JP2002208491A - 自己発光型表示装置 - Google Patents
自己発光型表示装置Info
- Publication number
- JP2002208491A JP2002208491A JP2001342820A JP2001342820A JP2002208491A JP 2002208491 A JP2002208491 A JP 2002208491A JP 2001342820 A JP2001342820 A JP 2001342820A JP 2001342820 A JP2001342820 A JP 2001342820A JP 2002208491 A JP2002208491 A JP 2002208491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- electrode
- self
- display device
- display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- 239000010408 film Substances 0.000 description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/878—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
ことのできる有機自己発光型表示装置を提供する。 【解決手段】 島状に形成された複数の第1電極と、第
1電極に対向して配置される第2電極と、第1電極及び
第2電極間に保持され、少なくとも有機発光層を含む有
機薄膜層を備えた複数の表示画素をマトリクス状に配置
し、第1及び第2電極のいずれか一方を光出射面とする
有機自己発光型表示装置において、第1又は第2電極の
うち、有機薄膜層を介して出射面と対向配置される側の
電極の形成面が、個々の表示画素の端辺において、光出
射面に対して、鋭角をなすよう形成されることを特徴と
する。
Description
置に関する。
液晶、有機EL(Electro Luminescence)等を用いた表
示装置は、表示部の薄型化が可能であるため、事務機器
やコンピュータ等の表示装置に限らず、その適用範囲を
拡大する傾向にある。これらの表示装置の中で、有機E
Lを用いた有機自己発光型表示装置はLCD(液晶表示
装置)と比較して次のa〜d項に示す利点を有してい
る。
広い視野角が得られ、さらに、バックライトが不要にな
ることから低消費電力化、軽量化及び薄型化が可能であ
る。 b.応答速度が速く、例えば、LCDではミリ秒(mse
c)のオーダであるのに対して有機自己発光型表示装置
ではマイクロ秒(μsec)のオーダである。 c.固層による発光であるため、使用温度範囲が広がる
可能性がある。
進められている。特に、多結晶シリコンを用いたTFT
(薄膜トランジスタ)と組み合わせることにより、高精
細表示が可能なアクティブマトリクス構成とした多結晶
シリコンTFT型有機自己発光型パネルの研究開発が盛
んに行われている。
装置を構成するアレイ基板の概略断面図を示す。陽極1
09及び陰極115間に有機発光層113を含む有機薄
膜層が保持され、この有機発光層113に電子及び正孔
を注入して再結合させることにより、励起子を生成し、
これが失活する際の光の放出を利用して発光する。
うに、多結晶シリコン層103、ゲート絶縁膜104、
ゲート電極105及びソース・ドレイン電極107でな
る駆動TFTに接続された陽極109上を開口するパッ
シベーション膜110及び隔壁絶縁膜111が形成され
ている。
表示装置の発光強度は、LCDの発光強度(100〜1
50nt)の約半分であった。また、隣接画素間でのク
ロストークの発生、特にカラー表示に際してはR,G,
Bの各色が形成される表示画素の隣接画素間で、色が混
ざりコントラストが低下していた。
なされたものであって、光出射面への光の取り出し効率
を向上させることのできる自己発光型表示装置を提供す
ることを目的とする。また、この発明は隣接画素間での
クロストークが抑えられた自己発光型表示装置を提供す
ることを目的としている。
島状に形成された複数の第1電極と、前記第1電極に対向
配置される第2電極と、前記第1および第2電極間に保持
され、少なくとも発光層を含む自己発光部を備えた複数
の表示画素をマトリクス状に配置し、前記第1および第2
電極のいずれか一方を光出射面とする自己発光表示装置
において、一表示画素から隣接する他の表示画素に向か
う光を前記光出射面側に取り出す光反射面を前記一表示
画素と前記他の表示画素間に設けたことを特徴とする。
請求項2に係る発明は、請求項1記載の自己発光型表示
装置において、前記第1電極をそれぞれ電気的に絶縁す
る隔壁をさらに備え、前記第1又は第2電極のうち、前
記発光層を介して前記光出射面と対向配置される側の電
極の形成面が、個々の前記表示画素の端辺に形成された
前記隔壁の開口の傾斜角により、光出射面に対して鋭角
をなす前記光反射面を形成することを特徴とする。
己発光型表示装置において、第2電極は、複数の表示画
素に亘って、連続して形成されることを特徴とする。
己発光型表示装置において、光出射面と対向配置される
側の電極の形成面が、個々の表示画素の端辺全周におい
て、光出射面に対して、鋭角をなすよう形成されること
を特徴とする。
己発光型表示装置において、複数の第1電極は、それぞ
れ隔壁絶縁膜により電気的に絶縁されており、隔壁絶縁
膜を覆う全面に第2電極が形成され、表示画素端辺の隔
壁絶縁膜に形成された開口の傾斜角により、第2電極が
個々の表示画素の端辺において、光出射面に対して、鋭
角をなすよう形成されることを特徴とする。
ついて図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の
第1の実施形態を示す有機自己発光型表示装置の概略平
面図、図2はその概略断面図を示す。この自己発光型表
示装置の表示領域は、図3(a)に拡大図を示すように
マトリクス状に配置された複数の表示画素1より構成さ
れており、図3(b)は1表示画素分の概略平面図であ
り、また、図4(a)は1表示画素分の概略断面図、図
4(b)はその特徴部分の拡大断面図である。
成されたアレイ基板と、アレイ基板に対向配置される対
向基板とが、窒素雰囲気中で封止されて構成される。本
実施形態において、表示面はアレイ基板側で、光は陽極
を介して外部に取り出される。
素がマトリクス状に形成される表示領域120と、基板
の2辺に配置されるX方向駆動回路121、Y方向駆動
回路123を備えた周辺領域とから構成され、各表示画
素は、図5に示すように、ソースが信号線41に接続さ
れ、ゲートがゲート線43に接続されて表示画素を選択
する画素スイッチである画素TFT44と、画素TFT
44のドレインにゲートが接続され、ソースが電流供給
線42に接続された駆動素子である駆動TFT45から
供給された電流により発光する表示素子46とを備えて
構成される。
図を示す。ここで図示されるTFTは、駆動TFTであ
り、表示画素部の一部略縦断面図である。図4(a)に
