30 to 500 nm.
本発明の積層体の反射率は、通常0.7%以下、好ましくは0.5%以下である。反射率は、例えば、公知の分光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率として求めることができる。 The reflectance of the laminate of the present invention is usually 0.7% or less, preferably 0.5% or less. The reflectance can be obtained as a reflectance at a wavelength of 550 nm by measuring a reflection spectrum at a predetermined incident angle using a known spectrophotometer, for example.
本発明の反射防止積層体は耐擦傷性に優れる。本発明の反射防止積層体は、好ましくは、スチールウールに0.025MPaの荷重をかけた状態で、前記樹脂層上に形成された高屈折率層又は低屈折率層表面を10回擦る試験(スチールウール試験)後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められないものである。 The antireflection laminate of the present invention is excellent in scratch resistance. The antireflection laminate of the present invention is preferably a test in which the surface of a high refractive index layer or a low refractive index layer formed on the resin layer is rubbed 10 times in a state where a load of 0.025 MPa is applied to steel wool ( Even after the steel wool test), no scratches are observed on the film surface by visual observation.
本発明の反射防止積層体は、前記スチールウール試験前後の全光線透過率の変化は極めて小さい。ここで、全光線透過率の変化率(%)=(試験前後の全光線透過率の変化量)/(試験前の全光線透過率)×100で定義すると、本発明の反射防止積層体の全光線透過率の変化率は1%以下であるのが好ましい。 In the antireflection laminate of the present invention, the change in the total light transmittance before and after the steel wool test is extremely small. Here, change rate of total light transmittance (%) = (change amount of total light transmittance before and after test) / (total light transmittance before test) × 100. The change rate of the total light transmittance is preferably 1% or less.
また、本発明の反射防止積層体は、前記スチールウール試験前後のヘイズ値の変化は極めて小さい。ここで、ヘイズの変化率(%)=(試験前後のヘイズの変化量)/(試験前のヘイズ)×100で定義すると、本発明の反射防止積層体のヘイズの変化率は15%以下であるのが好ましい。 The antireflection laminate of the present invention has a very small change in haze value before and after the steel wool test. Here, haze change rate (%) = (haze change amount before and after test) / (haze before test) × 100, the haze change rate of the antireflection laminate of the present invention is 15% or less. Preferably there is.
接着剤
偏光子と透明保護層を接着剤で接着することにより偏光板の機械的強度、偏光子の収縮の防止等の機能をさらに向上させることができる。接着剤を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。
Adhesive By bonding the polarizer and the transparent protective layer with an adhesive, functions such as mechanical strength of the polarizing plate and prevention of contraction of the polarizer can be further improved. Examples of the material constituting the adhesive include polyester urethane resins, polyether urethane resins, polyisocyanate resins, polyolefin resins, resins having a hydrocarbon skeleton in the main chain, polyamide resins, acrylic resins, and polyester resins. Examples thereof include resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, chlorinated rubber, cyclized rubber, and modified products obtained by introducing polar groups into these polymers. Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber can be suitably used.
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、その水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。 Examples of the resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain include a polybutadiene skeleton or a resin having a polybutadiene skeleton hydrogenated to at least a part thereof, specifically, a polybutadiene resin, a hydrogenated polybutadiene resin, a styrene / butadiene / styrene. Examples thereof include a block copolymer (SBS copolymer), a hydrogenated product thereof (SEBS copolymer), and the like. Among these, a modified product of a hydrogenated product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer can be suitably used.
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。 As a compound for introducing a polar group used for obtaining a modified product of a polymer, a carboxylic acid or a derivative thereof is preferable. For example, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and fumaric acid; halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids such as maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride and citraconic anhydride And the like; and the like. Among these, a modified product with an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride is excellent in adhesion, and thus can be suitably used. Among the unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable. These unsaturated carboxylic acids and the like can be modified by mixing two or more kinds.
透明樹脂層(D)
本発明の偏光板を構成する透明保護層(D)は、 本発明においては、透明保護層(D)のうち、偏光子と近接する層が複屈折性を有する層を有することが好ましい。特に、透明保護層(D)が複屈折性を有し、位相差の制御が容易であり、位相差むらの発生がなく、光学補償性に優れる、脂環式構造を有する重合体樹脂またはセルロース系樹脂を含んでなるフィルムであることが好ましい。
Transparent resin layer (D)
In the present invention, the transparent protective layer (D) constituting the polarizing plate of the present invention preferably has a birefringent layer in the transparent protective layer (D) that is close to the polarizer. In particular, the transparent protective layer (D) has a birefringence, the retardation can be easily controlled, the retardation is not uneven, and the optical compensation is excellent. Polymer resin or cellulose having an alicyclic structure It is preferable that it is a film containing a resin.
本発明の透明保護層(D)に使用することができる脂環式構造含有重合体樹脂は、主鎖及び/又は側鎖に脂環式構造を有するものであり、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有するものが好ましい。 The alicyclic structure-containing polymer resin that can be used for the transparent protective layer (D) of the present invention has an alicyclic structure in the main chain and / or side chain, and has mechanical strength, heat resistance, etc. From the viewpoint, those containing an alicyclic structure in the main chain are preferred.
重合体の脂環式構造としては、飽和脂環炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環炭化水素(シクロアルケン)構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が最も好ましい。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。本発明に使用される脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは30重量%以上、さらに好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、もっとも好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあるとフィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。 Examples of the alicyclic structure of the polymer include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene) structure. From the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, cycloalkane. A structure or a cycloalkene structure is preferable, and a cycloalkane structure is most preferable. The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15 in the mechanical strength, The properties of heat resistance and film formability are highly balanced and suitable. The proportion of the repeating unit containing the alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer used in the present invention may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 30% by weight or more, Preferably it is 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and most preferably 90% by weight or more. It is preferable from the viewpoints of transparency and heat resistance of the film that the ratio of the repeating unit having an alicyclic structure in the polymer resin having an alicyclic structure is in this range.
脂環式構造を有する重合体樹脂は、具体的には、(1)ノルボルネン系重合体、(2)単環の環状オレフィン系重合体、(3)環状共役ジエン系重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加型共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開2002-321302号公報などに開示されている公知の重合体から選択される。
Specifically, the polymer resin having an alicyclic structure includes (1) a norbornene polymer, (2) a monocyclic olefin polymer, (3) a cyclic conjugated diene polymer, and (4) vinyl. Examples thereof include alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof. Among these, norbornene-based polymers are more preferable from the viewpoints of transparency and moldability.
Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrogenated products thereof, norbornene-based polymers Examples include addition polymers of monomers and addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers. Among these, from the viewpoint of transparency, a ring-opening (co) polymer hydrogenated product of a norbornene-based monomer is most preferable.
The polymer resin having the alicyclic structure is selected from known polymers disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-321302.
本発明の透明保護層(D)に好適に用いられるノルボルネン系重合体の中でも、繰り返し単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4-ジイル-エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン-7,9-ジイル-エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、熱可塑性ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの重量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる光学用フィルムを得ることができる。 Among the norbornene polymers suitably used for the transparent protective layer (D) of the present invention, as a repeating unit, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane-7,9-diyl-ethylene structure, and the content of these repeating units is 90% by weight based on the entire repeating units of the thermoplastic norbornene resin. % And the ratio of the content ratio of X and the content ratio of Y is preferably 100: 0 to 40:60 in terms of a weight ratio of X: Y. By using such a resin, it is possible to obtain an optical film that has no dimensional change in the long term and is excellent in stability of optical characteristics.
重合してXの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとしては、ノルボルネン環に五員環が結合した構造を有するノルボルネン系単量体が挙げられ、より具体的には、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3,7-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)及びその誘導体(環に置換基を有するの)、7,8-ベンゾトリシクロ[4.3.0.10,5]デカ-3-エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、及びその誘導体が挙げられる。
また、重合してYの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとしては、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]デカ-3,7-ジエン(慣用名:テトラシクロドデセン)及びその誘導体(環に置換基を有するもの)が挙げられる。
ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the monomer that gives a repeating unit having the structure of X by polymerization include norbornene-based monomers having a structure in which a 5-membered ring is bonded to a norbornene ring. More specifically, tricyclo [4.3.0. 1 2,5 ] deca-3,7-diene (common name: dicyclopentadiene) and its derivatives (having a substituent on the ring), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.10 , 5 ] Dec-3-en (common name: methanotetrahydrofluorene) and its derivatives.
As the monomer polymerized to provide the repeating units of the structure Y, tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] deca-3,7-diene (common name: tetracyclododecene) and derivatives thereof (those having a substituent in the ring).
Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more.
このようなノルボルネン系重合体を得る手段としては、具体的には、a)重合して前記Xの構造の繰り返し単位を与えるモノマーと、重合して前記Yの構造の繰り返し単位を与えるモノマーとの共重合比をコントロールして重合し、必要に応じてポリマー中の不飽和結合を水素添加する方法や、b)前記Xの構造を繰り返し単位として有するポリマーと、前記Yの構造を繰り返し単位として有するポリマーとのブレンド比でコントロールする方法が挙げられる。 Specifically, as means for obtaining such a norbornene-based polymer, a) a monomer that is polymerized to give a repeating unit of the structure of X and a monomer that is polymerized to give a repeating unit of the structure of Y A method of polymerizing by controlling the copolymerization ratio, and if necessary, hydrogenating unsaturated bonds in the polymer; b) having a polymer having the X structure as a repeating unit, and having the Y structure as a repeating unit The method of controlling by the blend ratio with a polymer is mentioned.
本発明に使用することができる脂環式構造含有重合体樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(以下、「GPC」と略す。)で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常8,000〜100,000、好ましくは10,000〜80,000、より好ましくは15,000〜50,000である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer resin that can be used in the present invention is gel permeation chromatography (hereinafter referred to as “GPC”) using cyclohexane (toluene when the polymer resin is not dissolved) as a solvent. The weight average molecular weight (Mw) in terms of polyisoprene or polystyrene measured in step) is usually 8,000 to 100,000, preferably 10,000 to 80,000, more preferably 15,000 to 50,000. It is. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and moldability of the film are highly balanced and suitable.
本発明に用いる脂環式構造含有重合体樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、通常1.0〜10.0、好ましくは1.0〜4.0、より好ましくは1.2〜3.5の範囲である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the alicyclic structure-containing polymer resin used in the present invention is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.0. It is -4.0, More preferably, it is the range of 1.2-3.5.
本発明の脂環式構造含有重合体樹脂は、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、層状結晶化合物;無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料や顔料等の着色剤;帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。 The alicyclic structure-containing polymer resin of the present invention may contain other compounding agents. The compounding agent is not particularly limited, but is a layered crystal compound; inorganic fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, ultraviolet absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; lubricants, plastics Resin modifiers such as agents; Colorants such as dyes and pigments; Antistatic agents and the like. These compounding agents can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention.
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、低吸水性等を低下させることなく、フィルム成形時の酸化劣化等によるフィルムの着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、非晶性の熱可塑性樹脂100重量部に対して通常0.001〜5重量部、好ましくは0.01〜1重量部である。 Examples of the antioxidant include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, etc. Among them, phenolic antioxidants, particularly alkyl-substituted phenolic antioxidants are preferable. By blending these antioxidants, film coloring and strength reduction due to oxidative degradation during film formation can be prevented without lowering transparency, low water absorption and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, but is an amorphous thermoplastic resin. The amount is usually 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight.
また本発明における透明保護層(D)を構成する材料は、例えば、エチレン−ビニルアルコールの共重合体、セルロースエステルなどが挙げられる。アセチル化セルロースエステルとしては、例えば、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロースなどが挙げられる。中でも透明性、機械的強度等などの観点から、トリアセチルセルロース(TAC)が最も好ましい。上記透明保護層(D)の厚みは、好ましくは、30〜150μm、より好ましくは40〜100μmである。上記透明保護層(D)の厚みが20μm未満であると積層体の機械的強度が低下し、200μmを超えると、積層体を高温高湿度環境下においたときに反り等が生じやすくなり、光線透過率も低下する。従って上記透明保護層(D)の厚みが上記範囲にあると、耐久性、機械的強度及び光学性能に優れた積層体が得られる。さらに上記透明保護層(D)の透湿度は、好ましくは100〜1,000g/m2・24h、より好ましくは150〜800g/m2・24hである。透湿度が低すぎると上記透明保護層(D)を偏光子に接着する接着剤の乾燥が不十分となり、透湿度が高すぎると偏光膜が使用環境で吸湿して、いずれの場合も偏光膜の耐久性が低下するため、透湿度が上記範囲にあると、積層体を偏光子保護膜として用いたときの信頼性が向上する。
なお、上記透明保護層(D)は、偏光子との接着性を向上させるために、アルカリによるケン化処理、プラズマ処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、高周波処理、及び電子線処理などを行っても構わない。
Examples of the material constituting the transparent protective layer (D) in the present invention include ethylene-vinyl alcohol copolymer and cellulose ester. Examples of the acetylated cellulose ester include diacetyl cellulose and triacetyl cellulose. Of these, triacetylcellulose (TAC) is most preferable from the viewpoints of transparency, mechanical strength, and the like. The thickness of the transparent protective layer (D) is preferably 30 to 150 μm, more preferably 40 to 100 μm. When the thickness of the transparent protective layer (D) is less than 20 μm, the mechanical strength of the laminate is lowered, and when it exceeds 200 μm, warpage or the like tends to occur when the laminate is placed in a high temperature and high humidity environment. The transmittance is also reduced. Therefore, when the thickness of the transparent protective layer (D) is in the above range, a laminate excellent in durability, mechanical strength and optical performance can be obtained. The moisture permeability of the further the transparent protective layer (D) is preferably 100~1,000g / m 2 · 24h, more preferably 150~800g / m 2 · 24h. If the moisture permeability is too low, drying of the adhesive for bonding the transparent protective layer (D) to the polarizer becomes insufficient, and if the moisture permeability is too high, the polarizing film absorbs moisture in the usage environment. Therefore, when the moisture permeability is in the above range, the reliability when the laminate is used as a polarizer protective film is improved.
The transparent protective layer (D) is subjected to alkali saponification treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, high frequency treatment, electron beam treatment, etc. in order to improve the adhesion to the polarizer. It doesn't matter.
複屈折性を有する層としては、複屈折による位相差を示す適宜なものを用いることができる。例えば、透明樹脂層を延伸処理等により複屈折性を付与したものや、液晶ポリマーの配向膜、あるいは透明樹脂層の配向膜上等に液晶ポリマー等の異方性材料を配向させたものが挙げられる。特に、透明樹脂層を延伸処理等により複屈折性を付与したものが好ましい。 As the layer having birefringence, an appropriate layer showing a phase difference due to birefringence can be used. For example, those obtained by imparting birefringence to a transparent resin layer by stretching treatment, or those obtained by orienting an anisotropic material such as a liquid crystal polymer on an alignment film of a liquid crystal polymer or an alignment film of a transparent resin layer It is done. In particular, the transparent resin layer is preferably provided with birefringence by stretching treatment or the like.
透明樹脂層に複屈折性を付与する配向処理は、例えば、自由端又は固定端による一軸延伸処理や二軸延伸処理などの適宜な方式で行うことができる。本発明においては、厚さ方向に配向したフィルムや、その厚さ方向の主屈折率の方向がフィルムの法線方向に対して傾斜したものなども複屈折性を示す層として用いることができる。 The alignment treatment for imparting birefringence to the transparent resin layer can be performed by an appropriate method such as a uniaxial stretching treatment or a biaxial stretching treatment using a free end or a fixed end. In the present invention, a film oriented in the thickness direction, or a film in which the direction of the main refractive index in the thickness direction is inclined with respect to the normal direction of the film can also be used as the birefringent layer.
本発明の偏光板は液晶表示装置の視認側に配置してなるものである。液晶表示装置としては、偏光板を液晶セルの片側又は両側に配置してなる透過型や反射型、あるいは透過・反射両用型等の従来に準じた適宜な構造を有するものとして形成することができる。本発明の置いては、透明樹脂フィルムに複屈折性を付与する配向処理したものを、液晶セルに使用する液晶モードに合わせ随時選択し、形成することが必要である。
液晶セルに使用する液晶モードとしては、インプレーンスイッチング(IPS)モード、バーチカルアラインメント(VA)モード、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)モード、ツイステッドネマチック(TN)モード、スーパーツイステッドネマチック(STN)モード、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)モードなどを挙げることができる。
The polarizing plate of this invention is arrange | positioned at the visual recognition side of a liquid crystal display device. The liquid crystal display device can be formed as a liquid crystal display device having an appropriate structure according to the prior art, such as a transmission type or a reflection type in which a polarizing plate is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell, or a transmission / reflection type. . In the present invention, it is necessary to select and form a transparent resin film that has been subjected to an orientation treatment for imparting birefringence according to the liquid crystal mode used in the liquid crystal cell.
Liquid crystal modes used in the liquid crystal cell include in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, multi-domain vertical alignment (MVA) mode, continuous spin wheel alignment (CPA) mode, and twisted nematic (TN) mode. , Super twisted nematic (STN) mode, hybrid alignment nematic (HAN) mode, and optically compensated bend (OCB) mode.
透明保護層(D)として複屈折性を示す層を有する板を用いることができる。広帯域1/4波長板、一軸性を有する位相差板、二軸性を有する位相差板の機能を持っている。
広帯域1/4位相差板とは、波長410〜660nmを含む可視光全域で位相差がほぼ1/4波長になる1/4波長板のことをいう。この広帯域1/4波長板の具体例としては、1/2波長板と1/4波長板とを積層したものやポリスチレン樹脂などの固有複屈折値が負である材料からなる層の両面にノルボルネン系樹脂などの固有複屈折性が正である材料からなる層が積層されている積層体を延伸したものなどが挙げられる。
A plate having a layer exhibiting birefringence can be used as the transparent protective layer (D). It functions as a broadband quarter-wave plate, a uniaxial retardation plate, and a biaxial retardation plate.
The
固有複屈折値が負である樹脂としては、ビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体、ポリメチルメタクリレート系重合体、セルロースエステル系重合体、これらの多元共重合体などを挙げることができる。これらの固有複屈折値が負である樹脂は、後に述べる液晶のモードに合わせ逐次選択することができ、1種を単独で用いることが好ましい場合もあり、あるいは、2種以上を組み合わせて用いることが好ましい場合もある。
これらの中で、固有複屈折値が負である樹脂はビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体及びポリメチルメタクリレート系重合体を適に用いることができ、ビニル芳香族系重合体は、複屈折発現性が高いので特に好適に用いることができる。
Examples of the resin having a negative intrinsic birefringence value include vinyl aromatic polymers, polyacrylonitrile polymers, polymethyl methacrylate polymers, cellulose ester polymers, and multicomponent copolymers thereof. . These resins having a negative intrinsic birefringence value can be sequentially selected according to the liquid crystal mode described later, and it may be preferable to use one kind alone, or two or more kinds may be used in combination. May be preferred.
Among these, as the resin having a negative intrinsic birefringence value, a vinyl aromatic polymer, a polyacrylonitrile polymer, and a polymethyl methacrylate polymer can be suitably used, and the vinyl aromatic polymer is Since it exhibits high birefringence, it can be used particularly suitably.
ビニル芳香族系重合体としては、例えば、ポリスチレン;スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-クロロスチレン、p-ニトロスチレン、p-アミノスチレン、p-カルボキシスチレン、p-フェニルスチレン、p-メトキシスチレン、p-t-ブトキシスチレンなどと、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン、(メタ)アクリロニトリル、α-クロロアクリロニトリル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどとの共重合体などを挙げることができる。これらの中で、ポリスチレン及びスチレンと無水マレイン酸との共重合体を好適に用いることができる。 Examples of the vinyl aromatic polymer include polystyrene; styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, p-nitrostyrene, p-aminostyrene, p-carboxystyrene, p-phenylstyrene, p-methoxystyrene, pt-butoxystyrene, etc., ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene, (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, methyl (meth) acrylate And a copolymer with ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, maleic anhydride, maleimide, vinyl acetate, vinyl chloride, and the like. Among these, polystyrene and a copolymer of styrene and maleic anhydride can be suitably used.
一軸性を有する位相差板としては、CプレートやAプレートが挙げられる。
Cプレートは、面内の位相差がないかまたは極めて小さく、厚さ方向にのみ位相差を有する位相差層のことをいい、光軸がその面内方向の垂直な厚さ方向に存在する。前記Cプレートは、その光学特性条件が、下記式(1)を満たす場合はポジティブCプレート、下記式(2)を満たす場合はネガティブCプレートと呼ばれる。
下記nx、ny及びnzは、前記位相差板等におけるX軸、Y軸、及びZ軸方向の屈折率を表し、前記X軸方向とは、前記層の面内での屈折率が最大となる方向(面内遅相軸方向)であり、前記Y軸方向とは、前記層の面内で前記X軸方向に垂直な方向(面内進相軸方向)であり、前記Z軸方向とは、前記X軸方向及び前記Y軸方向に垂直な層の厚さ方向である。
nx≒ny<nz (■)
nx≒ny>nz (■■)
Aプレートは、厚さ方向の位相差がないかまたは極めて小さく、面内のみ位相差を有する位相差層のことをいい、光軸が面内方向に存在する。前記Aプレートは、その光学特性が、下記式(3)を満たす場合はポジティブAプレート、下記式(4)を満たす場合はネガティブAプレートと呼ばれる。
nx>ny≒nz (■■■)
nx≒nz>ny (■V)
二軸性を有する位相差板としては、ポジティブ二軸位相差板(nz>nx>ny)、ネガティブ二軸位相差板(nx>ny>nz)が挙げられる。
一軸性を有する位相差板や二軸性を有する位相差板としては、固有複屈折値が正である材料からなるフィルムを延伸したフィルム、ポリスチレン樹脂などの固有複屈折値が負である材料からなる層の両面にノルボルネン系樹脂などの固有複屈折性が正である材料からなる層が積層されている積層体を延伸したもの、ディスコティック液晶を面に平行配向又は垂直配向させたものなどが挙げられる。
複屈折性を示す層の面内のレターデーションReや面と垂直方向のレターデーションであるRthは、使用する液晶モードに応じて適宜調整すればよい。
Examples of the uniaxial retardation plate include a C plate and an A plate.
The C plate is a retardation layer having no or very small retardation in the plane and having a retardation only in the thickness direction, and the optical axis exists in the thickness direction perpendicular to the in-plane direction. The C plate is referred to as a positive C plate when its optical characteristic condition satisfies the following formula (1), and is referred to as a negative C plate when the following formula (2) is satisfied.
The following nx, ny, and nz represent the refractive indexes in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions in the retardation plate or the like, and the X-axis direction has the maximum refractive index in the plane of the layer. Direction (in-plane slow axis direction), and the Y-axis direction is a direction (in-plane fast axis direction) perpendicular to the X-axis direction in the plane of the layer, and the Z-axis direction is , The thickness direction of the layer perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.
nx≈ny <nz (■)
nx≈ny> nz (■■)
The A plate is a retardation layer having no or very small retardation in the thickness direction and having a retardation only in the plane, and the optical axis exists in the in-plane direction. The A plate is called a positive A plate when its optical characteristics satisfy the following formula (3), and is called a negative A plate when the following formula (4) is satisfied.
nx> ny≈nz (■■■)
nx≈nz> ny (■ V)
Examples of the biaxial retardation plate include a positive biaxial retardation plate (nz>nx> ny) and a negative biaxial retardation plate (nx>ny> nz).
As a retardation plate having uniaxiality or a retardation plate having biaxiality, a film obtained by stretching a film made of a material having a positive intrinsic birefringence value, a material having a negative intrinsic birefringence value such as a polystyrene resin, etc. A layered product in which layers made of a material having a positive intrinsic birefringence, such as norbornene-based resin, are stretched on both sides of the layer, or a discotic liquid crystal aligned in parallel or perpendicularly to the surface. Can be mentioned.
The in-plane retardation Re of the layer exhibiting birefringence and Rth which is the retardation perpendicular to the surface may be appropriately adjusted according to the liquid crystal mode to be used.
本発明の偏光板を得る方法は特に制限されないが、偏光子の片面に直接又は他の層を介して透明保護層(A)、ハードコート層(B)、低屈折率層(C)及び他の層を積層し、偏光子のもう一方の面に透明保護層(D)を積層することにより得られる。積層に際しては、上記ポライマー層を介して、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。
偏光子と透明保護層(D)とを積層する際に、透明保護層が複屈折性を示す層を有するときには、偏光子の透過軸と透明保護層(D)の遅相軸とが、平行又は直交するように積層することが好ましい。
The method for obtaining the polarizing plate of the present invention is not particularly limited, but the transparent protective layer (A), the hard coat layer (B), the low refractive index layer (C) and the like are directly on one side of the polarizer or through another layer. These layers are laminated, and a transparent protective layer (D) is laminated on the other surface of the polarizer. At the time of lamination, they can be bonded using an appropriate adhesive means such as an adhesive or a pressure-sensitive adhesive through the polymer layer. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, an acrylic type is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency.
When laminating the polarizer and the transparent protective layer (D), when the transparent protective layer has a birefringent layer, the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the transparent protective layer (D) are parallel. Or it is preferable to laminate | stack so that it may orthogonally cross.
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び%は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
(1)鉛筆硬度
JIS−K5400に従い、500g荷重で測定した。
(2)面内レターデーションRe
自動複屈折計[王子計測機器(株)、KOBRA-21ADH]を用いて測定する。
(3)屈折率
高速分光エリプソメトリ(J.A.Woollam社製、M−2000U)を用い、測定波長400〜1000nm、入射角度をそれぞれ55、65、75度で測定し、これらの測定値から算出した
(4)引張強度
JIS K7127に準拠して、東洋ボールドウィーン社製、「テンシロン UTM-10T-PL」を用いて、試験片の形状はW=10mm、L=40mmとし、引張速度を500mm/分、荷重はロードセル50kgfで測定を行う。なお、同様の測定を5回行い、その算術平均値を引張強度の代表値とする。
(5)ヘイズ
ASTM D1003に準拠して、日本電色工業社製、「濁度計NDH-300A」を用いて測定する。なお、同様の測定を5回行い、その算術平均値を全光線透過率及びヘイズの代表値とする。厚さが約300μmまでは、膜厚とヘイズ値は比例関係にある。
(6)反射率(%)
分光光度計(日本分光製、紫外可視近赤外分光光度計V-570を用い、入射角5度にて反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率を求めた。
(7)機械的強度
300mm四方の偏光板を、対角線に沿って両側に折り曲げる操作を交互にそれぞれ500回繰り返し、光学顕微鏡によりフィルムにマイクロクラックがないかを確認して以下のように評価した。
○:変化なし
△:フィルム端部に僅かにマイクロクラックが発生しているが実用上問題なし。
×:折り曲げ部に沿ってマイクロクラックが発生
(8)
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、前記支持体上に形成された高屈折率層または低屈折率層の表面を10回擦り、その後に顕微鏡観察を行った際に、前記表面に傷が認められないこと。
○:傷なし
△:少し傷
×:目立った傷多数
(9)表示性能の評価
市販の液晶テレビ(シャープ社製、LC-13C5-S)、(日立製作所社製 TX80D12VC0CAB)の液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし、そのかわりに光学積層体を液晶セルに貼り合せて評価用モニターとする。そして、背景を黒表示、正面方向及び上下左右45度からの色ムラと輝度ムラを目視により確認する。加えて、背景を黒表示にして白色文字を表示させて、正面から視線を上下左右へ移動させた際に文字に変化のない角度を測定する。
The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified.
Evaluation in this example is performed by the following method.
(1) Pencil hardness Measured according to JIS-K5400 with a load of 500 g.
(2) In-plane retardation Re
Measurement is performed using an automatic birefringence meter [Oji Scientific Instruments, KOBRA-21ADH].
(3) Refractive index high-speed spectroscopic ellipsometry (manufactured by JAWoollam, M-2000U) was used to measure the measurement wavelength from 400 to 1000 nm and the incident angles at 55, 65, and 75 degrees, respectively, and calculated from these measured values (4 ) Tensile strength In accordance with JIS K7127, “Tensilon UTM-10T-PL” manufactured by Toyo Bald Wien Co., Ltd., the shape of the test piece is W = 10 mm, L = 40 mm, the tensile speed is 500 mm / min, load Measures with a load cell of 50 kgf. In addition, the same measurement is performed 5 times and the arithmetic average value is set as the representative value of the tensile strength.
(5) Based on haze ASTM D1003, it is measured using “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. In addition, the same measurement is performed 5 times and the arithmetic average value is used as the representative value of the total light transmittance and haze. Until the thickness is about 300 μm, the film thickness and the haze value are in a proportional relationship.
(6) Reflectance (%)
Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO, UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570, the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 degrees, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was determined.
(7) The operation of bending a polarizing plate having a mechanical strength of 300 mm square on both sides along a diagonal line was repeated 500 times alternately, and the film was checked for microcracks with an optical microscope and evaluated as follows.
○: No change Δ: Slight microcracks are generated at the film edge, but there is no practical problem.
×: Microcracks are generated along the bent part (8)
In a state where a load of 0.025 MPa was applied to steel wool # 0000, the surface of the high refractive index layer or the low refractive index layer formed on the support was rubbed 10 times, and then the microscope observation was performed. There should be no scratches on the surface.
○: No scratches Δ: Slight scratches ×: Many conspicuous scratches (9) Evaluation of display performance A liquid crystal cell of a commercially available liquid crystal television (Sharp Corporation, LC-13C5-S) (Hitachi, Ltd., TX80D12VC0CAB) is sandwiched The polarizing plate and the viewing angle compensation film are peeled off, and instead, the optical laminate is bonded to the liquid crystal cell to obtain a monitor for evaluation. Then, a black background is displayed, and color unevenness and luminance unevenness from 45 degrees from the front direction and from the top, bottom, left, and right are visually confirmed. In addition, white characters are displayed with a black background, and the angle at which the characters do not change is measured when the line of sight is moved up, down, left, and right from the front.
(製造例1)透明保護層Dの作製
ノルボルネン系重合体(製品名「ZEONOR 1420R」、日本ゼオン社製;ガラス転移温度136℃、飽和吸水率0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて110℃で4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター(濾過精度30μm)を設置したダイリップの先端部にクロムめっきを施した平均表面高さRa=0.05μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、260℃で溶融押出しして600mm幅の長尺透明保護層Dを得た。
得られた長尺透明保護層Dの揮発成分の含有量は0.012重量%、飽和吸水量は0.015重量%であった。また、この透明保護層Dの膜厚は40μmであった。また、面内のレターデーションRe値は、3nmであった。
(Production Example 1) Production of transparent protective layer D Pellets of norbornene polymer (product name “ZEONOR 1420R”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 136 ° C., saturated water absorption of less than 0.01% by weight) It dried for 4 hours at 110 degreeC using the distribute | circulated hot air dryer. And this pellet was coated with a coat hanger type T-die with a lip width of 650 mm with an average surface height Ra = 0.05 μm and a chrome-plated tip of the die lip provided with a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy 30 μm). A long transparent protective layer D having a width of 600 mm was obtained by melt extrusion at 260 ° C. using a short-shaft extruder.
The obtained long transparent protective layer D had a volatile component content of 0.012% by weight and a saturated water absorption of 0.015% by weight. Moreover, the film thickness of this transparent protective layer D was 40 micrometers. The in-plane retardation Re value was 3 nm.
(製造例2)ハードコート層用塗布液の調製
5酸化アンチモン微粒子の40%メチルイソブチルケトン(「MIBK」と記す)溶液(平均粒子径20nm:水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に1つの割合で結合している)を100部に、UV硬化型ウレタンアクリレート紫光UV7000B(日本合成化学■製)10部、光開始剤イルガキュア-184(チバガイギー社製)0.4部を混合し、UV硬化型のハードコート層用塗布液を調整した。
(Production Example 2) Preparation of coating solution for hard coat layer Antimony pentoxide fine particle 40% methyl isobutyl ketone (referred to as “MIBK”) solution (average particle size 20 nm: on the antimony atoms where hydroxyl groups appear on the surface of the pyrochlore structure) 100 parts of UV curable urethane acrylate purple light UV7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), 10 parts of photoinitiator Irgacure-184 (manufactured by Ciba Geigy), A UV curable hard coat layer coating solution was prepared.
(製造例3)接着剤溶液の調製
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物(旭化成社製、タフテックM1913)2部を、キシレン8部とメチルイソブチルケトン40部の混合溶媒に溶解し、孔径1μmのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターを濾過して、接着剤溶液とした。
(製造例4)低屈折率層(C)用塗布液の調製
テトラメトキシシランのオリゴマ−(コルコート社製「メチルシリケート51」)と,メタノール,水,0.01Nの塩酸水溶液を質量比21:36:2:2で混合し,これを25℃の高温槽中で2時間撹拌して、オリゴマーを縮合重合させ、重量平均分子量を850に調製し、シリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ微粒子としてエアロゲル法で作製した中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、その後,全固形分が1%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率用塗布液を調製した。
(Production Example 3) Preparation of
(Production Example 4) Preparation of coating solution for low refractive index layer (C) Tetramethoxysilane oligomer ("Methyl silicate 51" manufactured by Colcoat Co.), methanol, water, and hydrochloric acid aqueous solution of 0.01N in a mass ratio of 21: The mixture was mixed at 36: 2: 2 and stirred in a high-temperature bath at 25 ° C. for 2 hours to cause the oligomer to undergo condensation polymerization to adjust the weight average molecular weight to 850, thereby obtaining a silicone resin.
Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., solid content 20% by weight, average primary particle diameter of about 35 nm, outer shell thickness of about 8 nm) prepared as an airgel method as hollow silica fine particles is added to the silicone resin, A fine refractive index / silicone resin (condensed compound equivalent) is blended so that the weight ratio is 8: 2 based on the solid content, and then diluted with methanol so that the total solid content becomes 1%. Was prepared.
[実施例1]
透明保護層としてポリエステルフィルム を用い(コスモシャイン:東洋紡製 A4100厚み50μm) ヘイズ0.5、鉛筆硬度H、強度16MPaのフィルムの両面に、高周波発信機(コロナジェネレータHV05−2、Tamtec社製)を用いて,出力電圧100%,出力250Wで,直径1.2mmのワイヤー電極で,電極長240mm,ワーク電極間1.5mmの条件で3秒間コロナ放電処理を行い,表面張力が0.072N/mになるように表面改質して透明保護層A1を得た。
製造例3で得られた接着剤溶液を、表面改質した透明樹脂層A1の片面に、ダイコーターを用いて塗布し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させた。乾燥後の接着剤層の膜厚は0.5μmであった。結果、接着剤層を有する透明樹脂層A1を得た。
接着剤層を有する透明樹脂層A1の接着剤層を有する方の面に、製造例2で得たハードコート層塗布液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで80℃で5分間乾燥させた後、紫外線照射(積算光量300mJ/c■)を行い、塗布液を硬化させ、ハードコート層B1を積層させた。硬化後のハードコート層(B)の膜厚は5μmであった。また、このハードコート層上の表面抵抗値は1X109Ω/cmであった。
[Example 1]
A polyester film is used as a transparent protective layer (Cosmo Shine: A4100 thickness 50 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) A high-frequency transmitter (Corona Generator HV05-2, manufactured by Tamtec) is used on both sides of a film having a haze of 0.5, a pencil hardness of H, and a strength of 16 MPa. Using a wire electrode with a diameter of 1.2 mm, an output voltage of 100%, an output of 250 W, an electrode length of 240 mm, and a workpiece electrode of 1.5 mm, a corona discharge treatment was performed for 3 seconds, and the surface tension was 0.072 N / m. The surface was modified so that a transparent protective layer A1 was obtained.
The adhesive solution obtained in Production Example 3 was applied to one surface of the surface-modified transparent resin layer A1 using a die coater and dried in a drying furnace at 80 ° C. for 5 minutes. The film thickness of the adhesive layer after drying was 0.5 μm. As a result, a transparent resin layer A1 having an adhesive layer was obtained.
The hard coat layer coating liquid obtained in Production Example 2 was continuously applied to the surface having the adhesive layer of the transparent resin layer A1 having the adhesive layer using a die coater. Next, after drying at 80 ° C. for 5 minutes, ultraviolet irradiation (integrated light amount 300 mJ / c ■) was performed to cure the coating solution, and a hard coat layer B1 was laminated. The film thickness of the hard coat layer (B) after curing was 5 μm. Further, the surface resistance value on this hard coat layer was 1 × 10 9 Ω / cm.
低屈折率層用塗布液を調合後1時間放置した調合液を、ハードコート層の上にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約100nmの塗膜を形成させ、さらに1時間放置して乾燥した後に,被膜を120℃、10分間酸素雰囲気下で熱処理し、厚さ7μmの低屈折層が形成された積層フィルムC1を得た。
厚さ75μのPVAフィルム(クラレビニロン#7500)をチャックに装着しヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリウム60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリウム30g/lの組成の水溶液に浸漬すると共に、同時に6.0倍に一軸延伸しつつ5分間に亘ってホウ酸処理を行った。最後に室温で24時間乾燥し偏光子を作製した。偏光度は、99.995%であった。
積層フィルムC1にアクリル系接着剤(住友スリーエム製、「DP−8005クリア」)を介して、偏光子を貼り合わせ、また偏光子のもう一方の面にアクリル系接着剤(住友スリーエム製、「DP−8005クリア」)を介して、表面改質処理を行った透明保護層D1と貼り合わせて偏光板を得た。光学特性の評価結果を表1に示す。
The preparation liquid that was allowed to stand for 1 hour after the preparation of the coating liquid for the low refractive index layer was applied on the hard coat layer with a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 100 nm, and was further left for 1 hour to dry. Later, the film was heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a laminated film C1 on which a low refractive layer having a thickness of 7 μm was formed.
A 75 μm-thick PVA film (Kurarayvinilon # 7500) was attached to the chuck and immersed in an aqueous solution of 0.2 g / l iodine and 60 g / l potassium iodide at 30 ° C. for 240 seconds, and then boric acid 70 g / l. Then, it was immersed in an aqueous solution having a composition of 30 g / l of potassium iodide and simultaneously subjected to boric acid treatment for 5 minutes while being uniaxially stretched 6.0 times. Finally, it was dried at room temperature for 24 hours to produce a polarizer. The degree of polarization was 99.995%.
A laminated film C1 is bonded to a polarizer via an acrylic adhesive (manufactured by Sumitomo 3M, “DP-8005 clear”), and an acrylic adhesive (manufactured by Sumitomo 3M, “DP” is attached to the other surface of the polarizer. -8005 clear ") to obtain a polarizing plate by bonding to the transparent protective layer D1 subjected to the surface modification treatment. Table 1 shows the evaluation results of the optical characteristics.
[実施例2]
透明保護層(D)として厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ■製、KC 4UX2M)ヘイズ0.5、鉛筆硬度HB、強度16MPaのフィルムを用いた他は実施例1と同様にして反射防止層が形成された偏光板を得た。光学特性の評価結果を表1に示す。
[Example 2]
As in Example 1, except that a 40 μm thick triacetylcellulose (TAC) film (manufactured by Konica Minolta, KC 4UX2M) having a haze of 0.5, a pencil hardness of HB, and a strength of 16 MPa was used as the transparent protective layer (D). Thus, a polarizing plate on which an antireflection layer was formed was obtained. Table 1 shows the evaluation results of the optical characteristics.
[実施例3]
透明保護層(A)として厚さ40μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡エステルフィルム コスモシャインA4300厚み50μm)ヘイズ0.6、鉛筆硬度H、強度18MPaのフィルムを用いた他は実施例1と同様にして反射防止層が形成された偏光板を得た。光学特性の評価結果を表1に示す。
[Example 3]
As the transparent protective layer (A), a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 40 μm (Toyobo Ester Film Cosmo Shine A4300 thickness 50 μm) was used in the same manner as in Example 1 except that a film having a haze of 0.6, a pencil hardness of H, and a strength of 18 MPa was used. Thus, a polarizing plate on which an antireflection layer was formed was obtained. Table 1 shows the evaluation results of the optical characteristics.
[比較例1]
厚さ40μm透明保護層(A)として厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ■製、KC 4UX2M)ヘイズ0.5、鉛筆硬度HB、強度16MPaのフィルムを用いた他は実施例1と同様にして反射防止層が形成された偏光板を得たが反射防止層を積層しなかった。光学特性の評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Example except that a 40 μm thick triacetylcellulose (TAC) film (manufactured by Konica Minolta ■, KC 4UX2M) having a haze of 0.5, a pencil hardness of HB and a strength of 16 MPa is used as the transparent protective layer (A) of 40 μm in thickness A polarizing plate on which an antireflection layer was formed was obtained in the same manner as in Example 1, but the antireflection layer was not laminated. Table 1 shows the evaluation results of the optical characteristics.
[比較例2]
透明保護層(A)としてポリエステル系フィルム(東洋紡エステルフィルム E5001厚み50μm)ヘイズ2.2、鉛筆硬度H、強度18MPaのフィルムを用いた他は実施例1と同様にして偏光板を得た。光学特性の評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that a polyester film (Toyobo Ester Film E5001 thickness 50 μm) having a haze of 2.2, a pencil hardness of H, and a strength of 18 MPa was used as the transparent protective layer (A). Table 1 shows the evaluation results of the optical characteristics.
(製造例5)MVA位相差板の作製
本発明に用いた位相差フィルムは、ノルボルネン系重合体(製品名「ZEONOR 1420R」、日本ゼオン社製;ガラス転移温度136℃、飽和吸水率0.01重量%未満)の厚さ100μmの原反フィルムを用いて実施した。
そこで、上述した、液晶モードにあわせ逐次調節した。 二軸延伸する方法としては、縦方向と横方向に逐次二軸延伸する方法、縦方向と横方向に同時に二軸延伸する方法が挙げられる。中でも、工程を簡略化できること、延伸フィルムが割れにくい、本発明の実施の形態として、厚み方向のレターデーション値Rthを大きくできるなどの点で、同時に二軸延伸する方法で実施した。本発明においては、原反フィルムを縦方向及び横方向共に延伸倍率、1.3倍で二軸延伸して成形した。
原反フィルム1を同軸二軸延伸機を使用して、オーブン温度(予熱温度、延伸温度、熱固定温度)136℃、フィルム繰り出し速度1m/分、チャックの移動精度±1%以内、縦延伸倍率1.41倍、横延伸倍率1.41倍で同時二軸延伸を行い、両端部分60mmを切り取って、厚さ89μm、幅350mmの延伸フィルム1(以下、「光学補償フィルム1」と記す。)を得た。 光学補償フィルム1のReは20nm、Rthは300nmであった。
(Production Example 5) Production of MVA retardation plate The retardation film used in the present invention is a norbornene polymer (product name “ZEONOR 1420R”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 136 ° C., saturated water absorption 0.01). This was carried out using an original film having a thickness of less than 100% by weight.
Therefore, the above-described liquid crystal mode was sequentially adjusted. Examples of the biaxial stretching method include a method of sequentially biaxial stretching in the vertical direction and the horizontal direction, and a method of biaxial stretching in the vertical direction and the horizontal direction at the same time. In particular, the method was simultaneously biaxially stretched in that the process can be simplified, the stretched film is difficult to break, and the retardation value Rth in the thickness direction can be increased as an embodiment of the present invention. In the present invention, the raw film was formed by biaxial stretching at a stretching ratio of 1.3 in both the longitudinal direction and the transverse direction.
Using a coaxial biaxial stretching machine, the
(製造例6)IPS位相差板の作製
固有複屈折値が負である樹脂として、ポリスチレンを用い位相差板を作成した。また、ポリスチレンは、フィルム強度が弱く、本発明において、実質的に無配向の層を形成する透明な樹脂として、脂環式構造体含有樹脂(日本ゼオン(株)、ZEONOR1020、ガラス転移温度105℃)からなるb層、スチレン-無水マレイン酸共重合体[ノヴァケミカルジャパン(株)、ダイラークD332、ガラス転移温度130℃、オリゴマー成分含有量3重量%]からなるa層及びマレイン酸変性オレフィン系重合体[三菱化学社(株)、モディックAP F534A、ビカット軟化点55℃]からなるd層を有し、b層(20μm)-d層(5μm)-a層(60μm)-d層(5μm)-b層(20μm)の未延伸積層体を共押出成形により得た。
この未延伸積層体を、延伸温度136℃、延伸速度120%/分、延伸倍率1.2倍でニップロールにより縦一軸延伸して、固有複屈折値が負のスチレン-無水マレイン酸共重合体からなる層の両面に、変性エチレン-酢酸ビニル共重合体からなる層を介して、透明なノルボルネン系重合体からなる実質的に無配向の層が積層された厚さ100μmの光学補償フィルム積層体を得た。
得られた光学積層体のA層の波長550nmの光線で測定した面内レターデーションは120nmであり、2つのB層の波長550nmの光線で測定した面内レターデーションの合計は0nmであった。波長450nm、550nm及び650nmにおける面内レターデーションは、それぞれ148nm、120nm、110nmであった。光学積層体の波長550nmの光線で測定した厚さ方向の屈折率Σnz=1.5800、厚さ方向に垂直な互いに直交する2方向の波長550nmの光線で測定した屈折率は、Σnx=1.5788、Σny=1.5800であった。A層の厚さムラは、A層の平均厚さに対して1.0%であった。
(Production Example 6) Production of IPS retardation plate A retardation plate was produced using polystyrene as a resin having a negative intrinsic birefringence value. Polystyrene is weak in film strength. In the present invention, an alicyclic structure-containing resin (Nippon Zeon Co., Ltd., ZEONOR 1020, glass transition temperature 105 ° C.) is used as a transparent resin that forms a substantially non-oriented layer. A layer consisting of styrene-maleic anhydride copolymer [Nova Chemical Japan Co., Ltd., Dilark D332, glass transition temperature 130 ° C.,
This unstretched laminate was longitudinally uniaxially stretched by a nip roll at a stretching temperature of 136 ° C., a stretching speed of 120% / min, and a stretching ratio of 1.2 times. From the styrene-maleic anhydride copolymer having a negative intrinsic birefringence value, An optical compensation film laminate having a thickness of 100 μm in which a substantially non-oriented layer made of a transparent norbornene-based polymer is laminated on both sides of a layer made of a modified ethylene-vinyl acetate copolymer via a layer made of Obtained.
The in-plane retardation measured with a light beam having a wavelength of 550 nm of the layer A of the obtained optical laminate was 120 nm, and the total of the in-plane retardations measured with light beams having a wavelength of 550 nm of the two layer B was 0 nm. In-plane retardations at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm were 148 nm, 120 nm, and 110 nm, respectively. The refractive index Σnz = 1.5800 in the thickness direction measured with a light beam having a wavelength of 550 nm of the optical laminate, and the refractive index measured with a light beam with a wavelength of 550 nm in two directions perpendicular to the thickness direction is Σnx = 1. 5788 and Σny = 1.5800. The thickness unevenness of the A layer was 1.0% with respect to the average thickness of the A layer.
[実施例4](液晶表示装置の作製)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護層(D)の部分を製造例5で作成したMVA用位相差板に置き換え、市販の液晶テレビ(シャープ社製、LC-13C5-S)の液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし、そのかわりに光学積層体を液晶セルに、貼り合せて評価用モニターとする。そして、背景を黒表示させたときの、正面方向及び上下左右45度からの色ムラと輝度ムラを目視により確認する。加えて、背景を黒表示にして白色文字を表示させて、正面から視線を上下左右へ移動させた際に文字が見えなくなる角度を測定した。結果を表2に示す。
Example 4 (Production of liquid crystal display device)
The transparent protective layer (D) portion of the polarizing plate laminated in Example 1 was replaced with the MVA retardation plate prepared in Production Example 5, and the liquid crystal of a commercially available liquid crystal television (manufactured by Sharp Corporation, LC-13C5-S). The polarizing plate and the viewing angle compensation film sandwiching the cell are peeled off, and instead the optical laminate is bonded to the liquid crystal cell to obtain an evaluation monitor. Then, color unevenness and luminance unevenness from the front direction and 45 degrees from the top, bottom, left, and right when the background is displayed in black are visually confirmed. In addition, white characters were displayed with a black background, and the angle at which the characters could not be seen when the line of sight was moved up and down and left and right from the front was measured. The results are shown in Table 2.
[実施例5](液晶表示装置の作製)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護膜(D)の部分を製造例1で作成した 透明保護層1A(実質的に無配向でReの値が3nm)に置き換えた他は、実施例4と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
[Example 5] (Production of liquid crystal display device)
Except that the part of the transparent protective film (D) of the polarizing plate laminated in Example 1 was replaced with the transparent protective layer 1A (substantially non-oriented and the Re value was 3 nm) prepared in Production Example 1. Measurement was performed in the same manner as in No. 4. The results are shown in Table 2.
[比較例3](液晶表示装置の作製)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護膜(D)の部分を製造例1で作成した透明保護層Aとしてポリエステル系フィルム(東洋紡エステルフィルム E5001厚み50μm)ヘイズ2.2、鉛筆硬度H、強度18MPaのフィルムを用いた他は、実施例4と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 3] (Production of liquid crystal display device)
The transparent protective layer (D) of the polarizing plate laminated in Example 1 was used as the transparent protective layer A prepared in Production Example 1 as a polyester film (Toyobo Ester Film E5001 thickness 50 μm) haze 2.2, pencil hardness H, The measurement was performed in the same manner as in Example 4 except that a film having a strength of 18 MPa was used. The results are shown in Table 2.
[実施例6](液晶表示装置の作製)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護膜(D)の部分を製造例6で作成したIPS用位相差板に置き換え、測定した。結果を表2に示す。
[Example 6] (Production of liquid crystal display device)
The part of the transparent protective film (D) of the polarizing plate laminated in Example 1 was replaced with the retardation plate for IPS prepared in Production Example 6 and measured. The results are shown in Table 2.
[実施例7](液晶表示装置の作成)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護膜(D)の部分を製造例1で作成した透明保護層1A(実質的に無配向でReの値が3nm)に置き換えた他は、実施例4と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
[Example 7] (Production of liquid crystal display device)
Except that the part of the transparent protective film (D) of the polarizing plate laminated in Example 1 was replaced with the transparent protective layer 1A prepared in Production Example 1 (substantially non-oriented and the Re value was 3 nm). Measurement was performed in the same manner as in No. 4. The results are shown in Table 2.
[比較例4](液晶表示装置の作成)
実施例1で積層した偏光板の、透明保護膜(D)の部分を製造例1で作成した透明保護層Aとしてポリエステル系フィルム(東洋紡エステルフィルム コスモシャインE5001厚み50μm)ヘイズ2.2、鉛筆硬度H、強度18MPaのフィルムを用いた他は、実施例4と同様の方法で測定した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 4] (Creation of liquid crystal display device)
The transparent protective layer (D) of the polarizing plate laminated in Example 1 was used as the transparent protective layer A prepared in Production Example 1 as a polyester film (Toyobo Ester Film Cosmo Shine E5001 thickness 50 μm) haze 2.2, pencil hardness. The measurement was performed in the same manner as in Example 4 except that a film having H and a strength of 18 MPa was used. The results are shown in Table 2.
表1の結果から以下のことがわかる。
実施例に示すように、本発明の偏光板は、特定の性能を持つ、PETを用いることで、透明性、機械的強度、反射防止性能、耐擦傷性、密着性のすべてに優れる偏光板を形成できることがわかる。
一方、比較例に示すように、ヘイズが高いPETを透明保護膜として使う場合、鉛筆硬度はたかくなるものの、光線透過率、偏光板のヘイズの悪化したり、視認性の悪化、また、トリアセチルセルロース(TAC)を用いると耐擦傷性に問題が生じることが判る。
液晶表示装置を作製し、各種液晶のモードに合わせて、視野角を測定したところ、本発明の位相差板は、視野角特性が改善されていることが判る。また、比較例においては、視野角を測定したが、全体的に、視野角低下に加えて、輝度が低下していることも確認された。
From the results in Table 1, the following can be understood.
As shown in the examples, the polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having specific properties and excellent in all of transparency, mechanical strength, antireflection performance, scratch resistance, and adhesion by using PET. It can be seen that it can be formed.
On the other hand, as shown in the comparative example, when PET having a high haze is used as the transparent protective film, the pencil hardness is increased, but the light transmittance, the haze of the polarizing plate is deteriorated, the visibility is deteriorated, and triacetyl is used. It can be seen that there is a problem in scratch resistance when cellulose (TAC) is used.
When a liquid crystal display device was produced and the viewing angle was measured in accordance with various liquid crystal modes, it was found that the retardation plate of the present invention had improved viewing angle characteristics. Moreover, in the comparative example, the viewing angle was measured, but it was also confirmed that the brightness was lowered in addition to the viewing angle reduction as a whole.
1:低屈折率層とハードコート積層体である。2:偏光子である。3:位相差板である。4:液晶セルである。5:位相差板である。6:偏光板である。
7:透明保護層(D)である。8:偏光子である。9:ハードコート層である。10:低屈折率層である。
1: Low refractive index layer and hard coat laminate. 2: A polarizer. 3: A retardation plate. 4: A liquid crystal cell. 5: Retardation plate. 6: A polarizing plate.
7: Transparent protective layer (D). 8: A polarizer. 9: Hard coat layer. 10: Low refractive index layer.
Claims (6)
上記(A)側の表面硬度が鉛筆硬度でH以上であることを特徴とする偏光板。 At least a transparent protective layer (A), a hard coat layer (B), and a low refractive index layer (C) are laminated in this order on one surface of the polarizer, and a transparent protective layer (D ) Is laminated, the transparent protective layer (A) is a film containing a polyester resin having a haze value of 1.0 or less at a thickness of 50 μm,
A polarizing plate characterized in that the surface hardness on the (A) side is H or more in pencil hardness.
The liquid crystal display device formed by arrange | positioning the transparent protective layer (A) side of the polarizing plate in any one of Claims 1-6 in the visual recognition side.
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