DE69907345T2

DE69907345T2 - Verbesserungen in der Glasbeschichtung

Info

Publication number: DE69907345T2
Application number: DE69907345T
Authority: DE
Inventors: John Robert Southport Siddle; Axel Nöthe
Original assignee: Pilkington Deutschland AG; Pilkington Group Ltd; Pilkington PLC
Current assignee: Pilkington Deutschland AG; Pilkington Group Ltd
Priority date: 1998-08-04
Filing date: 1999-08-02
Publication date: 2004-02-12
Anticipated expiration: 2019-08-03
Also published as: GB9816922D0; ATE238973T1; DE69907345D1; EP0983973B1; EP0983973A2; US6540884B1; EP0983973A3

Description

Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden Niedrigemissionsbeschichtung auf einem Glassubstrat.
Sowohl im Bauwesen als auch im Verkehrswesen besteht ein steigender Bedarf an Verglasungen mit Wärmschutzeigenschaften. Der Wärmeschutz von Verglasungsplatten kann verbessert werden, indem diese mit infrarotabweisenden Beschichtungen, die auch als Niedrigemissionsbeschichtungen bekannt sind, beschichtet werden. Beschichtete Niedrigemissionsplatten besitzen normale Emissionsgrade von etwa 0,2 oder weniger, jedoch betragen niedrige Emissionsgrade insbesondere 0,1 oder weniger. Das normale Emissionsvermögen (ε_N) und der U-Wert (der ein Maß für die Isolation einer Verglasungsplatte ist) sind in dem internationalen Standard ISO 12092 : 1994 (F), Anhang A definiert, wobei das normale Emissionsvermögen εN = 1 – R_N beträgt, wenn R_N das normale Reflexionsvermögen bei 283 K für Wellenlängen von 5,5 bis 50 μm ist.
Beschichtetes Niedrigemissionsglas kann einen Schichtenstapel umfassen, der wenigstens eine reflektierende Metallschicht (beispielsweise aus Aluminium, Kupfer, Gold oder vorzugsweise Silber) enthält, die zwischen zwei Antireflexionsschichten, beispielsweise aus den Oxiden von Zinn, Zink oder Titan, Siliciumnitrid oder Zinksulfid, angeordnet ist. Beschichtungen wie diese sind elektrisch leitend, wobei das Emissionsvermögen und der Widerstand der Beschichtungen insofern zusammenhängen, als eine Erhöhung des Widerstands gewöhnlich mit einem Anstieg ihres Emissionsvermögens verbunden ist, wobei eine stärker leitende Beschichtung ein höheres Infrarotreflexionsvermögen aufweist.
Um reflektierende Metall-Niedrigemissionsbeschichtungen in Serie herzustellen, ist es vorteilhaft, ein Verfahren anzuwenden, das eine hohe Ablagerungsgeschwindigkeit ermöglicht, etwa die Bedampfung. Für Metalloxid-Antireflexionsschichten können die höchsten Ablagerungsgeschwindigkeiten durch Reaktionsbedampfung von einem elektrisch leitenden (gewöhnlich metallischen) Target in einer Sauerstoff oder ein Oxidationsgas enthaltenden Atmosphäre erzielt werden. Während des Bedampfungsprozesses wird der Beschichtung die Sauerstoffkomponente der Beschichtungsatmosphäre zugesetzt, was zur Ablagerung einer Metalloxidbeschichtung führt. Wenn Versuche unternommen werden, in einem Reaktionsbedampfungsprozeß in Gegenwart von Sauerstoff eine aus einer Metalloxidschicht bestehende Beschichtung beispielsweise auf einer reflektierenden Metallschicht aus Silber herzustellen, kann die reflektierende Metallschicht leider mit dem Sauerstoff reagieren, wodurch die Niedrigemissionseigenschaften der reflektierenden Metallschicht verlorengehen. Diese Reaktion ist nicht nur als einfache Oxidation anzusehen, weil sie auch eine Agglomeration in der reflektierenden Metallschicht mit sich bringen kann.
