JP2000216333A - 積層半導体パッケ―ジ及びその製造方法、並びに積層半導体パッケ―ジ製造用アライニングジグ - Google Patents
積層半導体パッケ―ジ及びその製造方法、並びに積層半導体パッケ―ジ製造用アライニングジグInfo
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims abstract description 79
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
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- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49503—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
- H01L23/4951—Chip-on-leads or leads-on-chip techniques, i.e. inner lead fingers being used as die pad
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- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/10—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
- H01L25/105—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/4826—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73215—Layer and wire connectors
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1017—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
- H01L2225/1029—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being a lead frame
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being integrated devices of class H10
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- H01L2225/1047—Details of electrical connections between containers
- H01L2225/1058—Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
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- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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Abstract
を向上し得る積層半導体パッケージ及びその製造方法、
並びに積層半導体パッケージを製造するときに利用され
る積層半導体パッケージ製造用アライニングジグを提供
する。 【解決手段】成形部36の外側まで延長されたリード3
3を有する第1型単層パッケージP1上に、成形部13
6の下面に露出されたリード133を有する第2型単層
パッケージP2を実装する。第1型単層パッケージP1
のリード33の露出された上面33dと、第2型単層パ
ッケージP2のリード133の露出された下面133d
とをソルダーを用いて接続させる。
Description
及びその製造方法に関する。より詳しくは、システム機
器上の占有面積を拡大せずに半導体チップの実装密度を
向上し得る積層半導体パッケージ及びその製造方法、並
びに該積層半導体パッケージの製造時に利用される積層
半導体パッケージ製造用アライニングジグに関する。
性能化に対応するために、高集積化のための3次元パッ
ケージとしての積層半導体パッケージに関する研究が盛
んに行われている。
としては、従来よりTSOP(ThinSmall Outline Pack
age)パッケージを積層したパッケージが常用され、こ
のようなTSOPパッケージは、従来の標準パッケージ
