JP2007041334A - Liquid crystal display - Google Patents
Liquid crystal display Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007041334A JP2007041334A JP2005226143A JP2005226143A JP2007041334A JP 2007041334 A JP2007041334 A JP 2007041334A JP 2005226143 A JP2005226143 A JP 2005226143A JP 2005226143 A JP2005226143 A JP 2005226143A JP 2007041334 A JP2007041334 A JP 2007041334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- liquid crystal
- index layer
- crystal display
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 118
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 104
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 57
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 22
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims abstract description 21
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 71
- -1 Acrylate compound Chemical class 0.000 claims description 64
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 35
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 abstract description 12
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 177
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 33
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 11
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 11
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 7
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000005268 rod-like liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000002345 steroid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(C=C)C=C1 CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-(1,2,2-trifluoroethenoxy)propane Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJCRKROKIPREU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F HNJCRKROKIPREU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)F BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCIOJVGOBKXQPK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-3-propoxypropane Chemical compound CCCOCCCOC=C WCIOJVGOBKXQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRFNSWBVXHLTCI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]benzene Chemical compound CC(C)(C)OC1=CC=C(C=C)C=C1 GRFNSWBVXHLTCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylcyclohexane-1-carbonitrile Chemical class C=1C=CC=CC=1C1(C#N)CCCCC1 AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- HLLGFGBLKOIZOM-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylacetaldehyde Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=O)C1=CC=CC=C1 HLLGFGBLKOIZOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1,4-dioxane Chemical class C1OCCOC1C1=CC=CC=C1 WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyrimidine Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC=CC=N1 OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C=C UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXABMDQSAABDMG-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOC=C ZXABMDQSAABDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000283070 Equus zebra Species 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N O-silylhydroxylamine Chemical class NO[SiH3] YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical class C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- QTECILHCKMCIFT-UHFFFAOYSA-N ethyl-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononoxy)-dimethoxysilane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QTECILHCKMCIFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- OPYYWWIJPHKUDZ-UHFFFAOYSA-N phenyl cyclohexanecarboxylate Chemical class C1CCCCC1C(=O)OC1=CC=CC=C1 OPYYWWIJPHKUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N propoxysilane Chemical compound CCCO[SiH3] ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical class CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000000391 spectroscopic ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- PMQIWLWDLURJOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F PMQIWLWDLURJOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C=C WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】十分な反射防止性能を有し、表面の耐擦傷性および防汚性に優れる、反射型または半透過型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子をこの順に有する。光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下である。出射側偏光子の光学異方体とは反対側に反射防止体が設けられる。反射防止体は、(A)粒径が5〜2000nmの中空粒子、(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー、および(C)(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物を含んでなる組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備える。
【選択図】なしA reflective or transflective liquid crystal display device having sufficient antireflection performance and excellent surface scratch resistance and antifouling properties is provided.
A liquid crystal display device has a liquid crystal cell, an optical anisotropic body, and an exit-side polarizer in this order toward the viewing side. The optical anisotropic body has a ratio Re (450) / Re (550) of an in-plane retardation value Re (550) measured at a wavelength of 550 nm and an in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm of 1. 007 or less. An antireflection body is provided on the side opposite to the optical anisotropic body of the output side polarizer. The antireflective body comprises (A) hollow particles having a particle size of 5 to 2000 nm, (siloxane) oligomers having (meth) acryloyl groups and fluoroalkyl groups, and (C) acrylate compounds having (meth) acryloyl groups. A low refractive index layer made of a cured film formed from a product is provided.
[Selection figure] None
Description
本発明は、反射型または半透過型の液晶表示装置に関し、特に、反射防止性能を有し、耐擦傷性および防汚性に優れる、反射型または半透過型の液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a reflective or transflective liquid crystal display device, and more particularly to a reflective or transflective liquid crystal display device having antireflection performance and excellent scratch resistance and antifouling properties.
近年、液晶表示装置は、その薄型・軽量という特徴を活かして、携帯情報端末のディスプレイとしての利用に期待が高まっている。携帯情報端末は、通常バッテリーで駆動するため、なるべく消費電力を抑えることが重要となる。そこで、携帯情報端末の液晶表示装置には、電力消費の大きなバックライトを使用しない反射型のものや、バックライトを必要に応じて使用する半透過型のものが注目されている。 In recent years, liquid crystal display devices have been expected to be used as displays for portable information terminals by taking advantage of their thinness and light weight. Since a portable information terminal is normally driven by a battery, it is important to suppress power consumption as much as possible. Therefore, attention is paid to a liquid crystal display device of a portable information terminal that is a reflective type that does not use a backlight with high power consumption or a transflective type that uses a backlight as necessary.
反射型の液晶表示装置では、表示面側から入射される外光を利用しているため、暗い環境下で用いた場合には表示画面が見えにくいという欠点がある。このため、反射型の液晶表示装置において、反射板の代わりに入射光の一部を透過する半透過反射板を使用することにより、バックライトとともに、外光を利用して、表示する半透過型の液晶表示装置が提案されている。このような半透過型の液晶表示装置は、バックライト非点灯の際には、外光を利用した反射型(反射モード)として機能し、暗い環境下でのバックライト点灯の際には、バックライトの光を利用した透過型(透過モード)として機能する。 Since the reflective liquid crystal display device uses external light incident from the display surface side, there is a drawback that the display screen is difficult to see when used in a dark environment. For this reason, in a reflective liquid crystal display device, by using a transflective reflector that transmits a part of incident light instead of a reflector, a transflective display that uses external light together with a backlight A liquid crystal display device has been proposed. Such a transflective liquid crystal display device functions as a reflective type (reflection mode) using external light when the backlight is not lit, and when the backlight is lit in a dark environment. It functions as a transmission type (transmission mode) using light of light.
このような液晶表示装置では、カラー化・高精細化の流れの中で表示品位の高いものが求められている。このため、効率的に光を取り込んで輝度向上を図り、また、光漏れによる白ボケをなくしてコントラストを向上させることが課題となっている。しかしながら、これらの点を改善したとしても、外光の一部が表示装置の表面で反射して、表示画面のぎらつきや、映り込みによる表示品位の低下を起こすことがある。そこで、これらの表面反射を防止するために、表示装置には、防眩処理や、反射防止処理が施される場合がある。 Such a liquid crystal display device is required to have a high display quality in the trend of colorization and high definition. For this reason, it has been a problem to improve brightness by capturing light efficiently and to eliminate white blur due to light leakage. However, even if these points are improved, part of the external light may be reflected on the surface of the display device, causing glare on the display screen and deterioration of display quality due to reflection. Therefore, in order to prevent these surface reflections, the display device may be subjected to an antiglare treatment or an antireflection treatment.
具体的に、防眩処理としては、例えば、液晶表示装置の画面の表面に凸形状を有する防眩層を形成する技術が利用されている(特許文献1)。また、反射防止処理としては、例えば、複数の無機酸化物からなる反射防止体を画面の表面に形成する技術(特許文献2,3)が開示されている。 Specifically, as the antiglare treatment, for example, a technique of forming an antiglare layer having a convex shape on the surface of the screen of a liquid crystal display device is used (Patent Document 1). Further, as the antireflection treatment, for example, techniques for forming an antireflection body made of a plurality of inorganic oxides on the surface of the screen (Patent Documents 2 and 3) are disclosed.
しかしながら、特許文献1に示すように、画面の表面に凸形状を有する防眩層を形成する場合には、この凸形状の部分において、画面の後方へ光散乱が生じてしまい、この光散乱がコントラストを低下させる場合がある。
また、特許文献2,3に示すような反射防止体では、コントラストへの悪影響を抑えることができるものの、必ずしも十分に光線反射を防止できないという問題がある。さらに、この場合には、反射防止体と基板との間での密着性が不十分な場合があるため、表面の耐擦傷性の向上が求められている。また、反射防止体の表面では、より一層の防汚性の向上が求められている。
However, as shown in Patent Document 1, when an antiglare layer having a convex shape is formed on the surface of the screen, light scattering occurs at the rear of the screen in the convex portion. Contrast may be reduced.
In addition, the antireflectors as shown in Patent Documents 2 and 3 have a problem that the adverse effect on the contrast can be suppressed, but the light reflection cannot be sufficiently prevented. Furthermore, in this case, since the adhesion between the antireflection body and the substrate may be insufficient, an improvement in the scratch resistance of the surface is required. Further, on the surface of the antireflection body, further improvement in antifouling properties is required.
本発明の目的は、十分な反射防止性能を有するとともに、表面の耐擦傷性および防汚性に優れた、反射型または半透過型の液晶表示装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a reflective or transflective liquid crystal display device having sufficient antireflection performance and excellent surface scratch resistance and antifouling properties.
本発明者は、上記問題点に鑑みて鋭意検討した結果、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体が少なくとも所定の化合物を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備える、反射型又は半透過型の液晶表示装置を構成することにより、反射防止性能に加えて、耐擦傷性に優れることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor is a liquid crystal display device having a liquid crystal cell, an optical anisotropic body, and an exit-side polarizer in this order toward the viewing side. The rectangular solid has a ratio Re (450) / Re (550) of in-plane retardation value Re (550) measured at a wavelength of 550 nm and in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm of 1.007 or less. An antireflection body is provided on the opposite side of the output side polarizer from the optical anisotropic body, and the antireflection body includes at least a predetermined compound. Based on this finding, it was found that by forming a reflective or transflective liquid crystal display device comprising a low refractive index layer formed of a cured film to be formed, in addition to antireflection performance, it has excellent scratch resistance. The present invention This has led to the formation.
すなわち、本発明は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分(A)、(B)、および(C)を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備えることを特徴とする。
(A)粒径が5〜2000nmの中空粒子
(B)(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
(C)(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物
That is, the present invention is a liquid crystal display device having a liquid crystal cell, an optical anisotropic body, and an output side polarizer in this order toward the viewing side, and the optical anisotropic body is a surface measured at a wavelength of 550 nm. The ratio Re (450) / Re (550) of the in-plane retardation value Re (550) and the in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm is 1.007 or less, and On the side opposite to the optical anisotropic body, an antireflection body is provided, and the antireflection body comprises the following components (A), (B), and (C): a composition for forming a low refractive index layer A low-refractive-index layer made of a cured film formed from the above is provided.
(A) Hollow particles having a particle size of 5 to 2000 nm (B) Siloxane oligomer having (meth) acryloyl group and fluoroalkyl group (C) Acrylate compound having (meth) acryloyl group
ここで、前記低屈折率層形成用組成物が、架橋性化合物を含有することが好ましい。また、前記低屈折率層の屈折率が1.40以下であり、かつ、前記低屈折率層に隣接する層との屈折率の差が0.05〜0.4であることが好ましい。 Here, it is preferable that the composition for forming a low refractive index layer contains a crosslinkable compound. Moreover, it is preferable that the refractive index of the said low refractive index layer is 1.40 or less, and the refractive index difference with the layer adjacent to the said low refractive index layer is 0.05-0.4.
また、前記反射防止体は、前記低屈折率層の前記出射側偏光子側に積層された高屈折率層を備え、前記高屈折率層の屈折率が1.55以上であることが好ましい。この際、前記高屈折率層には、防眩性機能が設けられていることが好ましい。 The antireflector preferably includes a high refractive index layer laminated on the output side polarizer side of the low refractive index layer, and the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 or more. At this time, the high refractive index layer is preferably provided with an antiglare function.
本発明の反射型または半透過型の液晶表示装置によれば、十分な反射防止性能を有し、表面の耐擦傷性に優れるという効果がある。また、本発明の液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、PDA、携帯型ゲーム機等の携帯情報端末用のディスプレイとして好適である。 According to the reflective or transflective liquid crystal display device of the present invention, there are the effects of having sufficient antireflection performance and excellent surface scratch resistance. The liquid crystal display device of the present invention is suitable as a display for a portable information terminal such as a personal computer, a mobile phone, a PDA, or a portable game machine.
本発明は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分(A)、(B)、および(C)を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される低屈折率層を備えることを特徴とする。
(A)粒径が5〜2000nmの中空粒子
(B)(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
(C)(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物
The present invention is a liquid crystal display device having a liquid crystal cell, an optical anisotropic body, and an output side polarizer in this order toward the viewing side, wherein the optical anisotropic body has an in-plane letter measured at a wavelength of 550 nm. The ratio Re (450) / Re (550) between the retardation value Re (550) and the in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm is 1.007 or less, and the optical difference of the output side polarizer is An antireflection body is provided on the side opposite to the rectangular parallelepiped, and the antireflection body is formed from a composition for forming a low refractive index layer comprising the following components (A), (B), and (C). The low refractive index layer is provided.
(A) Hollow particles having a particle size of 5 to 2000 nm (B) Siloxane oligomer having (meth) acryloyl group and fluoroalkyl group (C) Acrylate compound having (meth) acryloyl group
<液晶セル>
本発明に用いる液晶セルは、反射機能のない透明電極基板(以下、第1基板と称すことがある。)と、反射機能を全面又は一部に有する透明電極基板(以下、第2基板と称することがある。)と、これら2枚の透明電極基板間に封入された液晶性化合物とを備えている。透明電極基板として、全面に反射機能を有するものを用いた場合には、得られる液晶表示装置は反射型の液晶表示装置となり、透明電極基板として、一部に反射機能を有する基板を用いた場合には、得られる液晶表示装置は半透過型の液晶表示装置となる。
<Liquid crystal cell>
The liquid crystal cell used in the present invention includes a transparent electrode substrate having no reflection function (hereinafter sometimes referred to as a first substrate) and a transparent electrode substrate having a reflection function on the entire surface or a portion thereof (hereinafter referred to as a second substrate). And a liquid crystalline compound sealed between these two transparent electrode substrates. When a transparent electrode substrate having a reflective function on the entire surface is used, the obtained liquid crystal display device is a reflective liquid crystal display device, and a substrate having a reflective function is used as a part of the transparent electrode substrate. The obtained liquid crystal display device is a transflective liquid crystal display device.
このような反射機能を有する基板を形成するためには、一般的には、第2基板に反射板が設けられる。この反射板としては、例えば、金属板が好ましく、この際、金属板の表面には、凹凸構造(特許2756206号参照)が設けられることがより好ましい。反射板の表面が平滑である場合には、正反射成分のみが反射されて視野角が狭くなる場合があるからである。なお、半透過型の液晶表示装置の場合には、第2基板には、光を透過する機能と光を反射する機能とが備えられる。 In order to form a substrate having such a reflection function, a reflection plate is generally provided on the second substrate. As this reflecting plate, for example, a metal plate is preferable, and in this case, it is more preferable that an uneven structure (see Japanese Patent No. 2756206) is provided on the surface of the metal plate. This is because when the surface of the reflecting plate is smooth, only the regular reflection component is reflected and the viewing angle may be narrowed. In the case of a transflective liquid crystal display device, the second substrate is provided with a function of transmitting light and a function of reflecting light.
このような液晶セルとしては、封入する液晶性化合物の種類や、液晶性化合物の動作方式等によっては限定されない。例えば、動作方式としては、TN(Twisted Nematic)方式、STN(SuperTwisted Nematic)方式、ECB(Electrically Controlled Birefringence)方式、IPS(In-Plane Switching)方式、VA(Vertical Alignment)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式、HAN(Hybrid Aligned Nematic)方式、およびASM(Axially Symmetric Aligned Microcell)方式などを用いることができる。さらに、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、および反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式を採用できる。 Such a liquid crystal cell is not limited by the type of liquid crystal compound to be sealed, the operation method of the liquid crystal compound, and the like. For example, TN (Twisted Nematic) method, STN (Super Twisted Nematic) method, ECB (Electrically Controlled Birefringence) method, IPS (In-Plane Switching) method, VA (Vertical Alignment) method, OCB (Optically Compensated Birefringence) ) Method, HAN (Hybrid Aligned Nematic) method, ASM (Axially Symmetric Aligned Microcell) method, and the like. Further, various methods such as a halftone gray scale method, a domain division method, a display method using a ferroelectric liquid crystal, and an antiferroelectric liquid crystal can be employed.