Das Problem der Oxidation von Silberschichten während des Überziehens mit Metalloxiden durch Reaktionsbedampfung in einer Oxidationsatmosphäre wird in der GB-Patentanmeldung Nr. 2 129 831 A beschrieben. GB 2 129 831 A beschreibt auch, daß dieses Problem beseitigt werden kann, indem ein kleiner Anteil aus einem von Silber verschiedenen Metall vor der Metalloxidschicht aufgedampft wird, so daß das Zusatzmetall vorherrschend über oder in dem oberen Abschnitt der Silberschicht liegt. Die Spezifikation beschreibt ein Verfahren zur Herstellung einer Niedrigemissionsbeschichtung auf einem durchsichtigen Substrat durch Katodenzer stäubung, die nacheinander das Aufdampfen einer 5 bis 30 nm dicken Silberschicht, das Aufdampfen auf die Silberschicht eines von Silber verschiedenen Zusatzmetalls in einer Menge, die einer 5 bis 10 nm dicken Schicht gleichkommt, und das reaktive Aufdampfen in Gegenwart eines Oxidationsgases einer Metalloxid-Antireflexionsschicht über das Silber und das Zusatzmetall. In der europäischen Patentschrift EP 0 543 077 B wird dem Problem der Oxidation einer reflektierenden Metallschicht während der Reaktionsbedampfung mit Metalloxiden in ähnlicher Weise durch Ablagerung einer Spenschicht begegnet. Die Spenschicht besteht aus einer ersten Teilschicht aus Platin oder Palladium mit einer Dicke im Bereich zwischen 0,2 und 0,5 nm, die an eine Silber- oder Kupferschicht (die reflektierende Metallschicht) angrenzt, und aus einer zweiten aus Titan und/oder Chrom oder einer Legierung zusammengesetzten Teilschicht mit einer Dicke im Bereich zwischen 0,5 und 5,0 nm. Die Spenschicht ist mit einer durch Reaktionsbedampfung in einer Argon-Sauerstoff-Atmosphäre abgelagerten Zinn/Ytterbium-Oxidschicht überzogen.
Beschichtungen auf Glassubstraten, die durch Bedampfung erzeugt wurden und Schichten aus Silber und einem Metalloxid enthalten, sind an Luft gewöhnlich nicht wärmebeständig. Die Beschichtung kann ihre Eigenschaften eines niedrigen Schichtwiderstands (und folglich eines niedrigen Emissionsgrads) verlieren, wenn das beschichtete Glas einem Wärmekreislauf unterworfen wird, wie er für das Biegen oder Vorspannen des Glases erforderlich ist.
Wir haben entdeckt, daß das Problem der Oxidation einer reflektierenden Metallschicht während der Reaktionsbedampfung mit einem Metalloxid gemäß der vorliegenden Erfindung durch Ablagerung des Metalloxids in einer Sauerstoff-Scavenger enthaltenden Atmosphäre verkleinert werden kann. Wir haben außerdem entdeckt, daß in dieser Weise hergestelltes beschichtetes Glas, wenn es Wärme ausgesetzt wird, weniger dazu neigt, seine Eigenschaften eines niedrigen Schichtwiderstands (und folglich eines niedrigen Emissionsgrads) zu verlieren.
Gemäß einem Aspekt wird Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden Niedrigemissionsbeschichtung auf einem Glassubstrat geschaffen, das nacheinander umfaßt:

(a) Ablagern einer reflektierenden Metallschicht und
(b) reaktives Aufdampfen einer Metalloxidschicht auf die Metallschicht in Gegenwart eines Sauerstoff-Scavengers, dadurch gekennzeichnet, daß der Sauerstoff-Scavenger ein Kohlenwasserstoff ist.

Dies bedeutet einen Vorteil, weil gegenüber den Verfahren im Stand der Technik weniger Schichten (d. h. keine zusätzliche Schutzschicht oder keine zusätzlichen Schutzschichten) abgelagert werden müssen.
Die Reaktionsbedampfung wird, wie es in der Technik selbstverständlich ist, in Gegenwart von Sauerstoff oder eines Oxidationsgases, das mit der Bildung der Metalloxidschicht reagiert, ausgeführt. Somit wird die Metalloxidschicht vorzugsweise in einer Atmosphäre, die den Sauerstoff-Scavenger und ein Oxidationsgas enthält, reaktiv aufgedampft. Gewöhnlich ist das Oxidationsgas Sauerstoff.
Der Sauerstoff-Scavenger ist ein Kohlenwasserstoff, vorzugsweise C₁- bis C₄-Kohlenwasserstoff. Stärker bevorzugt ist der Sauerstoff-Scavenger ein Alkan, speziell ein C₁- bis C₄-Alkan. Am stärksten bevorzugt ist der Sauerstoff-Scavenger Methan.
Die Erfindung ermöglicht ein Aufdampfen der überlagernden Metalloxidschicht mit einer erhöhten Geschwindigkeit (im Vergleich zu der Geschwindigkeit, die bei Abwesenheit des Sauerstoff-Scavengers erzielt werden kann) unter Beibehaltung eines geforderten niedrigen Emissionsgrads (d. h. eines normalen Emissionsvermögens von 0,2 oder weniger).
Das Metalloxid kann Zinnoxid, Zinkoxid oder Wolframoxid umfassen. Weitere Metalloxide, die ähnlich geeignet sind, umfassen Übergangsmetalloxide, beispielsweise Wolframoxid, Nickeloxid, Molybdänoxid, Manganoxid, Zirkoniumoxid, Vanadiumoxid, Nioboxid, Tantaloxid, oder Mischoxide, die diese Metalloxide enthalten. Zeroxid oder Titanoxid können ebenfalls geeignet sein. Manche Metalloxide (beispielsweise Wolframoxid) können während der Ablagerung der Metalloxidschicht in Gegenwart eines Sauerstoff-Scavengers teilweise reduziert werden, wobei eine solche teilweise Reduktion die optischen Eigenschaften der Metalloxidschicht verändern kann.
Die reflektierende Metallschicht enthält normalerweise eine Silberschicht. Dies bedeutet einen Vorteil, weil Silberschichten im Infrarotbereich des Spektrums stark reflektierend sind, eine neutral gefärbte sichtbare Reflexion bringen und durch Bedampfung oder andere Ablagerungsverfahren im Vakuum einfach aufgebracht werden können.
Niedrigemissionsbeschichtungen, die in einem Verfahren gemäß der Erfindung erzeugte reflektierende Metallschichten enthalten, erfahren durch das Überziehen mit der Metalloxidschicht normalerweise eine Zunahme des Schichtwiderstands von weniger als 25% und vorzugsweise weniger als 20%. Gewöhnlich weisen die in einem Verfahren gemäß der Erfindung erzeugten Beschichtungen nach dem Überziehen mit der Metalloxidschicht einen Schichtwiderstand von unter 12 Ω/100 Quadratfuß auf. Dies bedeutet einen Vorteil, weil Schichtwiderstände von unter 12 Ω/100 Quadratfuß einen Hinweis darauf geben, daß die Beschichtung und somit das beschichtete Glas ein für technische Zwecke annehmbares niedriges Emissionsvermögen haben.
Ein besonderer Vorteil der vorliegenden Erfindung ist, daß in dem Verfahren gemäß der Erfindung erzeugtes beschichtetes Glas nach einer Wärmebehandlung in einer Oxidationsatmosphäre (gewöhnlich Luft) weniger zu einer Verschlechterung neigt.
Somit umfaßt das Verfahren in einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung nach der Ablagerung der reflektierenden Metallschicht und der Metalloxidschicht zusätzlich eine Wärmebehandlung des beschichteten Glassubstrats in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre.
Vorzugsweise liegt der Schichtwiderstand der Beschichtung, nachdem das Glas mit der Metalloxidschicht überzogen und danach in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre wärmebehandelt wurde, unter 30 Ω/100 Quadratfuß. Ein Schichtwiderstand von unter 30 Ω/100 Quadratfuß nach der Wärmebehandlung gibt einen Hinweis darauf, daß die reflektierende Metallschicht, obwohl sie teilweise oxidiert ist, dennoch nicht vollständig oxidiert ist, jedoch könnte der Schichtwiderstand vorzugsweise niedriger als sein Wert vor der Wärmebehandlung oder stärker bevorzugt gleich diesem sein. Das beschichtete Glas könnte nach Bedarf wärmebehandelt werden, um das Glas nach der Beschichtung zu biegen oder vorzuspannen. Die Wärmebehandlung würde gewöhnlich das Anheben der Temperatur des Glases auf 400 bis 720°C beinhalten.