おいて、光透過性を有する基板101にアンダーコート
層102が積層され、このアンダーコート層102上に
島状に形成された多結晶シリコン層103はソース領域
103a、チャネル領域103b、ドレイン領域103
cに区画されている。この多結晶シリコン層103を含
めたアンダーコート層102の全面にゲート絶縁膜10
4が成膜され、多結晶シリコン層103のチャネル領域
103bに対応する位置にゲート絶縁膜104を介して
ゲート電極105が形成されている。また、多結晶シリ
コン層のソース領域103a、ドレイン領域103bに
それぞれ接続されるソース電極及びドレイン電極は、層
間絶縁膜106によりゲート電極と電気的に絶縁されて
いる。この層間絶縁膜106上の所定の画素領域に透明
部材、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)でなる陽極
109が島状に形成され、ドレイン電極と電気的に接続
されている。
なるパッシベーション膜110、有機材料からなる隔壁
絶縁膜111が形成され、少なくとも有機発光層113
を備えた有機薄膜層が陽極上に積層され、この有機薄膜
層を介して陽極と対向して陰極115が複数の画素に亘
って、連続して形成されている。有機薄膜層は、例え
ば、陽極バッファ層112、有機発光層113及び陰極
バッファ層114で構成され、陽極バッファ層112及
び陰極バッファ層114は、無機材料又は有機材料の積
層膜で構成される。
(a)及び(b)に示すように、隣接表示画素間に開口
を有する。つまり、各表示画素の縁端よりも内側の全周
に亘って隔壁絶縁膜111の開口(斜線領域)31が形
成され、この開口31は隔壁絶縁膜の陽極109側の壁
面を基板に対して鋭角(θ<90°)に、好ましくは4
5度以上に傾斜して形成される。これによって、横方向
に進む光すなわち図4中の光成分P2,P3を、金属膜で
なる陰極115で屈折させて表示面方向に進ませるた
め、表示パネルの発光強度が高められる。
示装置の製造方法について説明する。
ガラス基板101の一主面に、例えば、膜厚が50nm
のSiNxと膜厚が100nmのSiOxとを積層して
なるアンダーコート層102を形成し、続いて、アンダ
ーコート層102上に、例えば、膜厚50nmの多結晶
シリコン層103を形成し、これをパターニングするこ
とによって薄膜トランジスタの島領域を形成する。
ンダーコート層102の全面に、例えば、膜厚が140
nmのSiOxでなるゲート絶縁膜104を成膜し、さ
らに、ゲート絶縁膜104上に、膜厚が300nmのM
oWを堆積すると共に、これをパターニングすることに
よってゲート電極105を形成する。
極105をマスクとしてイオン注入を行うことによっ
て、多結晶シリコン層103のゲート電極の下部に位置
する領域をチャネル領域としてその両側にソース領域及
びドレイン領域を形成する。
縁膜104の全面に、例えば、膜厚が660nmのSi
Oxでなる層間絶縁膜106を成膜し、続いて、ITO
(Indium Tin Oxide)を成膜し、このITOをパターニ
ングすることによって、所定の領域に広がった島状の第
1電極として陽極109を形成する。
104を貫きソース領域、ドレイン領域に達する孔を開
け、この孔に金属膜、例えば、膜厚50nmのMoと膜
厚450nmのAlと膜厚100nmのMoの積層膜を
埋め込むことにより、ソース・ドレイン電極107を形
成する。これによって、陽極109が駆動TFTのドレ
インに接続される。
106上に、例えば、膜厚450nmのSiNxでなる
パッシベーション膜110を成膜し、陽極109の表面
が露呈する開口を設ける。さらに、陽極109の露呈面
及びパッシベーション膜110上に、絶縁性の隔壁絶縁
膜111を設け、矢印Mで示した部位、すなわち、陽極
109の表面を露呈させる第1の開口を設けると共に、
矢印Sで示した部位、すなわち、表示画素の縁端の内側
に第2の開口を形成する。この隔壁絶縁膜111の開口
は陽極109の端部を覆うように設けられ、後述する陰
極との短絡を防止する。また、矢印Sで示した部位の開
口は、図4(b)に示したように、隔壁絶縁膜111の
陽極109側の壁面111Fが基板に対して鋭角に、例
えば、θ=45°に傾斜させている。
11上に、正孔輸送層、正孔注入層等を膜厚110nmに
積層してなる陽極バッファ層112を堆積した後、膜厚
30nmの有機発光層113を積層し、さらに、電子注入
層等よりなる膜厚30nmの陰極バッファ層114を堆積
した後、全面に陰極115を形成する。
る光成分P1,P2,P3のうち、光成分P1は直接表示面
方向に進み、光成分P2,P3は隔壁絶縁膜111を通し
て横方向に進み、矢印Sで示した隔壁絶縁膜111の開
口の陽極109側の壁面における陰極115によって表
示面方向に屈折せしめられ、表示パネルの発光強度を高
めることになる。
108が配置されることがあり、この構造では配線10
8よりも内側に光成分P2,P3を屈折させる傾斜面を設
けることが望ましい。
折させる傾斜面を基板面に対して45度としたが発光強
度を高めるという観点では90°より小さい鋭角にする
だけでもかなりの効果が得られる。
又は図4(b)の矢印Sに示した部分に着目すると、光
成分P3は隔壁絶縁膜111を抜けてから、陽極バッフ
ァ層112を介して陰極115で反射され、表示面方向
に向かう。この構成によれば陽極バッファ層112の吸
収係数(吸光係数)に従って光成分P3は減衰されて表
示面方向に進むため、表示パネルの発光強度を高めると
いう観点では効率が低下する。これを防ぐためには、矢
印Sで示す隔壁絶縁膜111の開口の傾斜した壁面11
1Fに陰極115を直接被着すれば、光成分P3に対す
る陽極バッファ層112による2回に亘る減衰作用を回
避することができる。
係る有機自己発光型表示装置の第2の実施形態の表示画
素の縦断面図である。図6中、図4と同一の要素には同
一の符号を付してその説明を省略する。これは第1の実
施形態と同様に、隔壁絶縁膜111に開口を形成する際
に、矢印Sで示した部位にも陽極109側の壁面111
Fが例えば略45度をなすような第2の開口を形成す
る。ここに示した表示画素11Aは、前述の第1の開
口、つまり、陽極109上の隔壁絶縁膜で囲まれる領域
に、陽極バッファ層112、有機発光層113、陰極バ
ッファ層114が形成され、これらを覆う全面に陰極1
15が形成されている。従って、矢印Sで示した部位で
略45度に傾斜する隔壁絶縁膜111の壁面111Fに
は陰極115が直接被着される。
発光層113から横方向に進む光成分P3(及びP2)は
隔壁絶縁膜111の傾斜面で陰極115により直接反射
されるため、前述した陽極バッファ層112によって減
衰されることがなくなり、図2に示した実施形態よりも
表示パネルの発光強度を高めることができる。
隔壁絶縁膜の隣接表示画素間に開口を設け、この隔壁絶
縁膜の開口の壁面を光り出射面に対して鋭角となるよう
に形成するので、表示画素内で、光出射面と平行な方向
に漏れていた光を効率よく取り出すことが可能となる。
向する側の電極を高反射率の部材で形成し、この電極が
個々の表示画素の端部において光出射面と鋭角を成すよ
うに形成されるので、有機発光層からの発光光を効率よ
く光出射面側に取り出すことができる。
側全面に亘って形成すれば、隣接画素間への光漏れを防
止することが可能となり、クロストークを抑え、コント
ラストを向上させ、また、カラー表示の場合には隣接画
素間の混色を防止することができる。
図4又は図6に示した表示画素を3個並設して画素1を
構成し、さらに、これらの画素1をマトリクス状に多数
個配置して表示領域120とした有機自己発光パネルア
レイ100の平面図である。この場合、表示領域120
に対してガラス基板101は縦横両方とも寸法が大きく
形成され、特に図面の右側及び下側に大きくはみ出さ
せ、このうち、右側にX方向駆動回路121が搭載され
ると共に、各画素から導出される配線122に接続さ
れ、下側にY方向駆動回路123が搭載されると共に、
各画素から導出される配線124に接続される。
光パネルアレイ100を構成要素として組立てられた有
機自己発光パネルの縦断面図であり、有機自己発光パネ
ルアレイ100の表示領域120、X方向駆動回路12
1及びY方向駆動回路123を取り囲むように、その縁
端部に封止部材131が設けられている。この封止部材
131上に、その内面に、例えば、ゼオライトやBaO
等の乾燥剤132を塗着してなるガラス基板133が装
着され、さらに、内部に乾燥窒素が充填される。これに
よって図面の下方が表示面となる有機自己発光パネル2
00が構成される。そして、この有機自己発光パネル2
00によって有機自己発光型表示装置を構成することが
できる。
機発光層は例えばAlq3等の低分子系の有機発光材料を用
いて蒸着等により構成される。
9は、本発明の第3の実施形態に係る有機自己発光表示
装置のアレイ基板の概略断面図である。本実施形態にお
いては、有機発光層113は例えばポリフルオレン等の
高分子系の有機発光材料を用いてインクジェット法によ
りR,G,Bに対応して形成される。つまり、高分子系
の有機発光材料を順次吐出し、第1電極である陽極10
9上の隔壁絶縁膜111の開口に対応する位置に膜厚3
0nmの陽極バッファ層112を介して有機発光層113
が選択的に形成される。本実施形態においては、有機発
光層113は例えば膜厚80nmに形成される。このよう
に高分子系の有機発光材料を用いて有機発光層113を
形成することにより、アレイ基板の基板サイズの設計変
更に対して容易に対応することができる。また、必要な
箇所にのみ選択的に発光材料を吐出することができるの
で、材料利用効率が改善される。
9は、本願発明の第4の実施形態に係る有機自己発光表
示装置のアレイ基板の概略断面図である。本実施形態
は、駆動TFT(駆動素子)45と接続する第1電極、こ
こでは陽極109が絶縁膜116を介して駆動TFT45
のドレイン電極107bと接続するものである。このよ
うに信号線41、TFT44,45上に絶縁膜116を介
して第1電極を配置するので、第1乃至3の実施形態の
ように信号線41と第1電極とが同一平面上に配置され
る場合と比し、第1電極の配置位置の自由度を向上させ
ることができ、また発光面積を増大させることも可能と
なる。
ず、例えば図10に示すようにX方向駆動回路121か
ら供給される走査信号に基づき、Y方向駆動回路123
から供給される映像信号が書き込まれる表示画素を選択
する画素スイッチ44と、画素スイッチ44を介して信
号線41から書き込まれた映像信号を1水平走査期間保
持する第1コンデンサ47と、映像信号に基づく駆動電
流を表示素子46に供給する駆動素子45と、リセット
回路48とから構成されてもよい。
により構成され、駆動素子45はp型TFTにより構成さ
れる。また、リセット回路48は、画素スイッチのドレ
イン-駆動素子のゲート間に配置される第2コンデンサ4
8aと、駆動素子45のゲート-ドレイン間に配置される
第1スイッチ48bと、駆動素子45のドレインと表示
素子46の第1電極間に配置される第2スイッチ48cと
から構成される。
極に対向配置される第2電極、第1電極および第2電極間
に保持される自己発光部で構成される積層体をいう。
尚、自己発光部(有機薄膜層)は、各色共通に形成され
る陽極バッファ層、陰極バッファ層、及び各色毎に形成
される発光層の3層積層で構成されてもよく、機能的に
複合された2層または単層で構成されてもよい。
透明電極として光出射面側に、陰極を光反射電極として
非光出射面側に配置したが、陰極を光透過性を有する導
電膜で形成して光出射面側に、陽極を導電膜と金属層と
の積層構造にするなどして非光出射面側に配置してもよ
い。
の配置されたアレイ基板を介して外部に光を取り出す方
式の自己発光表示装置について説明したが、第2電極を
光透過性を有する導電膜で形成し、第2電極を介して外
部に光を取り出すものであってもよく、いずれの場合も
一表示画素から隣接する他の表示画素に向かう光を光出
射面側に取り出す光出射面を一表示画素と他の表示画素
との間に設けることが重要である。また、上述の実施形
態においては、隔壁絶縁膜の開口は各表示画素の全周に
わたって形成される場合について説明したが、これに限
定されず表示画素の列方向に沿ってストライプ状に形成
してもよい。特にカラー表示の場合には、R,G,Bの各色
がストライプ状に形成されていれば隣接画素間の混色を
抑制することができる。
光装置のうちエレクトロルミネセンス表示装置を例にと
り説明したがこれに限定されない。
発明によれば、光出射面への光の取り出し効率を向上さ
せることのできる自己発光型表示装置を提供することが
できる。また、本発明によれば隣接画素間でのクロスト
ークが抑えられた自己発光型表示装置を提供することが
できる。
己発光パネルアレイの構成を示す平面図。
を示す縦断面図。
の平面図及び本発明の概要を説明するための表示画素の
平面図。
実施形態を説明するために、表示画素の構成を示す縦断
面図及びその特徴部の詳細な構成を示す縦断面図。
アレイの構成要素を平面的に配置した回路図。
実施形態を説明するために、表示画素の構成を示す縦断
面図。
るための表示画素の縦断面図。
実施形態を説明するための表示画素の縦断面図。
実施形態を説明するための表示画素の縦断面図。
ルアレイの構成要素を平面的に配置した回路図。
Claims (5)
- 【請求項1】島状に形成された複数の第1電極と、前記
第1電極に対向配置される第2電極と、前記第1および第
2電極間に保持され、少なくとも発光層を含む自己発光
部を備えた複数の表示画素をマトリクス状に配置し、前
記第1および第2電極のいずれか一方が光出射面内に配置
される自己発光表示装置において、一表示画素から隣接
する他の表示画素に向かう光を前記光出射面側に取り出
す光反射面を前記一表示画素と前記他の表示画素間に設
けたことを特徴とする自己発光型表示装置。 - 【請求項2】前記自己発光型表示装置は、前記第1電極
をそれぞれ電気的に絶縁する隔壁をさらに備え、前記第
1又は第2電極のうち、前記発光層を介して前記光出射
面と対向配置される側の電極の形成面が、個々の前記表
示画素の端辺に形成された前記隔壁の開口の傾斜角によ
り、光出射面に対して鋭角をなす前記光反射面を形成す
ることを特徴とする請求項1記載の自己発光型表示装
置。 - 【請求項3】前記第2電極は、複数の前記表示画素に亘
って連続して形成されることを特徴とする請求項2記載
の自己発光型表示装置。 - 【請求項4】前記光出射面と対向配置される側の前記電
極の形成面が、個々の前記表示画素の端辺全周におい
て、光出射面に対して鋭角をなすよう形成されることを
特徴とする請求項2記載の自己発光型表示装置。 - 【請求項5】前記複数の第1電極は、それぞれ隔壁によ
り電気的に絶縁されており、前記隔壁を覆う全面に前記
第2電極が形成され、前記表示画素端辺の前記隔壁に形
成された開口の傾斜角により、前記第2電極が個々の前
記表示画素の端辺において、光出射面に対して、鋭角を
なすよう形成されることを特徴とする請求項2記載の自
己発光型表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001342820A JP3943900B2 (ja) | 2000-11-09 | 2001-11-08 | 自己発光型表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000341843 | 2000-11-09 | ||
JP2000-341843 | 2000-11-09 | ||
JP2001342820A JP3943900B2 (ja) | 2000-11-09 | 2001-11-08 | 自己発光型表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002208491A true JP2002208491A (ja) | 2002-07-26 |
JP3943900B2 JP3943900B2 (ja) | 2007-07-11 |
Family
ID=26603652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001342820A Expired - Lifetime JP3943900B2 (ja) | 2000-11-09 | 2001-11-08 | 自己発光型表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3943900B2 (ja) |
Cited By (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002229482A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2003031355A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-31 | Pioneer Electronic Corp | ディスプレイパネル |
JP2004071365A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Hitachi Ltd | 有機発光表示装置 |
JP2004117689A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Hitachi Ltd | 表示装置 |
JP2004152738A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Seiko Epson Corp | 有機elパネルおよびその製造方法、それを用いた電気光学パネル並びに電子機器 |
JP2004171943A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
JP2004259692A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-09-16 | Seiko Epson Corp | 配線基板、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2004288447A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
JP2005063787A (ja) * | 2003-08-11 | 2005-03-10 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
JP2005158708A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置 |
US6909124B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
JP2005251769A (ja) * | 2005-06-01 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
US6958490B2 (en) | 2002-12-27 | 2005-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
JP2005302707A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-10-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2005534145A (ja) * | 2002-07-23 | 2005-11-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | エレクトロルミネセントディスプレイ及びこのようなディスプレイを有する電子デバイス |
KR100611159B1 (ko) | 2003-11-29 | 2006-08-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계 발광표시장치 |
KR100611152B1 (ko) * | 2003-11-27 | 2006-08-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 |
JP2006294490A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Sony Corp | 表示装置および表示装置の製造方法 |
KR100691690B1 (ko) | 2003-11-07 | 2007-03-09 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 발광 장치, 발광 장치의 제조 방법, 및 전자 기기 |
JP2007101713A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置 |
KR100736577B1 (ko) * | 2006-04-07 | 2007-07-06 | 엘지전자 주식회사 | 전계발광소자 및 그 제조방법 |
