JP2000267077A - 液晶表示装置および電子機器 - Google Patents
液晶表示装置および電子機器Info
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 100
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 99
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 12
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 58
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 101001094026 Synechocystis sp. (strain PCC 6803 / Kazusa) Phasin PhaP Proteins 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半透過・半反射型の液晶パネルにおいて、透
過時における表示品質、特に、色再現性を改善する。 【解決手段】 前面基板200と背面基板300との間
に液晶が挟持されるとともに、背面基板300にスリッ
ト335を備えた反射層332が形成される液晶パネル
100において、第1のカラーフィルタ322と、第2
のカラーフィルタ324とを、反射層332を挟んで配
置形成する。これにより、透過光においても、反射光と
同様にカラーフィルタを2回通過することになるので、
両光の色再現性がほぼ等しくなる。
過時における表示品質、特に、色再現性を改善する。 【解決手段】 前面基板200と背面基板300との間
に液晶が挟持されるとともに、背面基板300にスリッ
ト335を備えた反射層332が形成される液晶パネル
100において、第1のカラーフィルタ322と、第2
のカラーフィルタ324とを、反射層332を挟んで配
置形成する。これにより、透過光においても、反射光と
同様にカラーフィルタを2回通過することになるので、
両光の色再現性がほぼ等しくなる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、外光がある場合に
は反射型として機能する一方、外光がほとんどない場合
には透過型として機能する液晶表示装置、および、この
液晶表示装置を用いた電子機器に関する。
は反射型として機能する一方、外光がほとんどない場合
には透過型として機能する液晶表示装置、および、この
液晶表示装置を用いた電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】周知のように、液晶表示装置は、液晶そ
れ自体が発光するのではなく、単に光の道筋を変えるこ
とによって表示を行うものである。このため、液晶表示
装置には、パネルに対して必ず何らかの形で光を入射さ
せる構成が必要となり、この点において、他の方式を用
いた表示装置、例えば、エレクトロルミネッセンス表示
装置や、プラズマディスプレイなどとは大きく相違す
る。ここで、液晶表示装置において、光源がパネルの裏
側に配置し、その光がパネルを通過してユーザに視認さ
れるタイプは透過型と呼ばれる一方、光源がパネルの表
側に配置し、あるいは配置せれずに、前面からの入射光
がパネルによって反射してユーザに視認されるタイプは
反射型と呼ばれている。
れ自体が発光するのではなく、単に光の道筋を変えるこ
とによって表示を行うものである。このため、液晶表示
装置には、パネルに対して必ず何らかの形で光を入射さ
せる構成が必要となり、この点において、他の方式を用
いた表示装置、例えば、エレクトロルミネッセンス表示
装置や、プラズマディスプレイなどとは大きく相違す
る。ここで、液晶表示装置において、光源がパネルの裏
側に配置し、その光がパネルを通過してユーザに視認さ
れるタイプは透過型と呼ばれる一方、光源がパネルの表
側に配置し、あるいは配置せれずに、前面からの入射光
がパネルによって反射してユーザに視認されるタイプは
反射型と呼ばれている。
【0003】このうち、透過型では、パネルの背面側に
配置される光源(ゆえにバックライトと呼ばれる)から
発せられた光が、導光板によってパネル全体に導かれた
後、一般には、偏光板→背面基板→電極→液晶→電極→
カラーフィルタ→前面基板→偏光板という経路を辿っ
て、ユーザに視認される。これに対して反射型では、パ
ネルに入射した光が、一般には、偏光板→前面基板→カ
ラーフィルタ→電極→液晶→反射電極まで到達すると、
当該反射電極で反射して、いま来た経路を逆に辿ってユ
ーザに視認される。このように、反射型では、透過型と
比較すると、環境からの採光量が、パネルの裏側に配置
される光源ほど多くなく、さらに、光がパネルに入射し
て反射するという二重の経路を有するため、各部での光
減衰によって、ユーザに視認される光量がそれだけ少な
くなる。このため、反射型では、一般的に透過型と比較
して表示画面が暗い、という欠点がある。
配置される光源(ゆえにバックライトと呼ばれる)から
発せられた光が、導光板によってパネル全体に導かれた
後、一般には、偏光板→背面基板→電極→液晶→電極→
カラーフィルタ→前面基板→偏光板という経路を辿っ
て、ユーザに視認される。これに対して反射型では、パ
ネルに入射した光が、一般には、偏光板→前面基板→カ
ラーフィルタ→電極→液晶→反射電極まで到達すると、
当該反射電極で反射して、いま来た経路を逆に辿ってユ
ーザに視認される。このように、反射型では、透過型と
比較すると、環境からの採光量が、パネルの裏側に配置
される光源ほど多くなく、さらに、光がパネルに入射し
て反射するという二重の経路を有するため、各部での光
減衰によって、ユーザに視認される光量がそれだけ少な
くなる。このため、反射型では、一般的に透過型と比較
して表示画面が暗い、という欠点がある。
【0004】ただし、反射型は、消費電力の大きい光源
がなくても表示が可能である点や、日光が当たる屋外で
も視認性が高い点など、上記欠点を補って余りある利点
を有する。このため、近年、カラー表示が可能な反射型
の液晶表示装置は、携帯型電子機器などを中心に徐々に
普及し始めている。
がなくても表示が可能である点や、日光が当たる屋外で
も視認性が高い点など、上記欠点を補って余りある利点
を有する。このため、近年、カラー表示が可能な反射型
の液晶表示装置は、携帯型電子機器などを中心に徐々に
普及し始めている。
【0005】ところで、反射型では、外光がほとんどな
い場合、ユーザは表示を視認できない、という本質的な
問題点を有する。これを解決するため、第1に、反射電
極にスリットを設けたり、例えばアルミニウム等の光反
射性を有する金属による反射電極の膜厚を比較的薄く
(20nm〜50nm)形成するとともに、第2に、パ
ネルの背面にバックライトを設ける(半透過・半反射型
パネル)方式が提案されている。この方式では、外光が
ほとんどない場合には、バックライトの点灯によって透
過型となり、これによって表示の視認性が確保される一
方、外光が十分にある場合には、バックライトの消灯に
よって反射型となり、これによって、低消費電力が図ら
れる構成となっている。すなわち、外光の強弱に応じて
透過型または反射型、あるいは、両者を併用することに
より、視認性確保および低消費電力を両立させるもので
ある。
い場合、ユーザは表示を視認できない、という本質的な
問題点を有する。これを解決するため、第1に、反射電
極にスリットを設けたり、例えばアルミニウム等の光反
射性を有する金属による反射電極の膜厚を比較的薄く
(20nm〜50nm)形成するとともに、第2に、パ
ネルの背面にバックライトを設ける(半透過・半反射型
パネル)方式が提案されている。この方式では、外光が
ほとんどない場合には、バックライトの点灯によって透
過型となり、これによって表示の視認性が確保される一
方、外光が十分にある場合には、バックライトの消灯に
よって反射型となり、これによって、低消費電力が図ら
れる構成となっている。すなわち、外光の強弱に応じて
透過型または反射型、あるいは、両者を併用することに
より、視認性確保および低消費電力を両立させるもので
ある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、半透過
・半反射型パネルにおいて、透過型として機能する場合
にユーザに視認される透過光は、カラーフィルタを1回
しか通過していないのに対し、反射型として機能する場
合にユーザに視認される反射光は、カラーフィルタを2
回通過したものとなるため、透過光の濃度は、反射光と
比較して低くなる、という欠点があった。そこで、この
欠点を解決するために、カラーフィルタの色特性を濃く
すると、今度は、反射時の明るさが低下する。すなわ
ち、従来の半透過・半反射型パネルにおいては、透過型
または反射型のいずれか一方の色再現性を優先させて設
定せざるを得ず、他方の色再現性は、どうしても劣化す
る、という問題があった。
・半反射型パネルにおいて、透過型として機能する場合
にユーザに視認される透過光は、カラーフィルタを1回
しか通過していないのに対し、反射型として機能する場
合にユーザに視認される反射光は、カラーフィルタを2
回通過したものとなるため、透過光の濃度は、反射光と
比較して低くなる、という欠点があった。そこで、この
欠点を解決するために、カラーフィルタの色特性を濃く
すると、今度は、反射時の明るさが低下する。すなわ
ち、従来の半透過・半反射型パネルにおいては、透過型
または反射型のいずれか一方の色再現性を優先させて設
定せざるを得ず、他方の色再現性は、どうしても劣化す
る、という問題があった。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、半透過・半反
射型パネルにおいて、透過型として機能する場合におけ
る色再現性と、反射型として機能する場合における色再
現性とをそれぞれ任意に設定可能として、両型における
色再現性の両立を図った液晶表示装置、および、この液
晶表示装置を用いた電子機器を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、半透過・半反
射型パネルにおいて、透過型として機能する場合におけ
る色再現性と、反射型として機能する場合における色再
現性とをそれぞれ任意に設定可能として、両型における
色再現性の両立を図った液晶表示装置、および、この液
晶表示装置を用いた電子機器を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る液晶表示装置にあっては、前面基板およ
び背面基板の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置で
あって、前記背面基板に形成され、前記前面基板側から
の入射光を反射するとともに、前記背面基板側からの入
射光の少なくとも一部を透過する反射層と、前記反射層
に対して、前記前面基板寄りに設けられる第1のカラー
フィルタと、前記背面基板側からの入射光のうち、前記
スリットの通過光を着色させる第2のカラーフィルタと
を具備することを特徴としている。
に本発明に係る液晶表示装置にあっては、前面基板およ
び背面基板の間に液晶が挟持されてなる液晶表示装置で
あって、前記背面基板に形成され、前記前面基板側から
の入射光を反射するとともに、前記背面基板側からの入
射光の少なくとも一部を透過する反射層と、前記反射層
に対して、前記前面基板寄りに設けられる第1のカラー
フィルタと、前記背面基板側からの入射光のうち、前記
スリットの通過光を着色させる第2のカラーフィルタと
を具備することを特徴としている。
【0009】本発明によれば、反射型として機能する場
合、反射層による反射光がユーザに視認されるが、この
反射光は、前面基板側から入射して第1のカラーフィル
タを透過した後、反射層により反射し、再び、第1のカ
ラーフィルタを透過するから、第1のカラーフィルタを
2度通過することになる。このため、反射型における色
再現性は、第1のカラーフィルタのみにより定まる。一
方、透過型として機能する場合、反射層を透過した光が
ユーザに視認されるが、この透過光は、第1および第2
のカラーフィルタをそれぞれ1回通過することになる。
このため、透過型における色再現性は、第1および第2
のカラーフィルタの双方により定まる。
合、反射層による反射光がユーザに視認されるが、この
反射光は、前面基板側から入射して第1のカラーフィル
タを透過した後、反射層により反射し、再び、第1のカ
ラーフィルタを透過するから、第1のカラーフィルタを
2度通過することになる。このため、反射型における色
再現性は、第1のカラーフィルタのみにより定まる。一
方、透過型として機能する場合、反射層を透過した光が
ユーザに視認されるが、この透過光は、第1および第2
のカラーフィルタをそれぞれ1回通過することになる。
このため、透過型における色再現性は、第1および第2
のカラーフィルタの双方により定まる。
【0010】したがって、第1および第2のカラーフィ
ルタの色特性をそれぞれ個別に設定することにより、反
射型と透過型との色再現性を、それぞれ個別に最適化し
たり、互いに異なる任意のものとすることが可能とな
る。このため、透過型での色再現性を、通常の透過型の
みのパネル並みとしたり、反射型と透過型との色再現性
をほぼ等しくさせることができる。
ルタの色特性をそれぞれ個別に設定することにより、反
射型と透過型との色再現性を、それぞれ個別に最適化し
たり、互いに異なる任意のものとすることが可能とな
る。このため、透過型での色再現性を、通常の透過型の
みのパネル並みとしたり、反射型と透過型との色再現性
をほぼ等しくさせることができる。
【0011】ここで、本発明において、背面基板側から
の入射光の少なくとも一部を透過させるためには、ま
ず、前記反射層には、スリットが設けられる構成が考え
られる。この構成により、光は、反射層の膜厚や性質等
には依らずに確実に、反射層を透過することになる。
の入射光の少なくとも一部を透過させるためには、ま
ず、前記反射層には、スリットが設けられる構成が考え
られる。この構成により、光は、反射層の膜厚や性質等
には依らずに確実に、反射層を透過することになる。
【0012】また、本発明において、背面基板側からの
入射光の少なくとも一部を透過させるためには、前記反
射層は、20nm〜50nmの膜厚に形成された光反射
性を有する金属膜からなる構成が考えられる。この構成
では、スリットを形成する必要がないので、製造の簡略
化が図られることとなる。
入射光の少なくとも一部を透過させるためには、前記反
射層は、20nm〜50nmの膜厚に形成された光反射
性を有する金属膜からなる構成が考えられる。この構成
では、スリットを形成する必要がないので、製造の簡略
化が図られることとなる。
【0013】一方、本発明において、前記第2のカラー
フィルタによる着色と、前記第1のカラーフィルタによ
る着色とは、互いに略同色であることが望ましい。これ
によれば、透過型における透過光の着色が、反射型にお
ける反射光の着色と比較して、薄くなるのが防止される
からである。
フィルタによる着色と、前記第1のカラーフィルタによ
る着色とは、互いに略同色であることが望ましい。これ
によれば、透過型における透過光の着色が、反射型にお
ける反射光の着色と比較して、薄くなるのが防止される
からである。
【0014】また、本発明において、前記背面基板側か
ら入射して、前記前面基板側から出射する光を照射する
光源を備えることが望ましい。この構成によれば、外光
が少ない場合でも、光源の照射光がスリットを通過し
て、液晶分子の配列方向に応じて旋光するので、反射層
による反射が少なくても、表示の視認性を確保すること
が可能となる。この際、スリットを通過する光源の照射
光のみが第2のカラーフィルタを通過するから、照射光
の分光特性などに応じて第2のカラーフィルタの色特性
を設定することにより、反射型・透過型における色特性
を最適化させることも可能となる。
ら入射して、前記前面基板側から出射する光を照射する
光源を備えることが望ましい。この構成によれば、外光
が少ない場合でも、光源の照射光がスリットを通過し
て、液晶分子の配列方向に応じて旋光するので、反射層
による反射が少なくても、表示の視認性を確保すること
が可能となる。この際、スリットを通過する光源の照射
光のみが第2のカラーフィルタを通過するから、照射光
の分光特性などに応じて第2のカラーフィルタの色特性
を設定することにより、反射型・透過型における色特性
を最適化させることも可能となる。
【0015】一方、本発明において、複数の走査線と複
数のデータ線との交差に対応して配置する画素電極およ
びスイッチング素子を備えることが望ましい。これによ
れば、スイッチング素子によりオン画素とオフ画素とを
電気的に分離できるので、コントラストやレスポンスな
どが良好であり、かつ、高精細な表示が容易に達成でき
る。
数のデータ線との交差に対応して配置する画素電極およ
びスイッチング素子を備えることが望ましい。これによ
れば、スイッチング素子によりオン画素とオフ画素とを
電気的に分離できるので、コントラストやレスポンスな
どが良好であり、かつ、高精細な表示が容易に達成でき
る。
【0016】この際、前記画素電極および前記スイッチ
ング素子は、それぞれ前記前面基板に設けられる一方、
前記第1のカラーフィルタは、前記第2のカラーフィル
タとともに前記背面基板に設けられることが望ましい。
この構成によれば、精度が要求されるスイッチング素子
は、反射層や、第1、第2のカラーフィルタが形成され
る背面基板とは異なる前面基板に形成されるため、製造
工程における各カラーフィルタの耐熱性などを考慮しな
いで済む。このため、スイッチング素子の製造方法の自
由度を高めることができる。
ング素子は、それぞれ前記前面基板に設けられる一方、
前記第1のカラーフィルタは、前記第2のカラーフィル
タとともに前記背面基板に設けられることが望ましい。
この構成によれば、精度が要求されるスイッチング素子
は、反射層や、第1、第2のカラーフィルタが形成され
る背面基板とは異なる前面基板に形成されるため、製造
工程における各カラーフィルタの耐熱性などを考慮しな
いで済む。このため、スイッチング素子の製造方法の自
由度を高めることができる。
【0017】また、前記画素電極および前記スイッチン
グ素子は、それぞれ前記背面基板に設けられることも望
ましい。この構成では、精度が要求されるスイッチング
素子が、反射層が形成される背面基板側に形成される
が、カラーフィルタの配置を工夫することにより、プロ
セスの共通化が図られる。
グ素子は、それぞれ前記背面基板に設けられることも望
ましい。この構成では、精度が要求されるスイッチング
素子が、反射層が形成される背面基板側に形成される
が、カラーフィルタの配置を工夫することにより、プロ
セスの共通化が図られる。
【0018】例えば、前記反射層と前記画素電極とは、
光反射性を有する同一導電層をパターニングしたものと
すると、反射層と画素電極とを別の金属層から構成する
場合よりもプロセスが簡略化される。さらに、スイッチ
ング素子として、第1の導電層/絶縁体/第2の導電層
の構造を有する薄膜ダイオードを用いるとともに、この
第2の導電層により反射層を形成して、第2の導電層、
反射層および画素電極を共通化しても良い。
光反射性を有する同一導電層をパターニングしたものと
すると、反射層と画素電極とを別の金属層から構成する
場合よりもプロセスが簡略化される。さらに、スイッチ
ング素子として、第1の導電層/絶縁体/第2の導電層
の構造を有する薄膜ダイオードを用いるとともに、この
第2の導電層により反射層を形成して、第2の導電層、
反射層および画素電極を共通化しても良い。
【0019】一方、第2のカラーフィルタは、スリット
の通過光を着色させれば、それで足りるから、スリット
部分に設ける必要はなく、背面基板において反射基板と
の対向側とは反対側に位置させても良い。この際、第1
のカラーフィルタは、前面基板に設けても良い。こうす
ると、スイッチング素子の形成面に、カラーフィルタを
形成しないで済む。また、第1のカラーフィルタは、反
射基板の直上に配置しても良い。
の通過光を着色させれば、それで足りるから、スリット
部分に設ける必要はなく、背面基板において反射基板と
の対向側とは反対側に位置させても良い。この際、第1
のカラーフィルタは、前面基板に設けても良い。こうす
ると、スイッチング素子の形成面に、カラーフィルタを
形成しないで済む。また、第1のカラーフィルタは、反
射基板の直上に配置しても良い。
【0020】加えて、本発明に係る電子機器にあって