と比較して、平面積は同様であるが、厚さにおいては1
/2に薄くなっている。
いて図13に基づいて説明する。即ち、従来の積層半導
体パッケージTは、個別パッケージPが複数の層(図面
では4層)に積層されて、各個別パッケージPはそれぞ
れU字状の外部リード1を有し、それら外部リード1の
うち、同一コラムに位置する外部リード1がそれぞれ同
一のレール2に連結されているので、それら同一コラム
に位置する外部リード1と印刷回路基板(図示せず)と
の間の信号の入出力は、レール2を介して行われるよう
になっている。
うに、各レール2の内側には各個別パッケージPの一側
にそれぞれ埋設された外部リード1の端部に形成された
突成部に対応するスロット若しくはリセス4が複数形成
され、各レール2の最上部には略直角に屈曲された後水
平方向に延長された延長部5が形成され、該延長部5の
下面には下面部5aが形成されている。そして、各個別
パッケージPの各外部リード1が、その対応のレール2
の対応のスロット4にそれぞれ係合固定されるととも
に、延長部5の下面部5aが複数層に積層された個別パ
ッケージPの最上層の個別パッケージPの上面Paに接
着剤により接着されて、積層された個別パッケージP
は、レール2及び延長部5により個別に分離されないよ
うに締結されている。
導体パッケージの製造方法について説明する。先ず、内
側に所定間隔を有してスロット4が複数切刻形成され、
最上部に水平方向に延長部5が屈曲形成されたレール2
を複数準備する。
るリードフレーム上に半導体チップを付着するダイ接着
工程と、前記半導体チップ上面のパッドと前記内部リー
ドとをワイヤで接続するワイヤリング工程と、前記半導
体チップ、ワイヤ及び内部リードを成形樹脂により密封
する成形工程と、前記外部リードの形状をU字状に変形
させるフォーミング工程と、を順次行って個別パッケー
ジPを製造する。
を積層して接着剤により接着し、その後、積層された各
個別パッケージPの各外部リード1を、その対応のレー
ル2の対応のスロット4にそれぞれ係合させた後、該レ
ール2の最上部の延長部5の下面部5aを前記積層され
た個別パッケージPの最上面に付着させる。
複数の個別パッケージPの各外部リード1とその対応の
レール2とを、ソルダー液の充填されたソルダーペイス
トボックスに浸漬して、各外部リード1の端部にソルダ
ー液を塗布し(ソルダー浸漬工程)、その後、各外部リ
ード1の端部についたソルダーをリフローし、各外部リ
ード1とその対応のレール2とが互いに分離しないよう
に接着して、従来の積層半導体パッケージの製造を終了
していた。
うな従来の積層半導体パッケージにおいては、印刷回路
基板上の外部回路と半導体チップとの間の信号の入出力
動作がレール2を介して行われていたため、積層半導体
パッケージPの外部リード1の数が増えると、リードピ
ッチが縮小されて各レール2間の距離が短くなり、かか
る状態でソルダー浸漬工程を行うと、隣接するレール2
同士がソルダー液によりショートされ、半導体素子の信
号の入出力動作が正常に行われず、パッケージの不良発
生率が高くなるという不都合な点があった。
造工程においては、各外部リード1をその対応のレール
2にそれぞれ係合する作業が自動化が不可能なため手作
業で行われており、パッケージの組立工程が煩雑にな
り、原価が上昇するという不都合な点もあった。
のレール2との接着はソルダーによりなされるため、パ
ッケージの組立用の材料(ソルダー)の消耗が多くなっ
て、製造費用が上昇するという不都合な点もあった。
なされたもので、不良発生率を抑えて生産性を高め、廉
価で、狭いリードピッチにも対応し得る積層半導体パッ
ケージ及びその製造方法を提供することを目的とする。
ージを製造するときに用いられる簡便な積層半導体パッ
ケージ製造用アライニングジグを提供することを他の目
的とする。
ded package)型パッケージを利用する積層半導体パッケ
ージを提供することである。
るため、本発明に係る積層半導体パッケージは、上面中
央部に複数の第1のパッドが形成された第1の半導体チ
ップと、一方の端部がその対応の前記第1のパッドの外
側の前記第1の半導体チップの上面に付着され、前記第
1の半導体チップの外側に延伸する複数の第1のリード
と、前記各第1のリードの一方の端部とその対応の前記
第1のパッドとをそれぞれ接続する複数の第1のワイヤ
と、前記第1の半導体チップ、第1のリードの付着部及
び第1のワイヤを含んで包囲するとともに前記第1のリ
ードの露出部を形成する第1の成形部と、を備えて構成
された第1型単層パッケージと、下面中央部に複数の第
2のパッドが形成された第2の半導体チップと、一方の
端部がその対応の前記第2のパッドの外側の前記第2の
半導体チップの下面に付着され、該付着部より外向きに
下方ヘ延伸する複数の第2のリードと、前記各第2のリ
ードの一方の端部とその対応の前記第2のパッドとをそ
れぞれ接続する複数の第2のワイヤと、前記第2の半導
体チップ、第2のリードの付着部及び第2のワイヤを含
んで包囲するとともに前記第2のリードの露出部を形成
する第2の成形部と、を備えて構成された第2型単層パ
ッケージと、を含んで構成され、前記第1型単層パッケ
ージ上に前記第2型単層パッケージが積層され、前記各
第1のリードの露出部の上面と、その対応の前記第2の
リードの露出部の下面との間にソルダーがそれぞれ形成
されてなることを特徴とする。
半導体チップとの付着部より上方に延伸して前記第1の
成形部の上面に露出される平坦面を形成するとともに、
前記第2のリードが、前記第2の成形部の下面に露出さ
れる平坦面を形成し、前記ソルダーが、前記第1のリー
ドの平坦面と前記第2のリードの平坦面との間に形成さ
れてもよい。
に係る積層半導体パッケージの製造方法は、第1の半導
体チップの上面中央部に複数の第1のパッドを形成し、
一方の端部を対応の前記第1のパッドの外側の前記第1
の半導体チップの上面にそれぞれ付着して前記第1の半
導体チップの外側に延伸する複数の第1のリードを形成
し、前記各第1のリードの一方の端部とその対応の前記
第1のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、前記第1の
半導体チップ、第1のリードの付着部及び第1のワイヤ
を含んで包囲しつつ前記第1のリードの露出部を残すよ
うに成形部を形成して第1型単層パッケージを製造する
工程と、第2の半導体チップの下面中央部に複数の第2
のパッドを形成し、一方の端部を対応の前記第2のパッ
ドの外側の前記第2の半導体チップの下面にそれぞれ付
着して該付着部より下向きに下方へ延伸する複数の第2
のリードを形成し、前記各第2のリードの一方の端部と
その対応の前記第2のパッドとをワイヤでそれぞれ接続
し、前記第2の半導体チップ、第2のリードの付着部及
び第2のワイヤを含んで包囲しつつ前記第2のリードの
露出部を残すように成形部を形成して第2型単層パッケ
ージを製造する工程と、前記各第2のリードの露出部の
下面にソルダーボールをそれぞれ付着させる工程と、前
記第1型単層パッケージ上に前記第2型単層パッケージ
を実装する工程と、前記ソルダーボールをリフローし、
前記各第1のリードの露出部の上面と、その対応の前記
第2のリードの露出部の下面との間にソルダーをそれぞ
れ形成する工程と、を含んで構成される。
際に、前記各第2のリードの露出部の下面にフラックス
をそれぞれ塗布し、該フラックスが塗布された第2型単
層パッケージをソルダーボールボックスに浸漬するのが
好ましい。
型単層パッケージの成形部がソルダーレジストであるの
が好ましい。さらに、前記第1型単層パッケージ上に前
記第2型単層パッケージを実装する際に、前記第1型単
層パッケージの成形部の上面に接着剤を塗布した後実装
することもできる。
時に利用される積層半導体パッケージ製造用アライニン
グジグは、所定高さを有する略板状の絶縁性の本体と、
該本体の上面に開口する複数のキャビティと、前記各キ
ャビティの底部略中央にそれぞれ接続して前記本体を上
下方向に貫通する複数の貫通口と、前記各貫通口にそれ
ぞれ嵌合された複数の所定高さの柱状部材と、前記本体
の長手方向の両端部上面にそれぞれ立設された複数のア
ライン棒と、を備えて構成されたサブストレートと、略
板状のマスク本体と、前記各キャビティに対応して前記
マスク本体を上下方向にそれぞれ貫通する複数の開放部
と、前記各アライン棒をそれぞれ受ける複数のアライン
ホールと、を備えて構成されたアラインマスクと、を含
んで構成され、前記サブストレート上に前記アラインマ
スクが配置されてなることを特徴とする。
製造方法は、所定高さを有する略板状の絶縁性の本体
に、該本体の上面に開口する複数のキャビティを形成
し、前記各キャビティの底部略中央にそれぞれ接続する
ように前記本体を上下方向に貫通する複数の貫通口を形
成し、前記各貫通口に所定高さの柱状部材をそれぞれ嵌
合し、前記本体の長手方向の両端部の上面にアライン棒
をそれぞれ立設してサブストレートを構成するととも
に、略板状のマスク本体に、前記各キャビティに対応し
て上下方向にそれぞれ貫通する複数の開放部と、前記各
アライン棒をそれぞれ受ける複数のアラインホールとを
形成してアラインマスクを構成し、前記サブストレート
上に前記アラインマスクを配置して積層半導体パッケー