KR100741962B1 (ko) | 2003-11-26 | 2007-07-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 |
US7260135B2 (en) | 2003-09-26 | 2007-08-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US7402948B2 (en) | 2002-04-26 | 2008-07-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
JP2008218428A (ja) * | 2008-04-28 | 2008-09-18 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
US7449724B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
US7482182B2 (en) | 2002-04-24 | 2009-01-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US7502392B2 (en) | 2003-09-12 | 2009-03-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser oscillator |
US7508128B2 (en) | 2002-08-29 | 2009-03-24 | Seiko Epson Corporation | Electroluminescent device with barrier layer structure, method for manufacturing the same, and electronic apparatus |
US7579771B2 (en) | 2002-04-23 | 2009-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
JP2011191739A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-29 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス装置 |
KR20120004163A (ko) * | 2010-07-06 | 2012-01-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드 표시장치 및 그의 제조방법 |
WO2013186919A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | パイオニア株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
JP2014102976A (ja) * | 2012-11-20 | 2014-06-05 | Japan Display Inc | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
US8779658B2 (en) | 2002-10-25 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus |
US9166202B2 (en) | 2002-06-07 | 2015-10-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
JP2016085990A (ja) * | 2004-03-16 | 2016-05-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
KR20170010172A (ko) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 |
KR20170079336A (ko) * | 2015-12-30 | 2017-07-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드표시장치 |
JP2022177016A (ja) * | 2004-09-16 | 2022-11-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04306589A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-29 | Sharp Corp | 薄膜elパネル |
JPH07272859A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Nippondenso Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
WO1998012689A1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-03-26 | Seiko Epson Corporation | Matrix type display device and method of production thereof |
JP2000357584A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-12-26 | Seiko Epson Corp | 発光素子用回路基板、電子機器および表示装置 |
JP2001507503A (ja) * | 1996-12-23 | 2001-06-05 | ザ トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシテイ | 光反射構造体を備える発光体 |
-
2001
- 2001-11-08 JP JP2001342820A patent/JP3943900B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04306589A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-29 | Sharp Corp | 薄膜elパネル |
JPH07272859A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Nippondenso Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
WO1998012689A1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-03-26 | Seiko Epson Corporation | Matrix type display device and method of production thereof |
JP2001507503A (ja) * | 1996-12-23 | 2001-06-05 | ザ トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシテイ | 光反射構造体を備える発光体 |
JP2000357584A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-12-26 | Seiko Epson Corp | 発光素子用回路基板、電子機器および表示装置 |
Cited By (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002229482A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2003031355A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-31 | Pioneer Electronic Corp | ディスプレイパネル |
US9978811B2 (en) | 2002-04-23 | 2018-05-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US7579771B2 (en) | 2002-04-23 | 2009-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US9287330B2 (en) | 2002-04-23 | 2016-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US8519619B2 (en) | 2002-04-23 | 2013-08-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US9165987B2 (en) | 2002-04-24 | 2015-10-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US7482182B2 (en) | 2002-04-24 | 2009-01-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US10454059B2 (en) | 2002-04-24 | 2019-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US9831459B2 (en) | 2002-04-24 | 2017-11-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display module with white light |
US9362534B2 (en) | 2002-04-24 | 2016-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US9000429B2 (en) | 2002-04-24 | 2015-04-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US9853098B2 (en) | 2002-04-26 | 2017-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method of the same |
US9412804B2 (en) | 2002-04-26 | 2016-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method of the same |
US7402948B2 (en) | 2002-04-26 | 2008-07-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US9166202B2 (en) | 2002-06-07 | 2015-10-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
US6909124B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US7663142B2 (en) | 2002-06-28 | 2010-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and method of manufacturing the same |
JP2005534145A (ja) * | 2002-07-23 | 2005-11-10 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | エレクトロルミネセントディスプレイ及びこのようなディスプレイを有する電子デバイス |
JP2004071365A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Hitachi Ltd | 有機発光表示装置 |
US7508128B2 (en) | 2002-08-29 | 2009-03-24 | Seiko Epson Corporation | Electroluminescent device with barrier layer structure, method for manufacturing the same, and electronic apparatus |
JP2004117689A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Hitachi Ltd | 表示装置 |
US9450204B2 (en) | 2002-10-25 | 2016-09-20 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus |
US9065074B2 (en) | 2002-10-25 | 2015-06-23 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus |
US8779658B2 (en) | 2002-10-25 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus |
JP2004152738A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Seiko Epson Corp | 有機elパネルおよびその製造方法、それを用いた電気光学パネル並びに電子機器 |
JP2004171943A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
US6958490B2 (en) | 2002-12-27 | 2005-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
US7554128B2 (en) | 2002-12-27 | 2009-06-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