<出射側偏光子>
本発明の出射側偏光子は、自然光から直線偏光を取り出すことができる。出射側偏光子としては、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜を利用できる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムにより製造される。偏光子の厚みは、特に制限はないものの、例えば、5〜80μmが好ましい。
<Output-side polarizer>
The output side polarizer of the present invention can extract linearly polarized light from natural light. As the exit side polarizer, for example, an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, or a polyene polarizing film can be used. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film are generally produced from a polyvinyl alcohol film. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a polarizer, For example, 5-80 micrometers is preferable.
半透過型の液晶表示装置では、液晶セルの第2基板側に入射側偏光子がさらに設けられる。つまり、出射側偏光子と入射側偏光子との間に液晶セルが配置されることになる。入射側偏光子は、出射側偏光子と同じ機能・構成を備えている。半透過型の液晶表示装置では、出射側偏光子の透過軸と、入射側偏光子の透過軸とが、略垂直となるように配置されることが好ましい。 In the transflective liquid crystal display device, an incident side polarizer is further provided on the second substrate side of the liquid crystal cell. That is, the liquid crystal cell is disposed between the exit side polarizer and the entrance side polarizer. The incident side polarizer has the same function and configuration as the output side polarizer. In the transflective liquid crystal display device, it is preferable that the transmission axis of the exit-side polarizer and the transmission axis of the incident-side polarizer are arranged so as to be substantially perpendicular.
<光学異方体>
本発明の光学異方体としては、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下であり、好ましくは1.006以下である。比Re(450)/Re(550)の下限は好ましくは0.5、より好ましくは0.7である。Re(450)/Re(550)が前記範囲に入る光学異方体を備えることにより、液晶表示装置では、発色のよいカラー表示を得ることができる。
<Optical anisotropic body>
As an optical anisotropic body of the present invention, a ratio Re (450) / Re (550) between an in-plane retardation value Re (550) measured at a wavelength of 550 nm and an in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm. ) Is 1.007 or less, preferably 1.006 or less. The lower limit of the ratio Re (450) / Re (550) is preferably 0.5, more preferably 0.7. By providing the optical anisotropic body in which Re (450) / Re (550) falls within the above range, the liquid crystal display device can obtain a color display with good color development.
なお、レターデーションには、フィルム面内のレターデーション(Re)とフィルム厚さ方向のレターデーション(Rth)がある。フィルム面内のレターデーション(Re)は、フィルム面内の主屈折率をnx、nyとし、フィルムの厚さをd(nm)とすると、Re=(nx-ny)×dで求めることができる。フィルム厚さ方向のレターデーション(Rth)は、フィルム面内の主屈折率をnx、nyとし、フィルム厚さ方向の屈折率をnz、フィルムの厚さをd(nm)とすると、Rth={(nx+ny)/2-nz}×dで求めることができる。Re及びRthは、市販の自動複屈折計(王子計測社製、「KOBRA-21ADH」)を用いて測定できる。 Retardation includes retardation in the film plane (Re) and retardation in the film thickness direction (Rth). Retardation (Re) in the film plane can be obtained by Re = (nx−ny) × d, where the main refractive index in the film plane is nx, ny, and the thickness of the film is d (nm). . Retardation (Rth) in the film thickness direction is defined as follows: Rx = {ny} where ny is the main refractive index in the film plane, nz is the refractive index in the film thickness direction, and d (nm) is the film thickness (Nx + ny) / 2−nz} × d. Re and Rth can be measured using a commercially available automatic birefringence meter (“KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments).
前記光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーションRe(550)が125〜150nmであることが好ましい。また、前記光学異方体は、可視域全体における波長λでのレタ-デーションRe(λ)と波長λの比Re(λ)/λが通常0.22〜0.28、好ましくは0.23〜0.27、より好ましくは0.24〜0.26の範囲である。 The optical anisotropic body preferably has an in-plane retardation Re (550) measured at a wavelength of 550 nm of 125 to 150 nm. The optical anisotropic body has a ratio Re (λ) / λ of retardation Re (λ) and wavelength λ at the wavelength λ in the entire visible range, usually 0.22 to 0.28, preferably 0.23. It is -0.27, More preferably, it is the range of 0.24-0.26.
前記光学異方体は、上記特性を有するものであれば、単層構造のものであっても積層構造のものであってもよい。例えば、好適な光学異方体として、1/4波長板と1/2波長板とをその遅相軸の方向をずらして重ね合わせた光学異方体が挙げられる。ここで、1/4波長板は、波長550nmで測定したレターデーションが125〜150nmの光学異方体である。1/2波長板は波長550nmで測定したレターデーションが250〜300nmの光学異方体である。 The optical anisotropic body may have a single-layer structure or a laminated structure as long as it has the above characteristics. For example, a suitable optical anisotropic body includes an optical anisotropic body in which a quarter-wave plate and a half-wave plate are overlapped with their slow axis directions shifted. Here, the quarter-wave plate is an optical anisotropic body having a retardation measured at a wavelength of 550 nm of 125 to 150 nm. The half-wave plate is an optically anisotropic body having a retardation measured at a wavelength of 550 nm and 250 to 300 nm.
1/4波長板や1/2波長板等の光学異方体は、透明樹脂フィルムを延伸配向することによって得ることができる。光学異方体の遅相軸は、通常、その延伸方向、またはそれと直交する方向に生じる。透明樹脂の延伸で得られた1/4波長板と1/2波長板の遅相軸交差角は好ましくは56°〜62°、より好ましくは57°〜61°である。遅相軸交差角が、上記範囲にあると、広帯域性に優れた光学異方体が得られる。なお、遅相軸とは、直線偏光を入射させた際に、位相の遅れが最大になる方向である。 Optical anisotropic bodies such as quarter-wave plates and half-wave plates can be obtained by stretching and orienting a transparent resin film. The slow axis of the optical anisotropic body usually occurs in the stretching direction or a direction perpendicular thereto. The slow axis crossing angle of the quarter-wave plate and half-wave plate obtained by stretching the transparent resin is preferably 56 ° to 62 °, more preferably 57 ° to 61 °. When the slow axis crossing angle is in the above range, an optical anisotropic body excellent in broadband property can be obtained. Note that the slow axis is the direction in which the phase delay becomes maximum when linearly polarized light is incident.
1/4波長板や1/2波長板に用いる透明樹脂フィルムは、1mm厚における全光線透過率が80%以上の樹脂により構成されることが好ましい。このような樹脂としては、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、およびポリビニルアルコール系重合体などの正の固有複屈折を有する樹脂;ビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体、ポリメチルメタクリレート系重合体、セルロースエステル系重合体、などの負の固有複屈折を有する樹脂を挙げることができる。なお、これらは2種以上を組み合わせて、あるいは単独で使用できる。 The transparent resin film used for the quarter wavelength plate or the half wavelength plate is preferably composed of a resin having a total light transmittance of 80% or more at a thickness of 1 mm. Examples of such resins include polymer resins having an alicyclic structure, chain olefin polymers such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate polymers, polyester polymers, polysulfone polymers, and polyethersulfone polymers. Polymers and resins having positive intrinsic birefringence such as polyvinyl alcohol polymers; negative polymers such as vinyl aromatic polymers, polyacrylonitrile polymers, polymethyl methacrylate polymers, cellulose ester polymers, etc. A resin having intrinsic birefringence can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
正の固有複屈折を有する樹脂の中では、脂環式構造を有する重合体樹脂や鎖状オレフィン系重合体が好ましく、特に透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などに優れるので脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、およびビニル脂環式炭化水素重合体を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なので好適に用いることができる。ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との開環共重合体及びこれら重合体の水素添加物;ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との付加共重合体及びこれらの重合体の水素添加物などを挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系単量体の開環重合体又は開環共重合体の水素添加物は、透明性に優れるので、特に好ましい。 Among the resins having positive intrinsic birefringence, polymer resins and chain olefin polymers having an alicyclic structure are preferable, and particularly excellent in transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, light weight, and the like. A polymer resin having a cyclic structure is preferred. Examples of the polymer resin having an alicyclic structure include a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, and a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer. Among these, norbornene-based polymers can be suitably used because they have good transparency and moldability. Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a norbornene-based monomer, a ring-opening copolymer of a norbornene-based monomer and another monomer, and a hydrogenated product of these polymers; Examples include addition polymers of monomers, addition copolymers of norbornene monomers and other monomers, and hydrogenated products of these polymers. Among these, a hydrogenated product of a ring-opening polymer or a ring-opening copolymer of a norbornene monomer is particularly preferable because it is excellent in transparency.
負の固有複屈折を有する樹脂の中では、ビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体およびポリメチルメタクリレート系重合体の中から選択される少なくとも1種が好ましい。中でも複屈折発現性が高いという観点から、ビニル芳香族系重合体がより好ましい。ビニル芳香族系重合体とは、ビニル芳香族単量体の重合体、又はビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体との共重合体をいう。ビニル芳香族単量体としては、スチレン;4-メチルスチレン、4-クロロスチレン、3-メチルスチレン、4-メトキシスチレン、4-tert-ブトキシスチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン誘導体;などが挙げられる。これらを単独で使用しても2種以上併用してもよい。ビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体としては、プロピレン、ブテン等のオレフィン;アクリロニトリル等のα,β―エチレン性不飽和ニトリル単量体;アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等のα,β―エチレン性不飽和カルボン酸;アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル;マレイミド;酢酸ビニル;塩化ビニル;などが挙げられる。ビニル芳香族系重合体の中でも、耐熱性が高い点で、スチレン又はスチレン誘導体と無水マレイン酸との共重合体が好ましい。 Among the resins having negative intrinsic birefringence, at least one selected from vinyl aromatic polymers, polyacrylonitrile polymers, and polymethyl methacrylate polymers is preferable. Of these, vinyl aromatic polymers are more preferable from the viewpoint of high birefringence. The vinyl aromatic polymer refers to a polymer of a vinyl aromatic monomer or a copolymer of a monomer copolymerizable with a vinyl aromatic monomer. Examples of the vinyl aromatic monomer include styrene; styrene derivatives such as 4-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 3-methylstyrene, 4-methoxystyrene, 4-tert-butoxystyrene, α-methylstyrene, and the like. It is done. These may be used alone or in combination of two or more. Monomers copolymerizable with vinyl aromatic monomers include olefins such as propylene and butene; α, β-ethylenically unsaturated nitrile monomers such as acrylonitrile; acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, etc. Α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid; acrylic acid ester, methacrylic acid ester; maleimide; vinyl acetate; vinyl chloride; Among vinyl aromatic polymers, a copolymer of styrene or a styrene derivative and maleic anhydride is preferable because of high heat resistance.
前記透明樹脂としては、フィルムの耐熱性に優れる点から、そのガラス転移温度Tgが90℃以上であるものが好ましく、100℃以上であるものが特に好ましい。前記透明樹脂フィルムの形成方法は特に制限されず、例えば、溶液流延法や溶融押出法などの方法により形成できる。この中でも、溶剤を使用しない溶融押出法は、フィルムの揮発性成分の含有量を少なくでき、100μm以上で、Rthの大きいフィルムが作製しやすく、製造コストの観点からも好ましい。溶融押出法としては、Tダイを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。 As said transparent resin, that whose glass transition temperature Tg is 90 degreeC or more is preferable from the point which is excellent in the heat resistance of a film, and what is 100 degreeC or more is especially preferable. The method for forming the transparent resin film is not particularly limited, and can be formed by a method such as a solution casting method or a melt extrusion method. Among these, the melt extrusion method that does not use a solvent can reduce the content of volatile components of the film, is easy to produce a film having a large Rth of 100 μm or more, and is preferable from the viewpoint of manufacturing cost. Examples of the melt extrusion method include a method using a T die and an inflation method, and a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
光学異方体のレターデーションは、例えば、フィルムの材質や、延伸前のフィルムの厚
み、延伸倍率や延伸温度等の延伸条件を適宜設定することによって制御できる。フィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をTgとするとき、好ましくはTg-30℃からTg+60℃の温度範囲、より好ましくはTg-10℃からTg+50℃の温度範囲にて、好ましくは1.01〜2倍の延伸倍率で行う。延伸速度は、好ましくは5〜1000mm/秒、より好ましくは10〜750mm/秒である。延伸速度が上記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに面精度やレターデーションのバラツキが小さい光学異方体が得られる。
The retardation of the optical anisotropic body can be controlled, for example, by appropriately setting the stretching conditions such as the film material, the thickness of the film before stretching, the stretching ratio and the stretching temperature. When the glass transition temperature of the transparent resin is defined as Tg, the film is preferably stretched in a temperature range of Tg-30 ° C to Tg + 60 ° C, more preferably in a temperature range of Tg-10 ° C to Tg + 50 ° C, preferably 1 Performed at a draw ratio of 01 to 2 times. The stretching speed is preferably 5 to 1000 mm / second, more preferably 10 to 750 mm / second. When the stretching speed is within the above range, stretching control is facilitated, and an optical anisotropic body with small variations in surface accuracy and retardation can be obtained.
本発明に用いる光学異方体の厚み方向の屈折率nzは特に制限されない。例えば、nzと他の主屈折率nx及びnyとが、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nx=nz>ny、nz>nx>nyなる関係になるものが挙げられる。また、光学異方体は、その厚みが、好ましくは10〜500μm、より好ましくは20〜250μm、特に好ましくは20〜120μmである。 The refractive index nz in the thickness direction of the optical anisotropic body used in the present invention is not particularly limited. For example, nz and other main refractive indexes nx and ny have a relationship of nx> ny> nz, nx> ny = nz, nx> nz> ny, nx = nz> ny, nz> nx> ny. Can be mentioned. The thickness of the optical anisotropic body is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 250 μm, and particularly preferably 20 to 120 μm.
また、1/4波長板および1/2波長板等の光学異方体は、液晶性化合物を配向固定することによって得ることもできる。液晶性化合物は光学異方性を有しており、これを一定方向に配列し固定化することによって光学異方性のあるフィルムを得ることができる。具体的には、重合開始剤又は架橋剤の存在下、紫外線又は熱により重合もしくは架橋する性質を有する低分子量又は高分子量の液晶性化合物、あるいはそれらの混合物を、実質的に均一に配向させた状態で重合又は架橋反応により固定化させて得ることができる。 Optical anisotropic bodies such as quarter-wave plates and half-wave plates can also be obtained by aligning and fixing a liquid crystalline compound. The liquid crystalline compound has optical anisotropy, and a film having optical anisotropy can be obtained by arranging and fixing the liquid crystalline compound in a certain direction. Specifically, a low molecular weight or high molecular weight liquid crystalline compound having a property of being polymerized or crosslinked by ultraviolet rays or heat in the presence of a polymerization initiator or a crosslinking agent, or a mixture thereof was aligned substantially uniformly. It can be obtained by immobilization by polymerization or crosslinking reaction.
光学異方体を得るために用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物、あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキノン類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、トラン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけでなく、高分子棒状液晶性化合物も用いることができる。さらに、棒状液晶性化合物の具体例として、特開平7-294735号公報、特開2002-174724号公報及び特開平8-283748号公報に記載されている重合性液状組成物等が挙げられる。棒状液晶性化合物を用いた光学異方体の例として、液晶を垂直配向させた膜でnz>nx=ny(なお、nxとnyとが近似する場合も含む。)の関係を示すものが、傾斜配向させた膜でnz>nx>nyの関係を示すものがあげられる。傾斜配向させた膜として、商品名NHフィルム(新日本石油社製)等の市販品も使用できる。 Examples of the liquid crystalline compound used for obtaining the optical anisotropic body include a rod-like liquid crystalline compound, a discotic liquid crystalline compound, or a mixture thereof. As rod-like liquid crystalline compounds, azomethines, azoquinones, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoates, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, tolanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted compounds Examples thereof include phenylpyrimidines, phenyldioxanes, and alkenylcyclohexylbenzonitriles. Moreover, not only the low molecular liquid crystalline compound as described above but also a polymer rod-shaped liquid crystalline compound can be used. Furthermore, specific examples of the rod-like liquid crystal compound include polymerizable liquid compositions described in JP-A-7-294735, JP-A-2002-174724, and JP-A-8-283748. As an example of an optical anisotropic body using a rod-like liquid crystal compound, a film in which liquid crystal is vertically aligned shows a relationship of nz> nx = ny (including the case where nx and ny are approximated) An example of a tilted film showing a relationship of nz> nx> ny. Commercially available products such as a trade name NH film (manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.) can be used as the tilted film.