ジ製造用アライニングジグを準備する工程と、第1の半
導体チップの上面中央部に複数の第1のパッドを形成
し、一方の端部を対応の前記第1のパッドの外側の前記
第1の半導体チップの上面にそれぞれ付着して前記第1
の半導体チップの外側に延伸する複数の第1のリードを
形成し、前記各第1のリードの一方の端部とその対応の
前記第1のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、前記第
1の半導体チップ、第1のリードの付着部及び第1のワ
イヤを含んで包囲しつつ前記第1のリードの露出部を残
すように成形部を形成して第1型単層パッケージを準備
する工程と、前記第1型単層パッケージを、前記サブス
トレートのキャビティ内に配置させる工程と、第2の半
導体チップの下面中央部に複数の第2のパッドを形成
し、一方の端部を対応の前記第2のパッドの外側の前記
第2の半導体チップの下面にそれぞれ付着して該付着部
より外向きに下方へ延伸する複数の第2のリードを形成
し、前記各第2のリードの一方の端部とその対応の前記
第2のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、前記第2の
半導体チップ、第2のリードの付着部及び第2のワイヤ
を含んで包囲しつつ前記第2のリードの露出部を残すよ
うに成形部を形成して第2型単層パッケージを準備する
工程と、前記各第2のリードの露出部の下面にソルダー
ボールをそれぞれ付着させる工程と、前記第2型単層パ
ッケージを前記アラインマスクの開放部内に配置させ、
前記第1型単層パッケージ上に実装する工程と、前記ソ
ルダーボールをリフローし、前記各第1のリードの露出
部の上面とその対応の前記第2のリードの露出部の下面
との間にソルダーをそれぞれ形成する工程と、を含んで
構成される。
面を用いて説明する。本発明の第1の実施形態に係る積
層半導体パッケージPは、図1に示したように、第1型
単層パッケージP1上に第2型単層パッケージP2が積
層されて構成される。ここで、第1型単層パッケージP
1のリード33の最上部に形成された平坦部33cの上
面33dと、第2型単層パッケージP2のリード133
の一端において基板付着部を形成する平坦部133bの
下面133dとは、ソルダー30を介して接続されてい
る。尚、第1型単層パッケージP1及び第2型単層パッ
ケージP2の接着強度を高めるために、第1型単層パッ
ケージP1の成形部36の上面と、第2型単層パッケー
ジP2の成形部136の下面とは、接着剤により接着さ
れている。
ッケージPを構成する各単層パッケージP1及びP2に
ついて説明する。先ず、第1型単層パッケージP1につ
いて説明する。図2(A)及び図2(B)に示したよう
に、半導体チップ31の上面略中央に複数のパッド32
が形成されている。これらのパッド32より外側の半導
体チップ31の上面には、各パッド32に対応させて複
数のリード33の一端が付着し、各リード33の一端と
その対応のパッド32とは、ワイヤ34によりそれぞれ
接続されている。ここに、半導体チップ31、リード3
3の一部及びワイヤ34が成形部36により覆われて密
封され、リード33のうち成形部36の内側の部分が内
部リード33aを構成し、成形部36の外側の部分が外
部リード33bを構成する。また、外部リード33bは
平坦部33cの端部を含んでおり、その上面が成形部3
6から露出する外部リード33bの最上面を形成してい
る。
との付着部より外向きに屈曲延長され、最上部において
半導体チップ31の外側まで延伸する平坦部33cを形
成し、さらに屈曲されて略J字状をなし、略J字状の端
部を備える外部リード33bを形成している。このよう
な略J字状の端部を備える外部リード33bを有する半
導体パッケージは、従来の積層半導体パッケージに用い
られたL字状、またはガルウイング(gullwing)型の外
部リードを有する半導体パッケージに比べて印刷回路基
板への実装が容易であるので、本発明においては第1型
単層パッケージP1としてこのような略J字状の端部を
備える外部リード33bを有する半導体パッケージを利
用して、完成された積層半導体パッケージPの下層に位
置させるようにしている。
は、次のようになる。即ち、上面に複数のパッド32を
備える半導体チップ31を準備し、半導体チップ31の
上面の所定部位に各パッド32に対応させて複数のリー
ド33をそれぞれ載置し、各パッド32とその対応のリ
ード33とをワイヤ34によりそれぞれ接続した後、成
形法を施して成形部36を形成して半導体チップ31、
リード33の一部及びワイヤ34を密封して、製造を終
了する。
する。図3(A)及び図3(B)に示したように、半導
体チップ131の下面略中央に複数のパッド132が形
成されている。リード133は屈曲形成されて略S字状
をなし、一側に形成されたチップ付着部としての平坦部
133a、他側に形成された基板付着部としての平坦部
133b及びこれらの2つの平坦部133a及び133
bを連結する連結部133cを形成する。リード133
は、平坦部133aの上面が半導体チップ131の下面
に付着されている一方、平坦部133bが半導体チップ
131の外側まで延伸している。また、リード133の
平坦部133aの一方の端部とその対応のパッド132
とがワイヤ134によりそれぞれ接続されている。ここ
に、半導体チップ131、リード133の平坦部133
a及び連結部133c、及びワイヤ134が成形部13
6により覆われて密封され、成形部136の下面136
aとリード133の平坦部133bの下面133dとが
一平面内に含まれている。
ジP2は、成形部136の下面136aに露出された平
坦部133bの下面133dが外部リードの機能を備え
ているため、BLP(Bottom leaded package) とも称
す。BLPの製造方法については、米国特許53632
79号に記載されている。
Pの製造方法について説明する。先ず、積層半導体パッ
ケージPを製造するときに用いられる積層半導体パッケ
ージ製造用アライニングジグ(以下、ジグという)70
の製造方法から説明する。
に、パッケージアライン用サブストレート(以下、サブ
ストレートという。)50が構成される。サブストレー
ト50は、絶縁性物質からなる本体51に、複数のキャ
ビティ53が切刻形成されてなる。各キャビティ53の
長さ、幅及び深さは、第1型単層パッケージP1の外形
の寸法と略同一に設定される。また、各キャビティ53
の底部略中央には本体51を上下方向に貫通する角柱状
の貫通口57がそれぞれ接続され、各貫通口57にはキ
ャビティ53に収納される第1型単層パッケージP1を
支持するための所定高さの柱状部材55がそれぞれ嵌合
されている。柱状部材55は、第1型単層パッケージP
1の外部リード33bの撓みを防止して、外部リード3
3bがキャビティ53の底面に接触しないようにパッケ
ージの底面を支える。また、柱状部材55は軸方向に貫
通されており、柱状部材55が図示しない真空ポンプと
連結されて、キャビティ53に収納されたパッケージ
(例えば、P1)が柱状部材55内に生成される真空に
より柱状部材55上に固定される。本体51の長手方向
の両端部の上面には、複数のアライン棒59がそれぞれ
立設されている。
ように、サブストレート50の上方に載置されるアライ
ンマスク60が構成される。即ち、アラインマスク60
は、サブストレート50に対応させて形成されたマスク
本体61に、該マスク本体61を貫通するように穿孔形
成された複数の開放部63と、アラインマスク60をサ
ブストレート50上に固定するときに位置合わせのため
に使用される、穿孔形成された複数のアラインホール6
5と、を形成して構成される。開放部63は、サブスト
レート50のキャビティ53に対応させつつ、使用され
るパッケージ、例えば第2型単層パッケージP2(BL
P)の外形寸法と略同一の寸法に形成されている。アラ
インホール65は、アライン棒59に対応させて穿孔形
成されている。
ート50の各アライン棒59がアラインマスク60の対
応するアラインホール65にそれぞれ挿入され、各アラ
イン棒59の上部にラッキング(locking)機構67がそ
れぞれ嵌合されてサブストレート50とアラインマスク
60とが安定して固定され、ジグ70の製造が終了され
る。
造する工程中、上下に積層された個別パッケージを動か
ないようにしっかりと固定する。以下に、本発明の第1
の実施形態に係る積層半導体パッケージPの製造方法
を、図7〜図11に基づいて説明する。
ャビティ53に開口する貫通口57に嵌合された柱状部
材55上に、第1型単層パッケージP1を載置する。そ
して、柱状部材55に連結された図示しない真空吸入器
を作動させ、第1型単層パッケージP1の底面に真空を
作用させて、これを動かないように固定する。
パッケージP2のリード133の平坦部下面133dに
フラックス71を塗布する。次いで、図9に示したよう
に、フラックス71の塗布された第2型単層パッケージ
P2を、真空吸入器72を用いて複数のソルダーボール
73が収容されたソルダーボールボックス74に浸漬
し、リード133の平坦部下面133dにソルダーボー
ル73を付着させる。
層パッケージP2をアラインマスク60の開放部63に
挿入して第1型単層パッケージP1上に実装した後ソル