は、液晶表示装置を備えるので、外光が少ない場所でも
良好な視認性が確保される一方、外光がある場所では、
低消費電力が図られることとなる。
は、液晶表示装置を備えるので、外光が少ない場所でも
良好な視認性が確保される一方、外光がある場所では、
低消費電力が図られることとなる。
【0021】
【発明の実施の形態】上述のように、本発明の要旨は、
背面基板に形成された反射層に対して、前面基板寄りに
第1のカラーフィルタを設ける一方、反射層の透過光を
着色させる第2のカラーフィルタを設けた点にあるの
で、アクティブマトリクス方式にも、パッシブマトリク
ス方式にも適用可能である。このうち、画素電極をスイ
ッチング(非線形)素子で駆動するアクティブマトリク
ス方式の方が、コントラストやレスポンスなどが良好で
あり、かつ、高精細な表示が容易に達成できるので、パ
ッシブマトリクス方式に比較して有利である。ここで、
アクティブマトリクス方式は、スイッチング素子とし
て、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transisto
r)などの三端子型素子を用いる方式と、薄膜ダイオー
ド(TFD:Thin FilmDiode)などの二端子型素子を用
いる方式との2方式に大別されるが、後者方式の方が、
配線の交差部分がないために配線間の短絡不良が原理的
に発生しない点、さらに、成膜工程およびフォトリソグ
ラフィ工程を短縮できる点において有利である。そこ
で、TFDにより画素電極を駆動する液晶表示装置を、
本発明の実施形態として、以下、図面を参照して説明す
ることとする。
背面基板に形成された反射層に対して、前面基板寄りに
第1のカラーフィルタを設ける一方、反射層の透過光を
着色させる第2のカラーフィルタを設けた点にあるの
で、アクティブマトリクス方式にも、パッシブマトリク
ス方式にも適用可能である。このうち、画素電極をスイ
ッチング(非線形)素子で駆動するアクティブマトリク
ス方式の方が、コントラストやレスポンスなどが良好で
あり、かつ、高精細な表示が容易に達成できるので、パ
ッシブマトリクス方式に比較して有利である。ここで、
アクティブマトリクス方式は、スイッチング素子とし
て、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transisto
r)などの三端子型素子を用いる方式と、薄膜ダイオー
ド(TFD:Thin FilmDiode)などの二端子型素子を用
いる方式との2方式に大別されるが、後者方式の方が、
配線の交差部分がないために配線間の短絡不良が原理的
に発生しない点、さらに、成膜工程およびフォトリソグ
ラフィ工程を短縮できる点において有利である。そこ
で、TFDにより画素電極を駆動する液晶表示装置を、
本発明の実施形態として、以下、図面を参照して説明す
ることとする。
【0022】<第1実施形態>まず、本発明の第1実施
形態について説明する。図1は、この表示装置の主要部
である液晶パネルの電気的構成を示すブロック図であ
る。この図に示されるように、液晶パネル100には、
複数本の走査線212が行(X)方向に延在して形成さ
れる一方、複数本のデータ線312が列(Y)方向に延
在して形成されるとともに、走査線212とデータ線3
12との各交差部分において画素116が形成されてい
る。ここで、各画素116は、液晶表示要素(液晶層)
118とTFD220との直列接続からなる。そして、
各走査線212は、走査線駆動回路122によって駆動
される一方、各データ線312は、データ線駆動回路1
24によって駆動される構成となっている。
形態について説明する。図1は、この表示装置の主要部
である液晶パネルの電気的構成を示すブロック図であ
る。この図に示されるように、液晶パネル100には、
複数本の走査線212が行(X)方向に延在して形成さ
れる一方、複数本のデータ線312が列(Y)方向に延
在して形成されるとともに、走査線212とデータ線3
12との各交差部分において画素116が形成されてい
る。ここで、各画素116は、液晶表示要素(液晶層)
118とTFD220との直列接続からなる。そして、
各走査線212は、走査線駆動回路122によって駆動
される一方、各データ線312は、データ線駆動回路1
24によって駆動される構成となっている。
【0023】なお、本実施形態においてTFD220
は、走査線212の側に接続され、液晶層118がデー
タ線312の側に接続されているが、これとは逆に、T
FD220がデータ線312の側に、液晶層118が走
査線212の側にそれぞれ接続される構成でも良い。
は、走査線212の側に接続され、液晶層118がデー
タ線312の側に接続されているが、これとは逆に、T
FD220がデータ線312の側に、液晶層118が走
査線212の側にそれぞれ接続される構成でも良い。
【0024】<液晶パネルについて>このような電気的
構成を有する液晶パネル100は、図2に示されるよう
に、透明性を有する前面基板200と、同じく透明性を
有する背面基板300とが互いに一定の間隙を保った状
態で貼付され、この間隙にTN(Twist Nematic)型な
どの液晶105が封入された構成となっている。このう
ち、前面基板200には、図2において示される画素電
極234のほか、実際には、図1における走査線212
や、画素電極234と走査線212との間に介挿される
TFD220などが形成される一方、背面基板300に
は、データ線312などが形成されている。ここで、一
列分の画素電極234と1本のデータ線312とが対向
するような位置関係となっているため、図1における液
晶層118は、実際には、画素電極234とデータ線3
12とこれらの間に挟持される液晶105とから構成さ
れることとなる。したがって、画素116は、図1に示
されるように、走査線212とデータ線312との各交
差部分において、液晶層118とTFD220との直列
接続を介して電気的に結合した状態となる。
構成を有する液晶パネル100は、図2に示されるよう
に、透明性を有する前面基板200と、同じく透明性を
有する背面基板300とが互いに一定の間隙を保った状
態で貼付され、この間隙にTN(Twist Nematic)型な
どの液晶105が封入された構成となっている。このう
ち、前面基板200には、図2において示される画素電
極234のほか、実際には、図1における走査線212
や、画素電極234と走査線212との間に介挿される
TFD220などが形成される一方、背面基板300に
は、データ線312などが形成されている。ここで、一
列分の画素電極234と1本のデータ線312とが対向
するような位置関係となっているため、図1における液
晶層118は、実際には、画素電極234とデータ線3
12とこれらの間に挟持される液晶105とから構成さ
れることとなる。したがって、画素116は、図1に示
されるように、走査線212とデータ線312との各交
差部分において、液晶層118とTFD220との直列
接続を介して電気的に結合した状態となる。
【0025】さて、データ線312は、ITO(Indium
Tin Oxide)などの透明導電膜からなり、アクリル樹脂
やエポキシ樹脂などからなるオーバーコート層342上
に形成されている。ここで、オーバーコート層342が
設けられている理由は、第1のカラーフィルタ322、
反射層332および第2のカラーフィルタ324からな
る凸部を平坦化するためや、第1のカラーフィルタ32
2から有機物質が染み出して液晶105が劣化するのを
防止するためなどである。
Tin Oxide)などの透明導電膜からなり、アクリル樹脂
やエポキシ樹脂などからなるオーバーコート層342上
に形成されている。ここで、オーバーコート層342が
設けられている理由は、第1のカラーフィルタ322、
反射層332および第2のカラーフィルタ324からな
る凸部を平坦化するためや、第1のカラーフィルタ32
2から有機物質が染み出して液晶105が劣化するのを
防止するためなどである。
【0026】一方、背面基板300の上面であって、画
素電極234と対向する領域には、エッチングなどの処
理によって起伏が形成されて、そこに第2のカラーフィ
ルタ324が形成されている。この第2のカラーフィル
タ324の上面には、さらに、アルミニウムなどの光反
射性を有する反射層332が、開口部であるスリット3
35とともに形成されている。ここで、第2のカラーフ
ィルタ324の上面に残っている起伏によって、反射層
332の反射光は適度に散乱することとなる。
素電極234と対向する領域には、エッチングなどの処
理によって起伏が形成されて、そこに第2のカラーフィ
ルタ324が形成されている。この第2のカラーフィル
タ324の上面には、さらに、アルミニウムなどの光反
射性を有する反射層332が、開口部であるスリット3
35とともに形成されている。ここで、第2のカラーフ
ィルタ324の上面に残っている起伏によって、反射層
332の反射光は適度に散乱することとなる。
【0027】また、、第1のカラーフィルタ322およ
び第2のカラーフィルタ324は、3原色であるR(レ
ッド)、G(グリーン)、B(ブルー)のいずれかであ
り、ストライプ配列や、モザイク配列、デルタ配列など
の一定の規則性で配列している。この際、第2のカラー
フィルタ324は、後述するように、バックライトユニ
ットによる照射光の発色低下を防ぐことを主目的として
設けられるので、同一の画素電極234に対応する第1
のカラーフィルタ322および第2のカラーフィルタ3
24は、本実施形態にあっては、互いに同色となってい
る。
び第2のカラーフィルタ324は、3原色であるR(レ
ッド)、G(グリーン)、B(ブルー)のいずれかであ
り、ストライプ配列や、モザイク配列、デルタ配列など
の一定の規則性で配列している。この際、第2のカラー
フィルタ324は、後述するように、バックライトユニ
ットによる照射光の発色低下を防ぐことを主目的として
設けられるので、同一の画素電極234に対応する第1
のカラーフィルタ322および第2のカラーフィルタ3
24は、本実施形態にあっては、互いに同色となってい
る。
【0028】なお、このほかに、視角特性を考慮してラ
ビング処理された配向膜(図示省略)が、画素電極23
4およびデータ線312の表面に形成されている。これ
により、電圧無印加時において、液晶分子がラビング方
向に沿って配向方位することとなる。また、第1のカラ
ーフィルタ322および第2のカラーフィルタ324が
形成されている領域以外では、着色パターン間の隙間を
遮光するためのブラックマトリクスが設けられるが、図
示を省略することとする。
ビング処理された配向膜(図示省略)が、画素電極23
4およびデータ線312の表面に形成されている。これ
により、電圧無印加時において、液晶分子がラビング方
向に沿って配向方位することとなる。また、第1のカラ
ーフィルタ322および第2のカラーフィルタ324が
形成されている領域以外では、着色パターン間の隙間を
遮光するためのブラックマトリクスが設けられるが、図
示を省略することとする。
【0029】次に、前面基板200における1画素分の
レイアウトについて説明する。図3(a)は、TFD2
20を含む1画素分のレイアウトを示す平面図であり、
同図(b)は、そのA−A’線に沿って示す断面図であ
る。なお、TFD220および画素電極234は、本実
施形態にあっては前面基板200に設けられるので、図
3(a)は、図2において背面側(下側)から透視した
場合の平面図である点、および、図3(b)は、図2と
は上下が反転している点に留意されたい。
レイアウトについて説明する。図3(a)は、TFD2
20を含む1画素分のレイアウトを示す平面図であり、
同図(b)は、そのA−A’線に沿って示す断面図であ
る。なお、TFD220および画素電極234は、本実
施形態にあっては前面基板200に設けられるので、図
3(a)は、図2において背面側(下側)から透視した
場合の平面図である点、および、図3(b)は、図2と
は上下が反転している点に留意されたい。
【0030】さて、図3(a)および同図(b)に示さ
れるように、TFD220は、第1のTFD220aお
よび第2のTFD220bからなり、前面基板200の
表面に形成された絶縁膜201において、第1金属膜2
22と、この第1金属膜222の表面に陽極酸化によっ
て形成された絶縁体たる酸化膜224と、この表面に形
成されて相互に離間した第2金属膜226a、226b
とから構成されている。また、第2金属膜226aは、
そのまま走査線212となる一方、第2金属膜226b
は、データ線312と同様にITOなど透明導電膜から
形成された画素電極234に接続されている。
れるように、TFD220は、第1のTFD220aお
よび第2のTFD220bからなり、前面基板200の
表面に形成された絶縁膜201において、第1金属膜2
22と、この第1金属膜222の表面に陽極酸化によっ
て形成された絶縁体たる酸化膜224と、この表面に形
成されて相互に離間した第2金属膜226a、226b
とから構成されている。また、第2金属膜226aは、
そのまま走査線212となる一方、第2金属膜226b
は、データ線312と同様にITOなど透明導電膜から
形成された画素電極234に接続されている。
【0031】ここで、第1のTFD220aは、走査線
212の側からみると順番に、第2金属膜226a/酸
化膜224/第1金属膜222となって、金属/絶縁体
/金属のサンドイッチ構造を採るため、その電流−電圧
特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第2
のTFD220bは、走査線212の側からみると順番
に、第1金属膜222/酸化膜224/第2金属膜22
6bとなって、第1のTFD220aとは、反対の電流
−電圧特性を有することになる。したがって、TFD2
20は、2つの素子を互いに逆向きに直列接続した形と
なるため、1つの素子を用いる場合と比べると、電流−
電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化される
ことになる。
212の側からみると順番に、第2金属膜226a/酸
化膜224/第1金属膜222となって、金属/絶縁体
/金属のサンドイッチ構造を採るため、その電流−電圧
特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第2
のTFD220bは、走査線212の側からみると順番
に、第1金属膜222/酸化膜224/第2金属膜22
6bとなって、第1のTFD220aとは、反対の電流
−電圧特性を有することになる。したがって、TFD2
20は、2つの素子を互いに逆向きに直列接続した形と
なるため、1つの素子を用いる場合と比べると、電流−
電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化される
ことになる。
【0032】ところで、前面基板200自体は、例え
ば、石英や、ガラス、プラスティックなどが用いられ
る。また、前面基板200の表面に絶縁膜201が設け
られる理由は、第2金属膜の堆積後における熱処理によ
り、第1金属膜222が下地から剥離しないようにする
ため、および、第1金属膜222に不純物が拡散しない
ようにするためである。したがって、これらの点が問題
にならないのであれば、絶縁膜201については省略可
能である。
ば、石英や、ガラス、プラスティックなどが用いられ
る。また、前面基板200の表面に絶縁膜201が設け
られる理由は、第2金属膜の堆積後における熱処理によ
り、第1金属膜222が下地から剥離しないようにする
ため、および、第1金属膜222に不純物が拡散しない
ようにするためである。したがって、これらの点が問題
にならないのであれば、絶縁膜201については省略可
能である。
【0033】なお、TFD220は、二端子型スイッチ
ング素子としての一例であり、他にMSI(Metal Semi
-Insulator)などのようなダイオード素子構造を用いた
素子や、これらの素子を逆向きに直列接続もしくは並列
接続したものなどについても適用可能である。さらに、
電流−電圧特性を正負双方向で厳密に対称化する必要が
ないのであれば、1つの素子のみを用いても良い。
ング素子としての一例であり、他にMSI(Metal Semi
-Insulator)などのようなダイオード素子構造を用いた
素子や、これらの素子を逆向きに直列接続もしくは並列
接続したものなどについても適用可能である。さらに、
電流−電圧特性を正負双方向で厳密に対称化する必要が
ないのであれば、1つの素子のみを用いても良い。
【0034】次に、この液晶パネル100を含む表示装
置の全体構成について図4および図5を参照して説明す
る。ここで、図4は、液晶パネル100の構成を示す斜
視図であり、図5は、図4におけるB−B’線の断面図
である。なお、図5については、図4では省略されてい
るバックライトユニットについても、液晶パネル100
と併せて示されている。
置の全体構成について図4および図5を参照して説明す
る。ここで、図4は、液晶パネル100の構成を示す斜
視図であり、図5は、図4におけるB−B’線の断面図
である。なお、図5については、図4では省略されてい
るバックライトユニットについても、液晶パネル100
と併せて示されている。
【0035】これらの図に示されるように、液晶パネル
100は、前面基板200と背面基板300とが、スペ
ーサSの混入されたシール材104により一定の間隙を
保って、互いに電極形成面が対向するように貼付される
とともに、この間隙に液晶105を封入した構造となっ
ている。また、前面基板200の前面側および背面基板
300の背面側には、それぞれ偏光板206、306が
設けられ、その偏光軸は、対応する基板のラビング方向
に応じて設定されている。
100は、前面基板200と背面基板300とが、スペ
ーサSの混入されたシール材104により一定の間隙を
保って、互いに電極形成面が対向するように貼付される
とともに、この間隙に液晶105を封入した構造となっ
ている。また、前面基板200の前面側および背面基板
300の背面側には、それぞれ偏光板206、306が
設けられ、その偏光軸は、対応する基板のラビング方向
に応じて設定されている。
【0036】一方、前面基板200の対向面であって、
背面基板300から張り出した端子部分には、図1にお
いて走査信号駆動回路122に相当するICチップ25
0が、図において下側からCOG実装されるとともに、
このICチップ250に外部制御基板(図示省略)から
制御信号を供給するためのFPC(Flexible PrintedCi
rcuit)基板260が接続される。また、背面基板30
0の対向面であって、前面基板200から張り出した端
子部分には、図1においてデータ線駆動回路124に相
当するICチップ350が図において上側からCOG実
装されるとともに、このICチップ350に外部制御基
板から制御信号を供給するためのFPC基板360が接
続される。ここで、ICチップ250、350における
COG実装は、それぞれ、第1に、基板との所定位置に
おいて、接着材中に導電性微粒子を均一に分散させたフ
ィルム状の異方性導電膜を挟持し、第2に、ICチップ
250、350を基板に加圧・加熱することにより行わ
れる。FPC基板350、360の接続も同様にして行
われる。
背面基板300から張り出した端子部分には、図1にお
いて走査信号駆動回路122に相当するICチップ25
0が、図において下側からCOG実装されるとともに、
このICチップ250に外部制御基板(図示省略)から
制御信号を供給するためのFPC(Flexible PrintedCi
rcuit)基板260が接続される。また、背面基板30
0の対向面であって、前面基板200から張り出した端
子部分には、図1においてデータ線駆動回路124に相
当するICチップ350が図において上側からCOG実
装されるとともに、このICチップ350に外部制御基
板から制御信号を供給するためのFPC基板360が接
続される。ここで、ICチップ250、350における
COG実装は、それぞれ、第1に、基板との所定位置に
おいて、接着材中に導電性微粒子を均一に分散させたフ
ィルム状の異方性導電膜を挟持し、第2に、ICチップ
250、350を基板に加圧・加熱することにより行わ
れる。FPC基板350、360の接続も同様にして行
われる。
【0037】なお、ICチップ250、350を、基板
200、300にCOG実装する替わりに、例えば、I
Cチップ250、350が実装された各TCP(Tape C
arrier Package)を、基板200、300の所定位置に
設けられる異方性導電膜により電気的および機械的に接
続する構成としても良い。
200、300にCOG実装する替わりに、例えば、I
Cチップ250、350が実装された各TCP(Tape C
arrier Package)を、基板200、300の所定位置に
設けられる異方性導電膜により電気的および機械的に接
続する構成としても良い。
【0038】さらに、背面基板300の背面には、バッ
クライトユニットが、シリコンゴムなどの緩衝材106
を介して設けられている。このバックライトユニット
は、光を照射する線状の蛍光管601と、この蛍光管6
01による光をもれなく反射して導光板603に導く反
射板602と、導光板603に導かれた光を液晶パネル
100に一様に拡散させる拡散板604と、導光板60
3から液晶パネル100とは反対方向に出射される光を
液晶パネル100側へ反射させる反射板605とから構
成される。ここで、蛍光管601は、常に点灯するので
はなく、外光がほとんどないような場合に、ユーザの指
示や、センサの検出によって点灯するものである。
クライトユニットが、シリコンゴムなどの緩衝材106
を介して設けられている。このバックライトユニット
は、光を照射する線状の蛍光管601と、この蛍光管6
01による光をもれなく反射して導光板603に導く反
射板602と、導光板603に導かれた光を液晶パネル
100に一様に拡散させる拡散板604と、導光板60
3から液晶パネル100とは反対方向に出射される光を
液晶パネル100側へ反射させる反射板605とから構
成される。ここで、蛍光管601は、常に点灯するので
はなく、外光がほとんどないような場合に、ユーザの指
示や、センサの検出によって点灯するものである。
【0039】このような構成において、前面基板200
の側から液晶パネル100に入射する光は、図2を参照
すれば、反射層332によって反射するので、これによ
り液晶パネル100は、反射型として機能する一方、バ
ックライトユニットの蛍光管601が点灯すると、この
照射光は、反射層332に形成されたスリット335を
通過するので、これにより液晶パネル100は、透過型
として機能することになる。
の側から液晶パネル100に入射する光は、図2を参照
すれば、反射層332によって反射するので、これによ
り液晶パネル100は、反射型として機能する一方、バ
ックライトユニットの蛍光管601が点灯すると、この
照射光は、反射層332に形成されたスリット335を
通過するので、これにより液晶パネル100は、透過型
として機能することになる。
【0040】ここで、反射型として機能する場合、前面
基板200の側からの入射光は、偏光板206(図2で
は図示省略)→前面基板200→画素電極234→液晶
105→データ線312→オーバーコート層342→第
1のカラーフィルタ322→反射層332まで到達する
と、当該反射層で反射して、いま来た経路を逆に辿って
ユーザに視認される。このため、液晶パネル100に入
射した光は、ユーザに視認されるまでに、第1のカラー
フィルタ322を2回通過することになる。
基板200の側からの入射光は、偏光板206(図2で
は図示省略)→前面基板200→画素電極234→液晶
105→データ線312→オーバーコート層342→第
1のカラーフィルタ322→反射層332まで到達する
と、当該反射層で反射して、いま来た経路を逆に辿って
ユーザに視認される。このため、液晶パネル100に入
射した光は、ユーザに視認されるまでに、第1のカラー
フィルタ322を2回通過することになる。
【0041】一方、透過型として機能する場合、バック
ライトユニットによる照射光は、偏光板306(図2で
は図示省略)→背面基板300→第2のカラーフィルタ
324→スリット335→第1のカラーフィルタ322
→オーバーコート層342→データ線312→液晶10
5→画素電極234→前面基板200→偏光板206
(図2では図示省略)という経路を辿ってユーザに視認
される。このため、バックライトユニットによる照射光
は、ユーザに視認されるまでに、第1のカラーフィルタ
322および第2のカラーフィルタ324を通過するこ
とになる。
ライトユニットによる照射光は、偏光板306(図2で
は図示省略)→背面基板300→第2のカラーフィルタ
324→スリット335→第1のカラーフィルタ322
→オーバーコート層342→データ線312→液晶10
5→画素電極234→前面基板200→偏光板206
(図2では図示省略)という経路を辿ってユーザに視認
される。このため、バックライトユニットによる照射光
は、ユーザに視認されるまでに、第1のカラーフィルタ
322および第2のカラーフィルタ324を通過するこ
とになる。
【0042】したがって、バックライトユニットによる
照射光は、前面基板200の側からの入射光と同様に、
カラーフィルタを2回通過するので、着色が薄くなると
いった不具合が解消されることとなる。
照射光は、前面基板200の側からの入射光と同様に、
カラーフィルタを2回通過するので、着色が薄くなると
いった不具合が解消されることとなる。
【0043】さらに、反射型として機能する場合、反射
光は、第1のカラーフィルタ322を2度通過するの
で、反射型における色再現性は、第1のカラーフィルタ
のみにより定まる。一方、透過型として機能する場合、
透過光は、第2のカラーフィルタ324および第1のカ
ラーフィルタ322を順番に通過するので、透過型にお
ける色再現性は、第1および第2のカラーフィルタの双
方により定まる。したがって、両カラーフィルタの色特
性をそれぞれ個別に設定することで、反射型と透過型と
の色再現性を、それぞれ最適化することができる。特
に、第2のカラーフィルタ324を通過して、ユーザに
視認される光は、バックライトユニットによる照射光だ
けである。このため、照射光の分光特性などを考慮し
て、第2のカラーフィルタの色特性を設定することによ
り、反射型・透過型における色特性をそれぞれバランス
させることが可能となる。
光は、第1のカラーフィルタ322を2度通過するの
で、反射型における色再現性は、第1のカラーフィルタ
のみにより定まる。一方、透過型として機能する場合、
透過光は、第2のカラーフィルタ324および第1のカ
ラーフィルタ322を順番に通過するので、透過型にお
ける色再現性は、第1および第2のカラーフィルタの双
方により定まる。したがって、両カラーフィルタの色特
性をそれぞれ個別に設定することで、反射型と透過型と
の色再現性を、それぞれ最適化することができる。特
に、第2のカラーフィルタ324を通過して、ユーザに
視認される光は、バックライトユニットによる照射光だ
けである。このため、照射光の分光特性などを考慮し
て、第2のカラーフィルタの色特性を設定することによ
り、反射型・透過型における色特性をそれぞれバランス
させることが可能となる。
【0044】また、液晶層118が、画素電極234と
データ線312とこれらの間に挟持される液晶105と
から構成されることになるので、走査線212に走査信
号を供給するとともに、データ線312にデータ信号を
供給することによって、TFD220にしきい値以上の
電位差を印加すると、当該TFDがオンとなって導通状
態になるので、当該TFDに接続された液晶層に所定の
電荷が蓄積される。そして、電荷蓄積後、当該TFDを
オフ状態にしても、液晶層の抵抗が十分に高ければ、当
該液晶層における電荷の蓄積が維持される。このように
TFD220を駆動して、蓄積させる電荷の量を制御す
ると、画素毎に液晶の配向状態が変化するので、所定の
表示を行わせることが可能となる。
データ線312とこれらの間に挟持される液晶105と
から構成されることになるので、走査線212に走査信
号を供給するとともに、データ線312にデータ信号を
供給することによって、TFD220にしきい値以上の
電位差を印加すると、当該TFDがオンとなって導通状
態になるので、当該TFDに接続された液晶層に所定の
電荷が蓄積される。そして、電荷蓄積後、当該TFDを
オフ状態にしても、液晶層の抵抗が十分に高ければ、当
該液晶層における電荷の蓄積が維持される。このように
TFD220を駆動して、蓄積させる電荷の量を制御す
ると、画素毎に液晶の配向状態が変化するので、所定の
表示を行わせることが可能となる。
【0045】この際、各画素116の液晶層118に電
荷を蓄積させるのは一部の期間で良いため、第1に、走
査線駆動回路122(ICチップ250)によって、各
走査線212を順次選択するとともに、第2に、走査線
212の選択期間において、データ線駆動回路124
(ICチップ350)によりデータ線312に表示すべ
き画像に応じたデータ信号を供給する構成により、走査
線212およびデータ線312を複数の画素116につ
いて共通化した時分割マルチプレックス駆動が可能とな
っている。
荷を蓄積させるのは一部の期間で良いため、第1に、走
査線駆動回路122(ICチップ250)によって、各
走査線212を順次選択するとともに、第2に、走査線
212の選択期間において、データ線駆動回路124
(ICチップ350)によりデータ線312に表示すべ
き画像に応じたデータ信号を供給する構成により、走査
線212およびデータ線312を複数の画素116につ
いて共通化した時分割マルチプレックス駆動が可能とな
っている。
【0046】<第2実施形態>次に、本発明の第2実施
形態について説明する。図6は、第2実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第1実施形態では、第1のカラーフィルタ322
および第2のカラーフィルタ324は、それぞれ背面基
板300において前面基板200との対向面に形成され
ていたが、本実施形態にあっては、図6に示されるよう
に、第2のカラーフィルタ324を、背面基板300の
背面側に形成したものである。
形態について説明する。図6は、第2実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第1実施形態では、第1のカラーフィルタ322
および第2のカラーフィルタ324は、それぞれ背面基
板300において前面基板200との対向面に形成され
ていたが、本実施形態にあっては、図6に示されるよう
に、第2のカラーフィルタ324を、背面基板300の
背面側に形成したものである。
【0047】ここで、第2のカラーフィルタ324は、
バックライトユニットの照射光を着色することによっ
て、発色低下を防ぐために設けられるので、本実施形態
のように、背面基板300の背面側に形成しても良いの
である。なお、第2のカラーフィルタ324を背面基板
300の背面側に設けると、外部に露出することになる
ので、実際には、オーバーコート層などで保護すること
が望ましい。
バックライトユニットの照射光を着色することによっ
て、発色低下を防ぐために設けられるので、本実施形態
のように、背面基板300の背面側に形成しても良いの
である。なお、第2のカラーフィルタ324を背面基板
300の背面側に設けると、外部に露出することになる
ので、実際には、オーバーコート層などで保護すること
が望ましい。
【0048】このように第2実施形態によれば、第1実
施形態と同様に、バックライトユニットによる照射光、
すなわち、液晶パネル100の透過光についても、反射
光と同様にカラーフィルタを2回通過することになるの
で、両者の色再現性をほぼ等しくすることが可能とな
る。
施形態と同様に、バックライトユニットによる照射光、
すなわち、液晶パネル100の透過光についても、反射
光と同様にカラーフィルタを2回通過することになるの
で、両者の色再現性をほぼ等しくすることが可能とな
る。
【0049】<第3実施形態>次に、本発明の第3実施
形態について説明する。図7は、第3実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第1および第2実施形態では、TFD220が前
面基板300に形成されていたが、本実施形態にあって
は、背面基板500側に形成されている。このため、T
FD220に接続される走査線212および画素電極5
34も背面基板500に形成され、その替わりに、デー
タ線312が前面基板400に形成されている。
形態について説明する。図7は、第3実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第1および第2実施形態では、TFD220が前
面基板300に形成されていたが、本実施形態にあって
は、背面基板500側に形成されている。このため、T
FD220に接続される走査線212および画素電極5
34も背面基板500に形成され、その替わりに、デー
タ線312が前面基板400に形成されている。
【0050】また、前面基板の側からの入射光は、反射
してユーザに視認されるまでに第1のカラーフィルタ3
22を2回通過すれば良いから、第1のカラーフィルタ
322を、上述した第1および第2実施形態のように背
面基板側に設ける必要がない。このため、第3実施形態
にあっては、第1のカラーフィルタ324は、前面基板
400において背面基板500との対向面に設けられて
いる。なお、オーバーコート層342は、第1のカラー
フィルタ342による凸部を平坦化するために設けられ
ており、この表面にデータ線312が形成されている。
してユーザに視認されるまでに第1のカラーフィルタ3
22を2回通過すれば良いから、第1のカラーフィルタ
322を、上述した第1および第2実施形態のように背
面基板側に設ける必要がない。このため、第3実施形態
にあっては、第1のカラーフィルタ324は、前面基板
400において背面基板500との対向面に設けられて
いる。なお、オーバーコート層342は、第1のカラー
フィルタ342による凸部を平坦化するために設けられ
ており、この表面にデータ線312が形成されている。
【0051】次に、第3実施形態において、背面基板2
00の1画素分のレイアウトについて説明する。図8
(a)は、TFD220を含む1画素分のレイアウトを
示す平面図であり、同図(b)は、そのC−C’線に沿
って示す断面図である。なお、TFD220および画素
電極234は、この第3実施形態にあっては背面基板5
00に設けられるので、図8(a)は、図7において前
面側(上側)から透視した場合の平面図である点、およ
び、図8(b)は、図7とは上下が正立である点ににお
いて、図3とは相違する。
00の1画素分のレイアウトについて説明する。図8
(a)は、TFD220を含む1画素分のレイアウトを
示す平面図であり、同図(b)は、そのC−C’線に沿
って示す断面図である。なお、TFD220および画素
電極234は、この第3実施形態にあっては背面基板5
00に設けられるので、図8(a)は、図7において前
面側(上側)から透視した場合の平面図である点、およ
び、図8(b)は、図7とは上下が正立である点ににお
いて、図3とは相違する。
【0052】さて、図8(a)および同図(b)に示さ
れるように、TFD220は、互いに逆向きに直列接続
された第1のTFD220aおよび第2のTFD220
bからなる点は、図3と同様であるが、第2のTFD2
20bにおける第2金属膜226bがそのまま延長形成
されて画素電極534となっている点において、図3と
は相違している。すなわち、第3実施形態にあっては、
TFD220を構成す2層目の金属膜をパターニングす
ることによって、第1のTFD220aの第2金属膜2
26aと、第2のTFD220aの第2金属膜226a
とともに、画素電極534について開口部であるスリッ
ト535も含めて、同時に形成したものである。このよ
うな共通金属層としては、光反射性を有するアルミニウ
ムなどが好適である。
れるように、TFD220は、互いに逆向きに直列接続
された第1のTFD220aおよび第2のTFD220
bからなる点は、図3と同様であるが、第2のTFD2
20bにおける第2金属膜226bがそのまま延長形成
されて画素電極534となっている点において、図3と
は相違している。すなわち、第3実施形態にあっては、
TFD220を構成す2層目の金属膜をパターニングす
ることによって、第1のTFD220aの第2金属膜2
26aと、第2のTFD220aの第2金属膜226a
とともに、画素電極534について開口部であるスリッ
ト535も含めて、同時に形成したものである。このよ
うな共通金属層としては、光反射性を有するアルミニウ
ムなどが好適である。
【0053】また、背面基板500の表面には、画素電
極534としての領域に光散乱性を持たせるために予め
選択的に起伏が設けられるが、TFD220が形成され
る領域には、起伏が設けられない。これは、起伏がある
領域にTFDを形成すると、素子サイズが不均一となっ
て、TFD220の非線形特性にばらつきが生じる結
果、表示ムラの原因となるからである。
極534としての領域に光散乱性を持たせるために予め
選択的に起伏が設けられるが、TFD220が形成され
る領域には、起伏が設けられない。これは、起伏がある
領域にTFDを形成すると、素子サイズが不均一となっ
て、TFD220の非線形特性にばらつきが生じる結
果、表示ムラの原因となるからである。
【0054】このように第3実施形態によれば、第1お
よび第2実施形態と同様に、液晶パネル100の透過光
においても、反射光と同様にカラーフィルタを2回通過
することになるので、両者の色再現性をほぼ等しくする
ことが可能となる。さらに、背面基板500において、
第2金属膜226a、226bおよび画素電極534が
共通金属層でパターニングされるので、製造プロセスの
簡略化を図ることが可能となる。
よび第2実施形態と同様に、液晶パネル100の透過光
においても、反射光と同様にカラーフィルタを2回通過
することになるので、両者の色再現性をほぼ等しくする
ことが可能となる。さらに、背面基板500において、
第2金属膜226a、226bおよび画素電極534が
共通金属層でパターニングされるので、製造プロセスの
簡略化を図ることが可能となる。
【0055】<第4実施形態>次に、本発明の第4実施
形態について説明する。図9は、第4実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第3実施形態では、背面基板500においてTF
D220の形成面には、第1カラーフィルタ322およ
び第2のカラーフィルタ324のいずれも設けられなか
ったが、本実施形態にあっては、図9に示されるよう
に、TFD220の形成面に両カラーフィルタを設けた
ものである。
形態について説明する。図9は、第4実施形態に係る液
晶パネルの構造を説明するための部分断面図である。上
述した第3実施形態では、背面基板500においてTF
D220の形成面には、第1カラーフィルタ322およ
び第2のカラーフィルタ324のいずれも設けられなか
ったが、本実施形態にあっては、図9に示されるよう
に、TFD220の形成面に両カラーフィルタを設けた
ものである。
【0056】ここで、背面基板300の表面には、第2
のカラーフィルタ324が形成されて、TFD素子22
0とともにオーバーコート層342で覆われている。ま
た、スリット535を含む画素電極534は、オーバー
コート層342の上面に形成されて、第2金属膜226
bとは、コンタクトホール551を介して接続されてい
る。さらに、画素電極534のスリット535には、第
1のカラーフィルタ322が形成されているが、有機物
質の染み出しを防ぐためにオーバーコート層346で覆
われている。
のカラーフィルタ324が形成されて、TFD素子22
0とともにオーバーコート層342で覆われている。ま
た、スリット535を含む画素電極534は、オーバー
コート層342の上面に形成されて、第2金属膜226
bとは、コンタクトホール551を介して接続されてい
る。さらに、画素電極534のスリット535には、第
1のカラーフィルタ322が形成されているが、有機物
質の染み出しを防ぐためにオーバーコート層346で覆
われている。
【0057】このように第4実施形態によれば、背面基
板500の製造プロセスがやや複雑となるが、他の実施
形態と同様に、液晶パネル100への透過光について
も、反射光と同様にカラーフィルタを2回通過すること
になるので、両者の色再現性をほぼ等しくすることが可
能となる。
板500の製造プロセスがやや複雑となるが、他の実施
形態と同様に、液晶パネル100への透過光について
も、反射光と同様にカラーフィルタを2回通過すること
になるので、両者の色再現性をほぼ等しくすることが可
能となる。
【0058】<応用形態>本発明は、上述した第1〜第
4実施形態に限られず、種々の応用・変形が可能であ
る。
4実施形態に限られず、種々の応用・変形が可能であ
る。
【0059】各実施形態にあっては、第1のカラーフィ
ルタ322および第2のカラーフィルタ324を、別個
に形成することとしたが、1層のカラーフィルタによっ
て、両カラーフィルタの機能を負わせることも可能であ
る。例えば、図2において、第1のカラーフィルタ32
2は、反射層332の表面のみならず、スリット332
内部まで浸透して形成されるから、スリット335の通
過光は、第2のカラーフィルタ324が存在しなくて
も、スリット335に浸透した第1のカラーフィルタ3
22によって着色される。ただし、実際のところ、反射
層335は、カラーフィルタの膜厚に比べて非常に薄い
ため、通常では十分に着色されない。このため、反射層
332を意図的に厚くして、着色に十分な光路長を確保
するなど措置が必要となる。
ルタ322および第2のカラーフィルタ324を、別個
に形成することとしたが、1層のカラーフィルタによっ
て、両カラーフィルタの機能を負わせることも可能であ
る。例えば、図2において、第1のカラーフィルタ32
2は、反射層332の表面のみならず、スリット332
内部まで浸透して形成されるから、スリット335の通
過光は、第2のカラーフィルタ324が存在しなくて
も、スリット335に浸透した第1のカラーフィルタ3
22によって着色される。ただし、実際のところ、反射
層335は、カラーフィルタの膜厚に比べて非常に薄い
ため、通常では十分に着色されない。このため、反射層
332を意図的に厚くして、着色に十分な光路長を確保
するなど措置が必要となる。
【0060】このように本発明では、工夫次第で1層の
カラーフィルタでも、第1および第2のカラーフィルタ
と同等な作用効果を奏することができる。すなわち、逆
に言えば、本発明における第1のカラーフィルタおよび
第2のカラーフィルタとは、別々のカラーフィルタで形
成される場合のみならず、同一のカラーフィルタで形成
される場合も含むのである。
カラーフィルタでも、第1および第2のカラーフィルタ
と同等な作用効果を奏することができる。すなわち、逆
に言えば、本発明における第1のカラーフィルタおよび
第2のカラーフィルタとは、別々のカラーフィルタで形
成される場合のみならず、同一のカラーフィルタで形成
される場合も含むのである。
【0061】また、各実施形態にあっては、反射層に、
スリットを設けることによって、半透過・反射機能を持
たせたが、これに限らず、例えばアルミニウム等の光反
射性を有する金属を用いた場合は、反射層の膜厚を比較
的薄く(20nm〜50nm)形成することにより、背
面基板側からの入射光の一部を透過させる構成としても
良い。
スリットを設けることによって、半透過・反射機能を持
たせたが、これに限らず、例えばアルミニウム等の光反
射性を有する金属を用いた場合は、反射層の膜厚を比較
的薄く(20nm〜50nm)形成することにより、背
面基板側からの入射光の一部を透過させる構成としても
良い。
【0062】さらに、各実施形態にあっては、画素11
6のスイッチング素子として、TFDなどのような二端
子型素子を用いたが、上述のように、本発明はこれに限
られず、TFTなどのような三端子型素子を用いる場合
にも適用可能であり、さらに、スイッチング素子を用い
ないパッシブマトリクス方式にも適用可能である。
6のスイッチング素子として、TFDなどのような二端
子型素子を用いたが、上述のように、本発明はこれに限
られず、TFTなどのような三端子型素子を用いる場合
にも適用可能であり、さらに、スイッチング素子を用い
ないパッシブマトリクス方式にも適用可能である。
【0063】くわえて、各実施形態にあっては、同一の
画素電極234に対向する第1のカラーフィルタ322
および第2のカラーフィルタ324については、互いに
略同色としたが、これに限られず、部分的あるいは全領
域に異なる色を用いて、様々発色を可能としても良い。
さらに、第1のカラーフィルタ322および第2のカラ
ーフィルタ324の特性を異ならせて、反射型における
色再現性と、透過型における色再現性を、まったく異な
るものとしても良い。
画素電極234に対向する第1のカラーフィルタ322
および第2のカラーフィルタ324については、互いに
略同色としたが、これに限られず、部分的あるいは全領
域に異なる色を用いて、様々発色を可能としても良い。
さらに、第1のカラーフィルタ322および第2のカラ
ーフィルタ324の特性を異ならせて、反射型における
色再現性と、透過型における色再現性を、まったく異な
るものとしても良い。
【0064】さらに、第1のカラーフィルタ322およ
び第2のカラーフィルタ324については、ストライプ
配列や、モザイク配列、デルタ配列などの配列のほか、
いわゆるべた塗り状態の単一色を用いても良いし、カラ
ーフィルタを組み合わせても良い。
び第2のカラーフィルタ324については、ストライプ
配列や、モザイク配列、デルタ配列などの配列のほか、
いわゆるべた塗り状態の単一色を用いても良いし、カラ
ーフィルタを組み合わせても良い。
【0065】<電子機器>次に、実施形態に係る半透過
・半反射型液晶パネルを各種の電子機器を表示装置とし
て適用する場合について説明する。この場合、電子機器
は、図10に示されるように、主に、表示情報出力源1
000、表示情報処理回路1002、電源回路100
4、タイミングジェネレータ1006、液晶パネル10
0、および、駆動回路120により構成される。このう
ち、表示情報出力源1000は、ROM(Read Only Me
mory)や、RAM(Random Access Memory)などのメモ
リ、各種ディスクなどのストレージユニット、ディジタ
ル画像信号を同調出力する同調回路などを備え、タイミ
ングジェネレータ1006により生成される各種のクロ
ック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号など
の表示情報を表示情報処理回路1002に供給するもの
である。次に、表示情報処理回路1002は、増幅・反
転回路や、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クラ
ンプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報
の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLK
とともに駆動回路120に供給するものである。ここ
で、駆動回路120は、図1における走査線駆動回路1
22や、データ線駆動回路124とともに、検査回路な
どを総称したものである。また、電源回路1004は、
各構成要素に所定の電源を供給するものである。
・半反射型液晶パネルを各種の電子機器を表示装置とし
て適用する場合について説明する。この場合、電子機器
は、図10に示されるように、主に、表示情報出力源1
000、表示情報処理回路1002、電源回路100
4、タイミングジェネレータ1006、液晶パネル10
0、および、駆動回路120により構成される。このう
ち、表示情報出力源1000は、ROM(Read Only Me
mory)や、RAM(Random Access Memory)などのメモ
リ、各種ディスクなどのストレージユニット、ディジタ
ル画像信号を同調出力する同調回路などを備え、タイミ
ングジェネレータ1006により生成される各種のクロ
ック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号など
の表示情報を表示情報処理回路1002に供給するもの
である。次に、表示情報処理回路1002は、増幅・反
転回路や、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クラ
ンプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報
の処理を実行して、その画像信号をクロック信号CLK
とともに駆動回路120に供給するものである。ここ
で、駆動回路120は、図1における走査線駆動回路1
22や、データ線駆動回路124とともに、検査回路な
どを総称したものである。また、電源回路1004は、
各構成要素に所定の電源を供給するものである。
【0066】次に、実施形態に係る半透過・半反射型液
晶パネルを、具体的な電子機器に用いた例のいくつかに
ついて説明する。
晶パネルを、具体的な電子機器に用いた例のいくつかに
ついて説明する。
【0067】<その1:モバイル型コンピュータ>ま
ず、この液晶パネルを、モバイル型のパーソナルコンピ
ュータに適用した例について説明する。図11は、この
パーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図
において、パーソナルコンピュータ1200は、キーボ
ード1202を備えた本体部1204と、液晶表示ユニ
ット1206とから構成されている。この液晶表示ユニ
ット1206は、先に述べた液晶パネル100の背面に
バックライトユニットを付加することにより構成されて
いる。これにより、外光が全くない場所でも、バックラ
イトユニットの蛍光管を点灯させることにより表示が視
認できるようになっている。
ず、この液晶パネルを、モバイル型のパーソナルコンピ
ュータに適用した例について説明する。図11は、この
パーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図
において、パーソナルコンピュータ1200は、キーボ
ード1202を備えた本体部1204と、液晶表示ユニ
ット1206とから構成されている。この液晶表示ユニ
ット1206は、先に述べた液晶パネル100の背面に
バックライトユニットを付加することにより構成されて
いる。これにより、外光が全くない場所でも、バックラ
イトユニットの蛍光管を点灯させることにより表示が視
認できるようになっている。
【0068】<その2:携帯電話>さらに、この液晶パ
ネルを、携帯電話に適用した例について説明する。図1
2は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図にお
いて、携帯電話1300は、複数の操作ボタン1302
とともに、先に述べた液晶パネル100を備えるもので
ある。この液晶パネル100の背面にあっても、バック
ライトユニットが設けられている。
ネルを、携帯電話に適用した例について説明する。図1
2は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図にお
いて、携帯電話1300は、複数の操作ボタン1302
とともに、先に述べた液晶パネル100を備えるもので
ある。この液晶パネル100の背面にあっても、バック
ライトユニットが設けられている。
【0069】なお、図11および図12を参照して説明
した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファイン
ダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビ
ゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプ
ロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端
末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そ
して、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまで
もない。
した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファイン
ダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビ
ゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプ
ロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端
末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そ
して、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまで
もない。
【0070】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
射型においても、透過型においても、ユーザに視認され
る光は、カラーフィルタを2回通過したものとなるか
ら、反射型と透過型との色再現性をほぼ等しくさせるこ
とが可能となる。
射型においても、透過型においても、ユーザに視認され
る光は、カラーフィルタを2回通過したものとなるか
ら、反射型と透過型との色再現性をほぼ等しくさせるこ
とが可能となる。
【図1】 本発明の第1実施形態に係る液晶パネルの電
気的構成を示すブロック図である。
気的構成を示すブロック図である。
【図2】 同液晶パネルの構造を説明するための部分断
面図である。
面図である。
【図3】 (a)は、同液晶パネルにおける前面基板の
1画素分の構成を示す平面図であり、(b)は、そのA
−A’線の断面図である。
1画素分の構成を示す平面図であり、(b)は、そのA
−A’線の断面図である。
【図4】 同液晶パネルの構成を示す斜視図である。
【図5】 同液晶パネル等の構成を示すB−B’線の断
面図である。
面図である。
【図6】 本発明の第2実施形態に係る液晶パネルの構
造を説明するための部分断面図である。
造を説明するための部分断面図である。
【図7】 本発明の第3実施形態に係る液晶パネルの構
造を説明するための部分断面図である。
造を説明するための部分断面図である。
【図8】 (a)は、同液晶パネルにおける背面基板の
1画素分の構成を示す平面図であり、(b)は、そのC
−C’線の断面図である。
1画素分の構成を示す平面図であり、(b)は、そのC
−C’線の断面図である。
【図9】 本発明の第4実施形態に係る液晶パネルの構
造を説明するための部分断面図である。
造を説明するための部分断面図である。
【図10】 各実施形態に係る液晶パネルが適用される
電子機器の概略構成を示すブロック図である。
電子機器の概略構成を示すブロック図である。
【図11】 同液晶パネルを適用した電子機器の一例た
るパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
るパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図12】 同液晶パネルを適用した電子機器の一例た
る携帯電話の構成を示す斜視図である。
る携帯電話の構成を示す斜視図である。
100……液晶パネル 105……液晶 200、400……前面基板 201……絶縁膜 206……偏光板 212……走査線 220……TFD 222……第1金属膜 224……酸化膜 226……第2金属膜 234、534……画素電極 250……ICチップ 260……FPC基板 300、500……背面基板 306……偏光板 312……データ線 322……第1のカラーフィルタ 324……第2のカラーフィルタ 332……反射層 335、535……スリット 342……オーバーコート層 350……ICチップ 360……FPC基板 601……蛍光管 602、605……反射板 603……導光板 604……拡散板
フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA02Y FA14Y FA14Z FB08 FD04 FD06 GA02 GA07 GA13 HA07 LA15 LA16 2H092 JA02 JA07 JA12 JA24 JB05 JB07 JB52 JB58 KB13 KB22 NA03 PA08 PA12 QA07 5G435 AA04 BB12 BB15 BB16 CC09 CC12 EE25 FF03 GG12 HH00
Claims (11)
- 【請求項1】 前面基板および背面基板の間に液晶が挟
持されてなる液晶表示装置であって、 前記背面基板に形成され、前記前面基板側からの入射光
を反射するとともに、前記背面基板側からの入射光の少
なくとも一部を透過する反射層と、 前記反射層に対して、前記前面基板寄りに設けられる第
1のカラーフィルタと、 前記背面基板側からの入射光のうち、前記スリットの通
過光を着色させる第2のカラーフィルタとを具備するこ
とを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記反射層には、スリットが設けられる
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項3】 前記反射層は、20nm〜50nmの膜
厚に形成された光反射性を有する金属膜からなることを
特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項4】 前記第2のカラーフィルタによる着色
と、前記第1のカラーフィルタによる着色とは、互いに
略同色であることを特徴とする請求項1記載の液晶表示
装置。 - 【請求項5】 前記背面基板側から入射して、前記前面
基板側から出射する光を照射する光源を備えることを特
徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項6】 複数の走査線と複数のデータ線との交差
に対応して配置する画素電極およびスイッチング素子を
備えることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。 - 【請求項7】 前記画素電極および前記スイッチング素
子は、それぞれ前記前面基板に設けられる一方、 前記第1のカラーフィルタは、前記第2のカラーフィル
タとともに前記背面基板に設けられる、 ことを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。 - 【請求項8】 前記画素電極および前記スイッチング素
子は、それぞれ前記背面基板に設けられることを特徴と
する請求項6記載の液晶表示装置。 - 【請求項9】 前記反射層と前記画素電極とは、光反射
性を有する同一導電層をパターニングしたものであるこ
とを特徴とする請求項8記載の液晶表示装置。 - 【請求項10】 前記第2のカラーフィルタは、前記背
面基板において前記反射基板との対向側とは反対側に位
置することを特徴とする請求項8または9記載の液晶表
示装置。 - 【請求項11】 請求項1乃至請求項10いずれか記載
の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11068504A JP2000267077A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 液晶表示装置および電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11068504A JP2000267077A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 液晶表示装置および電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000267077A true JP2000267077A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13375608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11068504A Withdrawn JP2000267077A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 液晶表示装置および電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000267077A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-03-15 JP JP11068504A patent/JP2000267077A/ja not_active Withdrawn
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A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20051207 |