ディスコティック液晶性化合物としては、種々の文献(例えば、C.Desrade et al.,Mol.Crysr.Liq.Cryst.,vol.71,page111(1981年);日本化学会編、季刊化学総説、No.22,液晶の化学、第5章第10章第2節(1994年);B.Kohne etal.,angew.Chem.Soc.Chem.Comm.page1794(1985年);およびJ.Zhang etal.,J.Am.Chem.Soc.,vol.116,page2655(1994年);等)に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平8-27284号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、連結基を介して重合性基を結合させる必要がある。このようなディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開2000-284126号公報に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物を用いた光学異方体として、商品名WVフィルム(富士写真フィルム社製)等の市販品も使用できる。
As the discotic liquid crystalline compound, various documents (for example, C. Desradade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., Vol. 71, page 111 (1981); edited by the Chemical Society of Japan, Quarterly Chemical Review, No. .22, Chemistry of Liquid Crystals, Chapter 5,
液晶性化合物の配向は、通常、配向膜に液晶性化合物を塗布することによって行うことができる。配向膜は、通常、光学的に等方性を有する高分子化合物で形成される。具体的には、セルロース系樹脂、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、およびゼラチン等が挙げられる。これらは、2種類以上を組み合わせて用いても良い。 The alignment of the liquid crystalline compound can usually be performed by applying the liquid crystalline compound to the alignment film. The alignment film is usually formed of a polymer compound having optical isotropy. Specifically, cellulose resin, polyimide, polyimide amide, polyether imide, polyester, polyarylate, polyvinyl alcohol, gelatin and the like can be mentioned. You may use these in combination of 2 or more types.
また、液晶性化合物としてディスコティック液晶を用いる場合には、ディスコティック液晶分子を実質的にフィルム又は積層体の面方向に対して垂直(50度から90度の範囲の平均傾斜角)に配向させるのが好ましい。そのためには、配向膜を構成するポリマーの官能基によって配向膜の表面エネルギーを低下させ、これによりディスコティック液晶性化合物を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、フッ素原子や、炭素原子数が10以上の炭化水素基が好ましく例示できる。フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子又は炭化水素基を導入するのが好ましい。フッ素原子を含有するポリマーのフッ素原子含有量は、好ましくは0.05〜80重量%、より好ましくは0.5〜65重量%、さらに好ましくは1〜60重量%である。炭化水素基としては、脂肪族基、芳香族基又はこれらの組合せが挙げられる。脂肪族基は、環状、分岐状、直鎖状のいずれであってもよいが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又はシクロアルケニル基が好ましい。炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは10〜100、より好ましくは10〜50さらに好ましくは10〜40である。このようなポリマーの主鎖は、ポリイミド構造又はポリビニルアルコール構造を有するものであるのが好ましい。ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成することができる。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖又は側鎖にステロイド構造を形成するのが好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が10以上の炭化水素基に相当し、ディスコティック液晶性化合物を垂直に配向させる機能を有する。また、ポリビニルアルコールとしては、例えば、フッ素原子を含む繰り返し単位を5〜80モルの範囲で含むフッ素変性ポリビニルアルコール、炭素数が10以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコールなどが挙げられる。 When a discotic liquid crystal is used as the liquid crystalline compound, the discotic liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicularly to the plane direction of the film or laminate (average tilt angle in the range of 50 to 90 degrees). Is preferred. For this purpose, the surface energy of the alignment film is lowered by the functional group of the polymer constituting the alignment film, thereby bringing the discotic liquid crystalline compound into a standing state. Preferred examples of the functional group that lowers the surface energy of the alignment film include fluorine atoms and hydrocarbon groups having 10 or more carbon atoms. In order to allow fluorine atoms or hydrocarbon groups to be present on the surface of the alignment film, it is preferable to introduce fluorine atoms or hydrocarbon groups into the side chain rather than the main chain of the polymer. The fluorine atom content of the polymer containing fluorine atoms is preferably 0.05 to 80% by weight, more preferably 0.5 to 65% by weight, and still more preferably 1 to 60% by weight. Examples of the hydrocarbon group include aliphatic groups, aromatic groups, and combinations thereof. The aliphatic group may be cyclic, branched or linear, but is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group or a cycloalkenyl group. The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is preferably 10 to 100, more preferably 10 to 50, still more preferably 10 to 40. The main chain of such a polymer preferably has a polyimide structure or a polyvinyl alcohol structure. Polyimide can generally be synthesized by a condensation reaction of tetracarboxylic acid and diamine. When introducing a hydrocarbon group into polyimide, it is preferable to form a steroid structure in the main chain or side chain of the polyimide. The steroid structure present in the side chain corresponds to a hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and has a function of vertically aligning the discotic liquid crystalline compound. Examples of the polyvinyl alcohol include fluorine-modified polyvinyl alcohol containing a repeating unit containing a fluorine atom in a range of 5 to 80 mol, and modified polyvinyl alcohol having a hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms.
配向膜を形成するためには、前記高分子化合物を製膜し、その高分子膜に配向処理を行う。配向処理としてはラビング処理が好適に用いられる。高分子膜をラビング処理する方法は特に制限されない。例えば、レーヨン、ナイロン等の布又はロールを用いて、高分子膜の表面を所定方向に擦する(ラビング)ことにより高分子膜表面に配向性を付与する方法が挙げられる。また、ラビング処理以外の配向処理としては、高分子膜上に直線偏光紫外線等の光を所定方向から照射する方法、高分子膜を延伸する方法等が挙げられる。また、高分子膜以外に、酸化ケイ素(SiO2)などの斜方蒸着層等も配向膜として用いることができる。配向膜の厚さは、通常0.005〜10μm、好ましくは0.01〜1μmである。 In order to form an alignment film, the polymer compound is formed, and the alignment treatment is performed on the polymer film. A rubbing process is preferably used as the alignment process. The method for rubbing the polymer film is not particularly limited. For example, a method of imparting orientation to the surface of the polymer film by rubbing the surface of the polymer film in a predetermined direction (rubbing) using a cloth or roll such as rayon or nylon can be mentioned. Examples of the alignment treatment other than the rubbing treatment include a method of irradiating light such as linearly polarized ultraviolet light on the polymer film from a predetermined direction, a method of stretching the polymer film, and the like. In addition to the polymer film, an oblique deposition layer such as silicon oxide (SiO 2 ) can be used as the alignment film. The thickness of the alignment film is usually 0.005 to 10 μm, preferably 0.01 to 1 μm.
1/4波長板又は1/2波長板などの光学異方体の上に、該光学異方体の遅相軸とのなす角度が50〜70度となる方向に配向処理された配向膜を形成し、該配向膜上に波長550nmで測定したレターデーションが250〜300nmである液晶性化合物の固定化膜(1/2波長板相当)又は波長550nmで測定したレターデーションが125〜150nmである液晶性化合物の固定化膜(1/4波長板相当)を形成することで、1/4波長板と1/2波長板とを重ね合わせたものに相当する光学異方体を得ることができる。配向処理の方向は、基材となる光学異方体の遅相軸の方向に対して50〜70度、好ましくは55〜65度、より好ましくは58〜62度の範囲で交差するようにする。配向膜上に塗布された液晶性化合物は、配向膜の配向方向と一致する方向に配向する。従って、配向処理を前記のような角度で行うことによって、基材の光学異方体の遅相軸と、液晶性化合物で形成される光学異方体とが所定角度で交差する積層体にすることができる。 On an optical anisotropic body such as a quarter-wave plate or a half-wave plate, an alignment film that has been subjected to an alignment treatment in a direction in which the angle formed with the slow axis of the optical anisotropic body is 50 to 70 degrees. The liquid crystal compound fixed film (corresponding to a half-wave plate) whose retardation measured at a wavelength of 550 nm is 250 to 300 nm or the retardation measured at a wavelength of 550 nm is 125 to 150 nm. By forming a fixed film (corresponding to a quarter-wave plate) of a liquid crystal compound, an optical anisotropic body corresponding to a superposition of a quarter-wave plate and a half-wave plate can be obtained. . The direction of the alignment treatment intersects with the direction of the slow axis of the optical anisotropic body serving as the substrate in the range of 50 to 70 degrees, preferably 55 to 65 degrees, more preferably 58 to 62 degrees. . The liquid crystalline compound applied on the alignment film is aligned in a direction that coincides with the alignment direction of the alignment film. Therefore, by performing the alignment treatment at the angle as described above, a laminated body in which the slow axis of the optical anisotropic body of the substrate and the optical anisotropic body formed of the liquid crystalline compound intersect at a predetermined angle is obtained. be able to.
液晶性化合物の配向固定化膜からなる光学異方性層の厚みは特に制限されないが、入射光に対して1/4波長のレタ-デーションを与える1/4波長板として十分な機能を付与する上では、通常0.5〜50μmであるのが好ましい。液晶性化合物の固定化膜の種類と液晶性化合物の固定化膜層の厚みを所定のものに設定することで、液晶性化合物の固定化膜の層からなる1/4波長板を得ることができる。 The thickness of the optically anisotropic layer composed of the alignment-fixed film of the liquid crystal compound is not particularly limited, but provides a sufficient function as a quarter-wave plate that gives a quarter-wave retardation to incident light. Above, it is preferable that it is 0.5-50 micrometers normally. By setting the type of the liquid crystal compound immobilization film and the thickness of the liquid crystal compound immobilization film layer to a predetermined one, a quarter wavelength plate composed of the liquid crystal compound immobilization film layer can be obtained. it can.
液晶性化合物の固定化膜からなる光学異方体を形成するには、具体的には次のように行うことができる。まず、光学異方体上に、該光学異方体の延伸方向と該光学異方体の遅相軸とのなす角度が50〜70度となる方向に配向処理された配向膜を形成する。次に、液晶性化合物の有機溶剤溶液を該光学異方体の配向膜上に塗布し、加熱により溶剤を除去する。次いで、液晶性化合物が液晶状態となる温度まで冷却することにより、液晶性化合物を所定方向に配向させることができる。さらに、液晶性化合物が紫外線又は熱により重合もしくは架橋する場合には、液晶状態が保持された環境下で重合開始剤又は架橋剤の存在下、紫外線又は熱により重合若しくは架橋することにより、液晶性化合物の固定化膜を形成できる。 In order to form an optical anisotropic body composed of a fixed film of a liquid crystal compound, specifically, it can be carried out as follows. First, on the optical anisotropic body, an alignment film is formed that is aligned in a direction in which an angle formed between the extending direction of the optical anisotropic body and the slow axis of the optical anisotropic body is 50 to 70 degrees. Next, an organic solvent solution of a liquid crystalline compound is applied onto the alignment film of the optical anisotropic body, and the solvent is removed by heating. Next, the liquid crystalline compound can be aligned in a predetermined direction by cooling to a temperature at which the liquid crystalline compound is in a liquid crystal state. Further, when the liquid crystalline compound is polymerized or crosslinked by ultraviolet rays or heat, the liquid crystalline compound is polymerized or crosslinked by ultraviolet rays or heat in the presence of a polymerization initiator or a crosslinking agent in an environment where the liquid crystal state is maintained. A compound-immobilized film can be formed.
1/4波長板と1/2波長板とを積層する方法は、粘接着剤により貼り合せる方法、熱溶着や超音波融着により貼り合せる方法、共押出法などの、波長板を貼り合せる方法を用いることができるが、広帯域な波長板としてより広い波長領域で使用でき、耐久性にも優れたものとするためには、粘接着剤を用いて積層するのが好ましい。 The method of laminating a quarter-wave plate and a half-wave plate is a method of laminating a wave plate, such as a method of laminating with an adhesive, a method of laminating by thermal welding or ultrasonic fusion, or a coextrusion method. Although a method can be used, it is preferable to laminate using an adhesive in order to be able to be used in a wider wavelength region as a broadband wavelength plate and to have excellent durability.
本発明の液晶表示装置には、視野角を広くするなどの目的のために、前記光学異方体以外に、他の光学異方性を有するフィルムを任意の枚数で任意の場所に配置することができる。光学異方性を有するフィルムとしては、一軸性を有する位相差フィルム、二軸性を有する位相差フィルム、またはこれらの積層体が挙げられる。例えば、一軸性を有する位相差板としては、CプレートやAプレートが挙げられる。 In the liquid crystal display device of the present invention, for the purpose of widening the viewing angle, in addition to the optical anisotropic body, other films having optical anisotropy are arranged in an arbitrary number and in arbitrary locations. Can do. Examples of the film having optical anisotropy include a uniaxial retardation film, a biaxial retardation film, and a laminate thereof. For example, examples of the uniaxial retardation plate include a C plate and an A plate.
Cプレートは、面内のレターデーションがないかまたは極めて小さく、厚さ方向にのみ位相差を有する位相差層のことをいい、光軸がその面内方向と垂直な厚さ方向に存在する。Aプレートは、厚さ方向のレターデーションがないかまたは極めて小さく、面内のみレターデーションを有するレターデーション層のことをいい、光軸が面内方向に存在する。 The C plate is a retardation layer having no retardation or very small in-plane retardation and having a retardation only in the thickness direction, and the optical axis exists in the thickness direction perpendicular to the in-plane direction. The A plate is a retardation layer having no or very small retardation in the thickness direction and having retardation only in the plane, and the optical axis exists in the in-plane direction.
また、二軸性を有する位相差フィルムとしては、ポジティブ二軸位相差フィルム(nz>nx>ny)、ネガティブ二軸位相差フィルム(nx>ny>nz)が挙げられる。一軸性を有する位相差フィルムや二軸性を有する位相差フィルムとしては、固有複屈折値が正である材料からなるフィルムを延伸したフィルム、ポリスチレン樹脂などの固有複屈折値が負である材料からなる層の両面にノルボルネン系樹脂などの固有複屈折性が正である材料からなる層が積層されている積層体を延伸したもの、ディスコティック液晶を面に平行配向又は垂直配向させたものなどが挙げられる。複屈折性を示す層の面内のレターデーションReや面に垂直な方向のレターデーションRthは、使用する液晶モードに応じて適宜調整すればよい。 Examples of the biaxial retardation film include a positive biaxial retardation film (nz> nx> ny) and a negative biaxial retardation film (nx> ny> nz). As a retardation film having uniaxiality or a retardation film having biaxiality, a film obtained by stretching a film made of a material having a positive intrinsic birefringence value, a material having a negative intrinsic birefringence value such as a polystyrene resin, etc. A layered product in which layers made of a material having a positive intrinsic birefringence, such as norbornene-based resin, are stretched on both sides of the layer, or a discotic liquid crystal aligned in parallel or perpendicularly to the surface. Can be mentioned. The in-plane retardation Re of the birefringent layer and the retardation Rth in the direction perpendicular to the surface may be appropriately adjusted according to the liquid crystal mode to be used.
本発明の液晶表示装置には、出射側偏光子の光学異方体とは反対側(視認側)の面に反射防止体が積層されている。この反射防止体は、後述する低屈折率層を有する。また、反射防止体は、出射側偏光子と低屈折率層との間に高屈折率層を有していてもよい。つまり、前記高屈折率層と、前記低屈折率層とを、液晶セルから離れる方向(視認側)に向かってこの順に有するものである。 In the liquid crystal display device of the present invention, an antireflection body is laminated on the surface on the opposite side (viewing side) to the optical anisotropic body of the exit side polarizer. This antireflection body has a low refractive index layer to be described later. The antireflection body may have a high refractive index layer between the exit side polarizer and the low refractive index layer. That is, the high refractive index layer and the low refractive index layer are provided in this order in the direction away from the liquid crystal cell (viewing side).
<反射防止体>
〔高屈折率層〕
高屈折率層は、必要に応じて、出射側偏光子と低屈折率層との間に設けられる層である。高屈折率層は、表面硬度の高い層であり、具体的には、JIS K5600-5-4に規定された鉛筆硬度試験で「HB」以上の硬度を持つ層である。高屈折率層の平均厚みは、特に限定されないが、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。高屈折率層を形成する材料は、例えば、シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機材料;二酸化ケイ素などの無機材料;などを挙げることができる。これらの中で、ウレタンアクリレート系と多官能アクリレート系の材料は、接着力が大きく、生産性に優れるので、好適に用いることができる。
<Antireflection body>
(High refractive index layer)
The high refractive index layer is a layer provided between the exit side polarizer and the low refractive index layer as necessary. The high refractive index layer is a layer having a high surface hardness, and specifically, a layer having a hardness of “HB” or higher in a pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4. The average thickness of the high refractive index layer is not particularly limited, but is usually 0.5 to 30 μm, preferably 3 to 15 μm. Examples of the material forming the high refractive index layer include organic materials such as silicone, melamine, epoxy, acrylic, and urethane acrylate; inorganic materials such as silicon dioxide; and the like. Among these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based materials can be preferably used because of their high adhesive strength and excellent productivity.
高屈折率層は、後述する低屈折率層よりも高い屈折率を有する層であり、その屈折率が1.55以上であることが好ましく、1.60以上であることがより好ましい。高屈折率層の屈折率がこれらの値であると、広帯域における反射防止性能及び耐擦傷性が向上し、高屈折率層の上に積層する低屈折率層の設計が容易になる利点がある。屈折率は、公知の分光エリプソメーター等を用いて求めることができる。 The high refractive index layer is a layer having a higher refractive index than the low refractive index layer described later, and the refractive index is preferably 1.55 or more, and more preferably 1.60 or more. When the refractive index of the high refractive index layer is such a value, there is an advantage that the antireflective performance and scratch resistance in a wide band are improved, and the design of the low refractive index layer laminated on the high refractive index layer becomes easy. . The refractive index can be determined using a known spectroscopic ellipsometer or the like.
高屈折率層は、無機酸化物粒子をさらに含んでいてもよい。高屈折率層に無機酸化物粒子が添加されることにより、表面の耐擦傷性に優れ、屈折率が1.55以上の高屈折率層を簡単に形成できる。高屈折率層に用いる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましく、具体的には、屈折率が1.6以上、特に1.6〜2.3のものが好適である。このような無機酸化物粒子としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、リンをドープした酸化スズ(PTO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、等を挙げることができる。これらの中でも、五酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるため、屈折率を調節するための成分として好適である。 The high refractive index layer may further contain inorganic oxide particles. By adding inorganic oxide particles to the high refractive index layer, it is possible to easily form a high refractive index layer having excellent surface scratch resistance and a refractive index of 1.55 or more. As the inorganic oxide particles used for the high refractive index layer, those having a high refractive index are preferable, and specifically, those having a refractive index of 1.6 or more, particularly 1.6 to 2.3 are preferable. Examples of such inorganic oxide particles include titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, antimony-doped tin oxide (ATO), and phosphorus dope. Tin oxide (PTO), fluorine-doped tin oxide (FTO), tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), etc. be able to. Among these, antimony pentoxide is suitable as a component for adjusting the refractive index because it has a high refractive index and an excellent balance between conductivity and transparency.
高屈折率層は、基材となる出射側偏光子に、前記材料を塗布、乾燥し、硬化させることによって得ることができる。前記材料を塗布する前に、基材の表面にプラズマ処理、プライマー処理などを施し、高屈折率層の剥離強度を高めてもよい。硬化方法としては熱硬化法と、紫外線硬化法とを利用できる。また、基材用の樹脂と、高屈折率層用の材料とを、共押出成形して、基材用樹脂と前記材料とが積層された共押出フィルムを形成することができる。高屈折率層の表面には、防眩性機能が設けられていることが好ましく、例えば、当該表面に凸形状を形成することにより当該機能を実現できる。 The high refractive index layer can be obtained by applying, drying, and curing the above material on the output side polarizer as the base material. Before applying the material, the surface of the substrate may be subjected to plasma treatment, primer treatment, or the like to increase the peel strength of the high refractive index layer. As a curing method, a thermal curing method and an ultraviolet curing method can be used. In addition, the base resin and the material for the high refractive index layer can be co-extruded to form a co-extruded film in which the base resin and the material are laminated. The surface of the high refractive index layer is preferably provided with an antiglare function. For example, the function can be realized by forming a convex shape on the surface.
〔低屈折率層〕
低屈折率層は、出射側偏光子の上側(視認側)、または、高屈折率層が設けられた場合には、この高屈折率層の上側に設けられる層である。低屈折率層は、その屈折率が1.40以下の層であり、好ましくは1.30〜1.40、より好ましくは1.35〜1.40の層である。特に、隣接する出射側偏光子または高屈折率層との屈折率差が0.05〜0.4であることが好ましい。このような低屈折率層を設けることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れ、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた液晶表示装置を得ることができる。低屈折率層の厚みは、10〜1000nmであることが好ましく、30〜500nmであることがより好ましい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a layer provided on the upper side (viewing side) of the output side polarizer or on the upper side of the high refractive index layer when a high refractive index layer is provided. The low refractive index layer is a layer having a refractive index of 1.40 or less, preferably 1.30 to 1.40, more preferably 1.35 to 1.40. In particular, the refractive index difference between the adjacent exit-side polarizer or high refractive index layer is preferably 0.05 to 0.4. By providing such a low refractive index layer, it is possible to obtain a liquid crystal display device that is excellent in balance between visibility, scratch resistance, and strength and excellent in balance between antireflection performance and scratch resistance. The thickness of the low refractive index layer is preferably 10 to 1000 nm, and more preferably 30 to 500 nm.
このような低屈折率層は、粒径が5〜2000nmの中空粒子(A)と、(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー(B)と、(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物(C)とを含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる。なお、本発明において、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイルとメタクリロイルを意味する。 Such a low refractive index layer comprises a hollow particle (A) having a particle size of 5 to 2000 nm, a siloxane oligomer (B) having a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group, and an acrylate compound having a (meth) acryloyl group. It consists of a cured film formed from the composition for low refractive index layer formation containing (C). In the present invention, (meth) acryloyl means acryloyl and methacryloyl.
〔中空粒子(A)〕
本発明に用いる中空粒子は、中空部分が存在する粒子である。本発明の低屈折率層に含まれる中空粒子(A)は、その粒径が5〜2000nmの範囲であり、20〜100nmの範囲であることが好ましい。中空粒子(A)の粒径が上記値より小さい場合には、低屈折率層の屈折率が十分に小さくならない。また、中空粒子(A)の粒径が上記値を超える場合には、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなるおそれがある。なお、中空粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
[Hollow particles (A)]
The hollow particles used in the present invention are particles having a hollow portion. The hollow particles (A) contained in the low refractive index layer of the present invention have a particle size in the range of 5 to 2000 nm, and preferably in the range of 20 to 100 nm. When the particle size of the hollow particles (A) is smaller than the above value, the refractive index of the low refractive index layer is not sufficiently small. Moreover, when the particle size of a hollow particle (A) exceeds the said value, transparency will deteriorate extremely and there exists a possibility that the contribution by diffuse reflection may become large. The particle size of the hollow particles is a number average particle size as observed with a transmission electron microscope.
中空粒子は、例えば、特開2001-233611号公報に記載された方法に基づいて製造することができる。また、市販の中空粒子を用いてもよい。中空粒子の配合量は、特に限定されないが、化合物(A)〜(C)を用いてなる低屈折率層形成用組成物の全体に対して10〜30重量%であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに奏することができる。 The hollow particles can be produced, for example, based on a method described in JP-A-2001-233611. Commercially available hollow particles may also be used. Although the compounding quantity of a hollow particle is not specifically limited, It is preferable that it is 10-30 weight% with respect to the whole composition for low-refractive-index layer formation using a compound (A)-(C). Within this range, both low refractive index properties and scratch resistance can be achieved.
なお、中空粒子の中空部分には、中空粒子を調製するときに使用した溶媒や乾燥時に浸入する気体が存在してもよい。また、中空粒子の中空部分を形成するための、後述する空前駆体物質がその中空部分に残存していてもよい。前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
また、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると中空部分の容積が増大し、屈折率の低い中空粒子が得られ、この中空粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
In the hollow part of the hollow particles, there may be a solvent used when preparing the hollow particles and a gas that enters during drying. Moreover, the empty precursor substance mentioned later for forming the hollow part of a hollow particle may remain | survive in the hollow part. The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell or may occupy most of the interior of the cavity.
The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. When the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the hollow portion increases, and hollow particles with a low refractive index are obtained. The transparent coating obtained by blending these hollow particles has a low refractive index and antireflection Excellent performance.
中空粒子(A)は、無機中空粒子が好ましく、特にシリカ系中空粒子が好ましい。無機中空粒子を構成する無機化合物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3、TiO2−Al2O3、TiO2−ZrO2、In2O3−SnO2、Sb2O3−SnO2などを例示できる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The hollow particles (A) are preferably inorganic hollow particles, particularly silica-based hollow particles. The inorganic compound constituting the inorganic hollow particles, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3 , ZnO 2, WO 3, TiO 2 -Al 2 O 3, TiO 2 -ZrO 2, In 2 O 3 -SnO 2, Sb 2 O 3 -SnO 2 and the like can be exemplified. These can be used alone or in combination of two or more.
中空粒子(A)の外殻は、細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔の外側が閉塞されて空洞が密封されているものであってもよい。外殻は、内側層と外側層などからなる多層構造であることが好ましい。外殻は、内側の第1無機酸化物皮膜層および外側の第2無機酸化物皮膜層からなる複数の無機酸化物皮膜層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物皮膜層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化できるとともに、内部の空洞を密封した中空粒子を得ることができる。中空粒子(A)の外殻の厚みは、通常1〜50nm、好ましくは5〜20nmである。また、中空粒子(A)の外殻の厚みは、中空粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。 The outer shell of the hollow particle (A) may be porous having pores, or may be one in which the outside of the pores are closed and the cavity is sealed. The outer shell preferably has a multilayer structure including an inner layer and an outer layer. The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide film layers including an inner first inorganic oxide film layer and an outer second inorganic oxide film layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the outer shell can be densified by closing the pores of the outer shell, and hollow particles in which the inner cavity is sealed can be obtained. The thickness of the outer shell of the hollow particles (A) is usually 1 to 50 nm, preferably 5 to 20 nm. The thickness of the outer shell of the hollow particles (A) is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the hollow particles.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となることが好ましく、特に、緻密化された外殻において、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。 When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers is preferably in the range of 1 to 50 nm. In the formed outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
また、中空粒子は、シロキサンオリゴマー(B)やアクリレート化合物(C)との結合性を高めるために、中空粒子と界面活性化剤またはカップリング剤とを反応させる方法などによって、中空粒子の表面に水酸基等の親水基やアクリロイル基を導入してもよい。界面活性化剤またはカップリング剤としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランなどの含フッ素有機珪素化合物などが挙げられる。 Moreover, in order to improve the bonding property with the siloxane oligomer (B) or the acrylate compound (C), the hollow particles are formed on the surface of the hollow particles by a method of reacting the hollow particles with a surfactant or a coupling agent. Hydrophilic groups such as hydroxyl groups and acryloyl groups may be introduced. As the surfactant or coupling agent, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, heptadecafluorodecyl Examples thereof include fluorine-containing organosilicon compounds such as trichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and tridecafluorooctyltrimethoxysilane.
〔シロキサンオリゴマ―(B)〕
本発明の低屈折率層に含まれるシロキサンオリゴマー(B)は、(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有している。シロキサンオリゴマー(B)は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)と、フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)と、一般式XjSiY4−j(式中、Xは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、jは0〜2の整数を表し、jが2の時、Xは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい)で表される加水分解性基を有するシラン化合物(b−3)との縮合物であることが好ましい。
[Siloxane oligomer (B)]
The siloxane oligomer (B) contained in the low refractive index layer of the present invention has a (meth) acryloyl group and a fluoroalkyl group. The siloxane oligomer (B) includes a compound (b-1) having a (meth) acryloyl group, a fluorine compound (b-2) having a fluoroalkyl group, a general formula X j SiY 4-j (where X is Represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, j represents an integer of 0 to 2, and when j is 2, X may be the same or different. It is preferably a condensate with a silane compound (b-3) having a hydrolyzable group represented by a hydrolyzable group, and Y may be the same or different.
(b−1)(メタ)アクリロイル基を有する化合物
(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリロイル基を有するオルガノシラン類が挙げられる。前記(メタ)アクリロイル基を有するオルガノシラン類としては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシメチルトリメトキシシラン、3−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、3−アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシメチルメチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの中で取扱い性、架橋密度、反応性などの点で、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。
(B-1) Compound having (meth) acryloyl group As the compound (b-1) having (meth) acryloyl group, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hydroxyethyl ( Examples thereof include alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate, and organosilanes having a (meth) acryloyl group. Examples of the organosilane having the (meth) acryloyl group include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane. 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxymethyltrimethoxysilane, 3-methacrylic Loxymethyltriethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxymethylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxymethyltrimethoxysilane, 3- Examples include acryloxymethyltriethoxysilane, 3-acryloxymethylmethyldimethoxysilane, and 3-acryloxymethylmethyldiethoxysilane. Among these, in terms of handleability, crosslinking density, reactivity, etc., 3 -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane are preferred.
(b−2)フルオロアルキル基を有するフッ素化合物
前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)としては、フルオロアルキル基を有するシラン化合物の縮合物、フルオロアルキル基を有する単量体とこれと共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
(B-2) Fluorine compound having a fluoroalkyl group As the fluorine compound (b-2) having a fluoroalkyl group, a condensate of a silane compound having a fluoroalkyl group, a monomer having a fluoroalkyl group, and this Examples thereof include a copolymer with a copolymerizable monomer.
前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物の縮合物としては、ゾル−ゲル反応により容易にシロキサンオリゴマ―を形成できる観点から、パーフルオロアルキルアルコキシシランを用いることが好ましい。 As the condensate of the silane compound having a fluoroalkyl group, it is preferable to use perfluoroalkylalkoxysilane from the viewpoint that a siloxane oligomer can be easily formed by a sol-gel reaction.
前記パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式(2):CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR’)3(式中、R’は、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物を挙げることができる。具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどを挙げることができる。これらの中でも、前記nが2〜6の化合物が好ましい。これらの化合物は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the perfluoroalkylalkoxysilane include, for example, the general formula (2): CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OR ′) 3 (wherein R ′ is an alkyl having 1 to 5 carbon atoms. And n represents an integer of 0 to 12). Specifically, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane And so on. Among these, the compound whose said n is 2-6 is preferable. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
前記フルオロアルキル基を有する単量体としては、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、3,3,3−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類;パーフロロ(アルキルビニルエーテル)類もしくはパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;パーフロロ(メチルビニルエーテル)、パーフロロ(エチルビニルエーテル)、パーフロロ(プロピルビニルエーテル)、パーフロロ(ブチルビニルエーテル)、パーフロロ(イソブチルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルキルビニルエーテル)類;パーフロロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)等のパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;その他を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the monomer having a fluoroalkyl group include fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, and 3,3,3-trifluoropropylene; perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether); Perfluoro (alkyl vinyl ethers) such as perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether); perfluoro (alkoxyalkyl) such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether) Vinyl ethers); other examples. These can be used alone or in combination of two or more.
前記フルオロアルキル基を有する単量体と共重合可能な単量体としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル化合物、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン化合物、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸化合物、および、これらの誘導体を挙げることができる。 Examples of the monomer copolymerizable with the monomer having a fluoroalkyl group include vinyl ether compounds such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether and allyl vinyl ether, vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl butyrate, methyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate compounds such as ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, styrene compounds such as styrene and p-hydroxymethylstyrene, unsaturated carboxylic acid compounds such as crotonic acid, maleic acid and itaconic acid, and These derivatives can be mentioned.
(b−3)一般式XjSiY4−jで表される加水分解性基を有するシラン化合物
一般式XjSiY4−jで表される加水分解性基を有するシラン化合物において、前記Xは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表している。置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3-フェニルプロピル基等のアラルキル基;クロロメチル基、γ-クロロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基;γ-メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ-グリシドキシプロピル基、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基;γ-メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基;3-アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基;トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
In (b-3) formula X j SiY silane compound having a hydrolyzable group represented by 4-j Formula X j SiY silane compound having a hydrolyzable group represented by 4-j, wherein X is The monovalent hydrocarbon group which may have a substituent is represented. Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group; cyclopentyl group and cyclohexyl group A cycloalkyl group such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, an 1-naphthyl group, an aryl group which may have a substituent such as a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group; a benzyl group; Aralkyl groups such as phenethyl group and 3-phenylpropyl group; haloalkyl groups such as chloromethyl group, γ-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; alkenylcarbonyloxyalkyl such as γ-methacryloxypropyl group Group: alkyl group having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyl group or 3,4-epoxycyclohexylethyl group; γ-mercap It can be mentioned perfluoroalkyl group such as trifluoromethyl group or the like; alkyl groups having an amino group such as 3-aminopropyl group; an alkyl group having a mercapto group and propyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoroalkyl group are preferable from the viewpoint of easy synthesis and availability.
前記Yは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−(O−Si)−O−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基;オキシム基(−O−N=C−R1(R2))、エノキシ基(−O−C(R1)=C(R2)R3)、アミノ基、アミノキシ基(−O−N(R1)R2)、アミド基(−N(R1)−C(=O)−R2)等を挙げることができる。これらの基において、R1、R2、R3は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。 Y represents a hydrolyzable group. The hydrolyzable group is a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to give a — (O—Si) —O— bond. Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxyl groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R 1 (R 2 ) ), Enoxy group (—O—C (R 1 ) = C (R 2 ) R 3 ), amino group, aminoxy group (—O—N (R 1 ) R 2 ), amide group (—N (R 1 )) -C (= O) -R 2), and the like. In these groups, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, as Y, an alkoxyl group is preferable from the viewpoint of availability.
一般式XjSiY4−jで表されるシラン化合物(b−3)としては、前記jが0〜2の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。 The general formula X j SiY 4-j with a silane compound expressed (b-3), a silicon compound wherein j is an integer of 0 to 2 is preferred. Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable from the viewpoint of availability.
前記jが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、前記jが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。前記jが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 Examples of the tetraalkoxysilane in which j is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which j is 1 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and methyltriisosilane. Examples include propoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which j is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
シロキサンオリゴマー(B)の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層形成用組成物の全体に対して、3〜90重量%であることが好ましく、5〜80重量%であることがより好ましく、10〜60重量%であることがさらに好ましい。3重量%より少ない場合には、低屈折率層の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。また、90重量%を超える場合には、低屈折率層の耐擦傷性が得られないおそれがある。 Although the compounding quantity of a siloxane oligomer (B) is not specifically limited, It is preferable that it is 3-90 weight% with respect to the whole composition for low refractive index layer formation, and it is more preferable that it is 5-80 weight%. Preferably, it is 10 to 60% by weight. When it is less than 3% by weight, the refractive index of the low refractive index layer becomes high, and there is a possibility that sufficient antireflection effect cannot be obtained. Moreover, when it exceeds 90 weight%, there exists a possibility that the abrasion resistance of a low refractive index layer may not be acquired.
シロキサンオリゴマー(B)の分子量については特に制限はないが、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフで測定したポリスチレン換算による数平均分子量が5000以上であるのが好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the molecular weight of a siloxane oligomer (B), It is preferable that the number average molecular weight by polystyrene conversion measured with the gel permeation chromatograph using a cyclohexane as a solvent is 5000 or more.
シロキサンオリゴマー(B)を得る方法としては、前記(メタ)アクリロイル基を有する化合物(b−1)と、前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物(b−2)と、前記シラン化合物(b−3)とを縮合することにより得ることができる。この縮合において、各反応成分の比率は特に制限されないが、前記化合物(b−1)/前記化合物(b−2)/前記化合物(b−3)のモル比で、5〜70/30〜70/1〜50モル%となるように配合することが好ましい。さらに、縮合において、各化合物をアルコール溶媒(たとえば、メタノール、エタノール等)中で有機酸(たとえばシュウ酸等)やエステル類の存在下で加熱してもよい。 As a method for obtaining the siloxane oligomer (B), the compound (b-1) having the (meth) acryloyl group, the fluorine compound (b-2) having the fluoroalkyl group, and the silane compound (b-3). Can be obtained by condensation. In this condensation, the ratio of each reaction component is not particularly limited, but the molar ratio of the compound (b-1) / the compound (b-2) / the compound (b-3) is 5 to 70/30 to 70. It is preferable to mix | blend so that it may become / 1-50 mol%. Further, in the condensation, each compound may be heated in an alcohol solvent (for example, methanol, ethanol, etc.) in the presence of an organic acid (for example, oxalic acid) or an ester.
〔アクリレート化合物(C)〕
本発明の低屈折率層に含まれるアクリレート化合物(C)は、(メタ)アクリロイル基を有している。アクリレート化合物(C)は、反射防止体の硬度を効果的に高くできる観点から、フッ素原子を含有せず、かつ、(メタ)アクリロイル基を2個以上有することが好ましい。このような化合物としては、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Acrylate compound (C)]
The acrylate compound (C) contained in the low refractive index layer of the present invention has a (meth) acryloyl group. From the viewpoint of effectively increasing the hardness of the antireflective body, the acrylate compound (C) preferably does not contain a fluorine atom and has two or more (meth) acryloyl groups. Such compounds include neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone Examples include modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate. Kill. These can be used alone or in combination of two or more.
また、アクリレート化合物(C)は、低屈折率層の屈折率を効果的に低くできる観点から、フッ素原子を含有してもよい。フッ素原子を含有するアクリレート化合物としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ヘキサデカフルオロ−1,10−デカンジオール−ジエポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The acrylate compound (C) may contain a fluorine atom from the viewpoint of effectively reducing the refractive index of the low refractive index layer. Examples of acrylate compounds containing fluorine atoms include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, and 2- (perfluorobutyl) ethyl. (Meth) acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl (Meth) acrylate, 3- (par Fluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl ( (Meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoro Propyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, 1H -1- (trifluoromethyl) Lifluoroethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8, Mention may be made of 9,9-hexadecafluoro-1,10-decandiol-diepoxy (meth) acrylate. These can be used alone or in combination of two or more.
アクリレート化合物(C)の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層形成用組成物の全体に対して、5〜90重量%であることが好ましく、10〜80重量%であることがより好ましく、15〜60重量%であることがさらに好ましい。上記の範囲の場合には、低屈折率層の耐擦傷性が良好であり、低屈折率層の屈折率が適切な範囲となり、十分な反射防止効果が得られる。 Although the compounding quantity of an acrylate compound (C) is not specifically limited, It is preferable that it is 5-90 weight% with respect to the whole composition for low refractive index layer formation, and it is more preferable that it is 10-80 weight%. Preferably, it is 15 to 60% by weight. In the case of the above range, the scratch resistance of the low refractive index layer is good, the refractive index of the low refractive index layer is in an appropriate range, and a sufficient antireflection effect is obtained.
本発明の低屈折率層は、前記中空粒子(A)と、前記シロキサンオリゴマ―(B)と、前記アクリレート化合物(C)とを含有する低屈折率層形成用組成物を、出射側偏光子や高屈折率層等の他の層上に膜状に塗工した後、乾燥させ、電離放射線、および/または加熱により硬化させて得ることができる。 The low refractive index layer of the present invention comprises a composition for forming a low refractive index layer containing the hollow particles (A), the siloxane oligomer (B), and the acrylate compound (C). It can be obtained by coating it on another layer such as a high refractive index layer or the like and then drying and curing it by ionizing radiation and / or heating.
前記低屈折率層形成用組成物は、中空粒子(A)、シロキサンオリゴマー(B)、及び、アクリレート化合物(C)を分解させることのない有機溶剤に、前記(A)、(B)、及び(C)を混合して調整できる。そのような有機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;或いはこれらの混合物を挙げることができる。有機溶剤と、前記(A)、(B)、及び(C)との混合割合は、特に限定されないが、塗工液において、前記(A)、(B)、及び(C)を合計した際の濃度が0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%となるようにすることが好ましい。 The composition for forming a low refractive index layer includes the hollow particles (A), the siloxane oligomer (B), and the organic solvent that does not decompose the acrylate compound (C), the (A), (B), and (C) can be mixed and adjusted. Examples of such organic solvents include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; toluene, xylene, and the like Or aromatic hydrocarbons thereof; or mixtures thereof. The mixing ratio of the organic solvent and the (A), (B), and (C) is not particularly limited, but when the above (A), (B), and (C) are summed in the coating liquid The concentration of is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight.
前記低屈折率層形成用組成物には、塗工液中で、前記(A)、(B)、及び(C)を重合させるための重合開始剤(光ラジカル開始剤や熱ラジカル開始剤)、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)、あるいは、その他の成分を含有させても良い。 In the composition for forming a low refractive index layer, a polymerization initiator (photo radical initiator or thermal radical initiator) for polymerizing the (A), (B), and (C) in a coating solution. Further, a curing agent, a crosslinking agent, an ultraviolet blocking agent, an ultraviolet absorber, a surface conditioner (leveling agent), or other components may be contained.
前記低屈折率層形成用組成物の塗工方法は特に限定されない。また、硬化方法には、加熱や活性光線照射が挙げられる。乾燥条件、硬化条件は、使用する溶媒の沸点、飽和蒸気圧等の種類により適宜決定できる。特に、塗工される他の層が着色したり、分解したりするのを抑えるために、加熱する場合には、50〜150℃の範囲内の温度で1〜180分加熱するのが好ましく、75〜105℃の範囲内の温度で5〜60分加熱するのが更に好ましい。また、活性光線を照射する場合には、紫外線等を用いることができる。この際、照射エネルギーが、50〜500mJ/cm2であることが好ましく、100〜450mJ/cm2であることがより好ましく、200〜400mJ/cm2であることがさらに好ましい。 The method for applying the composition for forming a low refractive index layer is not particularly limited. Examples of the curing method include heating and actinic ray irradiation. Drying conditions and curing conditions can be appropriately determined according to the type of solvent used, such as boiling point and saturated vapor pressure. In particular, in order to suppress the other layers to be coated from being colored or decomposed, when heating, it is preferable to heat at a temperature in the range of 50 to 150 ° C. for 1 to 180 minutes, More preferably, heating is performed at a temperature in the range of 75 to 105 ° C. for 5 to 60 minutes. Moreover, when irradiating actinic light, an ultraviolet-ray etc. can be used. At this time, the irradiation energy is preferably from 50 to 500 mJ / cm 2, more preferably 100~450mJ / cm 2, further preferably 200 to 400 mJ / cm 2.
本発明の低屈折率層を形成する低屈折率層形成用組成物は、架橋性化合物を含有していてもよい。架橋性化合物としては、たとえば、メラミン樹脂、グリコール類、アクリル系樹脂、アジド類、イソシアネート類などを挙げることができる。その中でも、低屈折率層を構成する化合物の保存安定性の観点から、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化メラミンまたはこれらの誘導体などのメラミン樹脂が好ましい。架橋性化合物の使用割合は、前記(A)、(B)および(C)を合計したものの100重量部に対して、70重量部以下とすることが好ましく、より好ましくは30重量部以下、さらに好ましくは5〜30重量部である。 The composition for forming a low refractive index layer for forming the low refractive index layer of the present invention may contain a crosslinkable compound. Examples of the crosslinkable compound include melamine resins, glycols, acrylic resins, azides, and isocyanates. Among these, from the viewpoint of the storage stability of the compound constituting the low refractive index layer, melamine resins such as methylolated melamine, alkoxymethylated melamine or derivatives thereof are preferable. The use ratio of the crosslinkable compound is preferably 70 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of (A), (B) and (C). Preferably it is 5-30 weight part.
また、本発明の反射防止体には、前記低屈折率層の防汚性を高めるために、前記低屈折率層の視認側にさらに防汚層が設けられていてもよい。防汚層の形成材料としては、通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用でき、具体的には、パーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用できる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;CVD等の化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。 Moreover, in order to improve the antifouling property of the low refractive index layer, an antifouling layer may be further provided on the viewing side of the low refractive index layer. As a material for forming the antifouling layer, usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used. Specifically, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As the method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method such as CVD; a wet coating method; The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.
本発明の反射防止体は、視認側からの、入射角5度、波長430nm〜700nmの光での反射率の最大値が、通常2.0%以下である。入射角5度の波長550nmでの反射率が、通常1.0%以下である。又、入射角20度の波長430nm〜700nmでの反射率の最大値が、通常2.0%以下である。入射角20度の波長550nmでの反射率が、通常1.0%以下である。各反射率が上記の範囲にあることにより、外部光の映りこみ及びギラツキがなく、視認性に優れた液晶表示装置とすることができる。反射率は、例えば、分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V-550、日本分光社製)を用いて測定できる。 In the antireflection body of the present invention, the maximum reflectance of light with an incident angle of 5 degrees and a wavelength of 430 nm to 700 nm from the viewing side is usually 2.0% or less. The reflectance at a wavelength of 550 nm at an incident angle of 5 degrees is usually 1.0% or less. Moreover, the maximum value of the reflectance at a wavelength of 430 nm to 700 nm at an incident angle of 20 degrees is usually 2.0% or less. The reflectance at an incident angle of 20 degrees and a wavelength of 550 nm is usually 1.0% or less. When each reflectance is in the above range, a liquid crystal display device having excellent visibility without reflection of external light and glare can be obtained. The reflectance can be measured using, for example, a spectrophotometer (ultraviolet visible near infrared spectrophotometer V-550, manufactured by JASCO Corporation).
また、反射防止体は、スチールウール試験前後の反射率の変動が、通常20%以下、好ましくは10%以下である。反射率の変動が20%を超えると、画面のぼやけ、ギラツキが発生することがある。スチールウール試験は、スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、低屈折率層の表面を10回往復させて擦る試験のことである。反射率は、面内の任意の場所5箇所で5回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の反射率の変動は下記式で求めた。Rbはスチールウール試験前の反射率、Raはスチールウール試験後の反射率を表す。
ΔR=(Rb-Ra)/Rb×100(%) (i)
In addition, the antireflection body has a reflectance variation of 20% or less, preferably 10% or less, before and after the steel wool test. If the variation in reflectance exceeds 20%, the screen may be blurred or glaring. The steel wool test is a test in which the surface of the low refractive index layer is rubbed back and forth 10 times with a load of 0.025 MPa applied to steel wool # 0000. The reflectance is measured five times at five arbitrary locations in the plane, and is calculated from the arithmetic average value of these measured values. The change in reflectance before and after the steel wool test was determined by the following formula. Rb represents the reflectance before the steel wool test, and Ra represents the reflectance after the steel wool test.
ΔR = (Rb−Ra) / Rb × 100 (%) (i)
同様にスチールウール試験前後の全光線透過率の変動が、通常10%以内であり、好ましくは8%以内、より好ましくは6%以内である。全光線透過率は、面内の任意の場所5箇所で5回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の全光線透過率の変動は下記式で求めた。Rcはスチールウール試験前の全光線透過率、Rdはスチールウール試験後の全光線透過率を表す。
ΔR=(Rc-Rd)/Rc×100 (%) (ii)
Similarly, the fluctuation of the total light transmittance before and after the steel wool test is usually within 10%, preferably within 8%, more preferably within 6%. The total light transmittance is measured five times at five locations in the plane, and is calculated from the arithmetic average value of these measured values. The fluctuation of the total light transmittance before and after the steel wool test was determined by the following formula. Rc represents the total light transmittance before the steel wool test, and Rd represents the total light transmittance after the steel wool test.
ΔR = (Rc−Rd) / Rc × 100 (%) (ii)
本発明の液晶表示装置においては、前記の出射側偏光子、入射側偏光子、光学異方体、液晶セル、及び反射防止体の他に、他のフィルムまたは層を設けてもよく、例えば、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、光拡散板、導光板、拡散シート、輝度向上フィルムなどを適宜な位置に、1層又は2層以上配置することができる。本発明の液晶表示装置においては、バックライトとして、冷陰極管、水銀平面ランプ、発光ダイオード、エレクトロルミネッセンスなどを用いることができる。 In the liquid crystal display device of the present invention, in addition to the exit side polarizer, the entrance side polarizer, the optical anisotropic body, the liquid crystal cell, and the antireflection body, other films or layers may be provided, for example, A prism array sheet, a lens array sheet, a light diffusing plate, a light guide plate, a diffusing sheet, a brightness enhancement film, and the like can be arranged in one or more layers at appropriate positions. In the liquid crystal display device of the present invention, a cold cathode tube, a mercury flat lamp, a light emitting diode, electroluminescence, or the like can be used as a backlight.
ここで、半透過型液晶表示装置の構成概要について説明する。
図1は、本発明に係る半透過型液晶表示装置を示す概略図である。図1において、半透過型液晶表示装置は、バックライト及び導光板21と、バックライト及び導光板21の上側に配置される偏光板20と、偏光板20の上側に配置される第1光学異方体と、この第1光学異方体の上側に配置される半透過型液晶セルと、半透過型液晶セルの上側に配置される第2光学異方体と、この第2光学異方体の上側に配置される偏光板12と、偏光板12の上側に配置される反射防止体10とを備えている。
Here, an outline of the configuration of the transflective liquid crystal display device will be described.
FIG. 1 is a schematic view showing a transflective liquid crystal display device according to the present invention. In FIG. 1, the transflective liquid crystal display device includes a backlight and
前記第1光学異方体は、偏光板20の上側に配置される1/2波長板19と、1/2波長板19の上側に配置される1/4波長板18とを備えている。1/2波長板19と1/4波長板18とは、約60°の角度で遅相軸が交差している。前記半透過型液晶セルは、前記第1光学異方体側から順に、一部に反射機能を持った透明電極17と、液晶層16と、透明電極15とを備えている。前記第2光学異方体は、1/4波長板14と、1/2波長板13とを備えている。1/2波長板13と、1/4波長板14とは、約60°の角度で遅相軸が交差している。図示を省略するが、反射防止体10は、例えば、偏光板12の上側に設けられる高屈折率層と、この高屈折率層の上に積層される低屈折率層とを備えている。
The first optical anisotropic body includes a half-
次に、反射型液晶表示装置の構成概要について説明する。
図2は、本発明に係る反射型液晶表示装置を示す概略図である。図2において、反射型液晶表示装置は、反射板37と、反射板37の上側に配置される反射型液晶セルと、この反射型液晶セルの上側に配置される光学異方体と、光学異方体の上側に配置される偏光板32と、偏光板32の上側に配置される反射防止体31とを備えている。
Next, an outline of the configuration of the reflective liquid crystal display device will be described.
FIG. 2 is a schematic view showing a reflective liquid crystal display device according to the present invention. In FIG. 2, the reflective liquid crystal display device includes a
前記反射型液晶セルは、液晶層36と、透明電極35と、反射板37側に設けられる透明電極とを備えている。前記光学異方体は、1/4波長板34と、1/4波長板34の上方に設けられる1/2波長板33とを備えている。1/2波長板33と、1/4波長板34とは、約60°の角度で遅相軸が交差している。図示を省略するが、反射防止体31は、例えば、偏光板32の上側に設けられる高屈折率層と、この高屈折率層の上に積層される低屈折率層とを備えている。なお、カラー表示を行う場合には、液晶セルの上側にカラーフィルター層がさらに設けられる。
The reflective liquid crystal cell includes a
以下、実施例および比較例を示して、本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例には限定されない。また、部および%は、特に断りのない限り重量基準である。実施例および比較例において行った測定や評価は、下記の通りである。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the following examples. Parts and% are based on weight unless otherwise specified. Measurements and evaluations performed in Examples and Comparative Examples are as follows.
(1)厚さ
対象となる積層体をエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム(大和工業製(株)、RUB−2100]を用いて0.05μm厚にスライスし、透過電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定した。積層体については、各層ごとに測定した。
(1) Thickness After embedding the target laminate in an epoxy resin, slice it to a thickness of 0.05 μm using a microtome (Daiwa Kogyo Co., Ltd., RUB-2100), and cross section using a transmission electron microscope. The laminate was measured for each layer.
(2)主屈折率
自動複屈折計(王子計測器(株)、KOBRA-21)を用いて、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、波長550nmで光学異方体の面内遅相軸の方向を求め、面内遅相軸方向の屈折率nx、面内で遅相軸に垂直な方向の屈折率ny、厚さ方向の屈折率nzを測定した。
(2) Main refractive index Using an automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments Co., Ltd., KOBRA-21), an optical anisotropic body at a wavelength of 550 nm under a temperature of 20 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 60 ± 5%. The direction of the in-plane slow axis was determined, and the refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction were measured.
(3)レターデーション
高速分光エリプソメーター(J.A.Woollam社、M-2000U)を用い、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で測定した。
(3) Retardation Using a high-speed spectroscopic ellipsometer (JA Woollam, M-2000U), the measurement was performed under conditions of a temperature of 20 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 60 ± 5%.
(4)反射率
分光光度計(日本分光社製:「紫外可視近赤外分光光度計V-570」)を用い、入射角5度で反射スペクトルを測定し、波長430〜700nmにおける最大値、及び波長550nmにおける反射率を求めた。
(4) Reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation: “UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570”), the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 degrees, and the maximum value at a wavelength of 430 to 700 nm, And the reflectance in wavelength 550nm was calculated | required.
(5)低屈折率層および高屈折率層の屈折率
高速分光エリプソメトリ(J.A.Woollam社製、M-2000U)を用い、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、入射角度をそれぞれ55、60、65度で測定した場合の、波長領域400〜1000nmのスペクトルから算出した。
(5) Refractive Index of Low Refractive Index Layer and High Refractive Index Layer High-speed spectroscopic ellipsometry (manufactured by JA Woollam, M-2000U) under conditions of
(6)耐傷性
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で表面を10往復させ、試験後の表面状態を目視で観察した。
○:傷が認められない
×:傷が認められる
(6) Scratch resistance The surface was reciprocated 10 times in a state where a load of 0.025 MPa was applied to steel wool # 0000, and the surface state after the test was visually observed.
○: Scratch is not recognized ×: Scratch is recognized
(7)視認性
黒表示とした時のパネルを目視で観察し二段階で評価した。
○:グレアや映りこみが見られない
×:グレアや映り込みが見られる
(7) Visibility The panel with black display was visually observed and evaluated in two stages.
○: No glare or reflection is seen ×: Glare or reflection is seen
(8)広帯域性
液晶表示パネルを周囲明るさ500ルクスの環境に設置し、反射色を目視観察した。
○:反射色が黒
×:反射色が青
(8) Broadband property The liquid crystal display panel was installed in an environment with an ambient brightness of 500 lux, and the reflected color was visually observed.
○: Reflection color is black ×: Reflection color is blue
(9)コントラスト比
液晶表示パネルを周囲明るさ500ルクスの環境に設置し、透過モードの液晶表示装置を用いて、暗表示の時と明表示の時の正面から5度の位置における輝度を色彩輝度計(トプコン社製、色彩輝度計BM−7)を用いて測定した。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比(=明表示の輝度/暗表示の輝度)を計算し、これをコントラスト(CR)とした。コントラスト(CR)が大きいほど、視認性に優れている。
(9) Contrast ratio The liquid crystal display panel is installed in an environment with an ambient brightness of 500 lux, and the brightness at a position of 5 degrees from the front during dark display and bright display is colored using a transmissive mode liquid crystal display device. It measured using the luminance meter (The Topcon company make, color luminance meter BM-7). Then, the ratio between the brightness of the bright display and the brightness of the dark display (= the brightness of the bright display / the brightness of the dark display) was calculated, and this was used as the contrast (CR). The greater the contrast (CR), the better the visibility.
(10)反射型表示装置の表示評価
作製した反射型液晶表示装置に、それぞれ、1kHzの矩形波電圧を印加した。白表示0V、黒表示4.5Vとして目視で評価を行った。
(10) Display Evaluation of Reflective Display Device A rectangular wave voltage of 1 kHz was applied to each of the manufactured reflective liquid crystal display devices. Visual evaluation was performed with a white display of 0 V and a black display of 4.5 V.
(11)防汚性
低屈折率層表面にマジックインク(商品名:マッキー、ZEBRA社製)を付着させてから、セルロール製不織布(商品名:ベンコットM−3、旭化成社製)で拭き取ったときの状態を目視判定した。
○:完全に拭き取ることができる
×:拭き取り跡が残る
(11) Antifouling property When a magic ink (trade name: McKee, manufactured by ZEBRA) is attached to the surface of the low refractive index layer, and then wiped with a cellulose nonwoven fabric (trade name: Bencott M-3, manufactured by Asahi Kasei). The state of was visually determined.
○: Can be wiped off completely X: Wipe marks remain
(製造例1)原反フィルム1の作製
ノルボルネン系重合体(商品名:ZEONOR 1420R、日本ゼオン社製、ガラス転移温度:136℃、飽和吸水率:0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて110℃で4時間乾燥した。次いで、リーフディスク形状のポリマーフィルター(ろ過精度30μm)が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた平均表面粗さRa=0.04μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、前記ペレットを260℃で溶融押出しして厚み100μm、幅600mmの原反フィルム1を得た。レターデーション値Re(550)は、3nmであった。
(Production Example 1) Production of raw film 1 A pellet of a norbornene-based polymer (trade name: ZEONOR 1420R, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition temperature: 136 ° C., saturated water absorption: less than 0.01% by weight) For 4 hours at 110 ° C. Next, a short shaft having a coat hanger type T-die having an average surface roughness Ra = 0.04 μm and a lip width of 650 mm, in which a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy of 30 μm) is installed and the tip of the die lip is chrome-plated Using an extruder, the pellets were melt extruded at 260 ° C. to obtain a raw film 1 having a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The retardation value Re (550) was 3 nm.
(製造例2)原反フィルム2の作製
製造例1で用いたノルボルネン系重合体からなる層(II層)、スチレン-マレイン酸共重合体(ノヴァ・ケミカル社製、商品名「Daylark D332」、ガラス転移温度130℃、オリゴマー成分含有量3重量%)からなる層(I層)、及び変性したエチレン-酢酸ビニル共重合体(三菱化学社製、商品名「モディックAP A543」、ビカット軟化点80℃)からなる接着剤層(III層)を有する、II層(30μm)-III層(6μm)-I層(150μm)-III層(6μm)-II層(30μm)の未延伸積層体の原反フィルム2を共押出し成形により得た。
(Production Example 2) Production of raw film 2 Layer (II layer) made of norbornene polymer used in Production Example 1, styrene-maleic acid copolymer (manufactured by Nova Chemical Co., Ltd., trade name “Daylark D332”, A layer (I layer) composed of a glass transition temperature of 130 ° C. and an oligomer component content of 3% by weight, and a modified ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name “Modic AP A543”, Vicat softening point 80 Of the unstretched laminate of layer II (30 μm) -III layer (6 μm) -I layer (150 μm) -III layer (6 μm) -II layer (30 μm) having an adhesive layer (III layer) consisting of The anti-film 2 was obtained by coextrusion molding.
(製造例3)高屈折率層形成用組成物H1の調製
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NKオリゴ U-6HA、新中村化学社製)30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート(商品名:NK エステル IB、新中村化学社製)30部、スチレンビーズ(粒径3.5μm)5部、2,2-ジフェニルエタン-1-オン10部をホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子の40重量%MIBK溶液(平均粒子径20nm:水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に1つの割合で結合している。)を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層形成用塗工液全固形分の50重量%占める割合で混合して、高屈折率層形成用組成物H1を調製した。
Production Example 3 Preparation of High Refractive Index Layer Composition H1 Hexafunctional urethane acrylate oligomer (trade name: NK Oligo U-6HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isoboronyl methacrylate ( Product name: NK Ester IB (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, 5 parts of styrene beads (particle size 3.5 μm), 10 parts of 2,2-diphenylethane-1-one were mixed with a homogenizer, and antimony pentoxide fine particles A 40 wt% MIBK solution (
(製造例4)低屈折率層形成用組成物L1の調製
還流管を備えつけた4つ口反応フラスコにエタノール200部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸120部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いで、この溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中に、化合物(b−2)としてのヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン50部、化合物(b−1としての3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン50部、化合物(b−3)としてのテトラメトキシシラン10部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下で加熱を5時間続けた後冷却した。
(Production Example 4) Preparation of composition L1 for forming a low refractive index layer By adding 200 parts of ethanol to a four-necked reaction flask equipped with a reflux tube and adding 120 parts of oxalic acid to this ethanol in small amounts. An ethanol solution of oxalic acid was prepared. Then, this solution was heated to its reflux temperature, and 50 parts of hepadecafluorooctylethyltrimethoxysilane as compound (b-2) and compound (3-acryloxy as b-1) were added to this solution under reflux. A mixture of 50 parts of propyltrimethoxysilane and 10 parts of tetramethoxysilane as compound (b-3) was added dropwise, and after completion of the addition, heating was continued for 5 hours under reflux, followed by cooling.
次に、アクリレート化合物(C)としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート20部と、重合開始剤である2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン5部、さらに、粒径が5〜2000nmの中空粒子としての中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を、中空粒子の割合が固形分基準で70重量%になるように前記溶液に添加し、メタノールにて固形分が1重量%になるように希釈して低屈折率層形成用組成物L1を調製した。
Next, 20 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as the acrylate compound (C), 5 parts of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one as a polymerization initiator, and a particle size of 5 parts Hollow silica isopropanol dispersion sol as a hollow particle of 2000 nm (catalyst chemical industry,
(製造例5)低屈折率層形成用組成物L2の調製
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりに、含フッ素アクリレート化合物である3−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート20部を用いた以外は製造例4と同様にして低屈折率層形成用組成物L2を調製した。
Production Example 5 Preparation of Low Refractive Index Layer Composition L2 Production Example 4 except that 20 parts of 3- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, which is a fluorinated acrylate compound, was used instead of dipentaerythritol hexaacrylate. In the same manner as above, a composition L2 for forming a low refractive index layer was prepared.
(製造例6)低屈折率層形成用組成物L3の調製
ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン50部の代わりに、フルオロアルキル基を有しないシロキサンオリゴマーとしてのテトラメトキシシラン60部を用いた以外は製造例4と同様にして低屈折率層形成用組成物L3を調製した。
(Manufacture example 6) Preparation of composition L3 for low-refractive-index layer formation Except having used 60 parts of tetramethoxysilane as a siloxane oligomer which does not have a fluoroalkyl group instead of 50 parts of heptadecafluorooctylethyltrimethoxysilane. In the same manner as in Production Example 4, a composition L3 for forming a low refractive index layer was prepared.
(製造例7)低屈折率層形成用組成物L4の調製
テトラメトキシシラン152部にメタノール412部を加え、さらに水18部及び0.01Nの塩酸18部を混合し、これを、ディスパーを用いてよく混合した。この混合液を25℃恒温槽中で2時間攪拌して、重量平均分子量を850に調整することにより、シリコーンレジンを得た。次に、このシリコーンレジン溶液に、シリカメタノールゾル(日産化学工業社製、PMA-ST、平均粒子径10〜20nm)/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が80/20となるように添加し、さらに全固形分が3%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用組成物L4を調製した。
(Production Example 7) Preparation of composition L4 for forming a low refractive index layer 412 parts of methanol was added to 152 parts of tetramethoxysilane, 18 parts of water and 18 parts of 0.01N hydrochloric acid were mixed, and this was used with a disper. And mixed well. The mixture was stirred for 2 hours in a constant temperature bath at 25 ° C., and the weight average molecular weight was adjusted to 850 to obtain a silicone resin. Next, to this silicone resin solution, silica methanol sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., PMA-ST,
(製造例8)偏光子の作製
厚さ75μmのPVAフィルム(クラレビニロン#7500)をチャックに装着しヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリウム60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリウム30g/lの組成の水溶液に浸漬するとともに、同時に6.0倍に一軸延伸しつつ5分間に渡ってホウ酸処理を行った。最後に室温で24時間乾燥し偏光子を得た。偏光度は、99.993%であった。
(Production Example 8) Production of Polarizer A PVA film (Kuraray Vinylon # 7500) having a thickness of 75 μm was mounted on a chuck, and 240 seconds at 30 ° C. in an aqueous solution containing 0.2 g / l iodine and 60 g / l potassium iodide. It was immersed, and then immersed in an aqueous solution having a composition of boric acid 70 g / l and potassium iodide 30 g / l, and simultaneously boric acid treatment was performed for 5 minutes while uniaxially stretching 6.0 times. Finally, it was dried at room temperature for 24 hours to obtain a polarizer. The degree of polarization was 99.993%.
(製造例9)偏光子Pの作製
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム(KC8UX2M)の一方の面に、1.5規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を25ml/m2塗布し、25℃で5秒間乾燥した。流水で10秒洗浄し、25℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにしてトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。ケン化処理したフィルム表面が製造例8で得られた偏光子の片面に重なる様にして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼りあわせて、偏光子の入射側面にトリアセチルセルロースフィルムを積層させ、偏光子Pを得た。
(Production Example 9) Production of Polarizer P One side of a triacetyl cellulose film (KC8UX2M) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was applied with 25 ml / m 2 of an isopropyl alcohol solution of 1.5 N potassium hydroxide, and 5 at 25 ° C. Dry for 2 seconds. The surface of the film was dried by washing with running water for 10 seconds and blowing air at 25 ° C. In this way, only one surface of the triacetylcellulose film was saponified. The surface of the saponified film is laminated on one side of the polarizer obtained in Production Example 8 by using a roll-to-roll method using a polyvinyl alcohol-based adhesive, and triacetylcellulose is applied to the incident side of the polarizer. Films were laminated to obtain a polarizer P.
(製造例10)光学異方体C1、C2及びC3の作製
製造例1で得た原反フィルム1を、延伸機を使用して、オーブン温度(予熱温度、延伸温度、熱固定温度)140℃、延伸速度6m/分、縦延伸倍率1.5倍と1.3倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体C1及びC2を得た。得られた光学異方体C1及びC2の波長550nmのレターデーション値[Re(550)]は、それぞれ、265nm、132.5nmであった。上記の光学異方体C1の片面に、上記の光学異方体C2をアクリル系接着剤(住友スリーエム社製、DP−8005クリア)を介して、それぞれの遅相軸の交差角が59°になるように貼り合わせ光学異方体C3を得た。この光学異方体C3のRe(550)と、波長450nmのレターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)は1.005であった。
(Production Example 10) Production of optical anisotropic bodies C1, C2 and C3 The raw film 1 obtained in Production Example 1 was subjected to oven temperature (preheating temperature, stretching temperature, heat setting temperature) 140 ° C. using a stretching machine. Stretching was performed at a stretching speed of 6 m / min and a longitudinal stretching ratio of 1.5 times and 1.3 times to obtain optical anisotropic bodies C1 and C2, respectively. The retardation values [Re (550)] at a wavelength of 550 nm of the obtained optical anisotropic bodies C1 and C2 were 265 nm and 132.5 nm, respectively. On one side of the optical anisotropic body C1, the optical anisotropic body C2 is passed through an acrylic adhesive (Sumitomo 3M, DP-8005 clear) so that the crossing angle of each slow axis is 59 °. As a result, a bonded optically anisotropic body C3 was obtained. The ratio Re (450) / Re (550) of Re (550) of this optical anisotropic body C3 to the retardation value Re (450) at a wavelength of 450 nm was 1.005.
(製造例11)光学異方体C4、C5の作製
原反フィルム2を、テンター延伸機を用いて、延伸温度138℃、延伸倍率1.5倍、延伸速度115%/minで幅方向に対して−13°方向へ斜め延伸を行い、これを3000mに渡ってロール状に巻き取って光学異方体C4を得た。得られた光学異方体C4の波長550nmにおけるレターデーションRe(550)を測定したところ137.2nmであった。上記の光学異方体C4の片面に、製造例10で得られた光学異方体C1をアクリル系接着剤(住友スリーエム社製、DP−8005クリア)を介して、それぞれの遅相軸の交差角が59°になるように貼り合わせ光学異方体C5を得た。この光学異方体C5のRe(450)/Re(550)は0.81であった。
(Production Example 11) Production of optical anisotropic bodies C4 and C5 Using a tenter stretching machine, the raw film 2 was stretched at a temperature of 138 ° C, a stretching ratio of 1.5 times, and a stretching speed of 115% / min with respect to the width direction. Then, the film was obliquely stretched in the −13 ° direction, and was rolled up over 3000 m to obtain an optical anisotropic body C4. The retardation Re (550) at a wavelength of 550 nm of the obtained optical anisotropic body C4 was measured, and it was 137.2 nm. On one side of the optical anisotropic body C4, the optical anisotropic body C1 obtained in Production Example 10 is crossed with each slow axis via an acrylic adhesive (DP-8005 clear, manufactured by Sumitomo 3M Limited). A bonded optically anisotropic body C5 was obtained so that the angle was 59 °. Re (450) / Re (550) of the optical anisotropic body C5 was 0.81.
(製造例12)光学異方体C6、C7及びC8の作製
製造例1で得た原反フィルム1を、延伸機を使用して、オーブン温度(予熱温度、延伸温度、熱固定温度)170℃、フィルム繰り出し速度6m/分、縦延伸倍率1.75倍と1.45倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体C6及びC7を得た。得られた光学異方体C6及びC7の波長550nmのレターデーション値Re(550)は、それぞれ、265nm、132.5nmであった。上記の光学異方体C6の片面に、上記の光学異方体C7をアクリル系接着剤(住友スリーエム社製、DP−8005クリア)を介して、それぞれの遅相軸の交差角が59°になるように貼り合わせ光学異方体C8を得た。この光学異方体C8のRe(450)/Re(550)は1.010であった。
(Production Example 12) Production of optical anisotropic bodies C6, C7 and C8 The raw film 1 obtained in Production Example 1 was subjected to oven temperature (preheating temperature, stretching temperature, heat setting temperature) 170 ° C. using a stretching machine. Stretching was performed at a film feed speed of 6 m / min and a longitudinal stretching ratio of 1.75 times and 1.45 times to obtain optical anisotropic bodies C6 and C7, respectively. The retardation values Re (550) of the obtained optical anisotropic bodies C6 and C7 at a wavelength of 550 nm were 265 nm and 132.5 nm, respectively. On one side of the optical anisotropic body C6, the optical anisotropic body C7 is passed through an acrylic adhesive (manufactured by Sumitomo 3M, DP-8005 clear) so that the crossing angle of each slow axis is 59 °. Thus, an optically anisotropic body C8 was obtained. Re (450) / Re (550) of this optical anisotropic body C8 was 1.010.
(製造例13)低屈折率層付偏光板(TAC基材)の作製
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム(KC8UX2M)の一方の面に、1.5規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を25ml/m2塗布し、25℃で5秒間乾燥した。流水で10秒洗浄し、25℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにしてトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。もう一方の面に、高周波発信機(春日電機社製 高周波電源AGI−024)を用いてコロナ放電処理を出力0.8KWにて行い、表面張力が0.055N/mの両面処理基材フィルムを得た。
Production Example 13 Production of Polarizing Plate with Low Refractive Index Layer (TAC Substrate) On one side of a Konica Minolta Triacetyl Cellulose Film (KC8UX2M) m 2 was applied and dried at 25 ° C. for 5 seconds. The surface of the film was dried by washing with running water for 10 seconds and blowing air at 25 ° C. In this way, only one surface of the triacetylcellulose film was saponified. On the other side, a double-sided substrate film having a surface tension of 0.055 N / m is obtained by performing a corona discharge treatment with an output of 0.8 kW using a high-frequency transmitter (high-frequency power supply AGI-024 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.). Obtained.
次に、製造例3で得られた高屈折率層形成用組成物H1を、前記基材フィルムのコロナ放電処理をした面に、ダイコーターを用いて塗工し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm2)して、厚み5μmの高屈折率層を積層した、積層フィルム1Aを得た。高屈折率層の屈折率は1.62、鉛筆硬度は2Hであった。
上記積層フィルム1Aの高屈折率層側に、製造例4で得られた低屈折率層形成用組成物L1を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、1時間放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚み100nmの低屈折率層を積層した、低屈折率層付基材(TAC基材)を得た。得られた低屈折率層付基材(TAC基材)のケン化処理した表面が製造例8で得られた偏光子の片面に重なる様にして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aを得た。
Next, the composition H1 for forming a high refractive index layer obtained in Production Example 3 was applied to the surface of the base film that had been subjected to corona discharge treatment using a die coater, and was then dried in an oven at 80 ° C. And dried for 5 minutes to obtain a film. Then, the laminated film 1A which irradiated with the ultraviolet-ray (integrated irradiation amount 300mJ / cm < 2 >) and laminated | stacked the high refractive index layer of thickness 5 micrometers was obtained. The refractive index of the high refractive index layer was 1.62, and the pencil hardness was 2H.
The low refractive index layer-forming composition L1 obtained in Production Example 4 is applied to the laminated film 1A on the high refractive index layer side using a wire bar coater, and left to stand for 1 hour to dry. Was heat-treated in an oxygen atmosphere at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate with a low refractive index layer (TAC substrate) in which a low refractive index layer having a thickness of 100 nm was laminated. Roll-to-roll using a polyvinyl alcohol-based adhesive so that the saponified surface of the obtained base material with a low refractive index layer (TAC base material) overlaps one side of the polarizer obtained in Production Example 8. By laminating by the method, a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A was obtained.
(製造例14)低屈折率層付偏光板(COP基材)の作製
製造例1で得られた原反フィルムの両面に、高周波発信機(春日電機社製 高周波電源AGI−024)を用いてコロナ放電処理を出力0.8KWにて行い、表面張力が0.072N/mの基材フィルムを得た。次に、製造例3で得られた高屈折率層形成用組成物H1を前記基材フィルムの片面に、ダイコーターを用いて塗工し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm2)して、厚み5μmの高屈折率層を積層した、積層フィルム1Bを得た。高屈折率層の屈折率は1.62、鉛筆硬度はHであった。
(Production Example 14) Production of Polarizing Plate with Low Refractive Index Layer (COP Base Material) On both sides of the raw film obtained in Production Example 1, a high frequency transmitter (high frequency power supply AGI-024 manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.) was used. Corona discharge treatment was performed at an output of 0.8 KW to obtain a base film having a surface tension of 0.072 N / m. Next, the high refractive index layer-forming composition H1 obtained in Production Example 3 was applied to one side of the base film using a die coater, and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. A coating was obtained. Then, the laminated film 1B which irradiated with the ultraviolet-ray (integrated irradiation amount 300mJ / cm < 2 >) and laminated | stacked the high refractive index layer of thickness 5 micrometers was obtained. The refractive index of the high refractive index layer was 1.62, and the pencil hardness was H.
上記積層フィルム1Bの高屈折率層側に、製造例4で得られた低屈折率層形成用組成物L1を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、1時間放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚み100nmの低屈折率層を積層した低屈折率層付基材(COP基材)を得た。得られた低屈折率層付基材(COP基材)の低屈折率層が積層されていない側の表面が製造例8で得られた偏光子の片面に重なる様にして、アクリル系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを得た。 On the high refractive index layer side of the laminated film 1B, the low refractive index layer-forming composition L1 obtained in Production Example 4 was applied with a wire bar coater, and allowed to stand for 1 hour to dry. Was heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a substrate with a low refractive index layer (COP substrate) in which a low refractive index layer having a thickness of 100 nm was laminated. Acrylic adhesive so that the surface of the obtained low refractive index layer-attached base material (COP base material) on which the low refractive index layer is not laminated overlaps with one side of the polarizer obtained in Production Example 8. Were bonded together by a roll-to-roll method to obtain a polarizing plate with a low refractive index layer (COP substrate) 2C.
(製造例15)観察者側偏光板PO1の作製
製造例10で得られた光学異方体C3と、製造例13で得られた低屈折率層付偏光板2Aを、低屈折率層付偏光板2Aの透過軸と光学異方体C3に積層されている光学異方体C1の遅相軸の交差角が15°になり、かつ光学異方体C3のC1側と低屈折率層付偏光板2Aの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板PO1を作製した。
(Production Example 15) Manufacture of observer-side polarizing plate PO1 The optically anisotropic body C3 obtained in Production Example 10 and the polarizing plate 2A with a low refractive index layer obtained in Production Example 13 are combined with the polarizing plate with a low refractive index layer. The crossing angle between the transmission axis of the plate 2A and the slow axis of the optical anisotropic body C1 laminated on the optical anisotropic body C3 is 15 °, and the C1 side of the optical anisotropic body C3 and the polarized light with a low refractive index layer The observer side polarizing plate PO1 was prepared by stacking so that the polarizer side of the plate 2A was in contact therewith.
(製造例16)バックライト側偏光板PB1の作成
製造例10で得られた光学異方体C3と、製造例9で得られた偏光子Pを、偏光子Pの透過軸と光学異方体C3に積層されている光学異方体C1の遅相軸の交差角が15°になり、かつ光学異方体C3のC1側と偏光子Pの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板PB1を作製した。
(Production Example 16) Production of backlight-side polarizing plate PB1 The optical anisotropic body C3 obtained in Production Example 10 and the polarizer P obtained in Production Example 9 were combined with the transmission axis of the polarizer P and the optical anisotropic body. The optically anisotropic body C1 laminated on C3 is laminated so that the crossing angle of the slow axis is 15 °, and the C1 side of the optical anisotropic body C3 and the polarizer side of the polarizer P are in contact with each other. A side polarizing plate PB1 was produced.
(実施例1)液晶表示装置1の作製
液晶表示装置1において使用したTNモードの液晶セルは、基盤両界面のプレチルト角が2度、ツイスト角が左ねじれ70度、Δndが反射表示部で230nm、透過表示部で略262nmのものである。液晶膜厚は反射電極領域(反射表示部)で3.5μm、透明電極領域(透過表示部)で4.0μmとした。製造例15で得られた観察者側偏光板PO1、上記液晶セル、および製造例16で得られたバックライト側偏光板PB1を、この順序にて積層し、次に、バックライト側偏光板PB1に接する様に、拡散シート、導光板、バックライトをこの順序にて組み込み、液晶表示装置1を作製した。作製した液晶表示装置1の評価結果を表1に示す。
Example 1 Fabrication of Liquid Crystal Display Device 1 The TN mode liquid crystal cell used in the liquid crystal display device 1 has a pretilt angle of 2 degrees on the both interfaces of the substrate, a twist angle of 70 degrees to the left twist, and Δnd of 230 nm in the reflective display portion. The transmissive display portion is approximately 262 nm. The liquid crystal film thickness was 3.5 μm in the reflective electrode region (reflective display portion) and 4.0 μm in the transparent electrode region (transmissive display portion). The observer-side polarizing plate PO1 obtained in Production Example 15, the liquid crystal cell, and the backlight-side polarizing plate PB1 obtained in Production Example 16 were laminated in this order, and then the backlight-side polarizing plate PB1. A diffusion sheet, a light guide plate, and a backlight were assembled in this order so as to be in contact with each other, and the liquid crystal display device 1 was produced. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 1 are shown in Table 1.
(実施例2)液晶表示装置2の作製
製造例13において、低屈折率層形成用組成物L1に換えて、製造例5で得られた低屈折率層形成用組成物L2を用いた他は、製造例13と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Bを得た。次いで、製造例15における低屈折率層付偏光板2Aに換えて、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Bを用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO2を得た。さらに、実施例1において、観察者側偏光板PO1に換えて、観察者側偏光板PO2を用いた他は実施例1と同じ方法で液晶表示装置2を作製した。作製した液晶表示装置2の評価結果を表1に示す。
(Example 2) Production of liquid crystal display device 2 In Production Example 13, instead of the composition L1 for forming a low refractive index layer, the composition L2 for forming a low refractive index layer obtained in Production Example 5 was used. Then, a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2B was obtained in the same manner as in Production Example 13. Subsequently, in place of the polarizing plate 2A with a low refractive index layer in Production Example 15, a polarizing plate PO2 on the observer side in the same manner as in Production Example 15 except that a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2B was used. Got. Further, in Example 1, a liquid crystal display device 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the observer side polarizing plate PO2 was used instead of the observer side polarizing plate PO1. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 2 are shown in Table 1.
(実施例3)液晶表示装置3の作製
製造例15において、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに換えて、製造例14で得られた低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO3を得た。さらに、実施例1における観察者側偏光板PO1に換えて、観察者側偏光板PO3を用いた他は、実施例1と同じ方法で液晶表示装置3を作製した。作製した液晶表示装置3の評価結果を表1に示す。
(Example 3) Production of liquid crystal display device 3 In Production Example 15, the polarizing plate with a low refractive index layer (COP group) obtained in Production Example 14 was used instead of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A. Material) An observer side polarizing plate PO3 was obtained in the same manner as in Production Example 15 except that 2C was used. Further, a liquid crystal display device 3 was produced in the same manner as in Example 1, except that the observer side polarizing plate PO3 was used instead of the observer side polarizing plate PO1. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 3 are shown in Table 1.
(実施例4)液晶表示装置4の作製
製造例15における光学異方体C3に換えて、製造例11で得られた光学異方体C5を用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO4を得た。次に、製造例16における光学異方体C3に換えて、製造例11で得られた光学異方体C5を用いた他は製造例16と同様の方法でバックライト側偏光板PB2を得た。さらに、実施例1において、観察者側偏光板PO1に換えて観察者側偏光板PO4を用い、バックライト側偏光板PB1に換えてバックライト側偏光板PB2用いた他は、実施例1と同じ方法で液晶表示装置4を作製した。作製した液晶表示装置4の評価結果を表1に示す。
Example 4 Production of Liquid Crystal Display 4 Observation was made in the same manner as in Production Example 15 except that the optical anisotropic body C5 obtained in Production Example 11 was used instead of the optical anisotropic body C3 in Production Example 15. A person-side polarizing plate PO4 was obtained. Next, a backlight side polarizing plate PB2 was obtained in the same manner as in Production Example 16, except that the optical anisotropic body C5 obtained in Production Example 11 was used instead of the optical anisotropic body C3 in Production Example 16. . Furthermore, in Example 1, the observer side polarizing plate PO4 is used instead of the observer side polarizing plate PO1, and the backlight side polarizing plate PB2 is used instead of the backlight side polarizing plate PB1. The liquid crystal display device 4 was produced by the method. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 4 are shown in Table 1.
(実施例5)液晶表示装置5の作製
製造例15において、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Aに換えて、製造例14で得られた低屈折率層付偏光板(COP基材)2Cを用い、光学異方体C3に換えて、製造例11で得られた光学異方体C5を用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO5を得た。次に、実施例1における観察者側偏光板PO1に換えて観察者側偏光板PO5を用い、バックライト側偏光板PB1に換えて実施例4で得られたバックライト側偏光板PB2用いて、実施例1と同じ方法で液晶表示装置5を作製した。作製した液晶表示装置5の評価結果を表1に示す。
(Example 5) Production of liquid crystal display device 5 In Production Example 15, instead of the polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2A, the polarizing plate with a low refractive index layer (COP group) obtained in Production Example 14 Material) 2C was used, and instead of the optical anisotropic body C3, an observer-side polarizing plate PO5 was obtained in the same manner as in Production Example 15 except that the optical anisotropic body C5 obtained in Production Example 11 was used. Next, using the observer side polarizing plate PO5 in place of the observer side polarizing plate PO1 in Example 1, using the backlight side polarizing plate PB2 obtained in Example 4 instead of the backlight side polarizing plate PB1, A liquid crystal display device 5 was produced in the same manner as in Example 1. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 5 are shown in Table 1.
(比較例1)液晶表示装置6の作製
製造例12で得られた光学異方体C8と、製造例13で得られた低屈折率層付偏光板2Aを、低屈折率層付偏光板2Aの透過軸と光学異方体C8に積層されている光学異方体C6の遅相軸の交差角が15°になり、かつ光学異方体C8のC6側と低屈折率層付偏光板2Aの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板PO6を作製した。
次に製造例12で得られた光学異方体C8と、製造例9で得られた偏光子Pを、偏光子Pの透過軸と光学異方体C8に積層されている光学異方体C6の遅相軸の交差角が15°になり、かつ光学異方体C8のC6側と偏光子Pの偏光子側が接する様に積層して、バックライト側偏光板PB3を作製した。さらに、実施例1において、観察者側偏光板PO1に換えて、観察者側偏光板PO6を用い、バックライト側偏光板PB1に換えて、バックライト側偏光板PB3を用いた他は実施例1と同じ方法で液晶表示装置6を作製した。作製した液晶表示装置6の評価結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Production of Liquid Crystal Display Device 6 The optical anisotropic body C8 obtained in Production Example 12 and the polarizing plate 2A with a low refractive index layer obtained in Production Example 13 are combined with the polarizing plate 2A with a low refractive index layer. The crossing angle of the slow axis of the optical anisotropic body C6 laminated on the optical anisotropic body C8 is 15 °, and the C6 side of the optical anisotropic body C8 and the polarizing plate 2A with a low refractive index layer Were laminated so that the polarizer side would be in contact with each other, to produce an observer side polarizing plate PO6.
Next, the optical anisotropic body C6 obtained by stacking the optical anisotropic body C8 obtained in Production Example 12 and the polarizer P obtained in Production Example 9 on the transmission axis of the polarizer P and the optical anisotropic body C8. The backlight side polarizing plate PB3 was manufactured by stacking so that the crossing angle of the slow axis was 15 ° and the C6 side of the optical anisotropic body C8 and the polarizer side of the polarizer P were in contact with each other. Furthermore, in Example 1, the observer side polarizing plate PO6 is used instead of the observer side polarizing plate PO1, and the backlight side polarizing plate PB3 is used instead of the backlight side polarizing plate PB1. A liquid crystal display device 6 was produced by the same method as described above. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 6 are shown in Table 1.
(比較例2)液晶表示装置7の作製
製造例13で得られた低屈折率層付偏光板2Aにおいて、低屈折率層形成用組成物L1に換えて製造例6で得られた低屈折率層形成用組成物L3を用いた他は、製造例13と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Dを得た。ついで、製造例15において、低屈折率層付偏光板2Aに換えて、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Dを用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO7を得た。さらに、実施例1において、観察者側偏光板PO1に換えて、観察者側偏光板PO7を用いた他は実施例1と同じ方法で液晶表示装置7を作製した。作製した液晶表示装置7の評価結果を表1に示す。
Comparative Example 2 Production of Liquid Crystal Display Device 7 In the polarizing plate 2A with a low refractive index layer obtained in Production Example 13, the low refractive index obtained in Production Example 6 instead of the low refractive index layer-forming composition L1. A polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2D was obtained in the same manner as in Production Example 13, except that the layer forming composition L3 was used. Subsequently, in Production Example 15, in place of the polarizing plate 2A with a low refractive index layer, a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2D was used in the same manner as in Production Example 15 except that the observer side polarizing plate was used. PO7 was obtained. Further, in Example 1, a liquid crystal display device 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the observer side polarizing plate PO7 was used instead of the observer side polarizing plate PO1. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 7 are shown in Table 1.
(比較例3)液晶表示装置8の作製
製造例13で得られた低屈折率層付偏光板2Aにおいて、低屈折率層形成用組成物L1に換えて製造例7で得られた低屈折率層形成用組成物L4を用いた他は、製造例13と同じ方法で低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Eを得た。ついで、製造例15において低屈折率層付偏光板2Aに換えて、低屈折率層付偏光板(TAC基材)2Eを用いた他は製造例15と同様の方法で観察者側偏光板PO8を得た。さらに、実施例1において、観察者側偏光板PO1に換えて、観察者側偏光板PO8を用いた他は実施例1と同じ方法で液晶表示装置8を作製した。作製した液晶表示装置8の評価結果を表1に示す。
Comparative Example 3 Production of Liquid Crystal Display Device 8 In the polarizing plate 2A with a low refractive index layer obtained in Production Example 13, the low refractive index obtained in Production Example 7 instead of the low refractive index layer-forming composition L1. A polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2E was obtained in the same manner as in Production Example 13, except that the layer forming composition L4 was used. Subsequently, in place of the polarizing plate 2A with a low refractive index layer in Production Example 15, the polarizing plate PO8 on the observer side is the same as in Production Example 15 except that a polarizing plate with a low refractive index layer (TAC substrate) 2E is used. Got. Further, in Example 1, a liquid crystal display device 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that the observer side polarizing plate PO8 was used instead of the observer side polarizing plate PO1. The evaluation results of the manufactured liquid crystal display device 8 are shown in Table 1.
なお、表1において、TACは、トリアセチルセルロースの略であり、COPは、脂環式オレフィンポリマーの略であり、PVAはポリビニルアルコールの略である。 In Table 1, TAC is an abbreviation for triacetyl cellulose, COP is an abbreviation for alicyclic olefin polymer, and PVA is an abbreviation for polyvinyl alcohol.
以上の表1に示すように、実施例1〜5によれば、高コントラストで、かつ十分な反射防止性能(視認性)を確保できるとともに、耐傷性および防汚性にも優れていることが判明した。これに対して、比較例1では、Re(450)/Re(550)の比が1.01であって、1.007を超えていることにより、コントラストの点で劣っていることがわかる。また、比較例2では、フルオロアルキル基を有していないシロキサンオリゴマーを用いたことにより、防汚性が不十分であることがわかる。また、比較例3では、中空粒子を用いていないことにより、耐傷性が不十分であることがわかる。 As shown in Table 1 above, according to Examples 1 to 5, it is possible to ensure high contrast and sufficient antireflection performance (visibility) and to be excellent in scratch resistance and antifouling properties. found. On the other hand, in Comparative Example 1, the ratio of Re (450) / Re (550) is 1.01, which is inferior in terms of contrast when it exceeds 1.007. Moreover, in the comparative example 2, it turns out that antifouling property is inadequate by using the siloxane oligomer which does not have a fluoroalkyl group. Moreover, in the comparative example 3, it turns out that scratch resistance is inadequate by not using the hollow particle.
10、31 反射防止体
12、20、32 偏光板
13、19、33 1/2波長板
14、18、34 1/4波長板
15、35 透明電極
16、36 液晶層
17 透明電極
21 バックライト及び導光板
37 反射板
10, 31
Claims (4)
前記光学異方体は、波長550nmで測定した面内レターデーション値Re(550)と波長450nmで測定した面内レターデーション値Re(450)との比Re(450)/Re(550)が1.007以下であり、
前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分(A)、(B)、および(C)を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備えることを特徴とする、反射型又は半透過型の液晶表示装置。
(A)粒径が5〜2000nmの中空粒子
(B)(メタ)アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
(C)(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート化合物 A liquid crystal display device having a liquid crystal cell, an optical anisotropic body, and an output side polarizer in this order toward the viewing side,
The optical anisotropic body has a ratio Re (450) / Re (550) of an in-plane retardation value Re (550) measured at a wavelength of 550 nm and an in-plane retardation value Re (450) measured at a wavelength of 450 nm. .007 or less,
An antireflection body is provided on the opposite side of the exit side polarizer from the optical anisotropic body, and the antireflection body includes a low component comprising the following components (A), (B), and (C): A reflective or transflective liquid crystal display device comprising a low refractive index layer made of a cured film formed from a composition for forming a refractive index layer.
(A) Hollow particles having a particle size of 5 to 2000 nm (B) Siloxane oligomer having (meth) acryloyl group and fluoroalkyl group (C) Acrylate compound having (meth) acryloyl group
前記低屈折率層形成用組成物が、さらに架橋性化合物を含有することを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1.
The liquid crystal display device, wherein the composition for forming a low refractive index layer further contains a crosslinkable compound.
前記低屈折率層の屈折率が1.40以下であり、かつ、前記低屈折率層に隣接する層との屈折率の差が0.05〜0.4であることを特徴とする液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
A liquid crystal display, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.40 or less and a difference in refractive index from a layer adjacent to the low refractive index layer is 0.05 to 0.4. apparatus.
前記反射防止体は、前記低屈折率層の前記出射側偏光子側に積層された高屈折率層を備え、この高屈折率層の屈折率が1.55以上であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The antireflection body includes a high refractive index layer laminated on the output side polarizer side of the low refractive index layer, and the refractive index of the high refractive index layer is 1.55 or more. Display device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005226143A JP2007041334A (en) | 2005-08-04 | 2005-08-04 | Liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005226143A JP2007041334A (en) | 2005-08-04 | 2005-08-04 | Liquid crystal display |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007041334A true JP2007041334A (en) | 2007-02-15 |
Family
ID=37799370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005226143A Pending JP2007041334A (en) | 2005-08-04 | 2005-08-04 | Liquid crystal display |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007041334A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008242094A (en) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Circularly polarized light separating sheet, manufacturing method, and liquid crystal display device |
JP2009069429A (en) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical laminate, manufacturing method of optical laminate, polarizing plate, and image display device |
JP2018002826A (en) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | Jsr株式会社 | Composition for forming cured film and production method of the composition, cured film, light-diffusing laminate, and display device and method for manufacturing the same |
-
2005
- 2005-08-04 JP JP2005226143A patent/JP2007041334A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008242094A (en) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Nippon Zeon Co Ltd | Circularly polarized light separating sheet, manufacturing method, and liquid crystal display device |
JP2009069429A (en) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical laminate, manufacturing method of optical laminate, polarizing plate, and image display device |
JP2018002826A (en) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | Jsr株式会社 | Composition for forming cured film and production method of the composition, cured film, light-diffusing laminate, and display device and method for manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5045823B2 (en) | Optical laminated film, polarizing plate and optical product | |
US7964251B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP4915114B2 (en) | Protective film for display screen, polarizing plate using the same, and display device | |
JP4682886B2 (en) | Polarizing plate for liquid crystal display and liquid crystal display device | |
JP6167479B2 (en) | Polarizing plate, organic electroluminescence display device, and liquid crystal display device | |
JP2007233215A (en) | Polarizer | |
JPWO2006068200A1 (en) | Optical laminated film for liquid crystal display | |
JP5559670B2 (en) | Time-division binocular stereoscopic transmission type liquid crystal display device | |
JP4682897B2 (en) | Polarizing plate for liquid crystal display and liquid crystal display device | |
JP5052900B2 (en) | Liquid crystal display | |
US7692747B2 (en) | In-plane switching mode liquid crystal display device having a biaxial optically anisotropic member | |
JPWO2006054695A1 (en) | Liquid crystal display | |
JP4813793B2 (en) | Reflective or transflective liquid crystal display device | |
JP2007041334A (en) | Liquid crystal display | |
JP2005037927A (en) | Optical laminated film | |
JP5857091B2 (en) | Stereoscopic image display device | |
JP2006058322A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2007041073A (en) | Liquid crystal display | |
JP2007065191A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP4806992B2 (en) | Liquid crystal display | |
WO2006068216A1 (en) | Liquid crystal display | |
JP2009086047A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
JP2006171623A (en) | Liquid crystal display | |
JP2007041340A (en) | Liquid crystal display | |
WO2006019086A1 (en) | Polarization plate and liquid crystal display device |