ダーボール73のリフロー工程を行い、第1型単層パッ
ケージP1のリード33の平坦部上面33dと、第2型
単層パッケージP2のリード133の平坦部下面133
dとを、ソルダーにより接続する。
を除去して、本発明の第1の実施形態に係る積層半導体
パッケージPの製造を終了する。また、本発明の第2の
実施形態に係る積層半導体パッケージP’は、図12に
示したように構成される。即ち、積層半導体パッケージ
P’の第1型単層パッケージP1’においては、リード
33’が、平坦部33c’の上面が成形部36’の上面
に露出されてなる平坦面43を形成している。その他
は、上述した第1の実施形態に係る積層半導体パッケー
ジPと同様に構成されている。
形態に係る積層半導体パッケージP’は、第1型単層パ
ッケージP1’のリード33’と第2型単層パッケージ
P2のリード133との接触面積が大きいので、第1の
実施形態に係る積層半導体パッケージPよりも接触性の
点で優れる。
半導体パッケージPの単層パッケージP1及びP2、ま
たは第2の実施形態に係る積層半導体パッケージP’の
単層パッケージP1’及びP2間の接着力を向上させる
ために、図7の工程が終了した後に、第1型単層パッケ
ージP1或いはP1’の成形部36或いは36’の上面
に接着剤を塗布する工程を追加することもできる。
形部36,136の表面には、ソルダーが付着しにくい
性質のレジストが形成されるのが好ましい。または、各
成形部36,136の材料そのものがソルダーレジスト
であっても良い。その理由は、図9の工程においてリー
ド133の平坦部下面133dにソルダーボール73を
付着するときに、ソルダーボール73が平坦部下面13
3dだけでなく成形部136にも付着し、付着したソル
ダーボール73が図10のリフロー工程時に溶融されて
各リード間の短絡を起こす可能性があるからである。そ
こで、各成形部36,136をソルダーレジストにより
形成することで、ソルダーボール73がリフローされて
も各成形部36,136に溶融されたソルダーが付着し
ないようにして、リード同士の短絡現象を防止する。
半導体パッケージは、ソルダーペイストの浸漬工程を行
わず、フラックスにより付着領域が限定されるソルダー
ボールを使用して製造できるため、リードピッチが短縮
された場合にあっても隣接するリードが互いに接続され
ることがない。このため、パッケージの不良発生率を著
しく低減することができ、生産性を向上し得るという効
果がある。
は、全工程が自動化可能であり、手作業を行わずに製造
できるので、パッケージの組立てを迅速化して生産性を
向上し、パッケージの原価を低減し得るという効果があ
る。
ジは、レール等を使用する必要がないうえ、ソルダーの
使用量を最小限に抑えることができるため、従来の積層
半導体パッケージに比べて材料費用が低減され、パッケ
ージの組立コストを低減し得るという効果がある。
ジを示す断面図
層パッケージを示す図
層パッケージを示す図
ジ製造用アライニングジグを構成するサブストレートを
示す図
ジの製造工程Aを示す図
ケージを示す断面図
図
ケージ P2:第2型単層パッケージ 1:外部リード 2:レール 3:縁部 4:スロット(リセ
ス) 5:延長部 30:ソルダー 31:半導体チップ 32:パッド 33:リード 34:ワイヤ 36:成形部 131:半導体チップ 132:パッド 133:リード 134:ワイヤ 136:成形部 50:サブストレート 51:本体 53:キャビティ 55:柱状部材 57:貫通口 59:アライン棒 60:アラインマスク 61:マスク本体 63:開放部 65:アラインホー
ル 70:ジグ 71:フラックス 73:ソルダーボール 133a:チップ付着部 133b:基板付着部 133c:連結部
Claims (8)
- 【請求項1】上面中央部に複数の第1のパッドが形成さ
れた第1の半導体チップと、一方の端部がその対応の前
記第1のパッドの外側の前記第1の半導体チップの上面
に付着され、前記第1の半導体チップの外側に延伸する
複数の第1のリードと、前記各第1のリードの一方の端
部とその対応の前記第1のパッドとをそれぞれ接続する
複数の第1のワイヤと、前記第1の半導体チップ、第1
のリードの付着部及び第1のワイヤを含んで包囲すると
ともに前記第1のリードの露出部を形成する第1の成形
部と、を備えて構成された第1型単層パッケージと、 下面中央部に複数の第2のパッドが形成された第2の半
導体チップと、一方の端部がその対応の前記第2のパッ
ドの外側の前記第2の半導体チップの下面に付着され、
該付着部より外向きに下方ヘ延伸する複数の第2のリー
ドと、前記各第2のリードの一方の端部とその対応の前
