DE2124331C3 - Wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von Kupfer - Google Patents
Wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von KupferInfo
- Publication number
- DE2124331C3 DE2124331C3 DE2124331A DE2124331A DE2124331C3 DE 2124331 C3 DE2124331 C3 DE 2124331C3 DE 2124331 A DE2124331 A DE 2124331A DE 2124331 A DE2124331 A DE 2124331A DE 2124331 C3 DE2124331 C3 DE 2124331C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mercury
- solution
- copper
- deposition
- electroless
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
- C23C18/40—Coating with copper using reducing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
- C23C18/40—Coating with copper using reducing agents
- C23C18/405—Formaldehyde
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/48—Coating with alloys
- C23C18/50—Coating with alloys with alloys based on iron, cobalt or nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/52—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating using reducing agents for coating with metallic material not provided for in a single one of groups C23C18/32 - C23C18/50
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von Kupfer, enthaltend eine
Quelle für Kupferionen, ein komplexbildendes Mittel und ein Reduktionsmittel für die Kupferionen sowie
eine gelöste, mindestens teilweise kovalenten Charakter aufweisende Quecksilberverbindung zur Steigerung der
Badstabilität.
Die stromlose Metallabscheidung, d. h. also auch die
Kupferabscheidung, ist bekannt und wird in weitem Umfang angewandt. Bäder hierfür sind beispielsweise in
den US-PS 29 38 805,30 11 920 und 33 83 224 beschrieben. Bäder zum Abscheiden von Nickel und anderen
Metallen, wie etwa Kobalt, Kobalt-Nickel- und Kobalt-Nickel-Eisen-Legierungen und Palladium sind ebenfalls
bekannt, und z. B. im 35. Jahrgang des »Metal Finishing Guidebook« (1967), Metals and Plastic; Publications,
Inc, Westwood, New Jersey, S. 483 bis 486, beschrieben.
Die bekannten Lösungen für die stromlose Kupferabscheidung weisen im allgemeinen vier Bestandteile auf,
welche in einem Lösungsmittel, gewöhnlich Wasser, gelöst sind, nämlich (I) eine Quelle für Kupferionen, (2)
ein Reduktionsmittel für Kupfer, wie Formaldehyd, (3) so
eine Säure oder ein Hydroxid als pH-Einsteller zur Erzielung des erforderlichen pH-Wertes und (4) ein
komplexbildendes Mittel für Kupferionen, welches ausreicht, um deren Ausfällung aus der Lösung zu
verhindern. Fine große Zahl geeigneter Komplexbildnor für stromlose Metallisierungslösungen sind in den
obengenannten Publikationen sowie auch in den US-PS 74 072. 30 75 856 und 50 75 855 beschrieben. In
einigen Bädern ist das komplexbildende Mittel nützlich aber nicht notwendig.
Obgleich Lösungen für stromlose Kupferabscheidungen seit vielen Jahren verwendet worden sind, waren die
gewerbsmäßig verwendeten Zubereitungen aus etlichen Gründen nicht voll befriedigend. Zu diesen Gründen
zählen langsame Abscheidungsgeschwindigkeiten und Instabilität des Bades. Es ist gezeigt worden, daß die
Abscheidungsgeschwindigkeit in gewissem Ausmaß von der Konzentration des Reduktionsmittels in der
Abscheidungslösung abhängig ist und daß gesteigerte Konzentration im allgemeinen zu einer gesteigerten
Abscheidungsgeschwindigkeit führt Jedoch ergibt eine gesteigerte Konzentration des Reduktionsmittels auch
eine verminderte Badstabilität Dies zeigt sich durch Verminderung der Zeit, in welcher die Abscheidungslösung einer unkontrollierbaren Zersetzung- (Auslösung)
unterliegt
Dem Fachmann ist bekannt, daß bestimmte Zusätze oder Inhibitoren, die einer stromlosen Kupferabscheidungsiösung in richtig eingeregelten, spurenmäßigen
Mengen zugesetzt werden, als Stabilisatoren wirken und die Geschwindigkeit der Badzersetzung verzögern.
Ganz allgemein sind diese Zusätze oder Stabilisatoren, wie sie vom Fachmann bezeichnet werden, katalytische
Gifte. Die Konzentration des Stabilisators in Lösung ist daher gewöhnlich kritisch. Spuren, normalerweise im
Bereich von wenigen Teilen je Million, schaffen Stabilität. Ein Überschuß an Stabilisator unterbricht die
stromlose Kupferabscheidung teilweise oder vollständig.
Dem Fachmann auf dem Gebiet der stromlosen Metallabscheidung ist bekannt, daß Stabilisatoren, die
zur Stabilisierung einer Lösung eines Metalls brauchbar sind, zur Stabilisierung einer Lösung eines anderen
Metalls brauchbar sein können oder nicht Beispielsweise sind Thioverbindungen, wie etwa Thioharnstoff und
Alkalithiosulfate als Stabilisatoren sowohl für Nickelais auch für Kupferlösungen brauchbar, während
Cyanverbindungen nur zur Stabilisierung von Kupferlösungen benutzt werden.
Die Verwendung von Quecksilberverbindungen, die Quecksilber in lonenform in Lösung schicken, zur
Stabilisierung für die stromlose Kupferabscheidung ist z. B. aus der FR-PS 15 53 375 bekannt Gemäß einem
älteren Vorschlag, nämlich der DE-OS 20 28 951, ist die
Verwendung von Quecksilberionen in Kombination mit einem Sekundärstabilisator bekannt, was zu einer stark
verbesserten Badstabilität führt.
Es wurde nun gefunden, daß bei Verwendung der KDvalenten Quecksilberverbindungen gemäß Kennzeichen des Anspruchs I, die Stabilität von Verkupferungsbädern in der Regel noch über diejenige erhöht wird, die
man mit Quecksilberionen erhält. Diese metallorganischen Quecksilberverbindungen können in Lösung nicht
unter Bildung von Quecksilberionen (Hg++) dissoziieren.
Die kovalenten Quecksilberverbindungen können auch in Kombination mit herkömmlichen Stabilisatoren
benutzt werden, was zu einer synergistischen Wirkung fuhrt, die noch weit über der nur durch die kovalente
Quecksilberverbindung bedingten Wirkung liegt.
Gemäß einer besonderen bevorzugten Ausführungsform enthält daher die wäßrige Lösung in Kombination
ein zweites übliches Stabilisierungsmittel für stromlose Kupferabscheidungslösungen, insbesondere eine zweiwertige Schwefelverbindung, eine Cyanverbindung,
einschließlich der Nitrile und der Dinitrile, oder eine
Acetylenverbindung, wobei von den Acetylenverbindungen die in der US-Patentschrift 34 57 089 beschriebenen der folgenden allgemeinen Formeln bevorzugt
sind:
R-C = CH
R'-C s C-R"
worin R, R' und R" einwertige Hydroxyalkyl-, Cyclohydroxyalkyl- oder Hydroxyalkylätherreste bedeuten. Zu Beispielen zählen Äthinylcyclohexanol,
Methylbutinol, Methylpentinol, Dimethylhexinol, 2-Butin-l,4-diol, Dimethylhexindiol, Propargylalkohol,
Hexinol und Äthyloctinol.
Es wurde gefunden, daß die obige Klasse an Verbindungen verbreitert werden kann, so daß sie
wesentlich mehr Glieder umfaßt, wenn sie in Kombination mit einer kovalenten Quecksilberverbindung
verwendet wird, urifer in stromlosen Abscheidungslösungen zusätzlich zu Kupfer benutzt werden kann. Bei
Verwendung in Kombination mit einer Quecksilberverbindung kann beispielsweise jedes der Radikale R, R'
und R" ein Aryl oder ein aliphatischer Rest sein, einschließlich eines cycloaliphatischen Restes, welcher
eine wasserlösliche Gruppe wie Hydroxyl und Carboxyl als Substituten enthält Für die Zwecke der vorliegenden
Erfindung werden die betreffenden Acetylenverbindungen als »badlösliche Acetylenverbindungen« bezeichnet.
Die erfindungsger.:3Üe Lösung enthält die kovalente
Quecksilberverbindung in einer Me^ge, weiche von Spuren bis zur Sättigung variiert. Da die kovalenten
Quecksilberverbindungen nicht als ka'*lytische Gifte
angesehen werden, ist ihre Konzentration in der Lösung nicht kritisch. Häufig sind Spurenmengen geeignet Die
Menge beträgt vorzugsweise 1 bis 100 Teile je Million.
Bevorzugt ist R in der Formel R-Hg-R' der Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl-, Alkaryl-, Aralkyl-, Alkoxy-, Aryloxy-
oder ein heterocyclischer Rest und R' sind vorzugsweise die polaren Gruppen NO2, SOjH oder Alkalisalze
davon, COOH oder Alkalisalze davon, NH2, OH oder
Halogen. Das Natriumsalz der Sulfonsäure ist als polare Gruppe besonders bevorzugt. Bevorzugte Reduktionsmittel sind Formaldehyd, eine Vorstufe des Formaldehyds, ein Boran oder Hydrazin.
Zweckmäßig wird den Bädern eine Quelle für Hydroxylionen zugesetzt, um den in solchen Bädern
üblichen alkalischen pH-Wert aufrechtzuerhalten.
Beispiele von Verbindungen, die der obigen Formel entsprechen, sind Äthylmercurihydroxid, Äthylmercurijodid, Quecksilberäthylmercaptid, Quecksilberphenylmercaptid, Methylmercurichlorid, Methylmercurijodid,
Diisopropylquecksilber, Dimethylanilinquecksilber (p), Dimethylquecksilber, Di(«)-naphthylquecksilber, Di-($-
naphthylquecksilber, Dipropylquecksilber, Ditolylquecksilber (o), Ditolylquecksilber (m), Ditolylquecksilber (p), Phenylquecksilberbromid, Phenylquecksilberchlorid, Phenylquecksilbercyanid, Phenylquecksilberjodid, Phenylquecksilbernitrat, p-Tolylquecksilberbromid,
Biphenylquecksilber, o-Hydroxyphenylquecksilberchlorid, Di-n-amylquecksilber, Di-(dl)-amylquecksilber, Dibenzylquecksilber, Di-n-butylquecksilber, Di-n-hexylquecksilber, Diisoamylquecksilber, Diisobutylquecksilber, das Natriumsalz von Mercuriphenoldisulfamid, das
Natriumsalz von 2,4-Dihydroxy-3,5-di(hydroxymercuri)-benzophenon-2-sulfonat, das Natriumsalz von
O-[(3-Hydroxymercuri-2-methoxypropyl)-carbonyl]-
phenoxyessigsäure u. dgl.
Es muß bemerkt werden, daß viele der obenerwähnten kovalenten Quecksilberverbindungen in wäßrigen
Lösungen schlecht löslich sind und viele als unlöslich betrachtet werden. Jedoch sind von der Quecksilberverbindung für die Zwecke der vorliegenden Erfindung
Mengen von nur Teilen je Million erforderlich. Demgemäß können Quecksilberverbindungen, welche
in wäßriger Lösung als unlöslich betrachtet werden, bis
zu einem Ausmaß löslich sein, daß sie die kovalente
Quecksilberverbindung in Konzentrationen gelöst enthalten, welche für die Zwecke der vorliegenden
Erfindung ausreichend sind. In wäßriger Lösung lösliche
kovalente, metallorganische Quecksilberverbindungen
werden bevorzugt
Wie bereits erwähnt, wird bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung die kovalente Quecksilberverbindung als Stabilisator in Kombination mit
einem bisherigen Stabilisator verwendet Substanzen,
welche dem Fachmann als katalytische Gifte für die
stromlose Abscheidung bekannt sind, werden häufig in
gesteuerten Mengen als Stabilisatoren bei Lösungen für stromlose Kupferabscheidung angewandt Die am
weitesten verwendete Gruppe an Verbindungen dieser
Art sind vielleicht die zweiwertigen, schwefelhaltigen
Verbindungen, von denen viele in der US-PS 33 61 540 beschrieben sind, auf welche hier Bezug genommen
wird. Beispiele solcher Schwefelverbindungen sind die anorganischen Sulfide wie, Natriumsulfid, Kaliumsulfid,
Natriumpolysulfid und Kaliumpolysulfid; die organischen und anorganischen Thioverbindungen, Natriumthiocyanat, Kaliumthiocyanat, Kaliumdithionat, Natriumthiosulfat und Kaliumthiosulfat; und organische
schwefelhaltige Verbindungen, wie Thioharnstoff, 2-
Mercaptobenzthiazol, 1,2-Athandithiol, 1,2-Benzoiso-
thiazin, Methionin, 2,2'-Thiodiäthanoi, Dithioglykol und Thioglykolsäure.
Die Menge an Schwefelverbindung, welche in Kombination mit der Quecksilberverbindung verwen
det wird, ist gering und variiert je nach der besonderen,
angewandten Verbindung. Normalerweise ist die Schwefelverbindung in einer Menge von weniger als
derjenigen anwesend, welche die Abscheidung des niederzuschlagenden Metalls nicht unterbindet Im
allgemeinen kann die Menge von Spuren bis zu etwa 300 Teilen je Million variieren, was von der verwendeten
Schwefelverbindung abhängig ist.
Zusätzlich zu der zweiwertigen Schwefelverbindung
sind viele Stabilisatoren bekannt Eine andere Klasse an
->u Stabilisatoren umfaßt die wasserlöslichen Cyanverbindungen, zu welchen in breitem Rahmen Nitrile und
Dinitrile zählen, welche in der US-PS 33 10 430 angegeben sind. Typische solche Verbindungen sind
Alkalicyanide, wie etwa Natrium- und Kaliumcyanid,
Nitrile, wie Λ-Hydroxynitril, beispielsweise Glykonitril
und Lactonitril und Dinitrile, wie Iminodiacetonitril und 33'-lminodipropionitriI. Diese Cyanverbindung wird in
Mengen verwendet, welche etwa gleich denjenigen der zweiwertigen Schwefelverbindung sind.
Weitere Beispiele für Metalle, die als Stabilisatoren
für stromlose Kupferabscheidungslösungen brauchbar sind, sind in der oben bereits erwähnten US-PS
33 10 430 beschrieben.
berverbindung stabilisierte Lösung für stromlose Metallabscheidung wird auf die gleiche Weise verwandt,
wie bisherige stromlose Lösungen. Die Oberfläche des Teiles, auf welchem der Niederschlag zu erzeugen ist,
sollte frei von Fett und verunreinigender Substanz sein.
Soll der Niederschlag auf einer nicht-metallischen Oberfläche erzeugt werden, so muB der Oberflächenbereich
zur Aufnahme der Abscheidung zuerst sensibilisiert werden, um die Oberfläche für die Aufnahme
stromlosen Metalls katalytisch zu machen, beispielsweise durch die bekannte Behandlung mit einer sauren,
wäßrigen Lösung von Stannochlorid, worauf eine Behandlung mit verdünnter wäßriger, saurer Lösung
von Palladiumchlorid folgt Man kann aber auch eine überaus gute Sensibilisierung nicht-metallischer Oberflächen
durch Inberührungbringen mit einem Kolloid eines Edelmetalls erzielen, welches ein Zinnsäureschutzkolloid aufweist und welches durch Vermischen von
Stannochlorid mit einem Edelmetallchlorid, vorzugsweise Palladiumchlorid, gebildet wird, wobei das
Stannochlorid in stöchiometrischem Oberschuß, bezogen
auf die Menge an Edelmetallchlorid, vorliegt
Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele besser verständlich, wo die
Stabilität der Lösung durch die Zeit gemessen wird, welche ein Bad zur spontanen Zersetzung brauciit wenn
die Abscheidung auf ein katalysiertes Tuch erfolgt, wobei dieses mit einer Fläche von 4,65 dm2 je 3,8 1 Bad
eingesetzt wird. Der Ausdruck »spontane Zersetzung« wird auch »Auslösung« genannt Dies ist ein besonders
kritischer Test auf Badstabilität weil die Auslösung der Abscheidung hier besonders leicht und schnell erfolgt In
allen Beispielen wird das katalysierte Tuch bereitet, indem man ein Baumwollgewebe wie folgt behandelt:
1. 5 Minuten dauerndes Spülen des Tuches in einer 20gewichtsprozentigen Ammoniumhydroxidlösung
bei Raumtemperatur. Spülen in kaltem Wasser.
2. 5 Minuten dauerndes Spülen in 20%iger Essigsäurelösung
bei Raumtemperatur. Spülen in kaltem Wasser.
3. 20 bis 40 Sekunden langes Eintauchen in eine Sei.äibilisierungslösung aus Palladiumkolloid mit
einem Zinnsäure-Schutzkolloid (im Handel als Katalysator 6 F) bei Raumtemperatur. Spülen in
kaltem Wasser.
4. 1 bis 3 Minuten andauerndes Eintauchen in eine verdünnte Salzsäurelösung bei Raumtemperatur.
Spülen in kaltem Wasser.
5. Trocknen des Tuches und Schneiden auf Maß.
Wenn man die Metallabsicneidungsgeschwindigkeit
aus dem Bad und darüber hinaus auch noch die Dicke der abgeschiedenen Schicht messen will, erfolgt die
Abscheidung auf einen Phenolharzträger nach folgender Arbeitsweise:
1. Schneiden der Phenolharzplatte auf eine Große von 5x5 cm.
2. Sauberscheuern mit einem Abrieb-Reinigungsmittel.
Spülen in kaltem Wasser.
3. 1 bis 3 Minuten andauernde Behandlung mit einem Konditionierungsmittel, welches ein nicht-ionisches
oberflächenaktives Mittel ist, bei Raumtemperatur. Spülen in kaltem Wasser.
4. 3 bis 4 Minuten andauerndes Eintauchen in eine Sensibilisierungslösung aus kolloidalem Palladium
mit einem Zinnsäure-Schu.tzkolloid (Katalysator 6 F) bei Raumtemperatur. Spülen in kaltem Wasser.
5. 3 bis 6 Minuten dauerndes Eintauchen in verdünnte Salzsäurelösung bei Raumtemperatur. Spülen in
kaltem Wasser.
6. Stromloses Metallabscheiden iür eine Zeitspanne von 10 Minuten.
7. Spülen, Trocknen der Teile und Messer, der Dicke des Niederschlages.
In den Beispielen sind Beispielnummer und Badnummer austauschbar angewandt.
Beispiele 1 bis 10
Kupfersulfatpentahydrat | 8g |
Paraformaldehyd | 7,5 g |
Tetrahydroxypropyiäthylendiamin | 12g |
Triisopropanolamin | 2g |
Natriumhydroxyd | |
(28 Gewichtsprozent) | 50 ml |
Wasser | auf 1 Liter |
Temperatur | 49 ± 3°C |
Auf katalysiertem Tuch erfolgt das Abscheiden der
obigen Rezeptur, und zwar mit Stabilisierungszusätzen, welche, zusammen mit ihren Mengen, in der nachstehenden
Tabelle angegeben sind. Die Ergebnisse sind ebenfalls in der Tabelle aufgeführt:
Bad Nr | Stabilisierungsmittel | andere | Zeit bis zur |
(Teile je Million) | Auslösung | ||
Quecksilber | (Min.) | ||
1 | 1/2 bis 2 | ||
2 | Phenylmercuriacetat | - | > 60 |
3 | _ | NaCN (5) | 20 bis 25 |
4 | Phenylmercuriacetat (20) | NaCN (5) | > 60 |
5 | — | Methylbutlnol (50) | 1/2 bis 2 |
6 | Phenylmercuriacetat (20) | Methylbutinol (50) | > 60 |
7 | _ | Thioäpfelsäure (15) | 20 bis 25 |
8 | Phenylmefcuriacetat (20) | Thioapfelsäure (15) | ^60 |
9 | ') (20) | — | > 60 |
10 | ') (20) | Methylbutinol (50) | > 60 |
M Natriumsalz der O-KS-Hydroxymercuri^-methoxypropylJ-carbamylj-phenoxyessigsäure.
Aus der obigen Tabelle ist ersichtlich, daß das Hinzusetzen der Quecksilberverbindung in kleinen
Mengen zu der Kupferabscheidnngslösung die Zeit zum /ersetzen der Lösung wesentlich ausdehnt und eine
Lösung schafft, welche stabiler ist als dies mit anderen, bisherigen Stabilisatoren für Kupferlösiingen möglich
ist. Außerdem schafft die Kombination einer Quecksilberverbindung mit herkömmlichen Stabilisatoren einen
Synergismus mit einer Lösungsslabilität, welche über diejenige Zeit hinaus ausgedehnt ist, die sich bei
Verwendung jeder der Stabilisatoren allein ergibt.
Beispiele 11 bis 14
Kupfersulfatpentahydrat 8 g
Paraformaldehyd 7.5 g
Rochcllesalzc2) 40 g
NaOH (28 Gewichtsprozent) 50 g
Wasser auf ! i.itcr
Temperatur 49 ± 3°C
2) Natrium-Kaliumtartrat-Doppclsalz.
2) Natrium-Kaliumtartrat-Doppclsalz.
Es wird auf katalysiertem Tuch abgeschieden durch Eintauchen in die obige Lösung, welche die Stabilisatoren
und deren Menge enthält, die in nachstehender Tabelle angegeben sind. Die Ergebnisse sind ebenfalls in
der Tabelle aufgeführt:
Bad Nr. | Stabilisierungsmittel | andere | (5) | Zeit bis zur |
(Teile je Million) | (5) | Auslösung | ||
Quecksilber | (Min.) | |||
11 | -V: bis 2 | |||
12 | Phenylmercuriacetat | — | 2 bis 3 | |
(20) | ||||
13 | — | NaCN | 3 bis 4 | |
14 | Phenylmercuriacetat | NaCN | 8 bis 9 | |
(20) | ||||
Kupfersulfatpentahydrat | 5g |
Paraformaldehyd | 7.5 g |
Pentahydroxypropyldiäthylen- | |
triamin | 20 g |
Natriumhydroxyd | |
(28 Gewichtsprozent) | 50 ml |
Wasser | auf 1 Liter |
Temperatur | 49 ± 3°C |
Es wird auf katalysiertem Tuch abgeschieden durch das Eintauchen in die obige Rezeptur mit den in
nachstehender Tabelle aufgeführten Stabilisatoren und Stabilisatormengen. Die Ergebnisse sind in der Tabelle
ebenfalls angegeben.
Die Zugabe von Phenylmercuriacetai zur obigen Rezeptur führt zu einer gewissen Verbesserung der
Stabilität, welche etwa gleichwertig derjenigen ist, die man mit Natriumcyanid erzielt, jedoch schafft die
Kombination des Quecksilberacetats mit Natriumcyanid eine wesentlich größere Stabilität. Es sei bemerkt,
daß. obwohl die Zeit bis zur Auslösung für die obige Rezeptur kurz ist. diese durch die erhöhte Temperatur,
bei welcher das Bad benutzt wird, etwas beschleunigt ist. und die angegebene Zeitmessung ist nicht typisch für
eine in einer gewerbsmäßigen Einrichtung verwendete Rezeptur.
Beispiele 15 bis 18
Mud Nr. Stabilisierungsmittel
(Teile je Million)
Quecksilber
(Teile je Million)
Quecksilber
andere
Rest bis zur
Auslösung
(Min.)
15
16
16
17
18
Phenylmercuriacetat —
(40)
Methyl-
butinol
(50)
Phenylmercuriacetat Methyl-
(40) butinol
(50)
'/2 bis 2 3 bis 5
'/2 bis 2
> 60
Der Synergismus zwischen der Quecksilberverbindung und den bisherigen Stabilisatoren isl aus der
obigen Tabelle leicht ersichtlich, wo unter Verwendung eines Stabilisators allein eine Abscheidungslösung
auslöst. Die Kombination der Stabilisatoren (Bad Nr. 18) schafft ein Bad, welches sich innerhalb von 60 Minuten
nicht zersetzt.
Beispiele 19 bis 24
Unter Verwendung der Rezeptur der Beispiele 1 bis 8 bei einer Temperatur von 24 ± 3°C wird die Auswirkung
des ."!.'lsatzes von Stabilisatoren auf die Abscheidungsgeschwindigkeit
bestimmt durch das Abscheiden auf einer Phenolharzplatte in der oben angegebenen
Weise. Die angewandten Badrezepturen und die den Tabelle angegeben:
Bad Nr.
Abscheidungsgeschwindigkeit
(cm/10 Min.)
(cm/10 Min.)
228 ■ 10-6
185 · ΙΟ-·»
188
156
91
185 · ΙΟ-·»
188
156
91
ΙΟ"6
ίο-6
ΙΟ-6
10-6
Das Zusetzen von Phenylmercuriacetat allein zur Abscheidungslösung (Bad 2) führt zu einer leichten
Verminderung der Abscheidungsgeschwindigkeit. Das Zusetzen von Methylbutinol (Bad 5) verursacht eine
etwas größere Herabsetzung der Geschwindigkeit.
so Jedoch ergibt der Zusatz von Thioäpfelsäure zur Abscheidungslösung (Bad 7) eine wesentliche Herabsetzung
der Geschwindigkeit. Die Kombination von Phenylmercuriacetat mit Thioäpfelsäure (Bad 8) vermindert
die Geschwindigkeit nicht weiter.
Beispiele 25 bis 30
Es ist bekannt, daß in eine Lösung zur stromlosen Abscheidung eingeschleppte Verunreinigungen zu einer
wesentlichen Herabsetzung der Badstabilität führen. Um die Auswirkung der Verunreinigung einer stromlosen
Abscheidungslösung zu bestimmen, welche eine Quecksilberverbindung enthält werden verschiedene
Verunreinigungen, welche dafür bekannt sind, daß sie das Auslösen einer stromlosen Abscheidungslösung
beschleunigen, zu den Bädern 7 und 8 hinzugesetzt Die Verunreinigungen, deren Mengen und die erzielten
Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle zusammengestellt:
Bad Nr.
Verunreinigung
Zeit bis /ur
Auslösung
(Min.)
7 | — | > 60 |
8 | - | > 60 |
7 | PVP/VA 535') | 20 bis 25 |
8 | PVP/VA 535') | > 60 |
7 | Dextrose2) | 10 bis 12 |
8 | Dextrose2) | 25 bis 30 |
ι) Polyvinylpyrrolidon-Vinylacetat-Mischpolymerisat.
/ugcsel/.t in einer Menge von 50 Teilen je Million.
/ugcsel/.t in einer Menge von 50 Teilen je Million.
-') Zugesetzt in einer Menge von Ui g.
: rv i i» 1 4
T. hk Id
Es ist bekannt, daß gesteigerte Badtemperatur zu einer rascheren Zersetzung einer Lösung für stromlose
Abscheidung führt. Um die Auswirkung der Temperatur auf die erfindungsgemäßen Abscheidungslösungen zu
bestimmen, welche kovalente Quecksilberverbindungen allein oder in Kombination mit anderen Stabilisatoren
enthalten, werden die Bäder 1, 2, 7 und 8 verwendet, um auf katalysiertem Tuch bei verschiedenen Temperaturen
abzuscheiden. Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle zusammengefaßt:
Bad Nr. Zeit bis zur Auslösung (Min.)
21 bis 27°C 49 bis 540C 66 bis 7I5C
20 bis 22
> 60
> 60
> 60
1 bis 2
> 60
10 bis 12
> 60
5 bis 7
0 bis Ui > 60
0 bis Ui > 60
Bad Nr. 8 veranschaulicht die wesentliche Verbesserung und den Synergismus, welcher sich aus der
Kombination der kovalenten Quecksilberverbindung mit einer herkömmlichen stabilisierenden Verbindung
ergibt.
Aus den obigen Darlegungen wird ersichtlich, daß durch das Zusetzen einer erfindungsgemäß verwendeten
kovalenten Quecksilberverbindung zu einer Lösung für die stromlose Kupferabscheidung die folgenden
Vorteile erzielt werden:
1. Kovalente metallorganische Quecksilberverbindungen
für sich allein verwendet sind primäre
Stabilisatoren hri Lösungen für stromlose Kupferabscheidung.
2. Kovalente Quecksilberverbindungen in Kombination mit bisherigen Stabilisatoren für stromlose
■> Kupferabscheidungslösungen zeigen einen Synergismus,
welcher die Stabilität der Lösung bis zu einem Ausmaß verbessert, welches größer ist als
dasjenige, welches man bei Verwendung entweder der Quecksilberverbindung oder der bisherigen
ίο Stabilisatoren alleine erzielt.
3. Der Zusatz an kovalentcr Quecksilberverbindungen zu einer Lösung für stromlose Kupferabscheidung
beeinträchtigt nicht wesentlich die Abscheidungsgeschwindigkeit wie bei anderen Stabilisie-
i; rungsmitteln, welche als katalytische Gifte bekannt
sind.
4. Die Zugabe einer kovalenten Quecksilberverbindung zu einer Lösung für stromlose Kupferabscheidung
gestattet eine größere Toleranz der Arbeitstemperat'ir
insofern, als höhere Temperaturen wegen der stabilisierenden Wirkung der Quecksilberverbindung
zulässig sind.
5. Der Zusatz einer kovalenten Quecksilberverbindung zu einer Lösung für stromlose Abscheidung
von Kupfer vermindert bis zu einem gewissen Ausmaß die schädliche Auswirkung von Verunreinigungen,
welche in das Abscheidungsbad eingeschleppt werden.
6. Es hat sich gezeigt, daß bei Verwendung der erfindungsgemäßen Stabilisatoren die Herstellung
gedruckter Schaltungen verbessert wird, weil auf den durch einen Schutzlack bedeckten Flächen des
aus Kunststoff bestehenden Basismaterials unter technischen Abscheidungsbedingungen kaum eine
Kupferabscheidung erfolgt, während bei Verwendung von Hg2 + -Stabilisatoren Kupfer in merklichen
Mengen auch auf den Schutzlackoberflächen abgeschieden wird. Die »Auflösung« des gedruckten
Schaltungsbildes ist unter Verwendung erfindungsgemäßer Stabilisatoren somit besser.
Der Grund für die verbesserte Badstabilität, welche sich aus dem Zusatz einer Quelle einer kovalenten
Quecksilberverbindung zu der Lösung für die stromlose Metallabscheidung ergibt, ist nicht völlig geklärt, doch
wird angenommen, daß dies mit der Entwicklung von Wasserstoffgas beim Abscheiden des Metalls im
Zusammenhang steht. Eine ungewöhnliche Eigenschaft des Quecksilbers ist seine hohe Überspannung für
so Wasserstoff und es wird angenommen, daß diese Eigenschaft mit dem Stabilisierungsmechanismus in
Verbindung steht.
Claims (5)
1. Wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden
von Kupfer, enthaltend eine Quelle für Kupferionen, ein komplexbildendes Mittel und ein Reduktionsmittel für die Kupferionen sowie eine gelöste,
mindestens teilweise kovaJenten Charakter aufweisende Quecksilberverbindung zur Steigerung der
Badstabilität,dadurch gekennzeichnet,daß
sie eine Quecksilberverbindung der Formel R—Hg —R', worin R einen kovalent gebundenen
organischen Rest und R' den gleichen Rest wie R oder eine polare Gruppe bedeutet in einer Menge,
welche von Spuren bis zur Sättigung variiert, in Lösung enthält
2. Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Quecksilberverbindung Phenylmercuriacetat ist
3. Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß R ein Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl-, Aikaryl-,
Aralkyl-, Alkoxy-, Aryloxy- oder heterocyclischer Rest und R' den gleichen Rest wie R oder die polare
Gruppe NO2, SO3H oder Alkalisalze davon, COOH
oder Alkalisalze davon, NH2, OH oder Halogen bedeutet
4. Lösung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die kovalente Quecksilberverbindung in einer Menge in Lösung ist die von 1 bis
100 Teüen je Million variiert
5. Lösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dab sie noch ein zweites übliches Stabilisierungsmittel für stromlose Kupferabscheidungslösungen
enthält.
35
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3950370A | 1970-05-21 | 1970-05-21 | |
NL7007511A NL7007511A (de) | 1970-05-25 | 1970-05-25 | |
NL7007510A NL7007510A (de) | 1970-05-21 | 1970-05-25 | |
FR7019372A FR2088202B1 (de) | 1970-05-21 | 1970-05-27 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2124331A1 DE2124331A1 (de) | 1971-12-02 |
DE2124331B2 DE2124331B2 (de) | 1976-05-20 |
DE2124331C3 true DE2124331C3 (de) | 1982-11-11 |
Family
ID=27446064
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712124330 Withdrawn DE2124330B2 (de) | 1970-05-21 | 1971-05-17 | Waessrige loesung zum stromlosen abscheiden von metallen |
DE2124331A Expired DE2124331C3 (de) | 1970-05-21 | 1971-05-17 | Wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von Kupfer |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712124330 Withdrawn DE2124330B2 (de) | 1970-05-21 | 1971-05-17 | Waessrige loesung zum stromlosen abscheiden von metallen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3649308A (de) |
DE (2) | DE2124330B2 (de) |
FR (2) | FR2088202B1 (de) |
GB (2) | GB1324827A (de) |
NL (2) | NL7007510A (de) |
SE (1) | SE366069B (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4005229A (en) * | 1975-06-23 | 1977-01-25 | Ppg Industries, Inc. | Novel method for the rapid deposition of gold films onto non-metallic substrates at ambient temperatures |
US4167601A (en) * | 1976-11-15 | 1979-09-11 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
US4228213A (en) * | 1979-08-13 | 1980-10-14 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
DE3622090C1 (de) * | 1986-07-02 | 1990-02-15 | Blasberg-Oberflaechentechnik Gmbh, 5650 Solingen, De | |
US7410899B2 (en) * | 2005-09-20 | 2008-08-12 | Enthone, Inc. | Defectivity and process control of electroless deposition in microelectronics applications |
EP2639335B1 (de) * | 2012-03-14 | 2015-09-16 | Atotech Deutschland GmbH | Alkalisches Plattierbad für stromlose Abscheidung von Kobaltlegierungen |
EP2671969A1 (de) * | 2012-06-04 | 2013-12-11 | ATOTECH Deutschland GmbH | Plattierbad zur stromlosen Abscheidung von Nickelschichten |
CN103820773A (zh) * | 2014-03-11 | 2014-05-28 | 上海贺鸿电子有限公司 | 用于镭射天线lds沉厚铜的溶液及其使用方法 |
TWI707061B (zh) * | 2015-11-27 | 2020-10-11 | 德商德國艾托特克公司 | 鈀之電鍍浴組合物及無電電鍍方法 |
US10060034B2 (en) | 2017-01-23 | 2018-08-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Electroless copper plating compositions |
RU2671988C1 (ru) * | 2017-10-02 | 2018-11-08 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт Приборостроения имени В.В. Тихомирова" | Способ нанесения медного покрытия на полиэфирэфиркетон |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1254935B (de) * | 1960-12-31 | 1967-11-23 | Bayer Ag | Waessriges Bad zur chemischen Abscheidung von borhaltigen Metallueberzuegen |
DE1621352C3 (de) * | 1967-02-03 | 1975-05-28 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer |
-
1970
- 1970-05-21 US US39503A patent/US3649308A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-05-25 NL NL7007510A patent/NL7007510A/xx unknown
- 1970-05-27 FR FR7019372A patent/FR2088202B1/fr not_active Expired
-
1971
- 1971-04-15 NL NL717105020A patent/NL144667B/xx unknown
- 1971-05-14 FR FR7117546A patent/FR2091636A5/fr not_active Expired
- 1971-05-17 DE DE19712124330 patent/DE2124330B2/de not_active Withdrawn
- 1971-05-17 DE DE2124331A patent/DE2124331C3/de not_active Expired
- 1971-05-18 SE SE06452/71A patent/SE366069B/xx unknown
- 1971-05-21 GB GB1643571A patent/GB1324827A/en not_active Expired
- 1971-05-21 GB GB1643771A patent/GB1324895A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7007510A (de) | 1971-11-29 |
DE2124331B2 (de) | 1976-05-20 |
DE2124330A1 (de) | 1971-12-02 |
DE2124331A1 (de) | 1971-12-02 |
NL7105020A (de) | 1971-11-23 |
FR2088202A1 (de) | 1972-01-07 |
FR2091636A5 (de) | 1972-01-14 |
GB1324827A (en) | 1973-07-25 |
DE2124330B2 (de) | 1976-05-20 |
FR2088202B1 (de) | 1975-01-10 |
SE366069B (de) | 1974-04-08 |
GB1324895A (en) | 1973-07-25 |
US3649308A (en) | 1972-03-14 |
NL144667B (nl) | 1975-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69224914T2 (de) | Stromloses goldbeschichtungsbad | |
DE947656C (de) | Bad zur galvanischen Herstellung von Kupferueberzuegen | |
DE2124331C3 (de) | Wäßrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von Kupfer | |
DE2049061C3 (de) | Alkalisches wäßriges Bad und dessen Verwendung zur stromlosen Verkupferung | |
DE1621311C3 (de) | Alkalisches Bad zur stromlosen Verkupferung | |
DE2028950A1 (de) | Wässrige Lösung zum stromlosen Abscheiden von Nickel oder Kobalt | |
DE3000526C2 (de) | Bad zur stromlosen Abscheidung von Palladium und autokatalytisches Palladium-Abscheidungsverfahren | |
DE2559059C3 (de) | Stabilisiertes Bad für die stromlose Metallabscheidung | |
DE2040930B2 (de) | Verfahren zur stromlosen Kupferabscheidung und Bad zur Durchführung des Verfahrens | |
DE2412134A1 (de) | Mittel und verfahren zum reinigen von zinn-blei-legierungen | |
DE2414650C3 (de) | Stromlos arbeitendes wässriges Verkupferungsbad | |
DE1266099B (de) | Bad fuer die reduktive Kupferabscheidung | |
DE2650389A1 (de) | Bad fuer die chemische nickelabscheidung | |
DE3622090C1 (de) | ||
DE2028951B2 (de) | Waessrige loesung zum stromlosen abscheiden von kupfer | |
DE2631633A1 (de) | Verfahren zur auffrischung einer loesung zur stromlosen metallisierung | |
EP0897998A2 (de) | Reduktives Ni-Bad | |
DE2557125C3 (de) | Lösungen zum Aktivieren von Oberflächen | |
DE153817C (de) | ||
DE1521435A1 (de) | Bad und Verfahren zum Abscheiden von Kupferschichten | |
DE1621502C3 (de) | Mittel und Verfahren zum Schwärzen von Eisengegenständen | |
DE2057756A1 (de) | Schemisches Silberbad | |
DE1246349B (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen | |
DE2204976A1 (de) | Alkalisches bad zur stromlosen abscheidung von kupfer | |
DE2137940A1 (de) | Alkalisches kupferbad |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |