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DE2137940A1 - Alkalisches kupferbad - Google Patents

Alkalisches kupferbad

Info

Publication number
DE2137940A1
DE2137940A1 DE19712137940 DE2137940A DE2137940A1 DE 2137940 A1 DE2137940 A1 DE 2137940A1 DE 19712137940 DE19712137940 DE 19712137940 DE 2137940 A DE2137940 A DE 2137940A DE 2137940 A1 DE2137940 A1 DE 2137940A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
ions
copper
trialkanolamines
technical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19712137940
Other languages
English (en)
Inventor
Friedrich Dr Horemann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Priority to DE19712137940 priority Critical patent/DE2137940A1/de
Publication of DE2137940A1 publication Critical patent/DE2137940A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents
    • C23C18/405Formaldehyde

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

  • Alkalisches Kupferbad Die Erfindung bezieht sich auf die stromlose Abscheidung von Kupfer und auf die Schaffung verbesserter Bäder, aus denen auf chemischem Wege Kupfer auf zu verkupfernden Oberflächen aus Metall oder Kunststoff abgeschieden werden soll und insbesondere auf Bäder, die eine Mischung enthalten, die eine derartige optimale Abscheidung ermöglicht.
  • Die stromlose Kupferabscheidung bedeutet das chemische Aufbringen von Kupfer auf aktive Metall- oder Kunststoffoberflächen ohne eine äußere elektrische Stromquelle. Solche Verfahren und dafür geeignete Lösungen sind bekannt und im Handel erhältlich. Sie sind in zahlreichen früheren Patentschriften, z.B. in der US-Patentschrift 3 011 920, der US-Patentschrift 3 361 580 und in der DAS 1 521 512 beschrieben.
  • Bekannte Lösungen zur stromlosen Kupferabscheidung enthalten grundsätzlich 4 in Wasser lösliche Bestandteile. Es sind dies 1. eine Quelle für Kupfer-II-Ionen, in der Regel Kupfersulfat, 2. ein Reduktionsmittel für Kupfer-II-Ionen, in der Regel Formaldehyd, 3. Alkali in Form eines Alkalimetallhydroxids, für gewöhnlich Natriumhydroxid in einer solchen Menge, daß der pH-Wert der Lösung größer was11,5 ist und 4. ein komplexbildendes Mittel für Kupfer-II-Ionen in einer zur Verhinderung der Ausfällung von Kupferhydroxid ausreichenden Menge.
  • Zahlreiche komplexbildende Mittel für solche Lösungen sind bekannt, z.B. Tartrate in Form von Rochellesalz, Salicylate, Citrate, Glyzerin und gewisse Lactone. Auch die Verwendung von Aminen und Aminoverbindungen ist bekannt. Diese Bäder sind aber nicht über einen längeren Zeitraum hinweg genügend lagerstabil, da trotz der zugesetzten Komplexbildner immer wieder das gelöste Kupfer in Form von Kupfer-I-Salzen ausfällt, weil die komplexbildende Wirkung der genannten Substanzen nicht ausreicht, um die Redukticnskraft des Formaldehyds -gegenüber Kupfer-II-Ionen über eine längere Zeitspanne zu unterbinden.
  • In der US-Patentschrift 3 361 580 wird eine Mischung genannt, die unter anderem Aminoverbindungen als Komplexbildner enthält, jedoch zusätzlich noch eine schwefelhaltige Verbindung. Der Zusatz dieser schwefelhaltigen Verbindung hat die Aufgabe, das Kupferbad zu stabilSieren bzw. ausgefallenes Kupfer-I-Oxid abzufangen und dadurch die autokatalytische Zersetzung des Kupferbades zu verhindern. Solche Schwefelverbindungen sind z.B. Thiocyanate oder Mercaptobenzthiazol-Derivate und auch Thiosulfate.
  • Die Lehre der DAS 1 521 512 geht von speziellen organischen Aminen aus, die hier als Komplexbildner genannt werden und die nach den Angaben in der Beschreibung dazu beitragen sollen, eine Lagerstabilität sowie eine hohe Abscheidungsgeschwindigkeit und einen weiten Bereich der Betriebstemperatur des Bades zu gewährleisten.
  • Wie aber diese Literaturstelle weiter lehrt, ist es erforderlich bei Temperaturen oberhalb 1800 noch Zusatzstoffe hinzuzufügen, um eine immer noch eintretende Reduktion s gelösten Kupfers durch Formaldehyd zu verhindern. Zu diesem Zweck ist es erforderlich, Oxydationsmittel dem Bade zuzusetzen oder vor allem, gemäß der Lehre der US-Patentschrift 2 938 805 Luft in das Bad einzuleiten.
  • Es stellte sich nunmehr die Aufgabe, eine Mischung auf der Bats der eingangs erwähnten Stoffe aufzufinden, die es gestattet, mit möglichst einfach aufgebauten Kupferkomplexen ein lagerstabiles Bad zu erreichen.
  • Zudem sollte ein schwefelfreies Bad entwickelt werden, da Schwefelverbindungen zur Bildung von Schwefelverbindungen des Kupfers Anlaß geben, die die Bildung eines Kupferüberzuges maximaler elektrischer Leitfähigkeit stören würden.
  • Die Lösung der Aufgabe gelang in überraschender Weise mit einem sphwefelfreien wäßrig alkalischen Bad mit pH-Werten von > 11,5 zur stromlosen Abscheidung von Kupfer auf Basis von Kupfer Ionen, Hydroxylionen, Formaldehyd, Aminopolyacetationen und Alkanolaminen, das dadurch gekennzeichnet ist,-daß das Bad eine Kombination aus Komplexbildnern enthält, die aus Nitrilotriacetat- und/oder Äthylendiamintetraacetat-Ionen als Aminopolyacetationen und Di- und/oder Trialkanolaminen aufgebaut ist, und wobei das Gewichtsverhältnis von Aminopolyacetationen zu Di- und/oder Trialkanolaminen wie 20 : 1 bis 150 : 1 ist.
  • Die Auffindung dieser Kombination stellt insofern eine Überraschung dar, als es aus zahlreichen Literaturstellen bekannt ist, Aminopolyacetationen als Komplexbildner zu verwenden, ohne daß ein gegen autokatalytische Zersetzung stabiles Kupferbad hergestellt werden konnte. Die DAS 1 521 512 lehrt, daß Aminopolyacetationen bisher nur als Nebenprodukte zu anderen kompliziert aufgebauten Komplexbildnern Verwendung finden. Die Kombination der Aminopolyacetate mit Di- bzw. Trialkanolaminen stellt daher ein besonders einfach herzustellendes, gegen autokatalytische Zersetzung stabiles chemisches Kupferbad dar.
  • Hauptprodukte des Kupferbades sind außer dem Kupfersalz, das zweckmäßig in Form von Kupfersulfat-Pentahydrat eingesetzt wird, das Nitrilotriacetat- und/oder das Athylendiaminotetraacetat-Ion.
  • Damit diese bei denen gemäß dem Stande der Technik erforderlichen pH-Werten von mehr als 11,5 als Ionen in der Lösung vorliegen, kann man so vorgehen, daß man z.B. das Trinatriumnitrilotriacetat und/oder das {thylendiamintetraessigsäuredinatriumsalz den Lösungen direkt zufügt und gleichzeitig ein Salz des Di- und/oder Trialkanolamins zufügt und die Lösung mittels eines Alkalihydroxids, vorzugsweise Natriumhydroxid, auf den gewünschten pH-Wert einstellt. Man kann aber auch reines Alkanolamin und Athylendiamintetraessigsäure und/oder Nitrilotriessigsäure als free Säure und Alkalihydroxid in reiner Form in Lösung bringen, wobei dann bei dem geforderten pH-Wert ebenfalls die Ionen vorliegen.
  • Alkanolamine sind im erfindungsgemäßen Sinne Di- und/oder Trialkanolamine, von denen das Diäthanolamin oder das Triäthanolamin sowie Di- oder Tri-n-propanolamin bzw das Di- oder Triiso-propanolamin zu nennen sind. Technisches Triäthanolamin ist hierbei bevorzugt zu nennen und außerdem, da besonders leicht erhältlich, das technische Gemisch aus 20 % Diäthanolamin und 80 % Triäthanolamin.
  • Es hat sich zusätzlich in überraschender Weise herausgestellt, daß eine Lösung dann besonders günstige Eigenschaften im erfindungsgemäßen Sinne besitzt, wenn man von reiner Nitrilotriessigsäure und/oder Äthylendiamintetraessigsäure ausgeht und diese mit Di- und/oder Triäthanolamin in der alkalischen Lösung vereinigt und hierbei einen pH-Wert von höher als 11,5 mit Natronlauge einstellt.
  • Die durch die Erfindung gegebenen Hauptvordile sind die folgenden: 1. Eine Abschedungsgeschwindigkeit des Kupfers von ca. 2,5/u pro Stunde.
  • 2. Eine gleichmäßige Bedeckung der zu verkupfernden Oberfläche.
  • 3. Ein sehr weiter Bereich der Betriebstemperatur des Bades, der ein Arbeiten bei Temperaturen von mehr als 400C gestattet.
  • 4. Der Verzicht auf einen schwefelhaltigen Stabilisator, der eine Verunreinigung des abgeschiedenen Kupfers bewirken würde.
  • Das Verhältnis von Nitrilotriacetat und/oder Athylendiaminotetraacetationen zu den entsprechenden Di-und/oder Trialkanolaminen soll 20 : 1 bis 150 : 1, vorzugsweise 80 : 1 bis 150 : 1, betragen. Im allgemeinen sind diese Kupferbäder so anzusetzen, daß in einem Bad ca. 5 - 15 g/l eines Kupfersalzes, vorzugsweise Kupfersulfat-Pentahydrat, 5 - 15 g/l des Aminopolyacetations, berechnet als Aminopolyessigsäure, sodann 0,05 - 0,15 g/l Di- bzw. Trialkanolamin, 8 - 16 g/l Alkalihydroxid, vorzugsweise Natriumhydroxid und 30 - 60 g/l Formaldehyd, das im allgemeinen als 30gewichtsprozentige Formalinlösung zum Einsatz gelangt, vorhanden sind.
  • Ein derartiges Bad hat bei einer Lagertemperatur von 30°C eine Stabilität von mehr als 20 Tagen, wohingegen sich Bäder auf Basis des genannten Standes der Technik schon bereits nach einigen Stunden zersetzen.
  • Mit den erfindungsgemäßen Bädern lassen sich z.B. ABS-Kunststoffe, aber auch andere Materialien hervorragend verkupfern.
  • Die nun folgenden Beispiele erläutern die Erfindung ohne sie zu beschränken.
  • Beispiel 1 Zu einer wässrigen Lösung von 13,9 g/l reinem Natriumhydroxid wurden 0,1 g/l technisches Triäthanolamin und 10,9 g/l chemisch reine Äthylendiaminotetraessigsäure gegeben. Darauf fügt man 8,5 g/l Kupferslfat-Pentahydrat und 18 g/l Formalinlösung ca.
  • 30ig hinzu.
  • Beispiel 2 Zu einer wäßrigen Lösung von 13,0 g/l reinem Natriumhydroxid wurden 0,1 g/l technisches Triäthanolamin und 7,13 g/l chemisch reine Nitrilotriessigsäure gegeben. Darauf fügt man 8,5 g/l Kupfersulfat-Pentahydrat und 18 g/l Formalinlösung ca. 30ig hinzu.
  • Beispiel 3 Zu einer wäßrigen Lösung von 13,0 g/l reinem Natriumhydroxid gibt man 3,6 g/l reine Nitrilotriessigsäure und 5,45 g/l Athylendiaminotetraessigsäure sowie 0,1 g/l technisches Triäthanolamin.
  • Darauf fügt man 8,5 g/I Kupfersulfat-Pentahydrat und 18 g/l ormalinlösung ca. 30zig hinzu.
  • Die nach diesen Vorschriften erhältlichen Bäder bewirken einen schnellen störungsfreien Verlauf der stromlosen Verkupferung von geheiztem und ak. @viertem ABS-Kunststoff. Jedes dieser Bäder war bei einer Temperatur von 30°C mehr als 20 Tage lang stabil, während Baden auf Basis von Tartraten sich nach 10 Stunden autokatalytisch zersetzten.

Claims (4)

  1. Patentansprüche
    Schwefelfreies, wäßrig alkalisches Bad mit pH-Werten von 7 11 zur stromlosen Abseh«dung von Kupfer auf Basis von Kupfer Ionen, Hydroxylionen, Formaldehyd, Aminopolyacetationen und Alkanolaminen, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad eine Kombination aus Komplexbildnern enthält, die aus Nitrilotriacetat- und/oder Äthylendiaminotetraacetationen als Aminopolyacetationen und Di- und/oder Trialkanolaminen aufgebaut ist, wobei das Gewichtsverhältnis von Nitrilotriacetat -und/oder Athylendiaminotetraacdat zu Di- und/oder Trialkanolamin wie 20 : 1 bis 150 : 1 ist.
  2. 2. Bad gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad thylendiamintetraacetat und Di- und/oder Trialkanolamin im Verhältnis 80 : 1 bis 150 : 1 enthält.
  3. 3. Bad gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad als Di- und/oder Trialkanolamin ein technisches Gemisch enthält, das zu 20 ß technischem Di- und zu 80 technischem Trialkanolamin aufgebaut ist.
  4. 4. Bad gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad technisches Triäthanolamin enthält.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0140575A2 (de) * 1983-09-28 1985-05-08 C. Uyemura & Co Ltd Bad und Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Kupfer

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0140575A2 (de) * 1983-09-28 1985-05-08 C. Uyemura & Co Ltd Bad und Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Kupfer
EP0140575A3 (en) * 1983-09-28 1985-07-03 C Uyemura & Co Ltd Electroless copper plating bath and method

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