記第2のパッドとをそれぞれ接続する複数の第2のワイ
ヤと、前記第2の半導体チップ、第2のリードの付着部
及び第2のワイヤを含んで包囲するとともに前記第2の
リードの露出部を形成する第2の成形部と、を備えて構
成された第2型単層パッケージと、を含んで構成され、 前記第1型単層パッケージ上に前記第2型単層パッケー
ジが積層され、前記各第1のリードの露出部の上面と、
その対応の前記第2のリードの露出部の下面との間にソ
ルダーがそれぞれ形成されてなることを特徴とする積層
半導体パッケージ。 - 【請求項2】前記第1のリードが、前記第1の半導体チ
ップとの付着部より上方に延伸して前記第1の成形部の
上面に露出される平坦面を形成するとともに、前記第2
のリードが、前記第2の成形部の下面に露出される平坦
面を形成し、前記ソルダーが、前記第1のリードの平坦
面と前記第2のリードの平坦面との間に形成されてなる
ことを特徴とする請求項1記載の積層半導体パッケー
ジ。 - 【請求項3】第1の半導体チップの上面中央部に複数の
第1のパッドを形成し、一方の端部を対応の前記第1の
パッドの外側の前記第1の半導体チップの上面にそれぞ
れ付着して前記第1の半導体チップの外側に延伸する複
数の第1のリードを形成し、前記各第1のリードの一方
の端部とその対応の前記第1のパッドとをワイヤでそれ
ぞれ接続し、前記第1の半導体チップ、第1のリードの
付着部及び第1のワイヤを含んで包囲しつつ前記第1の
リードの露出部を残すように成形部を形成して第1型単
層パッケージを製造する工程と、 第2の半導体チップの下面中央部に複数の第2のパッド
を形成し、一方の端部を対応の前記第2のパッドの外側
の前記第2の半導体チップの下面にそれぞれ付着して該
付着部より下向きに下方へ延伸する複数の第2のリード
を形成し、前記各第2のリードの一方の端部とその対応
の前記第2のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、前記
第2の半導体チップ、第2のリードの付着部及び第2の
ワイヤを含んで包囲しつつ前記第2のリードの露出部を
残すように成形部を形成して第2型単層パッケージを製
造する工程と、 前記各第2のリードの露出部の下面にソルダーボールを
それぞれ付着させる工程と、 前記第1型単層パッケージ上に前記第2型単層パッケー
ジを実装する工程と、 前記ソルダーボールをリフローし、前記各第1のリード
の露出部の上面と、その対応の前記第2のリードの露出
部の下面との間にソルダーをそれぞれ形成する工程と、
を含んで構成される積層半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項4】前記ソルダーボールを付着させる際に、前
記各第2のリードの露出部の下面にフラックスをそれぞ
れ塗布し、該フラックスが塗布された第2型単層パッケ
ージをソルダーボールボックスに浸漬することを特徴と
する請求項3記載の積層半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項5】前記第1型単層パッケージ及び第2型単層
パッケージの成形部がソルダーレジストであることを特
徴とする請求項3又は請求項4記載の積層半導体パッケ
ージの製造方法。 - 【請求項6】前記第1型単層パッケージ上に前記第2型
単層パッケージを実装する際に、前記第1型単層パッケ
ージの成形部の上面に接着剤を塗布した後実装すること
を特徴とする請求項3〜請求項5のいずれか1つに記載
の積層半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項7】所定高さを有する略板状の絶縁性の本体
と、該本体の上面に開口する複数のキャビティと、前記
各キャビティの底部略中央にそれぞれ接続して前記本体
を上下方向に貫通する複数の貫通口と、前記各貫通口に
それぞれ嵌合された複数の所定高さの柱状部材と、前記
本体の長手方向の両端部上面にそれぞれ立設された複数
のアライン棒と、を備えて構成されたサブストレート
と、 略板状のマスク本体と、前記各キャビティに対応して前
記マスク本体を上下方向にそれぞれ貫通する複数の開放
部と、前記各アライン棒をそれぞれ受ける複数のアライ
ンホールと、を備えて構成されたアラインマスクと、を
含んで構成され、 前記サブストレート上に前記アラインマスクが配置され
てなることを特徴とする積層半導体パッケージ製造用ア
ライニングジグ。 - 【請求項8】所定高さを有する略板状の絶縁性の本体
に、該本体の上面に開口する複数のキャビティを形成
し、前記各キャビティの底部略中央にそれぞれ接続する