Die Dicke der reflektierenden Metallschichten in beschichtetem Glas, das in einem Verfahren gemäß der Erfindung erzeugt wurde, liegen normalerweise im Bereich zwischen 8 und 18 nm. Dicken unter 8 nm können zu einem zu hohen Emissionsgrad (d. h. einer zu hohen Infrarotreflexion) führen, unter 18 nm kann eine zu starke Absorption sichtbaren Lichts durch die reflektierende Metallschicht eintreten.
Falls beschichtetes Glas mit einem sehr niedrigen Emissionsvermögen oder mit Solarsteuerungseigenschaften (d. h. mit einer niedrigeren Gesamt-Sonnenwärmeübertragung) hergestellt werden soll, kann mehr als eine reflektierende Metallschicht, zwischen Antireflexionsschichten geschichtet, abgelagert werden (d. h. die Beschichtung kann 2n + 1 Antireflexionsschichten und reflektierende Metallschichten umfassen, wobei n eine ganze Zahl größer oder gleich 1 ist).
Falls vorspannbares beschichtetes Glas (d. h. Glas, das vor einem Schlechterwerden während der Wärmebehandlung oder vor der Alterung geschützt ist) hergestellt werden soll, kann der Beschichtungsstapel eine zusätzliche Schutzschicht enthalten, die zwischen der reflektierenden Metallschicht und der überziehenden Metalloxidschicht angeordnet ist. Zweckmäßige Schutzschichten enthalten Zink, Titan, Nickel, Palladium, Platin oder vorzugsweise eine Nickel-Chrom-Legierung.
Beschichtetes Glas gemäß dieser Erfindung kann in vielen Glasnutzungsbereichen verwendet werden, einschließlich bei Schichtglas, das ein beschichtetes Glas gemäß der Erfindung, eine Polymerzwischenschicht und ein zweites Glas enthält, und bei Mehrschichten-Verglasungseinheiten, die eine erste Platte aus beschichtetem Glas enthalten, die einem zweiten, von ihr beabstandeten Glas gegenüberliegt.
Die folgenden schematischen Darstellungen (nicht maßstabsgerecht) zeigt beschichtetes Glas, das in dem Verfahren der Erfindung hergestellt werden kann.
1 zeigt einen Querschnitt durch ein in einem Verfahren gemäß einer Ausführungsform der Erfindung hergestelltes beschichtetes Glas.
2 zeigt einen Querschnitt durch ein in einem Verfahren gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung hergestelltes beschichtetes Glas.
Fig. zeigt einen Querschnitt durch eine Zweischichten-Verglasungseinheit, die ein beschichtetes Glas, wie es in 1 gezeigt ist, enthält.
In 1 enthält ein beschichtetes Niedrigemissionsglas 1 ein Glassubstrat 2 und eine Beschichtung 9, die aus einer ersten Metalloxid-Antireflexionsschicht 4, einer Silberschicht 6 zur Schaffung von Infrarotreflexionseigenschaften (eines niedrigen Emissionsvermögens) und einer zweiten Metalloxid-Antireflexionsschicht 8 besteht. Die Metalloxidschichten 4 und 8 enthalten Zinnoxid, Zinkoxid oder Wolframoxid, wobei die zweite Metalloxid-Antireflexionsschicht 8 durch Reaktionsbedampfung in Gegenwart von Methan abgelagert wurde.
2 zeigt ein beschichtetes Glas, das dem in 1 gezeigten Glas gleicht. Ein beschichtetes Glas 11 enthält ein Glassubstrat 10 und eine Beschichtung, die aus einer ersten Metalloxid-Antireflexionsschicht 12, einer Silberschicht 14 zur Schaffung von Infrarotreflexionseigenschaften (eines niedrigen Emissionsvermögens), einer Schutzschicht 16 aus Nichrom zum Schutz der Silberschicht 14 vor einem Schlechterwerden während der Alterung, der Lagerung an Luft oder der Wärmebehandlung und einer zweiten Metalloxid-Antireflexionsschicht 18, die durch Reaktionsbedampfung in Gegenwart von Methan abgelagert wurde. Die Metalloxidschichten 12 und 18 enthalten Zinnoxid, Zinkoxid oder Wolframoxid.
3 zeigt eine beschichtete Glasplatte von 1, die mit einer zweiten, beabstandeten und gegenüberliegenden Platte aus Verglasungsmaterial 22 zusammengesetzt wurde, wobei die Platten durch ein Abstands- und Abdichtungssystem 20 voneinander beabstandet und abgedichtet sind, so daß sie eine Zweischichten-Verglasungseinheit 25 mit einem Luftraum 24 bilden. Die Beschichtung 9 ist dem Luftraum 24 zugewandt.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele, in denen alle Beschichtungen durch Gleichstrom-Magnetron-Bedampfung abgelagert wurden, veranschaulicht, jedoch nicht eingeschränkt. Metalloxidschichten wurden durch Reaktionsbedampfung in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre abgelagert.
