JPS62257101A - Optical element having metallic film - Google Patents
Optical element having metallic filmInfo
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- JPS62257101A JPS62257101A JP61100380A JP10038086A JPS62257101A JP S62257101 A JPS62257101 A JP S62257101A JP 61100380 A JP61100380 A JP 61100380A JP 10038086 A JP10038086 A JP 10038086A JP S62257101 A JPS62257101 A JP S62257101A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、金属膜を有する光学的素子に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to an optical element having a metal film.
(従来技術)
金属膜を有する光学素子としては、従来、基板上にアル
ミニウム等の金属層を蒸着法等によシ形成したミラー、
ハーフミラ−2光学式読み取りディスク等が知られてい
る。(Prior Art) Conventionally, optical elements having a metal film include mirrors in which a metal layer of aluminum or the like is formed on a substrate by vapor deposition, etc.
A half-mirror 2 optical reading disc and the like are known.
上記素子用の基材としては、最近、ガラスと比べ、軽量
でおること、生産性がよいこと、加工性がよいこと、耐
衝撃性に優れること、破損しても安全性が高いこと等の
利点から、プラスチック基板が広く用いられるようにな
ってきている。Recently, as base materials for the above elements, compared to glass, it has been developed that it is lightweight, has good productivity, is easy to process, has excellent impact resistance, and is highly safe even if broken. Due to their advantages, plastic substrates are becoming widely used.
一方、プラスチック基板は、ガラスと比べ、金属層との
密着性が劣ること、吸湿性が高いため高温多湿な環境に
置かれると吸湿膨張又はそシのため平面度が低下し高精
度を要求される用途分野への適用が困難であること等の
欠点を有する。特に成形時又は加工時に生じた歪を保有
したままのプラスチック基材では吸湿による残留歪の緩
和に伴う平面度の低下、形状の変形等が顕著に見られる
。On the other hand, compared to glass, plastic substrates have poor adhesion with the metal layer and are highly hygroscopic, so if placed in a high temperature and humid environment, they will expand due to hygroscopic expansion, resulting in a decrease in flatness and require high precision. However, it has drawbacks such as difficulty in applying it to certain application fields. Particularly, in plastic base materials that still retain the distortion generated during molding or processing, reduction in flatness and deformation of shape are noticeable due to the relaxation of residual distortion due to moisture absorption.
プラスチック基板の前記欠点を解消する九めの方法とし
て、一つKは、プラスチック基板そのものの改質でなく
、該基板と金属層との界面に注目した対策が施こされて
いる。例えば、該基板にシリカ微粒子及びエポキシ樹脂
を含む硬質ポリシロキサン系樹脂を塗布し、接着層を設
けた後、この上に金属層を設ける方法が提案されている
(特開昭59−216101号)。The ninth method for solving the above-mentioned drawbacks of plastic substrates is to take measures that focus on the interface between the substrate and the metal layer, rather than modifying the plastic substrate itself. For example, a method has been proposed in which a hard polysiloxane resin containing fine silica particles and an epoxy resin is applied to the substrate, an adhesive layer is provided, and a metal layer is then provided on this (Japanese Patent Laid-Open No. 59-216101). .
また、前記プラスチック基板の吸湿性に基づく欠点を改
善するために、素子の外面又は中間層に液状シリコーン
、溶融パラフィン等で防湿膜を形成する方法も提案され
ている(%開昭59−129824号、特開昭59−1
29825号)。In addition, in order to improve the drawbacks due to the hygroscopicity of the plastic substrate, a method has been proposed in which a moisture-proof film is formed using liquid silicone, molten paraffin, etc. on the outer surface or intermediate layer of the element (Patent Application No. 129824/1983). , JP-A-59-1
No. 29825).
さらに、防湿膜の形成方法としては、酸化ケイ素、ポリ
パラキシレン、ポリエチレン等を素子に真空蒸着する方
法等も知られている。Further, as a method for forming a moisture-proof film, a method of vacuum-depositing silicon oxide, polyparaxylene, polyethylene, etc. onto an element is also known.
プラスチック基板の吸湿性そのものを改善することも知
られている。It is also known to improve the hygroscopicity itself of plastic substrates.
(発明が解決しようとする問題点)
前記接着層を設ける方法は、接着層の形成工程が不可欠
であるという欠点だけでなく、接着層の膜厚を一定に維
持するのが困難であり、素子の面精度を悪化されるとい
う欠点がある。(Problems to be Solved by the Invention) The above method of providing an adhesive layer not only has the disadvantage that a step of forming the adhesive layer is essential, but also has the disadvantage that it is difficult to maintain a constant thickness of the adhesive layer, and the device The disadvantage is that the surface accuracy of the surface is deteriorated.
また、プラスチック基板の吸湿性を改善しても金属層の
接着性は不充分なままである。Further, even if the hygroscopicity of the plastic substrate is improved, the adhesion of the metal layer remains insufficient.
さらに、前記の防湿膜を形成する方法では、プラスチッ
ク基板と金属層との接着性を向上させることができない
だけでなく、防湿膜を形成しても。Furthermore, the above method for forming a moisture-proof film not only fails to improve the adhesion between the plastic substrate and the metal layer, but also does not improve the adhesion between the plastic substrate and the metal layer.
吸湿性に対する長期信頼性が乏しく、複雑な形状の素子
を処理するのに時間がかがシ、また。膜の機械的強度が
低いという問題がある。Long-term reliability regarding moisture absorption is poor, and it takes time to process elements with complex shapes. There is a problem that the mechanical strength of the membrane is low.
本発明は、このような問題点に対し、第1にプラスチッ
ク基板と金属層の密着性向上を解決するものであり、第
2に素子の耐熱性・吸湿性を解決するものである。The present invention addresses these problems, firstly by improving the adhesion between the plastic substrate and the metal layer, and secondly by improving the heat resistance and moisture absorption of the element.
(問題点を解決するための手段)
本発明は、エステル部分が炭素数5〜22個の脂環式炭
化水素基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸
エステル〔以下、「(メタ)アクリル酸脂環式エステル
」という〕1100〜5重量%び他の共重合可能な不飽
和単量体0〜95重量%を重合させて得られる重合体を
含む樹脂成分に。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a methacrylic acid ester or an acrylic acid ester in which the ester moiety has an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms [hereinafter referred to as "(meth)acrylic acid alicyclic hydrocarbon group". A resin component containing a polymer obtained by polymerizing 1100 to 5% by weight of the formula ester and 0 to 95% by weight of other copolymerizable unsaturated monomers.
(al 一般式(11
〔ただし9式中# R+’は水素又は炭素数1〜6のア
さらに置換基を有していてもよい)、R”は炭素数1〜
6のアルキレン基(これは、さらに置換基を有していて
もよい)、R4は1〜4価で炭素数1〜30の脂肪族基
(これは、さらに置換基を有していてもよく、基中にエ
ーテル結合及びチオエーテル結合のうち少なくとも一種
を1個以上有していてもよい)又は芳香族基、mHR”
の繰)返し数で0又は1並びにnは置換基数で1〜4の
整数を示す〕で表わされる化合物。(al General formula (11 [However, in formula 9, #R+' may have hydrogen or a carbon number of 1 to 6 and a further substituent), R" has a carbon number of 1 to 6.
6 alkylene group (which may further have a substituent), R4 is a monovalent to tetravalent aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms (which may further have a substituent) , the group may have at least one of at least one of an ether bond and a thioether bond) or an aromatic group, mHR''
The number of repetitions is 0 or 1, and n is an integer of 1 to 4 as the number of substituents.
(bl ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール及び
仁の置換体
並びK
(C) 有機ホスファイト化合物
からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合
してなる基材に金属膜を形成してなる金属膜を有する光
学的素子に関する。(bl) Hydroxyphenylbenzotriazole and a substituted compound of hydroxyphenyl benzotriazole and K (C) An optical device having a metal film formed by forming a metal film on a base material blended with at least one compound selected from the group consisting of organic phosphite compounds. Concerning elements.
まず、前記重合体について説明する。First, the polymer will be explained.
前記重合体は、(メタコアクリル酸脂環式エステルの単
独重合若しくは共重合及び該エステルと他の共重合可能
な不飽和単量体との共重合によって得られ、(メタ)ア
クリル酸脂環式エステルは全単量体に対して100〜5
重量%使用される。The polymer is obtained by homopolymerization or copolymerization of alicyclic methacrylic ester and copolymerization of the ester with another copolymerizable unsaturated monomer, Ester is 100-5 based on total monomers
% by weight used.
該(メタ)アクリル酸脂環式エステルが5重量%未満で
は、前記(a)、 (bl及び(C)からなる群から選
ばれる少なくとも一種の化合物と相まって、前記基材と
金属層の密着性を向上させることができない。When the (meth)acrylic acid alicyclic ester is less than 5% by weight, in combination with at least one compound selected from the group consisting of (a), (bl and (C)), the adhesion between the base material and the metal layer is reduced. cannot be improved.
該(メタ)アクリル酸脂環式エステルは、全単量体に対
して100〜10重量%使用するのが好ましい。前記重
合体は、金属層との密着性を向上させるだけでなく、そ
れ自身9通常、耐熱性及び耐吸湿性に優れる。The (meth)acrylic acid alicyclic ester is preferably used in an amount of 100 to 10% by weight based on the total monomers. The polymer not only improves the adhesion with the metal layer, but also itself usually has excellent heat resistance and moisture absorption resistance.
(メタ)アクリル酸脂環式エステルとしては。As a (meth)acrylic acid alicyclic ester.
メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル。Cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methylcyclohexyl methacrylate.
メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸
ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタ
クリル酸インボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタク
リル酸メンチル、メタクリル酸7エンチル、メタクリル
酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、
メタクリル酸トリシクC’ C5,2,1,0” )デ
カ−8−イル(メタクリル酸トリシクロデシル)、メタ
クリル酸トリシクロ〔翫41.0”−’)デカ−4−メ
チル、メタクリル酸シククドデシル等のメタクリル酸エ
ステル及びこれらと同様のエステル部分を有するアクリ
ル酸エステルがある。これらのうち、脂環式炭化水素基
中に三級炭素原子を三個以上有する(メタ)アクリル酸
脂環式エステルが、1熱性及び金属膜との密着性の点か
ら好ましく、また、このうち。Trimethylcyclohexyl methacrylate, norbornyl methacrylate, norbornylmethyl methacrylate, inbornyl methacrylate, bornyl methacrylate, menthyl methacrylate, 7-ethyl methacrylate, adamantyl methacrylate, dimethyladamantyl methacrylate,
TricycloC'C5,2,1,0'')dec-8-yl (tricyclodecyl methacrylate), tricyclo[翫41.0''-')dec-4-methyl methacrylate, cyclodecyl methacrylate, etc. There are methacrylic esters and acrylic esters having ester moieties similar to these. Among these, (meth)acrylic acid alicyclic esters having three or more tertiary carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group are preferable from the viewpoint of monothermal property and adhesion with the metal film. .
耐熱性の点からは、メタクリル酸のエステルが好ましい
。特に好ましいものを例示するとメタクリル酸ノルボル
ニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸
トリシクロデシル、メタクリル酸トリシクロ〔5,2,
1,0”1デカ−4−メチル等がある。From the viewpoint of heat resistance, esters of methacrylic acid are preferred. Particularly preferred examples include norbornyl methacrylate, norbornylmethyl methacrylate, tricyclodecyl methacrylate, tricyclo[5,2,
1,0"1 deca-4-methyl, etc.
(メタ)アクリル酸脂環式エステルと共重合可能な不飽
和単量体としては、不飽和脂肪酸エステ不飽和脂肪酸エ
ステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル等
のアクリル酸アルキルエステル、アクリル酸フェニル、
アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル等のアクリル
酸芳香族エステル、アクリル酸フルオロフェニル、アク
リル酸クロロフェニル、アクリル酸ブロモフェニル、ア
クリル酸フルオロベンジル、アクリル酸クロロベンジル
、アクリル酸ブロモベンジル等のアクリル酸置換芳香族
エステル、アクリル酸フルオロメチル、アクリル酸フル
オロエチル、アクリル酸クロロエチル、アクリル酸ブロ
モエチル等のアクリル酸ハロゲン化アルキルエステル、
アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、アクリル酸グ
リシジル、アクリル酸エチレングリコールエステル、ア
クリル酸ポリエチレングリコールエステル。Examples of unsaturated monomers copolymerizable with (meth)acrylic acid alicyclic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate. Acrylic acid alkyl esters, phenyl acrylates, etc.
Acrylic acid aromatic esters such as benzyl acrylate and naphthyl acrylate; substituted aromatic acrylic acids such as fluorophenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, bromophenyl acrylate, fluorobenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, and bromobenzyl acrylate; Acrylic acid halogenated alkyl esters such as esters, fluoromethyl acrylate, fluoroethyl acrylate, chloroethyl acrylate, and bromoethyl acrylate;
Acrylic acid hydroxyalkyl ester, acrylic acid glycidyl acrylate, acrylic acid ethylene glycol ester, acrylic acid polyethylene glycol ester.
アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、アクリル
酸シアノアルキルエステルなどのアクリル酸エステル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル等のメタク
リル酸アルキルエステル、メタクリル酸フェニル、メタ
クリル酸ベンジル、メタクリル酸ナフチル等のメタクリ
ル酸芳香族エステル、メタクリル酸フルオロフェニル、
メタクリル酸クロロフェニル、メタクリル酸ブロモフェ
ニル、メタクリル酸フルオロベンジル、メタクリル酸ク
ロロベンジル、メタクリル酸ブロモベンジル等のメタク
リル酸置換芳香族エステル、メタクリル酸フルオロメチ
ル、メタクリル酸フルオaエチル、メタクリル酸りT:
Ir:1エチル、メタクリル酸ブロモエチル等のメタク
リル酸ハロゲン化アルキルエステル、メタクリル酸ヒド
ロキシアルキルエステル、メタクリル酸グリシジル、メ
タクリル酸エチレングリコールエステル、メタクリル酸
ポリエチレングリコールエステル、メタクリル酸アルキ
ルアミノアルキルエステル、メタクリル酸シアノアルキ
ルエステルなどのメタクリル酸エステル、α−フルオロ
アクリル酸エステル、α−クロロアクリル酸エステル、
α−シアンアクリル酸エステルなどのα−置換アクリル
酸ニスf k fz 、!l”がある。Acrylic acid esters such as acrylic acid alkylaminoalkyl ester, acrylic acid cyanoalkyl ester,
Methacrylic acid alkyl esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate; methacrylic acid aromatic esters such as phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, and naphthyl methacrylate; fluorophenyl methacrylate;
Substituted aromatic esters of methacrylic acid such as chlorophenyl methacrylate, bromophenyl methacrylate, fluorobenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, bromobenzyl methacrylate, fluoromethyl methacrylate, fluoro-aethyl methacrylate, T methacrylate:
Ir: 1-ethyl, halogenated alkyl methacrylate such as bromoethyl methacrylate, hydroxyalkyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethylene glycol methacrylate, polyethylene glycol methacrylate, alkylaminoalkyl methacrylate, cyanoalkyl methacrylate Methacrylic esters such as esters, α-fluoroacrylic esters, α-chloroacrylic esters,
α-substituted acrylic acid varnish f k fz , such as α-cyanoacrylate ester! There is "l".
芳香族ビニル化合物としては、スチレン又はα−メチル
スチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン
、α−クロルスチレン等のα−置換スチレン、フルオロ
スチレン、クロルスチレン。Examples of the aromatic vinyl compound include styrene or α-substituted styrenes such as α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-fluorostyrene, and α-chlorostyrene, fluorostyrene, and chlorostyrene.
ブロモスチレン、メチルスチレン、ブチルスチレン、メ
トキシスチレン等の核置換スチレンがある。Nucleically substituted styrenes include bromostyrene, methylstyrene, butylstyrene, and methoxystyrene.
シアン化ビニル化合物としては、アクリロニトリル、メ
タシクロニトリル等がある。Examples of vinyl cyanide compounds include acrylonitrile and metacyclonitrile.
不飽和二塩基酸及びその誘導体としては、N−メチルマ
レイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイ
ミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレ
イミド、N−フェニルマレイミド、N−メチルフェニル
マレイミド、N−クロロフェニルマレイミド N−メト
キシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレ
イミド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等がある。Unsaturated dibasic acids and their derivatives include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-methylphenylmaleimide, N-chlorophenyl Maleimide Examples include N-substituted maleimides such as N-methoxyphenylmaleimide and N-carboxyphenylmaleimide, maleic acid, maleic anhydride, and fumaric acid.
不飽和脂肪酸及びその誘導体としては、アクリルアミド
、メタクリルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、N
−ジエチルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリルア
ミド、N−ジエチルメタクリルアミド等の(メタ)アク
リルアミド類、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カ
ルシウム、アクリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム
、アクリル酸鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸すず、メ
タクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛な
どのアクリル酸又はメタクリル酸の金属塩。Unsaturated fatty acids and their derivatives include acrylamide, methacrylamide, N-dimethylacrylamide, N
- (Meth)acrylamides such as diethylacrylamide, N-dimethylmethacrylamide, N-diethylmethacrylamide, calcium acrylate, calcium methacrylate, barium acrylate, barium methacrylate, lead acrylate, lead methacrylate, tin acrylate , metal salts of acrylic acid or methacrylic acid, such as tin methacrylate, zinc acrylate, and zinc methacrylate.
アクリル酸、メタクリル酸などがある。Examples include acrylic acid and methacrylic acid.
これらの共重合可能な他の単量体のうち、芳香族ビニル
化合物の使用が吸湿率を低下させるために好ましい。Among these other copolymerizable monomers, it is preferable to use aromatic vinyl compounds in order to reduce the moisture absorption rate.
本発明の重合体を製造する方法としては、ラジカル重合
やイオン重合等の公知の方法が適用できる。例えば重合
開始剤の存在下で塊状重合、溶液重合、P+濁重合など
の方法で製造できる。As a method for producing the polymer of the present invention, known methods such as radical polymerization and ionic polymerization can be applied. For example, it can be produced by methods such as bulk polymerization, solution polymerization, and P+ turbid polymerization in the presence of a polymerization initiator.
重合に用いる開始剤としては2例えば過酸化ベンゾイル
、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサ
ヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサノニー)、1.1−ジ−t−ブチルパーオキ
シ−3,3,5−)リメチルシクロヘキサンなどの有機
過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビ
スシクロヘキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベン
ゾイルなどのアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アン
モニウムに代表される水溶性触媒及び過酸化物あるいは
過硫酸塩と還元剤の組合せKよるレドックス触媒など通
常のラジカル重合に使用できるものはいずれも可能であ
る。重合触媒はモノマーの総量に対して0.01〜】O
重t%の範囲で使用されるのが好ましい。重合調節剤と
してのメルカプタン系化合物、チオグリコール、四臭化
炭素。Examples of initiators used in the polymerization include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanony), and 1,1-di-t- Organic peroxides such as butylperoxy-3,3,5-)limethylcyclohexane, azobisisobutyronitrile, azobis-4
- Azo compounds such as methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, azodibenzoyl, water-soluble catalysts such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and peroxides or persulfates. Any catalyst that can be used in normal radical polymerization, such as a redox catalyst using reducing agent combination K, can be used. The polymerization catalyst is 0.01~]O based on the total amount of monomers.
It is preferable to use it in a range of t% by weight. Mercaptan compounds, thioglycol, carbon tetrabromide as polymerization regulators.
α−メチルスチレンダイマーなどが分子量調節のために
必要に応じて添加しうる。α-methylstyrene dimer or the like may be added as necessary to adjust the molecular weight.
重合温度は0〜200℃の間で適宜選択するのが好まし
く1%に5θ〜120℃が好ましい。The polymerization temperature is preferably selected appropriately between 0 and 200°C, preferably 1% and 5θ to 120°C.
溶液重合における溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロルエチレン等が使
用できる。Solvents for solution polymerization include benzene, toluene,
Xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, dichloroethylene, etc. can be used.
懸濁重合は、水性媒体中で行なわれ、懸濁剤および必要
に応じ懸濁助剤が添加される。懸濁剤としてハウポリビ
ニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド等の水溶性高分子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネ
シウム等の難溶性無機物質等があり、水溶性高分子はモ
ノマーの総量に対して0.03〜1重量%及び難溶性無
機物質はモノマーの総量に対して0.05〜0.5重i
[使用するのが好ましい。Suspension polymerization is carried out in an aqueous medium, with the addition of suspending agents and, if necessary, suspension aids. Suspending agents include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, methyl cellulose, and polyacrylamide, and sparingly soluble inorganic substances such as calcium phosphate and magnesium pyrophosphate. 1% by weight and the poorly soluble inorganic substance is 0.05 to 0.5% by weight based on the total amount of monomers.
[Preferably used.
懸ffi助剤トしてハ、ドデシルベンゼンスルホン酸ソ
ーダ等の陰イオン界面活性剤があり、懸濁剤として難溶
性無機物質を使用する場合は、併用する方が好ましい。As a suspending agent, there are anionic surfactants such as sodium dodecylbenzenesulfonate, and when a sparingly soluble inorganic substance is used as a suspending agent, it is preferable to use them together.
懸濁助剤はモノマーの総量に対してO,OO1〜0.0
2重量%使用するのが好ましい。The suspension aid is O,OO1-0.0 based on the total amount of monomers.
Preferably, 2% by weight is used.
本発明に用いる重合体は、その分子量についてが10.
OOO〜1.000.000の範囲のものが好ましく
、この範朋のものは特に、成形材料として使用する場合
に好ましい。The polymer used in the present invention has a molecular weight of 10.
Those in the range of OOO to 1.000.000 are preferred, and those in this range are particularly preferred when used as a molding material.
また9本発明に用いる重合体は、特に優れた低吸湿性を
維持する観点からは1重合体の元素分析による分子中の
炭素原子の比率が60][71以上であることが好まし
い。Furthermore, from the viewpoint of maintaining particularly excellent low hygroscopicity, the polymer used in the present invention preferably has a carbon atom ratio of 60][71 or more in the molecule as determined by elemental analysis of one polymer.
本発明における前記重合体は、一種で若しくは二種以上
のブレンド物として又はこれらと他の樹、脂とのブレン
ド物として樹脂成分を形成する。The above-mentioned polymers in the present invention form the resin component singly or as a blend of two or more thereof, or as a blend of these and other resins or resins.
ここで、ブレンド物の製造法としては、前記重合体同士
、又は前記重合体と他の樹脂を押出機。Here, as a method for producing a blend, the above-mentioned polymers or the above-mentioned polymer and another resin are extruded.
射出成形機、圧縮成形機、ロール等で溶融混練する方法
、前記重合体又は他の樹脂を前記重合体若しくは他の樹
脂の原料モノマーに溶解後重合する方法、前記重合体同
士又は前記重合体と他の樹脂を溶剤に溶解した後溶剤を
除去する方法等がある。A method of melt-kneading with an injection molding machine, a compression molding machine, a roll, etc., a method of dissolving the above polymer or other resin in a raw material monomer of the above polymer or other resin, and then polymerizing it, a method of polymerizing the above polymers with each other or with the above polymers. There are methods such as dissolving another resin in a solvent and then removing the solvent.
□ブレンドされる他の樹脂の例として、ポリスチレン、
ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸メチル−ス
チレン共重合体、塩化ビニル。□ Examples of other blended resins include polystyrene,
Polymethyl methacrylate, polycarbonate, styrene-acrylonitrile copolymer, methyl methacrylate-styrene copolymer, vinyl chloride.
スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル
ープタジニンースチレン共重合体、アクリル酸エステル
−アクリロニトリル−スチレン共重合体、直鎖ポリエス
テル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリアセ
タール等がある。Examples include styrene-maleic anhydride copolymer, acrylonitriloptazine-styrene copolymer, acrylic acid ester-acrylonitrile-styrene copolymer, linear polyester, polyphenylene oxide, polyamide, polyacetal, and the like.
本発明の樹脂成分は、該樹脂成分の飴愈に対して、(メ
タ)アクリル酸脂環式エステル成分を100〜5重量%
含むのが好ましく、特に100〜10重f&%含むのが
特に好ましい。これが少なすぎると基材と金属膜の密着
性が十分向上しない。The resin component of the present invention contains a (meth)acrylic acid alicyclic ester component in an amount of 100 to 5% by weight based on the weight of the resin component.
It is preferable to contain, particularly preferably 100 to 10% F&%. If this amount is too small, the adhesion between the base material and the metal film will not be sufficiently improved.
また、この樹脂成分は、耐熱性及び耐吸湿性も良好であ
る。これらの利点をより確実にするためには、(メタ)
アクリル酸脂環式エステル成分は前記樹脂成分に対して
10重量幅以上含まれるのが好ましい。Moreover, this resin component also has good heat resistance and moisture absorption resistance. To ensure these benefits, (meta)
It is preferable that the acrylic acid alicyclic ester component is contained in an amount of 10 or more by weight based on the resin component.
また2本発明に係る金属膜を有する光学的素子の吸湿に
よる寸法変化を防ぐため(寸法安定性を確実にするため
)には、あるいは、全1!4膜層を作成するにあたって
樹脂基材中に含まれる水分の逸散による金属膜の密着性
の低下を防止するためには前記樹脂成分は、その飽和吸
水率が1重量−以下であることが好ましく、0.6重量
%以下であるのがより好ましく、0.4重量−以下であ
るのが最も好ましい。また、耐熱性の点から前記樹脂成
分のガラス転移点は110℃以上であるのが好ましい。In addition, in order to prevent dimensional changes due to moisture absorption of the optical element having the metal film according to the present invention (to ensure dimensional stability), or when creating all 1!4 film layers, it is necessary to In order to prevent the adhesion of the metal film from decreasing due to the dissipation of moisture contained in the resin component, the saturated water absorption rate of the resin component is preferably 1% by weight or less, and preferably 0.6% by weight or less. is more preferable, and most preferably 0.4 weight or less. Further, from the viewpoint of heat resistance, it is preferable that the glass transition point of the resin component is 110° C. or higher.
次に、前記(a)、 (b)及び(C)の化合物につい
て説明する。Next, the compounds (a), (b) and (C) will be explained.
一般式(■)で表わされる化合物(a)は、基ル6
(ここで、R1及びR2は、前記と同様である)で表わ
される基を有することが必要である。この基において、
水酸基は結合に対してパラ位又はオルト位に存在するの
が好ましく、水酸基がパラ位に結合している場合、二つ
のメタ位のうち一ケ所又は二ケ所にアルキル基が結合し
ているのが好ましく。The compound (a) represented by the general formula (■) needs to have a group represented by group 6 (herein, R1 and R2 are the same as above). In this group,
The hydroxyl group is preferably present at the para or ortho position relative to the bond, and when the hydroxyl group is bonded to the para position, it is preferable that the alkyl group is bonded to one or two of the two meta positions. Preferably.
水酸基がオルト位に結合しているときは、パラ位にアル
キル基が結合しているのが好ましい。When the hydroxyl group is bonded to the ortho position, it is preferable that the alkyl group is bonded to the para position.
また、一般式+11中、R4が一価の基である場合。Further, in general formula +11, when R4 is a monovalent group.
炭素数1〜30のアルキル基、基−R’ −X −R6
。Alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, group -R' -X -R6
.
基−R7−X−R’−X’−R@又はフェニル基若しく
はアルキル基、ハロゲン等で置換されたフェニル基であ
るのが好ましい。The group -R7-X-R'-X'-R@ or a phenyl group or an alkyl group, a phenyl group substituted with a halogen or the like is preferable.
ここで、基−R5−X −R6は次のものである。すな
わちe−R’−は、炭素数1以上のアルキレン基。Here, the group -R5-X-R6 is as follows. That is, e-R'- is an alkylene group having 1 or more carbon atoms.
R6は炭素数1以上のアルキル基及びXは酸素又はイオ
ウであり、R5とR6の炭素数の総和は2以上であって
、30以下が好ましい。R5及びR6は、さらに置換基
を有していてもよい。R6 is an alkyl group having 1 or more carbon atoms, and X is oxygen or sulfur, and the total number of carbon atoms in R5 and R6 is preferably 2 or more and 30 or less. R5 and R6 may further have a substituent.
また、基−R’ −X −rL” −X’−R”は次の
ものである。すなわち、R7及びR1は各々独立して炭
素数1以上のアルキレン基 Reは炭素数1以上のアル
キル基、X及びX′は各々独立して酸素又はイオウであ
り# R’# R”及びR9の炭素数の総和は3以上で
あって、30以下が好ましい。1%7. R8及びR9
は、さらに置換基を有していてもよい。Moreover, the group -R'-X-rL''-X'-R'' is as follows. That is, R7 and R1 are each independently an alkylene group having 1 or more carbon atoms, Re is an alkyl group having 1 or more carbon atoms, X and X' are each independently oxygen or sulfur, and #R'#R'' and R9 are The total number of carbon atoms is 3 or more and preferably 30 or less. 1%7. R8 and R9
may further have a substituent.
また、R4が二価の基である場合、炭素数1〜30のア
ルキレン基、前記の基−R5−X−R@でWが三価又は
R6が二価になったもの、前記の基−R7−X −R8
−X’−R會で R7若しくはR1が三価又はR会が二
価になったものが好ましい。In addition, when R4 is a divalent group, an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, the above group -R5-X-R@ in which W is trivalent or R6 is divalent, the above group - R7-X-R8
In the -X'-R group, R7 or R1 is preferably trivalent or R group is divalent.
さらに R4が三価又は四価の場合、三価又は四価の脂
肪族炭化水素基であるのが好ましく、四価の場合は炭素
であってもよい。Further, when R4 is trivalent or tetravalent, it is preferably a trivalent or tetravalent aliphatic hydrocarbon group, and when R4 is tetravalent, it may be carbon.
一般式(1)中、 R1,RF、 R3及びR4並びに
前記R5゜R6,It、?、 R’及びR9において、
有していてもよい置換基としては、塩素原子、臭素原子
等のハロゲン、フェニル基などがある。In general formula (1), R1, RF, R3 and R4, and the R5°R6, It, ? , in R' and R9,
Examples of substituents that may be present include halogens such as chlorine atoms and bromine atoms, and phenyl groups.
一般式+1)で示される化合物の例としては、n−オク
タデシル3−(≦5′−ジーt−ブチルー4′−ヒドロ
キシフェニル)−フロビオネート、n−オクタデシル3
.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテ
ート、ネオ−ドデシル3−(3,’5′−シーt−ブチ
ルー4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデ
シル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)グロビオネート、エチルα−(&5−ジーt
−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)−イソブチV−ト
、オクタデシルα−(&5−ジーt−ブチルー4−ヒド
ロキシフェニルンーインブチレート、オクタデシルα−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−グロピオネート、λ4−ジーt−ブチルフェニル−3
:5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエー
ト、2−Cn−オクチルチオ)エチル−3:5′−ジ−
t−ブチル−4′−ヒドロキシベンゾニー)、2−(n
−オクチルチオ)エチル−3:s’−シーt−フチルー
4′−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オク
タデシルチオ)エチA/ r s/−シーt−ブチル−
4′−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オク
タデシルチオ)エチルス5′−シーt−フチルー4′−
ヒドロキシベンゾニー)、2−(2−ヒドロキシエチル
チオ)エチル3:5′−シーt−ブチル−4′−ヒドロ
キシベンゾエート、42′−チオジェタノールビス<
a s’ −シーt−7’チル−41−ヒドロキシフェ
ニル)アセテート、ジエチレングリコールビス(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)フロビオ
ネート、2−(n−オクタデシルチオ>a−(,3′5
’−’)−1−7’チル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート、2.2’−チオジェタノール−ビス−3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル
)グロビオネート、1.2−プロピレン−グリコールビ
ス−〔3−(3:5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート、エチレンゲルコールビ
ス−(3−(3:s’−ジーを一ブチルー4′−ヒドロ
キシフェニル)フロビオネート〕、ネオペンチルグリコ
ールビス(a−us’−ジーt−ブチル−4′−ヒドロ
キシフェニル)フロビオネート)、 エチレングリコー
ル−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキン
7エ二ル)アセテート、グリセリン−1−n−オクタデ
シルチオ)−2,3−ビス−くべ5′−ジ−t−ブチル
−4′−ヒドロキシフェニル)アセテート、ペンタエリ
トリット−テトラキス−2−2−(3:5’−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−)、1
.1.1−トリメチロール−トリス−3−<3:s’−
ジ−t−ブチル−4′ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート、1,2.3−ブタントリオ−ルートリス−〔3−
(3:5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフエニ
ル)プロピオネ−θ、1.6−n−ヘキサンジオール−
ビス〔(3:5′−ジ−t−ブチルー4′−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネ−がある。Examples of compounds represented by the general formula +1) include n-octadecyl 3-(≦5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)-flobionate, n-octadecyl 3-
.. 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate, neo-dodecyl 3-(3,'5'-se-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate, dodecyl-β-(3,5-di-t -butyl-4-hydroxyphenyl)globionate, ethyl α-(&5-di-t)
-Butyl-4-hydroxyphenyl)-isobutyrate, octadecyl α-(&5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl-imbutyrate, octadecyl α-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
- Gropionate, λ4-di-t-butylphenyl-3
:5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate, 2-Cn-octylthio)ethyl-3:5'-di-
t-butyl-4'-hydroxybenzony), 2-(n
-octylthio)ethyl-3: s'-t-phthyl-4'-hydroxyphenylacetate, 2-(n-octadecylthio)ethyl A/ r s/-t-butyl-
4'-Hydroxyphenylacetate, 2-(n-octadecylthio)ethyl 5'-t-phthyl 4'-
hydroxybenzony), 2-(2-hydroxyethylthio)ethyl 3:5'-thet-butyl-4'-hydroxybenzoate, 42'-thiodietanol bis<
a s'-sheet t-7'thyl-41-hydroxyphenyl) acetate, diethylene glycol bis(3,5
-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) flobionate, 2-(n-octadecylthio>a-(,3'5
'-')-1-7'thyl-4-hydroxyphenyl)propionate, 2,2'-thiodiethanol-bis-3
-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)globionate, 1,2-propylene-glycol bis-[3-(3:5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate , ethylene gelcol bis-(3-(3:s'-di-butyl-4'-hydroxyphenyl) flobionate), neopentyl glycol bis(a-us'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) flobionate ), ethylene glycol-bis-(3,5-di-t-butyl-4-hydroquine-7enyl)acetate, glycerin-1-n-octadecylthio)-2,3-bis-kube5'-di- t-Butyl-4'-hydroxyphenyl)acetate, pentaerythritol-tetrakis-2-2-(3:5'-di-t-
butyl-4-hydroxyphenyl)propione), 1
.. 1.1-trimethylol-tris-3-<3:s'-
di-t-butyl-4'hydroxyphenyl)propionate, 1,2,3-butane trio-root tris-[3-
(3:5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propione-θ, 1.6-n-hexanediol-
Bis[(3:5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propione.
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール及びこの置換体
(b)としては、一般式tll)〔ただし9式中# R
IO及びR” は各々独立して水素又は炭素数1〜3
0の脂肪族炭化水素(これは置換されていてもよい)で
あり、 R”は水素、塩素等のハロゲン又は炭素数1〜
6のアルキル基を示す〕で表わされる化合物が好ましい
。Hydroxyphenylbenzotriazole and its substituted product (b) are represented by the general formula tll) [however, in formula 9, #R
IO and R'' are each independently hydrogen or carbon number 1-3
0 aliphatic hydrocarbon (which may be substituted), and R" is hydrogen, halogen such as chlorine, or a carbon atom having 1 to 1 carbon atoms.
A compound represented by the following is preferred.
一般式fIIl中、水中幕水酸基ンゾトリアゾール基に
対してオルト位に結合しているのが最も好ましい。In the general formula fIIl, it is most preferable that the submerged hydroxyl group is bonded to the ortho position to the zotriazole group.
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール及びこの置換体
の例としては、2−(2’−ヒドロキシ−5′−メチル
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒトクキ
シース5′−ジーt−ブチルフエニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル5′
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(,5s
’−ジ−t−アミル−2′−ヒドロキンフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−1= )”ロキシー51
++ t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2’−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−3:5′
−ビス(α、α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H
−ペンツトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5′
−メトオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3
’−t−ブチル−5’ −/チルー27−ヒドフキシフ
エニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3:
5′−ジーt−)f−ルー2′−ヒドロキシフェニル)
−5−10ロペンゾトリアゾール等がある。Examples of hydroxyphenylbenzotriazole and its substituents include 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-5'-di-t-butylphenyl)benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl 5'
-methylphenyl)benzotriazole, 2-(,5s
'-di-t-amyl-2'-hydroquinphenyl)benzotriazole, 2-(2'-1= )" Roxy 51
++ t-butylphenyl)benzotriazole, 2
-(2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl)benzotriazole, 2-[2'-hydroxy-3:5'
-bis(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H
-penztriazole, 2-(2'-hydroxy-5'
-methoxyphenyl)benzotriazole, 2-(3
'-t-butyl-5'-/thi-27-hydrofoxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(3:
5'-di-t-)f-ru-2'-hydroxyphenyl)
-5-10 Lopenzotriazole and the like.
有機ホスファイト化合物(C)は、モノホスファイト、
ジホスファイト、トリホスファイトを包含し。The organic phosphite compound (C) is a monophosphite,
Including diphosphite and triphosphite.
これらのチオホスファイトをも包含する。該有機ホスフ
ァイトの例としては、トリス(2−ヒドロキシエチル)
ホスファイト、トリス(ジプロピレングリコール)ホス
ファイト、ビス(ジプロピレングリコール)ホスファイ
ト、トリス(ポリテトラメチレングリコール)ホスファ
イト等のヒドロキシアルキルホスファイト、トリブチル
ホスファイト、トリへキシルホスファイト、トリオクチ
ルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリ
ルホスファイト、トリミリスチルホスファイト、トリオ
クタデシルホスファイト、ジラウリルホスファイト、ジ
ヘキサデシルホスファイト、ジオクタデシルホスファイ
ト等のアルキルホスファイト、トリフェニルホスファイ
ト、ジフェニルホスファイト、トリ(オクチルフェニル
)ホスファイト、ジオクチルフェニルホスファイト、ト
リ(ビニルフェニル)ホスファイト、ジ(ビニルフェニ
ル)ホスファイト、)’J(yシルフェニル)ホスファ
イト、トリ(オクタデシルフェニル)ホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイト等のアリールホス
ファイト、デシルジフェニルホスファイト、ジデシルフ
ェニルホスファイト。These thiophosphites are also included. Examples of the organic phosphite include tris(2-hydroxyethyl)
Phosphite, hydroxyalkyl phosphite such as tris(dipropylene glycol) phosphite, bis(dipropylene glycol) phosphite, tris(polytetramethylene glycol) phosphite, tributyl phosphite, trihexyl phosphite, trioctyl phosphite alkyl phosphites such as tridecyl phosphite, trilauryl phosphite, trimyristyl phosphite, triotadecyl phosphite, dilauryl phosphite, dihexadecyl phosphite, dioctadecyl phosphite; phyto, tri(octylphenyl) phosphite, dioctylphenyl phosphite, tri(vinylphenyl) phosphite, di(vinylphenyl) phosphite, )'J(y sylphenyl) phosphite, tri(octadecylphenyl) phosphite, Tris Aryl phosphites such as (nonylphenyl) phosphites, decyl diphenyl phosphites, and didecyl phenyl phosphites.
ドデシルフェニルホスファイト、ジドデシル7エ二ルホ
スフアイト、オクタデシルジフェニルホスファイト、ジ
オクタデシルフェニルホスファイト。Dodecyl phenyl phosphite, didodecyl 7-enyl phosphite, octadecyl diphenyl phosphite, dioctadecyl phenyl phosphite.
ビス(ノニルフェニル〕デシルホスファイト、ジデシル
(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(オクチルフェ
ニル)オクタデシルホスファイト等のアルキルアリール
ホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ト
リオクタデシルトリチオホスファイト等のアルキルチオ
フォスファイト、トリス(ラウリル−2−チオエチル)
ホスファイトなどのモノホスファイト;テトラキス()
ニルフェニル)ポリフロピレンゲリコールジホスファイ
ト、テトラキスオクタデシルポリエチレン/ IJコー
ルジホスファイト、テトラキスデシルへキサメチレン−
1,6−シオールジホスフアイト。Alkylaryl phosphites such as bis(nonylphenyl)decyl phosphite, didecyl(nonylphenyl) phosphite, bis(octylphenyl)octadecyl phosphite, alkylthiophosphites such as trilauryl trithiophosphite, triotadecyl trithiophosphite, tris (lauryl-2-thioethyl)
Monophosphites such as phosphites; tetrakis ()
(nylphenyl) polypropylene gelyl diphosphite, tetrakis octadecyl polyethylene/IJ cold diphosphite, tetrakis decyl hexamethylene-
1,6-thiol diphosphite.
テトラキスドデシルエチレングリコールジホスファイト
、テトラキスドデシルトリプロピレングリコールテトラ
チオジホスファイト、ビスネオペンチルグリコールトリ
エチレングリコールジホスファイト、ジイソドデシルペ
ンタエリトリットジホスファイト、ジ−テトラデシルペ
ンタエリトリットジホスファイト、ビス(ネオペンチル
グリコール)−1,4−シクロへキサジメチレンホスフ
ァイト、ジステアリルベンタエリスリトルジフオスファ
イト、ジイノデシルペンタエリスリトルジフオスファイ
ト、テトラ(012〜C1s混合アルキル)−4,4′
−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ
(トリデシル) −4,4’−ブチリデンビス(3−メ
チル−6−t−ブチルフェニル)ジホスファイト、ポリ
ジホスファイト等のジホスファイト:ヘプタキスアルキ
レングリコールトリホスファイト、ヘプタキスプロピレ
ングリコールトリホスファイト、ヘプタキスエチレング
リコールトリホスファイト、ヘプタキスエチレングリコ
ールトリホスファイト、ヘプタキスジプロピレングリコ
ールトリホスファイト、ヘプタキスシクロヘキサンジメ
タツールトリホスファイト、ヘプタキスポリプロピレン
グリコールトリホスファイト、ヘプタキスへキサメチレ
ン−1,6−シオールトリホスフアイト、ヘプタキス1
.9−7ナンジオールトリホスフアイト、ヘプタキス1
.2−オクタデカンチオトリホスファイト等のトリホス
ファイトがある。Tetrakis dodecyl ethylene glycol diphosphite, tetrakis dodecyl tripropylene glycol tetrathiodiphosphite, bisneopentyl glycol triethylene glycol diphosphite, diisododecyl pentaerythritol diphosphite, di-tetradecyl pentaerythritol diphosphite , bis(neopentyl glycol)-1,4-cyclohexadimethylene phosphite, distearylpentaerythritor diphosphite, diinodecylpentaerythritor diphosphite, tetra(012-C1s mixed alkyl)-4, 4′
Diphosphites such as -isopropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl) -4,4'-butylidenebis(3-methyl-6-t-butylphenyl) diphosphite, polydiphosphite: heptakis alkylene glycol triphosphite, heptakis propylene Glycol triphosphite, heptakis ethylene glycol triphosphite, heptakis ethylene glycol triphosphite, heptakis dipropylene glycol triphosphite, heptakis cyclohexane dimetatool triphosphite, heptakis polypropylene glycol triphosphite, heptakis hexamethylene-1,6- Thioltriphosphite, heptakis 1
.. 9-7 Nanediol Triphosphite, Heptakis 1
.. There are triphosphites such as 2-octadecanethiotriphosphite.
前記(al、 (bl及び(C)の化合物のうち1本発
明において、光反射層の密着性の向上を促す点から特に
好ましい。In the present invention, one of the compounds (al, (bl) and (C) above is particularly preferred from the standpoint of promoting improvement in the adhesion of the light reflective layer.
例としては、(a)の化合物ではn−オクタデシル−3
−(4’−ヒドロキシ−3:5′−ジ−t−ブチルフェ
ニル)プロピオネート、1.6−ヘキサンシオールービ
ス〔3−(3:5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート〕及びテトラキス〔メチレ
ン−3(3:5′−ジ−t−ブチルー−4′−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネートコメタン、(b)の化合物
の中では、2(2’−ヒドロキシ−3,’5’−シーt
−ブチルフェニル)ペンツトリアゾール並びに(C)の
化合物の中では、テトラ(トリデシル) −4,4’−
ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル
)ジホスファイト及びテトラ(C1鵞〜CIS混合アル
キル) −4,4’−イソプロピリデンジフェニルジホ
スファイトが挙げられる。For example, in compound (a), n-octadecyl-3
-(4'-hydroxy-3:5'-di-t-butylphenyl)propionate, 1,6-hexanethiol bis[3-(3:5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) ) propionate] and tetrakis[methylene-3(3:5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl)propionate comethane, among the compounds of (b), 2(2'-hydroxy-3, '5'-sheet t
-butylphenyl)penztriazole and among the compounds of (C), tetra(tridecyl) -4,4'-
Mention may be made of butylidene bis(3-methyl-6-t-butylphenyl) diphosphite and tetra(C1~CIS mixed alkyl)-4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite.
(a)、 Tb)及び(C)の化合物からなる群から選
ばれる少なくとも一種の化合物は、前記樹脂成分に対し
て0.01〜5重量%配合するのが好ましく、0.1〜
2重f!に%配合するのが好ましい。これが少なすぎる
と前記基材と金属膜の密着性向上が不十分であり、多す
ぎると前記基材の機械的特性が低下しやすくなる。At least one compound selected from the group consisting of compounds (a), Tb) and (C) is preferably blended in an amount of 0.01 to 5% by weight, and preferably 0.1 to 5% by weight based on the resin component.
Double f! It is preferable to mix % in . If this amount is too small, the adhesion between the base material and the metal film will be insufficiently improved, and if it is too large, the mechanical properties of the base material will tend to deteriorate.
(a)、 (b)及び(C)の化合物からなる群から選
ばれる少なくとも一種の化合物を樹脂成分に配合する方
法としては、樹脂成分と該化合物を押出機、射出成形機
、圧縮成形機、ロール等で溶融混練する方法、樹脂成分
と該化合物を溶剤に溶解又は分散した後、必要に応じ混
練し、溶剤を除去する方法。A method for blending at least one compound selected from the group consisting of the compounds (a), (b) and (C) into a resin component includes mixing the resin component and the compound in an extruder, an injection molding machine, a compression molding machine, A method in which the resin component and the compound are dissolved or dispersed in a solvent, and then kneaded as necessary and the solvent is removed.
樹脂成分の原料に該化合物を溶解又は分散した後重合し
て樹脂成分を合成する方法等があり、最後に記載した方
法が、特性の変動幅が比較的小さく。There are methods of synthesizing the resin component by dissolving or dispersing the compound in the raw material of the resin component and then polymerizing it.The last method described has a relatively small range of variation in properties.
作業性も良好である。Workability is also good.
また、上記樹脂成分には、溶剤、可塑剤等の他の添加剤
を配合してもよい。配合方法は、上記と同様であり、配
合量は各添加剤について、樹脂成分に対して3重量%以
下が好ましい。Further, other additives such as a solvent and a plasticizer may be added to the resin component. The blending method is the same as above, and the blending amount of each additive is preferably 3% by weight or less based on the resin component.
滑剤としては、ブチルステアレート、ステアリルアルコ
ール、冬テアリン酸モノグリセリンエステル、ソルビタ
ンモノパルミテート、マンニトール、ステアリン酸、硬
化ひまし油ステアリン酸アマイド、オレイン酸アマイド
、エチレンビスステアリル、オクチルアルコール、デシ
ルアルコール。As lubricants, butyl stearate, stearyl alcohol, monoglycerol wintertearic acid ester, sorbitan monopalmitate, mannitol, stearic acid, hydrogenated castor oil stearamide, oleic acid amide, ethylene bisstearyl, octyl alcohol, decyl alcohol.
ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルア
ルコール等があり、可塑剤としてはジー2−エチルへキ
シルフタレート、ジノルマルオクチルフタレート、ジノ
ルマルドデシルフタレート。Examples include lauryl alcohol, myristyl alcohol, and cetyl alcohol, and examples of plasticizers include di-2-ethylhexyl phthalate, di-normal octyl phthalate, and di-normal dodecyl phthalate.
ジトリデシルフタレート、ブチルオレエート、ジインブ
チルアジペート、ジイソデシルアジペート。Ditridecyl phthalate, butyl oleate, diyne butyl adipate, diisodecyl adipate.
トリー2−エチルエキシルトリメリテート等がある。Tri-2-ethylexyl trimellitate and the like.
他の添加剤としては、前記fat、 (b)及びfc)
の化合物以外で、抗酸化剤、紫外線吸収剤、離型剤、帯
電防止剤、難燃剤1重金属不活性化剤等の分類されるも
のがある。Other additives include the above fat, (b) and fc)
In addition to these compounds, there are other compounds that are classified as antioxidants, ultraviolet absorbers, mold release agents, antistatic agents, flame retardants, heavy metal deactivators, etc.
本発明における基材は、樹脂成分に前記化合物を配合し
た後又は配合しつつ射出成形、プレス成形、押出成形等
により適当な形状に成形することにより得ることができ
る。The base material in the present invention can be obtained by molding into a suitable shape by injection molding, press molding, extrusion molding, etc. after or while blending the above compound with a resin component.
また、該基材は、注型成形によシ成形して得ることがで
きる。注型成形は、樹脂成分の原料、樹脂成分の一部を
残部の樹脂成分原料に溶解したものに前記(a)、 (
bl及び(C1の化合物からなる群から選ばれる少なく
とも一種の化合物及び重合開始剤並びに必要に応じ他の
添刀口剤を溶解した後、必要に応じ予備重合し、型に注
入し2重合させることにより行なわれる。Further, the base material can be obtained by molding by cast molding. In cast molding, the above-mentioned (a), (
After dissolving at least one compound selected from the group consisting of compounds of BL and (C1), a polymerization initiator, and other additives as necessary, prepolymerization is performed as necessary, and the mixture is poured into a mold and subjected to double polymerization. It is done.
前記基材に金属膜を形成する方法としては、アルミニウ
ムt 亜鉛、 5R,ニッケル、クロム、スズ。The method for forming a metal film on the base material includes aluminum, zinc, 5R, nickel, chromium, and tin.
銀、 金+ 白金、マンガン、チタン、ゲルマニウム。Silver, gold + platinum, manganese, titanium, germanium.
タングステン、鉛、カドミウム等の金属を単独で若しく
は混合物で又は合金で使用し、真空蒸着法。Vacuum evaporation method using metals such as tungsten, lead, cadmium, etc. singly or in mixtures or alloys.
スパッタ法、イオンブレーティング法等を利用して形成
される。It is formed using a sputtering method, an ion blating method, or the like.
このようにして製造される本発明に係る光学的素子とし
ては、フェンダ−ミラー、バックミラー。Optical elements according to the present invention manufactured in this manner include fender mirrors and rearview mirrors.
アンダーミラー等の自動車用部品、コンパクトミラー、
複写機用の全反射ミラー、ダハミラー等。Automotive parts such as under mirrors, compact mirrors,
Total reflection mirrors for copying machines, roof mirrors, etc.
ファクシミリ用の全反射ミラー、レーザービームプリン
ター用の集光ミラー、反射ミラー、ハーフミラ−、レー
ザービームを偏向する回転多面鏡等。Total reflection mirrors for facsimiles, condensing mirrors for laser beam printers, reflective mirrors, half mirrors, rotating polygon mirrors that deflect laser beams, etc.
カメラ用全反射ミラー、光路分割プリズム(全反射用、
ハーフミラ−用等)、道路のカーブミラー。Total reflection mirror for cameras, optical path splitting prism (for total reflection,
For half mirrors, etc.), curved mirrors for roads.
グイクロイックミラー、コールドミラー、レーザー用ミ
ラー、情報記録媒体用ディスク、光フイルタ−、凹面鏡
等がある。Examples include guichroic mirrors, cold mirrors, mirrors for lasers, disks for information recording media, optical filters, and concave mirrors.
本発明に係る金属膜を有する光学的素子には。An optical element having a metal film according to the present invention includes:
金属膜の上に、 Altos、 CrzOs、 Si
n、 5iOz、TiO。On the metal film, Altos, CrzOs, Si
n, 5iOz, TiO.
TiCh等を用いて保護膜を形成してもよい。保護膜は
、真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法等
を利用して行なうことができる。The protective film may be formed using TiCh or the like. The protective film can be formed using a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion blasting method, or the like.
(実施例) 次に本発明の実施例を示す。(Example) Next, examples of the present invention will be shown.
実施例1
0過板付ガス噴管を備えた500m1!の丸底フラスコ
に、メタクリル酸トリシクロデシル(単量体)200g
をターシャリ−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノ
エート(重合開始剤)0.89,1゜1−ビス(ターシ
ャリ−ブチルパーオキシ)3,3゜5−トリメチルシク
ロヘキサン(重合開始剤)02g、 n−オクタデシ
ル−3−(4’−ヒドロキシ−3、’ 5’ −ジ−タ
ーシャリ−ブチルフェニル)プロピオネート(添加剤)
0.29と共に加え、混合・溶解し、フラスコ内を1o
om//分の流量の窒素ガスで30分間置換し、溶存酸
素量が2 mg / l以下となっていることを確認し
念のち、この溶液をガラスセル中に注入し、超音波洗浄
機内にガラスセルを20分間放置して脱気した。続いて
このガラスセルを恒温槽内に移し、60℃で6時間、9
0℃で2時間、130℃で8時間、150℃で2時間重
合させt 100anuX 100n+tuX 10
mの重合板を得た。Example 1 500m1 equipped with a gas jet pipe with a 0-pass plate! 200 g of tricyclodecyl methacrylate (monomer) in a round bottom flask.
Tert-butyl peroxy-2-ethylhexanoate (polymerization initiator) 0.89,1° 1-bis(tert-butylperoxy) 3,3° 5-trimethylcyclohexane (polymerization initiator) 02 g, n -Octadecyl-3-(4'-hydroxy-3,'5'-di-tert-butylphenyl)propionate (additive)
0.29, mix and dissolve, and bring the inside of the flask to 1o.
After replacing the solution with nitrogen gas at a flow rate of 1/2 oz/min for 30 minutes and confirming that the amount of dissolved oxygen is 2 mg/l or less, inject this solution into the glass cell and place it in an ultrasonic cleaner. The glass cell was left for 20 minutes to degas. Next, this glass cell was transferred to a constant temperature bath and incubated at 60°C for 6 hours.
Polymerize at 0°C for 2 hours, at 130°C for 8 hours, and at 150°C for 2 hours t 100anuX 100n+tuX 10
A polymeric board of m was obtained.
次に、得られた重合板を用い、飽和吸水率及びガラス転
移点を測定した。それぞれの値は0.2%。Next, the saturated water absorption rate and glass transition point were measured using the obtained polymeric board. Each value is 0.2%.
173℃であった。なお、飽和吸水率は、まず。The temperature was 173°C. First of all, the saturated water absorption rate.
重合板を乾燥して乾燥重量を測定し、ついで該重合板を
70℃の温水中に72時間浸漬したのち。After drying the polymer board and measuring its dry weight, the polymer board was then immersed in warm water at 70°C for 72 hours.
その重量(吸水重量)を求め9次の式によって求めた。The weight (water absorption weight) was determined using the following equation.
さらにガラス転移点は、示差走査熱量計(DSC)にお
ける吸熱ピーク時の温度とした。Furthermore, the glass transition point was defined as the temperature at the endothermic peak in a differential scanning calorimeter (DSC).
次に、乾燥時と飽和吸水時の重合板の厚さ方向の寸法変
化をマイクロメーターで測定したが、変化を読みとるこ
とができなかった。Next, dimensional changes in the thickness direction of the polymeric board during drying and saturated water absorption were measured using a micrometer, but no changes could be detected.
引き続き、X空機工■製小型真空蒸着装置VPC−26
0を用い10−’ Torrの減圧下で重合板上にアル
ミニウムを蒸着してミラーを作成した。蒸着した重合板
は、住友スリーエムー社製810メンディングテープと
ともに23℃±2℃、相対湿度65±5チの雰囲気下に
2時間放置したのち。Next, the small vacuum evaporation device VPC-26 manufactured by X Kuukiko
A mirror was fabricated by depositing aluminum on a polymeric plate under a reduced pressure of 10-' Torr using a vacuum cleaner. The vapor-deposited polymer board was left together with 810 mending tape manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd. in an atmosphere of 23°C ± 2°C and relative humidity of 65 ± 5°C for 2 hours.
上記メンディングテープを蒸着面にゴム層で被覆された
ローラで圧着し、圧着してから40分経過したのちメン
ディングテープを引きはがした。このときの密着率を次
式で求めた。密着率は98チであった。The mending tape was pressed onto the vapor deposition surface using a roller covered with a rubber layer, and after 40 minutes had passed, the mending tape was peeled off. The adhesion rate at this time was determined using the following formula. The adhesion rate was 98 inches.
ラム付着面積(18auX20m)
実施例2〜10及び比較例1
添加剤の量および種類を変えた以外は、実施例1と同様
な方法組成で合成および評価を行なった。Ram adhesion area (18 au x 20 m) Examples 2 to 10 and Comparative Example 1 Synthesis and evaluation were performed using the same method and composition as in Example 1, except that the amount and type of additive were changed.
添加剤の量1種類および密着率を表1に実施例1のもの
と共に示した。The amount of one type of additive and the adhesion rate are shown in Table 1 together with those of Example 1.
表1から明らかなように添加剤が使用された場合(実施
例1〜10)には優れたアルミニウムの密着率を示すが
、添加剤を使用しない場合(比較例1)はアルミニウム
の密着率が低かった。As is clear from Table 1, when additives are used (Examples 1 to 10), the aluminum adhesion rate is excellent, but when no additives are used (Comparative Example 1), the aluminum adhesion rate is poor. It was low.
以下仝白
実施例11〜17及び比較例2〜3
実施例1で用いた装置および方法に基づき、添加剤とし
てn−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキ’/ −,
55’−ジ−ターシャリ−ブチルフェニル)プロピオネ
ート012g及び2(2′−ヒドロキシ−5′−メチル
フェニル)ベンゾトリアゾール0.29を用い、単量体
として表2に示す単量体組成の単量体混合物を使用する
こと以外は実施例1と同様にして行なった。結果を表2
に示す。Examples 11 to 17 and Comparative Examples 2 to 3 Below, based on the apparatus and method used in Example 1, n-octadecyl-3-(4'-hydroxy'/-,
Using 012 g of 55'-di-tert-butylphenyl) propionate and 0.29 g of 2(2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, a monomer having the monomer composition shown in Table 2 was used as the monomer. Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1 except that a mixture was used. Table 2 shows the results.
Shown below.
実施例18
攪拌機を備えつけた51!オートクレーブに分散剤とし
て塩基性リン酸カルシウム10重量%水懸濁gsag、
ドデシルベンゼンスルホン酸す) IJウム0.0
049及び硫酸ナトリウム1gを純水24009と共に
加え、攪拌・混合して懸濁媒体とした。これに下記組成
の組成物を加え、攪拌回転数20 Orpmとし、窒素
雰囲気下にて70℃で5時間、90℃で2時間、120
℃で3時間重合させた。Example 18 51 equipped with a stirrer! Basic calcium phosphate 10% by weight water suspension gsag as a dispersant in an autoclave,
Dodecylbenzenesulfonic acid) IJum 0.0
049 and 1 g of sodium sulfate were added together with pure water 24009 and stirred and mixed to obtain a suspension medium. A composition having the following composition was added thereto, the stirring rotation speed was set to 20 Orpm, and the mixture was stirred at 70°C for 5 hours and at 90°C for 2 hours under a nitrogen atmosphere at 120°C.
Polymerization was carried out at ℃ for 3 hours.
組成
メタクリル酸トリシクロデカンル 560gメタク
リル酸メチル 400gス チ し
ン 10409ステア
リルアルコール 2g生成重合体粒子を
酸洗、水洗、脱水後、真空乾燥して粒子状の重合体を得
た。金型温度230℃。Composition Tricyclodecane methacrylate 560g Methyl methacrylate 400g Steel 10409 Stearyl alcohol 2g The resulting polymer particles were pickled, washed with water, dehydrated, and then vacuum dried to obtain a particulate polymer. Mold temperature 230℃.
圧力200 kg/c−でプレス成形し、100wX1
00−×10閣の板を得た。結果は表2に示す。Press molded at a pressure of 200 kg/c-, 100wX1
I got a board of 00-×10 cabinets. The results are shown in Table 2.
実施例20
単量体の組成を
とする以外は、実施例19に準じ、懸濁重合を行なった
。Example 20 Suspension polymerization was carried out in the same manner as in Example 19, except that the monomer composition was changed to the following.
得られた重合体粒子2に9と7クリロニトリル一スチレ
ン共重合体(アクリロニトリル24重量1及びスチレン
76重量%の共重合体)1.45kgをビニール袋内で
混合し、250℃に設定された押出し機によって溶融・
混練してペレットを得之。The obtained polymer particles 2 were mixed with 1.45 kg of 9 and 7 acrylonitrile-styrene copolymer (a copolymer of 24% by weight of acrylonitrile and 76% by weight of styrene) in a plastic bag, and the temperature was set at 250°C. Melted by an extruder
Knead to obtain pellets.
ペレットを金型温度250℃、圧力200 kg/cm
”でプレス成形し、 100wX 100annX
10mmの板を得た。結果を表2に示す。The pellets were placed in a mold at a temperature of 250°C and a pressure of 200 kg/cm.
"Press molded with 100wX 100annX
A 10 mm plate was obtained. The results are shown in Table 2.
以下余(゛−
表2から明らかなように1本発明の樹脂成分に添加剤を
添加した場合(実施例12〜21)は。As is clear from Table 2, when additives were added to the resin component of the present invention (Examples 12 to 21).
アルミニウムの密着率は優れるが1本発明外の樹脂成分
に添加剤を添加した場合(比較例2〜3)は、アルミニ
ウムの密着率が著しく劣る。Although the adhesion rate of aluminum is excellent, when an additive is added to the resin component other than the one according to the present invention (Comparative Examples 2 to 3), the adhesion rate of aluminum is significantly inferior.
(発明の効果)
本発明に係る光学的素子は、基材と金属の密着性に潰れ
耐熱性も良好である。さらに、従来の材料に比し、吸湿
性を改善することができる。(Effects of the Invention) The optical element according to the present invention is crushed by the adhesion between the base material and the metal and has good heat resistance. Furthermore, hygroscopicity can be improved compared to conventional materials.
Claims (1)
基を有するメタクリル酸エステル又はアクリル酸エステ
ル100〜5重量%及び他の共重合可能な不飽和単量体
0〜95重量%を重合させて得られる重合体を含む樹脂
成分に、 (a)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔ただし、式中、R^1は水素又は炭素数1〜6のアル
キル基(これは、さらに置換基を有していてもよい)。 R^2は水素又は炭素数1〜6のアルキル基(これは、
さらに置換基を有していてもよい)、R^3は炭素数1
〜6のアルキレン基(これは、さらに置換基を有してい
てもよい)、R^4は1〜4価で炭素数1〜30の脂肪
族基(これはさらに置換基を有していてもよく、基中に
、エーテル結合及びチオエーテル結合のうち少なくとも
一種を1個以上有していてもよい)又は芳香族基、mは
R^3の繰り返し数で0又は1並びにnは置換基数で1
〜4の整数を示す〕で表わされる化合物、(b)ヒドロ
キシフェニルベンソトリアゾール及びこの置換体 並びに (c)有機ホスファイト化合物 からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合
してなる基材に金属膜を形成してなる金属膜を有する光
学的素子。 2、重合体を含む樹脂成分の飽和吸水率が1重量%以下
である特許請求の範囲第1項記載の金属膜を有する光学
的素子。[Claims] 1. 100 to 5% by weight of methacrylic ester or acrylic ester in which the ester moiety has an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 22 carbon atoms and other copolymerizable unsaturated monomers Resin components containing polymers obtained by polymerizing 0 to 95% by weight include (a) General formula (I) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (I) [However, in the formula, R^1 is Hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (which may further have a substituent). R^2 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (this is
may further have a substituent), R^3 has 1 carbon number
~6 alkylene group (which may further have a substituent), R^4 is a monovalent to tetravalent aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms (which may further have a substituent) or an aromatic group, m is the repeating number of R^3 and n is 0 or 1, and n is the number of substituents. 1
An integer of ~4], (b) hydroxyphenylbensotriazole and its substituted products, and (c) an organic phosphite compound. An optical element having a metal film formed by forming a metal film. 2. An optical element having a metal film according to claim 1, wherein the resin component containing the polymer has a saturated water absorption rate of 1% by weight or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61100380A JPS62257101A (en) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | Optical element having metallic film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61100380A JPS62257101A (en) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | Optical element having metallic film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62257101A true JPS62257101A (en) | 1987-11-09 |
Family
ID=14272407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP61100380A Pending JPS62257101A (en) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | Optical element having metallic film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62257101A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005037927A (en) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Nippon Zeon Co Ltd | Optical laminated film |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS591201U (en) * | 1982-06-22 | 1984-01-06 | 株式会社村田製作所 | Band stop filter |
JPS5966411A (en) * | 1982-10-06 | 1984-04-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Optical resin composition and optical element |
-
1986
- 1986-04-30 JP JP61100380A patent/JPS62257101A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS591201U (en) * | 1982-06-22 | 1984-01-06 | 株式会社村田製作所 | Band stop filter |
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