ように前記本体を上下方向に貫通する複数の貫通口を形
成し、前記各貫通口に所定高さの柱状部材をそれぞれ嵌
合し、前記本体の長手方向の両端部の上面にアライン棒
をそれぞれ立設してサブストレートを構成するととも
に、略板状のマスク本体に、前記各キャビティに対応し
て上下方向にそれぞれ貫通する複数の開放部と、前記各
アライン棒をそれぞれ受ける複数のアラインホールとを
形成してアラインマスクを構成し、前記サブストレート
上に前記アラインマスクを配置して積層半導体パッケー
ジ製造用アライニングジグを準備する工程と、 第1の半導体チップの上面中央部に複数の第1のパッド
を形成し、一方の端部を対応の前記第1のパッドの外側
の前記第1の半導体チップの上面にそれぞれ付着して前
記第1の半導体チップの外側に延伸する複数の第1のリ
ードを形成し、前記各第1のリードの一方の端部とその
対応の前記第1のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、
前記第1の半導体チップ、第1のリードの付着部及び第
1のワイヤを含んで包囲しつつ前記第1のリードの露出
部を残すように成形部を形成して第1型単層パッケージ
を準備する工程と、 前記第1型単層パッケージを、前記サブストレートのキ
ャビティ内に配置させる工程と、 第2の半導体チップの下面中央部に複数の第2のパッド
を形成し、一方の端部を対応の前記第2のパッドの外側
の前記第2の半導体チップの下面にそれぞれ付着して該
付着部より外向きに下方へ延伸する複数の第2のリード
を形成し、前記各第2のリードの一方の端部とその対応
の前記第2のパッドとをワイヤでそれぞれ接続し、前記
第2の半導体チップ、第2のリードの付着部及び第2の
ワイヤを含んで包囲しつつ前記第2のリードの露出部を
残すように成形部を形成して第2型単層パッケージを準
備する工程と、 前記各第2のリードの露出部の下面にソルダーボールを
それぞれ付着させる工程と、 前記第2型単層パッケージを前記アラインマスクの開放
部内に配置させ、前記第1型単層パッケージ上に実装す
る工程と、 前記ソルダーボールをリフローし、前記各第1のリード
の露出部の上面とその対応の前記第2のリードの露出部
の下面との間にソルダーをそれぞれ形成する工程と、を
含んで構成される積層半導体パッケージの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1661/1999 | 1999-01-20 | ||
KR1019990001661A KR100282526B1 (ko) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | 적층 반도체 패키지 및 그 제조방법, 그리고 그 적층 반도체 패키지를 제조하기 위한 패키지 얼라인용 치구 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000216333A true JP2000216333A (ja) | 2000-08-04 |
JP4477731B2 JP4477731B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=19571880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6190944B1 (ja) |
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KR (1) | KR100282526B1 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4477731B2 (ja) | 2010-06-09 |
KR20000051306A (ko) | 2000-08-16 |
KR100282526B1 (ko) | 2001-02-15 |
US6190944B1 (en) | 2001-02-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090121 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090513 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100312 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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