US7177136B2 (en) | 2003-02-06 | 2007-02-13 | Seiko Epson Corporation | Wiring board, electro-optical device, method of manufacturing the electro-optical device, and electronic instrument |
JP2004259692A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-09-16 | Seiko Epson Corp | 配線基板、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2004288447A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
JP2005063787A (ja) * | 2003-08-11 | 2005-03-10 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
US7502392B2 (en) | 2003-09-12 | 2009-03-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser oscillator |
US7449724B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
US8867585B2 (en) | 2003-09-12 | 2014-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser oscillator |
US8059692B2 (en) | 2003-09-12 | 2011-11-15 | Semiconductor Energy Labortory Co., Ltd. | Laser oscillator |
US7260135B2 (en) | 2003-09-26 | 2007-08-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
KR100691690B1 (ko) | 2003-11-07 | 2007-03-09 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 발광 장치, 발광 장치의 제조 방법, 및 전자 기기 |
JP2005158708A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置 |
KR100741962B1 (ko) | 2003-11-26 | 2007-07-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 |
US8063550B2 (en) | 2003-11-26 | 2011-11-22 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display with taper reducing layer |
CN100423284C (zh) * | 2003-11-27 | 2008-10-01 | 三星Sdi株式会社 | 平面显示器 |
KR100611152B1 (ko) * | 2003-11-27 | 2006-08-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 |
US7656087B2 (en) | 2003-11-27 | 2010-02-02 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display |
US7936125B2 (en) | 2003-11-27 | 2011-05-03 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display |
JP2008047540A (ja) * | 2003-11-29 | 2008-02-28 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置 |
KR100611159B1 (ko) | 2003-11-29 | 2006-08-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계 발광표시장치 |
JP2016085990A (ja) * | 2004-03-16 | 2016-05-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
JP2005302707A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-10-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置 |
JP2022177016A (ja) * | 2004-09-16 | 2022-11-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
JP2006294490A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Sony Corp | 表示装置および表示装置の製造方法 |
JP2005251769A (ja) * | 2005-06-01 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
JP2007101713A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置 |
KR100736577B1 (ko) * | 2006-04-07 | 2007-07-06 | 엘지전자 주식회사 | 전계발광소자 및 그 제조방법 |
JP2008218428A (ja) * | 2008-04-28 | 2008-09-18 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置 |
US8461577B2 (en) | 2010-02-16 | 2013-06-11 | Japan Display Central Inc. | Organic EL device |
JP2011191739A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-29 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス装置 |
KR20120004163A (ko) * | 2010-07-06 | 2012-01-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드 표시장치 및 그의 제조방법 |
