CH676168A5
(de)
*
|
1988-10-10 |
1990-12-14 |
Asea Brown Boveri |
|
CH677557A5
(de)
*
|
1989-03-29 |
1991-05-31 |
Asea Brown Boveri |
|
US5118989A
(en)
*
|
1989-12-11 |
1992-06-02 |
Fusion Systems Corporation |
Surface discharge radiation source
|
DE4123915A1
(de)
*
|
1990-07-19 |
1992-01-23 |
Herberts Gmbh |
Verfahren zum schutz von thermisch empfindlichen aufzeichnungsmaterialien gegen aeussere einfluesse unter verwendung von radikalisch polymerisierbaren ueberzugsmitteln
|
US5834895A
(en)
*
|
1990-10-25 |
1998-11-10 |
Fusion Lighting, Inc. |
Visible lamp including selenium
|
US5404076A
(en)
*
|
1990-10-25 |
1995-04-04 |
Fusion Systems Corporation |
Lamp including sulfur
|
CA2093921C
(en)
*
|
1990-10-25 |
1999-07-13 |
James T. Dolan |
High power lamp
|
US5798611A
(en)
*
|
1990-10-25 |
1998-08-25 |
Fusion Lighting, Inc. |
Lamp having controllable spectrum
|
JPH07509336A
(ja)
*
|
1990-10-25 |
1995-10-12 |
フュージョン ライティング, インコーポレイテッド |
制御可能な特性を有するランプ
|
EP0515711A1
(de)
*
|
1991-05-27 |
1992-12-02 |
Heraeus Noblelight GmbH |
Hochleistungsstrahler
|
EP0521553B1
(de)
*
|
1991-07-01 |
1996-04-24 |
Koninklijke Philips Electronics N.V. |
Hochdrucksglimmentladungslampe
|
JP2733155B2
(ja)
*
|
1991-10-24 |
1998-03-30 |
松下電工株式会社 |
面状発光体
|
US5504391A
(en)
*
|
1992-01-29 |
1996-04-02 |
Fusion Systems Corporation |
Excimer lamp with high pressure fill
|
US5549874A
(en)
*
|
1992-04-23 |
1996-08-27 |
Ebara Corporation |
Discharge reactor
|
JP2893158B2
(ja)
*
|
1992-04-23 |
1999-05-17 |
株式会社荏原製作所 |
放電反応装置
|
EP0607960B2
(de)
*
|
1993-01-20 |
2001-05-16 |
Ushiodenki Kabushiki Kaisha |
Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht
|
WO1995010848A1
(en)
*
|
1993-10-15 |
1995-04-20 |
Fusion Lighting, Inc. |
Electrodeless map with improved efficacy
|
US5914564A
(en)
*
|
1994-04-07 |
1999-06-22 |
The Regents Of The University Of California |
RF driven sulfur lamp having driving electrodes which face each other
|
JP3025414B2
(ja)
|
1994-09-20 |
2000-03-27 |
ウシオ電機株式会社 |
誘電体バリア放電ランプ装置
|
JP2775699B2
(ja)
*
|
1994-09-20 |
1998-07-16 |
ウシオ電機株式会社 |
誘電体バリア放電ランプ
|
US5585641A
(en)
*
|
1995-05-23 |
1996-12-17 |
The Regents Of The University Of California |
Large area, surface discharge pumped, vacuum ultraviolet light source
|
JP3082638B2
(ja)
*
|
1995-10-02 |
2000-08-28 |
ウシオ電機株式会社 |
誘電体バリア放電ランプ
|
US5818167A
(en)
*
|
1996-02-01 |
1998-10-06 |
Osram Sylvania Inc. |
Electrodeless high intensity discharge lamp having a phosphorus fill
|
DE19613502C2
(de)
*
|
1996-04-04 |
1998-07-09 |
Heraeus Noblelight Gmbh |
Langlebiger Excimerstrahler und Verfahren zu seiner Herstellung
|
EP0836220B1
(de)
*
|
1996-04-30 |
2002-07-17 |
Ushio Denki Kabushiki Kaisha |
Leuchtstofflampe mit äusserer elektrode und beleuchtungseinheit
|
DE19636965B4
(de)
*
|
1996-09-11 |
2004-07-01 |
Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH |
Elektrische Strahlungsquelle und Bestrahlungssystem mit dieser Strahlungsquelle
|
US5945790A
(en)
*
|
1997-11-17 |
1999-08-31 |
Schaefer; Raymond B. |
Surface discharge lamp
|
US6015759A
(en)
*
|
1997-12-08 |
2000-01-18 |
Quester Technology, Inc. |
Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation
|
US6049086A
(en)
*
|
1998-02-12 |
2000-04-11 |
Quester Technology, Inc. |
Large area silent discharge excitation radiator
|
US5993278A
(en)
*
|
1998-02-27 |
1999-11-30 |
The Regents Of The University Of California |
Passivation of quartz for halogen-containing light sources
|
JP2000173554A
(ja)
*
|
1998-12-01 |
2000-06-23 |
Md Komu:Kk |
誘電体バリア放電ランプ
|
JP3458757B2
(ja)
|
1999-03-30 |
2003-10-20 |
ウシオ電機株式会社 |
誘電体バリア放電ランプ装置
|
DE19919169A1
(de)
|
1999-04-28 |
2000-11-02 |
Philips Corp Intellectual Pty |
Vorrichtung zur Desinfektion von Wasser mit einer UV-C-Gasentladungslampe
|
DE19920693C1
(de)
*
|
1999-05-05 |
2001-04-26 |
Inst Oberflaechenmodifizierung |
Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren
|
US6614181B1
(en)
*
|
2000-08-23 |
2003-09-02 |
Applied Materials, Inc. |
UV radiation source for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films
|
US6566278B1
(en)
|
2000-08-24 |
2003-05-20 |
Applied Materials Inc. |
Method for densification of CVD carbon-doped silicon oxide films through UV irradiation
|
US20020067130A1
(en)
*
|
2000-12-05 |
2002-06-06 |
Zoran Falkenstein |
Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source
|
DE10133949C1
(de)
*
|
2001-07-17 |
2003-03-20 |
Inst Niedertemperatur Plasmaph |
Vorrichtung zur Erzeugung von Gasentladungen, die nach dem Prinzip der dielektrisch behinderten Entladung aufgebaut ist, für Lichtquellen und Sichtanzeigeeinrichtungen
|
US6559607B1
(en)
|
2002-01-14 |
2003-05-06 |
Fusion Uv Systems, Inc. |
Microwave-powered ultraviolet rotating lamp, and process of use thereof
|
DE10235036A1
(de)
*
|
2002-07-31 |
2004-02-26 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
UV-Lichtquelle
|
FR2843483B1
(fr)
*
|
2002-08-06 |
2005-07-08 |
Saint Gobain |
Lampe plane, procede de fabrication et application
|
US7226677B2
(en)
*
|
2003-05-01 |
2007-06-05 |
Ernest Gladstone |
Arrangement for supplying ozone to a fuel cell for a passenger car
|
JP2005005258A
(ja)
*
|
2003-05-19 |
2005-01-06 |
Ushio Inc |
エキシマランプ発光装置
|
EP1769522B1
(de)
*
|
2004-07-09 |
2016-11-23 |
Philips Lighting Holding B.V. |
Dielektrische uvc/vuv-sperrschichtlampe mit reflektor
|
US7166963B2
(en)
*
|
2004-09-10 |
2007-01-23 |
Axcelis Technologies, Inc. |
Electrodeless lamp for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation
|
DE102004055328B3
(de)
*
|
2004-11-16 |
2006-04-13 |
Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik e.V. |
Vorrichtung nach dem Prinzip einer dielektrisch behinderten Entladung zur Strahlungserzeugung
|
JP4720154B2
(ja)
*
|
2004-11-19 |
2011-07-13 |
ウシオ電機株式会社 |
フラッシュランプ発光装置
|
JP4691004B2
(ja)
*
|
2006-12-07 |
2011-06-01 |
株式会社東芝 |
紫外線光による不活化処理方法
|
DE102007020655A1
(de)
|
2007-04-30 |
2008-11-06 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht
|
US8314538B2
(en)
*
|
2008-02-21 |
2012-11-20 |
Osram Ag |
Dielectric barrier discharge lamp with a retaining disc
|
JP4748208B2
(ja)
*
|
2008-11-18 |
2011-08-17 |
ウシオ電機株式会社 |
エキシマ放電ランプおよびエキシマ放電ランプの製造方法
|
DE102010003352A1
(de)
*
|
2010-03-26 |
2011-09-29 |
Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung |
Dielektrische Barriere-Entladungslampe mit Haltescheibe
|
TWI666680B
(zh)
|
2010-06-04 |
2019-07-21 |
美商通路實業集團國際公司 |
感應耦合介電質屏障放電燈總成及其系統與方法
|
JP2011009238A
(ja)
*
|
2010-09-22 |
2011-01-13 |
Gs Yuasa Corp |
無声放電ランプおよび照射装置
|
ITUB20159319A1
(it)
*
|
2015-12-29 |
2017-06-29 |
Carlo Rupnik |
Concentratore tubolare per irraggiamento concentrico di onde elettromagnetiche
|