JP2007041073A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
【課題】 反射防止性、耐擦傷性及び耐久性に優れ、視野角が広く、反射光に色味がつくことがなく、観察する角度の広い範囲で、均質な表示で高いコントラストが得られる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 一対の偏光子の間にi枚(iは、1以上の整数)の二軸性光学異方板及び液晶セルを有する、VAモードの液晶表示装置において、それぞれの二軸性光学異方板の3つの主屈折率が特定の関係を有する上に、全枚数の前記二軸性光学異方板と、前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)において、|R40−R0|≦35nmを満足し、且つ、前記出射側偏光子の観察側に反射防止板を備え、前記反射防止板が、特定成分(A)、(B)および(C)を含む組成物の硬化膜からなる低屈折率層を有するように構成する。
【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal that is excellent in antireflection, scratch resistance and durability, has a wide viewing angle, does not give color to reflected light, and provides high contrast with a uniform display in a wide range of observation angles. To provide a display device.
In a VA mode liquid crystal display device having i (i is an integer of 1 or more) biaxial optical anisotropic plates and liquid crystal cells between a pair of polarizers, each biaxial optical In the optical laminated plate (O) formed by laminating all the biaxial optical anisotropic plates and the liquid crystal cells in addition to the specific relationship between the three principal refractive indexes of the anisotropic plates, | R 40 −R 0 | ≦ 35 nm is satisfied, an antireflection plate is provided on the observation side of the output side polarizer, and the antireflection plate contains specific components (A), (B), and (C). And a low refractive index layer made of a cured film of the product.
[Selection figure] None
Description
本発明は、液晶表示装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、反射防止性、耐擦傷性及び耐久性に優れ、視野角が広く、反射光に色味がつくことがなく、観察する角度の広い範囲で、均質な表示で高いコントラストを有する液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device. More specifically, the present invention is excellent in antireflection, scratch resistance and durability, has a wide viewing angle, does not give color to reflected light, and is high in uniform display over a wide range of observation angles. The present invention relates to a liquid crystal display device having contrast.
従来、液晶表示装置(以下、LCDと略称することがある)としては、正の誘電率異方性を有する液晶を、二枚の基板間に水平配向した、いわゆるTNモードが主として使われている。しかし、このようなTNモードではその駆動特性上、黒表示をしようとしても基板近傍の液晶分子により複屈折が生じる結果、光漏れが生じ、完全な黒表示を行うことが困難であった。 Conventionally, a so-called TN mode in which liquid crystal having positive dielectric anisotropy is horizontally aligned between two substrates is mainly used as a liquid crystal display device (hereinafter sometimes abbreviated as LCD). . However, in such a TN mode, due to its driving characteristics, birefringence occurs due to liquid crystal molecules in the vicinity of the substrate even if black display is attempted. As a result, light leakage occurs and it is difficult to perform complete black display.
これに対し、垂直配向モード、いわゆるバーティカルアライメント(VA)モードは非駆動状態において液晶分子が基板面に対して略垂直な配向を有するため、光は液晶層を、その偏光面をほとんど変化させること無く通過し、その結果基板の上下に偏光板を配置することにより非駆動状態でほぼ完全な黒色表示が可能である。 On the other hand, in the vertical alignment mode, so-called vertical alignment (VA) mode, the liquid crystal molecules have a substantially vertical alignment with respect to the substrate surface in a non-driven state, so that light changes the polarization plane of the liquid crystal layer almost. As a result, almost complete black display is possible in a non-driven state by arranging polarizing plates above and below the substrate.
しかしながら、VAモードではパネル法線方向においてはほぼ完全な黒色表示ができるものの、法線方向からはずれた斜め方向からパネルを観察する場合、液晶の有する複屈折の影響を受け光漏れが発生する結果、視野角が狭くなるという問題があった。
このことからVAモードにおいても広い視野角を得るためにはTNモードと同様に一枚以上の位相差フィルムを使用する必要性があった。
例えば、(特許文献1)では、nx>ny>nzなる二軸性でかつ面内リタデーションが120nm以下である位相差板をもちいた例が開示されている。
また、(特許文献2)には、nx>ny>nzなる二軸性の位相差板を用い面内方向と膜厚方向のリタデーション比を2以上にすることによって視野角を改善する事に加え、視認側に防眩層・反射防止層を積層することによってコントラストを更に改善させる例が報告されている。この反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層を二層以上積層することによって所望の反射防止効果を得ている。ところが、この積層型反射防止層は反射防止効果の波長依存性が大きく、反射光に色見がつく、視野角依存性を持つ、などに加え、真空装置を用いての大面積の多層膜形成は生産性が悪く実用化に問題があった。
However, in the VA mode, almost complete black display is possible in the panel normal direction, but when the panel is observed from an oblique direction deviating from the normal direction, light leakage occurs due to the influence of the birefringence of the liquid crystal. There is a problem that the viewing angle becomes narrow.
Therefore, in order to obtain a wide viewing angle even in the VA mode, it is necessary to use one or more retardation films as in the TN mode.
For example, (Patent Document 1) discloses an example using a retardation plate that is biaxial in the form of n x > ny > nz and has an in-plane retardation of 120 nm or less.
Further, in (Patent Document 2), a viewing angle is improved by using a biaxial retardation plate satisfying nx > ny > nz, and setting the retardation ratio in the in-plane direction and the film thickness direction to 2 or more. In addition to this, an example in which the contrast is further improved by laminating an antiglare layer and an antireflection layer on the viewing side has been reported. This antireflection layer has a desired antireflection effect by laminating two or more high refractive index layers and low refractive index layers. However, this multi-layer antireflection layer has a large wavelength dependency of the antireflection effect, the reflected light is colored, and has a viewing angle dependency. In addition, a large-area multilayer film can be formed using a vacuum device. Has a problem in practical use due to poor productivity.
本発明は、反射防止性、耐擦傷性及び耐久性に優れ、視野角が広く、反射光に色味がつくことがなく、観察する角度の広い範囲で、均質な表示で高いコントラストが得られる液晶表示装置を提供することを目的としてなされたものである。 The present invention is excellent in antireflection, scratch resistance and durability, has a wide viewing angle, does not give color to reflected light, and provides a high contrast with a uniform display in a wide range of observation angles. The present invention has been made for the purpose of providing a liquid crystal display device.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、それぞれの吸収軸が互いに略垂直の位置関係にある出射側偏光子及び入射側偏光子から構成される一対の偏光子の間にi枚(iは、1以上の整数)の二軸性光学異方板及び液晶セルを有する、VAモードの液晶表示装置において、それぞれの二軸性光学異方板の3つの主屈折率が特定の関係を有する上に、全枚数の前記二軸性光学異方板と、前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)において、|R40−R0|≦35nmを満足し、且つ、前記出射側偏光子の観察側に反射防止板を備え、前記反射防止板が、粒径が5〜2000nmの中空粒子(A)と、分子中に特定の官能基を有するシロキサンオリゴマー(B)と、分子中に特定の官能基を有するアクリレート化合物(C)とを含む組成物の硬化膜からなる低屈折率層を有する表示装置は、どの方向から見ても黒表示品位が良好であり、均質で高いコントラストを有し、反射防止効果にも優れることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)それぞれの吸収軸が互いに略垂直の位置関係にある出射側偏光子及び入射側偏光子から構成される一対の偏光子の間に、i枚(iは、1以上の整数)の二軸性光学異方板及び液晶セルを有するVAモードの液晶表示装置であって、
前記二軸性光学異方板のそれぞれの面内の主屈折率をnx、ny(ただし、nx>nyである。)、厚さ方向の主屈折率をnzとしたとき、
nx>ny>nz
の関係を満たし、
全枚数の前記二軸性光学異方板と前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)において、電圧無印加時に波長550nmの光が法線方向から入射したときのレターデーションR0、波長550nmの光が極角40度の方向から入射したときのレターデーションR40を測定したときに、
|R40−R0|≦35nm
の関係を満たし、且つ、
前記出射側偏光子の観察側に反射防止板を備え、
この反射防止板が、
粒径が5〜2000nmの中空粒子(A)、
(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー(B)、及び、
(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物(C)
を含む組成物の硬化膜からなる低屈折率層を有する液晶表示装置、
(2)前記低屈折率層の屈折率が1.40以下であることを特徴とする(1)記載の液晶表示装置、
(3)電圧無印加状態において、前記出射側偏光子の吸収軸又は前記入射側偏光子の吸収軸と、前記光学積層板(O)の面内の遅相軸が略平行又は略垂直である(1)または(2)記載の液晶表示装置、
を提供するものである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors have made a pair of polarizers composed of an output-side polarizer and an incident-side polarizer whose absorption axes are substantially perpendicular to each other. In the VA mode liquid crystal display device having i pieces (i is an integer of 1 or more) of biaxial optical anisotropic plates and liquid crystal cells between the three main refractions of the respective biaxial optical anisotropic plates. In the optical laminate (O) formed by laminating all of the biaxial optical anisotropic plates and the liquid crystal cells, the ratio is in a specific relationship, and | R 40 −R 0 | ≦ 35 nm A siloxane which is satisfied and has an antireflection plate on the observation side of the output side polarizer, the antireflection plate having hollow particles (A) having a particle size of 5 to 2000 nm, and a specific functional group in the molecule Acrylation with oligomer (B) and specific functional group in the molecule A display device having a low refractive index layer composed of a cured film of a composition containing the compound (C) has good black display quality from any direction, has a uniform and high contrast, and has an antireflection effect. The present invention has been found to be excellent, and the present invention has been completed based on this finding.
That is, the present invention
(1) Between a pair of polarizers composed of an output-side polarizer and an incident-side polarizer whose respective absorption axes are substantially perpendicular to each other, i (i is an integer of 1 or more) two A VA mode liquid crystal display device having an axial optical anisotropic plate and a liquid crystal cell,
Wherein the principal refractive indices n x in each side of the biaxial optical anisotropic plate, n y (provided that n x> n y.), When the main refractive index in the thickness direction is n z,
n x> n y> n z
Satisfy the relationship
Retardation R 0 when light having a wavelength of 550 nm is incident from the normal direction when no voltage is applied in the optical laminated plate (O) formed by laminating all the biaxial optical anisotropic plates and the liquid crystal cell. When measuring the retardation R 40 when light having a wavelength of 550 nm is incident from a polar angle of 40 degrees,
| R 40 -R 0 | ≦ 35 nm
And satisfy the relationship
An antireflection plate is provided on the observation side of the output side polarizer,
This anti-reflection plate
Hollow particles (A) having a particle size of 5 to 2000 nm,
A siloxane oligomer (B) having a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group, and
Acrylate compound (C) having (meth) acryloyl group
A liquid crystal display device having a low refractive index layer comprising a cured film of a composition comprising
(2) The liquid crystal display device according to (1), wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.40 or less,
(3) When no voltage is applied, the absorption axis of the output-side polarizer or the absorption axis of the incident-side polarizer and the slow axis in the plane of the optical laminated plate (O) are substantially parallel or substantially perpendicular. (1) or the liquid crystal display device according to (2),
Is to provide.
本発明の液晶表示装置は、特定の屈折率を有する二軸性光学異方板と、i枚の二軸性光学異方板と液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)の法線方向レターデーションと極角40度のレターデーションとの差が小さく、出射側偏光子の観察側に低屈折率層を設けたことによって、視野角が広く、映りこみが無く、耐傷性に優れ、どの方向から見ても黒表示品位が良好であり、均質で高いコントラストを有する。更に、少なくとも1枚の二軸性光学異方板と液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)の遅相軸が偏光子の吸収軸と略平行又は略垂直の位置関係になるように配置することにより、液晶セル中の液晶により生ずる位相差の補償を行うことに加えて、偏光子の視野角補償も行うことができる。これにより、液晶セルを透過した光に生じた位相差を効果的に補償して光の洩れを防ぎ、全方位角において高いコントラストを得ることができる。本発明の液晶表示装置は、大画面のフラットパネルディスプレイなどとして、好適に用いることができる。 The liquid crystal display device of the present invention is a method of an optical laminate (O) comprising a biaxial optical anisotropic plate having a specific refractive index, i biaxial optical anisotropic plates and a liquid crystal cell laminated. The difference between the retardation in the linear direction and the retardation at a polar angle of 40 degrees is small, and by providing a low refractive index layer on the observation side of the output side polarizer, the viewing angle is wide, there is no reflection, and the scratch resistance is excellent. , Black display quality is good from any direction, and it has a uniform and high contrast. Further, the slow axis of the optical laminated plate (O) formed by laminating at least one biaxial optical anisotropic plate and a liquid crystal cell has a positional relationship that is substantially parallel or substantially perpendicular to the absorption axis of the polarizer. In addition to compensating for the phase difference caused by the liquid crystal in the liquid crystal cell, the viewing angle of the polarizer can be compensated. Accordingly, it is possible to effectively compensate for the phase difference generated in the light transmitted through the liquid crystal cell to prevent light leakage and to obtain high contrast in all azimuth angles. The liquid crystal display device of the present invention can be suitably used as a large screen flat panel display or the like.
本発明の液晶表示装置は、VAモードの液晶セルと、i枚の二軸性光学異方板と、低屈折率層を有する反射防止板を観察側に備える出射側偏光子と、入射側偏光子を少なくとも有するものである。 The liquid crystal display device of the present invention includes a VA mode liquid crystal cell, i biaxial optical anisotropic plates, an exit side polarizer provided with an antireflection plate having a low refractive index layer, and an incident side polarization. It has at least a child.
<液晶セル>
本発明に用いるVAモードの液晶セルは、電圧無印加状態において液晶分子が基板面に対して略垂直に配向し、電圧印加すると液晶分子が基板面に水平に配向するものである。具体的には、MVA(Multi−domain Vertical Alignment)方式、PVA(Patterned Vertical Alignment)方式などが知られている。
<Liquid crystal cell>
In the VA mode liquid crystal cell used in the present invention, liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicular to the substrate surface when no voltage is applied, and the liquid crystal molecules are aligned horizontally on the substrate surface when a voltage is applied. Specifically, a multi-domain vertical alignment (MVA) system, a patterned vertical alignment (PVA) system, and the like are known.
<光学異方板>
本発明に用いる二軸性光学異方板のそれぞれは、面内の屈折率をnx、nyとし、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、nx>ny>nzの関係を示す板状の物質であり、液晶表示装置の表示画面と同程度の広さを持つものである。なお、nxを示す方向を遅相軸(x)、nyを示す方向を進相軸(y)という。
nx>ny>nzの関係を満たすことによって、液晶表示装置の画面を斜め方向から見たときにも、光漏れが無く、高コントラストの画像を得ることができる。なお、ここでコントラスト(CR)とは、液晶表示装置の暗表示時の輝度をYOFF、明表示時の輝度をYONとしたとき、YON/YOFFで表される値であり、コントラストが大きいほど視認性が良好である。明表示とは、液晶表示装置の表示画面が最も明るい状態であり、暗表示とは、液晶表示装置の表示画面が最も暗い状態である。
<Optical anisotropic plate>
Each biaxial optical anisotropic plate used in the present invention, the in-plane refractive index n x, and n y, and the refractive index in the thickness direction is n z, relations of n x> n y> n z It is a plate-like substance that has the same size as the display screen of a liquid crystal display device. Incidentally, the slow axis (x) direction indicating the n x, the direction indicated n y the fast axis of (y).
By satisfying the relation of n x> n y> n z , even when viewed from an oblique direction the screen of the liquid crystal display device, there is no light leakage, it is possible to obtain an image of high contrast. Here, the contrast (CR), when the dark display when luminance Y OFF of the liquid crystal display device, the brightness of the bright display time and the Y ON, a value represented by Y ON / Y OFF, contrast The larger the value, the better the visibility. The bright display is the brightest state of the display screen of the liquid crystal display device, and the dark display is the darkest state of the display screen of the liquid crystal display device.
本発明に用いる二軸性光学異方板のそれぞれは、単層で、nx>ny>nz関係を満たすものであっても、nx>ny=nzの関係を有する光学異方板と、nx=ny>nzの関係を有する光学異方板とを積層することによってnx>ny>nzの関係を満たすようにしたものであってもよい。 Each biaxial optical anisotropic plate used in the present invention, a single layer, n x> n y> be those satisfying n z relationship, optically anisotropic having a relation of n x> n y = n z square and plate, may be such that to satisfy the relation of n x> n y> n z by laminating an optical anisotropic plate having a relationship of n x = n y> n z .
本発明に用いる二軸性光学異方板は、透明樹脂からなるフィルムを延伸することにより得られる。
透明樹脂は、1mm厚のフィルムにしたときの全光線透過率が80%以上の樹脂であれば特に制限なく使用することができる。
透明樹脂の具体例としては、脂環式構造を有する重合体、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリアリレート、ポリメタクリレート、トリアセチルセルロースなどの酢酸セルロース、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体などを挙げることができる。これらは2種を組み合わせてあるいは単独で使用できる。これらの中で、脂環式構造を有する重合体及び鎖状オレフィン重合体が好ましく、特に透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などに優れるので脂環式構造を有する重合体が好ましい。
The biaxial optical anisotropic plate used in the present invention is obtained by stretching a film made of a transparent resin.
The transparent resin can be used without any particular limitation as long as it is a resin having a total light transmittance of 80% or more when a 1 mm thick film is formed.
Specific examples of the transparent resin include polymers having an alicyclic structure, chain olefin polymers such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, polysulfone, polyethersulfone, polystyrene, polyvinyl alcohol, Examples thereof include cellulose acetates such as polyacrylonitrile, polyarylate, polymethacrylate, and triacetyl cellulose, and (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymers. These can be used alone or in combination. Among these, a polymer having an alicyclic structure and a chain olefin polymer are preferable, and a polymer having an alicyclic structure is particularly preferable because of excellent transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. .
前記透明樹脂からなるフィルムの製法は特に制限されず、例えば、溶液流延法や溶融押出法などの従来公知の方法で得られたフィルムが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、揮発性成分の含有量を少なくでき、100μm以上で、Rthの大きいフィルムが作製しやすい。また、製造コストの観点からも溶融押出法が好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。なお、Rthとは、本発明に用いる二軸性光学異方板の厚さ方向のレターデーションであり、
Rth=((nx+ny)/2−nz)×二軸性光学異方板の厚さ
で定義される値である。
The method for producing the film made of the transparent resin is not particularly limited, and examples thereof include films obtained by a conventionally known method such as a solution casting method or a melt extrusion method. Among them, the melt extrusion method without using a solvent can reduce the content of volatile components, and a film having a large Rth of 100 μm or more can be easily produced. Also, the melt extrusion method is preferable from the viewpoint of production cost. Examples of the melt extrusion method include a method using a die, an inflation method, and the like, but a method using a T die is preferable because it is excellent in productivity and thickness accuracy. Note that Rth is retardation in the thickness direction of the biaxial optical anisotropic plate used in the present invention,
Rth = ((n x + n y ) / 2−n z ) × a value defined by the thickness of the biaxial optical anisotropic plate.
Tダイを用いたフィルムの製造方法においては、透明樹脂をTダイを有する押出機に投入し、透明樹脂のガラス転移温度よりも通常80〜180℃高い温度に、好ましくはガラス転移温度よりも100〜150℃高い温度にして透明樹脂を溶融させ、該溶融樹脂をTダイから押し出し、冷却ロール等にて樹脂を冷やしフィルムに形成する。樹脂の溶融温度は、過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に過度に高いと透明樹脂が劣化する可能性がある。 In the method for producing a film using a T-die, the transparent resin is put into an extruder having a T-die, and the temperature is usually 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the transparent resin, preferably 100 higher than the glass transition temperature. The transparent resin is melted by raising the temperature to ˜150 ° C., the molten resin is extruded from a T die, and the resin is cooled with a cooling roll or the like to form a film. If the melting temperature of the resin is excessively low, the fluidity of the transparent resin may be insufficient, and conversely if excessively high, the transparent resin may deteriorate.
前記透明樹脂からなるフィルム(以下、原反フィルムということがある。)を延伸する方法やその条件は、nx>ny>nzなる関係になる方法及び条件のなかから適宜選択することができる。延伸の好ましい方法としては、テンター延伸機による、横一軸延伸法、二軸延伸法が挙げられる。 The made of a transparent resin film (hereinafter sometimes referred to as original film.) The method and the condition for stretching a may be appropriately selected from among n x> n y> n z becomes a relationship procedures and conditions it can. As a preferable stretching method, a lateral uniaxial stretching method and a biaxial stretching method using a tenter stretching machine can be mentioned.
二軸延伸する方法としては、縦方向と横方向に逐次二軸延伸する方法、縦方向と横方向に同時に二軸延伸する方法が挙げられる。中でも、工程を簡略化できること、延伸フィルムが割れにくく、前記Rthを大きくできるなどの点で、同時二軸延伸する方法が好ましい。 Examples of the biaxial stretching method include a method of sequentially biaxial stretching in the vertical direction and the horizontal direction, and a method of biaxial stretching in the vertical direction and the horizontal direction at the same time. Among these, the method of simultaneous biaxial stretching is preferable in that the process can be simplified, the stretched film is difficult to break, and the Rth can be increased.
同時二軸延伸法は、原反フィルムを予熱する工程(予熱工程)、予熱された原反フィルムを縦方向及び横方向に同時に二軸延伸する工程(延伸工程)、及び延伸したフィルムを緩和する工程(熱固定工程)を有する。
予熱工程において、原反フィルムは、通常、延伸温度−40℃〜延伸温度+20℃、好ましくは延伸温度−30℃〜延伸温度+15℃に加熱される。
延伸工程において、原反フィルムは、透明樹脂のガラス転移温度をTgとすると、好ましくはTg−30℃〜Tg+60℃、より好ましくはTg−10℃〜Tg+50℃に加熱された状態で延伸される。延伸に用いる装置は特に制限されず、例えば、パンタグラフ式のテンター、スクリュー式のテンター、リニアモーター式のテンターなどが挙げられる。延伸倍率は所望の屈折率関係が得られるものであれば特に制限されないが、通常1.3倍以上、好ましくは1.3倍〜3倍である。
熱固定工程においては、延伸されたフィルムを、通常、室温〜延伸温度+30℃、好ましくは延伸温度−40℃〜延伸温度+20℃にする。
The simultaneous biaxial stretching method relaxes the stretched film by preheating the raw film (preheating process), biaxially stretching the preheated raw film simultaneously in the machine and transverse directions (stretching process). It has a process (heat setting process).
In the preheating step, the raw film is usually heated to a stretching temperature of −40 ° C. to a stretching temperature of + 20 ° C., preferably a stretching temperature of −30 ° C. to a stretching temperature of + 15 ° C.
In the stretching step, when the glass transition temperature of the transparent resin is Tg, the raw film is preferably stretched while being heated to Tg-30 ° C to Tg + 60 ° C, more preferably Tg-10 ° C to Tg + 50 ° C. The apparatus used for stretching is not particularly limited, and examples thereof include a pantograph type tenter, a screw type tenter, and a linear motor type tenter. The draw ratio is not particularly limited as long as a desired refractive index relationship can be obtained, but is usually 1.3 times or more, preferably 1.3 to 3 times.
In the heat setting step, the stretched film is usually room temperature to stretching temperature + 30 ° C., preferably stretching temperature −40 ° C. to stretching temperature + 20 ° C.
予熱工程、延伸工程及び熱固定工程における加熱手段(あるいは温度調整手段)としては、例えば、オーブン型加熱装置、ラジエーション加熱装置、または温度調整された液体中に浸す手段などが挙げられる。これらの内、オーブン型加熱装置が好適である。オーブン型加熱装置では、ノズルから温風をフィルムの上面及び下面に噴出する方式のものが、フィルム面内での温度分布が小さくなるので、好ましい。 Examples of the heating means (or temperature adjusting means) in the preheating step, the stretching step, and the heat setting step include an oven-type heating device, a radiation heating device, or a means for immersing in a temperature-adjusted liquid. Of these, an oven-type heating device is preferred. In the oven-type heating device, a method in which hot air is jetted from the nozzle to the upper and lower surfaces of the film is preferable because the temperature distribution in the film surface becomes small.
<全枚数の二軸性光学異方板と、液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)>
本発明に用いる、i枚の前記二軸性光学異方板の全枚数と、前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)において、電圧無印加時に波長550nmの光が法線方向から入射したときのレターデーションR0、波長550nmの光が極角40度の方向から入射したときのレターデーションR40を測定したときに、|R40−R0|≦35nmの関係を満たし、好ましくは、|R40−R0|≦25nmであり、より好ましくは|R40−R0|≦15nmである。|R40−R0|が上記範囲内にあると、表示画面を斜め方向から見たとき、黒表示品位が良好となり、コントラストが向上する。なお、本発明においてレターデーションR0は、図1に示すようにAの位置(法線方向)から波長550nmの光を入射した場合のレターデーションである。R40は図1に示すように光学異方板の遅相軸(x)の方向から面内で45度傾いた方向(すなわち進相軸(y)の方向に45度傾いた方向)で、且つ法線から40度傾いた方向(極角)であるBの位置からから波長550nmの光を入射した場合のレターデーションである。なお、極角とは、液晶表示装置の表示画面を観察する際に、正面方向から傾けて見るときの角度である。
<Optical laminated plate (O) in which all the biaxial optical anisotropic plates and liquid crystal cells are laminated>
In the optical laminated plate (O) formed by laminating the total number of i biaxial optical anisotropic plates and the liquid crystal cell used in the present invention, light having a wavelength of 550 nm is normal direction when no voltage is applied. Satisfying the relationship of | R 40 −R 0 | ≦ 35 nm when measuring the retardation R 0 when the light enters from the direction R, and the retardation R 40 when the light having a wavelength of 550 nm enters from the direction of the polar angle of 40 degrees, Preferably, | R 40 −R 0 | ≦ 25 nm, and more preferably | R 40 −R 0 | ≦ 15 nm. When | R 40 −R 0 | is within the above range, the black display quality is improved and the contrast is improved when the display screen is viewed from an oblique direction. In the present invention, the retardation R 0 is a retardation when light having a wavelength of 550 nm is incident from the position A (normal direction) as shown in FIG. R 40 is a direction inclined 45 degrees in the plane from the direction of the slow axis (x) of the optical anisotropic plate as shown in FIG. 1 (that is, a direction inclined 45 degrees to the direction of the fast axis (y)), In addition, the retardation is obtained when light having a wavelength of 550 nm is incident from the position B, which is a direction (polar angle) inclined by 40 degrees from the normal line. Note that the polar angle is an angle when viewing the display screen of the liquid crystal display device by tilting from the front direction.
レターデーションは、高速分光エリプソメーター[J.A.Woolam社、M−2000U]を用いて、波長550nmの光を、AまたはBの位置からから入射して測定した値である。 Retardation is a high-speed spectroscopic ellipsometer [J. A. Woolam, M-2000U] is a value measured by entering light having a wavelength of 550 nm from the position A or B.
<出射側偏光子および入射側偏光子>
本発明に用いる出射側偏光子および入射側偏光子は、自然光を直線偏光に変換できるものである。例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコールなどのビニルアルコール系ポリマーよりなるフィルムに、ヨウ素、二色性染料などの二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理などを施して得られる偏光子を挙げることができる。前記出射側偏光子および前記入射側偏光子の厚さは特に制限はないが、通常は厚さ5〜80μmの偏光子であることが好ましい。なお、出射側偏光子とは、本発明の液晶表示装置の観察側に近い方に備えられている偏光子のことであり、入射側偏光子とは、本発明の液晶表示装置の観察側に遠い方に備えられている偏光子のことである。液晶表示装置の観察側は、観察者が表示画面を視認できる側である。
<Emission side polarizer and incident side polarizer>
The exit side polarizer and the entrance side polarizer used in the present invention can convert natural light into linearly polarized light. For example, a polarizer obtained by subjecting a film made of a vinyl alcohol polymer such as polyvinyl alcohol or partially formalized polyvinyl alcohol to dyeing, stretching or crosslinking with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye. Can be mentioned. The thicknesses of the exit-side polarizer and the entrance-side polarizer are not particularly limited, but usually a polarizer having a thickness of 5 to 80 μm is preferable. The exit-side polarizer is a polarizer provided closer to the viewing side of the liquid crystal display device of the present invention, and the incident-side polarizer is on the viewing side of the liquid crystal display device of the present invention. It is a polarizer provided in the far side. The observation side of the liquid crystal display device is the side on which the observer can visually recognize the display screen.
前記出射側偏光子および前記入射側偏光子は、通常、その両面に保護フィルムが積層されている。保護フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れたポリマー樹脂からなるフィルムを好適に用いることができる。このようなポリマー樹脂としては、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体樹脂などを挙げることができる。脂環式構造を有する重合体樹脂とポリエステル系重合体樹脂は、透明性、軽量性、寸法安定性、膜厚制御性が良好であり、セルロース系重合体樹脂は、透明性、軽量性が良好なので、好適に用いることができる。 The exit side polarizer and the entrance side polarizer usually have protective films laminated on both sides thereof. As the protective film, a film made of a polymer resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties and the like can be suitably used. Examples of such polymer resins include polymer resins having an alicyclic structure, cellulose polymer resins such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate; polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like. The polyester polymer resin may be used. Polymer resin and polyester polymer resin having an alicyclic structure have good transparency, lightness, dimensional stability, and film thickness controllability, and cellulosic polymer resin has good transparency and lightness. Therefore, it can be suitably used.
脂環式構造を有する重合体樹脂としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なので好適に用いることができる。ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との開環共重合体及びこれら重合体の水素添加物;ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との付加共重合体及びこれらの重合体の水素添加物などを挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系単量体の開環重合体又は開環共重合体の水素添加物は、透明性に優れるので、特に好ましい。 Examples of the polymer resin having an alicyclic structure include a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, and a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. Among these, norbornene-based polymers can be suitably used because they have good transparency and moldability. Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer, a ring-opening copolymer of a norbornene-based monomer and another monomer, and a hydrogenated product of these polymers; Examples include addition polymers of monomers, addition copolymers of norbornene monomers and other monomers, and hydrogenated products of these polymers. Among these, a hydrogenated product of a ring-opening polymer or a ring-opening copolymer of a norbornene monomer is particularly preferable because it is excellent in transparency.
前記出射側偏光子または前記入射側偏光子の保護フィルムとして、前記光学異方板を用いることが好ましい。前記光学異方板を前記出射側偏光子または前記入射側偏光子の液晶セル側に積層することによって、通常の保護フィルムを省くことができ、液晶表示装置の薄型化に寄与するので好ましい。 The optical anisotropic plate is preferably used as a protective film for the exit-side polarizer or the entrance-side polarizer. By laminating the optical anisotropic plate on the liquid crystal cell side of the exit side polarizer or the entrance side polarizer, a normal protective film can be omitted, which contributes to thinning of the liquid crystal display device.
前記出射側偏光子または前記入射側偏光子と、保護フィルムまたは前記光学異方板とを積層する手段としては、通常、接着剤または粘着剤を介して接着する方法が挙げられる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系などの接着剤又は粘着剤を挙げることができる。これらの中で、アクリル系の、接着剤又は粘着剤は、耐熱性と透明性が良好なので好適に用いることができる。
接着に際し、前記出射側偏光子または前記入射側偏光子、及び保護フィルムまたは前記光学異方板をそれぞれ所望の大きさに切り出して重ね合わせて接着することもできるが、長尺の出射側偏光子または入射側偏光子と、長尺の保護フィルムまたは光学異方板をロールトゥーロールで接着することが好ましい。
As a means for laminating the output side polarizer or the incident side polarizer and the protective film or the optical anisotropic plate, there is usually a method of bonding via an adhesive or a pressure sensitive adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone-based, polyester-based, polyurethane-based, polyether-based, and rubber-based adhesives or pressure-sensitive adhesives. Among these, acrylic adhesives or pressure-sensitive adhesives can be suitably used because of their good heat resistance and transparency.
When bonding, the exit-side polarizer or the entrance-side polarizer, and the protective film or the optical anisotropic plate can be cut out to a desired size and bonded to each other. Or it is preferable to adhere | attach an incident side polarizer, a elongate protective film, or an optical anisotropic plate with a roll-to-roll.
<反射防止板>
本発明の液晶表示装置には、前記出射側偏光子の観察側に、反射防止板を備える。この反射防止板は、後述する低屈折率層を有する。また、反射防止板は、出射側偏光子と低屈折率層との間に高屈折率層を有していてもよい。
<Antireflection plate>
The liquid crystal display device of the present invention includes an antireflection plate on the observation side of the exit side polarizer. This antireflection plate has a low refractive index layer to be described later. The antireflection plate may have a high refractive index layer between the exit side polarizer and the low refractive index layer.
反射防止板は、視認側からの、入射角5度、波長430nm〜700nmの光での反射率の最大値が、通常1.4%以下であり、好ましくは1.3%以下である。入射角5度の波長550nmでの反射率が、通常0.7%以下であり、好ましくは0.6%以下である。又、入射角20度の波長430nm〜700nmでの反射率の最大値が、通常1.5%以下であり、好ましくは1.4%以下である。入射角20度の波長550nmでの反射率が、通常0.9%以下、好ましくは0.8%以下である。各反射率が上記の範囲にあることにより、外部光の映りこみ及びギラツキがなく、視認性に優れた液晶表示装置とすることができる。反射率は、分光光度計(例えば、紫外可視近赤外分光光度計V−550、日本分光社製)を用いて測定することができる。 In the antireflection plate, the maximum reflectance of light with an incident angle of 5 degrees and a wavelength of 430 nm to 700 nm from the viewing side is usually 1.4% or less, preferably 1.3% or less. The reflectance at a wavelength of 550 nm at an incident angle of 5 degrees is usually 0.7% or less, preferably 0.6% or less. Moreover, the maximum value of the reflectance at a wavelength of 430 nm to 700 nm at an incident angle of 20 degrees is usually 1.5% or less, preferably 1.4% or less. The reflectance at an incident angle of 20 degrees and a wavelength of 550 nm is usually 0.9% or less, preferably 0.8% or less. When each reflectance is in the above range, a liquid crystal display device having excellent visibility without reflection of external light and glare can be obtained. The reflectance can be measured using a spectrophotometer (for example, an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-550, manufactured by JASCO Corporation).
反射防止板は、スチールウール試験前後の反射率の変動が、通常20%以下、好ましくは10%以下である。反射率の変動が20%を超えると、画面のぼやけ、ギラツキが発生することがある。スチールウール試験は、スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、低屈折率層の表面を10回往復させて擦る試験のことである。反射率は、面内の任意の場所5箇所で5回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の反射率の変動は下記式(I)で求めた。Rbはスチールウール試験前の反射率、Raはスチールウール試験後の反射率を表す。
ΔR=(Rb−Ra)/Rb×100(%) (I)
The antireflection plate has a reflectance fluctuation of usually 20% or less, preferably 10% or less, before and after the steel wool test. If the variation in reflectance exceeds 20%, the screen may be blurred or glaring. The steel wool test is a test in which the surface of the low refractive index layer is rubbed back and forth 10 times in a state where a load of 0.025 MPa is applied to steel wool # 0000. The reflectance is measured five times at five arbitrary locations in the plane, and is calculated from the arithmetic average value of these measured values. The change in reflectance before and after the steel wool test was determined by the following formula (I). Rb represents the reflectance before the steel wool test, and Ra represents the reflectance after the steel wool test.
ΔR = (Rb−Ra) / Rb × 100 (%) (I)
反射防止板は、同様にスチールウール試験前後の全光線透過率の変動が、通常10%以内であり、好ましくは8%以内、より好ましくは6%以内である。全光線透過率は、面内の任意の場所5箇所で5回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の全光線透過率の変動は下記式(II)で求めた。Rcはスチールウール試験前の全光線透過率、Rdはスチールウール試験後の全光線透過率を表す。
ΔR=(Rc−Rd)/Rc×100 (%) (II)
Similarly, the antireflection plate has a variation in the total light transmittance before and after the steel wool test, usually within 10%, preferably within 8%, more preferably within 6%. The total light transmittance is measured five times at five locations in the plane, and is calculated from the arithmetic average value of these measured values. The fluctuation of the total light transmittance before and after the steel wool test was determined by the following formula (II). Rc represents the total light transmittance before the steel wool test, and Rd represents the total light transmittance after the steel wool test.
ΔR = (Rc−Rd) / Rc × 100 (%) (II)
反射防止板において、後述する低屈折率層側の表面抵抗は、好ましくは1.0×1010Ω/□以下、より好ましくは5.0×109Ω/□以下である。表面抵抗がこのような範囲にあると、反射防止板に塵埃等が表面に付着しにくくなる。 In the antireflection plate, the surface resistance on the low refractive index layer side described later is preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 5.0 × 10 9 Ω / □ or less. When the surface resistance is in such a range, dust or the like hardly adheres to the surface of the antireflection plate.
≪高屈折率層≫
本発明に用いる反射板において、高屈折率層は、必要に応じて、前記出射側偏光子と後述する低屈折率層との間に設けてもよい。本発明における高屈折率層とは、後述する低屈折率層よりも高い屈折率を有する層である。
高屈折率層は、その屈折率nHが1.55以上であることが好ましく、1.60以上であることがより好ましい。高屈折率層の屈折率が1.55以上であると、広帯域における反射防止性能及び耐擦傷性が向上し、高屈折率層の上に積層する低屈折率層の設計が容易になる利点がある。屈折率は、公知の分光エリプソメーター等を用いて求めることができる。
≪High refractive index layer≫
In the reflector used in the present invention, the high refractive index layer may be provided between the exit side polarizer and a low refractive index layer described later, if necessary. The high refractive index layer in the present invention is a layer having a higher refractive index than a low refractive index layer described later.
The refractive index n H of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more, and more preferably 1.60 or more. When the refractive index of the high refractive index layer is 1.55 or more, there is an advantage that the antireflection performance and scratch resistance in a wide band are improved and the design of the low refractive index layer laminated on the high refractive index layer becomes easy. is there. The refractive index can be determined using a known spectroscopic ellipsometer or the like.
高屈折率層は、表面硬度の高い層であり、具体的には、JIS K5600−5−4に規定された鉛筆硬度試験で「HB」以上の硬度を持つ層である。高屈折率層の平均厚みは、特に限定されないが、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。 The high refractive index layer is a layer having a high surface hardness. Specifically, the high refractive index layer is a layer having a hardness of “HB” or higher in a pencil hardness test defined in JIS K5600-5-4. Although the average thickness of a high refractive index layer is not specifically limited, Usually, 0.5-30 micrometers, Preferably it is 3-15 micrometers.
高屈折率層の形成材料には、高屈折率層の屈折率や表面硬度が上記範囲となるように選択して用いるべきであり、屈折率の高い材料を用いることが好ましく、硬い材料を用いることが好ましい。例えば、シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機材料;二酸化ケイ素などの無機材料;などを挙げることができる。これらの中で、ウレタンアクリレート系と多官能アクリレート系の材料は、接着力が大きく、生産性に優れるので、好適に用いることができる。 The material for forming the high refractive index layer should be selected and used so that the refractive index and surface hardness of the high refractive index layer are in the above-mentioned range, and a material having a high refractive index is preferably used, and a hard material is used. It is preferable. Examples thereof include organic materials such as silicone-based, melamine-based, epoxy-based, acrylic-based and urethane acrylate-based materials; inorganic materials such as silicon dioxide; Among these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based materials can be preferably used because of their high adhesive strength and excellent productivity.
高屈折率層は、無機酸化物粒子をさらに含んでいてもよい。高屈折率層に無機酸化物粒子が添加されることにより、表面の耐擦傷性に優れ、屈折率が1.55以上の高屈折率層を簡単に形成できる。高屈折率層に用いる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましく、具体的には、屈折率が1.6以上、特に1.6〜2.3のものが好適である。このような無機酸化物粒子としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、リンをドープした酸化スズ(PTO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、等を挙げることができる。これらの中でも、五酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるため、屈折率を調節するための成分として好適である。前記無機酸化物粒子の一次粒子径は、好ましくは1nm以上100nm以下、より好ましくは1nm以上30nm以下である。 The high refractive index layer may further contain inorganic oxide particles. By adding inorganic oxide particles to the high refractive index layer, it is possible to easily form a high refractive index layer having excellent surface scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more. As the inorganic oxide particles used in the high refractive index layer, those having a high refractive index are preferable, and specifically, those having a refractive index of 1.6 or more, particularly 1.6 to 2.3 are preferable. Examples of such inorganic oxide particles include titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, antimony-doped tin oxide (ATO), and phosphorus dope. Tin oxide (PTO), fluorine-doped tin oxide (FTO), tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), etc. be able to. Among these, antimony pentoxide is suitable as a component for adjusting the refractive index because it has a high refractive index and an excellent balance between conductivity and transparency. The primary particle diameter of the inorganic oxide particles is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 30 nm.
高屈折率層の形成方法は、特に限定されないが、例えば、基板に、高屈折率層の前記形成材料を塗布、乾燥し、硬化させることによって得ることができる。基板には、前記出射側偏光子や樹脂からなるフィルム等が挙げられる。前記材料を塗布する前に、基材の表面にプラズマ処理、プライマー処理などを施し、高屈折率層の剥離強度を高めてもよい。硬化方法としては熱硬化法と、紫外線硬化法とを利用できる。また、前記基板を形成する樹脂と、高屈折率層用の材料とを、共押出成形して、前記基板を形成する樹脂と前記材料とが積層された共押出フィルムを形成することができる。高屈折率層の表面には、防眩性機能が設けられていることが好ましく、例えば、当該表面に凸形状を形成することにより当該機能を実現できる。 The method for forming the high refractive index layer is not particularly limited. For example, the high refractive index layer can be obtained by applying the material for forming the high refractive index layer, drying, and curing the material. Examples of the substrate include the exit side polarizer and a film made of a resin. Before applying the material, the surface of the substrate may be subjected to plasma treatment, primer treatment, or the like to increase the peel strength of the high refractive index layer. As a curing method, a thermal curing method and an ultraviolet curing method can be used. Moreover, the resin for forming the substrate and the material for the high refractive index layer can be co-extruded to form a co-extruded film in which the resin for forming the substrate and the material are laminated. The surface of the high refractive index layer is preferably provided with an antiglare function. For example, the function can be realized by forming a convex shape on the surface.
≪低屈折率層≫
本発明に用いる反射板において、本発明に用いる低屈折率層は、出射側偏光子の上側(観察側)に設けられる層であり、または、前記高屈折率層が設けられた場合には、この高屈折率層の上側に設けられる層である。低屈折率層の平均厚みは、10〜1000nmであることが好ましく、30〜500nmであることがより好ましい。
≪Low refractive index layer≫
In the reflector used in the present invention, the low refractive index layer used in the present invention is a layer provided on the upper side (observation side) of the output side polarizer, or when the high refractive index layer is provided, It is a layer provided on the upper side of this high refractive index layer. The average thickness of the low refractive index layer is preferably 10 to 1000 nm, and more preferably 30 to 500 nm.
低屈折率層は、その屈折率nLが1.45以下の層であり、nLが1.40以下であることが好ましく、nLが1.35〜1.40であることがより好ましい。また、隣接する前記出射側偏光子または前記高屈折率層との屈折率差が0.05〜0.4であることが好ましい。このような低屈折率層を設けることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れ、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた液晶表示装置を得ることができる。さらに、高屈折率層の屈折率nHが、その上に積層する低屈折率層の屈折率nLとの間に、nH≧1.53、及び(√nH)−0.2<nL<(√nH)+0.2、の関係を有することが、反射防止機能を発現させるために好ましい。 The low refractive index layer is a layer having a refractive index n L of 1.45 or less, preferably n L of 1.40 or less, and more preferably n L of 1.35 to 1.40. . Moreover, it is preferable that the refractive index difference with the said output side polarizer or the said high refractive index layer which adjoins is 0.05-0.4. By providing such a low refractive index layer, it is possible to obtain a liquid crystal display device that is excellent in balance between visibility, scratch resistance, and strength and excellent in balance between antireflection performance and scratch resistance. Further, n H ≧ 1.53 and (√n H ) −0.2 <between the refractive index n H of the high refractive index layer and the refractive index n L of the low refractive index layer laminated thereon. It is preferable to have a relationship of n L <(√n H ) +0.2 in order to develop the antireflection function.
本発明に用いる反射防止板において、前記低屈折率層は、粒径が5〜2000nmの中空粒子(A)、(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー(B)、及び、(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物(C)を含む組成物の硬化膜からなる。本発明において、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイルとメタクロイルを意味する。 In the antireflection plate used in the present invention, the low refractive index layer comprises a hollow particle (A) having a particle size of 5 to 2000 nm, a siloxane oligomer (B) having a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group, and (meta ) A cured film of a composition containing an acrylate compound (C) having an acryloyl group. In the present invention, (meth) acryloyl means acryloyl and methacryloyl.
〔中空粒子(A)〕
本発明に用いる中空粒子は、中空部分が存在する粒子である。
また、中空粒子の中空部分には中空粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、中空粒子の中空部分を形成するための、後述する前駆体物質がその中空部分に残存していてもよい。
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、中空粒子の中空部分内の大部分を占めることもある。
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると、中空粒子の中空部分の容積が増大し、屈折率の低い中空粒子が得られ、この中空粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
[Hollow particles (A)]
The hollow particles used in the present invention are particles having a hollow portion.
Further, the solvent used when preparing the hollow particles and / or the gas that enters during the drying may be present in the hollow part of the hollow particles, or a precursor described later for forming the hollow part of the hollow particles. The substance may remain in the hollow part.
The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell, or it may occupy most of the hollow portion of the hollow particles.
The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. If the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the hollow part of the hollow particles increases, and hollow particles having a low refractive index are obtained. The transparent film obtained by blending these hollow particles has a low refractive index. Excellent antireflection performance at a high rate.
本発明に用いる低屈折率層に含まれる中空粒子(A)は、その粒径が5〜2,000nmの範囲であり、20〜100nmの範囲であることが好ましい。中空粒子(A)の粒径が上記範囲を下回ると、前記低屈折率層の屈折率が十分に小さくならず、また、中空粒子(A)の粒径が上記範囲内にあると、反射防止板の透明性を維持でき、拡散反射による寄与を小さくできる。ここでの中空粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 The hollow particles (A) contained in the low refractive index layer used in the present invention have a particle size in the range of 5 to 2,000 nm, and preferably in the range of 20 to 100 nm. When the particle size of the hollow particles (A) is below the above range, the refractive index of the low refractive index layer is not sufficiently small, and when the particle size of the hollow particles (A) is within the above range, antireflection is performed. The transparency of the plate can be maintained, and the contribution due to diffuse reflection can be reduced. The particle diameter of the hollow particles here is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
中空粒子(A)の外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。
外殻は、内側層と外側層などからなる多層構造であることが好ましい。外殻は、内側の第1無機酸化物皮膜層および外側の第2無機酸化物皮膜層からなる複数の無機酸化物皮膜層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物皮膜層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化できるとともに、内部の空洞を密封した中空粒子を得ることができる。
The outer shell of the hollow particle (A) may be porous having pores, or may be one in which the pores are closed and the cavity is sealed against the outside of the outer shell.
The outer shell preferably has a multilayer structure including an inner layer and an outer layer. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide film layers including an inner first inorganic oxide film layer and an outer second inorganic oxide film layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the outer shell can be densified by closing the pores of the outer shell, and hollow particles in which the inner cavity is sealed can be obtained.
中空粒子(A)の外殻の厚みは通常1〜50nm、好ましくは5〜20nmである。また、中空粒子(A)の外殻の厚みは、中空粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。 The thickness of the outer shell of the hollow particles (A) is usually 1 to 50 nm, preferably 5 to 20 nm. The thickness of the outer shell of the hollow particles (A) is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the hollow particles.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。 When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. For the densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
前記中空粒子(A)、前記(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー(B)、及び、前記(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物(C)を含む組成物(後述する塗工液)における、中空粒子の含有量は、特に限定されないが、10〜30重量%であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに奏することができる。 Composition comprising the hollow particles (A), the siloxane oligomer (B) having the (meth) acryloyl group and the fluoroalkyl group, and the acrylate compound (C) having the (meth) acryloyl group (coating liquid described later) The content of the hollow particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight. Within this range, both low refractive index properties and scratch resistance can be achieved.
中空粒子(A)は、無機中空粒子が好ましく、特にシリカ系中空粒子が好ましい。無機中空粒子を構成する無機化合物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3、TiO2−Al2O3、TiO2−ZrO2、In2O3−SnO2、Sb2O3−SnO2などを例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The hollow particles (A) are preferably inorganic hollow particles, particularly silica-based hollow particles. The inorganic compound constituting the inorganic hollow particles, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2
中空粒子は、例えば、特開2001−233611号公報に記載された方法に基づいて製造することができる。また、市販の中空粒子を用いてもよい。また、中空粒子は、後述のシロキサンオリゴマー(B)やアクリレート化合物(C)との結合性を高めるために、中空粒子と界面活性化剤またはカップリング剤とを反応させる方法などによって、中空粒子の表面に水酸基等の親水基やアクリロイル基を導入してもよい。界面活性化剤またはカップリング剤としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランなどの含フッ素有機珪素化合物などが挙げられる。 The hollow particles can be produced, for example, based on the method described in JP-A-2001-233611. Commercially available hollow particles may also be used. Moreover, in order to improve the bonding property with the siloxane oligomer (B) and the acrylate compound (C) described later, the hollow particles are obtained by reacting the hollow particles with a surfactant or a coupling agent. Hydrophilic groups such as hydroxyl groups and acryloyl groups may be introduced on the surface. As the surfactant or coupling agent, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl Examples thereof include fluorine-containing organosilicon compounds such as trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.
〔シロキサンオリゴマー(B)〕
本発明に用いる低屈折率層に含まれるシロキサンオリゴマー(B)は、(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマーである。このシロキサンオリゴマー(B)は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)と、フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)と、一般式XjSiY4−j(式中、Xは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、jは0〜2の整数を表し、jが2の時、Xは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい)で表される加水分解性基を有するシラン化合物(b−3)との縮合物であることが好ましい。
[Siloxane oligomer (B)]
The siloxane oligomer (B) contained in the low refractive index layer used in the present invention is a siloxane oligomer having a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group. The siloxane oligomer (B) is a compound having a (meth) acryloyl group (b-1), a fluorine compound having a fluoroalkyl group and (b-2), the general formula X j SiY 4-j (wherein, X Represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, j represents an integer of 0 to 2, and when j is 2, X may be the same or different. Represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different, and is preferably a condensate with a silane compound (b-3) having a hydrolyzable group.
(b−1)(メタ)アクリロイル基を有する化合物
前記(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリロイル基を有するオルガノシラン類が挙げられる。
前記(メタ)アクリロイル基を有するオルガノシラン類としては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシメチルトリメトキシシラン、3−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、3−アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシメチルメチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの中で取り扱い性、架橋密度、反応性などから3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。
(B-1) Compound having (meth) acryloyl group As the compound (b-1) having (meth) acryloyl group, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hydroxyethyl Examples include (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates such as 2-ethylhexyl methacrylate, and organosilanes having a (meth) acryloyl group.
Examples of the organosilane having the (meth) acryloyl group include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane. 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxymethyltrimethoxysilane, 3-methacrylic Loxymethyltriethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxymethyltrimethoxysilane, 3- Examples include acryloxymethyltriethoxysilane, 3-acryloxymethylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxymethylmethyldiethoxysilane, and the like. Among these, 3-methacryloxy is considered due to handling properties, crosslinking density, reactivity, and the like. Propyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane are preferred.
(b−2)フルオロアルキル基を有するフッ素化合物
前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)としては、フルオロアルキル基を有するシラン化合物の、縮合物や、フルオロアルキル基を有する単量体とこれと共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
(B-2) Fluorine compound having a fluoroalkyl group As the fluorine compound (b-2) having a fluoroalkyl group, a condensate of a silane compound having a fluoroalkyl group or a monomer having a fluoroalkyl group A copolymer of this and a copolymerizable monomer may be mentioned.
前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物の縮合物には、ゾル−ゲル反応により容易にシロキサンオリゴマーを形成できる観点から、パーフルオロアルキルアルコキシシランを用いることが好ましい。 As the condensate of the silane compound having a fluoroalkyl group, perfluoroalkylalkoxysilane is preferably used from the viewpoint that a siloxane oligomer can be easily formed by a sol-gel reaction.
前記パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式(2):CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR’)3(式中、R’は、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記nが2〜6の化合物が好ましい。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the perfluoroalkylalkoxysilane include, for example, the general formula (2): CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OR ′) 3 (wherein R ′ is an alkyl having 1 to 5 carbon atoms. And n represents an integer of 0 to 12). Specifically, for example, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltri Examples thereof include ethoxysilane. Among these, the compound wherein n is 2 to 6 is preferable. These can be used alone or in combination of two or more.
前記フルオロアルキル基を有する単量体としては、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、3,3,3−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類;パーフロロ(メチルビニルエーテル)、パーフロロ(エチルビニルエーテル)、パーフロロ(プロピルビニルエーテル)、パーフロロ(ブチルビニルエーテル)、パーフロロ(イソブチルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルキルビニルエーテル)類;パーフロロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;その他を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the monomer having a fluoroalkyl group include fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene and 3,3,3-trifluoropropylene; perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl). Examples include perfluoro (alkyl vinyl ethers) such as vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), and perfluoro (isobutyl vinyl ether); perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether); and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
前記フルオロアルキル基を有する単量体と共重合可能な単量体としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル化合物、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン化合物、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸化合物、および、これらの誘導体を挙げることができる。 Examples of the monomer copolymerizable with the monomer having a fluoroalkyl group include vinyl ether compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and allyl vinyl ether, vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl butyrate, methyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate compounds such as ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, styrene compounds such as styrene and p-hydroxymethylstyrene, unsaturated carboxylic acid compounds such as crotonic acid, maleic acid and itaconic acid, and These derivatives can be mentioned.
(b−3)一般式XjSiY4−jで表される加水分解性基を有するシラン化合物
前記、一般式XjSiY4−jで表される加水分解性基を有するシラン化合物(b−3)において、前記Xは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表す。置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基等のアラルキル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基;γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基;γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基;3−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基;トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
(B-3) formula X j SiY silane compound the having a hydrolyzable group represented by 4-j, a silane compound having a hydrolyzable group represented by the general formula X j SiY 4-j (b- In 3), X represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group; cyclopentyl group and cyclohexyl group A cycloalkyl group such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, a benzyl group, Aralkyl groups such as phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group, γ-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; alkenylcarbonyloxyalkyl such as γ-methacryloxypropyl group Group: alkyl group having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyl group or 3,4-epoxycyclohexylethyl group Alkyl group having an amino group such as 3-aminopropyl group; an alkyl group having a mercapto group such as γ- mercaptopropyl group include a perfluoroalkyl group such as trifluoromethyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoroalkyl group are preferable from the viewpoint of easy synthesis and availability.
前記Yは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−(O−Si)−O−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基;オキシム基(−O−N=C−R1(R2))、エノキシ基(−O−C(R1)=C(R2)R3)、アミノ基、アミノキシ基(−O−N(R1)R2)、アミド基(−N(R1)−C(=O)−R2)等を挙げることができる。これらの基において、R1、R2、R3は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。 Y represents a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to give a — (O—Si) —O— bond. Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxyl groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R 1 (R 2 ) ), Enoxy group (—O—C (R 1 ) = C (R 2 ) R 3 ), amino group, aminoxy group (—O—N (R 1 ) R 2 ), amide group (—N (R 1 )) -C (= O) -R 2), and the like. In these groups, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, as Y, an alkoxyl group is preferable from the viewpoint of availability.
一般式XjSiY4−jで表されるシラン化合物(b−3)としては、前記kが0〜2の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。 The general formula X j SiY 4-j with a silane compound expressed (b-3), a silicon compound wherein k is an integer of 0 to 2 is preferred. Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable from the viewpoint of availability.
前記jが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、前記jが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。前記jが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 Examples of the tetraalkoxysilane in which j is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which j is 1 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and methyltriisosilane. Examples include propoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which j is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
シロキサンオリゴマー(B)の配合量は、特に限定されないが、前記組成物(後述する塗工液)に対して、3〜90重量%であることが好ましく、5〜80重量%であることが好ましく、10〜60重量%であることが好ましい。上記範囲内にあると、前記低屈折率層の屈折率が適度な値となり、十分な反射防止効果が得られ、さらに、前記低屈折率層の耐擦傷性が良好となる。 Although the compounding quantity of a siloxane oligomer (B) is not specifically limited, It is preferable that it is 3-90 weight% with respect to the said composition (coating liquid mentioned later), and it is preferable that it is 5-80 weight%. 10 to 60% by weight is preferable. When it is within the above range, the refractive index of the low refractive index layer becomes an appropriate value, a sufficient antireflection effect is obtained, and the scratch resistance of the low refractive index layer is good.
シロキサンオリゴマー(B)の分子量については特に制限はないが、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフで測定したポリスチレン(標準溶液)換算の数平均分子量(Mn)で、5000以上であることが好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the molecular weight of a siloxane oligomer (B), The number average molecular weight (Mn) of polystyrene (standard solution) conversion measured with the gel permeation chromatograph using a cyclohexane as a solvent must be 5000 or more. preferable.
シロキサンオリゴマー(B)を得る方法としては、前記(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)と、前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)と、前記シラン化合物(b−3)とを、縮合することにより得ることができる。
その縮合において、各反応成分の比率は特に制限されないが、前記化合物(b−1)/前記化合物(b−2)/前記化合物(b−3)のモル比で、5〜70/30〜70/1〜50モル%となるように配合して縮合することが好ましく、5〜70/30〜70/1〜50モル%となるように配合して縮合することが更に好ましい。さらに、縮合においては、各反応成分をアルコール溶媒(たとえば、メタノール、エタノール等)中で有機酸(たとえば蓚酸等)の存在下で加熱することが好ましい。
As a method for obtaining the siloxane oligomer (B), the compound (b-1) having the (meth) acryloyl group, the fluorine compound (b-2) having the fluoroalkyl group, and the silane compound (b-3). Can be obtained by condensation.
In the condensation, the ratio of each reaction component is not particularly limited, but is 5 to 70/30 to 70 in terms of a molar ratio of the compound (b-1) / the compound (b-2) / the compound (b-3). It is preferable to mix and condense so that it may become / 1-50 mol%, It is still more preferable to mix | blend and condense so that it may become 5-70 / 30-70 / 1-50 mol%. Furthermore, in the condensation, each reaction component is preferably heated in an alcohol solvent (eg, methanol, ethanol, etc.) in the presence of an organic acid (eg, oxalic acid, etc.).
〔アクリレート化合物(C)〕
本発明に用いる低屈折率層に含まれるアクリレート化合物(C)は、(メタ)アクリロイル基を有する。
アクリレート化合物(C)は、前記反射防止板の硬度を効果的に高くできる観点から、フッ素原子を含有せず、且つ、(メタ)アクリロイル基を2個以上有することが好ましい。このような化合物としては、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Acrylate compound (C)]
The acrylate compound (C) contained in the low refractive index layer used in the present invention has a (meth) acryloyl group.
From the viewpoint of effectively increasing the hardness of the antireflection plate, the acrylate compound (C) preferably does not contain a fluorine atom and has two or more (meth) acryloyl groups. Such compounds include neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone Examples include modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate. Kill. These can be used alone or in combination of two or more.
また、アクリレート化合物(C)は、前記低屈折率層の屈折率を効果的に低くできる観点から、フッ素原子を含有してもよい。フッ素原子を含有するアクリレート化合物としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ヘキサデカフルオロ−1,10−デカンジオール−ジエポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The acrylate compound (C) may contain a fluorine atom from the viewpoint of effectively reducing the refractive index of the low refractive index layer. Examples of acrylate compounds containing fluorine atoms include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl) ethyl. (Meth) acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl (Meth) acrylate, 3- (par Fluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl ( (Meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoro Propyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, 1H -1- (trifluoromethyl) Lifluoroethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8, Mention may be made of 9,9-hexadecafluoro-1,10-decandiol-diepoxy (meth) acrylate. These can be used alone or in combination of two or more.
アクリレート化合物(C)の配合量は、特に限定されないが、前記組成物(後述する塗工液)に対して、5〜90重量%であることが好ましく、10〜80重量%であることが好ましく、15〜60重量%であることが好ましい。上記範囲内にあると、前記低屈折率層の屈折率が適度な値となり、十分な反射防止効果が得られ、さらに、前記低屈折率層の耐擦傷性が良好となる。 Although the compounding quantity of an acrylate compound (C) is not specifically limited, It is preferable that it is 5-90 weight% with respect to the said composition (coating liquid mentioned later), and it is preferable that it is 10-80 weight%. It is preferably 15 to 60% by weight. When it is within the above range, the refractive index of the low refractive index layer becomes an appropriate value, a sufficient antireflection effect is obtained, and the scratch resistance of the low refractive index layer is good.
本発明に用いる低屈折率層は、前記中空粒子(A)と、前記シロキサンオリゴマー(B)と、前記アクリレート化合物(C)とを含む塗工液(組成物)を、出射側偏光子や高屈折率層等の他の層上に膜状に塗工した後、乾燥させ、電離放射線、及び/又は加熱により硬化させることにより得ることができる。 The low refractive index layer used in the present invention is a coating liquid (composition) containing the hollow particles (A), the siloxane oligomer (B), and the acrylate compound (C). It can be obtained by coating in the form of a film on another layer such as a refractive index layer, drying, and curing by ionizing radiation and / or heating.
前記塗工液は、中空粒子(A)、シロキサンオリゴマー(B)、及び、アクリレート化合物(C)を分解させることのない有機溶剤に、前記(A)、(B)、及び(C)を混合して調製すればよい。そのような有機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;或いはこれらの混合物を挙げることができる。有機溶剤と、前記(A)、(B)、及び(C)との混合割合は特に制限されるものではないが、塗工液において、前記(A)、(B)、及び(C)を合計した濃度が0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%となるように混合することが好ましい。 The said coating liquid mixes the said (A), (B), and (C) with the organic solvent which does not decompose | disassemble a hollow particle (A), a siloxane oligomer (B), and an acrylate compound (C). To be prepared. Examples of such organic solvents include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; toluene, xylene, and the like Or aromatic hydrocarbons thereof; or mixtures thereof. The mixing ratio of the organic solvent and the (A), (B), and (C) is not particularly limited, but in the coating solution, the (A), (B), and (C) It is preferable to mix so that the total concentration is 0.1 to 20% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight.
前記塗工液には、重合開始剤(光ラジカル開始剤や熱ラジカル開始剤)、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)、あるいは、その他の成分を含有させても良い。 The coating liquid contains a polymerization initiator (photo radical initiator or thermal radical initiator), a curing agent, a crosslinking agent, an ultraviolet blocker, an ultraviolet absorber, a surface conditioner (leveling agent), or other components. It may be included.
前記塗工液の塗工方法は特に限定されない。また、硬化方法には、加熱や活性光線照射が挙げられる。乾燥条件、硬化条件は、使用する溶媒の沸点、飽和蒸気圧等の種類により適宜決定できる。特に、塗工される他の層が着色したり、分解したりするのを抑えるために、加熱する場合には、50〜150℃の範囲内の温度で1分〜180分加熱するのが好ましく、75〜105℃の範囲内の温度で5分〜60分加熱することが更に好ましく、また、活性光線を照射する場合は、その照射光には紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、50〜500mJ/cm2であることが好ましく、100〜450mJ/cm2であることがより好ましく、200〜400mJ/cm2であることがさらに好ましい。 The coating method of the coating liquid is not particularly limited. Examples of the curing method include heating and actinic ray irradiation. Drying conditions and curing conditions can be appropriately determined according to the type of solvent used, such as boiling point and saturated vapor pressure. In particular, in order to suppress the other layers to be coated from being colored or decomposed, it is preferable to heat at a temperature within the range of 50 to 150 ° C. for 1 to 180 minutes. It is more preferable to heat at a temperature in the range of 75 to 105 ° C. for 5 to 60 minutes, and when irradiating actinic rays, it is preferable to use ultraviolet rays as the irradiation light. The irradiation energy is preferably from 50 to 500 mJ / cm 2, more preferably 100~450mJ / cm 2, further preferably 200 to 400 mJ / cm 2.
≪防汚層≫
本発明に用いる反射防止板では、前記低屈折率層の防汚性を高めるために、前記低屈折率層の上(観察側)にさらに防汚層が形成されてもよい。防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能を阻害せず、防汚層としての要求性能を満たす限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;CVD等の化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。
≪Anti-fouling layer≫
In the antireflection plate used in the present invention, an antifouling layer may be further formed on the low refractive index layer (observation side) in order to enhance the antifouling property of the low refractive index layer. The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not impaired and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used. As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As the method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method such as CVD; a wet coating method; The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.
<液晶表示装置の配置構成>
ここで、本発明の液晶表示装置の構成概要について説明する。
本発明の液晶表示装置において、少なくとも1枚の光学異方板及び液晶セルを、出射側偏光子と入射側偏光子との間に有する配列であれば特に制限されない。
図2、図3は、本発明の液晶表示装置の構成の例を示す説明図である。図中の矢印は、偏光子については吸収軸を、二軸性光学異方板については面内の遅相軸を表す。
図2では、液晶表示装置は、入射側偏光子11、二軸性光学異方板12、液晶セル13、出射側偏光子14、反射防止板15が、この順に重ねられている。二軸性光学異方板の面内の遅相軸は、入射側偏光子の吸収軸と垂直の位置関係にある。出射側偏光子5の観察側には、低屈折率層を有する反射防止板を備える。
<Arrangement configuration of liquid crystal display device>
Here, an outline of the configuration of the liquid crystal display device of the present invention will be described.
In the liquid crystal display device of the present invention, there is no particular limitation as long as it is an arrangement having at least one optical anisotropic plate and a liquid crystal cell between the exit side polarizer and the entrance side polarizer.
2 and 3 are explanatory diagrams showing examples of the configuration of the liquid crystal display device of the present invention. The arrows in the figure represent the absorption axis for the polarizer and the in-plane slow axis for the biaxial optical anisotropic plate.
In FIG. 2, in the liquid crystal display device, an incident side polarizer 11, a biaxial optical anisotropic plate 12, a liquid crystal cell 13, an
本発明の液晶表示装置に用いる前記光学異方板が2枚である場合は、入射側偏光子から出射側偏光子に向けて、光学異方体−液晶セル−光学異方板、光学異方板−光学異方板−液晶セル又は液晶セル−光学異方板−光学異方板のいずれの配列とすることもできる。図3はその一例を示すものである。図3に示すように、入射側偏光子1、光学異方板2、液晶セル3、光学異方板4、出射側偏光子5、反射防止板6が、この順に重ねられている。光学異方板4の面内の遅相軸は、入射側偏光子の吸収軸と平行の位置関係にあり、光学異方板2の面内の遅相軸は、出射側偏光子の吸収軸と平行の位置関係にある。
When there are two optical anisotropic plates used in the liquid crystal display device of the present invention, the optical anisotropic body-liquid crystal cell-optical anisotropic plate, optical anisotropic plate from the incident side polarizer toward the output side polarizer. Any arrangement of plate-optically anisotropic plate-liquid crystal cell or liquid crystal cell-optically anisotropic plate-optically anisotropic plate can be used. FIG. 3 shows an example. As shown in FIG. 3, the
本発明の好適な液晶表示装置は、電圧無印加状態において、前記出射側偏光子の吸収軸又は前記入射側偏光子の吸収軸と、少なくとも1枚の前記二軸性光学異方板と前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O) の面内の遅相軸が略平行又は略垂直である。略平行とは、角度を0〜90度で表示したとき、二つ軸のなす角度が0〜3度、より好ましくは0〜1度であることを意味し、略垂直とは、二つ軸のなす角度が87〜90度、より好ましくは89〜90度であることを意味する。電圧無印加状態において、前記出射側偏光子の吸収軸又は前記入射側偏光子の吸収軸と、少なくとも1枚の前記二軸性光学異方板と前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O) の面内の遅相軸とがなす角度が上記範囲内にあると、黒表示品位が向上する。電圧無印加状態における、少なくとも1枚の前記二軸性光学異方板と前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)の面内の遅相軸の方向はR0を測定したときに求めることができる。 In a preferred liquid crystal display device of the present invention, in the state where no voltage is applied, the absorption axis of the output-side polarizer or the absorption axis of the incident-side polarizer, at least one biaxial optical anisotropic plate, and the liquid crystal The slow axis in the plane of the optical laminate (O) formed by laminating the cells is substantially parallel or substantially perpendicular. “Substantially parallel” means that when the angle is displayed at 0 to 90 degrees, the angle between the two axes is 0 to 3 degrees, more preferably 0 to 1 degree. Means an angle of 87 to 90 degrees, more preferably 89 to 90 degrees. An optical laminated plate obtained by laminating the absorption axis of the output-side polarizer or the absorption axis of the incident-side polarizer, at least one biaxial optical anisotropic plate, and the liquid crystal cell in a state where no voltage is applied. When the angle formed by the slow axis in the plane (O) is within the above range, the black display quality is improved. The direction of the slow axis in the plane of the optical laminated plate (O) formed by laminating at least one of the biaxial optical anisotropic plate and the liquid crystal cell in the state where no voltage is applied is when R 0 is measured. Can be requested.
本発明の液晶表示装置に用いる前記出射側偏光子および前記入射側偏光子は、それぞれの吸収軸が略垂直の位置関係にある。前記入射側偏光子および前記出射側偏光子の二つの軸がなす角度が上記範囲内にあると、液晶表示装置の表示画面の黒表示品位が向上する。 The exit-side polarizer and the entrance-side polarizer used in the liquid crystal display device of the present invention have a positional relationship in which their absorption axes are substantially vertical. When the angle formed by the two axes of the incident side polarizer and the output side polarizer is within the above range, the black display quality of the display screen of the liquid crystal display device is improved.
本発明の液晶表示装置は、前記出射側偏光子の観察側に、前記低屈折率層を備える。好ましくは、前記高屈折率層および前記低屈折率層を、前記出射側偏光子から観察側に向かってこの順に備える(つまり、高屈折率層と、低屈折率層とを、観察側から液晶セルに向けて、低屈折率層−高屈折率層−出射側偏光子の配列とすることもできる)。前記低屈折率層を、前記出射側偏光子の観察側に備えることによって、本発明の液晶表示装置のコントラストをさらに効果的に向上させることができる。 The liquid crystal display device of the present invention includes the low refractive index layer on the observation side of the output side polarizer. Preferably, the high refractive index layer and the low refractive index layer are provided in this order from the exit side polarizer toward the observation side (that is, the high refractive index layer and the low refractive index layer are liquid crystal from the observation side. An array of a low refractive index layer, a high refractive index layer, and an exit-side polarizer can be formed toward the cell). By providing the low refractive index layer on the observation side of the output side polarizer, the contrast of the liquid crystal display device of the present invention can be further effectively improved.
本発明の液晶表示装置においては、前記出射側偏光子、前記入射側偏光子、前記光学異方板、前記液晶セル、及び前記反射防止板の他に、他のフィルムまたは層を設けてもよく、例えば、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、光拡散板、導光板、拡散シート、輝度向上フィルムなどを適宜な位置に、1層又は2層以上配置することができる。本発明の液晶表示装置においては、バックライトとして、冷陰極管、水銀平面ランプ、発光ダイオード、エレクトロルミネッセンスなどを用いることができる。
In the liquid crystal display device of the present invention, other films or layers may be provided in addition to the exit side polarizer, the entrance side polarizer, the optical anisotropic plate, the liquid crystal cell, and the antireflection plate. For example, a prism array sheet, a lens array sheet, a light diffusing plate, a light guide plate, a diffusing sheet, a brightness enhancement film, and the like can be arranged in one or more layers at appropriate positions. In the liquid crystal display device of the present invention, a cold cathode tube, a mercury flat lamp, a light emitting diode, electroluminescence, or the like can be used as a backlight.
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、以下の実施例及び比較例においては、厚さ2.74μm、誘電異方性が正、波長550nmの複屈折率Δn=0.09884、プレチルト角90度のバーティカルアライメントモードの液晶セルを作製した。
また、実施例及び比較例において、測定及び評価は下記の方法によって行った。
(1)厚さ
光学積層板をエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム[大和光機工業(株)、RUB−2100]を用いて0.05μm厚にスライスし、透過型電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定する。光学積層板については、各層ごとに測定する。
(2)光学異方板の主屈折率
自動複屈折計[王子計測器(株)、KOBRA−21]を用いて、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、波長550nmの光によって、面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸方向と面内で垂直な方向の屈折率ny、厚さ方向の屈折率nzを測定する。
(3)レターデーション
高速分光エリプソメーター[J.A.Woollam社、M−2000U]を用いて、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、R0及びR40を測定する。
(4)視野角特性
液晶表示装置のディスプレイの画面の背景を黒表示にした状態で、その画面に白色文字を表示させて、正面方向と極角80度以内の斜め方向からの画面の表示を目視観察する。
○:白色文字が読み取れる
×:文字が読み取れない
(5)コントラスト比
液晶表示装置を周囲明るさ100ルクスの環境に設置し、表示画面の暗表示の時と明表示の時の、正面から5度の位置における輝度を色彩輝度計(トプコン社製、色彩輝度計BM−7)を用いて測定する。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比(=明表示の輝度/暗表示の輝度)を計算し、これをコントラスト(CR)とする。コントラスト(CR)が大きいほど、視認性に優れる。
(6)反射率
分光光度計[日本分光(株)、紫外可視近赤外分光光度計V−570]]を用い、入射角5度で反射スペクトルを測定し、波長550nmの光における反射率を求める。
(7)低屈折率層及び高屈折率層の屈折率
高速分光エリプソメーター[J.A.Woollam社、M−2000U]を用い、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、入射角度をそれぞれ55、60、65度として測定した場合の、波長領域400〜1000nmのスペクトルから算出する。
(8)耐擦傷性
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で表面を10往復させ、試験後の表面状態を目視で観察する。
○:傷が認められない
△:わずかに傷が見られる
×:傷が認められる
(9)視認性
液晶表示装置のディスプレイの画面を黒表示にした状態で、その画面の表示を目視観察し、以下の3段階評価を行う。
○:グレアや映り込みが見られない
△:グレアや映り込みが少し見られる
×:グレアや映り込みが見られる
(10)広帯域性
液晶表示装置を明るさ100ルクスの環境に設置し、反射色を目視観察する。
○:反射色が黒
×:反射色が青
(11)数平均分子量および重量平均分子量
ゲルパーミエーションクロマトグラフ[東ソー(株)、HLC8020]を用い、標準溶液で検量線を作成し、その換算値として測定する。
(12)防汚性
反射防止板表面にマジックインク(商品名:マッキー、ZEBRA社製)を付着させてから、セルロール製不織布(商品名:ベンコットM−3、旭化成社製)で拭き取ったときの状態を目視判定する。
○:完全に拭き取ることが出来る
×:拭き取り跡が残る
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the following Examples and Comparative Examples, a vertical alignment mode liquid crystal cell having a thickness of 2.74 μm, a positive dielectric anisotropy, a birefringence of Δn = 0.09884 at a wavelength of 550 nm, and a pretilt angle of 90 degrees was manufactured. did.
In Examples and Comparative Examples, measurement and evaluation were performed by the following methods.
(1) Thickness After embedding the optical laminate in epoxy resin, slice it to a thickness of 0.05 μm using a microtome [Daiwa Koki Kogyo Co., Ltd., RUB-2100], and cross section using a transmission electron microscope. Observe and measure. About an optical laminated board, it measures for every layer.
(2) Main refractive index of optical anisotropic plate Using an automatic birefringence meter [Oji Scientific Instruments Co., Ltd., KOBRA-21], under conditions of temperature 20 ° C. ± 2 ° C. and humidity 60 ± 5%, wavelength 550 nm the light, measuring the refractive indices n x in the slow axis direction in a plane, the refractive index n y in the slow axis direction and in-plane perpendicular directions in the plane, the refractive index n z in the thickness direction.
(3) Retardation High-speed spectroscopic ellipsometer [J. A. Using Woollam, M-2000U], R 0 and R 40 are measured under conditions of a temperature of 20 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 60 ± 5%.
(4) Viewing angle characteristics With the background of the screen of the liquid crystal display device set to black, white characters are displayed on the screen to display the screen from the front and diagonal directions within a polar angle of 80 degrees. Observe visually.
○: White characters can be read
×: Characters cannot be read (5) Contrast ratio The liquid crystal display device is installed in an environment with an ambient brightness of 100 lux, and the brightness at 5 degrees from the front when the display screen is dark and bright is displayed. It measures using a luminance meter (Topcon company make, color luminance meter BM-7). Then, the ratio between the brightness of bright display and the brightness of dark display (= brightness of bright display / brightness of dark display) is calculated, and this is used as contrast (CR). The greater the contrast (CR), the better the visibility.
(6) Reflectance Using a spectrophotometer [Nippon Bunko Co., Ltd., UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570]], the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 degrees, and the reflectance in light having a wavelength of 550 nm was measured. Ask.
(7) Refractive index of low refractive index layer and high refractive index layer High-speed spectroscopic ellipsometer [J. A. Woollam, M-2000U], spectrum at a wavelength range of 400 to 1000 nm when measured at 20 ° C. ± 2 ° C. and humidity 60 ± 5% at incident angles of 55, 60 and 65 degrees, respectively. Calculate from
(8) Scratch resistance The surface is reciprocated 10 times in a state where a load of 0.025 MPa is applied to steel wool # 0000, and the surface state after the test is visually observed.
○: Scratches are not recognized
Δ: Slightly scratched
X: Scratches are recognized (9) Visibility In the state where the display screen of the liquid crystal display device is black, the display on the screen is visually observed, and the following three-stage evaluation is performed.
○: No glare or reflection
Δ: Some glare and reflections can be seen
X: Glare and reflection can be seen (10) Broadband property A liquid crystal display device is installed in an environment with a brightness of 100 lux, and the reflected color is visually observed.
○: Reflection color is black
X: Reflection color is blue (11) number average molecular weight and weight average molecular weight A gel permeation chromatograph [Tosoh Corporation, HLC8020] is used to prepare a calibration curve with a standard solution and measured as a converted value.
(12) Antifouling property When a magic ink (trade name: McKee, manufactured by ZEBRA) is attached to the surface of the antireflection plate and then wiped with a cellulose nonwoven fabric (trade name: Bencott M-3, manufactured by Asahi Kasei). Visually judge the condition.
○: Can be completely wiped off
×: Wipe marks remain
(製造例1)(原反フィルムの作製)
ノルボルネン系重合体(商品名:ZEONOR 1420R、日本ゼオン社製、ガラス転移温度:136℃、飽和吸水率:0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて110℃で4時間乾燥した。そしてリーフディスク形状のポリマーフィルター(ろ過精度30μm)が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた平均表面粗さRa=0.04μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、前記ペレットを260℃で溶融押出しして厚み200μm、幅600mmの原反フィルムを得た。
(Production Example 1) (Preparation of raw film)
A pellet of a norbornene polymer (trade name: ZEONOR 1420R, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition temperature: 136 ° C., saturated water absorption: less than 0.01% by weight) is 110 using a hot air dryer in which air is circulated. Dry at 4 ° C. for 4 hours. Then, a short disk extrusion having a coat hanger type T-die having a lip width of 650 mm with an average surface roughness Ra = 0.04 μm, in which a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy of 30 μm) is installed, and the tip of the die lip is chrome-plated Using a machine, the pellets were melt extruded at 260 ° C. to obtain an original film having a thickness of 200 μm and a width of 600 mm.
(製造例2)(光学異方板1の作製)
製造例1で得られた原反フィルムを同時二軸延伸機により、オーブン温度(予熱温度、延伸温度、熱固定温度)138℃、フィルム繰り出し速度1m/分、チャックの移動精度±1%以内、縦延伸倍率1.41倍、横延伸倍率1.41倍で同時二軸延伸を行い、厚み100μmの光学異方板1を得た。得られた光学異方板1の主屈折率は、nx=1.53068、ny=1.53018、nz=1.52913であった。
(Production Example 2) (Production of optical anisotropic plate 1)
The raw film obtained in Production Example 1 was subjected to simultaneous biaxial stretching using an oven temperature (preheating temperature, stretching temperature, heat setting temperature) of 138 ° C., a film feeding speed of 1 m / min, and a chuck moving accuracy within ± 1%. Simultaneous biaxial stretching was performed at a longitudinal stretching ratio of 1.41 times and a lateral stretching ratio of 1.41 times to obtain an optical
(製造例3)(光学異方板2の作製)
製造例2において、オーブン温度を134℃にした他は、製造例2と同様の操作を行うことにより、厚み100μmの光学異方板2を得た。得られた光学異方板2の主屈折率は、nx=1.53108、ny=1.53038、nz=1.52853であった。
(Production Example 3) (Production of optical anisotropic plate 2)
An optical
(製造例4)(高屈折層形成用組成物H1の調製)
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NKオリゴ U−6HA、新中村化学社製)30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート(商品名:NK エステル IB、新中村化学社製)30部、スチレンビーズ(粒径3.5μm)5部、2,2−ジフェニルエタン−1−オン10部をホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子の40重量%MIBK溶液(平均粒子径20nm:水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に1つの割合で結合している。)を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層形成用塗工液全固形分の50重量%占める割合で混合して、高屈折率層形成用組成物H1を調製した。
(Production Example 4) (Preparation of composition H1 for forming a high refractive layer)
Hexafunctional urethane acrylate oligomer (trade name: NK Oligo U-6HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isoboronyl methacrylate (trade name: NK Ester IB, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, 5 parts of styrene beads (particle size 3.5 μm) and 10 parts of 2,2-diphenylethane-1-one were mixed with a homogenizer, and a 40 wt% MIBK solution of antimony pentoxide fine particles (average particle diameter 20 nm: the hydroxyl group is a pyrochlore structure) Are bonded at a ratio of 1 to the antimony atoms appearing on the surface of the coating layer in such a ratio that the weight of the antimony pentoxide fine particles accounts for 50% by weight of the total solids of the coating liquid for forming a high refractive index layer. A composition H1 for forming a high refractive index layer was prepared.
(製造例5)(低屈折率層形成用組成物L1の調整)
還流管を備えつけた4つ口反応フラスコにエタノール200部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸120部を少しずつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中に、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(化合物(b−1))50部、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン(化合物(b−2))50部、テトラメトキシシラン(化合物(b−3))10部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(アクリレート化合物(C))20部と2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(重合開始剤)5部を攪拌混合しながら滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を5時間続けた後冷却した。
次に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)(中空粒子(A))を、中空粒子(A)の割合が固形分基準で70重量%になるように添加し、メタノールにて固形分が1重量%になるように希釈することにより低屈折率層形成用組成物L1を調製した。
(Production Example 5) (Adjustment of composition L1 for forming a low refractive index layer)
200 parts of ethanol was put into a four-necked reaction flask equipped with a reflux tube, and 120 parts of oxalic acid was added little by little to this ethanol with stirring to prepare an ethanol solution of oxalic acid. The solution was then heated to its reflux temperature, and 50 parts of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (compound (b-1)), heptadecafluorooctylethyltrimethoxysilane (compound (b -2)) 50 parts, 10 parts tetramethoxysilane (compound (b-3)), 20 parts dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate compound (C)) and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1 -5 parts of ON (polymerization initiator) was added dropwise with stirring and mixing. Even after completion of the dropwise addition, heating was continued for 5 hours under reflux, followed by cooling.
Next, a hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., solid content 20% by weight, average primary particle diameter of about 35 nm, outer shell thickness of about 8 nm) (hollow particles (A)) Was added so that the solid content was 70% by weight, and diluted with methanol so that the solid content was 1% by weight, to prepare a composition L1 for forming a low refractive index layer.
(製造例6)(低屈折率層形成用組成物L2の調整)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりに、フッ素を含有のアクリレート化合物である3−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート(アクリレート化合物(C))20部を用いた以外は、製造例5と同様にして低屈折率層形成用組成物L2を調製した。
(Production Example 6) (Adjustment of composition L2 for forming a low refractive index layer)
Low refractive index in the same manner as in Production Example 5 except that 20 parts of 3- (perfluorooctyl) ethyl acrylate (acrylate compound (C)), which is a fluorine-containing acrylate compound, was used instead of dipentaerythritol hexaacrylate. A rate layer forming composition L2 was prepared.
(製造例7)(低屈折率層形成用組成物L3の調整)
ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン50部の代わりに、フルオロアルキル基を有しないシロキサンオリゴマーであるテトラメトキシシラン60部を用いた以外は、製造例5と同様にして低屈折率層形成用組成物L3を調製した。
(Production Example 7) (Adjustment of composition L3 for forming a low refractive index layer)
A composition for forming a low refractive index layer in the same manner as in Production Example 5, except that 60 parts of tetramethoxysilane which is a siloxane oligomer having no fluoroalkyl group is used instead of 50 parts of heptadecafluorooctylethyltrimethoxysilane. L3 was prepared.
(製造例8)(低屈折率層形成用組成物L4の調整)
テトラメトキシシラン152部にメタノール412部を加え、さらに水18部及び0.01Nの塩酸18部を混合し、これを、ディスパーを用いてよく混合した。この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して、重量平均分子量を850に調整することにより、シリコーンレジンを得た。次に、このシリコーンレジン溶液に、非中空粒子であるシリカメタノールゾル(日産化学工業社製、PMA−ST、平均粒子径10〜20nm)を、固形分基準で重量比が、シリカメタノールゾル/シリコーンレジン(縮合化合物換算)=80/20となるように添加し、さらに全固形分が3%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用組成物L4を調製した。
(Production Example 8) (Adjustment of composition L4 for forming a low refractive index layer)
412 parts of methanol was added to 152 parts of tetramethoxysilane, 18 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid were mixed, and this was mixed well using a disper. The mixture was stirred for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C., and the weight average molecular weight was adjusted to 850 to obtain a silicone resin. Next, silica methanol sol (Nissan Chemical Industries, Ltd., PMA-ST, average particle size of 10 to 20 nm), which is a non-hollow particle, is added to this silicone resin solution in a weight ratio of silica methanol sol / silicone based on solid content. The resin (condensed compound equivalent) was added so as to be 80/20, and further diluted with methanol so that the total solid content was 3%, to prepare a composition L4 for forming a low refractive index layer.
(製造例9)(偏光子の作製)
厚さ85μmのPVAフィルム[(株)クラレ、ビニロン#8500]をチャックに装着し、2.5倍延伸し、ヨウ素0.2g/Lとヨウ化カリウム60g/Lを含む水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/Lとヨウ化カリウム30g/Lを含む水溶液に浸漬し、その状態で6.0倍に一軸延伸して5分間保持した。最後に、室温で24時間乾燥し、平均厚さ30μmで、偏光度99.5%の偏光子を得た。
(Production Example 9) (Production of Polarizer)
A 85 μm-thick PVA film [Kuraray Co., Ltd., Vinylon # 8500] is attached to the chuck, stretched 2.5 times, and heated to 30 ° C. in an aqueous solution containing 0.2 g / L iodine and 60 g / L potassium iodide. And then immersed in an aqueous solution containing 70 g / L of boric acid and 30 g / L of potassium iodide, and uniaxially stretched 6.0 times in this state and held for 5 minutes. Finally, it was dried at room temperature for 24 hours to obtain a polarizer having an average thickness of 30 μm and a polarization degree of 99.5%.
(製造例10)(偏光子Pの作製)
トリアセチルセルロースフィルム[コニカミノルタ(株)、KC8UX2M]の一方の面に、水酸化カリウムの1.5モル/Lイソプロピルアルコール溶液を25mL/m2塗布し、25℃で5秒間乾燥した。次いで、流水で10秒洗浄し、25℃の空気を吹き付けることによりフィルムの表面を乾燥した。このようにして、トリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。
ケン化処理したフィルム表面が製造例9で得られた偏光子の片面に重なるようにして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥーロール法により貼り合わせて、偏光子の入射側面にトリアセチルセルロースフィルムを積層させ、偏光子Pを得た。
(Production Example 10) (Production of Polarizer P)
Triacetyl cellulose film [Konica Minolta (Ltd.), KC8UX2M] on one surface of a 1.5 mol / L isopropyl alcohol solution of potassium hydroxide 25 mL / m 2 was applied, and dried for 5 seconds at 25 ° C.. Next, the film was washed with running water for 10 seconds, and the surface of the film was dried by blowing air at 25 ° C. In this way, only one surface of the triacetylcellulose film was saponified.
The surface of the saponified film is laminated on one side of the polarizer obtained in Production Example 9 and bonded by a roll-to-roll method using a polyvinyl alcohol adhesive, and triacetylcellulose is applied to the incident side of the polarizer. Films were laminated to obtain a polarizer P.
(製造例11)(低屈折率層付偏光板(TAC基材)の作製)
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム(KC8UX2M)の一方の面に、1.5規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を25ml/m2塗布し、25℃で5秒間乾燥した。流水で10秒洗浄し、25℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにしてトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。
もう一方の面に、高周波発信機(春日電機社製 高周波電源AGI−024)を用いてコロナ放電処理を出力0.8KWにて行い、表面張力が0.055N/mの両面処理基材フィルムを得た。
次に、製造例4で得られた高屈折率層形成用組成物H1を、前記基材フィルムのコロナ放電処理をした面に、ダイコーターを用いて塗工し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm2)して、厚み5μmの高屈折率層を積層した、積層フィルム1Aを得た。高屈折率層の屈折率は1.62であった。
上記積層フィルム1Aの高屈折率層側に、製造例5で得られた低屈折率層形成用組成物L1を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、1時間放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、ついで皮膜側より積層フィルムに紫外線積算光量が400mJ/cm2になるように紫外線を照射し、厚み100nmの低屈折率層を積層した低屈折率層付基材(TAC基材)を得た。得られた低屈折率層付基材(TAC基材)のケン化処理した表面が製造例9で得られた偏光子の片面に重なる様にして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥーロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aを得た。鉛筆硬度は2Hであった。
(Production Example 11) (Preparation of polarizing plate with low refractive index layer (TAC substrate))
One side of a triacetyl cellulose film (KC8UX2M) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was coated with 25 ml / m 2 of 1.5 N potassium hydroxide in isopropyl alcohol and dried at 25 ° C. for 5 seconds. The surface of the film was dried by washing with running water for 10 seconds and blowing air at 25 ° C. In this way, only one surface of the triacetylcellulose film was saponified.
On the other side, a double-sided substrate film having a surface tension of 0.055 N / m is obtained by performing a corona discharge treatment with an output of 0.8 kW using a high-frequency transmitter (high-frequency power supply AGI-024 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.). Obtained.
Next, the composition H1 for forming a high refractive index layer obtained in Production Example 4 was applied to the surface of the base film subjected to corona discharge treatment using a die coater, and then dried in an oven at 80 ° C. And dried for 5 minutes to obtain a film. Then, the laminated film 1A which irradiated with the ultraviolet-ray (integrated irradiation amount 300mJ / cm < 2 >) and laminated | stacked the high refractive index layer of
The low refractive index layer-forming composition L1 obtained in Production Example 5 is applied to the laminated film 1A on the high refractive index layer side with a wire bar coater, and left to stand for 1 hour to dry. Is heated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere, and then the laminated film is irradiated with ultraviolet rays so that the cumulative amount of ultraviolet rays is 400 mJ / cm 2 from the coating side, and the low refractive index obtained by laminating a low refractive index layer having a thickness of 100 nm. A base material with a rate layer (TAC base material) was obtained. Roll-to-roll using a polyvinyl alcohol-based adhesive so that the saponified surface of the obtained base material with a low refractive index layer (TAC base material) overlaps one side of the polarizer obtained in Production Example 9. By laminating by the method, a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A was obtained. The pencil hardness was 2H.
(製造例12)(低屈折率層付偏光板(COP基材)の作製)
製造例1で得られた原反フィルムの両面に、高周波発信機(春日電機社製 高周波電源AGI−024)を用いてコロナ放電処理を出力0.8KWにて行い、表面張力が0.072N/mの基材フィルムを得た。
次に、製造例4で得られた高屈折率層形成用組成物H1を前記基材フィルムの片面に、ダイコーターを用いて塗工し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm2)して、厚み5μmの高屈折率層を積層した、積層フィルム1Bを得た。高屈折率層の屈折率は1.62であった。
上記積層フィルム1Bの高屈折率層側に、製造例5で得られた低屈折率層形成用組成物L2を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、1時間放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、ついで皮膜側より積層フィルムに紫外線積算光量が400mJ/cm2になるように紫外線を照射し、厚み100nmの低屈折率層を積層した、低屈折率層付基材(COP基材)を得た。得られた低屈折率層付基材(COP基材)の低屈折率層が積層されていない側の表面が製造例9で得られた偏光子の片面に重なる様にして、アクリル系接着剤を用いてロールトゥーロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを得た。鉛筆硬度はHであった。
(Production Example 12) (Preparation of polarizing plate with low refractive index layer (COP substrate))
On both surfaces of the raw film obtained in Production Example 1, corona discharge treatment was performed at a power of 0.8 KW using a high frequency transmitter (high frequency power supply AGI-024 manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.), and the surface tension was 0.072 N / m base film was obtained.
Next, the high refractive index layer forming composition H1 obtained in Production Example 4 was applied to one side of the base film using a die coater and dried in a drying furnace at 80 ° C. for 5 minutes. A coating was obtained. Then, the laminated film 1B which irradiated with the ultraviolet-ray (integrated irradiation amount 300mJ / cm < 2 >) and laminated | stacked the high refractive index layer of
The low refractive index layer-forming composition L2 obtained in Production Example 5 is applied to the high refractive index layer side of the laminated film 1B with a wire bar coater, left to stand for 1 hour, and dried. The film was heat treated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere, and then the laminated film was irradiated with ultraviolet rays so that the accumulated ultraviolet light amount was 400 mJ / cm 2 from the coating side, and a low refractive index layer having a thickness of 100 nm was laminated. A base material with a refractive index layer (COP base material) was obtained. Acrylic adhesive so that the surface of the obtained low refractive index layer-attached base material (COP base material) on which the low refractive index layer is not laminated overlaps one side of the polarizer obtained in Production Example 9. Were bonded together by a roll-to-roll method to obtain a polarizing plate with a low refractive index layer (COP substrate) 2C. The pencil hardness was H.
(実施例1)(液晶表示装置1の作製)
製造例2で得られた光学異方板1(光学異方板1aと称す)、VAモードの液晶セル(厚さ2.74μm、誘電異方性が正、波長550nm複屈折Δn=0.09884、プレチルト角90度)及び、もう一枚の光学異方板1 (光学異方板1bと称す)を、光学異方板1aの遅相軸と、光学異方板1bの遅相軸とが垂直になるように、この順に積層して、光学積層板1を作製した。
得られた光学積層板1の波長550nmの光が垂直入射したときのレターデーションR0は2nmであり、波長550nmの光が極角40度で入射したときのレターデーションR40は、13nmであった。|R40−R0|は、11nmであった。
次いで、製造例10で得られた偏光子Pを、偏光子Pの吸収軸と光学異方板1aの遅相軸とが垂直になり且つ保護フィルムが積層されていない面が光学異方板1aと接するように、光学積層板1と積層した。
さらに製造例11で得られた低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aを、光学異方板1bの遅相軸と低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの吸収軸とが垂直になり、且つ低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの低屈折率層が積層されていない面が光学異方板1bと接するように、光学積層板1と積層して、液晶表示装置1を作製した。この際、低屈折率層付偏光板が液晶表示装置の観察側になるようにした。作製した液晶表示装置1の評価結果を表1に示す。
Example 1 (Production of Liquid Crystal Display Device 1)
Optical
Retardation R 0 when light of wavelength 550nm is incident perpendicularly of the obtained
Subsequently, the surface of the polarizer P obtained in Production Example 10 in which the absorption axis of the polarizer P and the slow axis of the optical anisotropic plate 1a are perpendicular and the protective film is not laminated is the optical anisotropic plate 1a. And laminated with the optical
Furthermore, the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC base material) 2A obtained in Production Example 11 is compared with the slow axis of the optical anisotropic plate 1b and the absorption axis of the polarizing plate with low refractive index layer (TAC base material) 2A. Is laminated with the optical
(実施例2)(液晶表示装置2の作製)
製造例11において、低屈折率層形成用組成物L1に換えて、製造例6で得られた低屈折率層形成用組成物L2を用いた他は、製造例11と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Bを得た。
ついで実施例1において低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに換えて、この低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Bを用いた他は実施例1と同様の方法で液晶表示装置2を得た。作製した液晶表示装置2の評価結果を表1に示す。
(Example 2) (Production of liquid crystal display device 2)
In Production Example 11, the low refractive index layer-forming composition L2 obtained in Production Example 6 was used instead of the low refractive index layer-forming composition L1, and the low refractive index was produced in the same manner as in Production Example 11. A polarizing plate with a layer (TAC substrate) 2B was obtained.
Next, in Example 1, in place of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A, a liquid crystal was produced in the same manner as in Example 1 except that this polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2B was used. A
(実施例3)(液晶表示装置3の作製)
実施例1において低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに換えて、製造例12で得られた低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを用いた他は実施例1と同様の方法で液晶表示装置3を得た。作製した液晶表示装置3の評価結果を表1に示す。
(Example 3) (Production of liquid crystal display device 3)
Example 1 except that the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A obtained in Production Example 12 was used instead of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A in Example 1. A liquid
(実施例4)(液晶表示装置4の作製)
光学異方板1bの代わりに厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(nx=1.48020, ny=1.48014, nz=1.47967)を用い、光学異方板1aの代わりに製造例3で得られた光学異方板2を用いた他は、実施例1と同様の方法で光学積層板2を作製した。
得られた光学積層板2の波長550nmの光が垂直入射したときのレターデーションR0は65nmであり、波長550nmの光が極角40度で入射したときのレターデーションR40は、49nmであった。|R40−R0|は、16nmであった。
次いで、製造例10で得られた偏光子Pを、偏光子Pの吸収軸と光学異方板2の遅相軸とが垂直になり且つ保護フィルムが積層されていない面が光学異方板2と接するように、光学積層板2と積層した。
さらに製造例11で得られた低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aを、トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸と低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの吸収軸とが垂直になり、且つ低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの低屈折率層が積層されていない面がトリアセチルセルロースフィルムと接するように、光学積層板2と積層して、液晶表示装置4を作製した。この際、低屈折率層付偏光板が液晶表示装置の観察側になるようにした。作製した液晶表示装置4の評価結果を表1に示す。
Example 4 (Production of liquid crystal display device 4)
Instead of the optical anisotropic plate 1b, a triacetylcellulose film (nx = 1.48020, ny = 1.48014, nz = 1.479967) having a thickness of 80 μm was used, and in Production Example 3 instead of the optical anisotropic plate 1a, An optical
The resulting retardation R 0 when light of wavelength 550nm is incident perpendicularly of the
Next, the surface of the polarizer P obtained in Production Example 10 in which the absorption axis of the polarizer P and the slow axis of the optical
Furthermore, the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC base material) 2A obtained in Production Example 11 is composed of the slow axis of the triacetyl cellulose film and the absorption axis of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC base material) 2A. The liquid crystal display is laminated with the optical
(実施例5)(液晶表示装置5の作製)
実施例4で得られた光学積層板2と、製造例10で得られた偏光子Pを、偏光子Pの吸収軸と光学異方板2の遅相軸とが垂直になり、且つ保護フィルムが積層されていない面が光学異方板2と接するように積層した。
さらに光学積層板2と、製造例12で得られた低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを、トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸と低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cの吸収軸とが垂直になり、且つ低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cの低屈折率層が積層されていない面がトリアセチルセルロースフィルムと接するように積層して、液晶表示装置5を作製した。この際、低屈折率層付偏光板が液晶表示装置の観察側になるようにした。作製した液晶表示装置5の評価結果を表1に示す。
Example 5 (Production of liquid crystal display device 5)
In the optical
Further, the optical
(比較例1)(液晶表示装置6の作製)
光学異方板1a及び1bの代わりに、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(nx=1.48020、ny=1.48014、nz=1.47967)を1枚ずつ用いた他は、実施例1と同様の方法で光学積層板3を作製した。
得られた光学積層体3の波長550nmの光が垂直入射したときのレターデーションR0は3nmであり、波長550nmの光が極角40度で入射したときのレターデーションR40は、41nmであった。|R40−R0|は、38nmであった。
次いで、光学積層板2と、製造例13で得られた偏光子Pを、偏光子Pの吸収軸とトリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とが垂直になり且つ保護フィルムが積層されていない面がトリアセチルセルロースフィルムと接するように積層した。
さらに光学積層板2と、製造例14で得られた低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aを、トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸と低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの吸収軸とが垂直になり、且つ低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aの低屈折率層が積層されていない面がトリアセチルセルロースフィルムと接するように積層して、液晶表示装置6を作製した。この際、低屈折率層付偏光板が液晶表示装置の観察側になるようにした。作製した液晶表示装置6の評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) (Production of liquid crystal display device 6)
Instead of the optically anisotropic plates 1a and 1b, a triacetyl cellulose film (n x = 1.48020, n y = 1.48014, n z = 1.479967) having a thickness of 80 μm was used one by one. An optical
Retardation R 0 when light of wavelength 550nm is incident perpendicularly of the obtained
Next, the surface of the
Further, the
(比較例2)(液晶表示装置7の作製)
製造例11において、低屈折率層形成用組成物L1に代えて、製造例7で得られた低屈折率層形成用組成物L3を用いた他は、製造例11と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Dを得た。
次いで、実施例1において低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに代えて、この低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Dを用いた他は、実施例1と同様の方法で液晶表示装置7を作製した。得られた液晶表示装置7の評価結果を、第1表に示す。
(Comparative Example 2) (Production of liquid crystal display device 7)
In Production Example 11, the low refractive index layer-forming composition L3 obtained in Production Example 7 was used in place of the low refractive index layer-forming composition L1, and the low refractive index was produced in the same manner as in Production Example 11. A layered polarizing plate (TAC substrate) 2D was obtained.
Next, the same method as in Example 1 except that this polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2D was used instead of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A in Example 1. Thus, a liquid crystal display device 7 was produced. The evaluation results of the obtained liquid crystal display device 7 are shown in Table 1.
(比較例3)(液晶表示装置8の作製)
製造例11において、低屈折率層形成用組成物L1に代えて、製造例8で得られた低屈折率層形成用組成物L4を用いた他は、製造例11と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Eを作製した。
次いで、実施例1における低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに代えて、この低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Eを用いた他は、実施例1と同様の方法で液晶表示装置8を作製した。得られた液晶表示装置8の評価結果を、第1表に示す。
(Comparative Example 3) (Production of liquid crystal display device 8)
In Production Example 11, the low refractive index layer-forming composition L4 obtained in Production Example 8 was used in place of the low refractive index layer-forming composition L1, and the low refractive index was produced in the same manner as in Production Example 11. A layered polarizing plate (TAC substrate) 2E was produced.
Next, the same method as in Example 1 except that this polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2E was used instead of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A in Example 1. Thus, a liquid crystal display device 8 was produced. The evaluation results of the obtained liquid crystal display device 8 are shown in Table 1.
1,11…偏光子、2,12…光学異方板、3,13…液晶セル、4,14…光学異方板、5,15…偏光子、6,15…反射防止板
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記二軸性光学異方板のそれぞれの面内の主屈折率をnx、ny(ただし、nx>nyである。)、厚さ方向の主屈折率をnzとしたとき、
nx>ny>nz
の関係を満たし、
全枚数の前記二軸性光学異方板と、前記液晶セルとを積層してなる光学積層板(O)において、電圧無印加時に波長550nmの光が法線方向から入射したときのレターデーションをR0、波長550nmの光が極角40度の方向から入射したときのレターデーションをR40を測定したときに、
|R40−R0|≦35nm
の関係を満たし、且つ、
前記出射側偏光子の観察側に反射防止板を備え、
この反射防止板が、
粒径が5〜2000nmの中空粒子(A)、
(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー(B)、及び、
(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物(C)
を含む組成物の硬化膜からなる低屈折率層を有することを特徴とする液晶表示装置。 Between a pair of polarizers composed of an output-side polarizer and an incident-side polarizer whose absorption axes are substantially perpendicular to each other, i (i is an integer of 1 or more) biaxial optics A vertical alignment mode liquid crystal display device having an anisotropic plate and a liquid crystal cell,
Wherein the principal refractive indices n x in each side of the biaxial optical anisotropic plate, n y (provided that n x> n y.), When the main refractive index in the thickness direction is n z,
nx > ny > nz
Satisfy the relationship
In the optical laminated plate (O) formed by laminating all the biaxial optical anisotropic plates and the liquid crystal cell, retardation is obtained when light having a wavelength of 550 nm is incident from the normal direction when no voltage is applied. R 0, the retardation when light having a wavelength of 550nm is incident from the direction of the polar angle of 40 degrees when measuring the R 40,
| R 40 -R 0 | ≦ 35 nm
And satisfy the relationship
An antireflection plate is provided on the observation side of the output side polarizer,
This anti-reflection plate
Hollow particles (A) having a particle size of 5 to 2000 nm,
A siloxane oligomer (B) having a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group, and
Acrylate compound (C) having (meth) acryloyl group
A liquid crystal display device comprising a low refractive index layer comprising a cured film of a composition comprising:
2. The no-voltage application state, the absorption axis of the exit-side polarizer or the absorption axis of the entrance-side polarizer and the in-plane slow axis of the optical laminated plate (O) are substantially parallel or substantially perpendicular. Or the liquid crystal display device of 2.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005222177A JP2007041073A (en) | 2005-07-29 | 2005-07-29 | Liquid crystal display |
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Publication Number | Publication Date |
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ID=37799138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2007041073A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009017197A1 (en) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Process for producing antireflection base and antireflection base |
WO2009038100A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing retardation film |
JP2010015038A (en) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal display device |
JP2013205500A (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Nippon Zeon Co Ltd | Method for manufacturing retardation plate |
-
2005
- 2005-07-29 JP JP2005222177A patent/JP2007041073A/en active Pending
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