Beispiele 1 und 2 und Vergleichsbeispiel
In den Beispielen 1 und 2 und in dem Vergleichsbeispiel wurden Beschichtungen durch Bedampfung auf Floatglassubstraten abgelagert. Die Beschichtungen umfaßten eine erste Metalloxid-Antireflexionsschicht, eine Silberschicht und eine zweite Metalloxid-Antireflexionsschicht. Die Metalloxide der Antireflexionsschichten in den Beispielen 1 und 2 und in dem Vergleichsbeispiel waren Zinnoxid oder Zinkoxid und sind in der Tabelle 1 zusammen mit der Dicke der Schichten der Beschichtungen für die Beispiele und das Vergleichsbeispiel und den Komponenten der Bedampfungsatmosphäre für die Ablagerung jeder Schicht beschrieben. Die zweite Metalloxid-Antireflexionsschicht wurde in Gegenwart von Methan in den Beispielen 1 und 2 und ohne Gegenwart von Methan in dem Vergleichsbeispiel abgelagert. Die Lichtdurchlässigkeit, der Schichtwiderstand und das normale Emissionsvermögen des beschichteten Glases wurden durch Standardverfahren, die an sich bekannt sind, bestimmt und sind in der Tabelle 2 gezeigt. Der Schichtwiderstand des beschichteten Glases in dem Vergleichsbeispiel war zu hoch, um ihn zu messen, was ein Hinweis für eine Verschlechterung der Silberschicht ist.
Tabelle 1
Tabelle 2
Beispiele 3 und 4
In diesen Beispielen wurden Proben unter Verwendung eines Spektrophotometers Hitachi U-4000 über den Wellenlängenbereich 300–2600 nm und eines Spektrophotometers Perkin Elmer 883 analysiert und die Werte der normalen und/oder der halbsphärischen Emissionsgrade (ε_N und ε_H) berechnet. Die optischen Eigenschaften und die Gesamt-Sonnenwärmeübertragung (TSHT = Total Solar Heat Transmission), die U-Werte sowie die Reflexions- und Durchlässigkeits-CIE-Lab-Farben wurden in Übereinstimmung mit dem internationalen Standard ISO 10292 und in der Glastechnik an sich bekannten Verfahren berechnet.
Aus dem Spektrum wurden optische Konstanten (Brechungskoeffizient n und Extinktionskoeffizient k) erhalten, wobei bestimmte Spektren zur Bestimmung einzelner Schichtendicken modelliert wurden. Die Schichtdicke mancher Proben wurden unter Verwendung eines Profilometers Sloan Dektak IIID gemessen. Die Schichtwiderstandswerte wurden beispielsweise unter Verwendung eines berührungslosen Leitwertmonitors Delcom Instruments Modell 717B oder einer Standard In-line-4-Punkt-Sonde erhalten. Die optischen Zweischichtenglaseigenschaften wurden für eine Einheit mit dem auf der Oberfläche 3 (Außenseite der inneren Platte) befindlichen Beschichtungsstapel, einem 16 mm breiten und mit Argon gefüllten Spalt und einem 4 mm breiten klaren Floatglas als äußere Platte berechnet.
Im Beispiel 3 wurde ein beschichtetes Glas erzeugt, wobei vier Target-Elektroden der Größe 400 mm × 100 mm, die über eine Versorgung Advanced Energy 5 kW MDX Magnetron gespeist wurden, und ein Silber-Target sowie ein substöchiometrisches Wolframoxid-Target verwendet wurden. Die Leistung wurde auf 1 kW oder darunter begrenzt. Die Schichten der Beschichtung wurden bei Umgebungstemperatur auf einem Substrat abgelagert, wobei das Substrat ein 2 mm dickes Floatglas war, das mit einem Haushalsreinigungsmittel und flusenfreiem Stoff gereinigt worden war. Es wurde nicht versucht, zwischen der Zinnseite und zinnfreien Seite des Substrats zu differenzieren.
Das beschichtete Glas umfaßte einen Beschichtungsstapel der Form Wolframoxid/Silber/Wolframoxid, wobei die zweite Wolframoxid-Antireflexionsschicht bei 2 × 10^–3 mbar in einem Ar/O₂/CH₄-Bedampfungsgasgemisch bei Strömungsgeschwindigkeiten von 15 cm³min^–1, 40 cm³min^–1 und 11 cm³min^–1 für Argon, Sauerstoff bzw. Methan (alle mit Standardvolumina) abgelagert wurde. Die erste Wolframoxid-Antireflexionsschicht wurde unter ähnlichen Bedingungen, jedoch ohne Gegenwart von Methan abgelagert. Die Silberschicht der Beschichtung betrug etwa 13,3 nm, während die Wolframoxidschichten jeweils etwa 37 nm dick waren. Der Schichtwiderstand der so abgelagerten Silberschicht betrug vor dem Überziehen 3,90 Ω/100 Quadratfuß. Der Schichtwiderstand und der halbsphärische Emissionsgrad des beschichteten Glases sind zusammen mit den optischen Konstanten für das beschichtete Glas in einer Zweischichten-Verglasungseinheit in der Tabelle 3 beschrieben. Der Schichtwiderstand der Beschichtung nahm durch das Überziehen um weniger als 20% zu.

In der Tabelle 4 sind die optischen Konstanten n und k der zweiten Wolframoxid-Antireflexionsschicht, die gemäß dem Beispiel 3 bei den Wellenlängen 500–600 nm erzeugt wurden, gezeigt und mit einer typischen stöchiometrischen Wolframoxidschicht, die ohne Methan in dem Bedampfungsgasgemisch erzeugt wurde, verglichen. Die höheren k-Werte der Beschichtung von Beispiel 3 zeigen, daß eine schwache Lichtabsorption in der zweiten Schicht eintrat, was darauf schließen läßt, daß die Schicht teilweise reduziert worden war. Tabelle 3

Schichtwiderstand	4,6 Ω/100 Quadratfuß
Halbsphärisches Emissionsvermögen	0,062
Sichtbare Durchlässigkeit (%)	78,0
Sichtbare Reflexion (%)	11,3
TSHT (%)	61, 3
U-Wert	1,17
Durchlässigkeitsfarbe (L, a, b*)	90,7, –2,7, 3,54
Filmseitige Reflexionsfarbe (L, a, b*)	40,2, 2,86, –6,7

Tabelle 4
Im Beispiel 4 wurde ein beschichtetes Glas erzeugt, wobei Target-Elektroden von 380 mm × 102 mm sowie metallische Silber- und metallische Wolfram-Targets bei einer Target-Leistung von 800 W verwendet wurden. Die Schichten der Beschichtung wurden bei Umgebungstemperatur auf einem Substrat abgelagert, wobei das Substrat 2 mm dickes Floatglas war. Die Glas-Quergeschwindigkeit betrug 670 mm min^–1.
Das beschichtete Glas umfaßte einen Beschichtungsstapel der Form Wolframoxid/Silber/Wolframoxid-Form, wobei die zweite (obere) Wolframoxid-Antireflexionsschicht bei 2 × 10^–3 mbar in einem Ar/O₂/CH₄-Bedampfungsgasgemisch bei Strömungsgeschwindigkeiten von 15 cm³min^–1, 40 cm³min^–1 und 8 cm³min^–1 für Argon, Sauerstoff bzw. Methan (alle mit Standardvolumina) abgelagert wurde. Die erste Wolframoxid-Antireflexionsschicht wurde in ähnlicher Weise, jedoch ohne Gegenwart von Methan abgelagert. Die Silberschicht der Beschichtung war etwa 9 nm dick, die erste Wolframoxid-Antireflexionsschicht war etwa 37 nm dick und die zweite Wolframoxid-Antireflexionsschicht war etwa 40 nm dick. Das beschichtete Glas wurde wärmebehandelt, indem es für eine Verweilzeit von 90 Sekunden (von Luft umgeben) in einen auf 630°C gehaltenen Ofen gegeben wurde, um Vorspannbedingungen zu simulieren.
Das normale Emissionsvermögen und der Schichtwiderstand des beschichteten Glases vor und nach der Ablagerung der zweiten Wolframoxid-Antireflexionsschicht sind zusammen mit dem Schichtwiderstand nach der Wärmebehandlung in der Tabelle 5 beschrieben.

Der Schichtwiderstand nahm durch das Überziehen um weniger als 25% zu. Tabelle 5

Normales Emissionsvermögen vor der Wärmebehandlung	0,055
Schichtwiderstand vor der Ablagerung der zweiten WO₃-Schicht	4,5 Ω/100 Quadratfuß
Schichtwiderstand nach der Ablagerung der zweiten WO₃-Schicht	5,5 Ω/100 Quadratfuß
Schichtwiderstand nach der Wärmebehand-lung	30 Ω/100 Quadratfuß

Claims

Verfahren für die Herstellung einer elektrisch leitenden Niedrigemissionsbeschichtung auf einem Glassubstrat, umfassend nacheinander: (a) Ablagern einer reflektierenden Metallschicht und (b) reaktives Aufdampfen einer Metalloxidschicht über die Metallschicht in Gegenwart eines Sauerstoff-Scavengers, dadurch gekennzeichnet, daß der Sauerstoff-Scavenger ein Kohlenwasserstoff ist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Metalloxidschicht in einer Atmosphäre, die den Sauerstoff-Scavenger und ein Oxidationsgas enthält, reaktiv aufgedampft wird.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Oxidationsgas Sauerstoff ist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Sauerstoff-Scavenger ein Alkan ist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Sauerstoff-Scavenger ein C₁- bis C₄-Alkan ist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Sauerstoff-Scavenger Methan ist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Metalloxidschicht Zinnoxid, Zinkoxid oder Wolframoxid enthält.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die reflektierende Metallschicht eine Silberschicht ist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Schichtwiderstand der Beschichtung durch das Überziehen mit der Metalloxidschicht um weniger als 25% zunimmt.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Schichtwiderstand der Beschichtung durch das Überziehen mit der Metalloxidschicht um weniger als 20% zunimmt.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Schichtwiderstand der Beschichtung nach dem Überziehen mit der Metalloxidschicht unter 12 Ω/100 Quadratfuß liegt.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Verfahren zusätzlich eine Wärmebehandlung des beschichteten Glassubstrats in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre umfaßt.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei der Schichtwiderstand der Beschichtung, nachdem das Glas mit der Metalloxidschicht überzogen und danach in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre wärmebehandelt worden ist, unter 30 Ω/100 Quadratfuß liegt.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die reflektierende Metallschicht eine Dicke im Bereich zwischen 8 und 18 nm aufweist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung mehr als eine reflektierende Metallschicht aufweist.
Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Verfahren einen zusätzlichen Schritt der Ablagerung einer Schutzschicht zwischen der reflektierenden Metallschicht und der Metalloxidschicht umfaßt.
Beschichtetes Glas, das in einem Verfahren gemäß einem der vorangehenden Ansprüche hergestellt worden ist.
Mehrschichten-Verglasungseinheit, die eine erste Verglasungsplatte aus beschichtetem Glas nach Anspruch 17 enthält, die einer zweiten, von ihr beabstandeten Glasplatte gegenüberliegt.
Schichtglas, die ein beschichtetes Glas nach Anspruch 17, eine Polymerzwischenschicht und ein zweites Glas umfaßt.
Verwendung eines Kohlenwasserstoffs als Sauerstoff-Scavenger in einem Verfahren für die Herstellung einer elektrisch leitenden Niedrigemissionsbeschichtung auf einem Glassubstrat, wobei das Verfahren nacheinander das Ablagern einer reflektierenden Metallschicht und das reaktive Aufdampfen einer Metalloxidschicht auf die Metallschicht in Gegenwart des Sauerstoff-Scavengers umfaßt.