KR101686098B1 (ko) * | 2010-07-06 | 2016-12-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드 표시장치 및 그의 제조방법 |
WO2013186919A1 (ja) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | パイオニア株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
JP2014102976A (ja) * | 2012-11-20 | 2014-06-05 | Japan Display Inc | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
KR20170010172A (ko) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 |
KR102523534B1 (ko) * | 2015-07-15 | 2023-04-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 |
KR20170079336A (ko) * | 2015-12-30 | 2017-07-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드표시장치 |
KR102593711B1 (ko) * | 2015-12-30 | 2023-10-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광다이오드표시장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3943900B2 (ja) | 2007-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002208491A (ja) | 自己発光型表示装置 | |
KR100537473B1 (ko) | 자기발광형 표시장치 | |
TWI679764B (zh) | 電致發光顯示裝置 | |
KR100895313B1 (ko) | 유기 발광 표시판 | |
CN100530752C (zh) | 有机电致发光器件及其制造方法 | |
US7164230B2 (en) | Dual panel-type organic electroluminescent display device and method for fabricating the same | |
KR101994816B1 (ko) | 투명 유기발광소자 | |
CN100485994C (zh) | 有机电致发光器件及其制造方法 | |
CN103811675B (zh) | 柔性有机电致发光装置及其制造方法 | |
KR101864332B1 (ko) | 유기발광소자 | |
US20150014658A1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
US7535166B2 (en) | Organic EL display | |
KR100984362B1 (ko) | 유기 발광 표시판 | |
JP2017152328A (ja) | 表示装置 | |
JP2017157314A (ja) | 表示装置 | |
US8193703B2 (en) | Organic light emitting diode display that directs reflected light to improve visibility | |
KR100705819B1 (ko) | 전계발광소자의 제조방법 및 전계발광소자 | |
KR101352121B1 (ko) | 유기 전계 발광 표시 패널 및 그의 제조 방법 | |
JP4540303B2 (ja) | エレクトロルミネッセンス表示装置 | |
JP2005128310A (ja) | 表示装置、及び電子機器 | |
JP2008108680A (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
KR101096719B1 (ko) | 유기 전계발광소자 및 그 제조방법 | |
US20070222377A1 (en) | Image display apparatus | |
US20240260410A1 (en) | Organic light-emitting diode display device and method of manufacturing the same | |
KR101057776B1 (ko) | 유기전계발광소자 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041101 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050414 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050606 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070202 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070403 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070406 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3943900 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100413 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100413 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100413 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100413 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110413 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120413 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130413 Year of fee payment: 6 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130413 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140413 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |