JP2003172924A - 電気光学装置用基板、電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電子機器、及び、カラーフィルタの色調整方法 - Google Patents
電気光学装置用基板、電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電子機器、及び、カラーフィルタの色調整方法Info
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Abstract
る方法を提供し、これにより反射型表示の明るさと透過
型表示の彩度とを共に確保することの可能な電気光学装
置用基板及び反射半透過型の電気光学装置を提供する。
また、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低
減する。 【解決手段】 基板201の上に開口部211aを備え
た反射層211を形成し、その上に着色層212r,2
12g,212bを備えたカラーフィルタ212を形成
する。着色層には、反射層211の開口部211a上に
濃色部212cが設けられ、反射層211上に淡色部2
12dが配置されている。ここで、開口部211a上に
濃色部212cの配置されていない領域が設けられる
(A)か、或いは、反射層211上に淡色部212dの
配置されていない領域が設けられる(B)。
Description
板、電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、電
気光学装置の製造方法、及び、カラーフィルタの色調整
方法に係り、特に、反射半透過型の電気光学装置に用い
る場合に好適なカラーフィルタの構造に関する。
と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示との
いずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネ
ルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネル
は、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有
し、この反射層をバックライト等の照明光を透過するこ
とができるように構成したものである。この種の反射層
としては、液晶表示パネルの画素毎に所定割合の開口部
(スリット)を備えたパターンを持つものがある。
パネル100の概略構造を模式的に示す概略断面図であ
る。この液晶表示パネル100は、基板101と基板1
02とがシール材103によって貼り合せられ、基板1
01と基板102との間に液晶104を封入した構造を
備えている。
111aを備えた反射層111が形成され、この反射層
111の上に着色層112r,112g,112b及び
保護膜112pを備えたカラーフィルタ112が形成さ
れている。カラーフィルタ112の保護膜112pの表
面上には透明電極113が形成されている。
21が形成され、対向する基板101上の上記透明電極
113と交差するように構成されている。なお、基板1
01上の透明電極113上、及び、基板102上の透明
電極121の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に
応じて適宜に形成される。
差板(1/4波長板)105及び偏光板106が順次配
置され、基板101の外面上には位相差板(1/4波長
板)107及び偏光板108が順次配置される。
00は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設
置される場合、その背後にバックライト109が配置さ
れた状態で取り付けられる。この液晶表示パネル100
においては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路
Rに沿って外光が液晶104を透過した後に反射層11
1にて反射され、再び液晶104を透過して放出される
ので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外など
の暗い場所ではバックライト109を点灯させることに
より、バックライト109の照明光のうち開口部111
aを通過した光が透過経路Tに沿って液晶表示パネル1
00を通過して放出されるので、透過型表示が視認され
る。
来の液晶パネルにおいて、液晶表示の色を調整する場合
には、所望の表示色が得られるように顔料等の着色材の
量を微妙に変えた感光剤を調製する必要があるため、材
料コストが増大するとともに、調製作業に大きな労力が
必要になるという問題点がある。特に、上記のような反
射半透過型の液晶表示パネルにおいては、透過型表示の
色と反射型表示の色とが相互に異なることとなるため、
透過型表示と反射型表示の色調を共に最適状態にするこ
とは不可能であり、両表示色を適度に妥協して設定する
必要があるので、表示品位を高めることが難しいととも
に、上記の色の調整作業は製造時において大きな負担と
なっている。
ルタ112を往復2回通過するのに対し、上記透過経路
Tでは光がカラーフィルタ112を一度だけ通過するた
め、反射型表示の彩度に対して透過型表示における彩度
が悪くなるという問題点がある。すなわち、反射型表示
では一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カ
ラーフィルタ112の光透過率を高く設定して表示の明
るさを確保する必要があるが、このようにすると、透過
型表示において十分な彩度を得ることができなくなる。
さらに、上記のように反射型表示と透過型表示とにおい
ては光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、
反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが大きく異な
ってしまうため、違和感を与えるという問題点もある。
であり、その課題は、カラーフィルタの色を調整する場
合に、低コストで、しかも容易に高レベルの色調整を行
うことのできる方法及び構造を提供することにある。ま
た、反射型表示と透過型表示の双方を可能にする表示装
置に用いた場合に、反射型表示の明るさと透過型表示の
彩度とを共に確保することの可能な電気光学装置用基板
及び反射半透過型の電気光学装置を提供することにあ
る。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差
異を低減することのできる表示技術を実現することを目
的とする。
に本発明の電気光学装置用基板、電気光学装置、及びこ
れらの製造方法は、淡色部および前記淡色部よりも光濃
度が高い濃色部を有する着色層と、開口部を有する反射
層とを備え、前記淡色部は前記反射層と平面的に重なる
位置に配置され、前記濃色部は前記開口部と平面的に重
なる位置に配置されるものである。この構成によれば、
淡色部と濃色部とを有する着色層において、濃色部が反
射層の少なくとも開口部上に配置されていることによ
り、反射層の開口部を通過する光が濃色部を透過するこ
ととなるので、従来よりも透過光の彩度を向上させるこ
とができ、また、反射型表示と透過型表示との彩度や色
相の相異を低減することができる。
る着色層の単位厚さ当たりの能力を言い、光濃度が高け
れば(大きければ)透過光の彩度(カラフルネス)は強
くなり、光濃度が低ければ(小さければ)透過光の彩度
は弱くなる。着色層が顔料や染料等の着色材を含んでい
る場合には、この光濃度は、通常、その着色材の量(濃
度)と正の相関を有する。
配置され、淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い
濃色部を有する着色層と、基板上に配置され、開口部を
有する反射層とを備え、前記淡色部は前記反射層上に配
置され、前記濃色部は前記開口部上に配置され、前記開
口部上の一部に前記濃色部の配置されていない領域が存
在することを特徴とする。
部に濃色部の配置されていない領域が存在することによ
り、透過型表示における色を、開口部上の濃色部の面積
と、上記領域の面積との比率によって調整することが可
能になり、開口部全体を覆うように濃色部を配置した場
合に較べて光の変調度合を低下させることができる。
部に前記淡色部が配置されていることが好ましい。この
手段によれば、開口部上の濃色部の面積、開口部上の淡
色部の面積、及び、開口部上の着色層の存在しない領域
の面積によって光の変調度合を変えることができるの
で、透過型表示の色をより精密に調整できる。
は、基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも
光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板上に配置さ
れ、開口部を有する反射層とを備え、前記淡色部は前記
反射層上に配置され、前記濃色部は前記開口部上に配置
され、前記淡色部の一部は、前記開口部上にも配置され
ていることを特徴とする。
上にも配置されていることにより、開口部上の濃色部の
面積、開口部上の淡色部の面積、及び、開口部上の着色
層の配置されていない領域の面積によって光の変調度合
を変えることができるので、透過型表示の色を精密に調
整できる。
基板は、基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板上に配
置され、開口部を有する反射層とを備え、前記濃色部は
前記開口部上に配置され、前記淡色部は前記反射層上に
配置され、前記反射層上の一部に前記淡色部の配置され
ていない領域が存在することを特徴とする。
部の配置されていない領域が存在することにより、反射
型表示における色を、反射層上の淡色部の面積と、上記
領域の面積との比率によって調整することが可能にな
り、反射層全体を覆うように淡色部を配置した場合に較
べて光の変調度合を低下させることができる。
部に前記濃色部が配置されていることが好ましい。この
手段によれば、反射層上の淡色部の面積、反射層上の濃
色部の面積、及び、反射層上の着色層の存在しない領域
の面積によって光の変調度合を変えることができるの
で、反射型表示の色をより精密に調整できる。
基板は、基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板上に配
置され、開口部を有する反射層とを備え、前記濃色部は
前記開口部上に配置され、前記淡色部は前記反射層上に
配置され、前記濃色部の一部は、前記反射層上にも配置
されていることを特徴とする。
上にも配置されていることにより、反射層上の濃色部の
面積、反射層上の淡色部の面積、及び、反射層上の着色
層の配置されていない領域の面積によって光の変調度合
を変えることができるので、反射型表示の色を精密に調
整できる。
は、少なくとも一部において相互に重なり合っているこ
とが好ましい。淡色部と濃色部とが相互に重なり合って
いることによって、淡色部と濃色部との間に隙間ができ
ることによって着色層の形成されていない領域が発生す
るといった事態が生じにくくなるとともに、反射層の全
面に淡色部のみを配置した場合、或いは、開口部の全面
に濃色部のみを形成した場合よりも、反射型表示、或い
は、透過型表示における光の変調度合をさらに高めるこ
とが可能になるため、より広い範囲の色に調整すること
ができる。
物質からなる電気光学層と、前記電気光学層に沿った基
板上に配置され、開口部を有する反射層と、前記基板上
に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高
い濃色部を有する着色層とを備え、前記淡色部は前記反
射層上に配置され、前記濃色部は前記開口部上に配置さ
れ、前記開口部上の一部に前記濃色部の配置されていな
い領域が存在することを特徴とする。
部に前記淡色部が配置されていることが好ましい。
上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光濃度が
高い濃色部を有する着色層と、基板上に配置され、開口
部を有する反射層とを備え、前記淡色部は前記反射層上
に配置され、前記濃色部は前記開口部上に配置され、前
記淡色部の一部は、前記開口部上にも配置されているこ
とを特徴とする。
は、電気光学物質からなる電気光学層と、前記電気光学
層に沿った基板上に配置され、開口部を有する反射層
と、前記基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記
淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前記開
口部上に配置され、前記反射層上の一部に前記淡色部の
配置されていない領域が存在することを特徴とする。
部に前記濃色部が配置されていることが好ましい。
は、基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも
光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板上に配置さ
れ、開口部を有する反射層とを備え、前記淡色部は前記
反射層上に配置され、前記濃色部は前記開口部上に配置
され、前記濃色部の一部は、前記反射層上にも配置され
ていることを特徴とする。
とは、少なくとも一部において相互に重なり合っている
ことが好ましい。
前記基板と対向して配置された対向基板を備えている場
合がある。
は、電気光学物質からなる電気光学層と、前記電気光学
層に沿った基板上に配置され、開口部を有する反射層
と、前記基板に対向して配置された対向基板と、前記対
向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光
濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記淡色部
は前記反射層と平面的に重なる位置に配置され、前記濃
色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配置され、前
記開口部の一部と平面的に重なる、前記濃色部の配置さ
れていない領域が存在することを特徴とする。
部と重なる位置にも前記淡色部が配置されていることが
好ましい。
板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光濃度
が高い濃色部を有する着色層と、基板上に配置され、開
口部を有する反射層とを備え、前記淡色部は前記反射層
上に配置され、前記濃色部は前記開口部上に配置され、
前記淡色部の一部は、前記開口部と平面的に重なる位置
にも配置されていることを特徴とする。
は、電気光学物質からなる電気光学層と、前記電気光学
層に沿った基板上に配置され、開口部を有する反射層
と、前記基板に対向して配置された対向基板と、前記対
向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光
濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記淡色部
は前記反射層と平面的に重なる位置に配置され、前記濃
色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配置され、前
記反射層の一部と平面的に重なる、前記淡色部の配置さ
れていない領域が存在することを特徴とする。
部と重なる位置にも前記濃色部が配置されていることが
好ましい。
は、電気光学物質からなる電気光学層と、前記電気光学
層に沿った基板上に配置され、開口部を有する反射層
と、前記基板に対向して配置された対向基板と、前記対
向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも光
濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記淡色部
は前記反射層と平面的に重なる位置に配置され、前記濃
色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配置され、前
記濃色部の一部は、前記反射層と平面的に重なる位置に
も配置されていることを特徴とする。
とは、少なくとも一部において相互に平面的に重なり合
っていることが好ましい。
対の基板間に保持された電気光学物質からなる電気光学
層と、前記一対の基板間に配置され、開口部を有する反
射層と、前記電気光学層に沿った前記一対の基板のうち
一方の基板上に配置された淡色層と、前記一対の基板の
うち他方の基板上に配置され、前記淡色層よりも光濃度
が高い濃色層とを備え、前記淡色層は前記反射層と平面
的に重なる位置に配置され、前記濃色層は前記開口部と
平面的に重なる位置に配置され、前記開口部の一部と平
面的に重なる、前記濃色層の配置されていない領域が存
在することを特徴とする。
部と重なる位置にも前記淡色層が配置されていることが
好ましい。
は、一対の基板間に保持された電気光学物質からなる電
気光学層と、前記一対の基板間に配置され、開口部を有
する反射層と、前記電気光学層に沿った前記一対の基板
のうち一方の基板上に配置された淡色層と、前記一対の
基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡色層よりも
光濃度が高い濃色層とを備え、前記淡色層は前記反射層
と平面的に重なる位置に配置され、前記濃色層は前記開
口部と平面的に重なる位置に配置され、前記淡色層の一
部は前記開口部と平面的に重なる位置にも配置されてい
ることを特徴とする。
一対の基板間に保持された電気光学物質からなる電気光
学層と、前記一対の基板間に配置され、開口部を有する
反射層と、前記電気光学層に沿った前記一対の基板のう
ち一方の基板上に配置された淡色層と、前記一対の基板
のうち他方の基板上に配置され、前記淡色層よりも光濃
度が高い濃色層とを備え、前記淡色層は前記反射層と平
面的に重なる位置に配置され、前記濃色層は前記開口部
と平面的に重なる位置に配置され、前記反射層の一部と
平面的に重なる、前記淡色層の配置されていない領域が
存在することを特徴とする。
部と重なる位置にも前記濃色層が配置されていることが
好ましい。
は、一対の基板間に保持された電気光学物質からなる電
気光学層と、前記一対の基板間に配置され、開口部を有
する反射層と、前記電気光学層に沿った前記一対の基板
のうち一方の基板上に配置された淡色層と、前記一対の
基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡色層よりも
光濃度が高い濃色層とを備え、前記淡色層は前記反射層
と平面的に重なる位置に配置され、前記濃色層は前記開
口部と平面的に重なる位置に配置され、前記濃色層の一
部は前記反射層と平面的に重なる位置にも配置されてい
ることを特徴とする。
とは、少なくとも一部において相互に平面的に重なり合
っていることが好ましい。
方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光濃度
が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前記基
板上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有し、
前記着色層を形成する工程では、前記濃色部が前記開口
部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡色部が前記
反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記開口部の
一部と平面的に重なる、前記濃色部の配置されていない
領域が形成されることを特徴とする。
部と重なる位置にも前記淡色部を形成することが好まし
い。
製造方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光
濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前
記基板上に開口部を有する反射層を形成する工程とを有
し、前記着色層を形成する工程では、前記濃色部が前記
開口部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡色部が
前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記淡色
部の一部が前記開口部と平面的に重なる位置にも形成さ
れることを特徴とする。
基板の製造方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程
と、前記基板上に開口部を有する反射層を形成する工程
とを有し、前記着色層を形成する工程では、前記濃色部
が前記開口部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡
色部が前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前
記反射層と平面的に重なる、前記淡色部の配置されてい
ない領域が形成されることを特徴とする。
部と重なる位置にも前記濃色部を形成することが好まし
い。
基板の製造方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程
と、前記基板上に開口部を有する反射層を形成する工程
とを有し、前記着色層を形成する工程では、前記濃色部
が前記開口部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡
色部が前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前
記濃色部の一部が前記反射層と平面的に重なる位置にも
形成されることを特徴とする。
方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光濃度
が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前記基
板若しくは前記基板と対向すべき対向基板上に開口部を
有する反射層を形成する工程とを有し、前記着色層を形
成する工程では、前記濃色部が前記開口部と平面的に重
なる位置に形成され、前記淡色部が前記反射層と平面的
に重なる位置に形成され、前記開口部と平面的に重な
る、前記濃色部の配置されていない領域が形成されるこ
とを特徴とする。
部と重なる位置にも前記淡色部を形成することが好まし
い。
製造方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光
濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前
記基板若しくは前記基板と対向すべき対向基板上に開口
部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記着色層
を形成する工程では、前記濃色部が前記開口部と平面的
に重なる位置に形成され、前記淡色部が前記反射層と平
面的に重なる位置に形成され、前記淡色部の一部が前記
開口部と平面的に重なる位置にも形成されることを特徴
とする。
の製造方法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも
光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、
前記基板若しくは前記基板と対向すべき対向基板上に開
口部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記着色
層を形成する工程では、前記濃色部が前記開口部と平面
的に重なる位置に形成され、前記淡色部が前記反射層と
平面的に重なる位置に形成され、前記反射層と平面的に
重なる、前記淡色部の配置されていない領域が形成され
ることを特徴とする。
部と重なる位置にも前記濃色部を形成することが好まし
い。
法は、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光濃度が
高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前記基板
若しくは前記基板と対向すべき対向基板上に開口部を有
する反射層を形成する工程とを有し、前記着色層を形成
する工程では、前記濃色部が前記開口部と平面的に重な
る位置に形成され、前記淡色部が前記反射層と平面的に
重なる位置に形成され、前記濃色部の一部が前記反射層
と平面的に重なる位置にも形成されることを特徴とす
る。
造方法は、一対の基板間に保持された電気光学物質から
なる電気光学層を備えた電気光学装置の製造方法におい
て、前記一対の基板間に開口部を有する反射層を形成す
る工程と、前記一対の基板のうち一方の基板上に淡色層
を形成する工程と、前記一対の基板のうち他方の基板上
に前記淡色層よりも光濃度が高い濃色層を形成する工程
と、を備え、前記淡色層を形成する工程では、前記淡色
層は前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記
濃色層を形成する工程では、前記濃色層は前記開口部と
平面的に重なる位置に形成され、前記開口部の一部と平
面的に重なる、前記濃色層の配置されていない領域が形
成されることを特徴とする。
部と重なる位置にも前記淡色層を形成することが好まし
い。
製造方法は、一対の基板間に保持された電気光学物質か
らなる電気光学層を備えた電気光学装置の製造方法にお
いて、前記一対の基板間に開口部を有する反射層を形成
する工程と、前記一対の基板のうち一方の基板上に淡色
層を形成する工程と、前記一対の基板のうち他方の基板
上に前記淡色層よりも光濃度が高い濃色層を形成する工
程と、を備え、前記淡色層を形成する工程では、前記淡
色層は前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前
記淡色層の一部は、前記開口部と平面的に重なる位置に
も形成され、前記濃色層を形成する工程では、前記濃色
層は前記開口部と平面的に重なる位置に形成されること
を特徴とする。
造方法は、一対の基板間に保持された電気光学物質から
なる電気光学層を備えた電気光学装置の製造方法におい
て、前記一対の基板間に開口部を有する反射層を形成す
る工程と、前記一対の基板のうち一方の基板上に淡色層
を形成する工程と、前記一対の基板のうち他方の基板上
に前記淡色層よりも光濃度が高い濃色層を形成する工程
と、を備え、前記淡色層を形成する工程では、前記淡色
層は前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記
反射層と平面的に重なる、前記淡色層の配置されていな
い領域が形成され、前記濃色層を形成する工程では、前
記濃色層は前記開口部と平面的に重なる位置に形成され
ることを特徴とする。
部と重なる位置にも前記濃色層を形成することが好まし
い。
の製造方法は、一対の基板間に保持された電気光学物質
からなる電気光学層を備えた電気光学装置の製造方法に
おいて、前記一対の基板間に開口部を有する反射層を形
成する工程と、前記一対の基板のうち一方の基板上に淡
色層を形成する工程と、前記一対の基板のうち他方の基
板上に前記淡色層よりも光濃度が高い濃色層を形成する
工程と、を備え、前記淡色層を形成する工程では、前記
淡色層は前記反射層と平面的に重なる位置に形成され、
前記濃色層を形成する工程では、前記濃色層は前記開口
部と平面的に重なる位置に形成され、前記濃色層の一部
は、前記反射層と平面的に重なる位置にも形成されるこ
とを特徴とする。
法は、カラーフィルタ内の実質的に同一の光学的状態に
置かれる発色領域内に淡色部及び該淡色部よりも光濃度
が高い濃色部を設ける場合に、前記発色領域内における
前記淡色部の形成面積と前記濃色部の形成面積の少なく
とも一方を変更することにより、前記発色領域の発色を
調整することを特徴とする。
濃色部の双方を形成し、淡色部の形成面積と濃色部の形
成面積の少なくとも一方を変更することにより発色を調
整するようにしたので、着色層の素材自体の色濃度自体
を調整する必要がなくなり、低コストで、簡単に所望の
発色を得ることができる。ここで、上記発色領域内に
は、淡色部と濃色部とが重なった領域部を設けてもよ
く、また、淡色部と濃色部のいずれも形成されていない
領域部を設けてもよい。
に、反射層と平面的に重なる反射発色領域と、平面的に
前記反射層が重ならない透過発色領域とを配列形成し、
前記反射発色領域には主として前記淡色部を形成し、前
記透過発色領域には主として前記濃色部を形成する場合
に、前記反射発色領域と前記透過発色領域の少なくとも
いずれか一方を前記発色領域として発色を調整すること
が好ましい。この方法によれば、反射発色領域と透過発
色領域の双方或いは一方について発色を調整することに
より、反射型表示と透過型表示の双方或いは一方の色を
所望の態様に低コスト且つ容易に調整することができ
る。
表示との間の色調の差を低減させたい場合、上記濃色部
の光濃度は、淡色部の光濃度に対してほぼ2倍であるこ
とが好ましい。また、より具体的には、1.4倍〜2.
6倍の範囲内であることが好ましい。特に、反射型表示
と透過型表示との間の色彩の相違を低減するには、1.
7倍〜2.3倍の範囲内であることが望ましい。このよ
うな光濃度とすることにより、着色層の淡色部と濃色部
とをほぼ同じ厚さとした場合には、反射光に対するフィ
ルタ作用と、透過光に対するフィルタ作用とをほぼ等し
くすることができる。また、上記範囲であれば、淡色部
(淡色層)と濃色部(濃色層)のうちの少なくとも一方
の形成面積を調整することにより、反射型表示と透過型
表示との間の色調の差を容易に低減することができる。
対して透過型表示の色調を重視させたい場合、上記濃色
部の光濃度は、淡色部の光濃度に対して2倍以上である
ことが好ましい。このような光濃度とすることにより、
反射型表示に対して透過型表示の色調を向上させること
ができる。
素間領域には、異なる色相を呈する着色層が重ねられて
成る重ね遮光層と、黒色素材からなる黒色遮光層のいず
れかを形成する場合がある。重ね遮光層を設ける場合に
は、異なる色相を呈する複数の着色層として、上記濃色
層を用いることが遮光度合を高めるために望ましい。
実質的に反射層として機能する反射面を有する範囲を言
うものとする。したがって、反射層が現実に形成されて
いても、遮光層などに覆われていることによって実質的
に反射層として機能しない範囲を含まない。
に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置並びにこれ
らの製造方法の実施形態について詳細に説明する。
気光学装置用基板の第1実施形態である基板201及び
この電気光学装置用基板を用いた電気光学装置の第1実
施形態である液晶表示パネル200を模式的に示す概略
断面図である。
ラスチック等からなる基板201と基板202とがシー
ル材203を介して貼り合わせられ、内部に液晶204
が封入されてなる。基板202、この基板202上に形
成された透明電極221、位相差板205,207、偏
光板206,208は図11に示す上記従来例と全く同
様である。
上に従来例と同様に開口部211aを備えた反射層21
1が形成されている。この反射層211は、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、銀合金などの薄膜で形成するこ
とができる。開口部211aは、基板210の内面に沿
って縦横にマトリクス状に配列設定された画素G毎に、
当該画素Gの全面積を基準として所定の開口率(例えば
10〜30%)を有するように形成されている。
図を示す。この開口部211aは、例えば図9に点線の
引き出し線にて示すように平面視矩形に構成され、画素
Gのほぼ中央部に画素Gに1箇所ずつ形成されている。
ただし、開口部211aの位置や開口部形状は任意であ
り、また、開口部211aの数も任意であり、本実施形
態とは異なり画素毎に複数の開口部が設けられていても
構わない。
のカラーフィルタの場合にはR(赤)、G(緑)及びB
(青)の3色からなる着色層212r,212g,21
2bが、例えば公知のストライプ配列、デルタ(トライ
アングル)配列、斜めモザイク(ダイヤゴナル)配列な
どの適宜の配列態様(図6にはストライプ配列のカラー
フィルタを示す。)で画素G毎に配列されている。ここ
で、画素Gの間には、着色層212r,212g,21
2bが相互に重ねあわされて遮光性を呈する重ね遮光部
212BMが形成される。ここで、各着色層212r,
212g,212bは、重ね遮光部212BMの部分を
除いて基本的に表面がほぼ平坦に構成されている。
例を拡大して示すものである。各着色層212r,21
2g,212bには、上記反射層211の開口部211
a上に濃色部212cが設けられ、この濃色部212c
以外の部分は、濃色部212cよりも光濃度の小さい、
淡色の淡色部212dとなっている。高い光濃度を有す
る濃色部212cは、例えば透光性樹脂中に分散された
顔料や染料等の着色材の濃度が淡色部212d中の濃度
よりも高くなるように構成されている。
及び重ね遮光部212BMの上には、透明樹脂等からな
る保護膜212pが形成される。この保護膜212p
は、着色層を工程中の薬剤等による腐食や汚染から保護
するとともに、カラーフィルタ212の表面を平坦化す
るためのものである。
(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明
電極213が形成される。この透明電極213は本実施
形態においては複数並列したストライプ状に形成されて
いる。また、この透明電極231は上記基板202上に
同様にストライプ状に形成された透明電極221に対し
て直交する方向に伸び、透明電極213と透明電極22
1(図6に一点鎖線で示す。)との交差領域内に含まれ
る液晶表示パネル200の構成部分(反射層211、カ
ラーフィルタ212、透明電極213、液晶204及び
透明電極221における上記交差領域内の部分)が画素
Gを構成するようになっている。
g,212bのうち少なくとも一色において、図1
(A)に示すように、開口部211a上に濃色部212
cの配置されていない領域が存在し、この領域に淡色部
212dが配置されている。換言すれば、淡色部212
dの一部が開口部211a上にも配置されている。より
具体的には、開口部211aの外周部分において濃色部
の代わりに淡色部が形成されている。
bのうち少なくとも一色において、図1(B)に示すよ
うに、反射層211上に淡色部212dの配置されてい
ない領域が存在し、この領域に濃色部212cが配置さ
れていてもよい。換言すれば、濃色部212cの一部が
反射層211上にも配置されていてもよい。
において、反射層211の開口部211aの上方に、他
の部分よりも高い光濃度を有する、濃色の濃色部212
cが形成されていることにより、各着色層212r,2
12g,212bの濃色部212cを通過する光の彩度
は高くなり、その他の淡色部212dを通過する光の彩
度は相対的に低くなる。
射型表示がなされる場合には反射経路Rに沿って光が通
過して視認され、透過型表示がなされる場合には透過経
路Tに沿って光が通過して視認される。このとき、反射
経路Tにおいてカラーフィルタ212は従来と同様に作
用するが、透過経路Tは反射層211の開口部211a
を通るので、透過光は着色層212r,212g,21
2bの濃色部212cを通過することとなり、その結
果、透過型表示における彩度が図11に示す従来構造の
場合よりも向上する。
ーフィルタ212における反射層211の開口部211
aに対して平面的に重なる位置に濃色部212cを形成
することにより、反射型表示の明るさを損なうことな
く、透過型表示の彩度を向上させることが可能になる。
特に、反射型表示と、透過型表示との間の色彩の相違を
従来よりも低減することができる。
12cとその他の淡色部との厚さが等しい場合には、同
じ光を濃色部と2倍の厚さの淡色部とに透過させた場合
に相互にほぼ等しい色彩が得られるように構成されてい
ることが好ましい。このとき、本明細書では、濃色部2
12cの色濃度が淡色部212dの2倍であるというこ
ととする。この色濃度の表現を用いると、より具体的に
は、濃色部の色濃度は淡色部の1.4倍〜2.6倍の範
囲内であることが好ましく、特に1.7倍〜2.3倍の
範囲内であることが望ましい。このようにすると、反射
型表示の彩度と、透過型表示の彩度との差異をさらに低
減し、両表示間の色彩の相違をさらに低減できる。
2r,121g,212bに、平面的に淡色部212d
と濃色部212cとが配列されていることにより、着色
層212r,212g,212bの表面(図示上面)の
凹凸を小さくすることができ、特に、淡色部212dと
濃色部212cとを同じ厚さにすることによって着色層
を平坦に形成することが可能になる。したがって、カラ
ーフィルタ212の表面の平坦性を向上させることがで
きるので、液晶表示パネルの表示品位を高めることが可
能になる。
を明るくし、透過型表示の彩度を高めるようにしている
が、通常、それぞれの表示の色を搭載機器の設定やバッ
クライトの光量などに応じて適宜に調整する必要が生ず
る。この場合、従来は、着色層の素材(感光性樹脂な
ど)に含まれる染料や顔料等の着色材の濃度を調整し
て、所望の色調を得るようにしていた。ところが、この
ように着色材の濃度を調整する方法では、着色材の濃度
調整を施した新たな素材(感光性樹脂)を調製した後に
実際に試作を行ってみないと所望の色調が得られるか否
かを確認することができず、材料コストや確認の手間が
かかるという問題点があった。
すように、開口部211a上の領域において濃色部21
2cと淡色部212dの双方が存在するように構成する
ことにより、その開口部211a上の領域の領域におい
て濃色部212cと淡色部212dの双方の寄与によっ
て透過型表示の色調が決定されることとなるので、開口
部上の領域における濃色部212cの形成面積と淡色部
212dの形成面積の少なくとも一方を変えることによ
り、透過型表示の色を調整することが可能になる。この
場合、図10に示すx−y色度図において、RGBの各
色について、それぞれ丸印で示す濃色部212cの色調
と、角印で示す淡色部212dの色調との間の図示一点
鎖線で示す範囲の色調を透過型表示の色調として得るこ
とが可能になる。
11上の領域において濃色部212cと淡色部212d
の双方が存在するように構成することにより、その反射
層211上の領域において濃色部212cと淡色部21
2dの双方の寄与によって透過型表示の色調が決定され
ることとなるので、反射層上の領域における濃色部21
2cの形成面積と淡色部212dの形成面積の少なくと
も一方を変えることにより、反射型表示の色調を調整す
ることが可能になる。この場合、図10に示すx−y色
度図において、RGBの各色について、それぞれ丸印で
示す濃色部212cの色調と、角印で示す淡色部212
dの色調との間の図示一点鎖線で示す範囲の色調を反射
型表示の色調として得ることが可能になる。
は、必要に応じて、複数の色調のうちの少なくとも一色
について行われる。また、上記態様では、開口部上と反
射層上のいずれか一方においてのみ淡色部と濃色部とが
共存したものを示しているが、開口部上と反射層上の双
方において淡色部と濃色部とが共存していても構わな
い。この場合には、反射型表示と透過型表示の双方の色
調を共に調整することが可能になる。
本発明に係る第2実施形態の電気光学装置用基板301
及び液晶表示パネル300について説明する。この実施
形態においては、上記第1実施形態と同様に構成された
基板301,302、シール材303、液晶304、透
明電極313,321、位相差板305,307、偏光
板306,308を備えているので、これらの説明は省
略する。
に、開口部311aを有する反射層311が設けられ、
この反射層311の上に着色層312r,312g,3
12bが画素毎に形成されている。これらの各着色層
は、開口部311aをも覆うように画素全体に形成され
ている。この着色層は、上記反射層311の上において
画素全体に亘って形成された淡色部312d(図2
(A)又は(B)参照)と、この淡色部312dの上に
積層され、淡色部と同じ色相で淡色部よりも高い色濃度
を備えた濃色部312cとにより構成されている。
に、開口部311a上に、濃色層312cの配置されて
いない領域が存在している。このように構成されている
ことによって、開口部311a上には、濃色層312c
と淡色層312dとが重なっている領域と、淡色層31
2dのみが配置されている領域とが存在することとなる
ので、濃色層312cの形成面積を変えることによっ
て、透過型表示の色調を調整することが可能になってい
る。
12cの一部が反射層311上にも配置されていてもよ
い。この場合には、反射層311上には、濃色層312
cと淡色層312dとが重なっている領域と、淡色層3
12dのみが配置されている領域とが存在することとな
るので、濃色層312cの形成面積を変えることによっ
て、反射型表示の色調を調整することが可能になってい
る。
との積層構造によって着色層312r,312g,31
2bが構成されているので、反射経路Rにおいては第1
実施形態と同様に淡色部のみを光が透過するが、透過経
路Tにおいては第1実施形態と異なり淡色部と濃色部3
12cの双方を光が透過する。したがって、第1実施形
態の場合と同様に透過型表示の彩度が向上し、反射型表
示と透過型表示の色彩の差異を低減することができる。
この場合、透過光は淡色部と濃色部の双方を透過するよ
うに構成されているので、本実施形態では濃色部312
cの厚さを第1実施形態の濃色部の厚さよりも低減する
ことができる。例えば、濃色部の光濃度が淡色部の2場
合である場合、第1実施形態と等価な光学的特性を本実
施形態において得るには、濃色部312cの厚さを淡色
部の厚さの半分にすればよい。
は、必要に応じて、複数の色調のうちの少なくとも一色
について行われる。また、上記態様では、開口部上と反
射層上のいずれか一方においてのみ淡色部と濃色部とが
共存したものを示しているが、開口部上と反射層上の双
方において淡色部と濃色部とが共存していても構わな
い。この場合には、反射型表示と透過型表示の双方の色
調を共に調整することが可能になる。
本発明に係る第3実施形態の電気光学装置用基板401
及び液晶表示パネル400について説明する。この実施
形態においても、上記第1実施形態と同様に構成された
基板401,402、シール材403、液晶404、透
明電極413,421、位相差板405,407、偏光
板406,408を備えているので、これらの説明は省
略する。
においても、基板401上に開口部411aを備えた反
射層411が形成され、その上に直接に着色層412
r,412g,412b、重ね遮光部412BM及び保
護膜412pからなるカラーフィルタ412が形成され
ている。
は上記着色部の一部を構成する濃色部412cが形成さ
れ、この濃色部412cの上に当該濃色部よりも光濃度
の小さい、淡色の淡色部412d(図3(A)又は
(B)参照)が画素全体に形成されている。
に、開口部411a上に、濃色層412cの配置されて
いない領域が存在している。このように構成されている
ことによって、開口部411a上には、濃色層412c
と淡色層412dとが重なっている領域と、淡色層41
2dのみが配置されている領域とが存在することとなる
ので、濃色層412cの形成面積を変えることによっ
て、透過型表示の色調を調整することが可能になってい
る。
12cの一部が反射層411上にも配置されていてもよ
い。この場合には、反射層411上には、濃色層412
cと淡色層412dとが重なっている領域と、淡色層4
12dのみが配置されている領域とが存在することとな
るので、濃色層412cの形成面積を変えることによっ
て、反射型表示の色調を調整することが可能になってい
る。
は、必要に応じて、複数の色調のうちの少なくとも一色
について行われる。また、上記態様では、開口部上と反
射層上のいずれか一方においてのみ淡色部と濃色部とが
共存したものを示しているが、開口部上と反射層上の双
方において淡色部と濃色部とが共存していても構わな
い。この場合には、反射型表示と透過型表示の双方の色
調を共に調整することが可能になる。
本発明に係る第4実施形態の電気光学装置用基板501
及び液晶表示パネル500について説明する。この実施
形態においても、上記第1実施形態と同様に構成された
基板501,502、シール材503、液晶504、透
明電極513,521、位相差板505,507、偏光
板506,508を備えているので、これらの説明は省
略する。
実施形態のようにカラーフィルタが反射層を備えた基板
上に形成されている構成とは異なり、反射層511を備
えた基板501にはカラーフィルタが形成されていない
代わりに、基板501に対向する基板502上にカラー
フィルタ522が形成されている。
開口部511aを備えた反射層511が形成され、この
反射層511の上には透明な絶縁膜512が形成され、
絶縁膜512の上に透明電極513が形成されている。
522g,522bが形成され、この各着色層における
上記開口部511aと平面的に重なる部分には主に淡色
部522d(図5(A)又は(B)参照)が形成され、
上記反射層511の開口部511aと平面的に重なる部
分には、淡色部522dよりも光濃度の高い濃色部52
2cが主に配置されている。また、そして、上記着色層
の上には重ね遮光部522BM及び保護膜522pが設
けられ、カラーフィルタ522が構成されている。
は着色層の淡色部を2回通過し、透過経路Tを通過する
光は濃色部522cを通過するので、光学的には第1実
施形態と同様の作用効果を奏することができる。
502であり、上記先の実施形態とは異なり、この基板
502上には反射層が形成されていない。すなわち、本
実施形態の電気光学装置用基板は反射層の形成された基
板501に対して対向する基板として形成されるもので
あり、このように反射層を備えていない電気光学装置用
基板においても、画素毎に設けられた着色層の一部に濃
色部を設けることによって反射半透過型の液晶表示パネ
ルの色彩に関する特性を向上させることができる。
ように、開口部511aと平面的に重なる、濃色部52
2cの配置されていない領域が存在し、しかも、その領
域に淡色部522dが配置されている。換言すれば、淡
色部522dの一部は、開口部511aと平面的に重な
る位置にも配置されている。
11と平面的に重なる、淡色部522dの配置されてい
ない領域が存在し、しかも、その領域に濃色部522c
が配置されるように構成してもよい。換言すれば、濃色
部522cの一部は、反射層511と平面的に重なる位
置にも配置されていてもよい。
実施形態と同様に、透過型表示又は反射型表示の色調を
低コストで容易に調整することが可能になる。
成された基板501と対向する基板502上に上記第1
実施形態と同様の構造を備えたカラーフィルタ522を
形成しているが、このカラーフィルタ522の構造とし
ては、上記第2実施形態と同様に淡色部上に濃色部を重
ねた構造であってもよく、また、上記第3実施形態と同
様に濃色部上に淡色部を重ねた構造であっても構わな
い。また、これらの場合には、第2実施形態の図2
(A)又は(B)に示す場合と同様にカラーフィルタを
構成してもよく、第3実施形態の図3(A)又は(B)
に示す場合と同様にカラーフィルタを構成してもよい。
は、必要に応じて、複数の色調のうちの少なくとも一色
について行われる。また、上記態様では、開口部上と反
射層上のいずれか一方においてのみ淡色部と濃色部とが
共存したものを示しているが、開口部上と反射層上の双
方において淡色部と濃色部とが共存していても構わな
い。この場合には、反射型表示と透過型表示の双方の色
調を共に調整することが可能になる。
実施形態の電気光学装置用基板及び電気光学装置につい
て説明する。図5は、本実施形態の液晶表示パネル60
0の構造を模式的に示す概略断面図である。
施形態と同様に構成された基板601,602、シール
材603、液晶604、透明電極613,621、位相
差板605,607、偏光板606,608を備えてい
るので、これらの説明は省略する。
表面上に開口部611aを備えた反射層611が形成さ
れ、この反射層611の上にカラーフィルタ612が形
成されている。本実施形態において、カラーフィルタ6
12は、一様な色濃度を有する淡色層612r,612
g,612bと、重ね遮光部612BMと、保護層61
2pとを有している。
開口部611aと平面的に重なる位置に限定して濃色層
622r、622g、622bが形成され、この濃色層
622r、622g、622bの上に透明電極621が
形成されている。この濃色層622r、622g、62
2bは、上記淡色層612r,612g,612bの色
濃度よりも高い色濃度を有している。
は、基板601上の淡色層を主に2回透過するが、透過
経路Tを通過する光は、主として上記淡色層を透過した
後にさらに濃色層を透過する。したがって、図11に示
す従来構造の液晶表示パネルに較べて、透過型表示の彩
度を高めることができ、反射型表示と透過型表示との色
彩の差異を低減することができる。
に、開口部611aと平面的に重なる、例えば濃色層6
22gの配置されていない領域が設けられ、当該領域で
は、淡色層612gのみが開口部611aと平面的に重
なるように配置されている。したがって、開口部611
aと平面的に重なる範囲においては、淡色層612gの
みが配置されている部分と、淡色層612gと濃色層6
22gとが重なり合っている部分とが共に存在すること
となるため、濃色層622gの形成面積を増減すること
によって透過型表示の色調を容易に調整することができ
る。
22gの一部が反射層611と平面的に重なる位置にも
配置されていてもよい。この場合には、反射層611と
平面的に重なる範囲においては、淡色層612gのみが
配置されている部分と、淡色層612gと濃色層622
gとが重なり合っている部分とが共に存在することとな
るため、濃色層622gの形成面積を増減することによ
って反射型表示の色調を容易に調整することができる。
も同様に構成できる。また、複数の色のうち少なくとも
一つについて上記のように構成されていればよい。
色層が画素全体に形成され、基板602上の濃色層が反
射層611の開口部611aと平面的に重なる限定され
た範囲に構成されているが、これとは異なり、基板60
1上の淡色層を反射層611の開口部611aの部分を
避けるように形成してもよい。この場合には、上記第1
実施形態と同様の光学的構成が得られる。
成された基板601上に淡色層を形成しているが、これ
とは逆に、反射層の形成されている一方の基板上に濃色
層を形成し、他方の基板上に淡色層を形成してもよい。
では、開口部上と反射層上のいずれか一方においてのみ
淡色部と濃色部とが共存したものを示しているが、開口
部上と反射層上の双方において淡色部と濃色部とが共存
していても構わない。この場合には、反射型表示と透過
型表示の双方の色調を共に調整することが可能になる。
本発明に係る第6実施形態として、電気光学装置用基板
の製造方法について説明する。この電気光学装置用基板
の製造方法は、上記第1実施形態の液晶表示パネル20
0に用いられている電気光学装置用基板の製造に関する
ものである。
ニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属
を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜
し、これを公知のフォトリソグラフィ法を用いてパター
ニングすることによって図7(a)に示すように開口部
211aを備えた反射層211を形成する。
相を呈する顔料や染料等を分散させてなる着色された感
光性樹脂(感光性レジスト)を塗布し、所定パターンに
て露光、現像を行ってパターニングを行うことにより、
着色層212rの淡色部を形成する。この淡色部は、上
記反射層211の開口部211a上の部分に非形成領域
(開口部)を備えたパターン形状となっている。その
後、上記淡色部よりも顔料や染料等の着色材の濃度を高
くした感光性樹脂を塗布し、上記と同様にしてパターニ
ングを行うことにより、図7(c)に示すように濃色部
212cを淡色部の非形成領域に形成する。このとき、
画素間領域にも濃色部212cが配置されるようにパタ
ーニングする。そして、上記と同様の工程を他の色相の
着色部212g,212bについても繰り返し行うこと
により、図7(d)に示すようにそれぞれ濃色部212
c及び淡色部212dを備えた各色の着色層を順次形成
していく。ここで、各着色層は画素間領域において相互
に重なるようにパターニングが行われ、複数(図示例で
は3つ)の着色層が重なった重ね遮光層212BMが形
成される。本実施形態の重ね遮光層212BMは、上記
図7(c)に示すように異なる色相の濃色部212cが
重なることによって構成されているので、高い遮光性を
得ることができる。
記とは逆に濃色部212cを形成してから淡色部を形成
しても構わない。また、複数の色相の着色層について淡
色部を順次に形成してから濃色部を順次に形成してもよ
く、その逆に、複数の色相の着色層について濃色部を順
次に形成してから淡色部を順次に形成してもよい。ま
た、上記重ね遮光層の代りに、黒色樹脂を配置すること
によって形成された黒色遮光層を形成してもよい。
樹脂としてレべリング性の高い素材を用い、これをスピ
ンコーティング法などの平坦性を得易い方法で塗布す
る。その結果、各着色層の表面は画素内においてほとん
ど平坦に形成される。
基板は、図示しない保護層212pが形成されることに
よって表面がほぼ平坦に形成される。その後、この電気
光学装置用基板である基板201を用いて図1に示す液
晶表示パネル200が形成される。
際しては、上記のように基板201上に形成されたカラ
ーフィルタ212の上に透明導電体をスパッタリング法
により被着し、公知のフォトリソグラフィ法によってパ
ターニングすることにより透明電極213を形成する。
その後、透明電極213の上にポリイミド樹脂などから
なる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す。
201を基板202と貼り合わせ、パネル構造を構成す
る。このとき、基板202には、その表面上に既に透明
電極221や上記と同様の配向膜などが形成されてい
る。基板201と基板202とは、基板間に分散配置さ
れた図示しないスペーサやシール材203内に混入され
たスペーサ等によってほぼ既定の基板間隔となるように
貼り合わせられる。
部から液晶204を注入し、シール材203の開口部を
紫外線硬化樹脂等の封止材によって閉鎖する。このよう
にして主要なパネル構造が完成された後に、上記の位相
差板205,207や偏光板206,208が基板20
1,202の外面上に貼着などの方法によって取り付け
られる。
本発明に係る第7実施形態である電気光学装置用基板の
製造方法について説明する。この実施形態は、図2に示
す第2実施形態の液晶表示パネル300に使用されてい
る基板301に相当する電気光学装置用基板を製造する
方法である。
(a)に示すように、基板301の上に開口部311a
を備えた反射層311を形成する。
層311の上に着色層312rの淡色部312dを形成
する。この淡色部312dは反射層311の開口部31
1a上をも覆うように形成される。このとき、画素間領
域にも同様に淡色部312dが形成される。
色部の上に、反射層311の開口部311aの直上に濃
色部312cを形成し、淡色部上に部分的に濃色部31
2cが積層された着色層312rが完成される。そし
て、このような工程を他の色相についても同様に繰り返
し、図8(d)に示すように着色層312r,312
g,312bを形成する。このとき、重ね遮光部312
BMも上記と同様に形成される。本実施形態では、重ね
遮光部312BMは異なる色の淡色部312dが重ねら
れて構成されているが、第6実施形態と同様に濃色部を
重ねることによって構成してもよい。
順次形成しているが、上記淡色部を複数の色相について
形成した後に、濃色部を複数の色相について順次に形成
しても構わない。
用いて図2に示す液晶表示パネル300を形成する場合
には、上記第6実施形態と同様にして行う。
て、本発明に係る上記各実施形態の変形例について説明
する。上記の実施形態においては、濃色部の縁部と淡色
部の縁部とが相互に密接している(第1実施形態)か、
或いは、濃色部と淡色部のうち一方が他方を完全に覆っ
ている(第2実施形態及び第3実施形態)ため、反射層
及び開口部が濃色部と淡色部のいずれかによって全て覆
われている。しかし、図9(a)又は(b)に示す例で
は、濃色部212c’、212”と淡色部212d’、
212d”との間に隙間が形成されていることにより、
着色層で覆われていない領域が設けられている。このよ
うにすると、図9(a)に示すように開口部211a’
上に着色層のない領域が設けられている場合には透過型
表示の色を薄くし、表示を明るくすることができ、図9
(b)に示すように反射層211”上に着色層のない領
域が設けられている場合には反射型表示の色を薄くし、
表示を明るくすることができる。そして、いずれの場合
にも、上記の着色層のない領域の面積を変えることによ
り、各表示の色調を調整することが可能になる。特に、
このように隙間部分を有する場合には、図10の色度図
において角印で示す濃色部の色調よりも光濃度の低い領
域(図示破線で示す)にも色調を調整することができ
る。
312d’、312d”の縁部上に濃色部312c’、
312c”を乗り上げるように重ねた例を示す。このよ
うにすると、図9(c)に示すように開口部311a’
上で淡色部312d’と濃色部312c’とが重なり合
っている場合には透過型表示の色を濃くし、彩度を高め
ることができる。また、図9(d)に示すように反射層
311”上で淡色部312d”と濃色部312c”とが
重なりあっている場合には反射型表示の色を濃くし、彩
度を高めることができる。そして、いずれの場合にも、
上記の重なり部分の面積を変えることにより、各表示の
色調を調整することが可能になる。特に、このように重
ね部分を有する場合には、図10の色度図において丸印
で示す濃色部の色調よりも光濃度の高い領域(図示破線
で示す)にも色調を調整することができる。
部412c’、412c”の縁部上に淡色部412
d’、412d”を乗り上げるように重ねた例を示す。
このようにすると、図9(e)に示すように開口部41
1a’上で淡色部412d’と濃色部412c’とが重
なり合っている場合には透過型表示の色を濃くし、彩度
を高めることができる。また、図9(f)に示すように
反射層411”上で淡色部412d”と濃色部412
c”とが重なりあっている場合には反射型表示の色を濃
くし、彩度を高めることができる。そして、いずれの場
合にも、上記の重なり部分の面積を変えることにより、
各表示の色調を調整することが可能になる。特に、この
ように重ね部分を有する場合には、図10の色度図にお
いて丸印で示す濃色部の色調よりも光濃度の高い領域
(図示破線で示す)にも色調を調整することができる。
色部と濃色部との位置関係は、上記の第4実施形態のよ
うに反射層とカラーフィルタとが異なる基板上に形成さ
れている場合、上記の第5実施形態のように淡色層と濃
色層とが異なる基板上に形成されている場合にも、相互
の平面的な重なり関係において同様に適用し、構成する
ことができる。すなわち、第4実施形態及び第5実施形
態においては、図9(a)及び(b)に示すように、淡
色部(淡色層)と濃色部(濃色層)との間に平面的に隙
間が形成されていてもよく、図9(c)乃至(f)に示
すように、淡色部(淡色層)と濃色部(濃色層)とが平
面的に一部重なりあっていてもよい。
光学装置並びに電気光学装置用基板の製造方法及び電気
光学装置の製造方法は、上述の図示例にのみ限定される
ものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内におい
て種々変更を加え得ることは勿論である。
は、いずれもパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを
例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アク
ティブマトリクス型の液晶表示パネル(例えば、TFT
(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)をス
イッチング素子として備えた液晶表示パネル)にも同様
に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだ
けでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレク
トロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセン
ス装置、FED(フィールドエミッションディスプレ
イ)装置、LED(発光ダイオード)表示装置、プラズ
マディスプレイ装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウ
ン管、液晶シャッター等を用いた小型テレビ、デジタル
マイクロミラーデバイス(DMD)を用いた装置などの
ように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電
気光学装置においても本発明を同様に適用することが可
能である。
パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用い
る場合の実施形態について説明する。図12は、本実施
形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電
子機器は、上記と同様の液晶パネル200と、これを制
御する制御手段1200とを有する。ここでは、液晶パ
ネル200を、パネル構造体200Aと、半導体IC等
で構成される駆動回路200Bとに概念的に分けて描い
てある。また、制御手段1200は、表示情報出力源1
210と、表示処理回路1220と、電源回路1230
と、タイミングジェネレータ1240とを有する。
Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等か
らなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等
からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同
調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ
1240によって生成された各種のクロック信号に基づ
いて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を
表示情報処理回路1220に供給するように構成されて
いる。
パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号CLKと共に駆動回路200Bへ供
給する。駆動回路200Bは、走査線駆動回路、データ
線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路123
0は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給す
る。
形態である携帯電話を示す。この携帯電話2000は、
ケース体2010の内部に回路基板2001が配置さ
れ、この回路基板2001に対して上述の液晶パネル2
00が実装されている。ケース体2010の前面には操
作ボタン2020が配列され、また、一端部からアンテ
ナ2030が出没自在に取付けられている。受話部20
40の内部にはスピーカが配置され、送話部2050の
内部にはマイクが内蔵されている。
ル200は、表示窓2060を通して表示面(上記の液
晶表示領域A)を視認することができるように構成され
ている。
のみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であ
る。本発明に係る電子機器としては、上記の例の他に、
ディジタルウォッチ、ディジタルスチルカメラ、タッチ
パネル、電卓、テレビジョン、プロジェクタ、ビューフ
ァインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カ
ーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、ワードプ
ロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS
端末機などがあげられる。そして、これらの各種電子機
器の表示部として本発明に係る電気光学装置を用いるこ
とができる。
色調の調整を低コストで容易に行うことが可能になる。
また、反射型表示と透過型表示とにおける色彩の差異を
低減し、特に透過型表示における彩度を向上させること
ができる。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
造を模式的に示す概略平面図である。
基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜
(d)である。
基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜
(d)である。
を模式的に示す概略部分断面図(a)〜(d)である。
度図である。
の構造を模式的に示す概略断面図である。
構成ブロックを示す概略構成図である。
電話の外観を示す斜視図である。
Claims (32)
- 【請求項1】 基板上に配置され、淡色部および前記淡
色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板
上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記開口部上の一部に前記濃色部の配置されていない領
域が存在することを特徴とする電気光学装置用基板。 - 【請求項2】 前記領域の少なくとも一部に前記淡色部
が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電
気光学装置用基板。 - 【請求項3】 基板上に配置され、淡色部および前記淡
色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板
上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記淡色部の一部は、前記開口部上にも配置されている
ことを特徴とする電気光学装置用基板。 - 【請求項4】 基板上に配置され、淡色部および前記淡
色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板
上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記濃色部は前記開口部上に配置され、前記淡色部は前
記反射層上に配置され、 前記反射層上の一部に前記淡色部の配置されていない領
域が存在することを特徴とする電気光学装置用基板。 - 【請求項5】 前記領域の少なくとも一部に前記濃色部
が配置されていることを特徴とする請求項4に記載の電
気光学装置用基板。 - 【請求項6】 基板上に配置され、淡色部および前記淡
色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基板
上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記濃色部は前記開口部上に配置され、前記淡色部は前
記反射層上に配置され、 前記濃色部の一部は、前記反射層上にも配置されている
ことを特徴とする電気光学装置用基板。 - 【請求項7】 前記淡色部と前記濃色部は、少なくとも
一部において相互に重なり合っていることを特徴とする
請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の電気光学
装置用基板。 - 【請求項8】 電気光学物質からなる電気光学層と、 前記電気光学層に沿った基板上に配置され、開口部を有
する反射層と、 前記基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも
光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記開口部上の一部に前記濃色部の配置されていない領
域が存在することを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項9】 前記領域の少なくとも一部に前記淡色部
が配置されていることを特徴とする請求項8に記載の電
気光学装置。 - 【請求項10】 基板上に配置され、淡色部および前記
淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基
板上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記淡色部の一部は、前記開口部上にも配置されている
ことを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項11】 電気光学物質からなる電気光学層と、 前記電気光学層に沿った基板上に配置され、開口部を有
する反射層と、 前記基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よりも
光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記反射層上の一部に前記淡色部の配置されていない領
域が存在することを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項12】 前記領域の少なくとも一部に前記濃色
部が配置されていることを特徴とする請求項11に記載
の電気光学装置。 - 【請求項13】 基板上に配置され、淡色部および前記
淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基
板上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記濃色部の一部は、前記反射層上にも配置されている
ことを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項14】 前記淡色部と前記濃色部とは、少なく
とも一部において相互に重なり合っていることを特徴と
する請求項8乃至請求項13のいずれか1項に記載の電
気光学装置。 - 【請求項15】 電気光学物質からなる電気光学層と、 前記電気光学層に沿った基板上に配置され、開口部を有
する反射層と、 前記基板に対向して配置された対向基板と、 前記対向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、 前記淡色部は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記開口部の一部と平面的に重なる、前記濃色部の配置
されていない領域が存在することを特徴とする電気光学
装置。 - 【請求項16】 前記領域の少なくとも一部と重なる位
置にも前記淡色部が配置されていることを特徴とする請
求項8に記載の電気光学装置。 - 【請求項17】 基板上に配置され、淡色部および前記
淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、基
板上に配置され、開口部を有する反射層とを備え、 前記淡色部は前記反射層上に配置され、前記濃色部は前
記開口部上に配置され、 前記淡色部の一部は、前記開口部と平面的に重なる位置
にも配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項18】 電気光学物質からなる電気光学層と、 前記電気光学層に沿った基板上に配置され、開口部を有
する反射層と、 前記基板に対向して配置された対向基板と、 前記対向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、 前記淡色部は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記反射層の一部と平面的に重なる、前記淡色部の配置
されていない領域が存在することを特徴とする電気光学
装置。 - 【請求項19】 前記領域の少なくとも一部と重なる位
置にも前記濃色部が配置されていることを特徴とする請
求項18に記載の電気光学装置。 - 【請求項20】 電気光学物質からなる電気光学層と、 前記電気光学層に沿った基板上に配置され、開口部を有
する反射層と、 前記基板に対向して配置された対向基板と、 前記対向基板上に配置され、淡色部および前記淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、 前記淡色部は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色部は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記濃色部の一部は、前記反射層と平面的に重なる位置
にも配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項21】 前記淡色部と前記濃色部とは、少なく
とも一部において相互に平面的に重なり合っていること
を特徴とする請求項15乃至請求項20のいずれか1項
に記載の電気光学装置。 - 【請求項22】 一対の基板間に保持された電気光学物
質からなる電気光学層と、 前記一対の基板間に配置され、開口部を有する反射層
と、 前記電気光学層に沿った前記一対の基板のうち一方の基
板上に配置された淡色層と、 前記一対の基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡
色層よりも光濃度が高い濃色層とを備え、 前記淡色層は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色層は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記開口部の一部と平面的に重なる、前記濃色層の配置
されていない領域が存在することを特徴とする電気光学
装置。 - 【請求項23】 前記領域の少なくとも一部と重なる位
置にも前記淡色層が配置されていることを特徴とする請
求項22に記載の電気光学装置。 - 【請求項24】 一対の基板間に保持された電気光学物
質からなる電気光学層と、 前記一対の基板間に配置され、開口部を有する反射層
と、 前記電気光学層に沿った前記一対の基板のうち一方の基
板上に配置された淡色層と、 前記一対の基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡
色層よりも光濃度が高い濃色層とを備え、 前記淡色層は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色層は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記淡色層の一部は前記開口部と平面的に重なる位置に
も配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項25】 一対の基板間に保持された電気光学物
質からなる電気光学層と、 前記一対の基板間に配置され、開口部を有する反射層
と、 前記電気光学層に沿った前記一対の基板のうち一方の基
板上に配置された淡色層と、 前記一対の基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡
色層よりも光濃度が高い濃色層とを備え、 前記淡色層は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色層は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記反射層の一部と平面的に重なる、前記淡色層の配置
されていない領域が存在することを特徴とする電気光学
装置。 - 【請求項26】 前記領域の少なくとも一部と重なる位
置にも前記濃色層が配置されていることを特徴とする請
求項25に記載の電気光学装置。 - 【請求項27】 一対の基板間に保持された電気光学物
質からなる電気光学層と、 前記一対の基板間に配置され、開口部を有する反射層
と、 前記電気光学層に沿った前記一対の基板のうち一方の基
板上に配置された淡色層と、 前記一対の基板のうち他方の基板上に配置され、前記淡
色層よりも光濃度が高い濃色層とを備え、 前記淡色層は前記反射層と平面的に重なる位置に配置さ
れ、前記濃色層は前記開口部と平面的に重なる位置に配
置され、 前記濃色層の一部は前記反射層と平面的に重なる位置に
も配置されていることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項28】 前記淡色層と前記濃色層とは、少なく
とも一部において相互に平面的に重なり合っていること
を特徴とする請求項22乃至請求項27のいずれか1項
に記載の電気光学装置。 - 【請求項29】 基板上に淡色部および前記淡色部より
も光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程
と、 前記基板上に開口部を有する反射層を形成する工程とを
有し、 前記着色層を形成する工程では、前記濃色部が前記開口
部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡色部が前記
反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記開口部の
一部と平面的に重なる、前記濃色部の配置されていない
領域が形成されることを特徴とする電気光学装置用基板
の製造方法。 - 【請求項30】 基板上に淡色部および前記淡色部より
も光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程
と、 前記基板若しくは前記基板と対向すべき対向基板上に開
口部を有する反射層を形成する工程とを有し、 前記着色層を形成する工程では、前記濃色部が前記開口
部と平面的に重なる位置に形成され、前記淡色部が前記
反射層と平面的に重なる位置に形成され、前記開口部と
平面的に重なる、前記濃色部の配置されていない領域が
形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項31】 カラーフィルタ内の実質的に同一の光
学的状態に置かれる発色領域内に淡色部及び該淡色部よ
りも光濃度が高い濃色部を設ける場合に、前記発色領域
内における前記淡色部の形成面積と前記濃色部の形成面
積の少なくとも一方を変更することにより、前記発色領
域の発色を調整することを特徴とするカラーフィルタの
色調整方法。 - 【請求項32】 請求項8に記載の電気光学装置を備え
ることを特徴とする電子機器。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3674581B2 (ja) * | 2001-12-07 | 2005-07-20 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、その製造方法、液晶表示パネルおよび電子機器 |
KR100829735B1 (ko) * | 2001-12-15 | 2008-05-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라 액정 표시장치 |
KR20030086168A (ko) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 유기전계 발광소자와 그 제조방법 |
JP3788448B2 (ja) * | 2003-07-18 | 2006-06-21 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器 |
JP2005043718A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、表示装置、電気光学装置および電子機器 |
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JP4461748B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2010-05-12 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
US20060017868A1 (en) * | 2004-07-23 | 2006-01-26 | Wintek Corporation | Apparatus of liquid crystal display for compensating chromaticity of reflected light and the method of fabrication |
JP4760046B2 (ja) * | 2005-02-17 | 2011-08-31 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタ基板および液晶表示パネル |
JP2006251417A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
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EP1960710B1 (en) * | 2005-12-07 | 2015-01-07 | Koninklijke Philips N.V. | A lighting module |
KR20070092446A (ko) * | 2006-03-10 | 2007-09-13 | 삼성전자주식회사 | 색필터 표시판의 제조 방법 및 액정 표시 장치 |
US8237892B1 (en) | 2007-11-30 | 2012-08-07 | Sipix Imaging, Inc. | Display device with a brightness enhancement structure |
US7830592B1 (en) * | 2007-11-30 | 2010-11-09 | Sipix Imaging, Inc. | Display devices having micro-reflectors |
US8437069B2 (en) * | 2008-03-11 | 2013-05-07 | Sipix Imaging, Inc. | Luminance enhancement structure for reflective display devices |
CN105137643A (zh) * | 2008-03-11 | 2015-12-09 | 希毕克斯影像有限公司 | 用于反射型显示器的辉度增强结构 |
US8441414B2 (en) * | 2008-12-05 | 2013-05-14 | Sipix Imaging, Inc. | Luminance enhancement structure with Moiré reducing design |
US20100177396A1 (en) * | 2009-01-13 | 2010-07-15 | Craig Lin | Asymmetrical luminance enhancement structure for reflective display devices |
US9025234B2 (en) * | 2009-01-22 | 2015-05-05 | E Ink California, Llc | Luminance enhancement structure with varying pitches |
US8120836B2 (en) * | 2009-03-09 | 2012-02-21 | Sipix Imaging, Inc. | Luminance enhancement structure for reflective display devices |
US8714780B2 (en) * | 2009-04-22 | 2014-05-06 | Sipix Imaging, Inc. | Display devices with grooved luminance enhancement film |
US8797633B1 (en) | 2009-07-23 | 2014-08-05 | Sipix Imaging, Inc. | Display device assembly and manufacture thereof |
US8456589B1 (en) | 2009-07-27 | 2013-06-04 | Sipix Imaging, Inc. | Display device assembly |
US10783504B2 (en) | 2010-02-26 | 2020-09-22 | Red Hat, Inc. | Converting standard software licenses for use in cloud computing environments |
US9543949B2 (en) * | 2014-01-24 | 2017-01-10 | Inspur Electronic Information Industry Co., Ltd | Differential signal reversion and correction circuit and method thereof |
CN107870475A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-04-03 | 惠科股份有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1074136C (zh) * | 1993-06-07 | 2001-10-31 | 卡西欧计算机公司 | 液晶显示装置 |
JP3482827B2 (ja) * | 1997-08-04 | 2004-01-06 | 凸版印刷株式会社 | 半透過型液晶表示装置 |
JP4551515B2 (ja) | 1998-10-07 | 2010-09-29 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置およびその温度制御方法 |
JP2000267077A (ja) | 1999-03-15 | 2000-09-29 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置および電子機器 |
JP3590737B2 (ja) | 1999-04-13 | 2004-11-17 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子 |
JP3714044B2 (ja) | 1999-07-15 | 2005-11-09 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法ならびに電子機器 |
KR100656695B1 (ko) * | 1999-12-11 | 2006-12-15 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 투과반사형 액정 표시장치 |
KR100637283B1 (ko) * | 2000-04-14 | 2006-10-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사투과 액정표시장치 |
US6697135B1 (en) * | 1999-10-27 | 2004-02-24 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Transflective liquid crystal display device having reflective and transmissive mode parity |
JP2001125094A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-11 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置 |
JP4196505B2 (ja) * | 1999-12-13 | 2008-12-17 | ソニー株式会社 | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
US6522011B1 (en) * | 2000-08-15 | 2003-02-18 | Micron Technology, Inc. | Low capacitance wiring layout and method for making same |
JP2002107746A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Minolta Co Ltd | 表示パネル及びその製造方法 |
JP2003090997A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-03-28 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器 |
JP3642325B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2005-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示パネル用基板、液晶表示パネル、液晶表示パネル用基板の製造方法、液晶表示パネルの製造方法、及び電子機器 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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