JP2003302518A

JP2003302518A - 電気光学パネル用基板及びその製造方法、電気光学パネル並びに電子機器

Info

Publication number: JP2003302518A
Application number: JP2002108525A
Authority: JP
Inventors: Keiji Takizawa; 圭二瀧澤; Yorihiro Odagiri; 頼広小田切; Tomoyuki Nakano; 智之中野
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-04-10
Filing date: 2002-04-10
Publication date: 2003-10-24

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】マルチギャップタイプの液晶パネルにおい
て、透過表示領域のみにおいてオーバーコート層を除去
する工程を省略することにより、製造工程を簡略化し、
コストを抑制する。【解決手段】透光性の基板１０１上に、反射表示用カ
ラーフィルタ層１２０Ｒが、その外面が透過表示用カラ
ーフィルタ層１２０Ｔの外面よりも所定値（α）だけ高
くなるように設けられている。そして、それらカラーフ
ィルタ層上に、層厚が均一なオーバーコート層１２７が
設けられるので、反射表示領域におけるオーバーコート
層の外面は、透過表示領域におけるオーバーコート層の
外面よりも所定値αだけ高くなる。この液晶パネル用基
板を用いて液晶パネルを構成した場合には、透過表示領
域における液晶層の層厚が、反射表示領域における液晶
層の層厚よりも所定値（α）だけ厚いマルチギャップ構
造となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半透過反射型液晶
表示装置に関し、特に１画素内の透過表示領域と反射表
示領域との間で液晶層の層厚を適正な値に調整したマル
チギャップタイプの液晶装置に関する。

【０００２】

【背景技術】各種の液晶装置のうち、透過モード及び反
射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過反射型
液晶装置と呼ばれ、携帯電話、携帯型情報端末などに広
く利用されている。

【０００３】この半透過反射型液晶装置は、表面に第１
の透明電極が形成された透明な第１の基板と、第１の電
極と対向する面側に第２の透明電極が形成された透明な
第２の基板により、ＴＮ（ツイステッドネマティック）
モードの液晶層を挟持してなる。第１の基板には、第１
の透明電極と第２の透明電極とが対向する画素領域内に
反射表示領域を構成する光反射層が形成され、この光反
射層に設けられた開口に相当する領域が透過表示領域と
なっている。第１の基板及び第２の基板の各々の外側に
は偏光板が配置される。また、光反射層が形成されてい
る第１の基板側には、偏光板のさらに外側にバックライ
ト装置が配置される。

【０００４】このような構成の液晶装置では、バックラ
イト装置から出射された光のうち、透過表示領域に入射
した光は、第２の基板側から液晶層に入射し、液晶層で
光変調された後、第２の基板側から透過表示光として出
射されて画像を表示する（透過モード）。

【０００５】また、第２の基板側から入射した外光のう
ち、反射表示領域に入射した光は、液晶層を通って反射
層に至り、反射層で反射されて再び液晶層を通って第２
の基板側から反射表示光として出射されて画像を表示す
る（反射モード）。

【０００６】ここで、第１の基板上には、反射表示領域
と透過表示領域の各々に反射表示用カラーフィルタ及び
透過表示用カラーフィルタが形成されているので、透過
モード及び反射モードのいずれにおいてもカラー表示が
可能である。

【０００７】このように、液晶層により光変調が行われ
る際、液晶のツイスト角を小さく設定した場合には、偏
光状態の変化が屈折率差Δｎと液晶層の層厚ｄの積（リ
タデーションΔｎ・ｄ）の関数になるため、この値を適
正化しておけば視認性の良い表示を行うことができる。
しかしながら、半透過反射型の液晶装置において、透過
表示光は液晶層を一度だけ通過して出射されるのに対し
て、反射表示光は液晶層を２度通過することになるた
め、透過表示光及び反射表示光の双方において同時にリ
タデーションΔｎ・ｄを最適化することは困難である。
従って、反射モードでの表示が視認性の良いものとなる
ように液晶層の層厚ｄを設定すると、透過モードでの表
示が犠牲となる。逆に、透過モードでの表示が視認性の
良いものとなるように液晶層の層厚ｄを設定すると、反
射モードでの表示が犠牲となる。

【０００８】そこで、特開平１１−２４２２２６号公報
には、反射表示領域における液晶層の層厚を透過表示領
域における液晶層の層厚よりも小さくした構造の半透過
反射型液晶装置が開示されている。このような液晶装置
はマルチギャップタイプと呼ばれる。

【０００９】このマルチギャップ構造は、前述の反射表
示領域、より具体的には反射表示用カラーフィルタ上に
層厚調整のためのオーバーコート層を形成することによ
り実現できる。このとき、透過表示用カラーフィルタ上
にはオーバーコート層を形成しない。こうすることによ
り、透過表示領域では反射表示領域と比較して、オーバ
ーコート層の厚さ分だけ液晶層の層厚ｄが大きくなるの
で、透過表示光及び反射表示光の双方に対してリタデー
ションΔｎ・ｄを最適化することができ、透過モードと
反射モードの双方において視認性の良い画像表示が可能
となる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述のようなマルチギ
ャップタイプの液晶装置においては、透過表示領域と反
射表示領域における液晶層の層厚を異ならせるために、
透過表示領域においては透過表示用カラーフィルタ上に
オーバーコート層を形成しないこととする一方、反射表
示領域においては反射表示用カラーフィルタ上に所定厚
さ（例えばｄとする）のオーバーコート層を形成する。
これにより、透過表示領域と反射表示領域ではｄだけ液
層層の層厚を異ならせている。

【００１１】しかし、このように反射表示領域のみにお
いて約ｄの層厚のオーバーコート層を形成するために
は、反射表示領域のみならず透過表示領域も含む全領域
に対してまず一定の層厚でオーバーコート層を形成した
後、透過表示領域のみにおいてフォトリソグラフィー技
術によりオーバーコート層をパターニング（除去）する
必要がある。

【００１２】本発明は、上記のような透過表示領域のみ
においてオーバーコート層を除去する工程を省略するこ
とにより、製造工程を簡略化し、コストを抑制すること
が可能なマルチギャップタイプの液晶パネル用基板及び
その製造方法、液晶パネル並びに電子機器を提供するこ
とを課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の１つの観点で
は、電気光学パネル用基板は、基板と、透過表示領域に
おいて前記基板上に配置された第１カラーフィルタ層
と、反射表示領域において前記基板上に配置された第２
カラーフィルタ層と、前記第１カラーフィルタ層及び前
記第２カラーフィルタ層の両方を覆うオーバーコート層
と、を備え、前記第２カラーフィルタ層の外面の前記基
板からの高さは、前記第１カラーフィルタ層の外面の前
記基板からの高さより所定値α高いことを特徴とする。

【００１４】また、本発明の他の観点によれば、電気光
学パネル用基板は、基板と、前記基板上に配置された第
１表示用電極と、前記第１表示用電極に対向するように
配置された第２表示用電極と、前記第１表示用電極と前
記第２表示用電極との平面的な重なり領域に形成された
複数のドットと、前記ドット領域の各々の透過表示領域
に配置された第１カラーフィルタ層と、前記ドット領域
の各々の反射表示領域に配置された第２カラーフィルタ
層と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフ
ィルタ層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、前
記第２カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さ
は、前記第１カラーフィルタ層の外面の前記基板からの
高さより所定値α高いことを特徴とする。

【００１５】上記の電気光学パネル用基板は、例えばガ
ラス、プラスチックなどの透光性の基板上に、第１カラ
ーフィルタ層と第２カラーフィルタ層が配置される。こ
こで、第２カラーフィルタ層は、その外面の基板からの
高さが、第１カラーフィルタ層の外面の基板からの高さ
よりも所定値だけ高くなるように設けられている。即
ち、第１カラーフィルタ層と第２カラーフィルタ層はそ
の間に所定値の段差を有する構造となっている。そし
て、それらカラーフィルタ層上にオーバーコート層が設
けられる。その結果、第２カラーフィルタ層の領域にお
けるオーバーコート層の外面は、第１カラーフィルタ層
の領域におけるオーバーコート層の外面よりも所定値だ
け高くなる。従って、この電気光学パネル用基板を用い
て電気光学パネルを構成した場合には、第２カラーフィ
ルタ層の領域における電気光学物質層の層厚が、第１カ
ラーフィルタ層の領域における電気光学物質層の層厚よ
りも所定値だけ厚いマルチギャップ構造となる。

【００１６】即ち、マルチギャップ構造において第１カ
ラーフィルタ層の領域と第２カラーフィルタ層の領域に
おける電気光学物資層の層厚の差として好ましい所定値
だけ、予め第２カラーフィルタ層の外面が第１カラーフ
ィルタ層の外面より高くなるように各カラーフィルタ層
を設ければ、その後にオーバーコート層を設けるだけ
で、所望のマルチギャップ構造が得られる。よって、オ
ーバーコート層をフォトリソグラフィーによりパターニ
ングする工程が不要となり、製造工程の簡略化、製造コ
ストの抑制が図られる。

【００１７】上記の電気光学パネル用基板において、前
記オーバーコート層の層厚は、前記第１カラーフィルタ
層及び前記第２カラーフィルタ層を覆っている領域にお
いて、実質的に均一であることが好ましい。これによ
り、各カラーフィルタ層の間に好ましい層厚の差を正確
に設けることができる。

【００１８】上記の電気光学パネル用基板においては、
前記第１カラーフィルタ層および前記第２カラーフィル
タ層によって前記透過表示領域の位置に対応して凹部が
形成されてなり、前記オーバーコート層は前記凹部の外
形に沿うように設けられ、前記凹部の位置に対応して前
記オーバーコート層に凹部が形成されてなることが好ま
しい。

【００１９】上記の電気光学パネル用基板においては、
前記反射表示領域における前記オーバーコート層の外面
の前記基板からの高さは、前記透過表示領域における前
記オーバーコート層の外面の前記基板からの高さより実
質的に前記所定値α高くなる。また、前記所定値αは１
〜５μｍであることが望ましく、前記第１カラーフィル
タ層は、前記第２カラーフィルタ層よりも光学濃度が大
きいことが望ましい。

【００２０】上記の電気光学パネル用基板の一態様で
は、Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層及び前記
第２カラーフィルタ層のそれぞれに対して光を一回通過
させてそれぞれの分光透過率曲線を描いた場合に、前記
第１カラーフィルタ層は、前記第２カラーフィルタ層よ
りも可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける前記分光
透過率曲線の積分値が小さいことが好ましい。また、前
記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラーフィルタ層
の１．４倍〜２．６倍の光学濃度を有することが好まし
く、前記第２カラーフィルタ層の１．７倍〜２．３倍の
光学濃度を有することがさらに好ましい。これにより、
透過表示時及び反射表示時における表示画質に差のない
半透過反射型表示を実現することができる。

【００２１】上記の電気光学パネル用基板の他の一態様
では、前記複数のドットは、少なくとも３つ設けられ、
Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層及び前記第２
カラーフィルタ層の各々に光を一回通過させて、前記第
１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層の色
度座標を算出し、ｘｙ色度図上にプロットした場合に、
前記第２カラーフィルタ層の前記色度座標を頂点とする
三角形の面積は、前記第１カラーフィルタ層の前記色度
座標を頂点とする三角形の面積の１．１倍以上６．０倍
以下であることが好ましい。これにより、透過表示時及
び反射表示時における表示画質に差のない半透過反射型
表示を実現することができる。

【００２２】また、上記の電気光学パネル用基板と、前
記電気光学パネル用基板と対向配置される対向基板と、
前記電気光学パネル用基板と前記対向基板との間に配設
された電気光学物質層と、を備え、前記透過表示領域に
おける前記電気光学物質層の層厚が前記反射表示領域に
おける電気光学物質層の層厚より厚い電気光学パネルを
構成することができ、さらにその電気光学パネルにおい
て、前記透過表示領域における前記電気光学物質層の層
厚を、前記反射表示領域における電気光学物質層の層厚
より実質的に前記所定値α厚くすることができる。ま
た、上記の電気光学パネルは、前記電気光学物質として
液晶を含むことができる。さらに、上記の電気光学パネ
ルを表示部として備える電子機器を構成することができ
る。

【００２３】本発明のさらに他の観点では、電気光学パ
ネル用基板の製造方法は、透過表示領域において基板上
に第１カラーフィルタ層を形成する工程と、反射表示領
域において前記基板上に第２カラーフィルタ層を形成す
る工程と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラ
ーフィルタ層の両方の上に、オーバーコート層を形成す
る工程と、を備え、前記第２カラーフィルタは、当該第
２カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さが、前
記第１カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さよ
り所定値だけ高くなるように形成する。

【００２４】また、本発明のさらに他の観点では、基板
と、前記基板上に配置された第１表示用電極と、前記第
１表示用電極に対向するように配置された第２表示用電
極と、前記第１表示用電極と前記第２表示用電極との平
面的な重なり領域に形成された複数のドットと、を備え
る電気光学パネル用基板の製造方法において、各前記ド
ットの透過表示領域において基板上に第１カラーフィル
タ層を形成する工程と、各前記ドットの反射表示領域に
おいて前記基板上に第２カラーフィルタ層を形成する工
程と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフ
ィルタ層の両方の上に、オーバーコート層を形成する工
程と、を備え、前記第２カラーフィルタは、当該第２カ
ラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さが、前記第
１カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さより所
定値だけ高くなるように形成する。

【００２５】上記の電気光学パネル用基板の製造方法に
よれば、例えばガラス、プラスチックなどの透光性の基
板上に、第１カラーフィルタ層と第２カラーフィルタ層
が形成される。ここで、第２カラーフィルタ層は、その
外面の基板からの高さが、第１カラーフィルタ層の外面
の基板からの高さよりも所定値だけ高くなるように形成
される。即ち、第１カラーフィルタ層と第２カラーフィ
ルタ層はその間に所定値の段差を有する構造となってい
る。そして、それらカラーフィルタ層上にオーバーコー
ト層が形成される。その結果、第２カラーフィルタ層の
領域におけるオーバーコート層の外面は、第１カラーフ
ィルタ層の領域におけるオーバーコート層の外面よりも
所定値だけ高くなる。従って、この電気光学パネル用基
板を用いて電気光学パネルを構成した場合には、第２カ
ラーフィルタ層の領域における電気光学物質層の層厚
が、第１カラーフィルタ層の領域における電気光学物質
層の層厚よりも所定値だけ厚いマルチギャップ構造とな
る。

【００２６】即ち、マルチギャップ構造において第１カ
ラーフィルタ層の領域と第２カラーフィルタ層の領域に
おける電気光学物資層の層厚の差として好ましい所定値
だけ、予め第２カラーフィルタ層の外面が第１カラーフ
ィルタ層の外面より高くなるように各カラーフィルタ層
を設ければ、その後にオーバーコート層を設けるだけ
で、所望のマルチギャップ構造が得られる。よって、オ
ーバーコート層をフォトリソグラフィーによりパターニ
ングする工程が不要となり、製造工程の簡略化、製造コ
ストの抑制が図られる。

【００２７】上記の電気光学パネル用基板の製造方法に
おいて、前記オーバーコート層の層厚は、前記第１カラ
ーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層を覆ってい
る領域において、実質的に均一であることが好ましい。
これにより、各カラーフィルタ層の間に好ましい層厚の
差を正確に設けることができる。

【００２８】前記所定値αは１〜５μｍであることが望
ましく、前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラー
フィルタ層よりも光学濃度が大きいことが望ましい。

【００２９】上記の電気光学パネル用基板の製造方法の
一態様では、Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層
及び前記第２カラーフィルタ層のそれぞれに対して光を
一回通過させてそれぞれの分光透過率曲線を描いた場合
に、前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラーフィ
ルタ層よりも可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける
前記分光透過率曲線の積分値が小さいことが好ましい。
また、前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラーフ
ィルタ層の１．４倍〜２．６倍の光学濃度を有すること
が好ましく、前記第２カラーフィルタ層の１．７倍〜
２．３倍の光学濃度を有することがさらに好ましい。こ
れにより、透過表示時及び反射表示時における表示画質
に差のない半透過反射型表示を実現することができる。

【００３０】上記の電気光学パネル用基板の製造方法の
他の一態様では、前記複数のドットは、少なくとも３つ
設けられ、Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層及
び前記第２カラーフィルタ層の各々に光を一回通過させ
て、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィ
ルタ層の色度座標を算出し、ｘｙ色度図上にプロットし
た場合に、前記第２カラーフィルタ層の前記色度座標を
頂点とする三角形の面積は、前記第１カラーフィルタ層
の前記色度座標を頂点とする三角形の面積の１．１倍以
上６．０倍以下であることが好ましい。これにより、透
過表示時及び反射表示時における表示画質に差のない半
透過反射型表示を実現することができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施の形態について説明する。

【００３２】［液晶表示パネル］まず、本発明を適用し
た液晶表示パネルの実施形態について説明する。図１
に、本発明の実施形態にかかる半透過反射型の液晶表示
パネルの断面図を示す。

【００３３】図１において、液晶表示パネル１００は、
ガラスやプラスチックなどからなる基板１０１と基板１
０２とがシール材１０３を介して貼り合わせられ、内部
に液晶１０４が封入されてなる。また、基板１０２の外
面上には位相差板１０５及び偏光板１０６が順に配置さ
れ、基板１０１の外面上には位相差板１０７及び偏光板
１０８が順に配置される。なお、偏光板１０８の下方に
は、透過型表示を行う際に照明光を発するバックライト
１０９が配置される。

【００３４】基板１０１上には、カラーフィルタ基板１
０が形成される。なお、図１においては説明の便宜上、
カラーフィルタ基板１０を部分的に図示しており、その
一部分１３０の拡大図を図３に示す。また、カラーフィ
ルタ基板１０のカラーフィルタ層の平面図を図２に示
す。

【００３５】図１乃至図３を参照すると、カラーフィル
タ基板１０としては、基板１０１の上に例えばアクリル
樹脂などにより透明な樹脂散乱層１１３が形成される。
樹脂散乱層１１３は、ガラスやプラスチックなどの基板
１０１の表面上に例えばアクリル樹脂などにより透光性
の樹脂層を形成し、その表面に多数の微細な凹凸構造を
形成することにより製作することができる。

【００３６】また、樹脂散乱層１１３の上には、部分的
にアルミニウム合金又は銀合金などの反射層１１１が形
成される。反射層１１１が形成される領域は、反射型表
示に利用される領域（以下、「反射表示領域」とも呼
ぶ。）である。これにより、反射層１１１の表面は、樹
脂散乱１１３層の凹凸構造を反映した凹凸形状となる。
よって、外光を利用して反射型表示を行う場合は、外光
が上記の凹凸形状により適度に散乱した状態で反射され
るため、反射光を均一化し、広い視野角を確保すること
が可能となる。

【００３７】反射層１１１には所定間隔で開口１１７が
形成されている。即ち、開口１１７の部分は反射層１１
１が形成されておらず、この開口１１７の領域が透過表
示領域となる。そして、反射層１１１が形成されている
領域、即ち、開口１１７以外の領域が反射表示領域とな
る。

【００３８】反射表示領域においては反射層１１１の上
に各色の反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒが形成さ
れる。一方、透過表示領域においては、樹脂散乱層１１
３の上に各色の透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔが
形成される。反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒと透
過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを別々に形成する理
由は、透過表示時と反射表示時における表示色を個別に
調整可能とするためであり、これについては後述する。

【００３９】なお、図３においては、反射表示用カラー
フィルタ層を１２０Ｒとして示しているが、実際には図
２に示すように、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ
はＲＧＢ３色の着色層により構成されている。即ち、反
射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒは、青色（Ｂ）着色
層１２０ＲＢ、赤色（Ｒ）着色層１２０ＲＲ、緑色
（Ｇ）着色層１２０ＲＧを順に配列することにより構成
される。また、図２及び図３に示すように、透過表示用
カラーフィルタ層１２０Ｔは、赤色（Ｒ）着色層１２０
ＴＲ、緑色（Ｇ）着色層１２０ＴＧ、青色（Ｂ）着色層
１２０ＴＢを順に配列することにより構成される。図
１、３及び５においては、説明の便宜上、赤色着色層の
部分の断面を示しているものとする。なお、以下、各色
の着色層を問わず言及する時には、単に反射表示用カラ
ーフィルタ層１２０Ｒ、透過表示用カラーフィルタ層１
２０Ｔと記述することとする。

【００４０】反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの各
画素領域の境界には、ブラックマトリクス１２０Ｂが形
成される。ブラックマトリクス１２０Ｂは、図３に示す
ように、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを構成す
るＲＧＢ３色の着色層を重ね合わせることにより形成さ
れる。なお、反射表示用カラーフィルタ層ではなく、透
過表示用カラーフィルタ層の各色着色層を使用する理由
は、一般に反射表示用カラーフィルタ層より透過表示用
カラーフィルタ層の方が色濃度が高く設計されているた
め、３色の重ね合わせにより、より濃度が高く遮光性の
良好なブラックマトリクスが形成できるからである。

【００４１】そして、反射表示用カラーフィルタ層１２
０Ｒ及び透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを覆うよ
うに均一な厚さのオーバーコート層１２７が形成され
る。このオーバーコート層１２７は、液晶表示パネルの
製造工程中にカラーフィルタ層１２０Ｒ及び１２０Ｔを
薬剤などによる腐食や汚染から保護するための保護層と
して機能するものである。

【００４２】図１の液晶表示パネル１００は、いわゆる
マルチギャップ構造を採用している。マルチギャップ構
造とは、透過表示領域と反射表示領域において形成する
オーバーコート層１２７の厚さを異ならせ、液晶層の層
厚を最適化することにより、透過表示モードの際にも反
射表示モードの際にも表示性能を向上させる手法であ
る。

【００４３】さらに、カラーフィルタ基板１０上、即ち
オーバーコート層１２７の表面上には、ＩＴＯ（インジ
ウムスズ酸化物）などの透明導電体からなる透明電極１
１４が形成される。この透明電極１１４は本実施形態に
おいては複数並列したストライプ状に形成されている。
また、この透明電極１１４は、図１に示す基板１０２上
に同様にストライプ状に形成された透明電極１２１に対
して直交する方向に延び、透明電極１１４と透明電極１
２１との交差領域内に含まれる液晶表示パネル１００の
構成部分（反射層１１１、カラーフィルタ層１２０、透
明電極１１４、液晶１０４及び透明電極１２１における
上記交差領域内の部分）が画素を構成するようになって
いる。

【００４４】この液晶表示パネル１００においては、反
射型表示がなされる場合には、反射層１１１が形成され
ている領域に入射した外光は、図１に示す経路Ｒに沿っ
て進行し、反射層１１１により反射されて観察者Ｅによ
り視認される。一方、透過型表示がなされる場合には、
バックライト１０９から出射した照明光が図１に示す経
路Ｔに従って進行し、観察者Ｅにより視認される。

【００４５】上述のようなマルチギャップ構造において
は、透過表示領域と反射表示領域との液晶層の層厚の差
として適当な値が予め決定されている。今、図３（ａ）
の中央に示すように、透過表示領域と反射表示領域にお
ける液層層の層厚の差、即ち、透明電極１１４の上面
（又は、オーバーコート層１２７の上面）の差として、
値αが適当であるとする。このとき、本発明では、図３
（ａ）に示すように、透過表示用カラーフィルタ層１２
０Ｔの上面と、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｂの
上面との高さの差がαに等しくなるように透過表示用カ
ラーフィルタ層１２０Ｔ及び反射表示用カラーフィルタ
層１２０Ｒを形成する。即ち、図３（ａ）を参照する
と、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを層厚βだけ
形成するとすれば、反射表示用カラーフィルタ層１２０
Ｒを層厚約（α＋β）だけ形成する（なお、反射層の層
厚は無視できる程度に小さいものとする）。これによ
り、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの上面と反射
表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの上面との高さの差が
αとなる。

【００４６】例えば、マルチギャップ構造においては透
過表示領域と反射表示領域の液晶層の層厚差としてα＝
２μｍ程度が適切であり、透過表示用カラーフィルタ層
１２０Ｔをβ＝約１μｍの層厚で形成するとすれば、反
射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの層厚は（α＋β）
＝約３μｍとする必要がある。

【００４７】こうすることにより、その後に透過表示領
域及び反射表示領域の上にオーバーコート層１２７を形
成するときには、反射表示領域における反射表示用カラ
ーフィルタ層１２０Ｒの上面は、透過表示領域における
透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの上面よりαだけ
高くなっている。よって、その上に所定の均一な厚さで
オーバーコート層１２７を形成すれば、上記の高さの差
αがオーバーコート層１２７の形成後も維持される。即
ち、反射表示領域におけるオーバーコート層１２７の上
面は、透過表示領域におけるオーバーコート層１２７の
上面より高さαだけ高くなった状態となる。これによ
り、オーバーコート層形成後の状態において透過表示領
域と反射表示領域との間に好適な高さαが形成されてい
ることになり、その後に別工程でオーバーコート層をフ
ォトリソグラフィーによりパターニングする工程が不要
となる。よって、製造工程を簡略化し、製造コストを抑
制することが可能となる。

【００４８】図３（ｂ）には、比較例として、反射表示
用カラーフィルタ層１２０Ｒの層厚と透過表示用カラー
フィルタ層１２０Ｔの層厚の差が小さいマルチギャップ
構造の液晶パネルの層構成を示す。この場合には、一
旦、透過表示領域と反射表示領域の全体に対して所定の
厚さ（例えばα）でオーバーコート層を形成した後、透
過表示領域において、透過表示用カラーフィルタ層１２
０Ｔ上のオーバーコート層１２７を、フォトリソグラフ
ィー技術により除去しなければならず、そのためのパタ
ーニング工程が必要となる。これに対し、本発明では、
オーバーコート層を均一な厚さで形成した段階で、既に
反射表示領域と透過表示領域に高さαの差ができている
ので、フォトリソグラフィーによるパターニング工程を
必要としない。

【００４９】なお、図３（ａ）に示すように、本発明の
構造では、透過用カラーフィルタ上にも保護層として機
能するオーバーコート層が形成されるので、その後の透
明電極１１４の形成工程における透明電極の密着性、安
定性が向上するとともに、エッチ液や洗浄液による透過
用カラーフィルタ層の損傷なども防止することができ
る。

【００５０】次に、カラーフィルタ層の濃度について説
明する。まず、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔと
反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの濃度について説
明する。図１からわかるように、反射型表示の場合は、
外光が経路Ｒに従って反射型カラーフィルタ層１２０Ｒ
を２回通過して観察者Ｅに視認される。一方、透過型表
示の場合は、バックライト１０９からの照射光は経路Ｔ
に従って透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔを１回の
み通過して観察者Ｅに視認される。従って、理論的には
透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの光学濃度は、反
射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの光学濃度のほぼ２
倍とすることが好ましい。また、実際には、透過表示用
カラーフィルタ層１２０Ｔの光学濃度は反射表示用カラ
ーフィルタ層１２０Ｒの１．４〜２．６倍とすることが
好ましく、特に反射型表示と透過型表示の間の色彩の相
違を低減するためには１．７倍〜２．３倍の範囲内であ
ることが望ましい。

【００５１】反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの特
性を示す色度図の例を図４（ａ）に示し、透過表示用カ
ラーフィルタ層１２０Ｔの特性を示す色度図の例を図４
（ｂ）に示す。なお、図４（ａ）及び図４（ｂ）はいず
れも、Ｃ光源を用いてそれぞれ透過表示用カラーフィル
タ層１２０Ｔ及び反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ
に光を一回通過させて透過表示用カラーフィルタ層１２
０Ｔ及び反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの色度座
標を算出し、これをｘｙ色度図上にプロットしたもので
ある。図４（ａ）と図４（ｂ）を比較するとわかるよう
に、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔは反射表示用
カラーフィルタ層１２０Ｒと比べて、色度図上のＲＧＢ
の各色の要素が約２倍、つまり光学濃度が約２倍になっ
ている。こうすることにより、反射表示用カラーフィル
タ層１２０Ｒを２回通過した光と、透過表示用カラーフ
ィルタ層１２０Ｔを１回通過した光の色彩がほぼ同等と
なり、反射表示時と透過表示時における表示画像の色彩
をほぼ一致させることができる。また、ｘｙ色度図上の
ＲＧＢ各色の色度座標により形成される色三角形の面積
の観点からは、図４（ｂ）に示す透過表示用カラーフィ
ルタ層１２０Ｔの面積Ｓｔが、図４（ａ）に示す反射表
示用カラーフィルタ層１２０Ｒの面積Ｓｒの１．１倍以
上６．０倍以下であることが望ましい。

【００５２】図５に、反射表示用カラーフィルタ層１２
０Ｒと透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの可視光域
における分光透過率曲線を示す。図５（ａ）及び図５
（ｂ）は、Ｃ光源を用いて反射表示用カラーフィルタ層
１２０Ｒ及び透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔのそ
れぞれに対して光を一回通過させて、それぞれの分光透
過率曲線を描いたものである。本発明による反射表示用
カラーフィルタ層１２０Ｒと透過表示用カラーフィルタ
層１２０Ｔに関しては、透過表示用カラーフィルタ層１
２０Ｔの可視光域における分光透過率曲線の積分値が、
反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの可視光域におけ
る分光透過率曲線の積分値よりも小さいことが望まし
い。なお、分光透過率曲線の積分値はＹ値であり明度を
示すものである。

【００５３】次に、本発明による反射表示用カラーフィ
ルタ層１２０Ｒの層厚について検討する。前述のよう
に、本発明に従ってオーバーコート層のパターニング工
程を不要とするためには、理想的なマルチギャップ構造
における透過表示領域と反射表示領域の液晶の層厚差が
αである場合に、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ
と透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの層厚の差がα
となるように、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒを
通常より厚く形成する必要がある（図３参照）。しか
し、通常の顔料濃度で層厚を厚くしてしまうと、反射表
示用カラーフィルタの濃度が高くなりすぎてしまう。そ
こで、層厚を厚くする分だけ、反射表示用カラーフィル
タ層１２０Ｒの顔料固形分濃度を小さくすればよい。通
常、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの層厚が１μ
ｍであり、上述のように本発明では反射表示用カラーフ
ィルタ層１２０Ｒを約３μｍの層厚に形成する必要が生
じたとすれば、反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの
顔料固形分濃度を約１／３にすればよい。なお、こうし
て反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの層厚を厚くし
た場合でも、その反射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒ
の光学濃度は透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの光
学濃度のほぼ１／２程度が好ましい。

【００５４】なお、本発明ではカラーフィルタの各着色
層の配列は図２に示す配列には限られない。即ち、スト
ライプ配列、デルタ配列、ダイヤゴナル配列などの各種
の配列に構成することが可能である。また、上記の実施
形態では透過表示用カラーフィルタと反射表示用カラー
フィルタとを別個の材料により独立に形成しているが、
同一の材料により単一のカラーフィルタとして形成する
ことも可能である。また、その場合に、透過表示領域と
反射表示領域とでカラーフィルタの厚さを変化させたタ
イプのカラーフィルタにも適用可能である。

【００５５】［製造方法］次に、上述の液晶表示パネル
１００の製造方法について説明する。

【００５６】（カラーフィルタ基板の製造方法）まず、
図１に示すカラーフィルタ基板１０の製造方法について
図６（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。

【００５７】まず、図６（ａ）に示すように、基板１０
１の表面上に樹脂散乱層１１３を形成する。樹脂散乱層
１１３の形成方法としては、前述のようにガラスやプラ
スチックなどの基板１０１の表面上に例えばアクリル樹
脂などにより透光性の樹脂層を形成し、その表面に多数
の微細な凹凸構造を形成することにより製作することが
できる。なお、樹脂散乱層１１３の形成方法としては、
これ以外の方法を採用することももちろん可能である。

【００５８】次に、アルミニウム、アルミニウム合金、
銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによ
って薄膜状に成膜し、これをフォトリソグラフィー法を
用いてパターニングすることによって反射層１１１を形
成する。この際、反射層１１１は、反射表示領域のみに
形成される。

【００５９】次に、図６（ｂ）に示すように、所定の色
相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された
感光性樹脂（感光性レジスト）を塗布し、所定パターン
にて露光、現像を行ってパターニングを行うことによ
り、カラーフィルタ層を形成する。即ち、透過表示領域
においては透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔ（即
ち、着色層１２０ＴＲ、１２０ＴＧ、１２０ＴＢ）を形
成し、反射表示領域においては反射表示用カラーフィル
タ層１２０Ｒ（即ち、着色層１２０ＲＲ、１２０ＲＧ、
１２０ＲＢ）を形成する。この際、前述のように反射表
示用カラーフィルタ層１２０Ｒは、顔料固形分濃度を小
さくして通常より厚い層厚となるように形成する。マル
チギャップ構造における透過表示領域と反射表示領域に
おける液層層の好ましい層厚差がαであるとすれば、反
射表示用カラーフィルタ層１２０Ｒは透過表示用カラー
フィルタ層１２０Ｔよりもαだけ上方に突出するように
形成する。

【００６０】次に、透過表示用カラーフィルタ層１２０
Ｔ上にブラックマトリクス１２０Ｂを形成する。なお、
ブラックマトリクス１２０Ｂは透過表示用カラーフィル
タ層１２０Ｔの各色着色層と同一の材料により形成する
ことができる。その場合には、上述の透過表示用カラー
フィルタ層１２０Ｔを形成する工程において同時に各色
着色層（１２０ＴＲ、１２０ＴＧ、１２０ＴＢ）を順に
重ねて形成することによりブラックマトリクス１２０Ｂ
を形成することもできる。

【００６１】次に、図６（ｃ）に示すように、透過表示
用カラーフィルタ層１２０Ｔ及び反射表示用カラーフィ
ルタ層１２０Ｒの上に、アクリル樹脂などによりオーバ
ーコート層１２７を形成する。即ち、透過表示用カラー
フィルタ層１２０Ｔ及び反射表示用カラーフィルタ層１
２０Ｒの上全域にオーバーコート層１２７を所定の厚さ
で形成する。これにより、オーバーコート層１２７は、
透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔと反射表示用カラ
ーフィルタ層１２０Ｒの上に均一の層厚で形成され、そ
の結果、透過表示領域と反射表示領域におけるオーバー
コート層の上面の高さはαだけ異なることになる。

【００６２】なお、この際に形成するオーバーコート層
１２７の層厚は、１．０〜１．５μｍ程度が好ましい。
これは、それ以上厚くオーバーコート層１２７を形成し
ようとすると、感光性アクリル樹脂などが、最も高さの
低い透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔの上に流れ込
んで透過表示領域のオーバーコート層１２７の層厚が反
射表示領域のオーバーコート層１２７の層厚よりも厚く
なってしまい、その結果、透過表示領域と反射表示領域
における液晶層の層厚差が小さくなってしまう恐れがあ
るからである。その点、１．０〜１．５μｍ程度の層厚
であれば、透過表示用カラーフィルタ層１２０Ｔと反射
表示用カラーフィルタ層１２０Ｒの凹凸形状をほぼその
まま反映した形でオーバーコート層１２７を形成するこ
とができる。こうして、カラーフィルタ基板１０が製造
される。

【００６３】（液晶表示パネルの製造方法）次に、こう
して得られたカラーフィルタ基板１０を用いて、図１に
示す液晶表示パネル１００を製造する方法について図７
を参照して説明する。図７は、表示パネル１００の製造
工程を示す流れ図である。

【００６４】まず、上記の方法により、カラーフィルタ
基板１０が形成された基板１０１が製造され（工程Ｓ
１）、さらにオーバーコート層１２７上に透明導電体を
スパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー
法によってパターニングすることにより、透明電極１１
４を形成する（工程Ｓ２）。その後、透明電極１１４上
にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビン
グ処理などを施す（工程Ｓ３）。

【００６５】一方、反対側の基板１０２を製作し（工程
Ｓ４）、同様の方法で透明電極１２１を形成し（工程Ｓ
５）、さらに透明電極１２１上に配向膜を形成し、ラビ
ング処理などを施す（工程Ｓ６）。

【００６６】そして、シール材１０３を介して上記の基
板１０１と基板１０２とを貼り合わせてパネル構造を構
成する（工程Ｓ７）。基板１０１と基板１０２とは、基
板間に分散配置された図示しないスペーサなどによって
ほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。

【００６７】その後、シール材１０３の図示しない開口
部から液晶１０４を注入し、シール材１０３の開口部を
紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程
Ｓ８）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、上
述の位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の
外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ
９）、図１に示す液晶表示パネル１００が完成する。

【００６８】［電子機器］次に、上記液晶表示パネルを
含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の
実施形態について説明する。図８は、本実施形態の全体
構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、
上記の液晶表示パネル１００と同様の液晶表示パネル２
００と、これを制御する制御手段１２００とを有する。
ここでは、液晶表示パネル２００を、パネル構造体２０
０Ａと、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路２００Ｂ
とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２０
０は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２
０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１
２４０と、を有する。

【００６９】表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read
Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）など
からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク
などからなるストレージユニットと、デジタル画像信号
を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレ
ータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に
基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示
情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成
されている。

【００７０】表示情報処理回路１２２０は、シリアル−
パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回
路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画
像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路２００Ｂ
へ供給する。駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、デ
ータ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路１
２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供
給する。

【００７１】次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用
可能な電子機器の例について図９を参照して説明する。

【００７２】まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可
搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソ
コン）の表示部に適用した例について説明する。図９
（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜
視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュー
タ４１は、キーボード４１１を備えた本体部４１２と、
本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４１３と
を備えている。

【００７３】続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、
携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図
９（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図であ
る。同図に示すように、携帯電話機４２は、複数の操作
ボタン４２１のほか、受話口４２２、送話口４２３とと
もに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４
２４を備える。

【００７４】なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用
可能な電子機器としては、図９（ａ）に示したパーソナ
ルコンピュータや図９（ｂ）に示した携帯電話機の他に
も、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型の
ビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ペー
ジャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステ
ーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチル
カメラなどが挙げられる。

【００７５】［変形例］なお、上述のカラーフィルタ基
板及び液晶表示パネルなどは、上述の例にのみ限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内にお
いて種々の変更が可能であることは勿論である。

【００７６】例えば、図２に示したカラーフィルタは反
射表示領域内の開口として透過表示領域を規定する構造
であるが、この構造は単なる一例であり、カラーフィル
タを、例えば矩形の反射表示用カラーフィルタ部と透過
表示用カラーフィルタ部を交互に隣接させて形成するよ
うな構造とすることも可能である。

【００７７】また、以上説明した各実施形態において
は、いずれもパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを
例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アク
ティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をス
イッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様
に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだ
けでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレク
トロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、
電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション
・ディスプレイ（電界放出表示装置）などの各種の電気
光学装置においても本発明を同様に適用することが可能
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの構造
を示す断面図である。

【図２】図１に示す液晶表示パネルのカラーフィルタ層
の構造を示す平面図である。

【図３】図１に示す液晶表示パネルの一部の拡大断面
図、及び、比較例として透過表示領域にオーバーコート
層が形成されていない液晶表示パネルの構造を示す断面
図である。

【図４】本発明の反射表示用カラーフィルタ層及び透過
表示用カラーフィルタ層の特性を示す色度図である。

【図５】本発明の反射表示用カラーフィルタ層及び透過
表示用カラーフィルタ層の可視光域における分光透過率
曲線を示す。

【図６】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法を示す
断面図である。

【図７】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造
方法の工程図である。

【図８】本発明に係る電子機器の実施形態における構成
ブロックを示す概略構成図である。

【図９】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルを適用
した電子機器の例を示す図である。

【符号の説明】

１０カラーフィルタ１００液晶表示パネル１０１、１０２基板１０３シール材１０９バックライト１１１反射層１１３樹脂散乱層１１４透明電極１２０Ｔ、１２０Ｒカラーフィルタ層１２０Ｂブラックマトリクス１２７オーバーコート層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中野智之長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内Ｆターム(参考） 2H048 BA11 BA45 BA48 BB02 BB03 BB07 BB08 BB42 2H091 FA02Y FA35Y FA50Y FB04 FC10 GA03 LA12 LA17

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、透過表示領域において前記基板上に配置された第１カラ
ーフィルタ層と、反射表示領域において前記基板上に配置された第２カラ
ーフィルタ層と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ
層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、前記第２カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さ
は、前記第１カラーフィルタ層の外面の前記基板からの
高さより所定値α高いことを特徴とする電気光学パネル
用基板。
【請求項２】基板と、前記基板上に配置された第１表示用電極と、前記第１表示用電極に対向するように配置された第２表
示用電極と、前記第１表示用電極と前記第２表示用電極との平面的な
重なり領域に形成された複数のドットと、前記ドット領域の各々の透過表示領域に配置された第１
カラーフィルタ層と、前記ドット領域の各々の反射表示領域に配置された第２
カラーフィルタ層と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ
層の両方を覆うオーバーコート層と、を備え、前記第２カラーフィルタ層の外面の前記基板からの高さ
は、前記第１カラーフィルタ層の外面の前記基板からの
高さより所定値α高いことを特徴とする電気光学パネル
用基板。
【請求項３】前記オーバーコート層の層厚は、前記第
１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層を覆
っている領域において、実質的に均一であることを特徴
とする請求項１又は２に記載の電気光学パネル用基板。
【請求項４】前記第１カラーフィルタ層および前記第
２カラーフィルタ層によって前記透過表示領域の位置に
対応して凹部が形成されてなり、前記オーバーコート層
は前記凹部の外形に沿うように設けられ、前記凹部の位
置に対応して前記オーバーコート層に凹部が形成されて
なることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に
記載の電気光学パネル用基板。
【請求項５】前記反射表示領域における前記オーバー
コート層の外面の前記基板からの高さは、前記透過表示
領域における前記オーバーコート層の外面の前記基板か
らの高さより実質的に前記所定値α高いことを特徴とす
る請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学パネ
ル用基板。
【請求項６】前記所定値αは１〜５μｍであることを
特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気
光学パネル用基板。
【請求項７】前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カ
ラーフィルタ層よりも光学濃度が大きいことを特徴とす
る請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学パネ
ル用基板。
【請求項８】Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ
層及び前記第２カラーフィルタ層のそれぞれに対して光
を一回通過させてそれぞれの分光透過率曲線を描いた場
合に、前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラーフ
ィルタ層よりも可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおけ
る前記分光透過率曲線の積分値が小さいことを特徴とす
る請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学パネ
ル用基板。
【請求項９】前記第１カラーフィルタ層は、前記第２
カラーフィルタ層の１．４倍〜２．６倍の光学濃度を有
することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に
記載の電気光学パネル用基板。
【請求項１０】前記第１カラーフィルタ層は、前記第
２カラーフィルタ層の１．７倍〜２．３倍の光学濃度を
有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項
に記載の電気光学パネル用基板。
【請求項１１】前記複数のドットは、少なくとも３つ設
けられ、Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層及び前記第２
カラーフィルタ層の各々に光を一回通過させて、前記第
１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層の色
度座標を算出し、ｘｙ色度図上にプロットした場合に、
前記第２カラーフィルタ層の前記色度座標を頂点とする
三角形の面積は、前記第１カラーフィルタ層の前記色度
座標を頂点とする三角形の面積の１．１倍以上６．０倍
以下であることを特徴とする請求項２に記載の電気光学
パネル用基板。
【請求項１２】請求項１乃至１１のいずれか一項に記
載の電気光学パネル用基板と、前記電気光学パネル用基板と対向配置される対向基板
と、前記電気光学パネル用基板と前記対向基板との間に配設
された電気光学物質層と、を備え、前記透過表示領域における前記電気光学物質層の層厚
は、前記反射表示領域における電気光学物質層の層厚よ
り厚いことを特徴とする電気光学パネル。
【請求項１３】請求項１２に記載の電気光学パネルに
おいて、前記透過表示領域における前記電気光学物質層
の層厚は、前記反射表示領域における電気光学物質層の
層厚より実質的に前記所定値α厚いことを特徴とする電
気光学パネル。
【請求項１４】請求項１２又は１３に記載の電気光学
パネルにおいて、前記電気光学物質は液晶を含むことを
特徴とする電気光学パネル。
【請求項１５】請求項１２乃至１４のいずれか一項に
記載の電気光学パネルを表示部として備えることを特徴
とする電子機器。
【請求項１６】透過表示領域において基板上に第１カ
ラーフィルタ層を形成する工程と、反射表示領域において前記基板上に第２カラーフィルタ
層を形成する工程と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ
層の両方の上に、オーバーコート層を形成する工程と、
を備え、前記第２カラーフィルタは、当該第２カラーフィルタ層
の外面の前記基板からの高さが、前記第１カラーフィル
タ層の外面の前記基板からの高さより所定値だけ高くな
るように形成されることを特徴とする電気光学パネル用
基板の製造方法。
【請求項１７】基板と、前記基板上に配置された第１
表示用電極と、前記第１表示用電極に対向するように配
置された第２表示用電極と、前記第１表示用電極と前記
第２表示用電極との平面的な重なり領域に形成された複
数のドットと、を備える電気光学パネル用基板の製造方
法において、各前記ドットの透過表示領域において基板上に第１カラ
ーフィルタ層を形成する工程と、各前記ドットの反射表示領域において前記基板上に第２
カラーフィルタ層を形成する工程と、前記第１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ
層の両方の上に、オーバーコート層を形成する工程と、
を備え、前記第２カラーフィルタは、当該第２カラーフィルタ層
の外面の前記基板からの高さが、前記第１カラーフィル
タ層の外面の前記基板からの高さより所定値だけ高くな
るように形成されることを特徴とする電気光学パネル用
基板の製造方法。
【請求項１８】前記オーバーコート層は、前記第１カ
ラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層を覆う領
域において、その層厚が実質的に均一になるように形成
されることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の電
気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項１９】前記所定値は１〜５μｍであることを
特徴とする請求項１６乃至１８に記載の電気光学パネル
用基板の製造方法。
【請求項２０】前記第１カラーフィルタ層は、前記第
２カラーフィルタ層よりも光学濃度が大きいことを特徴
とする請求項１６乃至１９のいずれか一項に記載の電気
光学パネル用基板の製造方法。
【請求項２１】Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィル
タ層及び前記第２カラーフィルタ層のそれぞれに対して
光を一回通過させてそれぞれの分光透過率曲線を描いた
場合に、前記第１カラーフィルタ層は、前記第２カラー
フィルタ層よりも可視光域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにお
ける前記分光透過率曲線の積分値が小さいことを特徴と
する請求項１６乃至１９のいずれか一項に記載の電気光
学パネル用基板の製造方法。
【請求項２２】前記第１カラーフィルタ層は、前記第
２カラーフィルタ層の１．４倍〜２．６倍の光学濃度を
有することを特徴とする請求項１６乃至１９のいずれか
一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項２３】前記第１カラーフィルタ層は、前記第
２カラーフィルタ層の１．７倍〜２．３倍の光学濃度を
有することを特徴とする請求項１６乃至１９のいずれか
一項に記載の電気光学パネル用基板の製造方法。
【請求項２４】前記ドットを少なくとも３つ有し、Ｃ光源を用いて前記第１カラーフィルタ層及び前記第２
カラーフィルタ層の各々に光を一回通過させて、前記第
１カラーフィルタ層及び前記第２カラーフィルタ層の色
度座標を算出し、ｘｙ色度図上にプロットした場合に、
前記第２カラーフィルタ層の前記色度座標を頂点とする
三角形の面積は、前記第１カラーフィルタ層の前記色度
座標を頂点とする三角形の面積の１．１倍以上６．０倍
以下であることを特徴とする請求項１７に記載の電気光
学パネル用基板の製造方法。